JP6763916B2 - 楕円偏光板 - Google Patents

Description

本発明は、ディスプレイ等に利用可能な楕円偏光板、及び該楕円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置に関する。

近年、ディスプレイの多様化に伴って、楕円偏光板の薄膜化が求められている。楕円偏光板を薄膜化するための一つの方法として、楕円偏光板に用いられる位相差板を延伸位相差板から、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化させて得られる液晶硬化膜からなる位相差板に変更することが知られている。例えば、特許文献１には、液晶硬化膜からなる水平配向λ／４位相差板と、液晶硬化膜からなる膜厚方向に異方性を有する位相差板を組み合わせた光学補償機能付き円偏光板が開示されている。

特開２０１５−１６３９３５号公報

しかし、楕円偏光板に含まれる液晶硬化膜は、薄膜化のために、基材上に液晶硬化膜を形成後、偏光板に転写され、基材のみを剥離する方法により形成されるが、基材剥離後の液晶硬化膜の機械的強度が十分でない。このため、基材上に形成した液晶硬化膜を単独で偏光板に転写して楕円偏光板を得ようとすると、得られたフィルムを目的の製品のサイズに合わせてカットした場合に、切断した端面で波打ち等の不具合が発生することがあった。
従って、本発明の目的は、切断しても切断端面で波うち等の不具合が発生することなく、優れた加工特性を有する楕円偏光板、及び該楕円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置に関する。

本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下のものが含まれる。
［１］偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、及び補強層を有する楕円偏光板であって、垂直配向液晶硬化層は該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、垂直配向液晶硬化層の膜厚は３μｍ以下である、楕円偏光板。
［２］垂直配向液晶硬化層と補強層との層間距離は５μｍ以下である、［１］に記載の楕円偏光板。
［３］補強層の膜厚は１〜１０μｍである、［１］又は［２］に記載の楕円偏光板。
［４］λ／４位相差層は水平配向液晶硬化層であり、水平配向液晶硬化層は、該液晶硬化層平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる、［１］〜［３］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［５］偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層をこの順に有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［６］偏光層、垂直配向液晶硬化層、補強層、λ／４位相差層をこの順に有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［７］偏光層、補強層、垂直配向液晶硬化層、λ／４位相差層をこの順に有する、［１］〜［４］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［８］補強層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる、［１］〜［７］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［９］垂直配向液晶硬化層と補強層との間に膜厚５μｍ以下の配向層を有し、該配向層は構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層である、［１］〜［８］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［１０］隣接する各層において、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率の差は、０．２０以下である、［１］〜［９］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［１１］λ／４位相差層は、
λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
ｎｘＱ（λ）＞ｎｙＱ（λ）≒ｎｚＱ（λ）
［式中、ｎｘＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＱ（λ）の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ｎｚＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。］
の関係を有し、
下記式（１）〜（３）
ＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦ＲｅＱ（６５０）／ＲｅＱ（５５０） （２）
１００ｎｍ≦ＲｅＱ（５５０）≦１６０ｎｍ （３）
［式中、ＲｅＱ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ（ｎｍ）の光に対するλ／４位相差層の面内位相差値ＲｅＱ（λ）は、
ＲｅＱ（λ）＝（ｎｘＱ（λ）−ｎｙＱ（λ））×ｄＱ
で表される。ここで、ｄＱはλ／４位相差層の厚みを表す。］
の関係を満たす、［１］〜［１０］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［１２］垂直配向液晶硬化層は、
垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
ｎｚＶ（λ）＞ｎｘＶ（λ）≒ｎｙＶ（λ）
［式中、ｎｚＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＶの方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘＶ（λ）＝ｎｙＶ（λ）となる場合には、ｎｘＶ（λ）は液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。］
の関係を有し、さらに
下記式（４）〜（６）
ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）≦１．００ （４）
１．００≦ＲｔｈＶ（６５０）／ＲｔｈV（５５０） （５）
−１２０ｎｍ≦ＲｔｈＶ（５５０）≦−５０ｎｍ （６）
［式中、ＲｔｈＶ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する液相硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈV（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＶ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値ＲｔｈＶ（λ）は、
ＲｔｈＶ（λ）＝[（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２−ｎｚＶ（λ）]×ｄＶ
で表される。ここで、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、ｎｚＶ（λ）は波長λ（ｎｍ）における液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、（（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２）は、波長λ（ｎｍ）における液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。ｄＶは液晶硬化層の厚みを表す。］
の関係を満たす、［１］〜［１１］のいずれかに記載の楕円偏光板。
［１３］［１］〜［１２］のいずれかに記載の楕円偏光板を備える、有機ＥＬ表示装置。

本発明の楕円偏光板は、切断しても切断端面で波うち等の不具合が発生することなく、優れた加工特性を有する。

本発明の楕円偏光板の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の楕円偏光板の層構成の一例を示す概略断面図である。 本発明の楕円偏光板の層構成の一例を示す概略断面図である。

本発明の楕円偏光板は、偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、及び補強層を有し、各層の積層順序は適宜選択できる。好ましい態様においては、各層は以下の順に積層される。
偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層；
偏光層、垂直配向液晶硬化層、補強層、λ／４位相差層；
偏光層、補強層、垂直配向液晶硬化層、λ／４位相差層。

これらの順序に積層された本発明の楕円偏光板の層構成の一例を図１〜３に示すが、本発明はこれらの態様に限定されるものではない。

図１に示される楕円偏光板１は、偏光層２、粘接着剤３、λ／４位相差層４、配向層５、粘接着剤３、垂直配向液晶硬化層６、垂直配向層７、補強層８をこの順に有する。図２に示される楕円偏光板１０は、偏光層２、粘接着剤３、垂直配向液晶硬化層６、垂直配向層７、補強層８、粘接着剤３、λ／４位相差層４、配向層５をこの順に有する。図３に示される楕円偏光板１００は、偏光層２、粘接着剤３、補強層８、垂直配向層７、垂直配向液晶硬化層６、粘接着剤３、λ／４位相差層４、配向層５をこの順に有する。楕円偏光板１、１０及び１００は、偏光層２の吸収軸がλ／４位相差層４の遅相軸（光軸）に対して、実質的に４５°となるように貼合されている。また、偏光層２は偏光子の片面（粘接着剤３の反対の面）に透明保護フィルムを備えていてもよい。本明細書において、実質的に４５°とは通常４５°±５°の範囲である。

〔補強層〕
本発明の楕円偏光板１、１０及び１００は、楕円偏光板に含まれる層、特に垂直配向液晶硬化層６を補強する機能を有する補強層８を備える。楕円偏光板１、１０及び１００は、垂直配向液晶硬化層６が薄膜であっても、補強層８が垂直配向液晶硬化層６の強度を十分に補うことができ、垂直配向液晶硬化層６と補強層８との層間距離が小さいと、さらに十分に、垂直配向液晶硬化層６の強度を補うことができる。このため、楕円偏光板の加工特性が向上され、切断端面の不具合を有効に抑制又は防止することができる。なお、本明細書において、「層間距離」とは、垂直配向液晶硬化層６と補強層８との最短距離を意味し、「加工特性」とは、楕円偏光板を切断した時に、切断端面で波うち等の不具合の発生を抑制又は防止できる特性を意味する。

垂直配向液晶硬化層６と補強層８との層間距離は、例えば５μｍ以下、好ましくは３μｍ以下、より好ましくは１．５μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以下、さらにより好ましくは５００ｎｍ以下、特に好ましくは３００ｎｍ以下である。垂直配向層７がなければ、層間距離は０ｎｍとなる。層間距離の下限は、垂直配向液晶硬化層６と補強層８との間の層の膜厚、図１〜３の態様では垂直配向層７の膜厚により必然的に決まるため、特に限定されないが、好ましくは１ｎｍ以上である。層間距離が上記の上限以下であると、補強層８が垂直配向液晶硬化層６をより十分に補強でき、優れた加工特性を発現できるため、楕円偏光板を切断した時に、切断端面で波うち等の不具合が生じない。また、層間距離が短いほど、補強層８が垂直配向液晶硬化層６への補強に寄与しやすくなるため、加工特性が向上する傾向にある。

補強層８は、垂直配向液晶硬化層６を補強しうる強度を発揮しうる材料から構成されており、例えばアクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる。これらの中でも、硬化性が高く、補強性の高い補強層８を形成しやすい観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることが好ましく、アクリル樹脂及びウレタン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなることがより好ましい。

補強層８は、熱や光で硬化する硬化性材料を含む硬化性組成物の硬化物であることが好ましい。アクリル樹脂を含んでなる補強層８の硬化性材料としては、例えば単官能（メタ）アクリレート、例えば２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート；多官能（メタ）アクリレート、例えばエチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタグリセロールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、グリセリントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリス（アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート；エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、テトラメチロールメタントリメタクリレート、テトラメチロールメタンテトラメタクリレート、ペンタグリセロールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、グリセリントリメタクリレート、ジペンタエリスリトールトリメタクリレート、ジペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、トリス（メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。（メタ）アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用でき、硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層８の十分な補強性を確保する観点から、適宜多官能（メタ）アクリレートを選択可能である。また、同様の観点からエポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。なお、本明細書においては、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレートと称することがあり、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸と称することがある。

ウレタン樹脂を含んでなる補強層８の硬化性材料としては、例えば（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステル、ポリオール、及びジイソシアネートの反応生成物であるウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。具体的には、ウレタン（メタ）アクリレートは（メタ）アクリル酸及び／又は（メタ）アクリル酸エステルとポリオールから、分子内に水酸基を少なくとも１個有するヒドロキシ（メタ）アクリレートを調製し、これをジイソシアネートと反応させることにより製造することができる。ウレタン（メタ）アクリレートは単独又は二種以上組合わせて使用できる。

前記（メタ）アクリル酸エステルは、（メタ）アクリル酸の鎖状又は環状アルキルエステルであることができる。その具体例としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレートのようなアルキル（メタ）アクリレート、及び、シクロヘキシル（メタ）アクリレートのようなシクロアルキル（メタ）アクリレートが挙げられる。前記ポリオールは、分子内に水酸基を少なくとも２個有する化合物である。例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸のネオペンチルグリコールエステル、シクロヘキサンジメチロール、１，４−シクロヘキサンジオール、スピログリコール、トリシクロデカンジメチロール、水添ビスフェノールＡ、エチレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、プロピレンオキサイド付加ビスフェノールＡ、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、グルコース類などを挙げることができる。

ジイソシアネートは、分子内に２個のイソシアナト基（−ＮＣＯ）を有する化合物であり、芳香族、脂肪族又は脂環式の各種ジイソシアネートを用いることができる。具体例としては、テトラメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、３，３’−ジメチル−４，４’−ジフェニルジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、及びこれらのうち芳香環を有するジイソシアネートの核水添物などを挙げることができる。

硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層８の十分な補強性を確保する観点から、適宜ウレタン（メタ）アクリレートを選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。

エポキシ樹脂を含んでなる補強層の硬化性材料としては、例えば脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が挙げられる。

脂環式エポキシ化合物は、脂環式環に直接結合したエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する化合物である。例えば、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ジエチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルなどが挙げられる。これらの脂環式エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

芳香族エポキシ化合物は、分子内に芳香族環とエポキシ基を有する化合物である。その具体例として、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテル等のビスフェノール型エポキシ化合物又はそのオリゴマー；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂等のノボラック型のエポキシ樹脂；２，２’，４，４’−テトラヒドロキシジフェニルメタンのグリシジルエーテル、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテル等の多官能型のエポキシ化合物；エポキシ化ポリビニルフェノール等の多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。これらの芳香族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

水素化エポキシ化合物は、上記の芳香族エポキシ化合物の核水添物が水素化エポキシ化合物となる。これらは、対応する芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物、典型的にはビスフェノール類に対し、触媒の存在下及び加圧下で選択的に水素化反応を行うことにより得られる多価アルコール、典型的には水添ビスフェノール類を原料とし、これにエピクロロヒドリンを反応させてクロロヒドリンエーテルとし、さらにそれをアルカリで分子内閉環させる方法によって製造できる。これらの水素化エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

脂肪族エポキシ化合物には、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルがある。その具体例として、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコールやプロピレングリコール、グリセリンのような脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。これらの脂肪族エポキシ化合物は単独又は二種以上組合わせて使用できる。

硬化時や硬化後の加熱により発生するカールを抑制する観点、加工特性を向上させる観点、補強層８の十分な補強性を確保する観点、基材や液晶硬化層との密着性を調整する観点から、適宜エポキシ樹脂を選択可能である。また、同様の観点から、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、オキセタン樹脂、メラミン樹脂等と混合することも可能である。

オキセタン樹脂を含んでなる補強層８の硬化性材料としては、分子内に少なくとも１個以上のオキセタニル基を含有する化合物等が挙げられる。その具体例として、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン（オキセタンアルコールとも呼ばれる）、２−エチルヘキシルオキセタン、１，４−ビス〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕ベンゼン（キシリレンビスオキセタンとも呼ばれる）、３−エチル−３〔｛（３−エチルオキセタン−３−イル）メトキシ｝メチル〕オキセタン、３−エチル−３−（フェノキシメチル）オキセタン、３−（シクロヘキシルオキシ）メチル−３−エチルオキセタンなどを挙げることができる。

メラミン樹脂を含んでなる補強層８の硬化性材料としては、ヘキサメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミン、ヘキサプロポキシメチルメラミン、ヘキサブトキシメチルメラミン等のメラミン化合物が挙げられる。

補強層を形成するための硬化性組成物は、光重合開始剤、熱重合開始剤、溶媒、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、光安定剤、粘着付与剤、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、色素、帯電防止剤、及び紫外線吸収剤等の添加剤をさらに含むことができる。

光重合開始剤は、ラジカル重合で硬化する硬化性組成物、例えば（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレートを硬化性材料として使用する場合に光ラジカル重合開始剤を使用することができ、カチオン重合で硬化する硬化性組成物、例えばエポキシ化合物、オキセタン化合物を硬化性組成物として使用する場合に光カチオン重合開始剤を使用することができ、熱により硬化する硬化性組成物、例えばメラミン化合物を硬化性組成物として使用する場合に熱重合開始剤を使用することができる。

光重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤等が挙げられる。光ラジカル重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、ベンジルケタール化合物、α−ヒドロキシケトン化合物、α−アミノケトン化合物、トリアジン化合物等が挙げられ、光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩や芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩、鉄−アレーン錯体等が挙げられる。
具体的には、イルガキュア（Irgacure、登録商標）９０７、イルガキュア１８４、イルガキュア６５１、イルガキュア８１９、イルガキュア２５０、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア１２７、イルガキュア２９５９、イルガキュア７５４、イルガキュア３７９ＥＧ（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、セイクオールＢＺ、セイクオールＺ、セイクオールＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）、カヤキュアー（kayacure）ＢＰ１００（日本化薬株式会社製）、カヤキュアーＵＶＩ−６９９２（ダウ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５２、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＮ−１７１７、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１、アデカアークルズＮＣＩ−９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＴＡＺ−Ａ、ＴＡＺ−ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー社製）及びＴＡＺ−１０４（三和ケミカル社製）、カヤラッド（登録商標）シリーズ（日本化薬株式会社製）、サイラキュア ＵＶＩシリーズ（ダウケミカル社製）、ＣＰＩシリーズ（サンアプロ株式会社製）、ＴＡＺ、ＢＢＩ及びＤＴＳ（以上、みどり化学株式会社製）、ＲＨＯＤＯＲＳＩＬ（登録商標）（ローディア株式会社製）等が挙げられる。光重合開始剤は単独又は二種以上組合わせて使用できる。光重合開始剤は、使用する材料に合わせて適宜選択して使用する事が出来る。

光重合開始剤は、光源から発せられるエネルギーを十分に活用でき、生産性に優れるため、極大吸収波長が３００ｎｍ〜４００ｎｍであると好ましく、３００ｎｍ〜３８０ｎｍであるとより好ましく、中でも、α−アセトフェノン系重合開始剤、オキシム系光重合開始剤が好ましい。

α−アセトフェノン系重合開始剤としては、例えば、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン、２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−（４−メチルフェニルメチル）ブタン−１−オン等が挙げられ、より好ましくは２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルスルファニルフェニル）プロパン−１−オン及び２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−２−ベンジルブタン−１−オンが挙げられる。α−アセトフェノン化合物の市販品としては、イルガキュア３６９、３７９ＥＧ、９０７（以上、ＢＡＳＦジャパン（株）製）及びセイクオールＢＥＥ（精工化学社製）等が挙げられる。

オキシム系光重合開始剤は、光が照射されることによってラジカルを生成させる。このラジカルにより層の深部における硬化性組成物の重合が好適に進行する。また、層の深部での重合反応をより効率的に進行させるという観点から、波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤を使用することが好ましい。波長３５０ｎｍ以上の紫外線を効率的に利用可能な光重合開始剤としては、トリアジン化合物やオキシムエステル型カルバゾール化合物が好ましく、感度の観点からはオキシムエステル型カルバゾール化合物がより好ましい。オキシムエステル型カルバゾール化合物としては、例えば１，２−オクタンジオン、１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。オキシムエステル型カルバゾール化合物の市販品としては、イルガキュアＯＸＥ−０１、イルガキュアＯＸＥ−０２、イルガキュアＯＸＥ−０３（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカオプトマーＮ−１９１９、アデカアークルズＮＣＩ−８３１（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）等が挙げられる。

熱重合開始剤としては、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル−２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）等のアゾ系化合物；ラウリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、過酸化ベンゾイル、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジプロピルパーオキシジカーボネート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキサイド等の有機過酸化物；過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の無機過酸化物などが挙げられる。これらの熱重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

重合開始剤の添加量は、硬化性組成物１００質量部に対して、通常、０．１〜２０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部であり、より好ましくは１〜５質量部である。
上記範囲内であれば、硬化反応が十分に進行しやすい。

硬化性材料は通常、溶媒に溶解した状態で基材に塗布されるため、硬化性材料は溶媒を含むことが好ましい。溶媒としては、硬化性組成物を溶解し得る溶媒が好ましく、また、硬化性材料の重合反応に不活性な溶媒であることが好ましい。溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール、２−ブトキシエタノール及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒；エチルシクロヘキサン等の脂環式炭化水素溶媒；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶媒；ジメチルアセトアミド、ジメチルホルミアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等のアミド系溶媒等が挙げられる。これらの溶媒は、単独又は二種以上組み合わせて使用できる。これらの中でも、アルコール溶媒、エステル溶媒、ケトン溶媒、塩素含有溶媒、アミド系溶媒及び芳香族炭化水素溶媒が好ましい。

溶媒の含有量は、硬化性組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは６０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部であることが好ましい。この範囲であると、硬化性組成物の粘度が低くなることから、補強層の厚みが略均一になり、補強層にムラが生じ難くなる傾向がある。

硬化性組成物は、硬化性材料と、添加剤等の硬化性材料以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。

補強層８は、硬化性組成物を基材上に塗布し、次いで溶媒を除去し、加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。

硬化性組成物を基材に塗布する方法（以下、塗布方法Ａという場合がある）としては、例えば押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ＣＡＰコーティング法、スリットコーティング法、マイクログラビア法、ダイコーティング法、インクジェット法等が挙げられる。また、ディップコーター、バーコーター、スピンコーター等のコーターを用いて塗布する方法等も挙げられる。中でも、Ｒｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌ形式で連続的に塗布する場合には、マイクログラビア法、インクジェット法、スリットコーティング法、ダイコーティング法による塗布方法が好ましい。

溶媒を除去する方法（以下、溶媒除去方法Ａという場合がある）としては、例えば、自然乾燥、通風乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥及びこれらを組み合わせた方法が挙げられる。中でも、自然乾燥又は加熱乾燥が好ましい。乾燥温度は、０〜２００℃の範囲が好ましく、２０〜１５０℃の範囲がより好ましく、５０〜１３０℃の範囲がさらに好ましい。乾燥時間は、１０秒間〜２０分間が好ましく、より好ましくは３０秒間〜１０分間である。

照射する活性エネルギー線としては、硬化性組成物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。照射する活性エネルギー線としては、硬化性組成物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。具体的には、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線、及びγ線からなる群より選択される一種以上の光が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、及び光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物の種類を選択することが好ましい。

前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

紫外線照射強度は、通常、１０〜３，０００ｍＷ／ｃｍ^２である。紫外線照射強度は、好ましくは光カチオン重合開始剤又は光ラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒〜１０分であり、好ましくは０．１秒〜５分、より好ましくは０．１秒〜３分、さらに好ましくは０．１秒〜１分である。
このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０〜３，０００ｍＪ／ｃｍ^２、好ましくは５０〜２，０００ｍＪ／ｃｍ^２、より好ましくは１００〜１，０００ｍＪ／ｃｍ^２である。積算光量がこの範囲以下である場合には、硬化性組成物の硬化が不十分となり、楕円偏光板の加工特性が低下する場合がある。逆に、積算光量がこの範囲以上である場合には、楕円偏光板が着色する場合がある。

熱により硬化性組成物を硬化する場合、加熱温度は、硬化性材料の種類、熱重合開始剤を含む場合には熱重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択されるが、例えば５０℃〜２００℃、好ましくは５０℃〜１３０℃であってもよい。加熱時間は、例えば１０秒〜１０分間、好ましくは１０秒〜５分間であってもよい。なお、加熱乾燥する場合には乾燥と硬化とを同時に行うこともできる。

補強層８の膜厚は、補強性の観点から、好ましくは１〜１０μｍである。補強層の膜厚が上記の下限値以上であると、楕円偏光板に含まれる層、特に垂直配向液晶硬化層６を十分に補強でき、優れた加工特性を発現できる。補強層８の膜厚が上記の上限値以下であると、楕円偏光板の薄膜化の観点から好ましい。補強層８の膜厚は、楕円偏光板の薄膜化の観点からは、好ましくは１〜５μｍ、より好ましくは１〜３μｍであってもよく、楕円偏光板の加工特性の観点からは、好ましくは５〜１０μｍ、より好ましくは７〜１０μｍであってもよい。補強層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定できる。

〔偏光層〕
偏光層２は、偏光機能を有する層である。このような層としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、又は、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムを偏光子として含むフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、例えば、二色性色素が挙げられる。

吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムを偏光子として含むフィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造された偏光子の少なくとも一方の面に接着剤を介して透明保護フィルムで挟み込むことで作製される。

ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することによって得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂としては、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニルの他、酢酸ビニルとそれに共重合可能な他の単量体との共重合体が用いられる。酢酸ビニルに共重合可能な他の単量体としては、例えば、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、アンモニウム基を有するアクリルアミド類などが挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂のケン化度は、通常８５〜１００モル％程度であり、好ましくは９８モル％以上である。ポリビニルアルコール系樹脂は変性されていてもよく、例えば、アルデヒド類で変性されたポリビニルホルマールやポリビニルアセタールも使用することができる。ポリビニルアルコール系樹脂の重合度は、通常１,０００〜１０,０００程度であり、好ましくは１,５００〜５,０００の範囲である。

このようなポリビニルアルコール系樹脂を製膜したものが、偏光層２の原反フィルムとして用いられる。ポリビニルアルコール系樹脂を製膜する方法は、特に限定されるものでなく、公知の方法で製膜することができる。ポリビニルアルコール系原反フィルムの膜厚は、例えば、１０〜１５０μｍ程度とすることができる。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの一軸延伸は、二色性色素による染色の前、染色と同時、又は染色の後で行うことができる。一軸延伸を染色の後で行う場合、この一軸延伸は、ホウ酸処理の前に行ってもよいし、ホウ酸処理中に行ってもよい。また、これらの複数の段階で一軸延伸を行うことも可能である。一軸延伸にあたっては、周速の異なるロール間で一軸に延伸してもよいし、熱ロールを用いて一軸に延伸してもよい。また一軸延伸は、大気中で延伸を行う乾式延伸であってもよいし、溶媒を用い、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを膨潤させた状態で延伸を行う湿式延伸であってもよい。延伸倍率は、通常３〜８倍程度である。

ポリビニルアルコール系樹脂フィルムの二色性色素による染色は、例えば、二色性色素を含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬する方法によって行われる。

二色性色素として、具体的には、ヨウ素や二色性の有機染料が用いられる。二色性の有機染料としては、C.I. DIRECT RED 39などのジスアゾ化合物からなる二色性直接染料及び、トリスアゾ、テトラキスアゾなどの化合物からなる二色性直接染料等が挙げられる。ポリビニルアルコール系樹脂フィルムは、染色処理前に、水への浸漬処理を施しておくことが好ましい。

二色性色素としてヨウ素を用いる場合は通常、ヨウ素及びヨウ化カリウムを含有する水溶液に、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。この水溶液におけるヨウ素の含有量は、水１００質量部あたり、通常、０.０１〜１質量部程度である。またヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常、０．５〜２０質量部程度である。染色に用いる水溶液の温度は、通常２０〜４０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常２０〜１,８００秒程度である。

一方、二色性色素として二色性の有機染料を用いる場合は通常、水溶性二色性染料を含む水溶液にポリビニルアルコール系樹脂フィルムを浸漬して染色する方法が採用される。
この水溶液における二色性有機染料の含有量は、水１００質量部あたり、通常、１×１０^−４〜１０質量部程度であり、好ましくは１×１０^−３〜１質量部であり、さらに好ましくは１×１０^−３〜１×１０^−２質量部である。この水溶液は、硫酸ナトリウム等の無機塩を染色助剤として含んでいてもよい。染色に用いる二色性染料水溶液の温度は、通常、２０〜８０℃程度である。また、この水溶液への浸漬時間（染色時間）は、通常、１０〜１,８００秒程度である。

二色性色素による染色後のホウ酸処理は通常、染色されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液に浸漬する方法により行うことができる。このホウ酸水溶液におけるホウ酸の含有量は、水１００質量部あたり、通常２〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。二色性色素としてヨウ素を用いた場合には、このホウ酸水溶液はヨウ化カリウムを含有することが好ましく、その場合のヨウ化カリウムの含有量は、水１００質量部あたり、通常０.１〜１５質量部程度であり、好ましくは５〜１２質量部である。ホウ酸水溶液への浸漬時間は、通常６０〜１,２００秒程度であり、好ましくは１５０〜６００秒、さらに好ましくは２００〜４００秒である。ホウ酸処理の温度は、通常５０℃以上であり、好ましくは５０〜８５℃、さらに好ましくは６０〜８０℃である。

ホウ酸処理後のポリビニルアルコール系樹脂フィルムは通常、水洗処理される。水洗処理は、例えば、ホウ酸処理されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムを水に浸漬する方法により行うことができる。水洗処理における水の温度は、通常５〜４０℃程度である。
また浸漬時間は、通常１〜１２０秒程度である。

水洗後に乾燥処理が施されて、偏光子が得られる。乾燥処理は例えば、熱風乾燥機や遠赤外線ヒーターを用いて行うことができる。乾燥処理の温度は、通常３０〜１００℃程度であり、好ましくは５０〜８０℃である。乾燥処理の時間は、通常６０〜６００秒程度であり、好ましくは１２０〜６００秒である。乾燥処理により、偏光子の水分率は実用程度にまで低減される。その水分率は、通常５〜２０重量％程度であり、好ましくは８〜１５重量％である。水分率が５重量％を下回ると、偏光子の可撓性が失われ、偏光子がその乾燥後に損傷したり、破断したりすることがある。また、水分率が２０重量％を上回ると、偏光子の熱安定性が悪くなる可能性がある。

こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚さは好ましくは５〜４０μｍである。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。当該フィルムは、好ましくは、その片面又は両面に保護フィルムを有する。
当該保護フィルムとしては、後述する基材と同一のものが挙げられる。

吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚さは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５〜３μｍである。

前記吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。

このようにして得られた偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光層２が得られる。透明保護フィルムとしては、後述する基材と同様の透明フィルムを好ましく用いることができる。

〔λ／４位相差層〕
λ／４位相差層４はフィルム面内の屈折率に異方性を有する層である。λ／４位相差層４は、高分子フィルムを延伸又は収縮させる方法により形成してもよいが、楕円偏光板の薄膜化の観点から、重合性液晶化合物（重合性液晶ともいう）を含む重合性液晶組成物を配向させたまま重合して形成することが好ましい。

λ／４位相差層４が形成する３次元屈折率楕円体は２軸性を有していてもよいが、１軸性を有することが好ましい。λ／４位相差層４は、λ／４位相差層４の平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる水平配向液晶硬化層であることが好ましい。

水平配向液晶硬化層は、重合性液晶の光軸がλ／４位相差層の平面に対して水平方向に配向している。λ／４位相差層を構成する重合性液晶は、棒状又は円板状の重合性液晶であってもよい。棒状の重合性液晶がλ／４位相差層の平面に対して水平配向又は垂直配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の長軸方向と一致する。円盤状の重合性液晶が配向した場合は、重合性液晶の光軸は、該重合性液晶の円盤面に対して直交する方向に存在する。

重合性液晶の配向により形成される屈折率楕円体における３方向の屈折率ｎｘ、ｎｙ及びｎｚは、ｎｘ＞ｎｙ≒ｎｚ（ポジティブＡプレートという）、ｎｘ≒ｎｙ＜ｎｚ（ポジティブＣプレートという）、ｎｘ＜ｎｙ≒ｎｚ（ネガティブＡプレートという）又はｎｘ≒ｎｙ＞ｎｚ（ネガティブＣプレートという）等の関係が挙げられる。ｎｘは、λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ／４位相差層の平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙは、λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ／４位相差層の平面に対して平行であり、且つ、該ｎｘの方向に対して直交する方向の屈折率を表す。ｎｚは、λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、λ／４位相差層の平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。

λ／４位相差層４は、棒状の重合性液晶と円盤状の重合性液晶のどちらであっても使用可能であるが、棒状の重合性液晶であることが好ましく、棒状の重合性液晶が水平配向液晶硬化層を形成する場合、λ／４位相差層はポジティブＡプレートとなる。

λ／４位相差層４は、λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
ｎｘＱ（λ）＞ｎｙＱ（λ）≒ｎｚＱ（λ）
［式中、ｎｘＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＱ（λ）の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ｎｚＱ（λ）はλ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。］
の関係を有し、
下記式（１）〜（３）
ＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）≦１．００ （１）
１．００≦ＲｅＱ（６５０）／ＲｅＱ（５５０） （２）
１００ｎｍ≦ＲｅＱ（５５０）≦１６０ｎｍ （３）
［式中、ＲｅＱ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対するλ／４位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ（ｎｍ）の光に対するλ／４位相差層の面内位相差値ＲｅＱ（λ）は、
ＲｅＱ（λ）＝（ｎｘＱ（λ）−ｎｙＱ（λ））×ｄＱ
で表される。ここで、ｄＱはλ／４位相差層の厚みを表す。］
の関係を満たすことが好ましい。

λ／４位相差層４の面内位相差ＲｅＱ（５５０）が式（３）の範囲内であると、楕円偏光板を含むディスプレイ正面の色相が赤くなったり青くなったりする等の色相変化を抑制し得る。面内位相差値のさらに好ましい範囲としては、１３０ｎｍ≦Ｒｅ１（５５０）≦１５０ｎｍである。λ／４位相差層のＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）が１．００以下であり、ＲｅＱ（６５０）／ＲｅＱ（５５０）が１．００以上であると、当該λ／４位相差層を備える楕円偏光板での楕円率の悪化を抑制することができ、正面から見た時の円偏光板としての機能が良好になる。「ＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。

λ／４位相差層４の面内位相差値は、λ／４位相差層の厚みｄＱによって、調整することができる。面内位相差値は、上記式ＲｅＱ（λ）＝（ｎｘＱ（λ）−ｎｙＱ（λ））×ｄＱによって決定されることから、所望の面内位相差値（ＲｅＱ（λ）：波長λ（ｎｍ）におけるλ／４位相差層の面内位相差値）を得るには、３次元屈折率と膜厚ｄ１とを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向状態に依存する。

λ／４位相差層４の膜厚の上限は、薄膜化の観点から、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは３μｍ以下、さらに好ましくは２．５μｍ以下である。また、λ／４位相差層４の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、さらに好ましくは０．８μｍ以上である。λ／４位相差層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

（垂直配向液晶硬化層）
垂直配向液晶硬化層６は、該液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる層である。垂直配向液晶硬化層６が形成する３次元屈折率楕円体は２軸性を有していてもよいが、１軸性を有することが好ましい。垂直配向液晶硬化層６は、垂直配向液晶硬化層６の平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる垂直配向液晶硬化層である。垂直配向液晶硬化層６は棒状の液晶であることが好ましく、ポジティブＣプレートであることが好ましい。

垂直配向液晶硬化層６がポジティブＣプレートである場合、垂直配向液晶硬化層６は、垂直配向液晶硬化層６が形成する屈折率楕円体において、波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
ｎｚＶ（λ）＞ｎｘＶ（λ）≒ｎｙＶ（λ）
［式中、ｎｚＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙＶ（λ）は液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＶの方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘＶ（λ）＝ｎｙＶ（λ）となる場合には、ｎｘＶ（λ）は液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。］
の関係を有し、さらに
下記式（４）〜（６）
ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）≦１．００ （４）
１．００≦ＲｔｈＶ（６５０）／ＲｔｈV（５５０） （５）
−１２０ｎｍ≦ＲｔｈＶ（５５０）≦−５０ｎｍ （６）
［式中、ＲｔｈＶ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する液相硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈV（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＶ（６５０）は波長６５０ｎｍの光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ（ｎｍ）の光に対する液晶硬化層の厚み方向の位相差値ＲｔｈＶ（λ）は、
ＲｔｈＶ（λ）＝[（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２−ｎｚＶ（λ）]×ｄＶ
で表される。ここで、液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、ｎｚＶ（λ）は波長λ（ｎｍ）における液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、（（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２）は、波長λ（ｎｍ）における液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。ｄＶは液晶硬化層の厚みを表す。］
の関係を満たすことが好ましい。

垂直配向液晶硬化層６の厚み方向の位相差値Ｒｔｈ２（５５０）が式（６）の範囲内であると、楕円偏光板を含むディスプレイの斜方の色相が赤くなったり青くなったりするなどの色変化を抑制し得る。厚み方向の位相差値のより好ましい範囲としては、−９５ｎｍ≦ＲｔｈＶ（５５０）≦−５５ｎｍ、さらに好ましい範囲としては−９０ｎｍ≦ＲｔｈＶ（５５０）≦−６０ｎｍである。垂直配向液晶硬化層の「ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）」が１．００以下であり、ＲｔｈＶ（６５０）／ＲｔｈV（５５０）が１．００以上であると、当該垂直配向硬化層を含む楕円偏光板での斜方から見た場合の楕円率の悪化を抑制することができ、円偏光板としての機能が良好になる。「ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）」は、好ましくは０．７５〜０．９２、より好ましくは０．７７〜０．８７、さらに好ましくは０．７９〜０．８５である。

垂直配向液晶硬化層６の厚み方向の位相差値は、垂直配向液晶硬化層６の厚さｄＶによって、調整することができる。面内位相差値は上記式ＲｔｈＶ（λ）＝[（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２−ｎｚＶ（λ）]×ｄＶによって決定されることから、所望の厚み方向の位相差値（ＲｔｈＶ（λ）：波長（ｎｍ）における垂直配向液晶硬化層６の厚み方向の位相差値）を得るためには、３次元屈折率と膜厚ｄＶとを調整すればよい。なお、３次元屈折率は、後述する重合性液晶化合物の分子構造並びに配向性に依存する。

垂直配向液晶硬化層６の膜厚の上限は、薄膜化の観点から、好ましくは３μｍ以下であり、より好ましくは２．５μｍ以下、さらに好ましくは２．０μｍ以下、特に好ましくは１．５μｍ以下である。また、垂直配向液晶硬化層６の膜厚の下限は、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．３μｍ以上、さらに好ましくは０．５μｍ以上である。垂直配向液晶硬化層の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

（重合性液晶組成物）
λ／４位相差層４及び垂直配向液晶硬化層６はそれぞれ、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなることが好ましい。重合性液晶化合物は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物である。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。
光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。

本発明において、重合性液晶化合物は、逆波長分散性の発現、好ましくは、前記式（１）及び（２）若しくは（４）及び（５）の関係を充足させる観点から、下記式（Ｉ）
で表される化合物が好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここで言う芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。−Ｎ＝や−Ｓ−等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。

Ｇ^１及びＧ^２はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。
ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のフルオロアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。

Ｌ^１、Ｌ^２ _、Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。

ｋ、ｌは、それぞれ独立に０〜３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ^１及びＢ^２、Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｓｉ−で置換されていてもよい。Ｐ^１及びＰ^２は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

Ｇ^１及びＧ^２は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１〜４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４−シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４−フェニレンジイル基、無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４−フェニレンジイル基、又は無置換の１，４−ｔｒａｎｓ−シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ^１又はＬ^２に結合するＧ^１及びＧ^２のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ１ＯＲ^ａ２−、−Ｒ^ａ３ＣＯＯＲ^ａ４−、−Ｒ^ａ５ＯＣＯＲ^ａ６−、Ｒ^ａ７ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ８−、−Ｎ＝Ｎ−、−ＣＲ^ｃ＝ＣＲ^ｄ−、又はＣ≡Ｃ−である。ここで、Ｒ^ａ１〜Ｒ^ａ８はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表し、Ｒ^ｃ及びＲ^ｄは炭素数１〜４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^ａ２−１−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^ａ４−１−、又はＯＣＯＲ^ａ６−１−である。ここで、Ｒ^ａ２−１、Ｒ^ａ４−１、Ｒ^ａ６−１はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｌ^１及びＬ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、又はＯＣＯ−である。

Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１〜４のアルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｒ^ａ９ＯＲ^ａ１０−、−Ｒ^ａ１１ＣＯＯＲ^ａ１２−、−Ｒ^ａ１３ＯＣＯＲ^ａ１４−、又はＲ^ａ１５ＯＣ＝ＯＯＲ^ａ１６−である。ここで、Ｒ^ａ９〜Ｒ^ａ１６はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１〜４のアルキレン基を表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、−ＯＲ^{ａ１０−１}−、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯＲ^{ａ１２−１}−、又はＯＣＯＲ^{ａ１４−１}−である。ここで、Ｒ^{ａ１０−１}、Ｒ^{ａ１２−１}、Ｒ^{ａ１４−１}はそれぞれ独立に単結合、−ＣＨ_２−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−のいずれかを表す。Ｂ^１及びＢ^２はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、−Ｏ−、−ＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＣＯＯ−、−ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２−、−ＯＣＯ−、又はＯＣＯＣＨ_２ＣＨ_２−、である。

ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。

Ｅ^１及びＥ^２はそれぞれ独立に、炭素数１〜１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４〜１２のアルカンジイル基がより好ましい。

Ｐ^１又はＰ^２で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも一つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

式（Ｉ）中、Ａｒで表される２価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎ_πは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の基が挙げられる。

式（Ａｒ−１）〜式（Ａｒ−２２）中、＊印は連結部を表し、Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１〜１２のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルキルチオ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜１２のＮ−アルキルスルファモイル基又は炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルスルファモイル基を表す。

Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれ独立に、−ＣＲ^２’Ｒ^３’−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−ＮＲ^２’−、−ＣＯ−又はＯ−を表し、Ｒ^２’及びＲ^３’は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表す。

Ｊ^１、及びＪ^２は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

Ｗ^１及びＷ^２は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０〜６の整数を表す。

Ｙ^１、Ｙ^２及びＹ^３における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４〜２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

Ｚ^０、Ｚ^１及びＺ^２は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ^０は、水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ^１及びＺ^２は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

Ｑ^１及びＱ^２は、−ＮＨ−、−Ｓ−、−ＮＲ^２’−、−Ｏ−が好ましく、Ｒ^２’は水素原子が好ましい。中でも−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−が特に好ましい。

Ａｒ^１で表される芳香族基として、以下の式（Ａｒ−２３）で示される基も挙げられる。

式（Ａｒ−２３）中、＊、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｑ^１およびＱ^２は前記と同じ意味を示し、Ｕ^１は置換基が結合していてもよい第１４属〜第１６属の非金属原子を示す。第１４属〜第１６属の非金属原子としては、例えば炭素原子、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が挙げられ、好ましくは＝Ｏ、＝Ｓ、＝ＮＲ’および＝Ｃ（Ｒ’）Ｒ’などが挙げられる。置換基Ｒ’としては、例えば水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルケニル基、アリール基、シアノ基、アミノ基、ニトロ基、ニトロソ基、カルボキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルフィニル基、炭素数１〜６のアルキルスルホニル基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルキルスルファニル基、炭素数１〜６のＮ−アルキルアミノ基、炭素数２〜１２のＮ，Ｎ−ジアルキルアミノ基、炭素数１〜６のＮ−アルキルスルファモイル基、炭素数２〜１２のジアルキルスルファモイル基などが挙げられ、非金属原子が炭素原子（Ｃ）である場合における２つのＲ’は互いに同一であってもよいし、異なっていてもよい。

式（Ａｒ−１）〜（Ａｒ−２３）の中でも、式（Ａｒ−６）及び式（Ａｒ−７）が分子の安定性の観点から好ましい。

式（Ａｒ−１６）〜（Ａｒ−２２）において、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ^１は、これが結合する窒素原子及びＺ^０と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

重合性液晶化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。二種以上併用する場合、前記式（Ｉ）で表される化合物の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは５０質量部以上、より好ましくは７０質量部以上、さらに好ましくは８０質量部以上である。

重合性液晶組成物は、溶媒、光重合開始剤、重合禁止剤、光増感剤、レベリング剤、密着性向上剤、二色性色素等の添加剤をさらに含むことができる。これらの添加剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物の固形分１００質量部に対して、例えば７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは９０〜９８質量部である。含有量が上記範囲内であれば、層の配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、組成物から溶媒を除いた成分の合計量のことをいう。

溶媒としては、補強層の項で例示の溶媒を使用することができる。溶媒の含有量は、重合性液晶組成物１００質量部に対して、好ましくは５０〜９８質量部、より好ましくは７０〜９５重量部である。従って、組成物１００質量部に占める固形分は、２〜５０質量部が好ましい。組成物の固形分が５０質量部以下であると、組成物の粘度が低くなることから、層の厚みが略均一になり、層にムラが生じ難くなる傾向がある。上記固形分は、製造しようとする層の厚みを考慮して適宜定めることができる。

光重合開始剤としては、補強層の項で例示の光重合開始剤を使用することができる。光重合開始剤の添加量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常、０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは１〜１５質量部である。
上記範囲内であれば、重合性基の反応が十分に進行し、かつ、重合性液晶化合物の配向を乱し難い。

重合禁止剤を配合することにより、重合性液晶化合物の重合反応をコントロールすることができる。重合禁止剤としては、ハイドロキノン及びアルキルエーテル等の置換基を有するハイドロキノン類；ブチルカテコール等のアルキルエーテル等の置換基を有するカテコール類；ピロガロール類、２，２，６，６−テトラメチル−１−ピペリジニルオキシラジカル等のラジカル補捉剤；チオフェノール類；β−ナフチルアミン類及びβ−ナフトール類が挙げられる。重合性液晶化合物の配向を乱すことなく、重合性液晶化合物を重合するためには、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．１〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。重合禁止剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

さらに、光増感剤を用いることにより、光重合開始剤を高感度化することができる。光増感剤としては、例えば、キサントン、チオキサントン等のキサントン類；アントラセン及びアルキルエーテル等の置換基を有するアントラセン類；フェノチアジン；ルブレンが挙げられる。光増感剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。光増感剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．０１〜１０質量部であり、好ましくは０．０５〜５質量部であり、さらに好ましくは０．１〜３質量部である。

レベリング剤とは、硬化性組成物の流動性を調整し、組成物を塗布して得られる層をより平坦にする機能を有する添加剤であり、例えば、シランカップリング剤等のシリコーン系及びポリアクリレート系及びパーフルオロアルキル系のレベリング剤が挙げられる。具体的には、ＤＣ３ＰＡ、ＳＨ７ＰＡ、ＤＣ１１ＰＡ、ＳＨ２８ＰＡ、ＳＨ２９ＰＡ、ＳＨ３０ＰＡ、ＳＴ８０ＰＡ、ＳＴ８６ＰＡ、ＳＨ８４００、ＳＨ８７００、ＦＺ２１２３（以上、全て東レ・ダウコーニング（株）製）、ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１、Ｘ２２−１６１Ａ、ＫＦ６００１、ＫＢＭ−１００３、ＫＢＥ−１００３、ＫＢＭ−３０３、ＫＢＭ−４０２、ＫＢＭ−４０３、ＫＢＥ−４０２、ＫＢＥ−４０３、ＫＢＭ−１４０３、ＫＢＭ−５０２、ＫＢＭ−５０３、ＫＢＥ−５０２、ＫＢＥ−５０３、ＫＢＭ−５１０３、ＫＢＭ−６０２、ＫＢＭ−６０３、ＫＢＭ−９０３、ＫＢＥ−９０３、ＫＢＥ−９１０３、ＫＢＭ−５７３、ＫＢＭ−５７５、ＫＢＥ−５８５、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０２、ＫＢＭ−８０３、ＫＢＥ−８４６、ＫＢＥ−９００７（以上、全て信越化学工業（株）製）、ＴＳＦ４００、ＴＳＦ４０１、ＴＳＦ４１０、ＴＳＦ４３００、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ−４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（以上、全てモメンティブ パフォーマンス マテリアルズ ジャパン合同会社製）、フロリナート（ｆｌｕｏｒｉｎｅｒｔ）（登録商標）ＦＣ−７２、同ＦＣ−４０、同ＦＣ−４３、同ＦＣ−３２８３（以上、全て住友スリーエム（株）製）、メガファック（登録商標）Ｒ−０８、同Ｒ−３０、同Ｒ−９０、同Ｆ−４１０、同Ｆ−４１１、同Ｆ−４４３、同Ｆ−４４５、同Ｆ−４７０、同Ｆ−４７７、同Ｆ−４７９、同Ｆ−４８２、同Ｆ−４８３（以上、いずれもＤＩＣ（株）製）、エフトップ（商品名）ＥＦ３０１、同ＥＦ３０３、同ＥＦ３５１、同ＥＦ３５２（以上、全て三菱マテリアル電子化成（株）製）、サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１、同Ｓ−３８２、同Ｓ−３８３、同Ｓ−３９３、同ＳＣ−１０１、同ＳＣ−１０５、ＫＨ−４０、ＳＡ−１００（以上、全てＡＧＣセイミケミカル（株）製）、商品名Ｅ１８３０、同Ｅ５８４４（（株）ダイキンファインケミカル研究所製）、ＢＭ−１０００、ＢＭ−１１００、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５３及びＢＹＫ−３６１Ｎ（いずれも商品名：ＢＭ Ｃｈｅｍｉｅ社製）等が挙げられる。レベリング剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．０５〜３質量部がさらに好ましい。レベリング剤の含有量が、上記範囲内であると、得られる層がより平滑となる傾向があるため好ましい。二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素をいう。二色性色素としては、可視光を吸収する特性を有することが好ましく、３８０〜６８０ｎｍの範囲に吸収極大波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素およびアントラキノン色素などが挙げられるが、中でもアゾ色素が好ましい。アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素およびスチルベンアゾ色素などが挙げられ、好ましくはビスアゾ色素およびトリスアゾ色素である。二色性色素は単独でも、組み合わせてもよいが、可視光全域で吸収を得るためには、３種類以上の二色性色素を組み合わせるのが好ましく、３種類以上のアゾ色素を組み合わせるのがより好ましい。

アゾ色素としては、例えば、下記式（II）で表される化合物（以下、「化合物（II）」ということもある）が挙げられる。
Ｔ^１-Ａ^１（−Ｎ＝Ｎ−Ａ^２）_ｐ−Ｎ＝Ｎ−Ａ^３-Ｔ^２（II）
［式（II）中、
Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は、互いに独立に、置換基を有していてもよい１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基または置換基を有していてもよい２価の複素環基を表し、Ｔ^１およびＴ^２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、アゾ結合面内に対して実質的に１８０°の位置に有する。ｐは０〜４の整数を表す。ｐが２以上である場合、各々のＡ^２は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で−Ｎ＝Ｎ−結合が−Ｃ＝Ｃ−、−ＣＯＯ−、−ＮＨＣＯ−または−Ｎ＝ＣＨ−結合に置き換わっていてもよい。］

Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３における１，４−フェニレン基、ナフタレン−１，４−ジイル基および２価の複素環基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基およびブチル基などの炭素数１〜４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基およびブトキシ基などの炭素数１〜４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基およびピロリジノ基などの置換または無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は、−ＮＨ_２である。）が挙げられる。なお、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基およびヘキシル基などが挙げられる。炭素数２〜８のアルカンジイル基としては、エチレン基、プロパン−１，３−ジイル基、ブタン−１，３−ジイル基、ブタン−１，４−ジイル基、ペンタン−１，５−ジイル基、ヘキサン−１，６−ジイル基、ヘプタン−１，７−ジイル基、オクタン−１，８−ジイル基などが挙げられる。スメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３は無置換または水素がメチル基またはメトキシ基で置換された１，４−フェニレン基、または２価の複素環基が好ましく、ｐは０または１である事が好ましい。中でもｐが１であり、かつ、Ａ^１、Ａ^２およびＡ^３の３つの構造のうち少なくとも２つが１，４−フェニレン基である事が分子合成の簡便さと高い性能の両方を有するという点でより好ましい。

２価の複素環基としては、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾールおよびベンゾオキサゾールから２個の水素原子を除いた基が挙げられる。Ａ^２が２価の複素環基の場合には、分子結合角度が実質的に１８０°となる構造が好ましく、具体的には、二つの５員環が縮合したベンゾチアゾール、ベンゾイミダゾール、ベンゾオキサゾール構造がより好ましい。

Ｔ^１およびＴ^２は電子吸引基あるいは電子放出基であり、異なる構造である事が好ましく、Ｔ^１が電子吸引基およびＴ^２が電子放出基、あるいは、Ｔ^１が電子放出基およびＴ^２が電子吸引基の関係である事がさらに好ましい。具体的には、Ｔ^１およびＴ^２は互いに独立に炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基、またはトリフルオロメチル基が好ましく、中でもスメクチック液晶のような高秩序液晶構造中に包摂するためには、分子の排除体積がより小さい構造体である必要があるため、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基を１つまたは２つ有するアミノ基、あるいは２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２〜８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基が好ましい。

このようなアゾ色素としては、例えば、以下のようなものが挙げられる。

式（２−１）〜（２−６）中、
Ｂ^１〜Ｂ^２０は、互いに独立に、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換または無置換のアミノ基（置換アミノ基および無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子またはトリフルオロメチル基を表す。また、高い偏光性能が得られる観点から、Ｂ^２、Ｂ^６、Ｂ^９、Ｂ^１４、Ｂ^１８、Ｂ^１９は水素原子又はメチル基が好ましく、水素原子がさらに好ましい。
ｎ１〜ｎ４は、それぞれ独立に０〜３の整数を表す。
ｎ１が２以上である場合、複数のＢ^２はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ２が２以上である場合、複数のＢ^６はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ３が２以上である場合、複数のＢ^９はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよく、
ｎ４が２以上である場合、複数のＢ^１４はそれぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

前記アントラキノン色素としては、式（２−７）で表される化合物が好ましい。

［式（２−７）中、
Ｒ^１〜Ｒ^８は、互いに独立に、水素原子、−Ｒ^ｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ^ｘ、−ＮＲ^ｘ _２、−ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］

前記オキサジン色素としては、式（２−８）で表される化合物が好ましい。

［式（２−８）中、
Ｒ^９〜Ｒ^１５は、互いに独立に、水素原子、−Ｒ^ｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ^ｘ、−ＮＲ^ｘ _２、−ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］

前記アクリジン色素としては、式（２−９）で表される化合物が好ましい。

［式（２−９）中、
Ｒ^１６〜Ｒ^２３は、互いに独立に、水素原子、−Ｒ^ｘ、−ＮＨ_２、−ＮＨＲ^ｘ、−ＮＲ^ｘ _２、−ＳＲ^ｘまたはハロゲン原子を表す。
Ｒ^ｘは、炭素数１〜４のアルキル基または炭素数６〜１２のアリール基を表す。］

式（２−７）、式（２−８）および式（２−９）における、Ｒ^ｘで表される炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基およびヘキシル基等が挙げられ、炭素数６〜１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基およびナフチル基等が挙げられる。

前記シアニン色素としては、式（２−１０）で表される化合物および式（２−１１）で表される化合物が好ましい。

［式（２−１０）中、
Ｄ^１およびＤ^２は、互いに独立に、式（２−１０ａ）〜式（２−１０ｄ）のいずれかで表される基を表す。

ｎ５は１〜３の整数を表す。］

［式（２−１１）中、
Ｄ^３およびＤ^４は、互いに独立に、式（２−１１ａ）〜式（２−１１ｈ）のいずれかで表される基を表す。
ｎ６は１〜３の整数を表す。］

二色性色素の含有量（複数種含む場合にはその合計量）は、良好な光吸収特性を得る観点から、重合性液晶化合物１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部であり、より好ましくは３〜１５質量部である。二色性色素の含有量がこの範囲より少ないと光吸収が不十分となり、十分な偏光性能が得られず、この範囲よりも多いと液晶分子の配向を阻害する場合がある。

重合性液晶組成物は、重合性液晶化合物と、添加剤等の重合性液晶化合物以外の成分とを所定温度で撹拌等することにより得ることができる。

λ／４位相差層４及び垂直配向液晶硬化層６は、配向規制力を与える配向層上に形成されることが好ましい。より詳細には、λ／４位相差層４は、前記重合性液晶組成物を配向層５上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。垂直配向液晶硬化層６は前記重合性液晶組成物を垂直配向層７上に塗布し、次いで溶媒を除去し、配向状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。

重合性液晶組成物を配向層５又は垂直配向層７上に塗布する方法としては、補強層の項に例示の塗布方法Ａが挙げられる。溶媒を除去する方法としては、補強層の項に例示の溶媒除去方法Ａが挙げられる。照射する活性エネルギー線としては、重合性液晶化合物の種類、光重合開始剤を含む場合には光重合開始剤の種類、及びそれらの量に応じて適宜選択される。活性エネルギー線、その光源としては補強層の項に例示のものを使用することができる。また、重合性液晶組成物に紫外線を照射する場合、紫外線照射強度、照射時間、及び積算光量も補強層の項に例示の範囲で使用することができる。積算光量が上記に記載の範囲以下である場合には、重合性液晶化合物の硬化が不十分となり、補強性が十分でない場合がある。逆に、積算光量が上記に記載の範囲以上である場合には、楕円偏光板が着色する場合がある。

〔配向層〕
配向層５は、重合性液晶化合物を所定方向に配向させる配向規制力を有する。例えば、配向層５が配向規制力として水平配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成でき、垂直配向規制力を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。また、垂直配向層７は、垂直配向液晶硬化層６に含まれる重合性液晶化合物が垂直配向を形成しているため、垂直配向規制力を発現させる材料で構成される。配向規制力は、配向層の種類、表面状態やラビング条件等によって任意に調整することが可能であり、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することが可能である。また、重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。

配向層５又は配向層７としては、重合性液晶組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。

λ／４位相差層４を水平方向に配向させる配向規制力を示す水平配向層としては、ラビング配向層、光配向層及び、表面に凹凸パターンや複数の溝を有するグルブ配向層等が挙げられる。例えば長尺のロール状フィルムに適用する場合には、配向方向を容易に制御できる点で、光配向層が好ましい。

ラビング配向層は、通常、配向性ポリマーと溶媒とを含む組成物（以下、ラビング配向層形成用組成物ともいう）を基材に塗布し、溶媒を除去して塗布膜を形成し、該塗布膜をラビングすることで配向規制力を付与することができる。

配向性ポリマーとしては、例えば、アミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、イミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸及びポリアクリル酸エステル類が挙げられる。これらの配向性ポリマーは単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

ラビング配向層形成用組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマーが溶媒に完溶する範囲であればよい。配向性ポリマーの含有量は、該組成物１００質量部に対して、好ましくは０．１〜２０質量部であり、より好ましくは０．１〜１０質量部である。

ラビング配向層形成用組成物は、市場から入手できる。市販品としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）、オプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。

溶媒は、例えば補強層の項に例示の溶媒を使用することができる。ラビング配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

ラビング処理の方法としては、例えば、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、前記塗布膜を接触させる方法が挙げられる。ラビング処理を行う時に、マスキングを行えば、配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を配向膜に形成することもできる。

光配向層は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶媒とを含む組成物（光配向層形成用組成物ともいう）を基材に塗布し、溶媒を除去後に偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向層は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御することができる。

光反応性基とは、光照射することにより配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起反応、異性化反応、光二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。

Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、例えば、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、例えば、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、例えば、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。

光二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造又は桂皮酸エステル構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光配向層の厚さによって調節でき、光配向層形成用組成物１００質量部に対して、少なくとも０．２質量部以上とすることが好ましく、０．３〜１０質量部の範囲がより好ましい。

溶媒は、例えば補強層の項に例示の溶媒を使用することができる。光配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

偏光を照射するには、例えば、基材上に塗布された光配向層形成用組成物から、溶媒を除去したものに直接、偏光を照射する形式であってよい。また、当該偏光は、実質的に平行光であると好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長域のものがよい。具体的には、波長２５０〜４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光を照射する光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられる。中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光素子を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。偏光素子としては、偏光フィルター、グラントムソン、及びグランテーラー等の偏光プリズム、ならびにワイヤーグリッドが挙げられる。中でも大面積化と熱による耐性の観点からワイヤーグリッドタイプの偏光素子が好ましい。

なお、ラビング又は偏光照射を行うときに、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

グルブ（ｇｒｏｏｖｅ）配向層は、膜表面に凹凸パターン又は複数のグルブ（溝）を有する膜である。等間隔に並んだ複数の直線状のグルブを有する膜に重合性液晶化合物を塗布した場合、その溝に沿った方向に液晶分子が配向する。

グルブ配向層を得る方法としては、感光性ポリイミド膜表面にパターン形状のスリットを有する露光用マスクを介して露光後、現像及びリンス処理を行って凹凸パターンを形成する方法、表面に溝を有する板状の原盤に、硬化前のＵＶ硬化樹脂の層を形成し、形成された樹脂層を基材へ移してから硬化する方法、及び、基材に形成した硬化前のＵＶ硬化樹脂の膜に、複数の溝を有するロール状の原盤を押し当てて凹凸を形成し、その後硬化する方法等が挙げられる。

垂直配向液晶硬化層６を垂直方向に配向させる配向規制力を示す垂直配向層としては、配向層表面の表面張力を下げるような材料を適用することが好ましい。このような材料としては、上述した配向性ポリマー、例えばポリイミド、ポリアミド、その加水分解物であるポリアミック酸、パーフルオロアルキル等のフッ素系ポリマー、及びシラン化合物並びにそれらの縮合反応により得られるポリシロキサン化合物が挙げられる。垂直配向層は、このような材料と溶媒、例えば補強層の項に例示の溶媒とを含む組成物（以下、垂直配向層形成用組成物ともいう）を基材に塗布し、溶媒除去後、塗布膜に加熱等施すことで得ることができる。

垂直配向層にシラン化合物を使用する場合には、表面張力を低下させやすく、隣接する層との密着性を高めやすい観点から、少なくとも垂直配向層７は構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物からなる層が好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。少なくとも垂直配向層７が構成元素にＳｉ元素とＣ元素とを含む化合物からなると、隣接する層との密着性を高め、形成される楕円偏光板の加工特性を向上することができる。

シラン化合物としては、上述したシランカップリング剤等のシリコーン系が好適に適用可能であるが、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（２−メトキシエトキシ）シラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチル−ブチリデン）プロピルアミン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシドキシプロピルエトキシジメチルシランなどが挙げられる。

シラン化合物は、シリコーンモノマータイプのものであってもよく、タイプシリコーンオリゴマー（ポリマー）タイプのものであってもよい。シリコーンオリゴマーを（単量体）−（単量体）コポリマーの形式で示すと、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトプロピル基含有のコポリマー；メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、メルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びメルカプトメチルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メルカプトメチル基含有のコポリマー；３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−メタクリロキシイルオプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、メタクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アクリロイルオキシプロピル基含有のコポリマー；ビニルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、ビニルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、ビニルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及びビニルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、ビニル基含有のコポリマー；３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルトリエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマー、３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラメトキシシランコポリマー、及び３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン−テトラエトキシシランコポリマーの如き、アミノ基含有のコポリマー等が挙げられる。シラン化合物は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。また、レベリング剤としても使用される場合もある、シランカップリング剤等も使用する事が出来る。

これらの中でも分子末端にアルキル基を有するシラン化合物が好ましく、炭素数３〜３０のアルキル基を有するシラン化合物がより好ましい。

本発明の好ましい実施態様では、垂直配向液晶硬化層６と補強層８との間に膜厚５μｍ以下の垂直配向層７を有し、該垂直配向層７は構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層である。垂直配向層７は隣接する層との密着性向上の観点、及び垂直配向液晶硬化層６形成用組成物の塗布性の観点から、構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素、及びＯ元素を含む化合物から成ることが好ましく、シラン化合物を好適に使用することができる。垂直配向層７を形成するシラン化合物のＳｉ原子に結合するＣ原子を含む置換基、好ましくはアルキル基又はアルコキシ基の炭素原子数は、好ましくは１〜３０、より好ましくは２〜２５、さらに好ましくは３〜２０である。すなわち、Ｓｉ元素とＣ元素との比率（Ｓｉ／Ｃ、モル比）は、好ましくは０．０３〜１．００、より好ましくは０．０４〜０．５０、さらに好ましくは０．０５〜０．３３である。Ｓｉ／Ｃ比が上記の下限以上であると、垂直配向液晶硬化層６形成用組成物の塗布性が向上し、Ｓｉ／Ｃ比が上限以下であると隣接する層との密着性を向上できる。

溶媒は、例えば、補強層８の項に例示の溶媒を使用することができる。垂直配向層形成用組成物を基材に塗布する方法としては、前記塗布方法Ａが挙げられ、溶媒を除去する方法としては、前記溶媒除去方法Ａが挙げられる。

配向層形成用組成物、すなわち、前記ラビング配向層形成用組成物、前記光配向層形成用組成物等の水平配向層形成用組成物、及び前記垂直配向層形成用組成物は溶媒の他、例えば重合性液晶組成物に含まれる添加剤と同様の添加剤を含むことができる。

配向層５及び垂直配向層７の膜厚は、薄膜化の観点から、それぞれ好ましくは１μｍ以下、より好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．３μｍ以下である。また、配向層５及び垂直配向層７の膜厚はそれぞれ、好ましくは１ｎｍ以上、より好ましくは５ｎｍ以上、さらに好ましくは１０ｎｍ以上、特に好ましくは３０ｎｍ以上である。配向層５及び垂直配向層７の膜厚は、エリプソメータ又は接触式膜厚計を用いて測定することができる。

〔粘接着剤〕
粘接着剤３としては、感圧式粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、例えば、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。

感圧式粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶媒を含んでいてもよい。ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じ難いため好ましい。

アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基である（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。

このような共重合体を含む感圧式粘着剤は、粘着性に優れており、被転写体に貼合した後に取り除くときも、被転写体に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことが可能であるので好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの質量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。

溶媒としては、上記溶媒として挙げられた溶媒等が挙げられる。感圧式粘着剤は、光拡散剤を含有していてもよい。光拡散剤は、粘着剤に光拡散性を付与する添加剤であり、粘着剤が含むポリマーの屈折率と異なる屈折率を有する微粒子であればよい。光拡散剤としては、無機化合物からなる微粒子、及び有機化合物（ポリマー）からなる微粒子が挙げられる。アクリル系ポリマーを含めて、粘着剤が有効成分として含むポリマーの多くは１．４〜１．６程度の屈折率を有するため、その屈折率が１．２〜１．８である光拡散剤から適宜選択することが好ましい。粘着剤が有効成分として含むポリマーと光拡散剤との屈折率差は、通常、０．０１以上であり、表示装置の明るさと表示性の観点からは、０．０１〜０．２が好ましい。光拡散剤として用いる微粒子は、球形の微粒子、それも単分散に近い微粒子が好ましく、平均粒径が２〜６μｍである微粒子がより好ましい。屈折率は、一般的な最小偏角法又はアッベ屈折計によって測定される。

無機化合物からなる微粒子としては、酸化アルミニウム（屈折率１．７６）及び酸化ケイ素（屈折率１．４５）等が挙げられる。有機化合物（ポリマー）からなる微粒子としては、メラミンビーズ（屈折率１．５７）、ポリメタクリル酸メチルビーズ（屈折率１．４９）、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂ビーズ（屈折率１．５０〜１．５９）、ポリカーボネートビーズ（屈折率１．５５）、ポリエチレンビーズ（屈折率１．５３）、ポリスチレンビーズ（屈折率１．６）、ポリ塩化ビニルビーズ（屈折率１．４６）、及びシリコーン樹脂ビーズ（屈折率１．４６）等が挙げられる。光拡散剤の含有量は、通常、ポリマー１００質量部に対して、３〜３０質量部である。

感圧式粘着剤の厚みは、その密着力等に応じて決定されるため、特に制限されないが、通常、１μｍ〜４０μｍである。加工性や耐久性等の点から、当該厚さは３μｍ〜２５μｍが好ましく、５μｍ〜２０μｍがより好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚さを５μｍ〜２０μｍとすることにより、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケを生じ難くすることができる。

乾燥固化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。水酸基、カルボキシル基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基とを有するモノマーの重合体としては、エチレン−マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、及び、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。

ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、及び、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系の粘接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常、１〜１０質量部であり、好ましくは１〜５質量部である。

ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入された樹脂である。係るアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の粘接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。

エポキシ樹脂としては、ジエチレントリアミン又はトリエチレンテトラミン等のポリアルキレンポリアミンとアジピン酸等のジカルボン酸との反応で得られるポリアミドポリアミンに、エピクロロヒドリンを反応させて得られるポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。係るポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、“スミレーズレジン（登録商標）６５０”及び“スミレーズレジン６７５”（以上、住化ケムテックス株式会社製）、“ＷＳ−５２５”（日本ＰＭＣ株式会社製）等が挙げられる。エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常、１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。

乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚さは、通常、０．００１〜５μｍであり、好ましくは０．０１〜２μｍであり、さらに好ましくは０．０１〜０．５μｍである。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、外観不良となり易い。

活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶媒を含んでいてもよい。活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の接着剤、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の接着剤、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有する接着剤、及び、これら重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化される接着剤等が挙げられる。

中でも、アクリル系硬化成分と光ラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤、エポキシ化合物と光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、エポキシ化合物以外の化合物をさらに含有していてもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。

光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤としては、上述の光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。ラジカル重合開始剤並びにカチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常、０．５〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。

活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されていてもよい。

本明細書において活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線及び電子線等が挙げられ、紫外線及び電子線が好ましい。好ましい紫外線の照射条件は前述した重合性液晶化合物の重合と同様である。

〔楕円偏光板〕
本発明の楕円偏光板１、１０及び１００は、前記垂直配向液晶硬化層６を補強する機能を有する補強層８を備えるため、薄膜の垂直配向液晶硬化層６が十分に補強され、切断端面における波うち等の不具合の抑制又は防止が可能である。このため、ディスプレイ用途に適用可能である。

本発明の楕円偏光板において、補強層８、配向層５及び垂直配向層７は３次元屈折率の等方性を有する層であることが好ましい。

本発明の楕円偏光板１、１０及び１００の膜厚はそれぞれ、好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍ、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。楕円偏光板の膜厚が上記の下限以上であると、加工特性の観点から有利であり、楕円偏光板の膜厚が上記の上限以下であると、薄膜化の観点から有利である。

本発明の楕円偏光板１、１０及び１００は、隣接する各層において、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率の差は、０．２０以下であることが好ましい。面内平均位相差の差が上記の上限以下であると、各層間の界面における反射が小さくなる。なお、面内平均屈折率は実施例に記載の方法に従って測定できる。

〔楕円偏光板の製造方法〕
図１に示す楕円偏光板１は、偏光層２、λ／４位相差層４と配向層５の積層体Ａ、及び垂直配向液晶硬化層６と配向層７と補強層８の積層体を別々に形成した後、粘接着剤３を介して貼合することで得ることができる。例えば、基材上に配向層５及びλ／４位相差層４をこの順に積層した積層体Ａ、並びに基材上に補強層８、配向層７及び垂直配向液晶硬化層６をこの順に積層した積層体Ｂを形成し、偏光層２と積層体Ａのλ／４位相差層４側とを粘接着剤３を介して、偏光層２の吸収軸とλ／４位相差層４の遅相軸との成す角度が４５°となるように貼合し、基材のみを剥離して積層体Ｃを作製する。次いで、積層体Ｃの配向層５側と積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６側とを粘接着剤３を介して貼合し、基材のみを剥離することで楕円偏光板１を作製できる。

図２に示す楕円偏光板１０は、偏光層２、前記積層体Ａ、及び前記積層体Ｂを別々に作製し、偏光層２と積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６側とを粘接着剤３を介して貼合し、基材のみを剥離して積層体Ｄを作製する。次いで、積層体Ｄの補強層８側と積層体Ａのλ／４位相差層４側とを粘接着剤３を介して、偏光層２の吸収軸がλ／４位相差層４の遅相軸（光軸）に対して、実質的に４５°となるように貼合し、基材のみを剥離することで作製することができる。

図３に示す楕円偏光板１００は、偏光層２、前記積層体Ａ、及び前記積層体Ｂを別々に作製し、積層体Ａのλ／４位相差層４側と積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６側とを粘接着剤を介して貼合し、両方の基材を剥離して積層体Ｅを作製する。次いで、積層体Ｅの補強層８側と偏光層２とを粘接着剤３を介して、偏光層２の吸収軸がλ／４位相差層４の遅相軸（光軸）に対して、実質的に４５°となるように貼合することで作製することができる。

（基材）
基材としては、ガラス基材及びフィルム基材が挙げられ、加工性の観点からフィルム基材が好ましく、連続的に製造できる点で長尺のロール状フィルムがより好ましい。フィルム基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。この基材の粘着剤層との接合面に、シリコーン処理のような離型処理が施されたものであることができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム株式会社製）；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”及び“ＫＣ４ＵＹ”（以上、コニカミノルタオプト株式会社製）等が挙げられる。このような樹脂を、溶媒キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。

市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）（Ｔｉｃｏｎａ社（独）製）、“アートン”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）（以上、日本ゼオン株式会社製）及び“アペル”（登録商標）（三井化学株式会社製）が挙げられる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）、“ＳＣＡ４０”（登録商標）（以上、積水化学工業株式会社製）、“ゼオノアフィルム”（登録商標）（オプテス株式会社製）及び“アートンフィルム”（登録商標）（ＪＳＲ株式会社製）が挙げられる。

基材は、各層を積層しやすく、かつ剥離が容易な厚みであることが好ましい。このような基材の厚みは、通常５〜３００μｍであり、好ましくは１０〜１５０μｍである。

〔楕円偏光板の他の態様〕
図１〜３に示される楕円偏光板１、１０及び１００は、粘着剤３、配向層５及び垂直配向層７を含んでいるが、本発明の楕円偏光板は、偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、補強層を少なくとも有していればよく、これら以外の層、例えば、他の配向液晶硬化層、保護層等を含んでいてもよい。

他の配向液晶硬化層としては、λ／４位相差層の項で例示のポジティブＡプレート、ポジティブＣプレート、ネガティブＡプレート、ネガティブＣプレート等が挙げられる。

好ましい態様において、他の配向液晶硬化層は、式（６）で表される光学特性を有し、好ましくは式（６−１）で表される光学特性を有する。面内位相差値Ｒｅ（５５０）は、上記λ／４位相差層の面内位相差値の調整方法と同じ方法で調整することができる。
２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ （６）
２６５ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜２８５ｎｍ （６−１）

また、他の配向液晶硬化層のＲｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）は、１．００以上であっても１．００以下であっても良いが、楕円偏光板の楕円率が向上するという観点から、λ／４位相差層４のＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）に近ければ近いほど好ましく、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）についても同様にλ／４位相差層４のＲｅＱ（６５０）／ＲｅＱ（５５０）の値と近い方が好ましい。

他の配向液晶硬化層の膜厚は好ましくは０．５μｍ〜５．０μｍ、より好ましくは２．０μｍ〜４．５μｍである。

保護層は、通常、多官能アクリレート（メタクリレート）、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等からなるアクリル系オリゴマーあるいはポリマー、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリビニルピロリドン、デンプン類、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アルギン酸ナトリウム等の水溶性ポリマーと溶媒とを含有する保護層形成用組成物から形成されることが好ましい。

保護層形成用組成物に含有される溶媒は、重合性液晶組成物の項に例示の溶媒と同様のものが挙げられ、中でも、水、アルコール溶媒及びエーテル溶媒からなる群より選ばれる少なくとも一つの溶媒が、保護層を形成する層を溶解させることがない点で、好ましい。
アルコール溶媒としては、メタノール、エタノール、ブタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルが挙げられる。エーテル溶媒としては、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが挙げられる。中でも、エタノール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートが好ましい。

保護層の膜厚は、０．１μｍ〜１０μｍ、より好ましくは０．３μｍ〜５．０μｍである。

本発明の楕円偏光板は、図１〜図３に示す楕円偏光板のように、各層を形成後、粘接着剤を介して各層を貼り合わせてもよく、各層を粘接着剤等を介さずに直接積層してもよい。各層を貼り合わせる方法は、例えば基材上に層をそれぞれ積層し、粘接着剤を介して層を貼り合わせた後、基材を剥離する方法、若しくは基材を剥離後に粘接着剤を介して層を貼り合わせる方法であってもよい。なお、各層を直接積層する方法又は基材上に層を積層する方法は、上述した各層を基材に形成する方法と同様の方法を使用することができる。
また、基材上に層を積層する前や、各層を粘接着剤を介して貼り合わせる前に、基材表面又は各層の表面に、表面処理、例えばコロナ処理、プラズマ処理等を施してもよい。

〔表示装置〕
本発明の楕円偏光板は表示装置に利用することができる。表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の楕円偏光板を備える表示装置としては、有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機ＥＬ表示装置が好ましい。本発明は、本発明の楕円偏光板を備える有機ＥＬ表示装置も包含する。

本発明の有機ＥＬ装置の好ましい態様として、例えば図１に示す楕円偏光板の補強層８側を、粘接着剤を介して有機ＥＬパネルと貼合した装置、図２又は図３に示す楕円偏光板の配向層５を、粘接着剤を介して有機ＥＬパネルと貼合した装置が挙げられる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。尚、例中の「％」及び「部」は、特記ない限り、質量％及び質量部を意味する。また、以下の実施例において使用したポリマーフィルム、装置及び測定方法は以下のとおりである。

・コロナ処理装置には、春日電機株式会社製のＡＧＦ−Ｂ１０を用いた。
・コロナ処理は、基材への組成物を塗布する場合に適宜実施する事が出来る。上記コロナ処理装置を用いて、出力０．３ｋＷ、処理速度３ｍ／分の条件で１回行った。
・偏光ＵＶ照射装置には、ウシオ電機株式会社製の偏光子ユニット付ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９を用いた。
・高圧水銀ランプには、ウシオ電機株式会社製のユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａを用いた。
・面内方向の位相差値Ｒｅ（λ）は、王子計測機器株式会社製のＫＯＢＲＡ−ＷＰＲを用いて測定した。
・厚み方向の位相差値Ｒｔｈ（λ）、及び膜厚は日本分光株式会社製のエリプソメータＭ−２２０又は接触式膜厚計（Nikon 社 MH-15M、カウンタTC101、MS-5C）を用いて測定した。また、Ｓｉ／Ｃの比率は、垂直配向層７の元素分析、Ｘ線光電分光法を使用した表面構成元素の測定から算出するか、垂直配向層７の形成に使用した化合物の構造式が全て分かっている場合には構造式から算出できる。

（実施例１）
以下のようにして図１に示す層構成の楕円偏光板１を作製した。
〔偏光層２の製造〕
平均重合度約２,４００、ケン化度９９.９モル％以上、厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０.０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬してヨウ素染色を行った（ヨウ素染色工程）。ヨウ素染色工程を経たポリビニルアルコールフィルムを、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に、５６.５℃で浸漬してホウ酸処理を行った（ホウ酸処理工程）。ホウ酸処理工程を経たポリビニルアルコールフィルムを８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールにヨウ素が吸着配向している偏光子（延伸後の厚さ２７μｍ）を得た。この際、ヨウ素染色工程とホウ酸処理工程において延伸を行った。かかる延伸におけるトータル延伸倍率は５.３倍であった。得られた偏光子と、ケン化処理されたトリアセチルセルロースフィルム（コニカミノルタ製 ＫＣ４ＵＹＴＡＣ ４０μｍ）とを水系接着剤を介してニップロールで貼り合わせた。得られた貼合物の張力を４３０Ｎ／ｍに保ちながら、６０℃で２分間乾燥して、片面に保護フィルムとしてトリアセチルセルロースフィルムを有する偏光層を得た。なお、前記水系接着剤は水１００部に、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール（クラレ製、「クラレポバール ＫＬ３１８」）３部と、水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス製、「スミレーズレジン６５０」、固形分濃度３０％の水溶液〕１.５部とを添加して調製した。

得られた偏光層２について光学特性の測定を行った。測定は上記で得られた偏光層の偏光子面を入射面として分光光度計（「Ｖ７１００」、日本分光製）にて実施した。偏光層の吸収軸はポリビニルアルコールの延伸方向と一致しており、得られた偏光層の視感度補正単体透過率は４２．１％、視感度補正偏光度は９９．９９６％、単体色相ａは−１．１、単体色相ｂは３．７であった。
〔λ／４位相差層４形成用の配向層５形成用組成物（ａ）の調製〕
下記構造の光配向性材料５部（重量平均分子量：３００００）とシクロペンタノン（溶媒）９５部とを成分として混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、λ／４位相差層４形成用の配向層５形成用組成物（ａ）を得た。

〔λ／４位相差層４形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化層６形成用組成物の調製〕
以下に示す重合性液晶化合物Ａ、及び重合性液晶化合物Ｂを９０：１０の質量比で混合した混合物に対して、レベリング剤（Ｆ−５５６；ＤＩＣ社製）を１．０部、及び重合開始剤である２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（「イルガキュア３６９（Ｉｒｇ３６９）」、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）を６部添加した。
さらに、固形分濃度が１３％となるようにＮ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）を添加し、８０℃で１時間攪拌することにより、λ／４位相差層４形成用組成物、及び垂直配向液晶硬化層６形成用組成物を得た。

重合性液晶化合物Ａは特開２０１０−３１２２３号公報に記載の方法で製造した。また、重合性液晶化合物Ｂは、特開２００９−１７３８９３号公報に記載の方法に準じて製造した。以下にそれぞれの分子構造を示す。

［重合性液晶化合物Ａ］

［重合性液晶化合物Ｂ］

〔基材、配向層５及びλ／４位相差層４からなる積層体Ａの製造〕
日本ゼオン株式会社製のシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）フィルム（ＺＦ−１４−５０、膜厚５０μｍ）上に、配向層形成用組成物（ａ）をバーコーター塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（「ＳＰＯＴ ＣＵＲＥ ＳＰ−９」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３１３ｎｍにおける積算光量：１００ｍＪ／ｃｍ^２で軸角度４５°にて偏光ＵＶ露光を実施した。得られた配向層５の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１００ｎｍであった。
続いて、配向層５に、λ／４位相差層４形成用組成物を、バーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、λ／４位相差層４を形成し、基材、配向層５及びλ／４位相差層４からなる積層体Ａを得た。積層体Ａのλ／４位相差層４の膜厚をエリプソメータで測定したところ、２．３μｍであった。

〔垂直配向液晶硬化層形成用の垂直配向層形成用組成物（ｂ）の調製〕
信越化学工業株式会社製のシランカップリング剤「ＫＢＥ−９１０３」を、エタノールと水を９：１（質量比）の割合で混合した混合溶媒に溶解させ、固形分０．５％の垂直配向液晶硬化層形成用の垂直配向層形成用組成物（ｂ）を得た。

〔アクリル樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物の調製〕
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニックスM−４０３ 東亞合成株式会社製多官能アクリレート）５０部、アクリレート樹脂（エベクリル４８５８ ダイセルユーシービー株式会社製）５０部、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ スペシャルティケミカルズ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解した溶液を調製し、アクリル樹脂を含んでなる補強層形成用組成物を調製した。

〔基材、補強層８、配向層７及び垂直配向液晶硬化層６からなる積層体Ｂの製造〕
日本ゼオン株式会社製の離型処理が施されたポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック（株）製、ＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０、以下、「セパレーター」と略記する。）上に、アクリル樹脂を含んでなる補強層形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、アクリル樹脂を含んでなる補強層８を形成した。得られた補強層８の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、１０μｍであった。次いで、補強層８上に垂直配向層形成用組成物（ｂ）をバーコーターで塗布し、８０℃で１分間乾燥し、垂直配向層７を得た。得られた垂直配向層７の膜厚をエリプソメータで測定したところ、５０ｎｍであった。
さらに、垂直配向層７に、垂直配向液晶硬化層６形成用組成物をバーコーターを用いて塗布し、１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：５００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、垂直配向液晶硬化層６を形成し、基材、補強層８、垂直配向層７及び垂直配向液晶硬化層６からなる積層体Ｂを得た。積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６の膜厚をエリプソメータで測定したところ、１．２μｍであった。また、補強層８と垂直配向液晶硬化層６の層間距離は５０ｎｍであった。また、垂直配向層７の構成元素比は、Ｓｉ／Ｃ＝０．３３であった。

〔λ／４位相差層４及び垂直配向液晶硬化層６のＲｅ測定〕
上記方法にて製造したλ／４位相差層４及び垂直配向液晶硬化層８の面内位相差値（Ｒｅ１（λ）及びＲｅ２（λ））は、基材であるＣＯＰフィルムに位相差がないことを確認した上で、測定機（「ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ」、王子計測機器株式会社製）により測定した。各波長における位相差値ＲｅＱ（λ）を測定結果は、ＲｅＱ（４５０）＝１１９ｎｍ、ＲｅＱ（５５０）＝１４０ｎｍ、ＲｅＱ（６５０）＝１４６ｎｍ、ＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）＝０．８５であった。

〔垂直配向液晶硬化層６のＲｔｈ測定〕
上記方法にて製造した垂直配向液晶硬化層６の厚み方向位相差値（ＲｔｈＶ（λ））は垂直配向液晶硬化層６を粘着剤（リンテック社製感圧式粘着剤 １５μｍ）を介してガラスと貼合し、基材であるセパレータを剥離して測定用サンプルを作製した後、配向層７及び補強層８に位相差がないことを確認した上で、エリプソメータによりサンプルへの光の入射角を変えて測定した。また、４５０ｎｍ及び５５０ｎｍの波長λにおける平均屈折率は屈折率計（株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」）を用いて測定した。得られた膜厚、平均屈折率、及びエリプソメータの測定結果から算出されるＲｅＶはそれぞれ、ＲｔｈＶ（４５０）＝−６０ｎｍ、ＲｔｈＶ（５５０）＝−７０ｎｍであり、ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）＝０．８５であった。

〔楕円偏光板１の製造〕
積層体Ａにおけるλ／４位相差層４の重合性液晶組成物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、上記で製造された偏光層２と積層体Ａのλ／４位相差層４とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して、偏光層２の吸収軸とλ／４位相差層４の遅相軸との成す角度が４５°となるように貼合し、基材のみを剥離して積層体Ｃを作製した。次いで、積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６に対してコロナ処理を実施した後、積層体Ｃの配向層５と積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して貼合し、基材のみを剥離することで楕円偏光板１を作製した。

〔各層の面内平均屈折率の差〕
上記方法に準じて各層をガラス上に塗布し、屈折率計（株式会社アタゴ製、「多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ４」）またはエリプソメータを使用して各層の平均屈折率を算出し、各層の面内平均屈折率の差が０．２以下である事を確認した。
〔切断端面観察〕
得られた楕円偏光板をカッティングマット上に置き、カッターを用いて３ｃｍ×３ｃｍの正方形に切り出した後、端面を１０倍のルーペで目視観察して、波うちやクラックなどの不具合が発生しているか確認した。同様の作業を３回実施し、内１回でも不具合が観察された場合を×、不具合が観察されなかった場合を○として、表１に結果を記載した。

（実施例２及び３）
補強層８の膜厚を表１に記載のように変更したこと以外は、実施例１と同様に楕円偏光板を作製して切断端面観察を実施した。

（実施例４）
０.５重量％のポリイミド（「サンエバーＳＥ−６１０」、日産化学工業株式会社製）、７２．３重量％のＮ−メチル−２−ピロリドン、１８．１重量％の２−ブトキシエタノール、９．１重量％のエチルシクロヘキサン、及び０．０１重量％のＤＰＨＡ（新中村化学製）を混合して、垂直配向層形成用組成物（ｂ）を作製し、この垂直配向層形成用組成物（ｂ）を使用したこと、及び補強層８の膜厚を５μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。結果を表１に示した。なお、垂直配向層７の膜厚をエリプソメータで測定したところ０．５μｍであった。このことから、補強層８と垂直配向液晶硬化層６の層間距離は０．５μｍであった。

（実施例５）
以下に示す通り、補強層８形成用組成物、及び補強層８の製造方法を変更したこと以外は、実施例１に記載と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を行った。結果を表１に示す。
〔エポキシ樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物の調製〕
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート ８０部、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル ２０部、サンアプロ社製 ＣＰＩ−１００Ｐ ２．２５部、プロピレンカーボネート ２．２５部を混合してエポキシ樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物を調製した。
〔基材、補強層８、配向層７及び垂直配向液晶硬化層６からなる積層体Ｂの製造（補強層８の製造部のみ）〕
離型処理が施されたセパレータ上に、エポキシ樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、エポキシ樹脂を含んでなる補強層８を形成した。得られた補強層８の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、５μｍであった。

（実施例６）
以下に示す通り、補強層８形成用組成物、及び補強層８の製造方法を変更したこと以外は、実施例１の記載と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を行った。結果を表１に示す。
〔ウレタン樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物の調製〕
アクリレート樹脂（エベクリル４８５８ ダイセルユーシービー株式会社製）１００部、２−メチル−１−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−モリフォリノプロパン−１−オン（イルガキュア９０７；チバ スペシャルティケミカルズ社製）３部をイソプロパノール２５０部に溶解した溶液を調製し、ウレタン樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物を得た。
〔基材、補強層８、配向層７及び垂直配向液晶硬化層６からなる積層体Ｂの製造（補強層８の製造部のみ）〕
離型処理が施されたセパレータ上に、ウレタン樹脂を含んでなる補強層８形成用組成物をバーコーターで塗布し、５０℃で１分間乾燥後、高圧水銀ランプ（「ユニキュアＶＢ−１５２０１ＢＹ−Ａ」、ウシオ電機株式会社製）を用いて、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：４００ｍＪ／ｃｍ^２）することにより、ウレタン樹脂を含んでなる補強層８を形成した。得られた補強層８の膜厚を接触式膜厚計で測定したところ、５μｍであった。

（実施例７〜９）
補強層８の膜厚を変更したこと、及び楕円偏光板の製造方法を以下の通り変更したこと以外は、実施例１と同様にして、図２に示す層構成の楕円偏光板１０を作製し、切断端面観察を実施した。

〔楕円偏光板１０の製造方法〕
まず、積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６に対してコロナ処理を実施した後、積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６側と上記で得られた偏光層２とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して貼合し、基材を剥離して積層体Ｄを作製した。次いで、積層体Ａにおけるλ／４位相差層４の重合性液晶組成物塗布面に対してコロナ処理を実施した後、積層体Ｄの補強層８と、積層体Ａのλ／４位相差層４とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して、偏光層２の吸収軸がλ／４位相差層４の遅相軸（光軸）に対して実質的に４５°となるように貼合し、基材を剥離して楕円偏光板１０を製造した。

（実施例１０〜１２）
補強層８の膜厚を変更したこと、及び楕円偏光板の製造方法を以下の通り変更したこと以外は、実施例１と同様にして、図３に示す層構成の楕円偏光板１００を作製し、折り曲げ試験を実施した。

〔楕円偏光板１００の製造方法〕
まず、積層体Ａのλ／４位相差層４と、積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６に対してコロナ処理を実施した後、積層体Ａのλ／４位相差層４と積層体Ｂの垂直配向液晶硬化層６とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して貼合し、積層体Ｂの基材を剥離して積層体Ｅを作製した。次いで、積層体Ｅの補強層８と偏光層２とを粘着剤３（リンテック社製 感圧式粘着剤 １５μｍ）を介して、偏光層２の吸収軸がλ／４位相差層４の遅相軸（光軸）に対して、実質的に４５°となるように貼合した後、積層体Ａに含まれていた基材を剥離するで、楕円偏光板１００を作製した。
なお、実施例１、２、４〜９、１０及び１１は参考例である。

（比較例１）
補強層を製造する工程を省略したこと以外は、実施例１と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。

（比較例２）
補強層を製造する工程を省略したこと以外は、実施例７〜９と同様の方法にて楕円偏光板を作製し、切断端面観察を実施した。

以下に、実施例及び比較例において、切断端面観察を実施した結果を示す。なお、表１中、層間距離は垂直配向液晶硬化層６と補強層８の層間距離を意味する。

実施例１〜１２の楕円偏光板は、切断時に波うちやクラックなどの不具合が発生することなく加工可能であり、加工特性に優れた楕円偏光板である。

１、１０、１００…円偏光板、２…偏光層、３…粘着層、４…λ／４位相差層、５…配向層、６…垂直配向液相硬化層、７…垂直配向層、８…補強層

Claims (9)

1. 偏光層、λ／４位相差層、垂直配向液晶硬化層、垂直配向層、補強層をこの順に有するか、又は偏光層、補強層、垂直配向層、垂直配向液晶硬化層、λ／４位相差層をこの順に有する楕円偏光板であって、前記垂直配向液晶硬化層は、該垂直配向液晶硬化層平面に対して垂直方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなり、前記垂直配向液晶硬化層の膜厚は３μｍ以下であり、前記補強層の膜厚は１〜３μｍであり、下記式
   ２００ｎｍ＜Ｒｅ（５５０）＜３２０ｎｍ
   ［式中、Ｒｅ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する前記他の配向液晶硬化層の面内位相差値を示す］
   で表される光学特性を有する他の配向液晶硬化層を含まない、楕円偏光板。
2. 前記垂直配向液晶硬化層と前記補強層との層間距離は５μｍ以下である、請求項１に記載の楕円偏光板。
3. 前記λ／４位相差層は水平配向液晶硬化層であり、該水平配向液晶硬化層は、該水平配向液晶硬化層平面に対して水平方向に配向した状態の重合性液晶化合物を含む重合性液晶組成物の重合体からなる、請求項１又は２に記載の楕円偏光板。
4. 前記補強層は、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、及びメラミン樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含んでなる、請求項１〜３のいずれかに記載の楕円偏光板。
5. 前記垂直配向層は膜厚５μｍ以下であり、該垂直配向層は構成元素にＳｉ元素、Ｃ元素及びＯ元素を含む化合物からなる層である、請求項１〜４のいずれかに記載の楕円偏光板。
6. 隣接する各層において、波長５５０ｎｍにおける面内平均屈折率の差は、０．２０以下である、請求項１〜５のいずれかに記載の楕円偏光板。
7. 前記λ／４位相差層は、
   該λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
   ｎｘＱ（λ）＞ｎｙＱ（λ）≒ｎｚＱ（λ）
   ［式中、ｎｘＱ（λ）は前記λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する該λ／４位相差層平面に対して平行な方向の主屈折率を表す。ｎｙＱ（λ）は前記λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、該λ／４位相差層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＱ（λ）の方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ｎｚＱ（λ）は前記λ／４位相差層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する該λ／４位相差層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。］
   の関係を有し、
   下記式（１）〜（３）
   ＲｅＱ（４５０）／ＲｅＱ（５５０）≦１．００ （１）
   １．００≦ＲｅＱ（６５０）／ＲｅＱ（５５０） （２）
   １００ｎｍ≦ＲｅＱ（５５０）≦１６０ｎｍ （３）
   ［式中、ＲｅＱ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する前記λ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する前記λ／４位相差層の面内位相差値を、ＲｅＱ（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対する前記λ／４位相差層の面内位相差値をそれぞれ示し、波長λ（ｎｍ）の光に対する前記λ／４位相差層の面内位相差値ＲｅＱ（λ）は、
   ＲｅＱ（λ）＝（ｎｘＱ（λ）−ｎｙＱ（λ））×ｄＱ
   で表される。ここで、ｄＱは前記λ／４位相差層の厚みを表す。］
   の関係を満たす、請求項１〜６のいずれかに記載の楕円偏光板。
8. 前記垂直配向液晶硬化層は、
   該垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ＝４００〜７００ｎｍの範囲で、
   ｎｚＶ（λ）＞ｎｘＶ（λ）≒ｎｙＶ（λ）
   ［式中、ｎｚＶ（λ）は前記垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する該垂直配向液晶硬化層平面に対して垂直な方向の屈折率を表す。ｎｘＶ（λ）は前記垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、波長λ（ｎｍ）の光に対する該垂直配向液晶硬化層平面に対して平行な方向の最大屈折率を表す。ｎｙＶ（λ）は前記垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、該垂直配向液晶硬化層平面に対して平行であり、且つ、前記ｎｘＶの方向に対して直交する方向の波長λ（ｎｍ）の光に対する屈折率を表す。ただし、ｎｘＶ（λ）＝ｎｙＶ（λ）となる場合には、ｎｘＶ（λ）は前記垂直配向液晶硬化層平面に対して平行な任意の方向の屈折率を表す。］
   の関係を有し、さらに
   下記式（４）〜（６）
   ＲｔｈＶ（４５０）／ＲｔｈＶ（５５０）≦１．００ （４）
   １．００≦ＲｔｈＶ（６５０）／ＲｔｈＶ（５５０） （５）
   −１２０ｎｍ≦ＲｔｈＶ（５５０）≦−５０ｎｍ （６）
   ［式中、ＲｔｈＶ（４５０）は波長λ＝４５０ｎｍの光に対する前記垂直配向液層硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＶ（５５０）は波長λ＝５５０ｎｍの光に対する前記垂直配向液晶硬化層の厚み方向の位相差値を、ＲｔｈＶ（６５０）は波長λ＝６５０ｎｍの光に対する前記垂直配向液晶硬化層の厚み方向の位相差値をそれぞれ表し、波長λ（ｎｍ）の光に対する前記垂直配向液晶硬化層の厚み方向の位相差値ＲｔｈＶ（λ）は、
   ＲｔｈＶ（λ）＝[（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２−ｎｚＶ（λ）]×ｄＶ
   で表される。ここで、前記垂直配向液晶硬化層が形成する屈折率楕円体において、ｎｚＶ（λ）は波長λ（ｎｍ）における該垂直配向液晶硬化層平面に対して垂直な方向の主屈折率を表し、（（ｎｘＶ（λ）＋ｎｙＶ（λ））／２）は、波長λ（ｎｍ）における該垂直配向液晶硬化層平面での平均屈折率を表す。ｄＶは前記垂直配向液晶硬化層の厚みを表す。］
   の関係を満たす、請求項１〜７のいずれかに記載の楕円偏光板。
9. 請求項１〜８のいずれかに記載の楕円偏光板を備える、有機ＥＬ表示装置。