JP5965675B2 - パターン位相差層を有する円偏光板、および該円偏光板を有する有機ｅｌディスプレイ素子 - Google Patents

Description

本発明はパターン位相差層を有する円偏光板、および前記円偏光版を有する有機エレクトロルミネッセンス（以下、「有機ＥＬ」という。）ディスプレイ素子に関する。

有機エレクトロルミネッセンス（有機ＥＬ）表示装置は、自発光型の薄型表示装置であり、液晶表示装置と比較して視認性が高い、視野角依存性が少ないといった表示性能の利点を有する。またディスプレイを軽量化、薄層化できるといった利点に加え、フレキシブルな基板を用いることでこれまで実現できなかった形状の表示装置を実現できる可能性を持っている。

有機ＥＬ表示装置は上述したような優れた特徴を有する。しかし、電極にＩＴＯなどの高屈折率の透明導電性材料を用いて、屈折率の異なる層を積層したり、反射率の高い金属材料などを用いるため、外光がそれらの界面で反射し、コントラスト低下や内部反射による映り込みの問題が生じることがある。

外光反射による悪影響を抑えるため、吸収型直線偏光板と、λ／４板からなる円偏光板を用いる提案がなされている（例えば特許文献１、２、３、４）。

特開平７−１４２１７０号公報 特開平９−１２７８８５号公報 特開２００３−３３２０６８号公報 特開２００２−９８８３３号公報 特許４６３０８８４号公報 特開２０１１−５９６１１号公報

図１に有機ＥＬ素子の代表的な構成を示す。有機ＥＬ表示装置は基本的には、図１に示すように、ＴＦＴ基板１の上に、背面電極２、発光層を含み２層又は３層からなる有機層３、及び透明電極または半透明電極４、透明基板５が積層された構成を有し、背面電極２から注入された正孔と透明電極４から注入された電子が有機層３で再結合し、蛍光性物質などを励起することにより発光するものである。そして、有機層３から発光した光は、直接、またはアルミニウムなどで形成される背面電極２で反射して、透明基板５から出射する。なお、さまざまな構成の誘起ＥＬ素子が提案されており、例えば、前記有機層３が赤色、緑色、青色の三色の画素がマトリックス状に配置された構成に加えて、前記三色に加えて白色画素からなる計四色の画素が配置された構成（例えば特許文献５）、また、前記有機層３が白色光を発光する素子からなり、カラーフィルタを組み合わせることでカラー表示を得る構成が挙げられる（例えば特許文献６）。このように、有機ＥＬ素子では、屈折率の異なる層が積層され、かつ、金属電極を用いるこのような構造をとるため、外光が各層の界面で反射し、コントラスト低下や映り込みの問題などを生じることがある。

外光反射による悪影響を抑えるため、吸収型直線偏光板と、λ／４板からなる円偏光板を用いる提案がなされている。ところで、λ／４板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型ＬＣＤ、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、光ディスク用ピックアップやＰＳ変換素子に使用されている。それらに現在使用されている大部分のλ／４板は、ポリマーフィルムを延伸することで光学異方性を発現させた位相差板である。ポリマーフィルムの遅相軸方向は、一般にシート状あるいはロール状フィルムの縦方向又は横方向に相当するものであり、シートあるいはロールの斜め方向に遅相軸を有するポリマーフィルムは、製造が非常に困難な場合がある。λ／４板またはλ／２板を使用する場合の多くは、λ／４板またはλ／２板の遅相軸が偏光板の透過軸に対して、平行でも直交でもない角度に配置される。また、２枚以上のλ／４板またはλ／２板の遅相軸と偏光板の透過軸の各々が平行でも直交でもない角度に配置される場合も多い。一方、吸収型直線偏光板と、λ／４板からなる円偏光板を用いて外光反射を低減しても、わずかな反射光による色づきが視認される。外光反射の低減には、λ／４板のＲｅ（λ）が逆波長分散性であることが好ましいが、λ／４板のＲｅ（λ）を逆波長分散性にしても、反射光の色づきをなくすことはできなかった。
即ち、本発明は、反射光の色づきが改善された、円偏光板を有する有機ＥＬ素子を提供することを課題とする。

前記課題を解決するための手段は、以下の通りである。
＜１＞
画像表示パネル、少なくとも１つのパターン位相差層、偏光膜がこの順に配置され、前記パターン位相差層が面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なり、
ストライプ状に交互に配置されている第１位相差領域及び第２位相差領域を有し、
前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、
前記偏光膜の吸収軸と前記パターン位相差層の遅相軸とのなす角が±４５°であり、
パターン位相差層のＲｅ波長分散は、下記式（Ｉ）を満足し、
前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域において、前記偏光膜のパターン位相差層のある側すべての層（偏光膜を除く）を合わせた全体のＲｔｈが、下記式（ＩＩ）を満足することを特徴とする画像表示装置。
（Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。
（ＩＩ）： −９０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦９０ｎｍ
ここで、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）である。
＜２＞
前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域の少なくともどちらか一方がλ／４の面内レターデーションを有することを特長とする、＜１＞に記載の画像表示装置。
＜３＞
前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が、下記式（Ｉ）を満足することを特長とする、＜１＞または＜２＞に記載の画像表示装置。
（Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。
＜４＞
前記パターン位相差層が、配向膜、液晶化合物を少なくとも含む光学異方性層からなることを特徴とする＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の画像表示装置。
＜５＞
前記光学異方性層に含まれる液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、更に前記円盤状液晶化合物が略垂直に配向していることを特徴とする＜４＞に記載の画像表示装置。
＜６＞
＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の画像表示パネルが有機ＥＬ素子である、画像表示装置。
本発明は、前記＜１＞〜＜６＞に係る発明であるが、以下、それ以外の事項（例えば、下記[１]〜[７]）についても記載している。
［１］画像表示パネル、少なくとも１つのパターン位相差層、偏光素子層がこの順に配置され、前記パターン位相差層が面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なり、ストライプ状に交互に配置されている第１位相差領域及び第２位相差領域を有することを特徴とする画像表示装置。
［２］前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域の少なくともどちらか一方がλ／４の面内レターデーションを有することを特長とする、［１］の画像表示装置。
［３］前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が、下記式（Ｉ）を満足することを特長とする、［１］又は［２］の画像表示装置。
（Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。
［４］前記パターン位相差層が、配向膜、液晶化合物を少なくとも含む光学異方性層からなることを特徴とする［１］〜［３］のいずれか１項の画像表示装置。
［５］ 前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域において、
前記偏光膜のパターン位相差層のある側すべての層（偏光膜を除く）を合わせた全体のＲｔｈが、下記式（ＩＩ）を満足することを特長とする、［１］〜［４］のいずれか１項の画像表示装置。
（ＩＩ）： −９０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦９０ｎｍ
ここで、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）である。
［６］前記光学異方性層に含まれる液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、更に前記円盤状液晶化合物が略垂直に配向していることを特徴とする、［４］又は［５］の画像表示装置。
［７］［１］〜［６］のいずれか１項に記載の画像表示パネルが有機ＥＬ素子である、画像表示装置。

本発明によれば、有機ＥＬ素子の内部反射での反射像の色づきを改善した、生産性、耐久性の高い有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

有機ＥＬ発光表示装置の模式図である。 本発明のパターン位相差層の一例の模式断面図である。 パターン光学異方性層の一例の上面模式図である。 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。 フィルム２の準備に使用したワイヤーグリッド偏光子を示す図である。

以下に本発明を詳細に説明する。
なお、本明細書において、「Ａ〜Ｂ」という記載は「Ａ以上Ｂ以下」の意味を表す。また、有機ＥＬとは、有機エレクトロルミネッセンスを意味する。
なお、本明細書では、「可視光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、及びその関係（例えば「直交」、「平行」、及び「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
また、角度について、「＋」は時計周り方向を意味し、「−」は反時計周り方向を意味するものとする。
また、「遅相軸」は、屈折率が最大となる方向を意味し、更に屈折率の測定波長は、特別な記述がない限り、可視光域（λ＝５５０ｎｍ）での値である。

また、本実施形態の説明において「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、及び表示装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」及び「切り出し」等も含むものとする。また、本実施形態の説明では、「偏光膜」と「偏光板」とを区別して用いるが、「偏光板」は「偏光膜」の少なくとも片面に該偏光膜を保護する透明保護膜を有する積層体のことを意味するものとする。

また、本実施形態の説明において「分子対称軸」とは、分子が回転対称軸を有する場合は、当該対称軸を指すが、厳密な意味で、分子が回転対称性であることを要求するものではない。一般的に、ディスコティック液晶性化合物において、分子対称軸は、円盤面の中心を貫く円盤面に対して垂直な軸と一致し、棒状液晶性化合物において、分子対称軸は、分子の長軸と一致する。

また、本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、又は測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（ＩＩＩ）よりＲｔｈを算出することもできる。

・・・・・・式（Ａ）
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（ＩＩＩ）

測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

以下、本発明に使用されるパターン位相差層および円偏光板の作製に利用される種々の材料、及び製造方法等を詳細に説明する。なお、本明細書中、光学フィルムは光学異方性層と同義である。
［パターン位相差層］
本発明に使用されるパターン位相差層は面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なり、ストライプ状に交互に配置されている第１位相差領域及び第２位相差領域とを有することを特徴とする。パターン位相差層を偏光板と組み合わせて外光反射防止層として使用する場合、パターン位相差層の２つの位相差領域の遅相軸と偏光板の偏光軸なす角度がそれぞれ異なるため、各領域で生じる反射光の色づきも異なるが、２領域の反射光を調整することで反射光の色づきを極めて小さくすることが可能となる。パターン位相差層の一例の模式断面図を図２に示す。図２では、支持体１３上に、第１位相差領域１４、第２位相差領域１５、及び第１及び第２位相差領域１４、１５の間に境界部１６を有するパターン位相差層１２が形成されている。なお、通常、パターン位相差層の配向を制御するために用いられる（光）配向膜の記載は省略してある。

従来は、λ／４の位相差領域を１つしか有さない位相差層を偏光板と組み合わせることで、外光反射防止層に使用することが検討されてきた。しかしながら、位相差領域を１つしか有さない位相差層を偏光板と組み合わせて外光反射防止層に使用する場合、位相差層のレターデーションおよび位相差領域の遅相軸と偏光板の偏光軸のなす角度に応じて反射光が色づく。外光反射の色づきを低減するためには、位相差層のＲｅ（λ）が逆波長分散性にすることが好ましいが、従来のλ／４板では色づきを低減するのに十分なＲｅ（λ）の逆波長分散性を付与することが困難であった。すなわち、従来のλ／４の位相差領域を１つしか有さない位相差層では、外光反射の色づきをなくすことはできなかった。一方、パターン位相差層を偏光板と組み合わせて外光反射防止層として使用することで、パターン位相差層の２つの位相差領域で生じる反射光の色づきが異なるため、２領域の反射光を調整することで反射光の色づきを極めて小さくすることが可能となる。

さらに、境界部１６上に遮光性部を有していてもよい。遮光性部は、光透過率を少なくとも軽減する作用があればよく、完全に遮光する作用があるのが好ましい。一例は、黒色の着色層である。

本発明に使用されるパターン位相差層は、第１位相差領域及び第２位相差領域の少なくともどちらか一方はλ／４の面内レターデーションを有することが好ましい。
面内レターデーションがλ／４である領域のＲｅ（５５０）は、１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであることがより好ましく、１１５ｎｍ〜１５５ｎｍであることがより好ましく、１２０〜１５０ｎｍであることが更に好ましい。反射光が目立たず、実用上問題ない程度まで低減できるため好ましい。パターン位相差層１２の一例は、図３に示すように、第１及び第２位相差領域１４、１５の面内遅相軸ａ及びｂが互いに直交するとともに、面内レターデーションＲｅがλ／４であるパターンλ／４層である。この態様のパターン位相差層を偏光膜と組み合わせると、第１及び第２位相差領域のそれぞれを通過した光は互いに逆向きの円偏光状態となる。

本発明において、前記パターン位相差層は、図３に示す態様に限定されるものではない。第１及び第２位相差領域の一方の面内レターデーションがλ／４であり、且つ他方の面内レターデーションが３λ／４である表示画素領域を利用することができる。さらに、第１及び第２位相差領域１４及び１５の一方の面内レターデーションがλ／２であり、且つ他方の面内レターデーションが０である位相差領域を利用することもできる。

本発明に使用されるパターン位相差層のＲｅ波長分散は、下記式（Ｉ）を満足することが好ましい。
（Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。前記した通り、パターン位相差層の２つの領域で発生する反射光を調整することで、反射光の色づきを小さくできる。反射光は、パターン位相差層の各領域のＲｅと遅相軸で調整可能であるが、製造時のＲｅや遅相軸のロバスト性を考慮すると、個々の領域に関してはＲｅや遅相軸がわずかに変化した際の反射色変化は小さい方が好ましい。すなわち、パターン位相差層のＲｅは順分散であることが好ましく、１．０３≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．３０であることが好ましく、１．０４≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．２５であることがより好ましく、１．０５≦Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．２０であることがさらに好ましい。この範囲であると、Ｒeが１０ｎｍ程度、遅相軸が５度程度変化しても、反射光の色づき変化を視認されない程度まで低減できるため好ましい。

パターン位相差層１２は、液晶化合物を主成分とする硬化性組成物の１種又は複数種から形成することができ、液晶化合物のうち、重合性基を有する液晶化合物が好ましい。前記硬化性組成物の１種から形成されているのが好ましい。なお、パターン位相差層１２は、単層構造であっても、２層以上の積層構造であってもよいが、生産性の観点からは単層構造であることが好ましい。パターン位相差層は、液晶化合物を主成分とする組成物の１種又は２種から形成することができる。

前記パターン位相差層は、例えば、支持体１３の表面上に一様に配向膜を形成し、一方向に配向処理し、配向処理面上にて、前記液晶性硬化性組成物を配向させ、当該配向状態に固定することで形成できる。前記液晶性硬化性組成物が円盤状液晶化合物を主成分とする態様では、前記第１及び第２位相差領域１４、１５の一方については、液晶を配向規制処理方向（例えばラビング方向）に対して直交且つ垂直に配向させ、即ち直交垂直配向させ、他方については、液晶を配向規制処理方向（例えばラビング方向）に対して平行且つ垂直に配向させ、即ち平行垂直配向させ、それぞれの状態を固定することで、各位相差領域を形成できる。

また、第１及び第２位相差領域の各パターンの面内遅相軸は、パターン配向膜等を利用することで、互いに異なる方向、例えば互いに直交する方向に調整することができる。パターン配向膜としては、マスク露光によりパターン配向膜を形成可能な光配向膜、及びマスクラビングによりパターン配向膜を形成可能なラビング配向膜、異種の配向膜（例えば、ラビングに対して、直交又は平行に配向する材料）を印刷等でパターン配置したものなど、いずれも利用することができる。なお、第１及び第２位相差領域の各面内遅相軸が互いに直交する方向である場合、境界部の面内遅相軸は第１及び第２位相差領域の面内遅相軸方向の略中間値、即ち４５度程度であることが好ましい。

本発明に使用されるパターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域において、前記偏光膜のパターン位相差層のある側すべての層（偏光膜を除く）を合わせた全体のＲｔｈが、下記式（ＩＩ）を満足することが好ましい。ここで、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）である。
（ＩＩ）： −９０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦９０ｎｍ
厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は−６０〜６０ｎｍがより好ましく、−４０〜４０ｎｍが更に好ましい。以上のような範囲にすることで、正面と斜め方向における反射光の色味差をより小さくできる。

第１及び第２位相差領域の間の境界部の幅は、０〜２０μｍであることが好ましく、０μｍ〜１０μｍであることがより好ましく、０μｍ〜３μｍであることが特に好ましい。

本発明のパターン位相差層は、図２〜図３に簡略化して示した態様に限定されるものではなく、他の部材を含んでいてもよい。例えば、上記した通り、パターン位相差層を、配向膜を利用して形成する態様では、支持体とパターン位相差層との間に、配向膜を有していてもよい。また、本発明のパターン位相差層は、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等が配置されていてもよい。

本発明は、円偏光板にも関する。本発明の円偏光板は、偏光膜と、パターン位相差層とを少なくとも有する。円偏光板が、偏光膜と、パターン位相差層と、支持体フィルムとを有する態様では、支持体フィルムが、パターン位相差層と偏光膜との間に配置されている態様が好ましい。

本発明の円偏光板では、図４に一例を示すように、第１及び第２位相差領域１４及び１５の面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ、偏光膜の透過軸ｐと±４５°にして配置する。本明細書では、厳密に±４５°であることを要求するものではなく、第１及び第２位相差領域１４及び１５のいずれか一方については、４０〜５０°であることが好ましく、他方は、−５０〜−４０°であることが好ましい。

本発明に使用される偏光板は、保護膜と偏光膜とを有する。偏光膜としては、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜のいずれを用いてもよい。ヨウ素系偏光膜及び染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。偏光膜の吸収軸は、フィルムの延伸方向に相当する。従って、縦方向（搬送方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して平行に吸収軸を有し、横方向（搬送方向と垂直方向）に延伸された偏光膜は長手方向に対して垂直に吸収軸を有す。

偏光膜は一般に保護膜を有する。本発明において、上記光学積層体は、偏光膜の保護膜として機能させることができる。上記光学積層体とは別に偏光膜の保護膜を積層する場合は、保護膜として光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。

本発明に使用される偏光板の好ましい製造方法は、上記光学積層体と偏光膜とが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含む。該長尺の偏光板は用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。

偏光膜として直線偏光膜を用い、上記光学積層体と組み合わせることで、円偏光板又は楕円偏光板として機能する偏光膜一体型の光学フィルムを高い生産性で製造できる。

また、本発明の円偏光板は、画像信号に基づいて駆動される表示パネルとを少なくとも有する画像表示装置にも関する。円偏光板により、画像表示パネルでの外光反射光の視認性を抑制する。特に、偏光膜、パターン位相差層、画像表示パネルとがこの順に配置されることが好ましい。

本発明では、表示パネルについてなんら制限はない。例えば、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであっても、液晶層を含む液晶パネルであっても、プラズマディスプレイパネルであってもよい。いずれの態様についても、種々の可能な構成を採用することができる。また、液晶パネル等は、視認側表面に画像表示のための偏光膜を有するが、上記した通り、当該偏光膜との組み合わせによって、上記機能を達成してもよい。

以下、本発明に使用されるパターン位相差層に用いられる種々の部材等について詳細に説明する。

遮光性部：
本発明に使用されるパターン位相差層は、遮光性部を有してもよい。遮光性部の一例は、黒色の着色層であり、黒色の着色層は、ブラックストライプ層であることが好ましい。

ブラックストライプ層を形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。

遮光性部の線幅は、３〜４２０μｍであることが好ましく、２０〜３８０μｍであることがより好ましく、４０〜３５０μｍであることが特に好ましい。

パターン位相差層：
本発明におけるパターン位相差層は、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されており、第１位相差領域及び第２位相差領域の間には境界部を有する。一例は、第１及び第２位相差領域がそれぞれλ／４程度のＲｅを有し、且つ面内遅相軸が互いに直交している光学異方性層である。このようなパターン位相差層の形成には種々の方法があるが、本発明では、重合性基を有する棒状液晶を水平配向させた状態、及びディスコティック液晶を垂直配向させた状態で重合させ、固定化して形成することが好ましい。

一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできるが、棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶化合物、２種以上の円盤状液晶化合物、又は棒状液晶化合物と円盤状液晶化合物との混合物を用いてもよい。温度変化や湿度変化を小さくできることから、反応性基を有する棒状液晶化合物または円盤状液晶化合物を用いて形成することがより好ましく、少なくとも１つは１液晶分子中の反応性基が２以上あることがさらに好ましい。液晶化合物は二種類以上の混合物でもよく、その場合少なくとも１つが２以上の反応性基を有していることが好ましい。
棒状液晶化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９や特開２００７−２７９６８８号に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号や特開２０１０−２４４０３８号に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

液晶化合物が重合条件の異なる２種類以上の反応性基を有することもまた好ましい。この場合、条件を選択して複数種類の反応性基の一部種類のみを重合させることにより、未反応の反応性基を有する高分子を含む位相差層を作製することが可能となる。用いる重合条件としては重合固定化に用いる電離放射線の波長域でもよいし、用いる重合機構の違いでもよいが、好ましくは用いる開始剤の種類によって制御可能な、ラジカル性の反応基とカチオン性の反応基の組み合わせがよい。前記ラジカル性の反応性基がアクリル基および／またはメタクリル基であり、かつ前記カチオン性基がビニルエーテル基、オキセタン基および／またはエポキシ基である組み合わせが反応性を制御しやすく特に好ましい。

前記光学異方性層は、配向膜を利用した種々の方法で形成でき、その製法については特に制限はない。
第１の態様は、液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶化合物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、所定のピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基が、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶化合物との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４６号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶化合物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

さらに、第３の態様として、重合性が互いに異なる重合性基（例えば、オキセタニル基及び重合性エチレン性不飽和基）を有するディスコティック液晶化合物を利用する方法がある。この態様では、ディスコティック液晶化合物を所定の配向状態にした後、一方の重合性基のみの重合反応が進行する条件で、光照射等を行い、プレ光学異方性層を形成する。次に、他方の重合性基の重合を可能にする条件で（例えば他方の重合性基の重合を開始させる重合開始剤の存在下で、マスク露光を行う。露光部の配向状態は完全に固定され、所定のＲｅを有する一方の位相差領域が形成される。未露光領域は、一方の反応性基の反応が進行しているものの、他方の反応性基は未反応のままとなっている。よって、等方相温度を超え、他方の反応性基の反応が進行可能な温度まで加熱すると、未露光領域は、等方相状態に固定され、即ち、Ｒｅが０ｎｍになる。

本発明に利用可能な支持体（支持体フィルム）としては、その材料については特に制限はない。低レターデーションのポリマーフィルムを用いるのが好ましく、具体的には、面内レターデーションの絶対値が約１０ｎｍ以下のフィルムを用いるのが好ましい。偏光膜とパターン位相差フィルムとの間に、偏光膜の保護膜が配置されている態様でも、該保護膜として、低レターデーションのポリマーフィルムを用いるのが好ましく、具体的範囲については、上記通りである。

本発明に使用可能な支持体フィルムを形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。

また、前記フィルムの材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。

また、前記フィルムの材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。

前記支持体フィルムの製法については特に制限はなく、溶液製膜法であっても溶融製膜法であってもよい。また、レターデーションの調整のために延伸処理が施された延伸フィルムを用いてもよい。

この様にして形成するパターン位相差層の厚みについては特に制限されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。

偏光膜：
偏光膜は、一般的な偏光膜を用いることができる。例えば、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子膜を用いることができる。

粘着層：
光学異方性層と偏光膜との間には、粘着層が配置されていてもよい。光学異方性層と偏光膜との積層のために用いられる粘着層とは、例えば、動的粘弾性測定装置で測定したＧ’とＧ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。粘着剤については特に制限はなく、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤を用いることができる。

ハードコート層、反射防止層：
本発明に使用される円偏光板は、表面フィルムとして目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、偏光板の保護フィルム上にハードコート層が積層された態様、反射防止層が積層された態様、ハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、等が挙げられる。該反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された，少なくとも一層以上の層からなる層である。
反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。

ハードコート層や反射防止層を有する場合の具体的な層構成の例を下記に示す。以下表記中−＊／は機能層が積層される基材を表す。具体的には、−＊／は、上述の支持体フィルム、パターン位相差層、偏光膜、偏光板の保護フィルムなどを表す。
・−＊／ハードコート層、
・−＊／低屈折率層、
・−＊／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／低屈折率層、
・−＊／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／高屈折率層／低屈折率層
・−＊／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
上記の各構成のなかでも、偏光板の保護フィルムの上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の機能層を直接形成することが好ましい。また、円偏光板と、別途、支持体上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを貼合積層して製造してもよい。

（ハードコート層）
本発明の画像表示装置に使用される表面フィルムには、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。
ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。

本発明におけるハードコート層の屈折率は、反射防止性の表面フィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。

ハードコート層の膜厚は、表面フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ_２が好ましい。

電離放射線硬化性化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。

（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。

電離放射線硬化性化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている化合物を用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。

ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。

ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。

（防眩層）
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくは表面フィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。

［高屈折率層及び中屈折率層］
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。

上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。

（無機微粒子）
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ及びＳｂから選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎのうちの少なくとも１種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１〜１２０ｎｍであることが好ましく、更に好ましくは１〜６０ｎｍ、２〜４０ｎｍが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。

酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．００〜２．４０であることが更に好ましく、２．００〜２．２０であることが最も好ましい。

無機微粒子の添加量は、添加する層により異なり、中屈折率層では中屈折率層全体の固形分に対し、２０〜６０質量％が好ましく、２５〜５５質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が更に好ましい。高屈折率層では高屈折率層全体の固形分に対し、４０〜９０質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、６０〜８０質量％が更に好ましい。

無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ^２／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ^２／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ^２／ｇであることが最も好ましい。

（硬化性化合物）
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。

光重合性官能基を有する光重合性多官能モノマーの具体例としては、上述のハードコート層形成に用いる電離放射線硬化性化合物で述べた化合物を好適に用いることができる。

高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、硬化性化合物、重合開始剤、光増感剤など）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。

上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。

［低屈折率層］
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。表面フィルムが多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層は、含フッ素硬化性ポリマー、含フッ素硬化性モノマー、非含フッ素硬化性モノマー、低屈折率粒子などを構成成分として形成することができる。これら化合物は、特開２０１０−１５２３１１号公報[００１８]〜[０１６８]段落に記載のものを用いることができる。

低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。

（低屈折率層の形成）
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。

（硬化条件）
ハードコート層及び／又は反射防止層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた硬化層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が１．０体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。

酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。

（紫外線吸収剤）
本発明の円偏光板は、表面フィルムを有していてもよい。表面フィルムのハードコート層及び／又は反射防止層には、紫外線吸収剤を含有することができる。紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−，Ｃ７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。

ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２‘−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、前記紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、光学フィルムの可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、光学フィルムの紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。

＜＜有機エレクトロルミネッセンス表示装置＞＞
本発明の有機エレクトロルミネッセンス表示装置は陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した表示装置であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

基板は、特に限定されないが、透明又は半透明であることがよく、通常、ソーダライムガラス、無アルカリガラス、透明樹脂等の基板上に陽極を形成したものが用いられる。ガラスを用いる場合、その材質については、ガラスからの溶出イオンを少なくするため、無アルカリガラスを用いることが好ましい。また、ソーダライムガラスを用いる場合、シリカなどのバリアコートを施したものを使用することが好ましい。

基板の厚みは、機械的強度を保つのに十分であれば特に制限はないが、表示装置表面に光散乱フィルムを用いる態様では、視認側の基板の厚みが厚いと文字ボケが生じやすく、基板の厚みは薄いほど良い。視認側の基板は、０．０１ｍｍ〜０．７０ｍｍが好ましく、０．０２〜０．５０ｍｍがより好ましく、０．０３〜０．３０ｍｍが特に好ましい。

強度、表示装置の寿命の点では、視認側に０．０３〜０．３０ｍｍの薄い（好ましくはガラス）基板を用いるのがもっとも好ましい形態と言える。０．３０μｍより薄い場合は片側の面および端部の少なくとも一方にポリマーをコーティングして強度を向上させることがより好ましい。

本発明の態様では、少なくとも視認側の基板として、例えばガラス基板の代わりにガスバリアフィルムを用いることも好ましい。ガスバリアフィルムとはプラスチック支持体上にガス不透過性のバリア層を設置したフィルムである。ガスバリアフィルムの例としては酸化ケイ素や酸化アルミニウムを蒸着したもの（特公昭５３−１２９５３、特開昭５８−２１７３４４）、有機無機ハイブリッドコーティング層を有するもの（特開２０００−３２３２７３、特開２００４−２５７３２）、無機層状化合物を有するもの（特開２００１−２０５７４３）、無機材料を積層したもの（特開２００３−２０６３６１、特開２００６−２６３９８９）、有機層と無機層を交互に積層したもの（特開２００７−３０３８７、米国特許６４１３６４５、Ａｆｆｉｎｉｔｏら著 Ｔｈｉｎ Ｓｏｌｉｄ Ｆｉｌｍｓ １９９６年 ２９０−２９１頁）、有機層と無機層を連続的に積層したもの（米国特許２００４−４６４９７）などが挙げられる。ガスバリアフィルムのバリア性は４０℃相対湿度９０％における水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．００１ｇ／ｍ^２・ｄａｙ以下であることがより好ましい。

表示装置表面に光散乱フィルムを用いる態様において、光散乱フィルムはガスバリアフィルムの上に粘着剤等で貼り合せて用いることもできる。また、光散乱層がガスバリアフィルムの上に直接設けられた光散乱フィルムを少なくとも視認側の基板として、例えばガラスの代わりに用いてもよい。この場合、視野角依存性改善と文字ボケ低減を両立でき、かつ、軽量で薄型にでるという効果を有する。

陽極の作製には材料によって種々の方法が用いられるが、例えばＩＴＯの場合、電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、化学反応法（ゾル−ゲル法など）、酸化インジウムスズの分散物の塗布などの方法で膜形成される。陽極は洗浄その他の処理により、表示装置の駆動電圧を下げたり、発光効率を高めることも可能である。例えばＩＴＯの場合、ＵＶ−オゾン処理などが効果的である。

陰極は電子注入層、電子輸送層、発光層などに電子を供給するものであり、電子注入層、電子輸送層、発光層などの負極と隣接する層との密着性やイオン化ポテンシャル、安定性等を考慮して選ばれる。陰極の材料としては金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物を用いることができ、具体例としてはアルカリ金属（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋ等）またはそのフッ化物、アルカリ土類金属（例えばＭｇ、Ｃａ等）またはそのフッ化物、金、銀、鉛、アルミニウム、ナトリウム−カリウム合金またはそれらの混合金属、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属、インジウム、イッテリビウム等の希土類金属等が挙げられ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以下の材料であり、より好ましくはアルミニウム、リチウム−アルミニウム合金またはそれらの混合金属、マグネシウム−銀合金またはそれらの混合金属等である。陰極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜１μｍである。陰極の作製には電子ビーム法、スパッタリング法、抵抗加熱蒸着法、コーティング法などの方法が用いられ、金属を単体で蒸着することも、二成分以上を同時に蒸着することもできる。さらに、複数の金属を同時に蒸着して合金電極を形成することも可能であり、またあらかじめ調整した合金を蒸着させてもよい。
陽極及び陰極のシート抵抗は低い方が好ましく、数百Ω／□以下が好ましい。

陰極上に前記バリアフィルムを貼り合せて、ガスの浸入を防ぐともに、ディスプレイ表面に保護層を形成しても良い。

発光層の材料は、電界印加時に陽極または正孔注入層、正孔輸送層から正孔を注入することができると共に陰極または電子注入層、電子輸送層から電子を注入することができる機能や、注入された電荷を移動させる機能、正孔と電子の再結合の場を提供して発光させる機能を有する層を形成することができるものであれば何でもよい。好ましくは発光層に本発明の化合物を含有するものであるが、本発明の化合物の他の発光材料を用いることもできる。例えばベンゾオキサゾール誘導体、ベンゾイミダゾール誘導体、ベンゾチアゾール誘導体、スチリルベンゼン誘導体、ポリフェニル誘導体、ジフェニルブタジエン誘導体、テトラフェニルブタジエン誘導体、ナフタルイミド誘導体、クマリン誘導体、ペリレン誘導体、ペリノン誘導体、オキサジアゾール誘導体、アルダジン誘導体、ピラリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、ビススチリルアントラセン誘導体、キナクリドン誘導体、ピロロピリジン誘導体、チアジアゾロピリジン誘導体、シクロペンタジエン誘導体、スチリルアミン誘導体、芳香族ジメチリディン化合物、８−キノリノール誘導体の金属錯体や希土類錯体に代表される各種金属錯体等、ポリチオフェン、ポリフェニレン、ポリフェニレンビニレン等のポリマー化合物等が挙げられる。発光層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。

発光層の形成方法は、特に限定されるものではないが、抵抗加熱蒸着、電子ビーム、スパッタリング、分子積層法、コーティング法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）、ＬＢ法などの方法が用いられ、好ましくは抵抗加熱蒸着、コーティング法である。

正孔注入層、正孔輸送層の材料は、陽極から正孔を注入する機能、正孔を輸送する機能、陰極から注入された電子を障壁する機能のいずれかを有しているものであればよい。その具体例としては、カルバゾール誘導体、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、芳香族第三級アミン化合物、スチリルアミン化合物、芳香族ジメチリディン系化合物、ポルフィリン系化合物、ポリシラン系化合物、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）誘導体、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴマー、ポリチオフェン等の導電性高分子オリゴマー等が挙げられる。正孔注入層、正孔輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。正孔注入層、正孔輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。

正孔注入層、正孔輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記正孔注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）が用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキシド、ポリブタジエン、ポリ（Ｎ−ビニルカルバゾール）、炭化水素樹脂、ケトン樹脂、フェノキシ樹脂、ポリアミド、エチルセルロース、酢酸ビニル、ＡＢＳ樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などが挙げられる。

電子注入層、電子輸送層の材料は、陰極から電子を注入する機能、電子を輸送する機能、陽極から注入された正孔を障壁する機能のいずれか有しているものであればよい。その具体例としては、トリアゾール誘導体、オキサゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、フルオレノン誘導体、アントラキノジメタン誘導体、アントロン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド誘導体、フルオレニリデンメタン誘導体、ジスチリルピラジン誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカルボン酸無水物、フタロシアニン誘導体、８−キノリノール誘導体の金属錯体やメタルフタロシアニン、ベンゾオキサゾールやベンゾチアゾールを配位子とする金属錯体に代表される各種金属錯体等が挙げられる。電子注入層、電子輸送層の膜厚は特に限定されるものではないが、通常１ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１０ｎｍ〜５００ｎｍである。電子注入層、電子輸送層は上述した材料の１種または２種以上からなる単層構造であってもよいし、同一組成または異種組成の複数層からなる多層構造であってもよい。

電子注入層、電子輸送層の形成方法としては、真空蒸着法やＬＢ法、前記電子注入輸送剤を溶媒に溶解または分散させてコーティングする方法（スピンコート法、キャスト法、ディップコート法など）などが用いられる。コーティング法の場合、樹脂成分と共に溶解または分散することができ、樹脂成分としては例えば、正孔注入輸送層の場合に例示したものが適用できる。

保護層の材料としては水分や酸素等の表示装置劣化を促進するものが表示装置内に入ることを抑止する機能を有しているものであればよい。その具体例としては、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ａｕ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｎｉ等の金属、ＭｇＯ、ＳｉＯ、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＧｅＯ、ＮｉＯ、ＣａＯ、ＢａＯ、Ｆｅ_２Ｏ_３、Ｙ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２等の金属酸化物、ＭｇＦ_２、ＬｉＦ、ＡｌＦ_３、ＣａＦ_２等の金属フッ化物、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルメタクリレート、ポリイミド、ポリウレア、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリジクロロジフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレンとジクロロジフルオロエチレンとの共重合体、テトラフルオロエチレンと少なくとも１種のコモノマーとを含むモノマー混合物を共重合させて得られる共重合体、共重合主鎖に環状構造を有する含フッ素共重合体、吸水率１％以上の吸水性物質、吸水率０．１％以下の防湿性物質等が挙げられる。
保護層の形成方法についても特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、ＭＢＥ（分子線エピタキシ）法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法（高周波励起イオンプレーティング法）、プラズマＣＶＤ法、レーザーＣＶＤ法、熱ＣＶＤ法、ガスソースＣＶＤ法、コーティング法を適用できる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

１．フィルム１〜９の準備
（１）フィルム１の準備
＜アルカリ鹸化処理＞
市販のセルロースアセテート系支持体ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を準備し、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ^２で塗布し、１１０℃に加熱して１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ^２塗布した。次いで、水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体を作製した。

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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ_１４Ｈ_２９Ｏ（ＣＨ_２ＣＨ_２Ｏ）_２０Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅３６４μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅３６４μｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ^２のメタルハライドランプを用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。なお、製造機におけるマスク露光時の搬送テンションは１５０Ｎ／ｍであった。
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配向膜形成用塗布液の組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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光酸発生剤Ｓ−２

＜パターン化された光学異方性層の作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ^２で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶメタルハライドランプを用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層を形成し、パターン位相差板を作製した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。

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光学異方性層用塗布液の組成
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ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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ディスコティック液晶Ｅ−１

配向膜界面配向剤（ＩＩ−１）

空気界面配向剤（Ｐ−１）

（２）フィルム２の準備

＜光配向膜付透明支持体Ａの作製＞
市販のセルロースアセテート系フィルムＺ−ＴＡＣ（富士フイルム（株）製）を準備し、実施例１と同様のアルカリ鹸化処理を行った。Ｚ−ＴＡＣの鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ^２の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Ｍｏｘｔｅｋ社製， ＰｒｏＦｌｕｘ ＰＰＬ０２)を図５（ａ）に示すように、方向１にセットして、さらにマスクＡ（透過部の横ストライプ幅３６４μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅３６４μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。その後、図５（ｂ）に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向２にセットして、さらにマスクＢ（透過部の横ストライプ幅３６４μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅３６４μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ²、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ^２とした。

＜パターン化された光学異方性層の作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体Ａ上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、ＴＤ８０ＵＬ上にパターン化された光学異方性層の作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．２μｍであった。

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光学異方性層用組成
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棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
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（３）フィルム３の準備
フィルム１の製造において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整した以外はフィルム１の製造方法と同様にしてフィルム３を作製した。光学異方性層の厚さは１．０１μｍであった。
（４）フィルム４の準備
フィルム３の製造において、光学異方性層塗布液を下記組成に変更した以外、フィルム３の作製と同様の操作にてパターン化された光学異方性層を作製した。光学異方性層の膜厚は、１．７７μｍであった。
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光学異方性層用組成
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ディスコティック液晶Ｅ−３ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．３質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９．９質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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（５）フィルム５の準備

＜セルロースアシレート系フィルムＴ１の作製＞＞
下記の組成でセルロースアシレート溶液（ドープ）を調整した。

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メチレンクロライド ４３５質量部
メタノール ６５質量部
セルロースアシレートベンゾエート（ＣＢＺ） １００質量部
（アセチル置換度２．４５、ベンゾイル置換度０．５５、質量平均分子量１８００００）二酸化ケイ素微粒子（平均粒径２０ｎｍ、モース硬度 約７） ０．２５質量部
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得られたドープを、製膜バンド上に流延し、室温で１分間乾燥後、４５℃で５分間乾燥させた。乾燥後の溶剤残留量は３０質量％であった。セルロースアシレート系フィルムをバンドから剥離し、１００℃で１０分間乾燥した後、１３０℃で２０分間乾燥し、セルロースアシレート系フィルムＴ１を得た。溶剤残留量は０．１質量％であった。セルロースアシレート系フィルムＴ１の膜厚は４５μｍであり、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は−７５ｎｍであった。
＜パターン化された光学異方性層の作製＞
フィルム３の製造において、ＴＤ８０ＵＬをセルロースアシレート系フィルムＴ１に変更した以外、フィルム３の作製と同様の操作にてパターン化された光学異方性層を作製した。光学異方性層の膜厚は、１．０１μｍであった。

（６）フィルム６の準備

＜セルロースアシレート系フィルムＴ２の作製＞＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
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セルロースアシレート溶液Ａの組成
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置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
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添加剤溶液Ｂの組成
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下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ２５質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
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セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの３０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアシレート系フィルムＴ２を作製した。セルロースアシレート系フィルムＴ２のＲｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は２０ｎｍであった。

＜パターン化された光学異方性層の作製＞
フィルム２の製造において、Ｚ−ＴＡＣをセルロースアシレート系フィルムＴ２に変更し、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び塗布液のメチルエチルケトンの量を適宜調整した以外はフィルム２の製造方法と同様にしてフィルム６を作製した。光学異方性層の厚さは１．３５μｍであった。
（７）フィルム７の準備
フィルム３の製造において、光学異方性層形成時のワイヤーバー種及び乾燥条件を適宜調整した以外はフィルム３の製造方法と同様にしてフィルム7を作製した。光学異方性層の厚さは１．０１μｍであった。
（８）フィルム８の準備
市販の有機ＥＬ-ＴＶ「１５ＥＬ９５００」（ＬＧ社製）に使用されていたポリカーボネート系λ／４フィルムをフィルム８として使用した。
（９）フィルム９の準備
フィルム３の製造において、配向膜形成後のパターンマスク露光を、全面露光に変更した以外はフィルム３の製造方向と同様にしてフィルム９を作製した。光学異方性層の厚さは１．０１μｍであった。

２． フィルム１〜９の特性
（１）フィルムのＲｅ及びＲｔｈ
作製したフィルム１〜９の特性を、下記表にまとめる。なお、各フィルムのＲｅ（５５０）及びＲｔｈ（５５０）は、試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、ＫＯＢＲＡ２１−ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長５５０ｎｍで測定した。また、フィルム1〜７及び９については、前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向をそれぞれ測定した。結果を表１に示す。下記表中、垂直とはチルト角７０°〜９０°を、水平とはチルト角０°〜２０°を表す。チルト角は、配向膜界面と空気界面とで同じ結果であった。フィルム８及び９は、パターン位相差層ではなく、一様な遅相軸を有するフィルムであったため、領域１の欄にまとめて光学特性値を示した。

測定結果を下記表１に示す。

３．偏光板の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
上記表に示すフィルム１〜７及び９については、１．５モル／リットルで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。フィルム１〜７及び９のいずれか１枚とＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を、偏光膜を挟んで、ポリビニル系粘着剤を用いて貼合し、下表に示した組合せの円偏光板を作製した。フィルム８については、アクリル系粘着剤を用いて円偏光板を作製した。なお、フィルム１〜７については、偏光膜の吸収軸がフィルム１〜７のパターン位相差層の周期方向と直交するように貼り合わせた。

４．有機ＥＬ素子への実装及び表示性能の評価
（表示装置への実装）
市販の有機ＥＬ-ＴＶ「１５ＥＬ９５００」（ＬＧ社製）の視認側に貼合されていた円偏光板を剥離して、本発明の円偏光板を下表のように貼合し、表示装置を作製した。

（表示性能の評価）
作製した有機ＥＬ表示装置について、屋内明光下にて視認性および表示品位を評価した。
（１）明光下での視認性
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、偏光板の吸収軸方向について、正面から極角４５度まで蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。正面と比較したときの斜め方向の表示品位を下記の基準で評価した。
◎：反射光の色づきが全く視認されない。（許容）
○：反射光の色づきがごくわずかに視認されるが実用上問題ない。（許容）
×：反射光の色づきが強く視認され、許容できない。

評価結果を表２及び３に示す。

本発明の有機ＥＬ表示装置である実施例１〜７は、従来の円偏光板を有する比較例１及び２よりも、明光下での反射光の色づきが少なく、視認性に優れることがわかる。特に、比較例１は、Ｒｅ逆波長分散性を有するλ／４フィルムを有する態様であるが、緑色の反射色がわずかに視認され、表示品位として好ましくなかった。すなわち、従来は有機ＥＬ素子用の円偏光板として適さないと考えられていたＲｅ順分散性のλ／４をパターン化することで、２つの領域の反射色を組み合わせることで、反射光の色づきがきわめて小さい円偏光板を作製することができた。従来の斜め延伸および液晶塗布では、Ｒｅがフラット分散または順分散となり、有機ＥＬ素子の反射防止膜としては性能が不十分であったが、本発明によれば、パターン位相差層を用いることで、円偏光板をＲｏｌｌ ｔｏ Ｒｏｌｌで作製可能であり、優れた反射防止性能を有する有機ＥＬ表示装置を、高い生産性、優れたコスト耐性に加え、高い歩留まりで提供することが可能となる。

１ ＴＦＴ基板
２ 背面電極
３ 発光層を含む有機層
４ 透明または半透明電極
５ 透明基板
６ パターン位相差層
７ 偏光板
１３ 支持体フィルム

Claims (6)

1. 画像表示パネル、少なくとも１つのパターン位相差層、偏光膜がこの順に配置され、前記パターン位相差層が面内遅相軸方向及び位相差の少なくとも一方が互いに異なり、ストライプ状に交互に配置されている第１位相差領域及び第２位相差領域を有し、
   前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域の面内レターデーションＲｅ（５５０）は１１０ｎｍ〜１６０ｎｍであり、
   前記偏光膜の吸収軸と前記パターン位相差層の遅相軸とのなす角が±４５°であり、
   パターン位相差層のＲｅ波長分散は、下記式（Ｉ）を満足し、
   前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域において、前記偏光膜のパターン位相差層のある側すべての層（偏光膜を除く）を合わせた全体のＲｔｈが、下記式（ＩＩ）を満足することを特徴とする画像表示装置。
   （Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
   ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。
   （ＩＩ）： −９０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５５０）≦９０ｎｍ
   ここで、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍにおける厚さ方向のレターデーション（ｎｍ）である。
2. 前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域の少なくともどちらか一方がλ／４の面内レターデーションを有することを特長とする、請求項１に記載の画像表示装置。
3. 前記パターン位相差層の前記第１位相差領域及び前記第２位相差領域が、下記式（Ｉ）を満足することを特長とする、請求項１または請求項２に記載の画像表示装置。
   （Ｉ）： Ｒｅ（４５０）＞Ｒｅ（５５０）＞Ｒｅ（６３０）
   ここで、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける面内レターデーション（ｎｍ）である。
4. 前記パターン位相差層が、配向膜、液晶化合物を少なくとも含む光学異方性層からなることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の画像表示装置。
5. 前記光学異方性層に含まれる液晶化合物が、円盤状液晶化合物であり、更に前記円盤状液晶化合物が略垂直に配向していることを特徴とする請求項４に記載の画像表示装置。
6. 請求項１〜５のいずれか１項に記載の画像表示パネルが有機ＥＬ素子である、画像表示装置。