JP5875434B2 - ３ｄ画像表示用光学フィルム、３ｄ画像表示装置及び３ｄ画像表示システム - Google Patents

３ｄ画像表示用光学フィルム、３ｄ画像表示装置及び３ｄ画像表示システム Download PDF

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Description

本発明は、高精細な配向パターンの光学異方性層を有し、かつ製造が容易で輝度低下率などの表示性能や耐光性が改善された３Ｄ画像表示用光学フィルム、３Ｄ画像表示装置及び３Ｄ画像表示システムに関する。
立体画像を表示する３Ｄ画像表示装置には、右眼用画像及び左眼用画像を、例えば、互いに反対方向の円偏光画像とするための光学部材が必要である。例えば、かかる光学部材には、遅相軸やレターデーション等が互いに異なる領域が規則的に面内に配置されたパターン位相差膜が利用されている。
従来、液晶化合物を利用して形成されるパターン光学補償膜等が提案されている（例えば特許文献１及び２）。これらは液晶セルの内部に配置される、いわゆるインセルタイプの光学補償膜等であり、液晶セルを正確に補償するための部材である。したがって、利用する液晶化合物の配向形態も光学補償に適する形態であり、３Ｄ画像表示装置の上記光学部材に用いるのに適するものではない。
また、特許文献３には、パターン化位相差板を有する２Ｄ／３Ｄ切替型液晶表示装置が開示され、パターン化位相差板の材料としてＵＶ硬化型液晶溶液を利用することが開示されている。しかし、その液晶材料の詳細については記載がなく、ディスコティック液晶を利用することについては開示されていない。また、特許文献３では、パターン化位相差板は視差バリア手段として利用されているのであって、右眼用及び左眼用円偏光画像等を形成するための上記光学部材として用いられているのではない。また、特許文献４には、配向規制力が異なる第１及び第２配向膜を利用して形成された光学異方性層を有する液晶装置が開示されている。前記光学異方性層の形成に液晶高分子材料を利用することについて開示されているが、その詳細については記載されておらず、ディスコティック液晶を利用することについては開示されていない。また、特許文献５には、立体画像表示装置用の光学フィルタの光配向膜を利用する製造方法が提案されている。実施例では、棒状液晶を利用して当該製造方法を実施している。
特開２００６−２７６８４９号公報 特開２００７−７１９５２号公報 特開２００４−３０２４０９号公報 特開２００７−１６３７２２号公報 ＷＯ２０１０／０９０４２９号Ａ２公報
しかし、液晶材料を利用して作製されたパターン位相差板を実際に３Ｄ画像表示装置に利用すると、斜め方向の輝度が低下する、即ち視野角特性が低下することがわかった。
本発明は、３Ｄ画像表示装置の視野角特性の改善に寄与する新規な３Ｄ画像表示装置用光学フィルム、及びそれを利用した３Ｄ画像表示装置、及び３Ｄ画像表示システムを提供することを課題とする。
上記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 重合性基を有するディスコティック液晶を主成分とする組成物から形成されている光学異方性層を少なくとも含み、前記光学異方性層が、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であることを特徴とする３Ｄ画像表示装置用光学フィルム。
［２］ 前記ディスコティック液晶が、垂直配向状態に固定されている［１］の光学フィルム。
［３］ 偏光膜をさらに有し、前記第１及び第２位相差領域の面内遅相軸と、前記偏光膜の吸収軸とがそれぞれ±４５°の角度をなす［１］又は［２］の光学フィルム。
［４］ 前記偏光膜の一方の面上に配置されている前記光学異方性層を含む全ての部材の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の合計値が、１１０〜１６０ｎｍである［１］〜［３］のいずれかの光学フィルム。
［５］ 前記偏光膜の一方の面上に配置されている前記光学異方性層を含む全ての部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の合計値が、−１４０〜１４０ｎｍである［３］又は［４］の光学フィルム。
［６］ 前記光学異方性層、及び該光学異方性層の前記偏光膜が配置されている表面と反対の表面上に配置されている全ての部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の合計値が、−１０４〜１０４ｎｍである［３］又は［４］の光学フィルム。
［７］ 前記光学異方性層の表面上に、紫外線吸収剤を含有する透明支持体を有する［１］〜［６］のいずれかの光学フィルム。
［８］ ハードコート層をさらに有する［１］〜［７］のいずれかの光学フィルム。
［９］ 前記ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する［８］の光学フィルム。
［１０］ 反射防止層をさらに有する［１］〜［９］のいずれかの光学フィルム。
［１１］ 防眩層をさらに有する［１］〜［１０］のいずれかの光学フィルム。
［１２］ 画像信号に基づいて駆動される表示パネルと、前記表示パネルの視認側に配置される［１］〜［１１］のいずれかの光学フィルムとを少なくとも有する３Ｄ画像表示装置。
［１３］ 前記表示パネルが液晶セルを有する［１２］の３Ｄ画像表示装置。
［１４］ ［５］の光学フィルムを有し、前記液晶セルが、ＴＮモードである［１３］の３Ｄ用画像表示装置。
［１５］ ［６］の光学フィルムを有し、前記液晶セルが、ＶＡモード又はＩＰＳモードである［１３］の３Ｄ用画像表示装置。
[１６] ［１２］〜［１５］のいずれかの３Ｄ用画像表示装置と、該３Ｄ用画像表示装置の視認側に配置される偏光板とを少なくとも備え、該偏光板を通じて立体画像を視認させる３Ｄ画像表示システム。
本発明によれば、３Ｄ画像表示装置の視野角特性の改善に寄与する新規な３Ｄ画像表示装置用光学フィルム、及びそれを利用した３Ｄ画像表示装置、及び３Ｄ画像表示システムを提供することができる。
本発明の３Ｄ画像表示装置用光学フィルムの一例の断面模式図である。 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。 偏光膜と光学異方性層との関係の一例の概略図である。 本発明に係わるパターン光学異方性層の一例の上面模式図である。 本発明の光学フィルムの他の例の断面模式図である。 本発明の３Ｄ画像表示装置の構成例の一例の断面模式図である。 パターン形成に用いられるフレキソ版の断面の一例を示す概略図である。 フレキソ印刷の方法の一例を示す概略図である。 実施例で作製した光学フィルムの光学特性の評価結果を示す図である。 露光マスクの一例を示した模式図である。
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、及び厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、後述する光学異方性層中のディスコティック液晶分子の配向膜側の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
Figure 0005875434
 なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは膜厚である。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ、又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、本明細書では、「可視光」とは、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍのことをいう。また、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、及びその関係（例えば「直交」、「平行」、及び「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
１．３Ｄ画像表示装置用光学フィルム
本発明は、重合性基を有するディスコティック液晶を主成分とする組成物から形成されている光学異方性層を少なくとも含み、
前記光学異方性層が、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であることを特徴とする３Ｄ画像表示装置用光学フィルムに関する。
液晶組成物を利用して形成されるパターン光学異方性層は、通常、それを支持するポリマーフィルム等の支持体や、またそれを保護する保護フィルム等と積層した状態で使用されるのが一般的である。支持体として利用されるポリマーフィルム等にもある程度のレターデーションがあり、積層体全体として、円偏光画像等を形成するための適切なＲｅに調整する必要がある。ところで、Ｒｅが発現された光学異方性層やポリマーフィルム等について、Ｒｔｈを完全にゼロにするのは困難であり、ある程度のＲｔｈを有するのが一般的である。液晶組成物からなる光学異方性層にも、及びそれに積層されるポリマーフィルムにもＲｔｈがあり、積層体全体としてＲｔｈが大きくなってしまう場合もある。従来の液晶組成物を利用したパターン位相差板を実際に利用すると、斜め方向において輝度が低下し、視野角特性の点で問題があったのは、このＲｔｈが一因であると言える。例えば特許文献５で利用されている様な棒状液晶は正の複屈折性を示す液晶であり、円偏光画像等を形成するために必要なＲｅが発現された光学異方性層を形成すると、当該光学異方性層のＲｔｈは正になり、積層されるポリマーフィルム等のＲｔｈが加算され、積層体全体のＲｔｈの合計は大きくなり、視野角特性の低下、即ち斜め方向の輝度低下の一因になる。積層させるポリマーフィルム等の部材の数を減少することで、Ｒｔｈを軽減することができるが、パターン位相差板は、表示パネルの視認側面外側に配置される部材であり、外光に曝されることによる劣化を防止するための保護部材や、又は外光が映り込むことを防止するための反射防止部材等を配置する必要があり、ポリマーフィルムの積層は避けられないのが実情である。
本発明では、パターン光学異方性層の形成にディスコティック液晶を利用することで、この問題を解決している。ディスコティック液晶は負の複屈折性を示す液晶であり、円偏光画像等を形成するために必要なＲｅを発現しつつ、Ｒｔｈが負の光学異方性層を形成することは容易である。ディスコティック液晶組成物からなる光学異方性層のＲｔｈにより、それに積層されるポリマーフィルム等の部材の正のＲｔｈを相殺することができ、積層体全体としてのＲｔｈを、視野角特性に影響を与えない程度まで軽減することができる。
本発明の３Ｄ画像装置用光学フィルムは偏光膜とともに表示パネルの視認側外側（表示パネルが視認側に偏光膜を有する場合には、表示パネルの視認側偏光膜のさらに外側）に配置され、当該光学フィルムの第１及び第２位相差領域のそれぞれを通過した偏光画像が、偏光眼鏡等を介して右眼用又は左眼用の画像として、認識される。従って、左右画像が不均一とならないように、第１及び第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等且つ対称的であるのが好ましい。
本発明の３Ｄ画像装置用光学フィルムの一例の断面模式図を図１に示す。図１に示す光学フィルム１０は、偏光膜１６、透明支持体１４、及び光学異方性層１２を有し、光学異方性層１２は、画像表示装置内に、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂが、均等且つ対称に配置されたパターン光学異方性層である。一例は、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの面内レターデーションがそれぞれλ／４程度であり、互いに直交する面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ有する光学異方性層である。この例では、図２及び図３に示す通り、光学異方性層１２を、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの面内遅相軸ａ及びｂをそれぞれ、偏光膜１６の吸収軸Ｐと±４５°にして配置する。この構成により右眼用及び左眼用の円偏光画像を分離することができる。また、λ／２板をさらに積層することで、視野角をより拡大してもよい。
第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの一方の面内レターデーションがλ／４であり、且つ他方の面内レターデーションが３λ／４である光学異方性層を利用しても同様に円偏光画像を分離することができる。また、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの一方の面内レターデーションがλ／４であり、且つ他方の面内レターデーションが３λ／４である光学異方性層を利用することで、右眼用及び左眼用の直線偏光画像を分離してもよい。
さらに、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの一方の面内レターデーションがλ／２であり、且つ他方の面内レターデーションが０である光学異方性層を利用し、これを面内レターデーションがλ／４の支持体と各々の遅相軸を平行又は直交して積層しても同様に円偏光画像を分離することができる。
また、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの形状及び配置パターンは、図２及び３に示すストライプ状のパターンを交互に配置した態様に限定されるものではない。図４に示す様に、矩形状のパターンを格子状に配置してもよい。
また、光学フィルムは他の部材を含んでいてもよく、図１に示す例では、透明支持体１４と光学異方性層１２との間に配向膜を有していてもよいし、光学異方性層１２のさらに外側に反射防止層を含む表面フィルムを配置してもよい。また、透明支持体１４と偏光膜１６との間に、偏光膜１６の保護フィルムが配置されていてもよい。また、偏光膜１６の裏面に、保護フィルムがさらに配置されていてもよい。また、上記した通り、表示パネルが視認側表面に偏光膜を有する場合は、本発明の光学フィルムは偏光膜を有さず、表示パネルの偏光膜と組み合わされることで、円偏光画像等の分離機能を示す態様であってもよい。使用可能なこれらの部材の詳細については、後述する。図５（ａ）〜（ｅ）に、本発明の光学フィルムの他の例の断面模式図を示す。
光学異方性層１２は、重合性基を有するディスコティック液晶を主成分とする組成物から形成され、ディスコティック液晶は、垂直配向させるのが好ましい。なお、本明細書において「垂直配向」とは、ディスコティック液晶の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は８５〜９０度が好ましく、８７〜９０度がより好ましく、８８〜９０度がさらに好ましく、８９〜９０度が最も好ましい。また、前記組成物としては、ディスコティック液晶の配向を制御する配向制御剤を含有していてもよい。ディスコティック液晶及び配向制御剤の詳細については後述する。
第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂの面内レターデーションがそれぞれλ／４程度である態様では、面内遅相軸ａ及びｂは、偏光膜の吸収軸とそれぞれ±４５°の角度をなすことが好ましい。本明細書では、厳密に±４５°であることを要求するものではなく、第１及び第２位相差領域１２ａ及び１２ｂのいずれか一方については、４０〜５０°であることが好ましく、他方は、−５０〜−４０°であることが好ましい。
なお、光学異方性層１２のＲｅが単独でλ／４である必要はなく、偏光膜１６の一方の表面上に配置される光学異方性層１２を含む全ての部材のＲｅの総和、例えば、図６（ａ）の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのＲｅの総和、図６（ｂ）の態様では、偏光膜保護フィルム、光学異方性層、及び支持体のＲｅの総和が、図６（ｃ）の態様では、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのＲｅの総和、図６（ｄ）の態様では、光学異方性層、及び支持体のＲｅの総和が、図６（ｅ）の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、及び光学異方性層のＲｅの総和が、１１０〜１６０ｎｍであるのが好ましく、１２０〜１５０ｎｍであるのがより好ましく、１２５〜１４５ｎｍであることが特に好ましい。ここで、「全てのＲｅの総和」とは、該当する層をまとめて一度に測定したときのＲｅのことである。
一方、光学フィルムを表示パネルに配置した場合に、偏光膜より視認側外側に配置される部材のＲｔｈは、視野角特性に影響するので、その絶対値が小さいほうが好ましく、具体的には、Ｒｔｈは−１４０ｎｍ〜１４０ｎｍが好ましく、−１００ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、−６０〜６０ｎｍであるのがさらに好ましく、−６０〜２０ｎｍであるのが特に好ましい。前記光学フィルムの一例は、Ｒｔｈが−１４０ｎｍ〜１４０ｎｍ（但し−１００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲を除く）である。また、他の例は、Ｒｔｈが−１４０ｎｍ〜１４０ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）である。また、他の例は、Ｒｔｈが−１００ｎｍ〜１００ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）である。但し、本発明者が鋭意検討した結果、偏光膜の吸収軸方向によって、同一の部材が配置され、同一のＲｔｈであっても、視野角特性に影響する程度が異なることがわかった。具体的には、図２に示す態様、即ち、偏光膜の吸収軸方向が、表示面左右方向を０°とした場合に、４５°又は１３５°方向である態様では、偏光膜より視認面外側に配置される全ての部材のＲｔｈが視野角特性に影響するが、一方で、図３に示す態様、即ち、偏光膜の吸収軸方向が、表示面左右方向を０°とした場合に、０°又は９０°方向である態様では、偏光膜と光学異方性層との間に配置される部材のＲｔｈはほとんど影響せず、光学異方性層及びさらにその視認面外側に配置される全ての部材のＲｔｈが視野角特性に影響することがわかった。
図６（ａ）〜（ｅ）の態様を例に挙げれば、図２の配置において、図６（ａ）の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのＲｔｈの総和が、図６（ｂ）の態様では、偏光膜保護フィルム、光学異方性層及び支持体全てのＲｔｈの総和が、図６（ｃ）の態様では、支持体、光学異方性層及び基材フィルム全てのＲｔｈの総和が、図６（ｄ）の態様では、光学異方性層及び支持体の全てのＲｔｈの総和が、図６（ｅ）の態様では、偏光膜保護フィルム、支持体、及び光学異方性層の全てのＲｔｈの総和が、−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍが好ましく、−１００ｎｍ〜１００ｎｍがより好ましく、−６０〜６０ｎｍであるのがさらに好ましく、−６０〜２０ｎｍであるのが特に好ましく（一例は、前記Ｒｔｈの総和が−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍ（但し−１００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲を除く）の光学フィルム；他の例は、前記Ｒｔｈの総和が−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）の光学フィルム；また他の例は、前記Ｒｔｈの総和が−１００ｎｍ〜１００ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）の光学フィルムある）；図３の配置において、図６（ａ）及び（ｃ）の態様では、光学異方性層及び基材フィルム全てのＲｔｈの総和、図６（ｂ）及び（ｄ）の態様では、光学異方性層及び支持体のＲｔｈの総和が、図６（ｅ）の態様では、光学異方性層のＲｔｈが、−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍが好ましく、−１００ｎｍ〜１００ｎｍであるのがより好ましく、−６０〜６０ｎｍであるのがより好ましく、−６０〜２０ｎｍであるのが特に好ましい（一例は、前記Ｒｔｈの総和が−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍ（但し−１００ｎｍ〜１００ｎｍの範囲を除く）の光学フィルム；他の例は、前記Ｒｔｈの総和が−１０４ｎｍ〜１０４ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）の光学フィルム；また他の例は、前記Ｒｔｈの総和が−１００ｎｍ〜１００ｎｍ（但し−２０ｎｍ〜２０ｎｍの範囲を除く）の光学フィルムある）。ここで、「全てのＲｔｈの総和」とは、該当する層をまとめて一度に測定したときのＲｔｈのことである。
２．３Ｄ画像表示装置及び３Ｄ画像表示システム
本発明は、本発明の光学フィルムを有する３Ｄ画像表示装置及び３Ｄ画像表示システムにも関する。本発明の光学フィルムは、表示パネルの視認側に配置され、表示パネルが表示する画像を右眼用及び左眼用の円偏光画像又は直線偏光画像等の偏光画像に変換する機能を有する。観察者は、これらの画像を円偏光又は直線偏光眼鏡等の偏光板を介して観察し、立体画像として認識する。
本発明では、表示パネルについてはなんら制限はない。例えば、液晶層を含む液晶パネルであっても、有機ＥＬ層を含む有機ＥＬ表示パネルであっても、プラズマディスプレイパネルであってもよい。いずれの態様についても、種々の可能な構成を採用することができる。また、透過モードの液晶パネル等は、視認側表面に画像表示のための偏光膜を有する態様では、本発明の光学フィルムは、当該偏光膜との組み合わせによって、上記機能を達成してもよい。勿論、本発明の光学フィルムは、液晶パネルとは別に偏光膜を有していてもよいが、その場合は、光学フィルムの偏光膜の吸収軸と、液晶パネルの偏光膜の吸収軸とを一致させて配置する。
図６（ａ）〜（ｅ）に、図５（ａ）〜（ｅ）に示す本発明の光学フィルムと、表示パネルとして液晶パネルとを有する３Ｄ画像表示装置の構成例を断面模式図として示すが、これらの構成に限定されるものではない。なお、図中、各層の厚みの相対的関係は、実際の液晶表示装置の各層の厚みの相対的関係と必ずしも一致しているものではない。図６（ａ）〜（ｅ）に示す態様では、液晶セルの後方には、バックライトが配置され、バックライトと液晶セルとの間に偏光膜が配置された、透過モードとして構成されている。
液晶セルの構成については特に制限はなく、一般的な構成の液晶セルを採用することができる。液晶セルは、例えば、図示しない対向配置された一対の基板と、該一対の基板間に挟持された液晶層とを含み、必要に応じて、カラーフィルタ層などを含んでいてもよい。液晶セルの駆動モードについても特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。ＴＮモードでは、一般的に、偏光膜の吸収軸は、表示面左右方向０°に対して４５°又は１３５°に配置されるので、ＴＮモード液晶パネルとは、図２に示す態様の光学フィルムと組み合わせるのが好ましい。また、ＶＡモード及びＩＰＳモードでは、一般的に、偏光膜の吸収軸は、表示面左右方向０°に対して０°又は９０°に配置されるので、ＶＡモード及びＩＰＳモード液晶パネルとは、図３に示す態様の光学フィルムと組み合わせるのが好ましい。
以下、本発明の３Ｄ画像表示装置用光学フィルムに用いられる種々の部材について詳細に説明する。
光学異方性層：
本発明における光学異方性層は、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層である。一例は、第１及び第２位相差領域がそれぞれλ／４程度のＲｅを有し、且つ面内遅相軸が互いに直交している光学異方性層である。このような光学異方性層の形成には種々の方法があるが、本発明では、重合性基を有するディスコティック液晶を垂直配向させた状態で重合させ、固定化して形成することが好ましい。なお、前記光学異方性層は単層構造であっても、積層構造であってもよい。２以上の層からなる積層構造の態様では、少なくとも一つの層が、ディスコティック液晶を含有する組成物の配向を固定してなる光学異方性層であれば、本発明の効果を得られる。前記積層構造の光学異方性層の一例は、非パターン化（以下「一様な」という場合もある）の光学異方性層と、パターン化光学異方性層との積層体である。前記積層構造の例において、ディスコティック液晶を含有する組成物からなる光学異方性層は、前記非パターン化光学異方性層及び前記パターン化光学異方性層のいずれであってもよいし、双方であってもよい。前記積層構造の例が、ディスコティック液晶を含有する組成物からなる光学異方性層以外の光学異方性層を含む場合、その例には、棒状液晶を含有する組成物からなる光学異方性層、及び複屈折高分子フィルムが含まれる。前記積層構造の例では、第１及び第２の位相差領域のいずれか一方は、２以上の光学異方性層のＲｅが互いに加算されて所定のＲｅを示し（例えばＲｅ＝λ／２）、他方は、２以上の光学異方性層のＲｅが互いに軽減し合い所定のＲｅ（例えばＲｅ＝０）を示す。
光学異方性層は単独でＲｅがλ／４程度であってもよく、その場合はＲｅ（５５０）が、１１０〜１６５ｎｍであることが好ましく、１２０〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１２５〜１４５ｎｍであることが特に好ましい。前記光学異方性層のＲｔｈ（５５０）は負であるのが好ましく、−８０〜−５０ｎｍであることが好ましく、−７５〜−６０ｎｍであることがより好ましい。光学異方性層のＲｔｈ（５５０）が負であると、他の部材の正のＲｔｈを相殺することができ、斜め方向の輝度低下を抑制することができる。
［重合性基を有するディスコティック液晶化合物］
本発明の光学異方性層の主原料として使用可能なディスコティック液晶としては、前記のとおり重合性基を有する化合物が好ましい。
前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
一般式（Ｉ）： Ｄ（−Ｌ−Ｈ−Ｑ）n
式中、Ｄは円盤状コアであり、Ｌは二価の連結基であり、Ｈは二価の芳香族環又は複素環であり、Ｑは重合性基であり、ｎは３〜１２の整数を表す。
円盤状コア（Ｄ）は、ベンゼン環、ナフタレン環、トリフェニレン環、アントラキノン環、トルキセン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が好ましく、ベンゼン環、トリフェニレン環、ピリジン環、ピリミジン環、トリアジン環が特に好ましい。
Ｌは、＊−Ｏ−ＣＯ−、＊−ＣＯ−Ｏ−、＊−ＣＨ＝ＣＨ−、＊−Ｃ≡Ｃ−及びこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基が好ましく、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基であることが特に好ましい。ここで、＊は一般式（Ｉ）中のＤに結合する位置を表す。
Ｈは、芳香族環としては、ベンゼン環及びナフタレン環が好ましく、ベンゼン環が特に好ましい。複素環としては、ピリジン環及びピリミジン環が好ましく、ピリジン環が特に好ましい。Ｈは、芳香族環が特に好ましい。
重合性基Ｑの重合反応は、付加重合（開環重合を含む）又は縮合重合であることが好ましい。言い換えると、重合性基は、付加重合反応又は縮合重合反応が可能な官能基であることが好ましい。中でも、(メタ)アクリレート基、エポキシ基が好ましい。
前記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶は、下記一般式（II）又は（III）
で表されるディスコティック液晶であることが特に好ましい。
Figure 0005875434
式中、Ｌ、Ｈ、Ｑは、前記一般式（Ｉ）におけるＬ、Ｈ、Ｑとそれぞれ同義であり、好ましい範囲も同様である。
Figure 0005875434
式中、Ｙ1、Ｙ2、及びＹ3は、後述する一般式（IV）におけるＹ11、Ｙ12、及びＹ13と
同義であり、その好ましい範囲も同一である。また、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3、Ｒ1、Ｒ2、及びＲ3も、後述する一般式（IV）におけるＬ1、Ｌ2、Ｌ3、Ｈ1、Ｈ2、Ｈ3、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3と同義であり、その好ましい範囲も同一である。
後述するように、一般式（Ｉ）、（II）、（III）及び（IV）で表されるように、分子
内に複数個の芳香環を有しているディスコティック液晶は、配向制御剤として用いられるピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物等のオニウム塩との間に分子間π−π相互作用が起こるため、垂直配向を実現できる。特に、例えば、一般式（II）において、Ｌが、＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊−Ｃ≡Ｃ−のいずれか一方を少なくとも一つ以上含む二価の連結基である場合、及び、一般式（III）において、複数個の芳香環及び複素環が単結合で
連結される場合は、該連結基により結合の自由回転が強く束縛されることにより分子の直線性が保持されるため、液晶性が向上すると共に、より強い分子間π−π相互作用が起こり安定な垂直配向が実現できる。
前記ディスコティック液晶としては、下記一般式（IV）で表される化合物が好ましい。
Figure 0005875434
式中、Ｙ11、Ｙ12及びＹ13は、それぞれ独立に置換されていてもよいメチン又は窒素原子を表し；Ｌ1、Ｌ2及びＬ3は、それぞれ独立に単結合又は二価の連結基を表し；Ｈ1、Ｈ2及びＨ3は、それぞれ独立に一般式（Ｉ−Ａ）又は（Ｉ−Ｂ）の基を表し；Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立に下記一般式（Ｉ−Ｒ）を表す；
Figure 0005875434
一般式（Ｉ−Ａ）中、ＹＡ1及びＹＡ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＡは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
Figure 0005875434
一般式（Ｉ−Ｂ）中、ＹＢ1及びＹＢ2は、それぞれ独立にメチン又は窒素原子を表し；ＸＢは、酸素原子、硫黄原子、メチレン又はイミノを表し；＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＬ1〜Ｌ3側と結合する位置を表し；＊＊は上記一般式（ＩＶ）におけるＲ1〜Ｒ3側と結合する位置を表す；
一般式（Ｉ−Ｒ）
＊−（−Ｌ21−Ｑ2）n1−Ｌ22−Ｌ23−Ｑ1
一般式（Ｉ−Ｒ）中、＊は、一般式（ＩＶ）におけるＨ1〜Ｈ3側と結合する位置を表す；Ｌ21は単結合又は二価の連結基を表す；Ｑ2は少なくとも１種類の環状構造を有する二価の基（環状基）を表す；ｎ１は、０〜４の整数を表す；Ｌ22は、＊＊−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−、＊＊−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、＊＊−Ｓ−、＊＊−ＮＨ−、＊＊−ＳＯ2−、＊＊−ＣＨ2−、＊＊−ＣＨ＝ＣＨ−又は＊＊−Ｃ≡Ｃ−を表す；Ｌ23は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−ＮＨ−、−ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−及び−Ｃ≡Ｃ−並びにこれらの組み合わせからなる群より選ばれる二価の連結基を表す；Ｑ1は重合性基又は水素原子を表す。
前記式（IV）で表される３置換ベンゼン系ディスコティック液晶性化合物の各符号の好ましい範囲、及び前記式（IV）の化合物の具体例については、特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［００７７］記載を参照することができる。但し、本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物は、前記式（IV）の３置換ベンゼン系ディスコティック液晶性化合物に限定されるものではない。
トリフェニレン化合物としては、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００６２］〜［００６７］記載の化合物等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
前記一般式（IV）で表されるディスコティック液晶は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、後述する、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる。特に、一般式（IV）で表されるディスコティック液晶は、複数個の芳香環が単結合で連結されているため、分子の回転自由度が束縛された直線性の高い分子構造を有しているため、ピリジニウム化合物又はイミダゾリウム化合物との間により強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させ垂直配向状態が実現できる。
本発明では、ディスコティック液晶を垂直配向させるのが好ましい。尚、本明細書において「垂直配向」とは、ディスコティック液晶の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に垂直であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が７０度以上の配向を意味するものとする。傾斜角は８５〜９０度が好ましく、８７〜９０度がより好ましく、８８〜９０度がさらに好ましく、８９〜９０度が最も好ましい。
なお、前記組成物中には、液晶の垂直配向を促進する添加剤を添加していることが好ましく、該添加剤の例には、特開２００９−２２３００１号公報の［００５５］〜［００６３］に記載の化合物が含まれる。
なお、液晶性化合物を配向させた光学異方性層において、光学異方性層の一方の面におけるチルト角（液晶性化合物における物理的な対象軸が光学異方性層の界面となす角度をチルト角とする）θ１及び他方の面のチルト角θ２を、直接的にかつ正確に測定することは困難である。そこで本明細書においては、θ１及びθ２は、以下の手法で算出する。本手法は本発明の実際の配向状態を正確に表現していないが、光学異方性層のもつ一部の光学特性の相対関係を表す手段として有効である。
本手法では算出を容易にすべく、下記の２点を仮定し、光学異方性層の２つの界面におけるチルト角とする。
１．光学異方性層は液晶性化合物を含む層で構成された多層体と仮定する。さらに、それを構成する最小単位の層（液晶性化合物のチルト角は該層内において一様と仮定）は光学的に一軸と仮定する。
２．各層のチルト角は光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化すると仮定する。
具体的な算出法は下記のとおりである。
（１）各層のチルト角が光学異方性層の厚み方向に沿って一次関数で単調に変化する面内で、光学異方性層への測定光の入射角を変化させ、３つ以上の測定角でレターデーション値を測定する。測定及び計算を簡便にするためには、光学異方性層に対する法線方向を０°とし、−４０°、０°、＋４０°の３つの測定角でレターデーション値を測定することが好ましい。このような測定は、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ及びＫＯＢＲＡ−ＷＲ（王子計測器（株）製）、透過型のエリプソメータＡＥＰ−１００（（株）島津製作所製）、Ｍ１５０及びＭ５２０（日本分光（株）製）、ＡＢＲ１０Ａ（ユニオプト（株）製）で行うことができる。
（２）上記のモデルにおいて、各層の常光の屈折率をｎｏ、異常光の屈折率をｎｅ（ｎｅは各々すべての層において同じ値、ｎｏも同様とする）、及び多層体全体の厚みをｄとする。さらに各層におけるチルト方向とその層の一軸の光軸方向とは一致するとの仮定の元に、光学異方性層のレターデーション値の角度依存性の計算が測定値に一致するように、光学異方性層の一方の面におけるチルト角θ１及び他方の面のチルト角θ２を変数としてフィッティングを行い、θ１及びθ２を算出する。
ここで、ｎｏ及びｎｅは文献値、カタログ値等の既知の値を用いることができる。値が未知の場合はアッベ屈折計を用いて測定することもできる。光学異方性層の厚みは、光学干渉膜厚計、走査型電子顕微鏡の断面写真等により測定数することができる。
［オニウム塩化合物（配向膜側配向制御剤）］
本発明では、前述のように、重合性基を有するディスコティック液晶の垂直配向を実現するために、オニウム塩を添加することが好ましい。オニウム塩は配向膜界面に偏在し、液晶分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用をする。
オニウム塩としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
一般式（１）
Ｚ−（Ｙ−Ｌ−）nＣｙ+・Ｘ‐
式中、Ｃｙは５又は６員環のオニウム基であり、Ｌ、Ｙ、Ｚ、Ｘは、後述する一般式（２ａ）及び（２ｂ）におけるＬ23、Ｌ24、Ｙ22、Ｙ23、Ｚ21、Ｘに同義であり、その好ましい範囲も同一であり、ｎは２以上の整数を表す。
５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、ピラゾリウム環、イミダゾリウム環、トリアゾリウム環、テトラゾリウム環、ピリジニウム環、ピラジニウム環、ピリミジニウム環、トリアジニウム環が好ましく、イミダゾリウム環、ピリジニウム環が特に好ましい。
５又は６員環のオニウム基（Ｃｙ）は、配向膜材料と親和性のある基を有するのが好ましい。さらに、オニウム塩化合物は、温度Ｔ1℃では配向膜材料との親和性が高く、一方、温度Ｔ2℃では、親和性が低下しているのが好ましい。水素結合は、液晶を配向させる実際の温度範囲内（室温〜１５０℃程度）において、結合状態にも、その結合が消失した状態にもなり得るので、水素結合による親和性を利用するのが好ましい。但し、この例に限定されるものではない。
例えば、配向膜材料としてポリビニルアルコールを利用する態様では、ポリビニルアルコールの水酸基と水素結合を形成するために、水素結合性基を有しているのが好ましい。水素結合の理論的な解釈としては、例えば、Ｈ．Ｕｎｅｙａｍａ ａｎｄ Ｋ．Ｍｏｒｏｋｕｍａ、Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ、第９９巻、第１３１６〜１３３２頁、１９７７年に報告がある。具体的な水素結合の様式としては、例えば、Ｊ．Ｎ．イスラエスアチヴィリ著、近藤保、大島広行訳、分子間力と表面力、マグロウヒル社、１９９１年の第９８頁、図１７に記載の様式が挙げられる。具体的な水素結合の例としては、例えば、Ｇ．Ｒ．Ｄｅｓｉｒａｊｕ、Ａｎｇｅｗａｎｔｅ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｉｎｔｅｒｎａｔｉｏｎａｌ Ｅｄｉｔｉｏｎ Ｅｎｇｌｉｓｈ、第３４巻、第２３１１頁、１９９５年に記載のものが挙げられる。
水素結合性基を有する５又は６員環のオニウム基は、オニウム基の親水性の効果に加え、ポリビニルアルコールと水素結合することによって、配向膜界面の表面偏在性を高めるとともに、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交配向性を付与する機能を促進する。好ましい水素結合性基としては、アミノ基、カルボンアミド基、スルホンアミド基、酸アミド基、ウレイド基、カルバモイル基、カルボキシル基、スルホ基、含窒素複素環基（例えば、イミダゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ピラゾリル基、ピリジル基、１，３，５−トリアジル基、ピリミジル基、ピリダジル基、キノリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、コハクイミド基、フタルイミド基、マレイミド基、ウラシル基、チオウラシル基、バルビツール酸基、ヒダントイン基、マレイン酸ヒドラジド基、イサチン基、ウラミル基などが挙げられる）を挙げることができる。更に好ましい水素結合性基としては、アミノ基、ピリジル基を挙げることができる。
例えば、イミダゾリウム環の窒素原子ように、５又は６員環のオニウム環に、水素結合性基を有する原子を含有していることも好ましい。
ｎは、２〜５の整数が好ましく、３又は４であるのがより好ましく、３であるのが特に好ましい。複数のＬ及びＹは、互いに同一であっても異なっていてもよい。ｎが３以上である場合、一般式（１）で表されるオニウム塩は、３つ以上の５又は６員環を有しているため、前記ディスコティック液晶と強い分子間π−π相互作用が働くため、該ディスコティック液晶の垂直配向、特に、ポリビニルアルコール配向膜上では、ポリビニルアルコール主鎖に対する直交垂直配向を実現することができる。
前記一般式（１）で表されるオニウム塩は、下記一般式（２ａ）で表されるピリジニウム化合物又は下記一般式（２ｂ）で表されるイミダゾリウム化合物であることが特に好ましい。
一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表される化合物は、主に、前記一般式（Ｉ）〜(IV)で表されるディスコティック液晶の配向膜界面における配向を制御することを目的として添加され、ディスコティック液晶の分子の配向膜界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。
Figure 0005875434
式中、Ｌ23及びＬ24はそれぞれ二価の連結基を表す。
Ｌ23は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−又は−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、ＡＬは、炭素原子数が１〜１０のアルキレン基である。Ｌ23は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−Ｏ−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−ＡＬ−ＣＯ−Ｏ−が好ましく、単結合または−Ｏ−がさらに好ましく、−Ｏ−が最も好ましい。
Ｌ24は、単結合、−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−または−Ｎ＝Ｎ−であるのが好ましく、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−がより好ましい。ｍが２以上のとき、複数のＬ24が交互に、−Ｏ−ＣＯ−及び−ＣＯ−Ｏ−であるのがさらに好ましい。
Ｒ22は水素原子、無置換アミノ基、又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基である。
Ｒ22が、ジアルキル置換アミノ基である場合、２つのアルキル基が互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。このとき形成される含窒素複素環は、５員環または６員環が好ましい。Ｒ22は水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜１２のジアルキル置換アミノ基であるのがさらに好ましく、水素原子、無置換アミノ基、または炭素原子数が２〜８のジアルキル置換アミノ基であるのがよりさらに好ましい。Ｒ22が無置換アミノ基及び置換アミノ基である場合、ピリジニウム環の４位が置換されていることが好ましい。
Ｘはアニオンである。
Ｘは、一価のアニオンであることが好ましい。アニオンの例には、ハライドイオン（フッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン）およびスルホン酸イオン（例、メタンスルホネートイオン、ｐ−トルエンスルホネートイオン、ベンゼンスルホネートイオン）が含まれる。
Ｙ22及びＹ23はそれぞれ、５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。
前記５又は６員環が置換基を有していてもよい。好ましくは、Ｙ22及びＹ23のうち少なくとも１つは、置換基を有する５又は６員環を部分構造として有する２価の連結基である。Ｙ22およびＹ23は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい６員環を部分構造として有する２価の連結基であるのが好ましい。６員環は、脂肪族環、芳香族環（ベンゼン環）および複素環を含む。６員脂肪族環の例は、シクロヘキサン環、シクロヘキセン環およびシクロヘキサジエン環を含む。６員複素環の例は、ピラン環、ジオキサン環、ジチアン環、チイン環、ピリジン環、ピペリジン環、オキサジン環、モルホリン環、チアジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピペラジン環およびトリアジン環を含む。６員環に、他の６員環または５員環が縮合していてもよい。
置換基の例は、ハロゲン原子、シアノ、炭素原子数が１〜１２のアルキル基および炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基を含む。アルキル基およびアルコキシ基は、炭素原子数が２〜１２のアシル基または炭素原子数が２〜１２のアシルオキシ基で置換されていてもよい。置換基は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。置換基は２以上であってもよく、例えば、Ｙ22及びＹ23がフェニレン基である場合は、１〜４の炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基で置換されていてもよい。
なお、ｍは１又は２であり、２であるのが好ましい。ｍが２のとき、複数のＹ23及びＬ24は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
Ｚ21は、ハロゲン置換フェニル、ニトロ置換フェニル、シアノ置換フェニル、炭素原子数が１〜１０のアルキル基で置換されたフェニル、炭素原子数が２〜１０のアルコキシ基で置換されたフェニル、炭素原子数が１〜１２のアルキル基、炭素原子数が２〜２０のアルキニル基、炭素原子数が１〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が２〜１３のアルコキシカルボニル基、炭素原子数が７〜２６のアリールオキシカルボニル基および炭素原子数が７〜２６のアリールカルボニルオキシ基からなる群より選ばれる一価の基である。
ｍが２の場合、Ｚ21は、シアノ、炭素原子数が１〜１０のアルキル基または炭素原子数が１〜１０のアルコキシ基であることが好ましく、炭素原子数４〜１０のアルコキシ基であるのがさらに好ましい。
ｍが１の場合、Ｚ21は、炭素原子数が７〜１２のアルキル基、炭素原子数が７〜１２のアルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルキル基、炭素原子数が７〜１２のアシル置換アルコキシ基、炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルキル基または炭素原子数が７〜１２のアシルオキシ置換アルコキシ基であることが好ましい。
アシル基は−ＣＯ−Ｒ、アシルオキシ基は−Ｏ−ＣＯ−Ｒで表され、Ｒは脂肪族基（アルキル基、置換アルキル基、アルケニル基、置換アルケニル基、アルキニル基、置換アルキニル基）または芳香族基（アリール基、置換アリール基）である。Ｒは、脂肪族基であることが好ましく、アルキル基またはアルケニル基であることがさらに好ましい。
ｐは、１〜１０の整数である。ｐは、１または２であることが特に好ましい。ＣpＨ2pは、分岐構造を有していてもよい鎖状アルキレン基を意味する。ＣpＨ2pは、直鎖状アルキレン基（−（ＣＨ2）p−）であることが好ましい。
式（２ｂ）中、Ｒ30は、水素原子又は炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。
前記式(２ａ)又は（２ｂ）で表される化合物の中でも、下記式(２ａ')又は（２ｂ’）
で表される化合物が好ましい。
Figure 0005875434
式（２ａ’）及び（２ｂ’）中、式(２ａ)及び（２ｂ）中のそれぞれと同一の符号は同一の意義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ25はＬ24と同義であり、好ましい範囲も同様である。Ｌ24及びＬ25は、−Ｏ−ＣＯ−又は−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましく、Ｌ24が−Ｏ−ＣＯ−で、且つＬ25が−ＣＯ−Ｏ−であるのが好ましい。
Ｒ23、Ｒ24及びＲ25はそれぞれ、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基である。ｎ23は０〜４、ｎ24は１〜４、及びｎ25は０〜４を表す。ｎ23及びｎ25が０で、ｎ24が１〜４（より好ましくは１〜３）であるのが好ましい。
Ｒ30は、炭素原子数が１〜１２（より好ましくは１〜６、さらに好ましくは１〜３）のアルキル基であるのが好ましい。
一般式（１）で表される化合物の具体例としては、特開２００６−１１３５００号公報の明細書中［００５８］〜［００６１］に記載の化合物が挙げられる。
以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示す。但し、下記式中、アニオン（Ｘ-）は省略した。
Figure 0005875434
式(２ａ)及び（２ｂ）の化合物は、一般的な方法で製造することができる。例えば、式（２ａ）のピリジニウム誘導体は、一般にピリジン環をアルキル化（メンシュトキン反応）して得られる。
オニウム塩は、その添加量が、液晶化合物に対して５質量％を超えることはなく、０．１〜２質量％程度であるのが好ましい。
前記一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表されるオニウム塩は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基（一般式（２ａ）及び（２ａ’）において、Ｒ22が無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基）が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、一般式（２ａ’）で表されるように、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。
さらに、前記一般式（２ａ）及び（２ｂ）で表されるオニウム塩を併用すると、ある温度を超えて加熱することで、液晶が、その遅相軸を、ラビング方向に対して平行にして配向する、平行配向を促進することができる。これは、加熱による熱エネルギーでポリビニルアルコールとの水素結合が切断され、オニウム塩が配向膜に均一に分散され配向膜表面における密度が低下し、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向するためである。
［フルオロ脂肪族基含有共重合体（空気界面配向制御剤）］
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、液晶、主に、前記一般式（Ｉ）で表されるディスコティック液晶、の空気界面における配向を制御することを目的として添加され、液晶の分子の空気界面近傍におけるチルト角を増加させる作用がある。さらに、ムラ、ハジキなどの塗布性も改善される。
本発明に使用可能なフルオロ脂肪族基含有共重合体としては、特開２００４−３３３８５２号、同２００４−３３３８６１号、同２００５−１３４８８４号、同２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号などの各公報及び明細書に記載の化合物の中から選んで用いることができる。特に好ましくは、特開２００５−１７９６３６号、及び同２００５−１８１９７７号の各公報及び明細書に記載の、フルオロ脂肪族基と、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含むポリマーである。
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、その添加量が、液晶化合物に対して２質量％を超えることはなく、０．１〜１質量％程度であるのが好ましい。
フルオロ脂肪族基含有共重合体は、フルオロ脂肪族基の疎水性効果により空気界面への偏在性を高めると共に、空気界面側に低表面エネルギーの場を提供し、液晶、特にディスコティック液晶のチルト角を増加させることができる。さらに、カルボキシル基（−ＣＯＯＨ）、スルホ基（−ＳＯ3Ｈ）、ホスホノキシ｛−ＯＰ（＝Ｏ）（ＯＨ）2｝｝及びそれらの塩からなる群より選ばれる１種以上の親水性基とを側鎖に含む共重合成分を有すると、これらのアニオンと液晶のπ電子との電荷反発により液晶化合物の垂直配向を実現することができる。
［溶媒］
光学異方性層の形成に利用する、前記組成物は塗布液として調製するのが好ましい。塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。
［重合開始剤］
前記の重合性基を有する液晶化合物を含有する組成物（例えば塗布液）を、所望の液晶相を示す配向状態とした後、該配向状態を紫外線照射により固定する。固定化は、液晶化合物に導入した反応性基の重合反応により実施することが好ましい。紫外線照射による、光重合反応により固定化するのが好ましい。光重合反応としては、ラジカル重合、カチオン重合のいずれでも構わない。ラジカル光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）が含まれる。カチオン光重合開始剤の例には、有機スルフォニウム塩系、ヨードニウム塩系、フォスフォニウム塩系等を例示する事ができ、有機スルフォニウム塩系、が好ましく、トリフェニルスルフォニウム塩が特に好ましい。これら化合物の対イオンとしては、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロフォスフェートなどが好ましく用いられる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
［増感剤］
また、感度を高める目的で重合開始剤に加えて、増感剤を用いてもよい。増感剤の例には、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン、及びチオキサントン等が含まれる。光重合開始剤は複数種を組み合わせてもよく、使用量は、塗布液の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがより好ましい。液晶化合物の重合のための光照射は紫外線を用いることが好ましい。
［その他の添加剤］
前記組成物は、重合性液晶化合物とは別に、非液晶性の重合性モノマーを含有していてもよい。重合性モノマーとしては、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有する化合物が好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が２以上の多官能モノマー、例えば、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパンアクリレートを用いると、耐久性が改善されるので好ましい。前記非液晶性の重合性モノマーは、非液晶性成分であるので、その添加量が、液晶化合物に対して４０質量％を超えることはなく、０〜２０質量％程度であるのが好ましい。
この様にして形成する光学異方性層の厚みについては特に制限されないが、０．１〜１０μｍであるのが好ましく、０．５〜５μｍであるのがより好ましい。
透明支持体：
本発明の光学フィルムは、前記光学異方性層を支持する透明支持体を有する。透明支持体としては、正のＲｔｈを示すポリマーフィルムを用いるのが好ましい。また透明支持体として、低Ｒｅ及び低Ｒｔｈのポリマーフィルムを用いるのも好ましい。
本発明に使用可能な透明支持体を形成する材料としては、例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルアルコール系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は前記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
また、前記透明支持体を形成する材料としては、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用いることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。
また、前記透明支持体を形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（以下、セルロースアシレートという）を好ましく用いることが出来る。
［紫外線吸収剤］
上記セルロースアシレートフィルム等の透明支持体には、フィルム自身の耐光性向上、或いは偏光板、液晶表示装置の液晶化合物等の画像表示部材の劣化防止のために、更に紫外線吸収剤を添加することが好ましい。
紫外線吸収剤としては、液晶の劣化防止の点より波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な画像表示性の点より波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が可及的に少ないものを用いることが好ましい。特に、波長３７０ｎｍでの透過率が、２０％以下であることが望ましく、好ましくは１０％以下、より好ましくは５％以下である。このような紫外線吸収剤としては、例えば、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物、前記のような紫外線吸収性基を含有する高分子紫外線吸収化合物等があげられるが、これらに限定されない。紫外線吸収剤は２種以上用いてもよい。
紫外線吸収剤のドープへの添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソランなどの有機溶媒に溶解してから添加してもよいし、また直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶媒に溶解しないものは、有機溶媒とセルロースアシレート中にデゾルバやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
本発明において紫外線吸収剤の使用量は、セルロースアシレート１００質量部に対し０．１〜５．０質量部、好ましくは０．５〜２．０質量部、より好ましくは０．８〜２．０質量部である。
配向膜：
光学異方性層及び透明支持体との間にパターン光学異方性層を実現できる配向膜を形成してもよい。配向膜としては、ラビング配向膜を利用するのが好ましい。
本発明に利用可能な「ラビング配向膜」とは、ラビングによって、液晶分子の配向規制能を有するように処理された膜を意味する。ラビング配向膜には、液晶分子を配向規制する配向軸があり、当該配向軸に従って、液晶分子は配向する。液晶分子は、配向膜への紫外線照射部分でラビング方向に対して液晶の遅相軸が平行になるように配向し、未照射部分で液晶分子の遅相軸がラビング方向に対して直交配向するように、配向膜の材料、酸発生剤、液晶、及び配向制御剤を選択する。
ラビング配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。ポリビニルアルコールは、種々の鹸化度のものが存在する。本発明では、鹸化度８５〜９９程度のものを用いるのが好ましい。市販品を用いてもよく、例えば、「ＰＶＡ１０３」、「ＰＶＡ２０３」（クラレ社製）等は、上記鹸化度のＰＶＡである。ラビング配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落番号［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。ラビング配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがさらに好ましい。
ラビング処理は、一般にはポリマーを主成分とする膜の表面を、紙や布で一定方向に数回擦ることにより実施することができる。ラビング処理の一般的な方法については、例えば、「液晶便覧」（丸善社発行、平成１２年１０月３０日）に記載されている。
ラビング密度を変える方法としては、「液晶便覧」（丸善社発行）に記載されている方法を用いることができる。ラビング密度（Ｌ）は、下記式（Ａ）で定量化されている。
式（Ａ） Ｌ＝Ｎｌ（１＋２πｒｎ／６０ｖ）
式（Ａ）中、Ｎはラビング回数、ｌはラビングローラーの接触長、ｒはローラーの半径、ｎはローラーの回転数（ｒｐｍ）、ｖはステージ移動速度（秒速）である。
ラビング密度を高くするためには、ラビング回数を増やす、ラビングローラーの接触長を長く、ローラーの半径を大きく、ローラーの回転数を大きく、ステージ移動速度を遅くすればよく、一方、ラビング密度を低くするためには、この逆にすればよい。
ラビング密度と配向膜のプレチルト角との間には、ラビング密度を高くするとプレチルト角は小さくなり、ラビング密度を低くするとプレチルト角は大きくなる関係がある。
長尺状の偏光膜であって、吸収軸が長手方向の偏光膜と貼り合わせるには、長尺のポリマーフィルムからなる支持体上に配向膜を形成し、長手方向に対して４５°の方向に連続的にラビング処理して、ラビング配向膜を形成するのが好ましい。
可能であれば、光配向膜を利用してもよい。
また、配向膜は、少なくとも一種の光酸発生剤を含有していてもよい。光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。前記光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、配向膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、配向膜とその上に配置される光学異方性層形成用組成物中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。
ディスコティック液晶は、オニウム塩を添加することで、直交垂直配向状態になる場合がある。分解により発生した酸と、該オニウム塩とが、アニオン交換すると、該オニウム塩の配向膜界面における偏在性が低下し、直交垂直配向効果を低下させ、平行垂直配向状態を形成させてもよい。また、例えば、配向膜がポリビニルアルコール系配向膜である場合には、そのエステル部分が発生した酸により分解し、その結果、前記オニウム塩の配向膜界面偏在性を変化させてもよい。
前記光学異方性層は、配向膜を利用した種々の方法で形成でき、その製法については特に制限はない。
第１の態様は、ディスコティック液晶の配向制御に影響を与える複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。例えば、配向膜による配向制御能と、液晶組成物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、ディスコティック液晶を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。例えば、前記一般式（２ａ）で表されるピリジニウム化合物又は一般式（２ｂ）で表されるイミダゾリウム化合物は、ピリジニウム基又はイミダリウム基が親水的であるため前記親水的なポリビニルアルコール配向膜表面に偏在する。特に、ピリジニウム基に、さらに、水素原子のアクセプターの置換基であるアミノ基（一般式（２ａ）及び（２ａ’）において、Ｒ22が無置換のアミノ基又は炭素原子数が１〜２０の置換アミノ基）が置換されていると、ポリビニルアルコールとの間に分子間水素結合が発生し、より高密度に配向膜表面に偏在すると共に、水素結合の効果により、ピリジニウム誘導体がポリビニルアルコールの主鎖と直交する方向に配向するため、ラビング方向に対して液晶の直交配向を促進する。前記ピリジニウム誘導体は、分子内に複数個の芳香環を有しているため、前述した、液晶、特にディスコティック液晶との間に強い分子間π−π相互作用が起こり、ディスコティック液晶の配向膜界面近傍における直交配向を誘起する。特に、一般式（２ａ’）で表されるように、親水的なピリジニウム基に疎水的な芳香環が連結されていると、その疎水性の効果により垂直配向を誘起する効果も有する。しかし、その効果は、ある温度を超えて加熱すると、水素結合が切断され、前記ピリジニウム化合物等の配向膜表面における密度が低下し、その作用を消失する。その結果、ラビング配向膜そのものの規制力により液晶が配向し、液晶は平行配向状態になる。この方法の詳細については、特願２０１０−１４１３４６号明細書（特開２０１２−００８１７０号公報）に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
第２の態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶組成物を配置し、液晶を配向させる。液晶は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって配向規制され、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１及び第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。また、配向膜を一様に形成し、配向制御能に影響を与える添加剤（例えば、上記オニウム塩等）を別途所定のパターンで印刷することによって、パターン配向膜を形成することもできる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特願２０１０−１７３０７７号明細書（特開２０１２−０３２６６１号公報）に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
また、第１及び第２の態様を併用してもよい。一例は、配向膜中に光酸発生剤を添加する例である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射部分では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶、及び所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。前記配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．，２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。前記光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０−２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
さらに、第３の態様として、重合性が互いに異なる重合性基（例えば、オキセタニル基及び重合性エチレン性不飽和基）を有するディスコティック液晶を利用する方法がある。この態様では、ディスコティック液晶を所定の配向状態にした後、一方の重合性基のみの重合反応が進行する条件で、光照射等を行い、プレ光学異方性層を形成する。次に、他方の重合性基の重合を可能にする条件で（例えば他方の重合性基の重合を開始させる重合開始剤の存在下で）、マスク露光を行う。露光部の配向状態は完全に固定され、所定のＲｅを有する一方の位相差領域が形成される。未露光領域は、一方の反応性基の反応が進行しているものの、他方の反応性基は未反応のままとなっている。よって、等方相温度を超え、他方の反応性基の反応が進行可能な温度まで加熱すると、未露光領域は、等方相状態に固定され、即ち、Ｒｅが０ｎｍになる。
偏光膜：
偏光膜は、一般的な偏光膜を用いることができる。例えば、ヨウ素や二色性色素によって染色されたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子膜を用いることができる。
粘着層：
光学異方性層と偏光膜との間には、粘着層が配置されていてもよい。光学異方性層と偏光膜との積層のために用いられる粘着層とは、例えば、動的粘弾性測定装置で測定したＧ’とＧ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１〜１．５である物質のことを表し、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれる。粘着剤については特に制限はなく、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤を用いることができる。
光学フィルムの層構成：
本発明の光学フィルムは、目的に応じて必要な機能層を単独又は複数層設けてもよい。好ましい態様としては、光学異方性層の上にハードコート層が積層された態様、光学異方性層の上に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上にハードコート層が積層され、その上に更に反射防止層が積層された態様、光学異方性層の上に防眩層が積層された態様等が挙げられる。該反射防止層は、光学干渉によって反射率が減少するように屈折率、膜厚、層の数、層順等を考慮して設計された、少なくとも一層以上の層からなる層である。
反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
ハードコート層や反射防止層を有す本発明の光学フィルムの具体的な層構成の例を下記に示す。
支持体／光学異方性層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層
支持体／光学異方性層／支持体／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／防眩層
支持体／光学異方性層／支持体／防眩層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層
光学異方性層／支持体／支持体／低屈折率層
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／支持体／防眩層
光学異方性層／支持体／支持体／防眩層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／防眩層
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層
光学異方性層／支持体／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／防眩層
光学異方性層／支持体／防眩層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層
光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
光学異方性層／支持体／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／ハードコート層
支持体／光学異方性層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／ハードコート層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／ハードコート層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／防眩層
支持体／光学異方性層／防眩層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／ハードコート層／防眩層
支持体／光学異方性層／ハードコート層／防眩層／低屈折率層
支持体／光学異方性層／ハードコート層／防眩層／中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層
上記の各構成において、光学異方性層の上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の機能層を直接形成することが好ましい。また、光学異方性層を含む光学フィルムと、別途、支持体上にハードコート層、防眩層、反射防止層等の層を設けた光学フィルムとを積層して製造してもよい。
本発明の光学フィルムの好ましい態様の一つは、光学異方性層側から順に、中屈折率層、高屈折率層、及び低屈折率層が積層された反射防止層を有する態様である。該中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、該中屈折率層の厚さが５０．０ｎｍ〜７０．０ｎｍであり、該高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、該高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、該低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、該低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍであることが好ましい。
上記構成の中でも、以下に示す構成（１）又は構成（２）が、特に好ましい。
構成（１）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６４であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが１０５．０ｎｍ〜１１５．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍを有する低屈折率層である反射防止フィルム。
構成（２）：中屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．６０〜１．６５であり、中屈折率層の厚さが５５．０ｎｍ〜６５．０ｎｍであり、高屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．７０〜１．７４であり、高屈折率層の厚さが９０．０ｎｍ〜１００．０ｎｍであり、低屈折率層の波長５５０ｎｍにおける屈折率が１．３３〜１．３８であり、低屈折率層の厚さが８５．０ｎｍ〜９５．０ｎｍである反射防止フィルム。
各層の屈折率と厚みを上記範囲内とすることで反射色の変動をより小さくできる。構成（１）は反射色の変動を小さく抑えつつ、反射率を特に低くすることができる構成であり、特に好ましい。また、構成（２）は反射率の変動が構成（１）よりも更に小さく抑えられる構成であり、膜厚変動に対するロバスト性に優れるため、特に好ましい。
そして、本発明においては、設計波長λ（＝５５０ｎｍ：視感度が最も高い波長域の代表）に対して、上記中屈折率層が下式（Ｉ）を、上記高屈折率層が下式（ＩＩ）を、上記低屈折率層が下式（ＩＩＩ）をそれぞれ満足することが好ましい。
式（Ｉ） λ／４×０．６８＜ｎ1ｄ1＜λ／４×０．７４
式（ＩＩ） λ／２×０．６６＜ｎ2ｄ2＜λ／２×０．７２
式（ＩＩＩ） λ／４×０．８４＜ｎ3ｄ3＜λ／４×０．９２

式中、ｎ1は中屈折率層の屈折率であり、ｄ1は中屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ2は高屈折率層の屈折率であり、ｄ2は高屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ3は低屈折率層の屈折率であり、ｄ3は低屈折率層の層厚（ｎｍ）であり、ｎ3＜ｎ1＜ｎ2である。
上記式（Ｉ）、式（ＩＩ）、式（ＩＩＩ）を満足する場合には、反射率が低くなり、かつ反射色の変化を抑制することができるために好ましい。また、これにより、指紋や皮脂等の油脂成分が付着した際に色味の変化が少ないために汚れが視認されにくくなるために好ましい。
波長３８０ｎｍから７８０ｎｍの領域におけるＣＩＥ標準光源Ｄ６５の５度入射光に対する正反射光の色味が、ＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間のａ＊、ｂ＊値がそれぞれ０≦ａ＊≦８、かつ、−１０≦ｂ＊≦０の範囲内にすること、更には上記の色味変動範囲内で、各層のうち任意の層の層厚が２．５％変動したときの色差ΔＥを下記式（５）の範囲にすることで、反射色のニュートラル性が良好で、製品ごとに反射色に差がなく、かつ、指紋や皮脂等の油脂成分が表面に付着した際に汚れが目立たなくなるため好ましい。重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、及び含フッ素多官能アクリレートを含有した低屈折率層と上記層構成とを組み合わせて用いることで、多層干渉膜構成にしてもマジックや指紋、皮脂等の油脂成分が付着しにくく、付着しても拭き取りやすくかつ目立たなくすることが可能となる。
式（５）：
ΔＥ＝｛（Ｌ＊−Ｌ＊'）2＋（ａ＊−ａ＊'）2＋（ｂ＊−ｂ＊'）2｝1/2≦３
（Ｌ＊'、ａ＊'、ｂ＊'は設計膜厚時の反射光の色味）
また、画像表示装置の表面に設置した場合、鏡面反射率の平均値を０．５％以下とすることにより、映り込みを著しく低減することができ、好ましい。
鏡面反射率及び色味の測定は、分光光度計"Ｖ−５５０"（日本分光（株）製）にアダプター"ＡＲＶ−４７４"を装着して、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角θ（θ＝５〜４５°、５°間隔）における出射角−θの鏡面反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの平均反射率を算出し、反射防止性を評価することができる。更に、測定された反射スペクトルから、ＣＩＥ標準光源Ｄ６５の各入射角の入射光に対する正反射光の色味を表すＣＩＥ１９７６Ｌ＊ａ＊ｂ＊色間のＬ＊値、ａ＊値、ｂ＊値を算出し、反射光の色味を評価することができる。
各層の屈折率の測定は、各層の塗布液を３〜５μｍの厚みになるようにガラス板に塗布し、多波長アッベ屈折計ＤＲ−Ｍ２（アタゴ（株）製）にて測定することができる。本明細書では、「ＤＲ−Ｍ２，Ｍ４用干渉フィルタ ５４６（ｅ）ｎｍ 部品番号：ＲＥ−３５２３」のフィルタを使用して測定した屈折率を波長５５０ｎｍにおける屈折率として採用した。各層の膜厚は光の干渉を利用した反射分光膜厚計"ＦＥ−３０００"（大塚電子（株）製）や、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）による断面観察により測定することができる。反射分光膜厚計でも膜厚と同時に屈折率の測定も可能であるが、膜厚の測定精度を上げるために、別手段で測定した各層の屈折率を用いることが望ましい。各層の屈折率が測定できない場合は、ＴＥＭによる膜厚測定が望ましい。その場合は、１０箇所以上測定し、平均した値を用いることが望ましい。
本発明の光学フィルムは、製造時の形態がフィルムをロール状に巻き取った形態をしているのが好ましい。その場合に、反射色の色味のニュートラリティーを得るためには、任意の１０００ｍ長の範囲の層厚の平均値ｄ（平均値）、最小値ｄ（最小値）、及び最大値ｄ（最大値）をパラメーターとする下記式（６）で算出される層厚分布の値が、薄膜層の各層につき、５％以下であるのが好ましく、より好ましくは４％以下、更に好ましくは３％以下、より更に好ましくは２．５％以下、２％以下が特に好ましい。
式（６）：（最大値ｄ−最小値ｄ）×１００／平均値ｄ
（ハードコート層）
本発明の光学フィルムは、フィルムの物理的強度を付与するために、ハードコート層を設けることができる。本発明においては、ハードコート層を設けなくてもよいが、ハードコート層を設けた方が鉛筆引掻き試験などの耐擦傷性面が強くなり、好ましい。
好ましくは、ハードコート層上に低屈折率層が設けられ、更に好ましくはハードコート層と低屈折率層の間に中屈折率層、高屈折率層が設けられ、反射防止フィルムを構成する。ハードコート層は、二層以上の積層から構成されてもよい。
ハードコート層の屈折率は、反射防止性のフィルムを得るための光学設計から、屈折率が１．４８〜２．００の範囲にあることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．７０である。ハードコート層の上に低屈折率層が少なくとも１層ある態様では、屈折率がこの範囲より小さ過ぎると反射防止性が低下し、大き過ぎると反射光の色味が強くなる傾向がある。
ハードコート層の膜厚は、フィルムに充分な耐久性、耐衝撃性を付与する観点から、通常０．５μｍ〜５０μｍ程度とし、好ましくは１μｍ〜２０μｍ、更に好ましくは５μｍ〜２０μｍである。
ハードコート層の強度は、鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。更に、ＪＩＳ Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層は、電離放射線硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。例えば、電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーを含む塗布組成物を透明支持体上に塗布し、多官能モノマーや多官能オリゴマーを架橋反応、又は、重合反応させることにより形成することができる。電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
ハードコート層には、内部散乱性付与の目的で、平均粒径が１．０〜１０．０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子又は樹脂粒子を含有してもよい。
ハードコート層のバインダーには、ハードコート層の屈折率を制御する目的で、各種屈折率モノマー又は無機粒子、或いは両者を加えることができる。無機粒子には屈折率を制御する効果に加えて、架橋反応による硬化収縮を抑える効果もある。本発明では、ハードコート層形成後において、前記多官能モノマー及び／又は高屈折率モノマー等が重合して生成した重合体、その中に分散された無機粒子を含んでバインダーと称する。
ハードコート層は、前記無機化合物の粒子など以外に紫外線吸収剤などを添加することができる。
（紫外線吸収剤）
前記ハードコート層等、パターン光学異方性層のさらに外側に配置される層中に、紫外線吸収剤を添加するのが好ましい。使用可能な紫外線吸収剤としては、紫外線吸収性を発現できるもので、公知のものがいずれも使用できる。そのような紫外線吸収剤のうち、紫外線吸収性が高く、電子画像表示装置で用いられる紫外線吸収能（紫外線カット能）を得るためにベンゾトリアゾール系又はヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。また、紫外線の吸収幅を広くするために、最大吸収波長の異なる紫外線吸収剤を２種以上併用することができる。
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシメチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシプロピル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシヘキシル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−ｔｅｒｔ−ブチル−３′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−メトキシ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−シアノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ｔｅｒｔ−ブチル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２′−ヒドロキシ−５′−（メタクリロイルオキシエチル）フェニル］−５−ニトロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒ―ブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、ベンゼンプロパン酸−３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１、１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−，Ｃ ７〜９−ブランチ直鎖アルキルエステル、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等が挙げられる。
ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤としては、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−［４−［（２−ヒドロキシ−３−（２'−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−［１−オクチルオキシカルボニルエトキシ］フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−アセトキシエトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−５，５′−ジスルホベンゾフェノン・２ナトリウム塩等が挙げられる。
紫外線吸収剤の含有量は、求める紫外線透過率や紫外線吸収剤の吸光度にもよるが、ハードコート層形成用組成物（但し塗布液として調製される場合は溶媒を除いた固形分）１００質量部に対して、通常２０質量部以下、好ましくは１〜２０質量部である。紫外線吸収剤の含有量が２０質量部よりも多い場合には、硬化性組成物の紫外線による硬化性が低下する傾向があると共に、ハードコート層の可視光線透過率が低下するおそれもある。一方、１質量部より少ない場合には、ハードコート層の紫外線吸収性を十分に発揮することができなくなる。
（防眩層）
防眩層は、表面散乱による防眩性と、好ましくはフィルムの硬度、耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフィルムに寄与する目的で形成される。
防眩層については特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１７８］〜［０１８９］に記載されており、本発明においても同様である。
（高屈折率層及び中屈折率層）
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜１．７４であることが好ましく、１．７１〜１．７３であることがより好ましい。中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整される。中屈折率層の屈折率は、１．６０〜１．６４であることが好ましく、１．６１〜１．６３であることが更に好ましい。
高屈折率層及び中屈折率層の形成方法は化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、オールウェット塗布による方法が好ましい。
上記中屈折率層は、上記高屈折率層と屈折率を異ならせた以外は同様の材料を用いて同様に調整できるので、以下、特に高屈折率層について説明する。
上記高屈折率層は、無機微粒子、３官能以上の重合性基を有する硬化性化合物（以下、「バインダー」と称する場合もある）、溶媒及び重合開始剤を含有する塗布組成物を塗布し、溶媒を乾燥させた後、加熱、電離放射線照射あるいは両手段の併用により硬化して形成されたものであるのが好ましい。硬化性化合物や開始剤を用いる場合は、塗布後に熱及び／又は電離放射線による重合反応により硬化性化合物を硬化させることで、耐傷性や密着性に優れる中屈折率層や高屈折率層が形成できる。
［無機微粒子］
上記無機微粒子としては、金属の酸化物を含有する無機微粒子が好ましく、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ａｌ及びＳｂから選ばれた少なくとも１種の金属の酸化物を含有する無機微粒子がより好ましい。また、中屈折率層及び高屈折率層のうち少なくともいずれかが、導電性の無機微粒子を含有してもよい。
無機微粒子としては、屈折率の観点から、酸化ジルコニウムの微粒子が好ましい。また、導電性の観点からは、Ｓｂ、Ｉｎ、Ｓｎのうちの少なくとも１種類の金属の酸化物を主成分とする無機微粒子を用いることが好ましい。導電性の無機微粒子としては、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、フッ素ドープ酸化錫（ＦＴＯ）、リンドープ酸化錫（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化亜鉛、酸化ルテニウム、酸化レニウム、酸化銀、酸化ニッケル及び酸化銅からなる群から少なくとも一つ選択される金属酸化物が更に好ましい。
無機微粒子の量を変化させることで所定の屈折率に調整することができる。層中の無機微粒子の平均粒径は、酸化ジルコニウムを主成分として用いた場合、１〜１２０ｎｍであることが好ましく、更に好ましくは１〜６０ｎｍ、２〜４０ｎｍが更に好ましい。この範囲内で、ヘイズを抑え、分散安定性、表面の適度の凹凸による上層との密着性が良好となり、好ましい。
酸化ジルコニウムを主成分とする無機微粒子は、屈折率が１．９０〜２．８０であることが好ましく、２．００〜２．４０であることが更に好ましく、２．００〜２．２０であることが最も好ましい。
無機微粒子の添加量は、添加する層により異なり、中屈折率層では中屈折率層全体の固形分に対し、２０〜６０質量％が好ましく、２５〜５５質量％がより好ましく、３０〜５０質量％が更に好ましい。高屈折率層では高屈折率層全体の固形分に対し、４０〜９０質量％が好ましく、５０〜８５質量％がより好ましく、６０〜８０質量％が更に好ましい。
無機微粒子の粒子径は、光散乱法や電子顕微鏡写真により測定できる。無機微粒子の比表面積は、１０〜４００ｍ2／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ2／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ2／ｇであることが最も好ましい。
無機微粒子は、分散液中あるいは塗布液中で、分散安定化を図るために、あるいはバインダー成分との親和性、結合性を高めるために、プラズマ放電処理やコロナ放電処理のような物理的表面処理、界面活性剤やカップリング剤等による化学的表面処理がなされていても良い。カップリング剤の使用が特に好ましい。カップリング剤としては、アルコキシメタル化合物（例、チタンカップリング剤、シランカップリング剤）が好ましく用いられる。なかでも、アクリロイル基又はメタクリロイル基を有するシランカップリング剤による処理が特に有効である。無機微粒子の化学的表面処理剤、溶媒、触媒、及び分散物の安定剤は特開２００６−１７８７０号公報の［００５８］〜［００８３］に記載されている。
無機微粒子の分散は、分散機を用いて分散することができる。分散機の例には、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが含まれる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例には、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが含まれる。
無機微粒子は、分散媒体中でなるべく微細化されていることが好ましく、質量平均径は１０〜１２０ｎｍである。好ましくは２０〜１００ｎｍであり、更に好ましくは３０〜９０ｎｍ、特に好ましくは３０〜８０ｎｍである。無機微粒子を２００ｎｍ以下に微細化することで透明性を損なわない高屈折率層及び中屈折率層を形成できる。
［硬化性化合物］
硬化性化合物としては、重合性化合物が好ましく、重合性化合物としては電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーが好ましく用いられる。これらの化合物中の官能基としては、光、電子線、放射線重合性のものが好ましく、中でも光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
高屈折率層には、前記の成分（無機微粒子、硬化性化合物、重合開始剤、光増感剤など）以外に、界面活性剤、帯電防止剤、カップリング剤、増粘剤、着色防止剤、着色剤（顔料、染料）、消泡剤、レベリング剤、難燃剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、接着付与剤、重合禁止剤、酸化防止剤、表面改質剤、導電性の金属微粒子、などを添加することもできる。
本発明に用いる高屈折率層及び中屈折率層は、上記のようにして分散媒体中に無機微粒子を分散した分散液に、更にマトリックス形成に必要なバインダー前駆体である硬化性化合物（例えば、前述の電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーなど）、光重合開始剤等を加えて高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物とし、透明支持体上に高屈折率層及び中屈折率層形成用の塗布組成物を塗布して、硬化性化合物の架橋反応又は重合反応により硬化させて形成することが好ましい。
更に、高屈折率層及び中屈折率層のバインダーを層の塗布と同時又は塗布後に、分散剤と架橋反応又は重合反応させることが好ましい。このようにして作製した高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、例えば、上記の好ましい分散剤と電離放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーとが、架橋又は重合反応し、バインダーに分散剤のアニオン性基が取りこまれた形となる。更に高屈折率層及び中屈折率層のバインダーは、アニオン性基が無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋又は重合構造がバインダーに皮膜形成能を付与して、無機微粒子を含有する高屈折率層及び中屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性を改良する。
高屈折率層の形成において、硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応は、酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。高屈折率層を酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で形成することにより、高屈折率層の物理強度、耐薬品性、耐候性、更には、高屈折率層と高屈折率層と隣接する層との接着性を改良することができる。好ましくは酸素濃度が６体積％以下の雰囲気で硬化性樹脂の架橋反応、又は、重合反応により形成することであり、更に好ましくは酸素濃度が４体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が２体積％以下、最も好ましくは１体積％以下である。
上述したように、中屈折率層は、高屈折率層と同様の材料を用いかつ同様にして得ることができる。
具体的には、中屈折率層、高屈折率層が前記式（Ｉ）、式（ＩＩ）の膜厚と屈折率を満足するように微粒子の種類、樹脂の種類を選択すると共にその配合比率を決め、主な組成を決定することが一例として挙げられる。
（低屈折率層）
本発明における低屈折率層は、屈折率が１．３０〜１．４７であることが好ましい。多層薄膜干渉型の反射防止フィルム（中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層）の場合の低屈折率層の屈折率は１．３３〜１．３８であることが望ましく、更に望ましくは１．３５〜１．３７が望ましい。上記範囲内とすることで反射率を抑え、膜強度を維持することができ、好ましい。低屈折率層の形成方法も化学蒸着（ＣＶＤ）法や物理蒸着（ＰＶＤ）法、特に物理蒸着法の一種である真空蒸着法やスパッタ法により、無機物酸化物の透明薄膜を用いることもできるが、低屈折率層用組成物を用いてオールウェット塗布による方法を用いることが好ましい。
低屈折率層のヘイズは、３％以下であることが好ましく、２％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。
低屈折率層まで形成した反射防止フィルムの強度は、５００ｇ荷重の鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることが更に好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。
また、反射防止フィルムの防汚性能を改良するために、表面の水に対する接触角が９５゜以上であることが好ましい。更に好ましくは１０２゜以上である。特に、接触角が１０５°以上であると、指紋に対する防汚性能が著しく良化するため、特に好ましい。また、水の接触角が１０２°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２５ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることがより好ましく、２３ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが特に好ましく、２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下であることが更に好ましい。最も好ましくは、水の接触角が１０５°以上で、かつ、表面自由エネルギーが２０ｄｙｎｅ／ｃｍ以下である。
［低屈折率層の形成］
低屈折率層は、重合性不飽和基を有する含フッ素防汚剤、重合性不飽和基を有する含フッ素共重合体、無機微粒子、その他所望により含有される任意成分を溶解あるいは分散させた塗布組成物を塗布と同時、又は塗布・乾燥後に電離放射線照射（例えば光照射、電子線ビーム照射等が挙げられる。）や加熱することによる架橋反応、又は、重合反応により硬化して、形成することが好ましい。
特に、低屈折率層が電離放射線硬化性の化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成される場合、架橋反応、又は、重合反応は酸素濃度が１０体積％以下の雰囲気で実施することが好ましい。酸素濃度が１体積％以下の雰囲気で形成することにより、物理強度、耐薬品性に優れた層を得ることができる。
好ましくは酸素濃度が０．５体積％以下であり、更に好ましくは酸素濃度が０．１体積％以下、特に好ましくは酸素濃度が０．０５体積％以下、最も好ましくは０．０２体積％以下である。
酸素濃度を１体積％以下にする手法としては、大気（窒素濃度約７９体積％、酸素濃度約２１体積％）を別の気体で置換することが好ましく、特に好ましくは窒素で置換（窒素パージ）することである。
上記全ての層を形成するための塗布組成物には、低屈折率層用組成物と同様の溶剤を用いることができる。
［粘着剤層］
各層の貼り合わせに用いる接着剤としては、粘着剤でもＵＶ接着剤でもよく、粘着剤層や接着剤層などを介して貼り合わせてもよく、特に限定されない。粘着剤は、例えば、透明支持体上にパターン光学異方性層を形成した積層体と、支持体上に上記ハードコート層等を形成した積層体とを貼合するために用いられる。接着剤は、例えば、パターン光学異方性層面と、前記ハードコート層等の支持体の裏面とを接着するために用いてもよいし、また前記２つの積層体の支持体のそれぞれ裏面を接着するために用いてもよい。
なお、パターン光学異方性層の表面、又は該パターン光学異方性層を支持する透明支持体の裏面に、前記ハードコート層形成用塗布組成物を塗布して、直接形成してもよく、その場合は、接着剤は不要である。
粘着剤層の形成には、適宜な粘着剤を用いることができ、その種類について特に制限はない。粘着剤としては、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ビニルアルキルエーテル系粘着剤、ポリビニルアルコール系粘着剤、ポリビニルピロリドン系粘着剤、ポリアクリルアミド系粘着剤、セルロース系粘着剤などがあげられる。
粘着剤層には、例えば、ベースモノマー、共重合モノマーの種類、その配合割合、架橋剤の種類、その配合量、添加剤の種類、その配合量等を制御することにより行うことができる。例えば、粘着剤ベースポリマーの分子量を調整したり、ガラス転移温度や凝集性などが異なるモノマーを共重合したり、架橋剤の添加量による架橋度を制御することなどが効果的に適用される。
これら粘着剤のなかでも、光学的透明性に優れ、適宜な濡れ性と凝集性と接着性の粘着特性を示して、耐候性や耐熱性などに優れるものが好ましく使用される。このような特徴を示すものとしてアクリル系粘着剤が好ましく使用される。特に、アクリル系ポリマーおよび架橋剤を含む粘着剤により形成されているものを好適に用いることができる。
アクリル系粘着剤は、（メタ）アクリル酸アルキルエステルのモノマーユニットを主骨格とするアクリル系ポリマーをベースポリマーとする。なお、（メタ）アクリル酸アルキルエステルはアクリル酸アルキルエステルおよび／またはメタクリル酸アルキルエステルをいい、本発明の（メタ）とは同様の意味である。アクリル系ポリマーの主骨格を構成する、（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数１〜２０のものを例示できる。例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸イソミリスチル、（メタ）アクリル酸ラウリル等を例示できる。これらは単独であるいは組み合わせて使用することができる。これらアルキル基の平均炭素数は３〜９であるのが好ましい。
前記アクリル系ポリマーのなかでも、平衡水分率を低く制御する観点から、疎水性の高い（メタ）アクリル酸アルキルエステルのモノマーユニットを主骨格とするアクリルポリマーをベースポリマーとすることが好ましい。一般に（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、前記の光学透明性、適度な濡れ性と凝集力、接着力、耐候性や耐熱性などの点から、直鎖状または分岐鎖状のアルキル基の炭素数３〜９のもの、好ましくは４〜８のものが実用上好ましく用いられる。これらアルキル基のなかでも、アルキル基の炭素数が大きい程、疎水性が高くなり、当該平衡水分率を低くするうえで好ましい。かかる（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソオクチルがあげられる。これらのなかでも疎水性が高い（メタ）アクリル酸イソオクチルが好ましい。
前記アクリル系ポリマー中には、接着性や耐熱性の改善を目的に、１種類以上の共重合モノマーを共重合により導入することができる。そのような共重合モノマーの具体例としては、例えば、(メタ)アクリル酸２−ヒドロキシエチル、(メタ)アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、(メタ)アクリル酸４−ヒドロキシブチル、(メタ)アクリル酸６−ヒドロキシヘキシル、(メタ)アクリル酸８−ヒドロキシオクチル、(メタ)アクリル酸１０−ヒドロキシデシル、(メタ)アクリル酸１２−ヒドロキシラウリルや（４−ヒドロキシメチルシクロヘキシル)−メチルアクリレートなどのヒドロキシル基含有モノマー；(メタ)アクリル酸、カルボキシエチル(メタ)アクリレート、カルボキシペンチル(メタ)アクリレート、イタコン酸、マレイン酸、フマール酸、クロトン酸などのカルボキシル基含有モノマー；無水マレイン酸、無水イタコン酸などの酸無水物基含有モノマー；アクリル酸のカプロラクトン付加物；スチレンスルホン酸やアリルスルホン酸、２−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、（メタ）アクリルアミドプロパンスルホン酸、スルホプロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルオキシナフタレンスルホン酸などのスルホン酸基含有モノマー；２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェートなどの燐酸基含有モノマーなどがあげられる。
また、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブチル（メタ）アクリルアミドやＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロールプロパン（メタ）アクリルアミドなどの（Ｎ−置換）アミド系モノマー；（メタ）アクリル酸アミノエチル、（メタ）アクリル酸Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸tert−ブチルアミノエチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルアミノアルキル系モノマー；（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸エトキシエチルなどの（メタ）アクリル酸アルコキシアルキル系モノマー；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシメチレンスクシンイミドやＮ−（メタ）アクリロイル−６−オキシヘキサメチレンスクシンイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイル−８−オキシオクタメチレンスクシンイミド、Ｎ−アクリロイルモルホリンなどのスクシンイミド系モノマー；Ｎ−シクロヘキシルマレイミドやＮ−イソプロピルマレイミド、Ｎ−ラウリルマレイミドやＮ−フェニルマレイミドなどのマレイミド系モノマー；Ｎ−メチルイタコンイミド、Ｎ−エチルイタコンイミド、Ｎ−ブチルイタコンイミド、Ｎ−オクチルイタコンイミド、Ｎ−２−エチルヘキシルイタコンイミド、Ｎ−シクロヘキシルイタコンイミド、Ｎ−ラウリルイタコンイミドなどのイタコンイミド系モノマー、なども改質目的のモノマー例としてあげられる。
さらに改質モノマーとして、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、Ｎ−ビニルピロリドン、メチルビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルピペリドン、ビニルピリミジン、ビニルピペラジン、ビニルピラジン、ビニルピロール、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾール、ビニルモルホリン、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド類、スチレン、α−メチルスチレン、Ｎ−ビニルカプロラクタムなどのビニル系モノマー；アクリロニトリル、メタクリロニトリルなどのシアノアクリレート系モノマー；（メタ）アクリル酸グリシジルなどのエポキシ基含有アクリル系モノマー；（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール、（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシエチレングリコール、（メタ）アクリル酸メトキシポリプロピレングリコールなどのグリコール系アクリルエステルモノマー；（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、フッ素（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートや２−メトキシエチルアクリレートなどのアクリル酸エステル系モノマーなども使用することができる。
アクリル系ポリマー中の前記共重合モノマーの割合は、特に制限されないが、全構成モノマーの重量比率において、０〜３０％程度、さらには０．１〜１５％程度であるのが好ましい。
これら共重合モノマーの中でも、光学フィルム用途として液晶セルへの接着性、耐久性の点から、ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー、酸無水物基含有モノマーが好ましく用いられる。これらモノマーは、架橋剤との反応点になる。ヒドロキシル基含有モノマー、カルボキシル基含有モノマー、酸無水物モノマーなどは分子間架橋剤との反応性に富むため、得られる粘着剤層の凝集性や耐熱性の向上のために好ましく用いられる。例えば、ヒドロキシル基含有モノマーとしては、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチルを用いるよりも、好ましくは（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、さらに好ましくは（メタ）アクリル酸６−ヒドロキシヘキシルのように、ヒドロキシアルキル基のアルキル基の大きいものを用いるのが好ましい。共重合モノマーとしてヒドロキシル基含有モノマーを用いる場合、その割合は全構成モノマーの重量比率において、０．０１〜５％、さらには０．０１〜３％であるのが好ましい。また、共重合モノマーとしてカルボキシル基含有モノマーを用いる場合、その割合は全構成モノマーの重量比率において、０．０１〜１０％、さらには０．０１〜７％であるのが好ましい。
アクリル系ポリマーの平均分子量は特に制限されないが、重量平均分子量は、１０万〜２５０万程度であるのが好ましい。前記アクリル系ポリマーの製造は、各種公知の手法により製造でき、例えば、バルク重合法、溶液重合法、懸濁重合法等のラジカル重合法を適宜選択できる。ラジカル重合開始剤としては、アゾ系、過酸化物系の各種公知のものを使用できる。反応温度は通常５０〜８０℃程度、反応時間は１〜８時間とされる。また、前記製造法の中でも溶液重合法が好ましく、アクリル系ポリマーの溶媒としては一般に酢酸エチル、トルエン等が用いられる。溶液濃度は通常２０〜８０重量％程度とされる。
また前記粘着剤は、架橋剤を含有する粘着剤組成物とするのが好ましい。粘着剤に配合できる多官能化合物としては、有機系架橋剤や多官能性金属キレートがあげられる。有機系架橋剤としては、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、イミン系架橋剤、過酸化物系架橋剤、などがあげられる。これら架橋剤は１種または２種以上を組み合わせて用いることができる。有機系架橋剤としてはイソシアネート系架橋剤が好ましい。また、イソシアネート系架橋剤は過酸化物系架橋剤と組み合わせて好適に用いられる。多官能性金属キレートは、多価金属が有機化合物と共有結合または配位結合しているものである。多価金属原子としては、Ａｌ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｖ、Ｚｎ、Ｉｎ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｍｎ、Ｙ、Ｃｅ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｍｏ、Ｌａ、Ｓｎ、Ｔｉ等があげられる。共有結合または配位結合する有機化合物中の原子としては酸素原子等があげられ、有機化合物としてはアルキルエステル、アルコール化合物、カルボン酸化合物、エーテル化合物、ケトン化合物等があげられる。
アクリル系ポリマー等のベースポリマーと架橋剤の配合割合は特に限定されないが、通常、ベースポリマー（固形分）１００重量部に対して、架橋剤（固形分）０．００１〜２０重量部程度が好ましく、さらには０．０１〜１５重量部程度が好ましい。前記架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、過酸化物系架橋剤が好ましい。過酸化物系架橋剤は、ベースポリマー（固形分）１００重量部に対して、０．０１〜３重量部程度が好ましく、０．０２〜２.５重量部程度が好ましく、さらには０．０５〜２.０重量部程度が好ましい。イソシアネート系架橋剤は、ベースポリマー（固形分）１００重量部に対して、０．００１〜２重量部程度が好ましく、さらには０．０１〜１．５重量部程度が好ましい。また、イソシアネート系架橋剤および過酸化物系架橋剤は、前記範囲で用いることができる他、これらを併用して好ましく用いることができる。
さらに粘着剤には、必要に応じて、シランカップリング剤、粘着付与剤、可塑剤、ガラス繊維、ガラスビーズ、酸化防止剤、紫外線吸収剤、透明微粒子等を、また本発明の目的を逸脱しない範囲で各種の添加剤を適宜に使用することもできる。
添加剤としては、シランカップリング剤が好適であり、ベースポリマー（固形分）１００重量部に対して、シランカップリング剤（固形分）０．００１〜１０重量部程度が好ましく、さらには０．００５〜５重量部程度を配合するのが好ましい。シランカップリング剤としては、従来から知られているものを特に制限なく使用できる。例えば、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、２−（３，４エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシランなどのエポキシ基含有シランカップリング剤、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−トリエトキシシリル−Ｎ−（１，３−ジメチルブチリデン）プロピルアミンなどのアミノ基含有シランカップリング剤、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシランなどの（メタ）アクリル基含有シランカップリング剤、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネート基含有シランカップリング剤を例示できる。
ゴム系粘着剤のベースポリマーとしては、たとえば、天然ゴム、イソプレン系ゴム、スチレン−ブタジエン系ゴム、再生ゴム、ポリイソブチレン系ゴム、さらにはスチレン−イソプレン−スチレン系ゴム、スチレン−ブタジエン−スチレン系ゴム等があげられる。シリコーン系粘着剤のベースポリマーとしては、たとえば、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン等があげられ、これらベースポリマーもカルボキシル基等の官能基が導入されたものを使用することができる。
また上記に挙げた以外でも、ＵＶ硬化型粘着剤など特定の官能基により硬化させるタイプの粘着剤および接着剤でも本発明おいては使用できる。
前記基材フィルム（支持体）は、光学異方性層の透明支持体を兼ねていてもよい。基材フィルムとして利用可能なポリマーフィルムの例については、前記光学異方性層の透明支持体の例と同様であり、好ましい範囲も同様である。
液晶セル：
本発明の３Ｄ用画像表示システムに用いられる３Ｄ用画像表示装置に利用される液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、又はＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、更に６０〜１２０゜にねじれ配向している。ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）及び（４）ＳＵＲＶＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。また、ＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）型、光配向型（Optical Alignment）、及びＰＳＡ（Polymer-Sustained Alignment）のいずれであってもよい。これらのモードの詳細については、特開２００６−２１５３２６号公報、及び特表２００８−５３８８１９号公報に詳細な記載がある。
ＩＰＳモードの液晶セルは、棒状液晶分子が基板に対して実質的に平行に配向しており、基板面に平行な電界が印加することで液晶分子が平面的に応答する。ＩＰＳモードは電界無印加状態で黒表示となり、上下一対の偏光板の吸収軸は直交している。光学補償シートを用いて、斜め方向での黒表示時の漏れ光を低減させ、視野角を改良する方法が、特開平１０−５４９８２号公報、特開平１１−２０２３２３号公報、特開平９−２９２５２２号公報、特開平１１−１３３４０８号公報、特開平１１−３０５２１７号公報、特開平１０−３０７２９１号公報などに開示されている。
３Ｄ画像表示システム用偏光板：
本発明の立体画像表示システムでは、特に３Ｄ映像とよばれる立体画像を視認者に認識させるため、偏光板を通して画像を認識する。偏光板の一態様は、偏光眼鏡である。前記位相差板によって右眼用及び左眼用の円偏光画像を形成する態様では、円偏光眼鏡が用いられ、直線偏光画像を形成する態様では、直線眼鏡が用いられる。光学異方性層の前記第１及び第２の位相差領域のいずれか一方から出射された右眼用画像光が右眼鏡を透過し、且つ左眼鏡で遮光され、前記第１及び第２位相差領域の他方から出射された左眼用画像光が左眼鏡を透過し、且つ右眼鏡で遮光されるように構成されていることが好ましい。
前記偏光眼鏡は、位相差機能層と直線偏光子を含むことで偏光眼鏡を形成している。なお、直線偏光子と同等の機能を有するその他の部材を用いてもよい。
偏光眼鏡を含め、本発明の３Ｄ用画像表示システムの具体的な構成について説明する。まず、位相差板は、映像表示パネルの交互に繰り返されている複数の第一ライン上と複数の第二ライン上（例えば、ラインが水平方向であれば水平方向の奇数ライン上と偶数ライン上であり、ラインが垂直方向であれば垂直方向の奇数ライン上と偶数ライン上でもよい）に偏光変換機能が異なる前記第１位相差領域と前記第２位相差領域が設けられている。円偏光を表示に利用する場合には、上述の前記第１位相差領域と前記第２位相差領域の位相差は、ともにλ／４であることが好ましく、前記第１位相差領域と前記第２位相差領域は遅相軸が直交していることがより好ましい。
円偏光を利用する場合、前記第１位相差領域と前記第２位相差領域の位相差値をともにλ／４とし、映像表示パネルの奇数ラインに右眼用画像を表示し、奇数ライン位相差領域の遅相軸が４５度方向であるならば、偏光眼鏡の右眼鏡と左眼鏡にともにλ／４板を配置することが好ましく、偏光眼鏡の右眼鏡のλ／４板の遅相軸は具体的には略４５度に固定すればよい。また、上記の状況であれば、同様に、映像表示パネルの偶数ラインに左眼用画像を表示し、偶数ライン位相差領域の遅相軸が１３５度方向であるならば、偏光眼鏡の左眼鏡の遅相軸は具体的には略１３５度に固定すればよい。
更に、一度前記パターニング位相差フィルムにおいて円偏光として画像光を出射し、偏光眼鏡により偏光状態を元に戻す観点からは、上記の例の場合の右眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平方向４５度に近いほど好ましい。また、左眼鏡の固定する遅相軸の角度は正確に水平１３５度（又は−４５度）に近いほど好ましい。
また、例えば前記映像表示パネルが液晶表示パネルである場合、液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向が通常、水平方向であり、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸が該フロント側偏光板の吸収軸方向に直交する方向であることが好ましく、前記偏光眼鏡の直線偏光子の吸収軸は鉛直方向であることがより好ましい。
また、前記液晶表示パネルのフロント側偏光板の吸収軸方向と、前記パターニング位相差フィルムの奇数ライン位相差領域と偶数ライン位相差領域の各遅相軸は、偏光変換の効率上、４５度をなすことが好ましい。
なお、このような偏光眼鏡と、パターニング位相差フィルム及び液晶表示装置の好ましい配置については、例えば特開２００４−１７０６９３号公報に開示がある。
偏光眼鏡の例としては、特開２００４−１７０６９３号公報に記載のものや、市販品として、Ｚａｌｍａｎ製、ＺＭ−Ｍ２２０Ｗの付属品を挙げることができる。
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
（実施例１）
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
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セルロースアシレート溶液Ａの組成
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置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
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添加剤溶液Ｂの組成
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下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
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Figure 0005875434
＜＜セルロースアセテート透明支持体の作製＞＞
セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３乃至５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（透明支持体Ａ）を作製した。透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。
＜＜アルカリ鹸化処理＞＞
セルロースアセテート透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。
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アルカリ溶液の組成（質量部）
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水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
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＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
上記作製した支持体の、鹸化処理を施した面に、下記の組成のラビング配向膜塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。次に、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスクをラビング配向膜上に配置し、室温空気下にて、ＵＶ−Ｃ領域における照度２．５ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を４秒間照射して、光酸発生剤を分解し酸性化合物を発生させることにより第１位相差領域用配向層を形成した。その後に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであった。
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配向膜形成用塗布液の組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｓ−２） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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Figure 0005875434
＜パターン化された光学異方性層Ａの作製＞
下記の光学異方性層用塗布液を、バーコーターを用いて塗布量４ｍｌ／ｍ2で塗布した。次いで、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層Ａを形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行にディスコティック液晶が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）は直交に垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
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光学異方性層用塗布液の組成
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ディスコティック液晶Ｅ−１ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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Figure 0005875434
形成されたパターン光学異方性層Ａの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−２の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−２がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−２から発生した酸ＨＢＦ4のアニオンＢＦ4 -が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ4 -は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ4とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
パターン化された光学異方性層Ａを、第１位相差領域又は第２位相差領域のいずれか一方の遅相軸が、直交位に組合された２枚の偏光板のいずれか一方の偏光軸と平行になるように、偏光板の間に入れ、さらに、位相差５３０ｎｍの鋭敏色板を、その遅相軸が偏光板の偏光軸と４５°の角度をなすように、光学異方性層の上においた。次に、光学異方性層を＋４５°回転させた状態を偏光顕微鏡（ＮＩＫＯＮ製 ＥＣＬＩＰＥ Ｅ６００Ｗ ＰＯＬ）で観察した。図９に示す観察結果から明らかなように、＋４５°回転させた場合、第１位相差領域の遅相軸と鋭敏色板の遅相軸が平行になっているため、位相差は５３０ｎｍよりも大きくなり、その色は青色（白黒図面では濃淡の濃い部分）に変化している。一方、第２位相差領域の遅相軸は鋭敏色板の遅相軸と直交しているため、位相差は５３０ｎｍよりも小さくなり、その色は白色（白黒図面では濃淡の淡い部分）に変化する。
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて前記方法に従って、配向膜界面のディスコティック液晶のチルト角、空気界面のディスコティック液晶のチルト角、遅相軸の方向、及びＲｅ、Ｒｔｈをそれぞれ測定した。結果を表１に示す。下記表中、垂直とは、チルト角７０°〜９０°を表す。
表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜表面フィルムＡの作製＞
＜＜反射防止膜の作製＞＞
［ハードコート層用塗布液Ａの調製］
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液Ａとした。
メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）５０質量部、を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
［中屈折率層用塗布液Ａの調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）５．１質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）１．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．０５質量部、メチルエチルケトン６６．６質量部、メチルイソブチルケトン７．７質量部及びシクロヘキサノン１９．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ａを調製した。
［中屈折率層用塗布液Ｂの調製］
ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）４．５質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）０．１４質量部、メチルエチルケトン６６．５質量部、メチルイソブチルケトン９．５質量部及びシクロヘキサノン１９．０質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して中屈折率層用塗布液Ｂを調製した。
屈折率１．３６、膜厚９０μｍとなるように、中屈折率用塗布液Ａと中屈折率用塗布液Ｂとを適量混合し、中屈折率塗布液を調製した。
［高屈折率層用塗布液の調製］
ＺｒＯ2微粒子含有ハードコート剤（デソライトＺ７４０４［屈折率１．７２、固形分濃度：６０質量％、酸化ジルコニウム微粒子含量：７０質量％（対固形分）、酸化ジルコニウム微粒子の平均粒子径：約２０ｎｍ、光重合開始剤含有、溶剤組成：メチルイソブチルケトン／メチルエチルケトン＝９／１、ＪＳＲ（株）製］）１４．４質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）０．７５質量部、メチルエチルケトン６２．０質量部、メチルイソブチルケトン３．４質量部、シクロヘキサノン１．１質量部を添加して攪拌した。充分に攪拌の後、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過して高屈折率層用塗布液Ｃを調製した。
［低屈折率層用塗布液の調製］
（パーフルオロオレフィン共重合体（１）の合成）
Figure 0005875434
 上記構造式中、５０：５０はモル比を表す。
内容量１００ｍｌのステンレス製撹拌機付オートクレーブに酢酸エチル４０ｍｌ、ヒドロキシエチルビニルエーテル１４．７ｇ及び過酸化ジラウロイル０．５５ｇを仕込み、系内を脱気して窒素ガスで置換した。更にヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）２５ｇをオートクレーブ中に導入して６５℃まで昇温した。オートクレーブ内の温度が６５℃に達した時点の圧力は、０．５３ＭＰａ（５．４ｋｇ／ｃｍ2）であった。該温度を保持し８時間反応を続け、圧力が０．３１ＭＰａ（３．２ｋｇ／ｃｍ2）に達した時点で加熱をやめ放冷した。室温まで内温が下がった時点で未反応のモノマーを追い出し、オートクレーブを開放して反応液を取り出した。得られた反応液を大過剰のヘキサンに投入し、デカンテーションにより溶剤を除去することにより沈殿したポリマーを取り出した。更にこのポリマーを少量の酢酸エチルに溶解してヘキサンから２回再沈殿を行うことによって残存モノマーを完全に除去した。乾燥後ポリマー２８ｇを得た。次に該ポリマーの２０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド１００ｍｌに溶解、氷冷下アクリル酸クロライド１１．４ｇを滴下した後、室温で１０時間攪拌した。反応液に酢酸エチルを加え水洗、有機層を抽出後濃縮し、得られたポリマーをヘキサンで再沈殿させることによりパーフルオロオレフィン共重合体（１）を１９ｇ得た。得られたポリマーの屈折率は１．４２２、質量平均分子量は５００００であった。
［中空シリカ粒子分散液Ａの調製］
中空シリカ粒子微粒子ゾル（イソプロピルアルコールシリカゾル、触媒化成工業（株）製ＣＳ６０−ＩＰＡ、平均粒子径６０ｎｍ、シエル厚み１０ｎｍ、シリカ濃度２０質量％、シリカ粒子の屈折率１．３１）５００質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン３０質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５１質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量部を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加し、分散液を得た。その後、シリカの含率がほぼ一定になるようにシクロヘキサノンを添加しながら、圧力３０Ｔｏｒｒで減圧蒸留による溶媒置換を行い、最後に濃度調整により固形分濃度１８．２質量％の分散液Ａを得た。得られた分散液ＡのＩＰＡ残存量をガスクロマトグラフィーで分析したところ０．５質量％以下であった。
［低屈折率層用塗布液Ａの調製］
各成分を下記のように混合し、メチルエチルケトンに溶解して固形分濃度５質量％の低屈折率層用塗布液Ａを作製した。下記各成分の質量％は、塗布液の全固形分に対する、各成分の固形分の比率である。
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・Ｐ−１：パーフルオロオレフィン共重合体（１） １５質量％
・ＤＰＨＡ：ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（日本化薬（株）製） ７質量％
・ＭＦ１：国際公開第２００３／０２２９０６号パンフレットの実施例記載の下記含フッ素不飽和化合物（重量平均分子量１６００） ５質量％
・Ｍ−１：日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ ２０質量％
・分散液Ａ：前記中空シリカ粒子分散液Ａ（アクリロイルオキシプロピルトリメ
トキシシランで表面修飾した中空シリカ粒子ゾル、固形分濃度１８．２％） ５０質量％
・Ｉｒｇ１２７：光重合開始剤イルガキュア１２７（チバ・スペシャルティ
・ケミカルズ（株）製） ３質量％
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Figure 0005875434
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を表面フィルム用支持体Ａとして使用し、表面フィルム用支持体Ａ上に、前記組成のハードコート層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布した。なお、ＴＤ８０ＵＬは、紫外線吸収剤を含んでいる。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ａを形成した。
更に中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液Ａをグラビアコーターを用いて塗布した。中屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
高屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度３００ｍＷ／ｃｍ2、照射量２４０ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。
低屈折率層の乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。このようにして、表面フィルムＡを作製した。
＜光学フィルムＡの作製＞
上記作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ａの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡを作製した。
＜偏光板Ａの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ａ用保護フィルムＡとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと、同様のアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＶＡ用位相差フィルムが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ａを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が垂直になるようにした。
＜光学フィルムＡ付偏光板Ａの作製＞
上記作製した光学フィルムＡの透明支持体Ａ面と偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＡ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ａの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した
光学フィルムＡ付偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ａ）の構成の立体表示装置Ａを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは、図３と同様である。
（実施例２）
＜透明支持体Ｂ＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製）を用意し、透明支持体Ｂとして使用した。また、ＴＤ８０ＵＬの膜厚は８０μｍ、面内レターデーションＲｅ（５５０）は２ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は４０ｎｍであった。
＜パターン化された光学異方性層Ｂの作製＞
透明支持体Ａを上記透明支持体Ｂに変更し、ラビング配向膜塗布液を下記組成に変更した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｂの作製を行った。なお、配向膜の膜厚は、０．５μｍであり、光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
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配向層用組成
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配向膜用ポリマー材料 ３．９質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
光酸発生剤（Ｉ−３３） ０．１質量部
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
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Figure 0005875434
形成されたパターン光学異方性層Ｂの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭ
Ｓ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｉ−３３の存在比が１０対９０であり、第１位相差領域ではＩ−３３がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、配向膜界面配向剤（II−１）のカチオン及び光酸発生剤Ｉ−３３から発生した酸ＨＢＦ4のアニオンＢＦ4 -が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、II−１のカチオン及びＢｒ-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ4 -は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ4とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
（光学異方性層Ｂの評価）
作製した光学異方性層Ｂを透明支持体Ｂから剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜のラビング方向との関係を示す。表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜光学フィルムＢの作製＞
パターン化された光学異方性層ＢのＴＤ８０ＵＬの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＢを作製した。
＜光学フィルムＢ付偏光板Ｂの作製＞
上記作製した光学フィルムＢのパターン化された光学異方性層Ｂ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＢ付偏光板Ｂを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｂの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した
光学フィルムＢ付偏光板ＢのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｂ）の構成の立体表示装置Ｂを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例３）
＜透明支持体Ｃの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
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セルロースアセテート溶液の組成
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酢化度６０．７〜６１．１％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３３６質量部
メタノール（第２溶媒） ２９質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記のレターデーション上昇剤（Ａ）１６質量部、メチレンクロライド９２質量部及びメタノール８質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション上昇剤溶液を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部にレターデーション上昇剤溶液２５質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。レターデーション上昇剤の添加量は、セルロースアセテート１００質量部に対して、６．０質量部であった。
Figure 0005875434
得られたドープを、バンド延伸機を用いて流延した。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、７０℃の温風で１分乾燥し、バンドからフィルムを１４０℃の乾燥風で１０分乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％の透明支持体Ｃを作製した。
得られた透明支持体Ｃの厚さは８０μｍであった。また、面内レターデーション（Ｒｅ）は８ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は７８ｎｍであった。
＜パターン化された光学異方性層Ｃの作製＞
透明支持体Ａを上記透明支持体Ｃに変更し、光学異方性層塗布液を下記組成に変更した以外は実施例１と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｃの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
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光学異方性層塗布液の組成
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ディスコティック液晶Ｅ−２ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） ３．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−２） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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Figure 0005875434
形成されたパターン化された光学異方性層Ｃの第１位相差領域及び第２位相差領域をそれぞれＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法、ＩＯＮ−ＴＯＦ社製ＴＯＦ−ＳＩＭＳ Ｖ）により分析したところ、第１位相差領域と第２位相差領域では、対応する配向層中における光酸発生剤Ｓ−１の存在比が８対９２であり、第１位相差領域ではＳ−１がほとんど分解していることがわかった。また、光学異方性層においては、第１位相差領域の空気界面に、II−１のカチオン及び光酸発生剤Ｓ−１から発生した酸ＨＢＦ4のアニオンＢＦ4 -が存在していることが確認された。第２位相差領域の空気界面には、これらのイオンはほとんど観測されず、配向膜界面配向剤（II−１）のカチオン及びＢｒ-が配向膜界面近傍に存在していることがわかった。空気界面におけるそれぞれのイオンの存在比は、II−１のカチオンは９３対７、ＢＦ4 -は９０対１０であった。このことから、第２位相差領域中、配向膜界面配向剤(II−１)は配向膜界面に偏在しているが、第１位相差領域では偏在性が減少し、空気界面にも拡散していること、及び第１位相差領域においては、発生した酸ＨＢＦ4とII−１がアニオン交換することによってII−１カチオンの拡散が促進されていることが理解できる。
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体から剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜のラビング方向との関係を示す。表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、光酸発生剤を含有したＰＶＡ系ラビング配向膜にマスク露光した後、一方向にラビング処理した該配向膜上で配向させることによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜偏光板Ｃの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）及び透明支持体Ｃを、偏光膜の間に挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムと透明支持体Ｃが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｃを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が垂直になるようにした。パターン化された光学異方性層Ｃの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜表面フィルムＡ付偏光板Ｃの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面と上記偏光板Ｃのパターン化された光学異方性層Ｃ面を接着剤で貼り合せ、表面フィルムＡ付偏光板Ｃを作製した。
＜立体表示装置Ｃの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した表面フィルムＡ付偏光板ＣのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｃ）の構成の立体表示装置Ｃを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例４）
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
実施例１で作製した透明支持体Ｂの、鹸化処理を施した面に、クラレ社製ポリビニルアルコール「ＰＶＡ１０３」の４％水溶液を、１２番バーで塗布を行い、８０℃で５分間乾燥させた。その後に、４００ｒｐｍで一方向に１往復ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。
＜パターン化された光学異方性層Ｄの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、光学異方性層用塗布液として用いる。該塗布液を塗布、膜面温度８０℃で１分間乾燥して液晶相状態とし均一配向させた後、室温まで冷却した。次に、ストライプマスクのストライプが上記ラビング方向に対して平行になるように保持して、透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスクを光学異方性層用塗布液を塗布した上に配置し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を５秒間照射して、その配向状態を固定化することにより第１位相差領域を形成した。続いて、膜面温度１４０℃まで昇温し、一旦等方相にした後、１００℃まで降温し、その温度で１分間加熱して均一配向させた。室温まで冷却した後、２０ｍＷ／ｃｍ2で２０秒間全面照射して、その配向状態を固定化することにより第２位相差領域を形成した。第１位相差領域と第２位相差領域の遅相軸は直交しており、膜厚は、０．９μｍであった。
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光学異方性層用組成物
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ディスコティック液晶Ｅ−２ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−２） ０．４質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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Figure 0005875434
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ｂから剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜のラビング方向の方向との関係を示す。表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜上で配向させ、加熱温度を変化させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜光学フィルムＤの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｄの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＤを作製した。
＜偏光板Ｄの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ｄ用保護フィルムＤとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬの鹸化した面と同様にアルカリ鹸化処理したＷＶ−ＥＡ（富士フイルム社製）の支持体面とを、偏光膜の間に挟んで貼り合せ、偏光板Ｄを作製した。
＜光学フィルムＤ付偏光板Ｄの作製＞
上記作製した光学フィルムＤのパターン化された光学異方性層Ｄ面と偏光板ＤのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＤ付偏光板Ｄを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｄの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｄの作製＞
円偏光眼鏡方式の３Ｄモニター（ＺＡＬＭＡＮ製、ＴＮモード）に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板を貼合し、図６（ｂ）の構成の立体表示装置Ｄを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図２と同様であった。
（実施例５）
＜パターン化された光学異方性層Ｅの作製＞
光学異方性層塗布液を下記組成に変更した以外、実施例４と同様の操作にてパターン化された光学異方性層Ｅを作製した。光学異方性層の膜厚は、１．６μｍであった。
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光学異方性層用組成
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ディスコティック液晶Ｅ−３ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．３質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９．９質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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Figure 0005875434
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ｂから剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜のラビング方向との関係を示す。表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜上で配向させ、加熱温度を変化させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜光学フィルムＥの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｅの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＥを作製した。
＜光学フィルムＥ付偏光板Ｅの作製＞
上記作製した光学フィルムＥのパターン化された光学異方性層Ｅ面と実施例４で作製した偏光板ＤのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＥ付偏光板Ｅを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｅの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｅの作製＞
円偏光眼鏡方式の３Ｄモニター（ＺＡＬＭＡＮ製、ＴＮモード）に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板Ｅを貼合し、図６（ｂ）の構成の立体表示装置Ｅを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図２と同様であった。
（実施例６）
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
（１）平行配向膜（第一の配向膜）の作製
実施例２で作製した透明支持体Ｂの、鹸化処理を施した面に、クラレ社製ポリビニルアルコール「ＰＶＡ１０３」の４％水／メタノール溶液（ＰＶＡ１０３（４．０ｇ）を水７２ｇ及びメタノール２４ｇに溶解させた、粘度４．３５ｃｐ、表面張力４４．８ｄｙｎｅ）を、１２番バーで塗布を行い、８０℃で５分間乾燥させた。
（２）パターニング直交配向膜（第二の配向膜）の作製
和光純薬製ポリアクリル酸（Ｍｗ２５０００）２．０ｇをトリエチルアミン２．５２ｇ／水１．１２ｇ／プロパノール５．０９ｇ／３−メトキシ−１−ブタノール５．０９ｇに溶解させ、塗布液を調製した。
次に、フレキソ版として、図７に示す形状の凹凸を有する合成ゴム状フレキソ版を作製した。
図８に記載のフレキソ印刷装置として、フレキシプルーフ１００（ＲＫ Ｐｒｉｎｔ Ｃｏａｔ Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ Ｌｔｄ． ＵＫ）を使用した。アニロックスローラはセル４００線／ｃｍ（容積３ｃｍ3／ｍ2）を使用した。上記フレキソ版をフレキシプルーフ１００の圧胴に感圧テープをつけて貼り合わせた。印圧ローラに前記平行配向膜を貼り付けた後、前記パターニング直交配向膜用塗布液をドクターブレードに入れ、印刷速度３０ｍ／ｍｉｎで直交配向膜を平行配向膜の上にパターン印刷した。
（３）ラビング配向層の作製
８０℃で５分間乾燥させた後に、パターンのストライプラインに対して平行方向に、１０００ｒｐｍで１往復ラビング処理を行い、ラビング配向層を作製した。
＜パターン化された光学異方性層Ｆの作製＞
実施例４で作製した光学異方性用塗布液を塗布、膜面温度１１０℃で１分間乾燥して液晶相状態とした後、８０℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｆの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、０．９μｍであった。
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ｂから剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜のラビング方向との関係を示す。表１に示す結果から、ディスコティック液晶を、ピリジニウム塩化合物、及びフルオロ脂肪族基含有共重合体の存在下で、一方向にラビング処理したＰＶＡ系ラビング配向膜（第一の配向膜）／ポリアクリル酸系ラビング配向膜（第二の配向膜）上で配向させて露光することによって、垂直配向であるとともに、遅相軸が直交した第１位相差領域と第２位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜光学フィルムＦの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｆの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＦを作製した。
＜光学フィルムＦ付偏光板Ｆの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）を偏光板Ｆ用保護フィルムＦとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜をえた。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬを、鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の片面に貼り合せ、さらにもう片面には、光学フィルムＦのパターン化された光学異方性層Ｆ面を接着剤を介して貼り合せた。このようにして、ＴＤ８０ＵＬと光学フィルムＦが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｆを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｆの作製＞
円偏光眼鏡方式の３Ｄモニター（ＺＡＬＭＡＮ製、ＴＮモード）に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板を貼合し、図６（ｄ）の構成の立体表示装置Ｆを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図２と同様であった。
（実施例７）
＜ラビング配向膜付透明支持体の作製＞
Ｒｅ（５５０）が１３８ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）が６９ｎｍの帝人化成社製ピュアエースフィルムの表面に、クラレ社製ポリビニルアルコール「ＰＶＡ１０３」の４％水溶液を、１２番バーで塗布を行い、８０℃で５分間乾燥させた。その後に、ピュアエースの遅相軸と平行方向に４００ｒｐｍで１往復、ラビング処理を行い、ラビング配向膜付透明支持体を作製した。配向膜の厚みは０．５μｍであった。
＜パターン化された光学異方性層Ｇの作製＞
下記組成の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、１／２波長用塗布液として用いた。該塗布液を塗布、膜面温度８０℃で１分間乾燥して液晶相状態とし均一配向させた後、室温まで冷却した。次に、横ストライプ幅２８５μｍのマスクを１／２波長層用塗布液を塗布した基板上に配置し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫
外線を５秒間照射して、その配向状態を固定化することにより第１位相差領域を形成した。続いて、膜面温度１４０℃まで昇温し、一旦等方相にした後、２０ｍＷ／ｃｍ2で２０秒間全面照射して、その配向状態を固定化することにより第２位相差領域を形成した。この様にしてパターニング１／２波長層を作製した。膜厚は、３．２μｍであり、チルト角は、ほぼ９０°であることを確認した。別途ガラス基板上に同様の光学異方性層を形成し、測定波長５５０ｎｍにおけるＲｅを測定したところ、第１位相差領域のＲｅは２７５ｎｍであり、遅相軸はピュアエースの遅相軸と平行であり、第２位相差領域のＲｅは０ｎｍであった。パターン化された光学異方性層Ｇの第１位相差領域のＲｅと透明支持体のＲｅとの合計値は４１３ｎｍ、第２位相差領域のＲｅと透明支持体のＲｅとの合計値は１３８ｎｍであり、第１位相差領域と第２位相差領域の遅相軸は平行であった。
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光学異方性層形成用組成物
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ディスコティック液晶Ｅ−４ １００質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ−１） １．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ−１） ０．３質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ９．９質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
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Figure 0005875434
＜光学フィルムＧの作製＞
表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ｇの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＧを作製した。
＜偏光板Ｇの作製＞
ＷＶ‐ＥＡ（富士フイルム社製）の支持体面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。前記のアルカリ鹸化処理したＷＶ‐ＥＡの鹸化した支持体面が偏光膜側となるようしてポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として偏光膜の片面に貼り合せ、さらにもう片面には、光学フィルムＧの支持体面を接着剤を介して貼り合せた。このようにして、ＷＶ‐ＥＡと光学フィルムＧが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｇを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｇの作製＞
円偏光眼鏡方式の３ＤモニターＷ２２０Ｓ（Ｈｙｕｎｄａｉ製）に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板を貼合し、図６（ｃ）の構成の立体表示装置Ｇを作製した。
（実施例８）
＜パターン化された光学異方性層Jの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｇの作製において、パターンに対する光学異方性層の遅相軸の方向が４５度となるようにラビング角度を調整し、さらに、支持体フィルム（帝人製のピュアエース）との貼合角度がパターン化された光学異方性層Ｇの場合から４５度変更した以外は、パターン化された光学異方性層Ｇの作製と同様の方法で、パターン化された光学異方性層Jを作製した。
＜光学フィルムJの作製＞
表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Jの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムJを作製した。
＜偏光板Ｊの作製＞
偏光板Ｇの作製において、光学フィルムＧの代わりに光学フィルムＪを使用し、さらにＷＶ‐ＥＡ（富士フイルム社製）の代わりにＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）を使用した以外は、偏光板Ｇの作製と同様にして、偏光板Ｊを作製した。
＜立体表示装置Ｊの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した偏光板JのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｃ）の構成の立体表示装置Jを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例９）
＜ハードコート層用塗布液Ｂの調製＞
下記組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌してハードコート層塗布液Ｂとした。メチルエチルケトン９００質量部に対して、シクロヘキサノン１００質量部、部分カプロラクトン変性の多官能アクリレート（ＤＰＣＡ−２０、日本化薬（株）製）７５０質量部、シリカゾル（ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製）２００質量部、光重合開始剤（イルガキュア８１９、チバ・ジャパン（株）製）５０質量部、下記のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＴＩＮＵＶＩＮ ３８４−２、チバ・ジャパン（株）製）１００質量部を添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルタで濾過してハードコート層用の塗布液Ｂを調製した。
Figure 0005875434
＜低屈折率層用塗布液Ｂの調製＞
各成分を下記のように混合し、ＭＥＫに溶解して固形分５質量％の低屈折率層塗布液を作製した。
低屈折率層塗布液Ｂの組成
下記のパーフルオロオレフィン共重合体 １５質量部
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物、日本化薬（株）製） ７質量部
ディフェンサＭＣＦ−３２３（フッ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業（株）製）
５質量部
下記の含フッ素重合性化合物 ２０質量部
中空シリカ粒子分散液Ａ（固形分濃度１８．２質量％） ５０質量部
イルガキュア１２７（光重合開始剤、チバ・ジャパン（株）製） ３質量部
Figure 0005875434
Figure 0005875434
＜ハードコート層の形成＞
上記実施例２で作製した光学異方性層Ｂの光学異方性層面の上に、上記ハードコート層用塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ１２μｍのハードコート層Ｂを形成した。
＜低屈折率層の形成＞
ハードコート層Ｂの上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布した。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３６、膜厚は９０ｎｍであった。
以上のようにして、光学異方性層Ｂの上にハードコート層Ｂ及び低屈折率層を積層した光学フィルムＫを作製した。
＜光学フィルムＫ付偏光板Ｋの作製＞
上記作製した光学フィルムＫの透明支持体Ｂと実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＫ付偏光板Ｋを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｋの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＫ付偏光板ＫのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｅ）の構成の立体表示装置Ｋを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例１０）
＜表面フィルムの作製＞
（ゾル液ａの調製）
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
（防眩層用塗布液Ｅの調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（ＰＥＴ−３０、日本化薬（株）製）３１ｇをメチルイソブチルケトン３８ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を１．５ｇ添加し、混合攪拌した。続いてフッ素系表面改質剤（ＦＰ−１４９）０．０４ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を６．２ｇを加えた。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５２０であった。最後に、この溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分間分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子（共重合組成比＝５０／５０、屈折率１．５４０）の３０％シクロヘキサノン分散液を３９．０ｇ加え、完成液とした。前記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して防眩層用塗布液Ｅを調製した。
Figure 0005875434
（低屈折率層用塗布液Ａの調製）
ポリシロキサンおよび水酸基を含有する屈折率１．４４の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＴＡ１１３、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、コロイダルシリカ分散液ＭＥＫ−ＳＴ−Ｌ（商品名、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、前記ゾル液ａ０．６ｇ、およびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層塗布液Ａを調製した。この塗布液により形成される層の屈折率は、１．４５であった。
（１）防眩層の塗設
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士フイルム（株）製、Ｒｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）をロール形態で巻き出して、特開２００７−４１４９５号公報の［０１７２］に記載の装置構成および塗布条件で示されるダイコート法によって防眩層用塗布液Ｅを塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する防眩層を形成した。
（２）低屈折率層の塗設
上記防眩層用塗布液Ｅを塗布して防眩層を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、前記低屈折率層用塗布液Ａを特開２００７−４１４９５号公報の［０１７２］に記載の基本条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージにより酸素濃度０．１体積％の雰囲気下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、表面フイルムを得た。
上記実施例１で作製した光学異方性層の表面（パターン光学異方性層が形成されている側の面）と、上記で作製した表面フィルムの裏面（防眩層及び低屈折率層が形成されていない側の面）とを、光学的に等方性の粘着剤（綜研化学株式会社製SK-2057）により貼合した。以上のようにして、光学異方性層Ａの上に粘着剤、支持体、防眩層及び低屈折率層を積層した光学フィルムＬを作製した。
＜偏光板Ｌの作製＞
厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。実施例１と同様の方法にてアルカリ鹸化処理したＶＡ用位相差フィルム（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝５０／１２５）及び光学フィルムＬの透明支持体Ａ面を、偏光膜の間に挟んで接着剤で貼り合せ、ＶＡ用位相差フィルムと光学フィルムＬの透明支持体Ａが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｌを作製した。このとき位相差フィルムの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｌの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した偏光板ＬのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｃ）の構成の立体表示装置Ｌを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例１１）
＜防眩層付光学異方性層の形成＞
上記実施例１０の防眩層用塗布液Ｅを、上記実施例２で作製した光学異方性層Ｂの透明支持体Ｂの上に、グラビアコーターを用いて塗布し、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照射量９０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの防眩性を有する光学異方性層を作製した。
＜低屈折率層の形成＞
上記防眩層付光学異方性層の上に、上記の低屈折率層用塗布液Ｂをグラビアコーターを用いて塗布した。乾燥条件は９０℃、３０秒とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が０．１体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ2、照射量６００ｍＪ／ｃｍ2の照射量とした。低屈折率層の屈折率は１．３６、膜厚は９０ｎｍであった。
以上のようにして、光学異方性層Ｂの透明支持体上に防眩層及び低屈折率層を積層した光学フィルムＭを作製した。
＜光学フィルムＭ付偏光板Ｍの作製＞
上記作製した光学フィルムＭのパターン化された光学異方性層Ｂと実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＭ付偏光板Ｍを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｂの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｍの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＭ付偏光板ＭのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｂ）の構成の立体表示装置Ｍを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（実施例１２）
実施例１の透明支持体Ａの代わりにＺＥＯＮＯＲ−ＺＦ１４（日本ゼオン（株）製）を用いた以外は、実施例１と同様にして、光学フィルムＮを作製した。ＺＥＯＮＯＲ−ＺＦ１４の膜厚は１００μｍ、面内レターデーションＲｅ（５５０）は２ｎｍ、厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）は８ｎｍであった。
＜光学フィルムＮ付偏光板Ｎの作製＞
上記作製した光学フィルムＮの透明支持体と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＮ付偏光板Ｎを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ａの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｎの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＮ付偏光板ＮのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｅ）の構成の立体表示装置Ｎを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（比較例１）
＜光配向膜付透明支持体Ａの作製＞
国際公開２０１０／０９０４２９号パンフレットに記載の棒状液晶及び配向膜を使用して立体表示装置Ｈを作製した。
実施例１で作製した透明支持体Ａの鹸化処理を施した面に、下記構造の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図１０（ａ）に示すように、方向１にセットして、さらにマスクＡ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。その後、図１０（ｂ）に示すように、ワイヤーグリッド偏光子を方向２にセットして、さらにマスクＢ（透過部の横ストライプ幅２８５μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅２８５μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
Figure 0005875434
＜パターン化された光学異方性層Ｈの作製＞
下記の光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体Ａ上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｇの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。
────────────────────────────────────────
光学異方性層用組成
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棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
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Figure 0005875434
（光学異方性層の評価）
作製した光学異方性層を透明支持体Ａから剥離した後、実施例１と同様にして、光学異方性層の遅相軸の方向を決定した。表１に、光学異方性層の遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。表１に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、水平配向であるとともに、遅相軸が直交した第１の位相差領域と第２の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜光学フィルムＨの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｈの透明支持体Ａの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＨを作製した。
＜光学フィルムＨ付偏光板Ａの作製＞
上記作製した光学フィルムＨのパターン化された光学異方性層Ｈ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＨ付偏光板Ａを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｈの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｈの作製＞
ナナオ社製ＦｌｅｘＳｃａｎ Ｓ２２３１Ｗの視認側の偏光板をはがし、上記作製した光学フィルムＨ付偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。続いて、光源側の偏光板をはがし、偏光板ＡのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。このような手順で、図６（ｂ）の構成の立体表示装置Ｋを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（比較例２）
＜光配向膜付透明支持体Ｂの作製＞
透明支持体Ｂの、鹸化処理を施した面に、比較例１と同様の方法にて光配向膜付透明支持体Ｂを作製した。
＜パターン化された光学異方性層Ｉの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｈの作製において、マスク露光時に、パターン化された光学異方性層Ｈの作製の場合とは４５度だけ角度が異なるワイヤーグリッド偏光子を使用した以外は、パターン化された光学異方性層Ｈと同様の方法にて、透明支持体Ｂ上にパターン化された光学異方性層Ｉの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、１．３μｍであった。
＜光学フィルムＩの作製＞
実施例１で作製した表面フィルムＡのＴＤ８０ＵＬ面とパターン化された光学異方性層Ｉの光学異方性層面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＩを作製した。
＜偏光板Ｉの作製＞
ＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム社製 ５５０ｎｍにおけるＲｅ／Ｒｔｈ＝２／４０）とＷＶ‐ＥＡ（富士フイルム社製）を偏光板Ｉ用保護フィルムＩとして使用し、この表面をアルカリ鹸化処理した。１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に５５℃で２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、前記のアルカリ鹸化処理したＴＤ８０ＵＬと支持体面に前記のアルカリ鹸化処理を施したＷＶ‐ＥＡとを、これらの鹸化した面が偏光膜側となるようして偏光膜の間に挟んで貼り合せ、ＴＤ８０ＵＬとＷＶ‐ＥＡが偏光膜の保護フィルムとなっている偏光板Ｉを作製した。
＜光学フィルムＩ付偏光板Ｉの作製＞
上記作製した光学フィルムＩの透明支持体Ｂ面と偏光板ＩのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＩ付偏光板Ｉを作製した。このときパターン化された光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｉの作製＞
円偏光眼鏡方式の３Ｄモニター（ＺＡＬＭＡＮ製、ＴＮモード）に使用されているパターン位相差板とフロント偏光板をはがし、上記で作製した偏光板Ｉを貼合し、図６（ａ）の構成の立体表示装置Ｉを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図２と同様であった。
（実施例１３）
＜一様な光学異方性層Ｏの形成＞
（アルカリ鹸化処理）
透明支持体Ｂを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムのバンド面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテートフィルムを作製した。
（アルカリ溶液組成）
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アルカリ溶液組成（質量部）
────────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
────────────────────────────────────
（配向膜の形成）
上記のように鹸化処理した長尺状のセルロースアセテートフィルムに、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、更に１００℃の温風で１２０秒乾燥した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー２９５９、チバ・ジャパン製） ０．３質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
Figure 0005875434
（ディスコティック液晶性化合物を含む光学異方性層の形成）
上記作製した配向膜に連続的にラビング処理を施した。このとき、長尺状のフィルムの長手方向と搬送方向は平行であり、フィルム長手方向に対して、ラビングローラーの回転軸は時計回りに４５°の方向とした。
下記の組成のディスコティック液晶化合物を含む光学異方性層塗布液Ｏを上記作製した配向膜上にワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度（Ｖ）は３６ｍ／ｍｉｎとした。塗布液の溶媒の乾燥及びディスコティック液晶化合物の配向熟成のために、１２０℃の温風で９０秒間加熱した。続いて、８０℃にてＵＶ照射を行い、液晶化合物の配向を固定化し厚さ１．６μｍの光学異方性層を形成し、一様な光学異方性層Ｏを得た。
光学異方性層塗布液（Ｏ）の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――
ディスコティック液晶化合物Ｅ−４ ９１質量部
下記アクリレートモノマー ５質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のピリジニウム塩 ０．５質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ１） ０．２質量部
下記のフッ素系ポリマー（ＦＰ３） ０．１質量部
メチルエチルケトン １８９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリレートモノマー：
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）
Figure 0005875434
作製した一様な光学異方性層Ｏの遅相軸の方向はラビングローラーの回転軸と直交していた。すなわち、支持体の長手方向に対して、遅相軸は反時計回りに４５°の方向であった。ディスコティック液晶性分子の円盤面のフィルム面に対する平均傾斜角は９０°であり、ディスコティック液晶がフィルム面に対して垂直に配向していることを確認した。
＜パターン化された光学異方性層Ｏの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｈと同様の棒状液晶及び配向膜を使用してパターン化された光学異方性層Ｏを作製した。
ガラス基板を用意して、パターン化された光学異方性層Ｈと同様の光配向材料Ｅ−１ １％水溶液を塗布し、１００℃で１分間乾燥した。得られた塗布膜に、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。
このとき、まず、図１０（ａ）に示す配置で、マスク（透過部の横ストライプ幅５３０μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅５３０μｍのストライプマスク）をセットして、非偏光露光を行った。その後、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を図１０（ｂ）に示すように、方向２にセットして、さらにマスク（透過部の横ストライプ幅５３０μｍ、遮蔽部の横ストライプ幅５３０μｍのストライプマスク）を通して、露光を行った。露光マスク面と光配向膜の間の距離を２００μｍに設定した。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
パターン化された光学異方性層Ｈと同様の下記光学異方性層用組成物を調製後、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過して、塗布液として用いた。光配向膜付透明支持体上に該塗布液を塗布、膜面温度１０５℃で２分間乾燥して液晶相状態とした後、７５℃まで冷却して、空気下にて１６０Ｗ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化して、パターン化された光学異方性層Ｏの作製を試みた。光学異方性層の膜厚は、２．３μｍであった。
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光学異方性層用組成
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棒状液晶（ＬＣ２４２、ＢＡＳＦ（株）製） １００質量部
水平配向剤Ａ ０．３質量部
光重合開始剤 ３．３質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．１質量部
メチルエチルケトン ３００質量部
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（光学異方性層の評価）
表１に、パターン化された光学異方性層Ｏの遅相軸と配向膜の露光方向の方向との関係を示す。表１に示す結果から、棒状液晶を光配向膜上で配向させて露光することによって、棒状液晶が水平配向した第２の位相差領域と、位相差のない第１の位相差領域を有するパターン化された光学異方性層が得られることが理解できる。
＜一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏの作製＞
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
ＳＨＡＲＰ製ＬＣ−４６ＸＦ３の視認側偏光板から剥離したＶＡ用位相差フィルムと、上記作製した一様な光学異方性層Ｏとで偏光膜を挟んで貼り合せ、一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏを作製した。このとき、一様な光学異方性層Ｏの光学異方性層面が偏光膜側になるように、接着剤を用いて偏光膜と貼合した。一様な光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｏの作製＞
ＳＨＡＲＰ製ＬＣ−４６ＸＦ３の視認側の偏光板をはがし、上記作製した一様な光学異方性層Ｏ付偏光板ＯのＶＡ用位相差フィルムとＬＣセルを接着剤を介して貼り合せた。さらに、光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏの一様な光学異方性層Ｏに、パターン化された光学異方性層Ｏをガラス基板が視認側となるように貼り合せ、立体表示装置Ｏを作製した。ここで、一様な光学異方性層Ｏの遅相軸とパターン化された光学異方性層Ｏの第２位相差領域の遅相軸とが直交するように貼合した。偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（比較例３）
＜パターン化された光学異方性層Ｐの形成＞
パターン化された光学異方性層Ｈの作製において、透明支持体Ａを透明支持体Ｂに変更した以外は同様の方法で、パターン化された光学異方性層Ｐを作製した。
＜光学フィルムＰの作製＞
パターン化された光学異方性層Ｐの透明支持体Ｂの表面に、実施例１と同様の方法にて反射防止膜を形成し、光学フィルムＰを作製した。
＜光学フィルムＰ付偏光板Ｐの作製＞
上記作製した光学フィルムＰのパターン化された光学異方性層Ｐ面と実施例１で作製した偏光板ＡのＴＤ８０ＵＬ面を接着剤で貼り合せ、光学フィルムＰ付偏光板Ｐを作製した。このときパターン化された光学異方性層Ｐの遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が±４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｐの作製＞
立体表示装置Ｈの作製において、光学フィルムＨ付偏光板Ａを光学フィルムＰ付偏光板Ｐに変更した以外は、立体表示装置Ｈの作製と同様の方法で立体表示装置Ｐを作製した。なお、偏光膜の吸収軸の向きは図３と同様であった。
（比較例４）
＜一様な光学異方性層Ｑの形成＞
市販のノルボルネン系ポリマーフィルム「ＺＥＯＮＯＲ ＺＦ１４」（（株）オプテス製）を、温度１５６℃にて、延伸倍率４３％で自由端一軸延伸を行いうことで、一様な光学異方性層Ｑを作製した。一様な光学異方性層ＰのＲｅ（５５０）は１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）は６６ｎｍであった。
＜一様な光学異方性層Ｑ付偏光板Ｑの作製＞
一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏの作製において、一様な光学異方性層Ｏを一様な光学異方性層Ｑに変更した以外は一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏの作製と同様の方法で、一様な光学異方性層Ｑ付偏光板Ｑを作製した。一様な光学異方性層の遅相軸と偏光膜の吸収軸のなす角度が４５度になるようにした。
＜立体表示装置Ｑの作製＞
立体表示装置Ｏの作製において、一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｏを一様な光学異方性層Ｏ付偏光板Ｑに変更した以外は立体表示装置Ｏの作製を同様の方法で立体表示装置Ｑを作製した。
表１に、実施例１〜１３及び比較例１〜４のパターン化された光学異方性層の物性値（実施例１３は、パターン光学異方性層が、ディスコティック液晶Ｅ−４の垂直配向の非パターン化光学異方性層と、棒状液晶ＬＣ２４２の水平配向のパターン化光学異方性層との積層体であり、棒状液晶ＬＣ２４２の水平配向のパターン化光学異方性層の物性値を示す）、表２に偏光膜よりも視認側に配置された部材のレターデーションをまとめた。
Figure 0005875434
Figure 0005875434
（評価）
＜立体表示装置の評価＞
作製した各立体表示装置について、ＶＡ型液晶表示装置についてはＧＤ-４６３Ｄ１０（ＪＶＣ製）に付属の３Ｄメガネを、ＴＮ型液晶表示装置についてはＷ２２０Ｓ（Ｈｙｕｎｄａｉ製）に付属の３Ｄメガネを用いて以下の評価を行った。評価は３Ｄメガネの左目側と右目側の両方で行い、平均値をもとに、以下の評価を行った。なお、基準形態については、ＶＡ型液晶表示装置の実施例１〜３、８〜１２では比較例３の立体表示装置Ｐとし、実施例１３では比較例４の立体表示装置Ｑとし、ＴＮ型液晶表示装置では比較例２の立体表示装置Ｉとした。結果を表３に示す。
（１）正面輝度比および正面平均輝度比の測定
上下方向に白と黒が交互に並んだストライプ画像を表示した液晶表示装置の正面に３Ｄメガネと測定器（ＢＭ−５Ａ トプコン製）を配置し、白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて白表示における正面輝度Ａを測定した。続いて、白と黒の位置を入れ替えたストライプ画像を表示し、同様に白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて正面輝度Ｂを測定し、正面輝度Ａと正面輝度Ｂの平均値を立体表示装置の正面輝度とした。
（1−ａ）正面輝度比
正面輝度比は３Ｄメガネと地面が平行の場合の正面輝度の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の正面輝度比（％）＝各立体表示装置の正面輝度／基準形態の正面輝度（1−ｂ）正面平均輝度比
正面平均輝度比は３Ｄメガネを回転させたときの正面輝度平均値の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の正面平均輝度比（％）
＝各立体表示装置の正面輝度平均値／基準形態の正面輝度平均値
（２）視野角輝度比および視野角平均輝度比の測定
上下方向に白と黒が交互に並んだストライプ画像を表示した液晶表示装置の対し、方位角０度の極角６０度に３Ｄメガネと測定器（ＢＭ−５Ａ トプコン製）を配置し、白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて白表示における視野角輝度Ｃを測定した。続いて、白と黒の位置を入れ替えたストライプ画像を表示し、同様に白のストライプが視認できる方のメガネを通した位置に測定器をおいて視野角輝度Ｄを測定した。さらに、液晶表示装置に対して方位角１８０度の極角６０度に３Ｄメガネと測定器を配置した場合についても同様の方法で視野角輝度Ｅ、視野角輝度Ｆを測定し、視野角輝度Ｃ〜Ｆの平均値を立体表示装置の視野角輝度とした。
（２−ａ）視野角輝度比
視野角輝度比は３Ｄメガネと地面が平行の場合の視野角輝度の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の視野角輝度比（％）
＝各立体表示装置の視野角輝度／基準形態の視野角輝度
（２−ｂ）視野角平均輝度比
視野角平均輝度比は３Ｄメガネを回転させたときの視野角輝度平均値の相対値であり、次の式で算出した。
各立体表示装置の視野角平均輝度比（％）
＝各立体表示装置の視野角輝度平均値／基準形態の視野角輝度平均値
（３）耐光性
耐光性試験装置（スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ１２０型（ロングライフキセノンランプ）、スガ試験機（株）製）を用い、放射照度１００±２５Ｗ／ｍ２（波長３１０ｎｍ〜４００ｎｍ）、試験槽内温度３５±５℃、ブラックパネル温度５０±５℃、相対湿度６５±１５％の条件で、ＪＩＳ Ｋ ５６００−７−５に準じて耐光性試験２５ｈｒを実施した前後に、偏光板の偏光度の変化を調べた。変化率が１０％以内である場合を○、それより大きい場合を×とした。
Figure 0005875434
上記表から、棒状液晶を使用した比較例１、比較例３及び比較例２（特に、比較例２）はＲｔｈの合計値が大きく視野角における輝度低下が実施例と比較して大きいことがわかる。また、上記表に記載した輝度比が大きいほど、左右方向のクロストークが低くなり、３Ｄ視認性に優れていた。
また、紫外線吸収剤を含有するＴＤ８０ＵＬなどが偏光膜より視認側に位置した立体表示装置である実施例１〜１３及び比較例２〜４は偏光膜の耐光性がよいが、比較例１では、透明支持体Ａが紫外線吸収剤を含有しないため耐光性が悪い。すなわち、棒状液晶は、Ｒｔｈが大きいため、表示性能と耐光性の両立が困難であることがわかる。
１０ 位相差板
１２ パターン光学異方性層
１２ａ 第１の位相差領域
１２ｂ 第２の位相差領域
ａ 面内遅相軸
ｂ 面内遅相軸
１４ 透明支持体
１６ 偏光膜
３１ フレキソ板
３２ 平行配向膜（または直交配向膜）
３３ パターン印刷用直交配向膜液（またはパターン印刷用平行配向膜液）
４０ フレキソ印刷装置
４１ 圧胴
４２ 印圧ローラ
４３ アニックスローラ
４４ ドクターブレード

Claims (11)

  1. 画像信号に基づいて駆動される表示パネルと、前記表示パネルの視認側に配置される光学フィルムとを少なくとも有する３Ｄ画像表示装置であって、
    前記光学フィルムは、重合性基を有するディスコティック液晶を主成分とする組成物から形成されている光学異方性層を少なくとも含み、
    前記光学異方性層が、面内遅相軸方向及び面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域及び第２位相差領域を含み、且つ前記第１及び第２位相差領域が、面内において交互に配置されているパターン光学異方性層であり、
    前記表示パネルが液晶セルを有し、
    前記３Ｄ画像表示装置は、前記液晶セルを挟んで視認側と光源側に一対の偏光膜をさらに有し、
    前記視認側偏光膜より視認側外側に配置されている前記光学異方性層を含む全ての部材の波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の合計値が、１１０〜１６０ｎｍであり、
    下記の（ｉ）又は（ｉｉ）の何れかを満たすことを特徴とする３Ｄ画像表示装置。
    （ｉ）前記視認側偏光膜より視認側外側に配置されている前記光学異方性層を含む全ての部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の合計値が、−１４０〜１４０ｎｍである；
    （ｉｉ）前記光学異方性層、及び該光学異方性層の前記視認側偏光膜が配置されている表面と反対の表面上に配置されている全ての部材の波長５５０ｎｍの厚み方向レターデーションＲｔｈ（５５０）の合計値が、−１０４〜１０４ｎｍである。
  2. 前記ディスコティック液晶が、垂直配向状態に固定されている請求項１に記載の３Ｄ画像表示装置。
  3. 前記第１及び第２位相差領域の面内遅相軸と、前記偏光膜の吸収軸とがそれぞれ±４５°の角度をなす請求項１又は２に記載の３Ｄ画像表示装置。
  4. 前記光学異方性層の表面上に、紫外線吸収剤を含有する透明支持体を有する請求項１〜３のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
  5. 前記光学フィルムがハードコート層をさらに有する請求項１〜４のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
  6. 前記ハードコート層が、紫外線吸収剤を含有する請求項５に記載の３Ｄ画像表示装置。
  7. 前記光学フィルムが反射防止層をさらに有する請求項１〜６のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
  8. 前記光学フィルムが防眩層をさらに有する請求項１〜７のいずれか１項に記載の３Ｄ画像表示装置。
  9. 前記（ｉ）を満たす光学フィルムを有し、前記液晶セルが、ＴＮモードである請求項１〜８のいずれか１項に記載の３Ｄ用画像表示装置。
  10. 前記（ｉｉ）を満たす光学フィルムを有し、前記液晶セルが、ＶＡモード又はＩＰＳモードである請求項１〜８のいずれか１項に記載の３Ｄ用画像表示装置。
  11. 請求項１〜１０のいずれか１項に記載の３Ｄ用画像表示装置と、該３Ｄ用画像表示装置の視認側に配置される偏光板とを少なくとも備え、該偏光板を通じて立体画像を視認させる３Ｄ画像表示システム。
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