WO2014188907A1 - 光学フィルムの製造方法 - Google Patents

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WO2014188907A1
WO2014188907A1 PCT/JP2014/062680 JP2014062680W WO2014188907A1 WO 2014188907 A1 WO2014188907 A1 WO 2014188907A1 JP 2014062680 W JP2014062680 W JP 2014062680W WO 2014188907 A1 WO2014188907 A1 WO 2014188907A1
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film
optical
anisotropic layer
temporary support
optically anisotropic
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智彦 山口
英章 香川
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富士フイルム株式会社
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    • G02B30/25—Optical systems or apparatus for producing three-dimensional [3D] effects, e.g. stereoscopic images by providing first and second parallax images to an observer's left and right eyes of the stereoscopic type using polarisation techniques

Definitions

  • the present invention relates to an optical film manufacturing method, and more particularly to an optical film manufacturing method including a patterned optical anisotropic layer and a hard coat layer having a predetermined thickness.
  • Optical films including polarizing films and optically anisotropic layers have numerous uses.
  • the optically anisotropic layer is a patterned optically anisotropic layer including a plurality of retardation regions in which at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different, an image for the right eye and an image for the left eye Is effectively used as an optical film for a 3D image display device for forming circularly polarized images in opposite directions.
  • positions a pattern optically anisotropic layer and a polarizing film on a transparent support body is disclosed, for example (refer patent document 1).
  • a cellulose acetate transparent support or the like is used as the transparent support.
  • the present inventors examined a transfer method as a method for forming a patterned optically anisotropic layer without using a transparent support. More specifically, a method of forming a patterned optical anisotropic layer on a temporary support and transferring it onto a polarizing film was examined. As a result of the above examination, it has been found that only a single patterned optically anisotropic layer has problems such as low mechanical strength, cracks, cracks, and uneven brightness of the patterned optically anisotropic layer.
  • the handle of the pattern optical anisotropic layer is inferior, so that the pattern in the pattern optical anisotropic layer is not disposed at a predetermined position. It was easy for misalignment to occur.
  • the present invention suppresses cracks, cracks, and luminance unevenness of a thin patterned optically anisotropic layer, and causes occurrence of misalignment of the pattern in the patterned optically anisotropic layer. It aims at providing the manufacturing method of the optical film suppressed.
  • an optical laminate including a patterned optical anisotropic layer and a hard coat layer having a predetermined thickness is formed on a temporary support, and transferred onto a polarizing film. It has been found that the above problems can be solved. That is, it has been found that the above object can be achieved by the following configuration.
  • a method for producing an optical film comprising a retardation region and a second retardation region, wherein the first retardation region and the second retardation region are alternately arranged in a plane,
  • a step of forming a patterned optically anisotropic layer using at least a composition A containing a liquid crystal compound having a polymerizable group, and a step of forming a hard coat layer using a composition B containing a polymerizable compound B is performed to form an optical laminate including a patterned optically anisotropic layer having a thickness of 0.5 to 3.0 ⁇ m and a hard coat layer having a thickness of 3.0 to 20 ⁇ m on the temporary support.
  • Step X of obtaining an optical laminate with a temporary support and a process Y for transferring the optical laminate on the temporary support onto the polarizing film.
  • Step X performs Step A and Step B in this order to obtain an optical laminate with a temporary support having a temporary support, a patterned optically anisotropic layer, and a hard coat layer in this order.
  • Step Y is a step of peeling the temporary support from the optical laminate with a temporary support, and a polarizing film is bonded to the surface of the patterned optical anisotropic layer of the optical laminate obtained in Step C, and the optical A method for producing an optical film according to (1), comprising a step D for obtaining a film.
  • step X implements the process B and the process A in this order, and obtains the optical support body with a temporary support which has a temporary support body, a hard-coat layer, and a pattern optically anisotropic layer in this order.
  • step Y the polarizing film is bonded to the surface of the patterned optically anisotropic layer in the optical laminate with a temporary support, and the temporary support is peeled off from the laminate obtained in step E.
  • the manufacturing method of the optical film as described in (1) provided with the process F which obtains a film.
  • (4) The method for producing an optical film according to any one of (1) to (3), wherein the thickness of the hard coat layer is 3.0 to 15 ⁇ m.
  • Step (1) in which Step A forms an alignment film for aligning a liquid crystalline compound having a polymerizable group; A step (2) of irradiating the alignment film with light in a pattern under a photomask; A step (3) of applying a composition A containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group on the alignment film to form a coating film; The in-plane slow axis of the liquid crystal compound on one region of the alignment film is aligned in the first direction, and the in-plane slow axis of the liquid crystal compound on the other region of the alignment film is the first direction.
  • an optical element in which cracks, cracks, and luminance unevenness of a thin patterned optical anisotropic layer are suppressed, and occurrence of pattern displacement in the patterned optical anisotropic layer is suppressed.
  • a method for producing a film can be provided.
  • Re ( ⁇ ) and Rth ( ⁇ ) represent in-plane retardation and retardation in the thickness direction at the wavelength ⁇ , respectively.
  • Re ( ⁇ ) is measured with KOBRA 21ADH or WR (manufactured by Oji Scientific Instruments Co., Ltd.) by making light having a wavelength of ⁇ nm incident in the normal direction of the film.
  • the wavelength selection filter can be exchanged manually, or the measurement value can be converted by a program or the like. Details of the method for measuring Re ( ⁇ ) and Rth ( ⁇ ) are described in paragraphs 0010 to 0012 of JP2013-041213A, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • a measurement wavelength is 550 nm.
  • the angle for example, an angle such as “90 °”
  • the relationship for example, “orthogonal”, “parallel”, “same direction”, “intersection at 45 °”, etc.
  • the allowable error means, for example, that the angle is within a range of strict angle ⁇ 10 ° or less, and the error from the strict angle is preferably 5 ° or less, More preferably, it is 3 ° or less.
  • a pattern optical anisotropic layer having a predetermined thickness and a hard coat layer having a predetermined thickness are provided.
  • the patterned optical anisotropic layer and the hard coat layer formed from the composition B containing a predetermined polymerizable compound are provided together to produce an optical laminate, whereby the patterned optical anisotropic layer is formed from the temporary support.
  • the mechanical strength of the patterned optically anisotropic layer when peeling the film is reinforced, and the occurrence of cracks, cracks, and luminance unevenness of the patterned optically anisotropic layer that occurs during peeling is suppressed.
  • the thickness of the hard coat layer it is important to set the thickness of the hard coat layer within a predetermined range. That is, when the thickness of the hard coat layer is too thin, the occurrence of cracks, cracks, and luminance unevenness in the patterned optically anisotropic layer cannot be suppressed. On the other hand, when the hard coat layer is too thick, the pattern optical anisotropic layer contracts due to the shrinkage of the hard coat layer that occurs during the polymerization of the polymerizable compound, resulting in a displacement of the pattern.
  • the manufacturing method of the optical film of this invention is equipped with the process X which obtains the optical laminated body with a temporary support body, and the process Y which transfers the optical laminated body on a temporary support body on a polarizing film at least.
  • process X which obtains the optical laminated body with a temporary support body
  • process Y which transfers the optical laminated body on a temporary support body on a polarizing film at least.
  • Step X is a step A in which a patterned optical anisotropic layer is formed using a composition A containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group, and a hard coat layer is formed using a composition B containing a polymerizable compound. It is a process which has the process B to do.
  • an optical laminate including a patterned optical anisotropic layer having a thickness of 0.5 to 3 ⁇ m or less and a hard coat layer having a thickness of 3 to 20 ⁇ m can be formed on the temporary support.
  • An optical laminate with a support can be obtained.
  • the process X includes the process A and the process B, and the order of performing the process A and the process B is not particularly limited, and is performed in any order. More specifically, when the steps A and B are carried out in this order, the composition A is applied on the temporary support to form a patterned optical anisotropic layer, and then the patterned optical anisotropic layer is formed.
  • the hard coat layer is formed by applying the composition B thereon, and as shown in FIG. 1A, the temporary support 10, the patterned optically anisotropic layer 12, and the hard coat layer 14 are provided in this order.
  • the optical laminated body 16a with a body is obtained.
  • the patterned optical anisotropic layer 12 and the hard coat layer 14 form an optical laminate 18.
  • the composition B is applied onto the temporary support to form a hard coat layer, and then the composition A is applied onto the hard coat layer to form a pattern.
  • An optically anisotropic layer is formed, and as shown in FIG. 1B, an optical laminated body 16b with a temporary support having a temporary support 10, a hard coat layer 14, and a patterned optically anisotropic layer 12 in this order. can get.
  • the temporary support body used at this process is explained in full detail first, and the process A and the process B are explained in full detail after that.
  • the temporary support is a base material that supports an optical laminate described later, and is in close contact with the optical laminate surface so as to be peelable. As will be described later, when the optical laminate is transferred onto the polarizing film, the temporary support and the optical laminate are separated. In addition, the surface of a temporary support body shows easy peelability. “Easily peelable” means that when an external force for peeling the optical laminate is applied to the optical laminate with a temporary support, it is not peeled off at the interface between the patterned optically anisotropic layer and the hard coat layer. It means the property of peeling at the interface between the support and the optical laminate.
  • the peel strength at the interface between the patterned optically anisotropic layer and the hard coat layer is greater than the peel strength at the interface between the temporary support and the optical laminate.
  • step A and step B described later the polymerizable group remaining on the surface of the patterned optically anisotropic layer reacts with the polymerizable group contained in the polymerizable compound, A strong bond occurs between the patterned optically anisotropic layer and the hard coat layer, and as a result, the peel strength at the interface between the two becomes high.
  • Step B and Step A are performed in this order.
  • Examples of the temporary support include a support whose surface is treated with a silicone-based release agent and other release agents, and a support which itself has peelability.
  • Examples of the material constituting the temporary support include, for example, cellulose polymers; acrylic polymers having an acrylate polymer such as polymethyl methacrylate and lactone ring-containing polymers; thermoplastic norbornene polymers; polycarbonate polymers; polyethylene terephthalate Polyester polymers such as polyethylene naphthalate; Styrene polymers such as polystyrene and acrylonitrile / styrene copolymers (AS resin); Polyolefin polymers such as polyethylene, polypropylene and ethylene / propylene copolymers; Vinyl chloride polymers; Nylon Amide polymers such as aromatic polyamides; imide polymers; sulfone polymers; polyether sulfone polymers; polyether ether ketone polymers; polyphenyle Include or polymer obtained by mixing these polymers;
  • thermoplastic norbornene polymers are preferred because of excellent peelability.
  • polyester polymers such as thermoplastic norbornene polymer, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate are more preferable.
  • the thickness of the temporary support is not particularly limited, but is preferably 20 to 500 ⁇ m, and more preferably 50 to 250 ⁇ m, from the viewpoint of excellent handleability of the optical laminate with a temporary support.
  • the temporary support body is comprised by one layer, the laminated structure of two or more layers may be sufficient so that it may mention later.
  • Step A is a step of forming a patterned optically anisotropic layer using the composition A containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group.
  • the patterned optically anisotropic layer formed in this step includes a first retardation region and a second retardation region in which at least one of in-plane slow axis direction and in-plane retardation is different from each other in the same plane. And, the first retardation region and the second retardation region are optically anisotropic layers arranged alternately in the plane.
  • FIG. 2 shows one preferred embodiment of the patterned optically anisotropic layer.
  • first retardation region 12a and the second retardation region 12b include a stripe-shaped first retardation region 12a and a second retardation region 12b whose in-plane slow axis directions are different from each other, and the first retardation region 12a and The second phase difference regions 12b are alternately arranged in the same plane.
  • the first retardation region 12a and the second retardation region 12b have in-plane slow axes a and b that are orthogonal to each other.
  • the shape and arrangement pattern of the first retardation region 12a and the second retardation region 12b in the patterned optically anisotropic layer 12 are not limited to those shown in FIG.
  • the patterned optically anisotropic layer is disposed on the viewing side outside of the display panel together with the polarizing film, and the first retardation region And the polarized image which passed each of the said 2nd phase difference area
  • region is recognized as an image for right eyes or a left eye via polarized glasses etc. Therefore, the first phase difference region and the second phase difference region are preferably in the same shape so that the left and right images do not become non-uniform, and the respective arrangements are preferably uniform and symmetrical.
  • the in-plane retardation of each retardation region in the patterned optically anisotropic layer at a wavelength of 550 nm is not particularly limited, but is preferably 80 to 200 nm, and more preferably 90 to 160 nm. If the in-plane retardation is within the above range, the occurrence of crosstalk when used as an optical film for a 3D image device is further suppressed.
  • the thickness of the patterned optically anisotropic layer is 0.5 to 3.0 ⁇ m, and 0.5 to 2.5 ⁇ m is preferable from the viewpoint that the optical film can be made thinner and the display characteristics of the 3D image device can be obtained. 0.5 to 2.0 ⁇ m is more preferable.
  • the thickness of the said pattern optical anisotropic layer is an average thickness, and it calculates
  • step A composition A containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group is used.
  • the component contained in the composition A is explained in full detail.
  • ⁇ Liquid crystalline compound having a polymerizable group> The kind in particular of the polymeric group contained in the liquid crystalline compound used at the said process A is not restrict
  • the (meth) acryloyl group is a concept including both a methacryloyl group and an acryloyl group.
  • the type of liquid crystal compound used in this step is not particularly limited, and generally, from the shape thereof, a rod type (rod-like liquid crystal compound) and a disc type (discotic liquid crystal compound (disc-like liquid crystal property) Compound)).
  • rod type rod-like liquid crystal compound
  • disc type discotic liquid crystal compound (disc-like liquid crystal property) Compound
  • Polymer generally refers to a polymer having a degree of polymerization of 100 or more (Polymer Physics / Phase Transition Dynamics, Masao Doi, 2 pages, Iwanami Shoten, 1992).
  • any liquid crystalline compound can be used.
  • the liquid crystal compound preferably has two or more polymerizable groups in one molecule.
  • the liquid crystal compound is a mixture of two or more, it is preferable that at least one liquid crystal compound has two or more polymerizable groups in one molecule.
  • the rod-like liquid crystal compound for example, those described in claim 1 of JP-T-11-53019 and paragraphs [0026] to [0098] of JP-A-2005-289980 can be preferably used.
  • tick liquid crystalline compound for example, those described in paragraphs [0020] to [0067] of JP-A-2007-108732 and paragraphs [0013] to [0108] of JP-A-2010-244038 are preferably used. However, it is not limited to these.
  • composition A may contain other components as necessary, and examples thereof include a polymerization initiator and a solvent that may be contained in the composition B described later.
  • the alignment state of the liquid crystalline compound may be controlled.
  • the rod-like liquid crystalline compound it is preferable to fix the rod-like liquid crystalline compound in a horizontally aligned state.
  • the discotic liquid crystalline compound is vertically aligned. It is preferable to fix in a state.
  • “the rod-like liquid crystal compound is horizontally aligned” means that the director of the rod-like liquid crystal compound and the layer surface are parallel, and “the discotic liquid crystal compound is vertically aligned” means the discotic liquid crystal.
  • the disk surface and the layer surface of the functional compound are perpendicular. It is not strictly required to be horizontal or vertical, but each means a range of ⁇ 20 ° from an accurate angle. It is preferably within ⁇ 5 °, more preferably within ⁇ 3 °, even more preferably within ⁇ 2 °, and most preferably within ⁇ 1 °.
  • the additive alignment control agent
  • Various known additives can be used as the additive.
  • the formation method in particular of the pattern optical anisotropic layer using the said liquid crystalline compound is not restrict
  • a composition A (a composition for forming an optically anisotropic layer) containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group is applied on a temporary support or a hard coat layer, and cured (polymerized) by irradiation with ionizing radiation. And a method for fixing the liquid crystal compound is carried out.
  • Examples of the application method include a method of applying a composition B described later.
  • An alignment film may be used when forming the patterned optically anisotropic layer.
  • the alignment film generally contains a polymer as a main component.
  • the polymer material used is preferably polyvinyl alcohol or polyimide, and derivatives thereof.
  • modified or unmodified polyvinyl alcohol is preferred.
  • the alignment film refer to the modified polyvinyl alcohol described in WO01 / 88574A1, page 43, line 24 to page 49, line 8, and paragraph Nos. [0071] to [0095] of Japanese Patent No. 3907735. be able to.
  • the alignment film is usually subjected to a known rubbing treatment. That is, the alignment film is usually preferably a rubbing alignment film that has been rubbed.
  • the thickness of the alignment film is preferably thin
  • the pattern optical anisotropic layer has a uniform thickness by imparting alignment ability for forming the patterned optical anisotropic layer and relaxing the surface irregularities of the support.
  • the film has a certain thickness.
  • the thickness of the alignment film is preferably 0.01 to 10 ⁇ m, more preferably 0.01 to 1 ⁇ m, and still more preferably 0.01 to 0.5 ⁇ m.
  • the photo-alignment film is not particularly limited, and those described in paragraphs [0024] to [0043] of WO 2005/096041 and trade name LPP-JP265CP manufactured by Roli technologies can be used.
  • the first preferred embodiment utilizes a plurality of actions for controlling the alignment of the liquid crystal compound, and then eliminates any action by an external stimulus (heat treatment, etc.) to make the predetermined alignment control action dominant.
  • the liquid crystalline compound is brought into a predetermined alignment state by the combined action of the alignment control ability by the alignment film and the alignment control ability of the alignment controller added to the liquid crystalline compound, and then fixed.
  • any action for example, action by the alignment control agent
  • disappears by external stimulation heat treatment, etc.
  • the other orientation control action action by the alignment film
  • another alignment state is realized and fixed to form the other retardation region. Details of this method are described in paragraphs [0017] to [0029] of Japanese Patent Application Laid-Open No. 2012-008170, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • the second preferred embodiment is an embodiment using a pattern alignment film.
  • pattern alignment films having different alignment control capabilities are formed, a liquid crystalline compound is disposed thereon, and the liquid crystalline compound is aligned.
  • the liquid crystalline compounds achieve different alignment states depending on the alignment control ability of the pattern alignment film.
  • the pattern alignment film can be formed using a printing method, mask rubbing for the rubbing alignment film, mask exposure for the photo alignment film, or the like.
  • a method using a printing method is preferable in that large-scale equipment is not required and manufacturing is easy. Details of this method are described in paragraphs [0166] to [0181] of JP2012-032661A, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • a photo acid generator is added to the alignment film.
  • a photoacid generator is added to the alignment film, and pattern exposure exposes a region where the photoacid generator is decomposed to generate an acidic compound and a region where no acid compound is generated. In the light non-irradiated region, the photoacid generator remains almost undecomposed, and the interaction between the alignment film material, the liquid crystal compound, and the alignment control agent added as necessary dominates the alignment state, and the liquid crystal compound Is oriented in a direction whose in-plane slow axis is perpendicular to the rubbing direction.
  • the alignment film When the alignment film is irradiated with light and an acidic compound is generated, the interaction is no longer dominant, the rubbing direction of the rubbing alignment film dominates the alignment state, and the liquid crystalline compound has its in-plane slow axis in the rubbing direction. And parallel orientation.
  • a water-soluble compound is preferably used. Examples of photoacid generators that can be used include Prog. Polym. Sci. , Vol. 23, p. 1485 (1998).
  • the photoacid generator pyridinium salts, iodonium salts and sulfonium salts are particularly preferably used. Details of this method are described in Japanese Patent Application No. 2010-289360, the contents of which are incorporated herein by reference.
  • a preferred embodiment of step A includes an embodiment including the following steps (1) to (5).
  • Step (1) Step of forming an alignment film for aligning the liquid crystalline compound having a polymerizable group (2): Step of irradiating the alignment film with light in a pattern under a photomask (3): Step (4) of applying composition A containing a liquid crystalline compound having a polymerizable group on the alignment film to form a coating film (4): In-plane slow axis of the liquid crystalline compound on one region of the alignment film
  • the “irradiation of light in a pattern” in the above step (2) means that a pattern is formed so as to include an irradiation region where light is irradiated and an unirradiated region where light is not irradiated, or a region where exposure is low and exposure.
  • a pattern may be formed due to a difference in exposure amount including a region having a large amount.
  • one region and the other region of the alignment film are intended to be regions having different exposure amounts generated when light is irradiated in a pattern, for example, a light irradiation region and an unirradiated region, or a large amount of exposure.
  • An area and an area with a small exposure amount are intended.
  • the alignment treatment is preferably performed between step (1) and step (3).
  • the alignment treatment preferably uses a rubbing treatment or a photo-alignment treatment. Specifically, between the step (1) and the step (2), the step (2), or the step (2) and the step (3). ).
  • the photo-alignment treatment is used for the alignment treatment, it can be performed at any stage as long as it is between step (1) and step (3), but it is preferable to use the light irradiation of step (2) for the alignment treatment.
  • a rubbing treatment is used for the alignment treatment, it can be performed between the step (1) and the step (2) or between the step (2) and the step (3).
  • step (3) On step (3), it is preferable to use the light irradiation in the step (2) or the rubbing treatment performed between the step (2) and the step (3), and between the step (2) and the step (3). It is more preferable to use the rubbing process to be performed.
  • an alignment treatment by rubbing treatment which is the most preferred embodiment of the present invention, will be described.
  • an alignment film made of a composition containing at least one photoacid generator is used, and patterned light irradiation is performed so that a light irradiation region and a non-irradiation region are generated.
  • the alignment film subjected to the rubbing process (rubbing alignment film) exhibits an alignment control ability by the rubbing process.
  • the liquid crystalline compound is aligned on an alignment film that has been rubbed in one direction, the liquid crystalline compound is aligned with its in-plane slow axis parallel or orthogonal to the rubbing direction.
  • the alignment state is determined by one or more kinds of alignment film material, liquid crystal compound, and alignment control agent.
  • the rubbing direction is obtained by decomposing the alignment film material and / or changing the alignment film interface uneven distribution property of the alignment controller due to the effect of the acidic compound generated by light irradiation to the alignment film.
  • An alignment state in which the slow axis of the liquid crystal compound is aligned perpendicularly to the liquid crystal compound and an alignment state in which the slow axis of the liquid crystal compound is aligned in parallel to the rubbing direction are realized.
  • the shape and arrangement of the first phase difference region and the second phase difference region can be changed to a desired shape and arrangement pattern by selecting a photomask used in the step (2).
  • the slow axis of the liquid crystal compound on the light irradiation region of the alignment film is aligned in the first direction
  • the slow axis of the liquid crystal compound on the unirradiated region of the alignment film is the first direction.
  • At least one kind of photoacid generator is decomposed by light irradiation, and there is a difference in the ratio of acidic compounds generated by the decomposition between the light irradiation region and the light non-irradiation region, thereby causing a difference in alignment control ability of the alignment film. You can have it.
  • An example is as follows.
  • the photoacid generator In the unirradiated region, the photoacid generator remains almost undecomposed, and the interaction between the alignment film material, the liquid crystal compound, and the alignment controller added as required dominates the alignment state.
  • the slow axis is oriented in a direction perpendicular to the rubbing direction.
  • the alignment film is irradiated with light and an acidic compound is generated, the interaction is no longer dominant, the rubbing direction of the rubbing alignment film dominates the alignment state, and the liquid crystalline compound makes its slow axis parallel to the rubbing direction. To parallel orientation.
  • the conditions for achieving these states vary depending on the materials / amounts used and the irradiation conditions, and cannot be determined in general.
  • the photoacid generator is a compound that decomposes upon irradiation with light such as ultraviolet rays to generate an acidic compound.
  • the alignment control ability of the alignment film changes. Even if the change in the orientation control ability here is specified as a change in the orientation control ability of the orientation film alone, it depends on the orientation film and the additive contained in the composition A disposed on the orientation film. It may be specified as a change in the orientation control ability to be achieved, or may be specified as a combination thereof.
  • Specific examples of the photoacid generator include compounds exemplified in paragraphs [0045] to [0057] of JP2013-29552A.
  • the composition A used in the step (3) contains an alignment film interface alignment control agent, and the acidic compound or constituent ions generated in the light irradiation region of the alignment film in the step (2) is the alignment film interface.
  • the alignment film interface uneven distribution of the alignment control agent, a difference in alignment control ability may be provided between the light irradiation region and the light non-irradiation region of the alignment film.
  • an onium salt is used as the alignment control agent for the alignment film interface, the discotic liquid crystalline compound is aligned with the disc surface orthogonal to the rubbing axis and with the disc surface perpendicular to the layer surface (ie, orthogonal vertical alignment). ).
  • the alignment film interface alignment control agent On the light-irradiated region of the alignment film, the alignment film interface alignment control agent is unevenly distributed at the alignment film interface, and the disk-like liquid crystal compound is orthogonally aligned vertically.
  • the alignment film interface is reduced by the acidic compound generated by the decomposition of the photoacid generator or the ions constituting it, and the action of the alignment film interface alignment control agent is weakened.
  • the orientation control ability expressed by the rubbing treatment becomes dominant, and the discotic liquid crystalline compound is oriented with the disc surface parallel to the rubbing axis and the disc surface perpendicular to the layer surface, that is, Transition to a parallel vertical alignment state.
  • the decrease in the alignment film interface alignment property of the alignment film interface alignment control agent is caused by ion exchange between the ions constituting the alignment film interface alignment control agent and the constituent ions of the acidic compound generated in the light irradiation region. May occur.
  • the onium salt such as a pyridinium compound and an imidazolium compound as an alignment film interface alignment controller
  • the onium salt is unevenly distributed on the alignment film interface by anion exchange between the onium salt and an acidic compound generated in the light irradiation region. Sex may be reduced.
  • an acidic compound is generated by light irradiation (for example, ultraviolet irradiation) under a photomask.
  • ultraviolet rays are preferably used for irradiation under a photomask, and unpolarized ultraviolet rays are more preferably used.
  • the irradiation wavelength preferably has a peak at 200 to 250 nm
  • a UV-C light source is preferably used, and the exposure amount is preferably about 5 to 1000 mJ / cm 2 , and is preferably about 5 to 100 mJ / cm 2. More preferably, it is about 5 to 50 mJ / cm 2 .
  • the exposure amount is in the above range, a pattern having excellent pattern resolution is formed. In order to improve the pattern resolution, exposure is preferably performed at room temperature.
  • the alignment state is preferably fixed by advancing the polymerization reaction of the polymerizable liquid crystal by light irradiation (for example, ultraviolet irradiation).
  • the irradiation energy is preferably 10 mJ / cm 2 to 10 J / cm 2 , and more preferably 25 to 800 mJ / cm 2 .
  • the illuminance is preferably 10 ⁇ 1000mW / cm 2, more preferably 20 ⁇ 500mW / cm 2, further preferably 40 ⁇ 350mW / cm 2.
  • the irradiation wavelength preferably has a peak at 250 to 450 nm, and more preferably has a peak at 300 to 410 nm.
  • light irradiation may be performed under an inert gas atmosphere such as nitrogen or under heating conditions.
  • an inert gas atmosphere such as nitrogen or under heating conditions.
  • a low-pressure mercury lamp, a high-pressure discharge lamp or a short arc discharge lamp is preferably used. Since the polymerization reaction for fixing the alignment state proceeds rapidly, even if the entire surface is irradiated with light in the step (5) and the photoacid generator is decomposed at that stage, the alignment of the optically anisotropic layer is performed. There is no effect on the condition.
  • the alignment of the liquid crystal in the step (4) and the fixing of the liquid crystal alignment state in the step (5) can be carried out at any temperature, but the alignment temperature T 1 ° C. of the liquid crystal in the step (4) and the step (5 the fixing temperature of the alignment state of)
  • T 2 ° C. is preferably carried out at a temperature which satisfies T 1> T 2.
  • T 1 ° C and T 2 ° C vary depending on the material to be selected. Generally, T 1 ° C is about 50 to about 150 ° C, and T 2 ° C is about 20 to about 120 ° C.
  • the difference between T 1 and T 2 is preferably about 10 to about 100 ° C.
  • Step B is a step of forming a hard coat layer using composition B containing a polymerizable compound.
  • a hard-coat layer is a layer arrange
  • the thickness of the hard coat layer is 3.0 to 20 ⁇ m, and 3.0 to 15 ⁇ m is preferable, and 3.0 to 10 ⁇ m is more preferable in that the positional deviation of the pattern in the patterned optically anisotropic layer is further suppressed. 3.5 to 7.0 ⁇ m is more preferable.
  • the thickness of the hard coat layer is less than 3.0 ⁇ m, the strength of the formed hard coat layer is not sufficient, and the occurrence of cracks, cracks, and luminance unevenness cannot be suppressed in the patterned optical anisotropic layer. If the hard coat layer exceeds 20 ⁇ m, the pattern optical anisotropic layer contracts with the temporary support as the hard coat layer shrinks during polymerization of the polymerizable compound, resulting in pattern displacement. Will cause crosstalk.
  • the thickness of the said hard-coat layer is an average thickness, and it calculates
  • the composition B contains a polymerizable compound.
  • the polymerizable compound is polymerized by a curing treatment to constitute a binder in the hard coat layer.
  • the polymerizable compound preferably contains a polymerizable group as described above and is a polyfunctional compound having two or more polymerizable groups.
  • a polyfunctional compound having two or more polymerizable groups can function as a curing agent, and can improve the strength and scratch resistance of the coating film.
  • the number of polymerizable groups is more preferably 3 or more.
  • Examples of the compound having a polymerizable group include compounds having a polymerizable functional group such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, a styryl group, and an allyl group. Among them, a (meth) acryloyl group or —C (O) OCH ⁇ CH 2 is preferred. Particularly preferably, a compound containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule described below can be used.
  • polymerizable compound examples include (meth) acrylic acid diesters of alkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycol, (meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohol, addition of ethylene oxide or propylene oxide. (Meth) acrylic acid diesters, epoxy (meth) acrylates, urethane (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, and the like.
  • esters of polyhydric alcohol and (meth) acrylic acid are preferable.
  • the content of the polymerizable compound in the composition B is preferably 50% by mass or more with respect to the total solid content in the composition B in order to give a sufficient polymerization rate and impart hardness and the like, and 60 to 99% by mass. % Is more preferable, 70 to 99% by mass is further preferable, and 80 to 99% by mass is particularly preferable.
  • the composition B may contain other components in addition to the polymerizable compound.
  • the composition B may contain a polymerization initiator.
  • a polymerization initiator a photopolymerization initiator and a thermal polymerization initiator can be mainly used, but a photopolymerization initiator is preferably used.
  • photopolymerization initiators acetophenones, benzoins, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds, peroxides, 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds
  • examples include fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, lophine dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes, and coumarins.
  • the content of the photopolymerization initiator in the composition B is sufficiently large to polymerize the polymerizable compound contained in the composition B and is set to a sufficiently small amount so that the starting point does not increase excessively.
  • the total solid content in the product B is preferably 0.5 to 8% by mass, more preferably 1 to 5% by mass.
  • Composition B may contain a solvent.
  • the solvent various solvents can be used in consideration of the solubility of the monomer, the dispersibility of the translucent particles, the drying property during coating, and the like.
  • the organic solvent include dibutyl ether, dimethoxyethane, diethoxyethane, propylene oxide, 1,4-dioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,5-trioxane, tetrahydrofuran, anisole, phenetole, dimethyl carbonate, carbonate Methyl ethyl, diethyl carbonate, acetone, methyl ethyl ketone (MEK), diethyl ketone, dipropyl ketone, diisobutyl ketone, cyclopentanone, cyclohexanone, methylcyclohexanone, ethyl formate, propyl formate, pentyl formate, methyl acetate, ethy
  • the hard coat layer may be a hard coat layer having antiglare properties.
  • the antiglare hard coat layer are disclosed in, for example, JP-A Nos. 10-206603, 2002-243906, and 2007-264113.
  • the hard coat layer may contain translucent particles for imparting antiglare properties.
  • the composition B may contain translucent particles.
  • Specific examples of the translucent particles include particles of inorganic compounds such as silica particles and TiO 2 particles; resin particles such as acrylic particles, crosslinked acrylic particles, polystyrene particles, crosslinked styrene particles, melamine resin particles, and benzoguanamine resin particles; Are preferred. Of these, crosslinked styrene particles, crosslinked acrylic particles, and silica particles are preferred.
  • the shape of the light-transmitting particles can be either spherical or irregular.
  • an embodiment using a smectite clay organic composite obtained by intercalating a quaternary ammonium salt to the smectite clay is also preferable. Is exemplified.
  • the difference in refractive index between the translucent particles and the matrix polymer (binder) constituting the hard coat layer is preferably less than 0.05, more preferably 0.001 to 0.030 as an absolute value. More preferably, it is 0.001 to 0.020.
  • the difference in refractive index between the light-transmitting particles and the matrix polymer in the hard coat layer is less than 0.05, the light refraction angle by the light-transmitting particles becomes small, the scattered light does not spread to a wide angle, and optical anisotropic This is preferable because it does not have a deteriorating effect such as depolarization of transmitted light through the conductive layer.
  • the method for forming the hard coat layer using the composition B is not particularly limited.
  • the composition B is applied on a temporary support or a patterned optically anisotropic layer, and if necessary, applied to the coating film.
  • the method for applying the composition B is not particularly limited, and examples thereof include dip coating, air knife coating, curtain coating, roller coating, wire bar coating, gravure coating, and die coating.
  • the method for the curing treatment is not particularly limited, and examples thereof include heat treatment or light irradiation treatment (ionizing radiation irradiation).
  • the coating film of composition B is ultraviolet curable, it is preferable to cure the coating film by irradiating with an ultraviolet lamp at a dose of 10 to 1000 mJ / cm 2 .
  • the oxygen concentration is preferably 0.01 to 5%.
  • ultraviolet irradiation ultraviolet rays emitted from light such as an ultrahigh pressure mercury lamp, a high pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a xenon arc, a metal halide lamp, etc. can be used.
  • the temperature can be increased during curing, preferably 25 to 100 ° C., more preferably 30 to 80 ° C., and most preferably 40 to 70 ° C.
  • a leveling agent can be contained in one and / or both of the composition A and the composition B.
  • the leveling agent can make the surface state after application of the composition more uniform.
  • positioned on a temporary support body is manufactured.
  • the thickness of the optical laminate is not particularly limited, and is usually the total thickness of the above-described patterned optically anisotropic layer and the hard coat layer, but is 4 in that the handleability of the optical laminate is more excellent. 0 to 22 ⁇ m is preferable, and 5.0 to 15 ⁇ m is more preferable.
  • a layer other than the above-mentioned pattern optical anisotropic layer, hard coat layer, and alignment film used as necessary is not included in the optical laminate from the viewpoint of reducing the thickness.
  • a support (transparent support) as described in Patent Document 1 is not included in the optical laminate.
  • the present invention by optionally performing a surface treatment, in the optical laminate, the patterned optical anisotropic layer and the hard coat layer, or the patterned optical anisotropic layer or the hard coat layer and other layers (for example, The adhesion with the alignment film, polarizing film, undercoat layer and back layer can be improved.
  • a surface treatment for example, glow discharge treatment, ultraviolet irradiation treatment, corona treatment, flame treatment, acid or alkali treatment can be used.
  • the glow discharge treatment here may be low-temperature plasma that occurs in a low-pressure gas of 10 ⁇ 3 to 20 Torr, and plasma treatment under atmospheric pressure is also preferred.
  • the plasma-excitable gas may be any gas that is plasma-excited under the above-described conditions, such as argon, helium, neon, krypton, xenon, nitrogen, carbon dioxide, chlorofluorocarbons such as tetrafluoromethane, and mixtures thereof. Etc. Details of these are described in detail on pages 30 to 32 in the Japan Institute of Invention Disclosure Technical Bulletin (Public Technical Number 2001-1745, published on March 15, 2001, Japan Institute of Invention), and are preferably used in the present invention. be able to.
  • the optical layered body of the present invention can be provided with other functional layers as necessary.
  • a non-patterned optically anisotropic layer for controlling the optical properties of the patterned optically anisotropic layer, a reflection for controlling the refractive index of the optical film and reducing the reflection at the air interface and the laminated interface of the optical laminate.
  • Preventive layer adhesive layer for improving adhesion between hard coat layer and patterned optically anisotropic layer, release layer or release layer for improving peelability from temporary support, and improved gas barrier property for optical film
  • Gas barrier layer low moisture permeable layer to reduce the moisture permeability of the optical film and improve durability
  • conductive layer to prevent dust adhesion of the optical film
  • dirt prevention on the optical film surface and improve dirt wiping property examples thereof include an antifouling layer and a fading preventing layer that controls the absorption spectrum of the optical film and prevents fading of the polarizer.
  • the effect of the invention of the optical film of the present invention is impaired, the number and function of these functional layers and the combination thereof are not limited.
  • Step Y is a step of transferring the optical laminate on the temporary support formed in Step X onto the polarizing film.
  • the transfer method is not particularly limited, and the method is not particularly limited as long as the optical laminate can be transferred onto the polarizing film.
  • the step C of peeling the temporary support from the optical laminate with the temporary support, and the optical laminate obtained in the step C
  • the method of performing the process D which bonds a polarizing film on the surface of the pattern optical anisotropic layer of a body is mentioned. More specifically, first, as shown in FIG.
  • the temporary support 10 is peeled off from the optical laminate 16a with the temporary support, and then, as shown in FIG.
  • the method of bonding the polarizing film 20 on the surface of the isotropic layer 12 side and obtaining the desired optical film 100a is mentioned.
  • the process E which bonds a polarizing film on the surface of the pattern optical anisotropic layer in the optical laminated body with a temporary support.
  • the method of peeling the temporary support body from the laminated body obtained at the process E, and implementing the process D which obtains an optical film is mentioned. More specifically, first, as shown in FIG.
  • the polarizing film 20 is bonded to the surface on the patterned optically anisotropic layer 12 side, and then, as shown in FIG.
  • the method of obtaining the desired optical film 100b by peeling the support body 10 is mentioned.
  • 3 and 4 show a mode in which a polarizing film is bonded onto the surface of the patterned optically anisotropic layer, the present invention is not limited to the above mode.
  • the method in particular of bonding a polarizing film is not restrict
  • a laminator is used to place a polarizing film on a predetermined layered surface side, and affixing or thermocompression bonding is performed with a heated and / or pressurized roller or flat plate.
  • an adhesive layer may be interposed between the patterned optically anisotropic layer 12 and the polarizing film 20 in FIG. 3 (B) and FIG. 4 (A).
  • the material constituting the adhesive layer to be used is not particularly limited.
  • the adhesive that can be used in the present invention include, but are not limited to, a polyvinyl alcohol-based adhesive.
  • the polarizing film (polarizer layer) used at this process should just be a member which has a function which converts natural light into a specific linearly polarized light, and an absorption type polarizer can be utilized suitably.
  • the type of the polarizing film is not particularly limited, and a commonly used polarizing film can be used.
  • any of an iodine-based polarizing film, a dye-based polarizing film using a dichroic dye, and a polyene-based polarizing film Can also be used.
  • the iodine-based polarizing film and the dye-based polarizing film are generally produced by adsorbing iodine or a dichroic dye to polyvinyl alcohol and stretching it.
  • the protective film may be bonded by the surface to the polarizing film.
  • the thickness of the polarizing film is not particularly limited, but is preferably 35 ⁇ m or less, more preferably 3 to 25 ⁇ m, from the viewpoints of excellent handleability and excellent optical characteristics.
  • an optimum laminating direction is appropriately selected according to the in-plane slow axis directions in the first retardation region and the second retardation region in the patterned optically anisotropic layer. .
  • the in-plane slow axis directions of the first optical retardation layer and the second optical retardation region are orthogonal to each other as shown in FIG.
  • FIG. 5 is a diagram showing the above-described embodiment, and shows the relationship between the transmission axis of the polarizing film 20 and the in-plane slow axis of the patterned optically anisotropic layer 12.
  • in-plane slow axes (arrows) of the first retardation region 12a and the second retardation region 12b of the patterned optically anisotropic layer 12 form angles of 45 ° and ⁇ 45 °, respectively.
  • the angle is not limited to 45 ° and ⁇ 45 °, and may be 45 ° ⁇ 10 ° and ⁇ 45 ° ⁇ 10 °.
  • the rotation angle of the in-plane slow axis is a positive angle in the clockwise direction and a negative angle in the counterclockwise direction with reference to the transmission axis of the polarizing film by observing the patterned optical anisotropic layer from the polarizing film side.
  • the method for peeling the temporary support is not particularly limited, and a known method can be adopted.
  • a claw is inserted between the temporary support 10 and the patterned optical anisotropic layer 12 to provide a trigger for peeling, and the temporary support is provided.
  • An optical film including a polarizing film, a patterned optically anisotropic layer, and a hard coat layer is obtained through the process X and the process Y.
  • the obtained optical film can be applied to various applications, for example, can be suitably used as an optical film for a 3D image display device.
  • the said optical film is arrange
  • An observer observes these images through a polarizing plate such as circularly polarized glasses and recognizes them as a stereoscopic image. That is, it can be suitably used as a 3D image display device including an optical film.
  • FIG. 6 is a schematic diagram showing the flow of one embodiment of step Y. As shown in FIG. 6, first, a long optical laminate 16b with a temporary support is fed from the feed roll 30 in the direction of the arrow.
  • the elongated optical support 16b with a temporary support has a patterned optically anisotropic layer 12, a hard coat layer 14, and a temporary support 10 in this order.
  • the polarizing film F1 with the adhesive layer is brought into contact with the patterned optical anisotropic layer 12 from the polarizing film supply roll 32 on the patterned optical anisotropic layer 12 in the optical laminated body 16b with the temporary support to be conveyed.
  • the temporary support 10 in the laminated body conveyed between the pair of nip rolls 34 is peeled off by the peeling roll 36 and taken up by the temporary support winding roll 38.
  • the optical film obtained by peeling off the temporary support 10 is wound up by the optical film winding roll 40 and collected.
  • the temporary support winding roll 38 and the optical film winding roll 40 are provided with driving means (not shown) and are rotated in the direction of the arrow.
  • the process Y is not limited to the aspect of the said FIG. 6, The other aspect may be sufficient.
  • FIG. 7 the flow of the other embodiment of the process Y is shown.
  • a long optical support 16 a with a temporary support is sent out from the feed roll 30 in the direction of the arrow.
  • the elongated optical support 16a with a temporary support has a hard coat layer 14, a patterned optical anisotropic layer 12, and a temporary support 10 in this order.
  • the temporary support 10 is peeled off from the transported optical laminated body 16 a with the temporary support by the peeling roll 36 and wound up by the temporary support winding roll 38.
  • the polarizing film with adhesive layer F1 is attached to the adhesive layer from the polarizing film supply roll 32 on the patterned optically anisotropic layer 12 in the optical laminate composed of the hard coat layer 14 and the patterned optically anisotropic layer 12 to be conveyed.
  • the pattern optical anisotropic layer 12 is supplied so as to be in contact with each other, and is pressed onto the pattern optical anisotropic layer 12 by a pair of nip rolls 34 to obtain a desired optical film.
  • the optical film is taken up and collected by the optical film take-up roll 40.
  • the temporary support winding roll 38 and the optical film winding roll 40 are provided with driving means (not shown) and are rotated in the direction of the arrow.
  • FIG. 8 shows a flow of another embodiment of the process Y.
  • a long optical laminate 16 a with a temporary support is fed from the feed roll 30 in the direction of the arrow.
  • the elongated optical support 16a with a temporary support has a hard coat layer 14, a patterned optical anisotropic layer 12, and a temporary support 10 in this order.
  • the fixed plate L is supplied from the fixed plate supply roll 42 onto the hard coat layer of the optical laminated body 16 a with the temporary support to be conveyed, and is pressed onto the hard coat layer by the nip roll 34.
  • the temporary support 10 in the laminated body conveyed between the pair of nip rolls 34 is peeled off by the peeling roll 36 and taken up by the temporary support winding roll 38.
  • the polarizing film F1 with the adhesive layer is applied from the polarizing film supply roll 32 on the patterned optical anisotropic layer 12 in the laminate composed of the fixed plate L, the hard coat layer 14 and the patterned optical anisotropic layer 12 to be conveyed.
  • the pressure-sensitive adhesive layer and the patterned optical anisotropic layer 12 are supplied so as to be in contact with each other, and are pressed onto the patterned optical anisotropic layer 12 by a pair of nip rolls 34.
  • the fixed plate L is peeled off from the transported laminate by the peeling roll 36 and wound up by the fixed plate winding roll 44. Thereafter, the formed optical film is taken up by the optical film take-up roll 40 and collected.
  • the temporary support winding roll 38, the optical film winding roll 40, and the fixed plate winding roll 44 are provided with driving means (not shown) and are rotated in the direction of the arrow.
  • FIG. 9 the schematic diagram which shows the flow of one embodiment of the process X and the process Y is shown.
  • a long temporary support is fed from the temporary support feed roll 46 in the direction of the arrow.
  • the composition B is applied from the hard coat layer-forming composition applying means 48, and then subjected to a curing treatment by a UV curing device (not shown), whereby the temporary support is provided.
  • a hard coat layer is formed on top.
  • the composition A is applied from the optically anisotropic layer-forming composition coating means 50, and then subjected to treatment by a rubbing treatment device and a UV curing device (not shown), A patterned optically anisotropic layer is formed.
  • a pressure-sensitive adhesive is applied from the pressure-sensitive adhesive applying means 52 on the surface of the formed patterned optically anisotropic layer to form a pressure-sensitive adhesive layer.
  • the polarizing film F2 is supplied from the polarizing film supply roll 32 onto the patterned optical anisotropic layer side in the optical laminated body with a temporary support composed of the transported patterned optical anisotropic layer, the hard coat layer, and the temporary support.
  • the temporary support winding roll 38 and the optical film winding roll 40 are provided with driving means (not shown) and rotate in the direction of the arrow.
  • a hard coat layer coating solution 1 was prepared by filtration through a polypropylene filter having a pore size of 5 ⁇ m.
  • composition of hard coat layer coating solution 1 Acrylate monomer (NK ester A9550, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 96.7g Polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by BASF) 3.00 g Leveling agent (P-4) 0.3g MEK (methyl ethyl ketone) 100.0 g
  • Example 1 ⁇ Preparation of optical laminate 1> (Preparation of hard coat layer)
  • Roll-shaped polyethylene terephthalate having a thickness of 100 ⁇ m is unwound as a temporary support, and the hard coat layer coating solution 1 is used to coat the hard coat layer on the temporary support to a thickness of 5 ⁇ m.
  • each coating solution was applied at a conveyance speed of 30 m / min, and dried at 80 ° C. for 150 seconds.
  • patterned optically anisotropic layer (part 1)) Next, a patterned optically anisotropic layer (thickness: 1.5 ⁇ m) is formed on the hard coat layer by using the method of Examples described in paragraphs [0028] to [0035] of JP-T-2012-517024. ) To prepare an optical laminate 1 with a temporary support. In the formed patterned optically anisotropic layer, stripe-shaped first retardation regions and second retardation regions are alternately arranged, and the in-plane slow axis directions in each region are orthogonal to each other. . The in-plane retardation at a wavelength of 550 nm in each region was 125 nm. In the method described in the above document, a pattern mask was used in which the widths of the first and second retardation regions formed in stripes were 486 ⁇ m, respectively.
  • the optical film 1 was manufactured by the method shown in FIG. 6 described above. Specifically, first, the optical laminated body 1 with a temporary support was sent out in a roll form and continuously conveyed. The polarizing film with a protective film is continuously conveyed at the same time, an acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the polarizing film side, and the optical laminate 1 with a temporary support and the polarizing film with a protective film are being patterned optically. It bonded using the nip roll through the acrylic adhesive so that the surface of an anisotropic layer and the surface of a polarizing film might oppose.
  • the film was continuously conveyed, and the temporary support was peeled off from the obtained laminate to produce an optical film 1 having a polarizing film with a protective film, a patterned optical anisotropic layer, and a hard coat layer. It was made into a roll form by winding it around another winding core.
  • the angle formed between the transmission axis of the polarizing film and the in-plane slow axis of the first retardation region and the in-plane slow axis of the second retardation region in the patterned optically anisotropic layer is as shown in FIG. And 45 ° respectively.
  • Example 2 In the same procedure as in Example 1, a hard coat layer was formed on the temporary support. On the obtained hard coat layer, an alignment film and a patterned optically anisotropic layer were prepared by the following method to prepare an optical laminate 2 with a temporary support. Next, an optical film 2 was produced in the same manner as in Example 1 except that the optical laminate with temporary support 2 was used instead of the optical laminate with temporary support 1.
  • an alignment film forming coating solution 1 having the following composition was continuously applied with a wire bar.
  • the laminate was dried with 60 ° C. warm air for 60 seconds and further with 100 ° C. warm air for 120 seconds to form a laminate with an alignment film before exposure.
  • the wire bar was adjusted so that the film thickness of the pre-exposure alignment film was 0.45 ⁇ m.
  • composition of coating liquid 1 for alignment film formation ⁇
  • Polymer material for alignment film (P-1) 2.4 parts by mass photoacid generator (S-1) 0.072 parts by mass radical polymerization initiator (Irgacure 2959, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 0.18 parts by weight Methanol 16.5 parts by weight IPA (isopropanol) 7.2 parts by weight water 73.55 parts by weight ⁇
  • S-1 mass photoacid generator
  • Irgacure 2959 manufactured by Ciba Specialty Chemicals
  • a stripe mask in which a stripe-shaped first retardation region (width: 486 ⁇ m) and a second retardation region (width: 486 ⁇ m) are formed in a patterned optically anisotropic layer to be described later is prepared.
  • An ultraviolet irradiation device (Light Hamer 10, 240 W / cm, manufactured by Fusion UV Systems) having an illuminance of 500 mW / cm 2 in a wavelength region of 200 nm to 400 nm is placed on a laminated body with an alignment film under a room temperature air.
  • the pattern alignment film was formed by irradiating with ultraviolet rays for 0.06 seconds (30 mJ / cm 2 ).
  • the discotic liquid crystal compound In the mask exposure portion (first retardation region), the discotic liquid crystal compound is vertically aligned so that the in-plane slow axis direction is parallel to the rubbing direction, and in the unexposed portion (second retardation region). It was vertically aligned so that the in-plane slow axis direction was perpendicular to the rubbing direction.
  • the wire bar was adjusted so that the thickness of the optically anisotropic layer was 1.2 ⁇ m.
  • stripe-shaped first retardation regions and second retardation regions are alternately arranged, and the in-plane slow axis directions in each region are orthogonal to each other. .
  • the in-plane retardation at a wavelength of 550 nm in each region was 125 nm.
  • the widths of the striped first retardation region and second retardation region were 486 ⁇ m, respectively.
  • Discotic liquid crystal compound E-2 80 parts by weight
  • Discotic liquid crystal compound E-3 20 parts by weight alignment film interface aligning agent (II-1) 1.0 part by weight air interface aligning agent (P-3) 0.6 parts by weight light 3.0 parts by weight of polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.)
  • Multifunctional monomer ethylene oxide modified trimethylolpropane triacrylate (Biscoat 360, manufactured by Osaka Organic Chemical Co., Ltd.)) 10 parts by weight Methyl ethyl ketone 300 parts by weight ⁇ ⁇
  • Example 3 The order of (Preparation of hard coat layer) and (Preparation of patterned optically anisotropic layer (Part 1)) carried out in Example 1 was changed to (Preparation of patterned optically anisotropic layer (Part 1)) and (Hardcoat).
  • the preparation of the temporary support and the pattern optical difference were performed according to the same procedure as in Example 1 except that the following coating liquid 2 for hard coat layer was used instead of the coating liquid 1 for hard coat layer.
  • the optical laminated body 3 with a temporary support body which equips an anisotropic layer and a hard-coat layer in this order was produced, and it was set as the roll form.
  • a hard coat layer coating solution 2 was prepared by filtration through a polypropylene filter having a pore size of 30 ⁇ m. The resin particles and smectite were added in a dispersed state to be described later.
  • composition of coating liquid 2 for hard coat layer Smectite (Lucentite STN, manufactured by Corp Chemical) 1.00g Resin particles (Techpolymer SSX, manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd.) 8.00 g Acrylate monomer (NK ester A9550, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.) 87.85g Polymerization initiator (Irgacure 907, manufactured by BASF) 3.00 g Leveling agent (P-4) 0.15g MIBK (methyl isobutyl ketone) 133.50 g MEK (methyl ethyl ketone) 16.50 g
  • the optical film 3 was manufactured by the method shown in FIG. 7 described above. Specifically, the optical laminated body 3 with a temporary support is sent out by a roll, continuously conveyed, peeled off while winding the temporary support during the transportation, and includes an optical laminated layer including a hard coat layer and a patterned optical anisotropic layer The body configuration was further continued. Next, the polarizing film with the protective film is continuously conveyed, an acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the polarizing film side, and a nip roll is used to pattern optical anisotropy of an optical laminate without a temporary support during continuous conveyance.
  • a polarizing film was bonded to the layer side via an acrylic pressure-sensitive adhesive to produce an optical film 3 in a roll form.
  • the angle formed between the transmission axis of the polarizing film and the in-plane slow axis of the first retardation region and the in-plane slow axis of the second retardation region in the patterned optically anisotropic layer is as shown in FIG. And 45 ° respectively.
  • Example 4 Implemented in Example 2 (Preparation of laminated body with alignment film before exposure), (UV exposure), (Preparation of patterned optically anisotropic layer (2)), and Example 1 (Preparation of hard coat layer) )
  • the alignment film, the patterned optically anisotropic layer, and the hard coat layer are formed on the temporary support.
  • the optical laminated body 4 with the temporary support body which has in order was manufactured.
  • optical laminate 4 with a temporary support is sent out by a roll, continuously conveyed, peeled off while winding the temporary support during conveyance, and an optical laminate including an alignment film, a patterned optical anisotropic layer, and a hard coat layer, Furthermore, it was continuously conveyed. Further, the polarizing film with the protective film is continuously conveyed, an acrylic pressure-sensitive adhesive is applied to the polarizing film side, and an acrylic film is applied to the alignment film side of the optical laminate without a temporary support during continuous conveyance using a nip roll. An optical film 4 was produced by laminating with a polarizing film through a system adhesive, and a roll form was obtained.
  • the angle formed between the transmission axis of the polarizing film and the in-plane slow axis of the first retardation region and the in-plane slow axis of the second retardation region in the patterned optically anisotropic layer is as shown in FIG. And 45 ° respectively.
  • Example 5 An optical film 5 was produced according to the same procedure as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • Example 6 An optical film 6 was produced according to the same procedure as in Example 1 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 17 ⁇ m.
  • Example 7 An optical film 7 was produced according to the same procedure as in Example 2 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • Example 8 An optical film 8 was produced according to the same procedure as in Example 2 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 17 ⁇ m.
  • Example 9 An optical film 9 was produced according to the same procedure as in Example 3 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • Example 10 An optical film 10 was produced according to the same procedure as in Example 3 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 17 ⁇ m.
  • Example 11 An optical film 11 was produced according to the same procedure as in Example 4 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 10 ⁇ m.
  • Example 12 An optical film 12 was produced according to the same procedure as in Example 4 except that the thickness of the hard coat layer was changed from 5 ⁇ m to 17 ⁇ m.
  • Example 1 An optical film was produced according to the same procedure as in Example 3 except that no hard coat layer was produced. At that time, an attempt was made to peel the patterned optically anisotropic layer from the temporary support. However, the patterned optically anisotropic layer itself was brittle, and cracks and internal breakage occurred.
  • the cellulose acylate film TD60 after saponification, the stretched iodine-based PVA polarizing film, and the cellulose acylate film ZRD40 after saponification were bonded in this order with a PVA-based adhesive and heat-dried to obtain a rear-side polarizing plate. . Under the present circumstances, it arrange
  • liquid crystal display device 1 The upper and lower polarizing plates of the IPS mode liquid crystal cell (LGS 42LS5600) are peeled off, the optical film 1 described above as the front side polarizing plate is provided on the front side, and the polarizing plate described above as the rear side polarizing plate is provided on the rear side.
  • One film was attached to each of the front side and the rear side via an adhesive so that the films ZRD40 were on the liquid crystal cell side.
  • the crossed Nicols were arranged so that the absorption axis of the front-side polarizing plate was in the longitudinal direction (left-right direction) and the transmission axis of the rear-side polarizing plate was in the longitudinal direction (left-right direction).
  • the thickness of the glass used for the liquid crystal cell was 0.5 mm.
  • the obtained liquid crystal display device was designated as a liquid crystal display device 1.
  • HC layer means a hard coat layer
  • Comparative Example 1 in which no hard coat layer is provided, cracks, cracks, luminance unevenness, and the like are confirmed in the patterned optical anisotropic layer, and the mechanical strength of the patterned optical anisotropic layer is low. could not be transferred onto.
  • Comparative Example 2 where the thickness of the hard coat layer is thin, cracks, cracks, luminance unevenness and the like are confirmed in the patterned optical anisotropic layer, and the optical film has low mechanical strength, and thus is attached to the polarizing film. At this time, the positional deviation of the pattern in the patterned optically anisotropic layer occurred.
  • Comparative Example 3 in which the thickness of the hard coat layer was large, the pattern in the pattern optically anisotropic layer was displaced due to residual stress due to curing shrinkage when the hard coat layer was produced.

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  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

　本発明は、薄膜化されたパターン光学異方性層のひび、割れ、輝度ムラが抑制されると共に、パターン光学異方性層中のパターンの位置ずれの発生が抑制される光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。本発明の光学フィルムの製造方法は、少なくとも偏光膜、パターン光学異方性層、および、ハードコート層を有する光学フィルムの製造方法であって、パターン光学異方性層を形成する工程Ａ、および、ハードコート層を形成する工程Ｂを実施して、仮支持体上に、厚みが０．５～３μｍのパターン光学異方性層および厚みが３～２０μｍのハードコート層を含む光学積層体を形成して、仮支持体付き光学積層体を得る工程Ｘと、仮支持体上の光学積層体を偏光膜上に転写する工程Ｙとを有する。

Description

光学フィルムの製造方法
　本発明は、光学フィルムの製造方法に係り、特に、所定の厚みのパターン光学異方性層およびハードコート層を備える光学フィルムの製造方法に関する。
　偏光膜および光学異方性層を含む光学フィルムは、非常に多くの用途を有している。特に、光学異方性層が、面内遅相軸方向および面内レターデーションの少なくとも一方が異なる複数の位相差領域を含むパターン光学異方性層の場合、右眼用画像および左眼用画像を互いに反対方向の円偏光画像とするための３Ｄ画像表示装置用光学フィルムとして、有効に用いられる。
　このような光学フィルムとしては、例えば、透明支持体上に、パターン光学異方性層と偏光膜とを配置する態様が開示されている（特許文献１参照）。なお、特許文献１においては、透明支持体として、セルロースアセテート透明支持体などが使用されている。
特開２０１２－１５０４２８号公報
　近年、テレビなどの画像表示装置に代表される電子機器の薄膜化へのニーズが大きく、それらに使用される部材の薄膜化が求められている。また、３Ｄ画像表示装置の画質に関するより一層の向上が求められており、パターン光学異方性層中のパターンの位置ずれのより一層の抑制も求められている。
　一方、特許文献１に記載されるような、支持体を使用した光学フィルムの場合は、支持体の厚みを低減することができず、薄膜化の要求に対応することが難しい。また、特許文献１に記載されるようなセルロースアセテート透明支持体を使用した場合は、透明支持体の高い吸湿性のために、経時的に透明支持体が歪んでいき、結果として光学異方性層のパターンずれが生じるおそれがある。
　本発明者らは、上記知見を基にして、透明支持体を用いずにパターン光学異方性層を形成する方法として、転写方法について検討を行った。より具体的には、仮支持体上にパターン光学異方性層を形成して、偏光膜上に転写する方法について検討を行った。
　上記検討を行ったところ、パターン光学異方性層単層のみでは、機械的強度が低く、パターン光学異方性層のひび、割れ、輝度ムラが生じるなどの問題があることを知見した。また、パターン光学異方性層を偏光膜上に転写する際に、パターン光学異方性層の取扱い性が劣るため、パターン光学異方性層中のパターンが所定の位置に配置されない、というパターンの位置ずれが生じやすかった。
　本発明は、上記実情に鑑みて、薄膜化されたパターン光学異方性層のひび、割れ、および、輝度ムラが抑制されると共に、パターン光学異方性層中のパターンの位置ずれの発生が抑制される光学フィルムの製造方法を提供することを課題とする。
　本発明は、従来技術の問題点について鋭意検討した結果、仮支持体上に所定の厚みのパターン光学異方性層およびハードコート層を備える光学積層体を形成して、偏光膜上に転写することにより、上記課題を解決できることを見出した。
　すなわち、以下の構成により上記目的を達成することができることを見出した。
（１）　少なくとも偏光膜、パターン光学異方性層、および、ハードコート層を有し、パターン光学異方性層が、面内遅相軸方向および面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域および第２位相差領域を含み、かつ、第１位相差領域および第２位相差領域が面内において交互に配置されている、光学フィルムの製造方法であって、
　少なくとも、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを用いてパターン光学異方性層を形成する工程Ａ、および、重合性化合物を含む組成物Ｂを用いてハードコート層を形成する工程Ｂを実施して、仮支持体上に、厚みが０．５～３．０μｍのパターン光学異方性層および厚みが３．０～２０μｍのハードコート層を含む光学積層体を形成して、仮支持体付き光学積層体を得る工程Ｘと、
　仮支持体上の光学積層体を偏光膜上に転写する工程Ｙとを有する、光学フィルムの製造方法。
（２）　工程Ｘが、工程Ａおよび工程Ｂをこの順で実施して、仮支持体、パターン光学異方性層、および、ハードコート層をこの順で有する仮支持体付き光学積層体を得る工程であり、
　工程Ｙが、仮支持体付き光学積層体から仮支持体を剥離する工程Ｃと、工程Ｃで得られた光学積層体のパターン光学異方性層の表面に、偏光膜を貼り合せて、光学フィルムを得る工程Ｄとを備える、（１）に記載の光学フィルムの製造方法。
（３）　工程Ｘが、工程Ｂおよび工程Ａをこの順で実施して、仮支持体、ハードコート層、およびパターン光学異方性層をこの順で有する仮支持体付き光学積層体を得る工程であり、
　工程Ｙが、仮支持体付き光学積層体中のパターン光学異方性層の表面に、偏光膜を貼り合せる工程Ｅと、工程Ｅで得られた積層体から仮支持体を剥離して、光学フィルムを得る工程Ｆとを備える、（１）に記載の光学フィルムの製造方法。
（４）　ハードコート層の厚みが３．０～１５μｍである、（１）～（３）のいずれかに記載の光学フィルムの製造方法。
（５）　工程Ａが、重合性基を有する液晶性化合物を配向させるための配向膜を形成する工程（１）と、
　フォトマスク下、配向膜に対してパターン状に光照射する工程（２）と、
　配向膜上に、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを塗布して塗膜を形成する工程（３）と、
　配向膜の一方の領域上の液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向に配向させ、配向膜の他方の領域上の液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向とは異なる第二の方向に配向させる工程（４）と、
　配向させた液晶性化合物の重合反応を進行させて配向状態を固定化し、第１位相差領域および第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を形成する工程（５）と、をこの順で含む、（１）～（４）のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法。
（６）　第１位相差領域および第２位相差領域の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションが、それぞれ９０～１６０ｎｍである、（１）～（５）のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法。
（７）　第１位相差領域および第２位相差領域の面内遅相軸方向が互いに直交する、（１）～（６）のいずれか１つに記載の光学フィルムの製造方法。
　本発明によれば、薄膜化されたパターン光学異方性層のひび、割れ、および、輝度ムラが抑制されると共に、パターン光学異方性層中のパターンの位置ずれの発生が抑制される光学フィルムの製造方法を提供することができる。
仮支持体付き光学積層体の模式的断面図である。 パターン光学異方性層の一実施態様を示す斜視図である。 仮支持体上の光学積層体を偏光膜に転写する手順の一実施態様を示す模式図である。 仮支持体上の光学積層体を偏光膜に転写する手順の他の実施態様を示す模式図である。 パターン光学異方性層の第１位相差領域および第２位相差領域の面内遅相軸と偏光膜の透過軸との関係の一例を示す概略図である。 工程Ｙの製造手順の一例の流れを示す模式図である。 工程Ｙの製造手順の他の例の流れを示す模式図である。 工程Ｙの製造手順の他の例の流れを示す模式図である。 工程Ｘおよび工程Ｙの製造手順の一例の流れを示す模式図である。
　以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。まず、本明細書で用いられる用語について説明する。
　Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ　２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）の測定方法の詳細は、特開２０１３－０４１２１３号公報の段落００１０～００１２に記載され、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
　なお、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
　また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、「同一方向」、および「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
　以下、本発明の光学フィルムの製造方法の好適実施態様について詳述する。
　まず、本発明の光学フィルムの製造方法の特徴点としては、所定の厚みのパターン光学異方性層および所定の厚みのハードコート層を設ける点が挙げられる。パターン光学異方性層と、所定の重合性化合物を含む組成物Ｂから形成されるハードコート層とを合わせて設け、光学積層体を作製することにより、仮支持体からパターン光学異方性層を剥離する場合のパターン光学異方性層の機械的強度を補強し、剥離時に発生するパターン光学異方性層のひび、割れ、および、輝度ムラの発生を抑制する。なお、その際、ハードコート層の厚みを所定の範囲にすることが重要である。つまり、ハードコート層の厚みが薄すぎる場合は、パターン光学異方性層のひび、割れ、および、輝度ムラの発生を抑制できない。また、ハードコート層が厚すぎる場合は、重合性化合物の重合の際に生じるハードコート層の収縮につられて、パターン光学異方性層も収縮してしまい、パターンの位置ずれが生じてしまう。
　本発明の光学フィルムの製造方法は、仮支持体付き光学積層体を得る工程Ｘと、仮支持体上の光学積層体を偏光膜上に転写する工程Ｙとを少なくとも備える。
　以下、それぞれの工程について詳述する。
＜工程Ｘ：光学積層体形成工程＞
　工程Ｘは、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを用いてパターン光学異方性層を形成する工程Ａ、および、重合性化合物を含む組成物Ｂを用いてハードコート層を形成する工程Ｂを有する工程である。本工程Ｘを実施することにより、仮支持体上に、厚みが０．５～３μｍ以下のパターン光学異方性層および厚みが３～２０μｍのハードコート層を含む光学積層体を形成でき、仮支持体付き光学積層体を得ることができる。
　工程Ｘには、上記工程Ａおよび上記工程Ｂが含まれ、工程Ａおよび工程Ｂの実施の順番は特に制限されず、順不同に実施される。
　より具体的には、工程Ａおよび工程Ｂの順に実施される場合は、仮支持体上に上記組成物Ａが塗布されてパターン光学異方性層が形成され、その後、パターン光学異方性層上に組成物Ｂが塗布されてハードコート層が形成され、図１（Ａ）に示すように、仮支持体１０、パターン光学異方性層１２、ハードコート層１４をこの順で有する仮支持体付き光学積層体１６ａが得られる。なお、パターン光学異方性層１２およびハードコート層１４は、光学積層体１８を形成する。
　また、工程Ｂおよび工程Ａの順に実施される場合は、仮支持体上に上記組成物Ｂが塗布されてハードコート層が形成され、その後、ハードコート層上に組成物Ａが塗布されてパターン光学異方性層が形成され、図１（Ｂ）に示すように、仮支持体１０、ハードコート層１４、パターン光学異方性層１２をこの順で有する仮支持体付き光学積層体１６ｂが得られる。
　以下では、まず、本工程で使用される仮支持体について詳述し、その後、工程Ａおよび工程Ｂについて詳述する。
［仮支持体］
　仮支持体（剥離性支持体）は、後述する光学積層体を支持する基材であり、光学積層体表面と剥離可能に密着する。後述するように、偏光膜上に光学積層体が転写される際には、仮支持体と光学積層体とは分離される。
　なお、仮支持体の表面は、易剥離性を示す。「易剥離性」とは、仮支持体付き光学積層体に光学積層体を剥離するための外力を加えた場合、パターン光学異方性層とハードコート層との界面で剥離すること無く、仮支持体と光学積層体との界面で剥離する性質を意味する。つまり、パターン光学異方性層とハードコート層との界面の剥離強度は、仮支持体と光学積層体との界面の剥離強度よりも大きいことを意図する。
　なお、例えば、後述する工程Ａおよび工程Ｂをこの順で実施すると、パターン光学異方性層表面上に残存している重合性基と重合性化合物中に含まれる重合性基とが反応し、パターン光学異方性層とハードコート層との間で強固な結合が生じ、結果として両者の界面の剥離強度は高くなる。工程Ｂおよび工程Ａをこの順で実施した場合も同様である。
　仮支持体としては、例えば、表面をシリコーン系剥離剤やその他の剥離剤で処理した支持体、それ自体が剥離性を有する支持体などが挙げられる。
　仮支持体を構成する材料としては、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。
　なかでも、剥離性が優れる点から、熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマーが好ましく、熱可塑性ノルボルネン系ポリマー、ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマーがより好ましい。
　仮支持体の厚みは特に制限されないが、仮支持体付き光学積層体の取扱い性に優れる点から、２０～５００μｍが好ましく、５０～２５０μｍがより好ましい。
　なお、仮支持体は１層で構成されていても、後述するように、２層以上の積層構造であってもよい。
［工程Ａ：パターン光学異方性層形成工程］
　工程Ａは、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを用いてパターン光学異方性層を形成する工程である。
　本工程で形成されるパターン光学異方性層とは、同一面内に、面内遅相軸方向および面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域および第２位相差領域を含み、かつ、第１位相差領域および第２位相差領域が、面内において交互に配置されている光学異方性層である。
　図２に、パターン光学異方性層の好適態様の一つを示す。図２に示すパターン光学異方性層１２は、面内遅相軸方向が互いに異なるストライプ状の第１位相差領域１２ａおよび第２位相差領域１２ｂを含み、かつ、第１位相差領域１２ａおよび第２位相差領域１２ｂが、同一面内において交互に配置される。なお、第１位相差領域１２ａおよび第２位相差領域１２ｂにおいては、互いに直交する面内遅相軸ａおよびｂをそれぞれ有する。
　パターン光学異方性層１２中の第１位相差領域１２ａおよび第２位相差領域１２ｂの形状および配置パターンは、図２の態様に限定されるものではない。
　本発明の製造方法より得られる光学フィルムが３Ｄ画像表示装置用光学フィルムとして使用される場合、パターン光学異方性層は偏光膜とともに表示パネルの視認側外側に配置され、上記第１位相差領域および上記第２位相差領域のそれぞれを通過した偏光画像が、偏光眼鏡等を介して右眼用または左眼用の画像として、認識される。従って、左右画像が不均一とならないように、第１位相差領域および第２位相差領域は、互いに等しい形状であるのが好ましく、またそれぞれの配置は、均等かつ対称的であるのが好ましい。
　パターン光学異方性層中のそれぞれの位相差領域の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは特に制限されないが、８０～２００ｎｍが好ましく、９０～１６０ｎｍがより好ましい。面内レターデーションが上記範囲内であれば、３Ｄ画像装置用光学フィルムとして用いた際のクロストークの発生がより抑制される。
　パターン光学異方性層の厚みは０．５～３．０μｍであり、光学フィルムをより薄くでき、かつ、３Ｄ画像装置の表示特性を得られる点より、０．５～２．５μｍが好ましく、０．５～２．０μｍがより好ましい。
　なお、上記パターン光学異方性層の厚みは平均厚みであり、任意の１０箇所以上のパターン光学異方性層の厚みを測定して、それらを算術平均することにより求められる。
　工程Ａでは、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａが使用される。以下では、組成物Ａに含まれる成分について詳述する。
＜重合性基を有する液晶性化合物＞
　上記工程Ａで使用される液晶性化合物に含まれる重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基が好ましい。より具体的には、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基などが好ましく挙げられ、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
　なお、本明細書では、（メタ）アクリロイル基とは、メタアクリロイル基およびアクリロイル基の両者を含む概念である。
　また、本工程で使用される液晶性化合物の種類は特に制限されず、一般的に、その形状から、棒状タイプ（棒状液晶性化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物））に分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできる。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。液晶性化合物の固定化のために、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することが好ましい。液晶性化合物が２種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
　棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１－５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５－２８９９８０号公報の段落［００２６］～［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７－１０８７３２号公報の段落［００２０］～［００６７］や特開２０１０－２４４０３８号公報の段落［００１３］～［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。
　なお、組成物Ａには、必要に応じて他の成分が含まれていてもよく、例えば、後述する組成物Ｂ中に含まれてもよい重合開始剤や溶媒などが挙げられる。
　パターン光学異方性層における面内レターデーションを上記範囲内とするために、液晶性化合物の配向状態を制御することがある。このとき、棒状液晶性化合物を用いる場合には、棒状液晶性化合物を水平配向した状態で固定化するのが好ましく、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物を垂直配向した状態で固定化するのが好ましい。なお、本発明において、「棒状液晶性化合物が水平配向」とは、棒状液晶性化合物のダイレクタと層面が平行であることをいい、「ディスコティック液晶性化合物が垂直配向」とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と層面が垂直であることをいう。厳密に水平、垂直であることを要求するものではなく、それぞれ正確な角度から±２０°の範囲であることを意味するものとする。±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましく、±２°以内であることがさらに好ましく、±１°以内であることが最も好ましい。
　また、液晶性化合物を水平配向、垂直配向状態とするために、組成物Ａには、水平配向、垂直配向を促進する添加剤（配向制御剤）を使用してもよい。添加剤としては各種公知のものを使用できる。
　上記液晶性化合物を用いたパターン光学異方性層の形成方法は特に制限されず、各種公知の方法を用いて形成できる。通常、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａ（光学異方性層形成用組成物）を仮支持体上またはハードコート層上に塗布して、電離放射線の照射より硬化（重合）させ、液晶性化合物を固定化する方法が実施される。塗布の方法は、後述する組成物Ｂを塗布する方法が挙げられる。
　なお、パターン光学異方性層を形成する際には、配向膜を用いてもよい。
　配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコールまたはポリイミド、および、その誘導体が好ましい。特に、変性または未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行～４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］～［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。なお、配向膜には、通常、公知のラビング処理が施される。つまり、配向膜は、通常、ラビング処理されたラビング配向膜であることが好ましい。
　配向膜の厚さは、薄い方が好ましいが、パターン光学異方性層形成のための配向能の付与、および、支持体の表面凹凸を緩和して均一な膜厚のパターン光学異方性層を形成するという観点からはある程度の厚みがあることが好ましい。具体的には、配向膜の厚さは、０．０１～１０μｍであることが好ましく、０．０１～１μｍであることがより好ましく、０．０１～０．５μｍであることがさらに好ましい。
　また、本発明では光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては特に限定はされないが、ＷＯ２００５／０９６０４１号公報の段落［００２４］～［００４３］に記載のものやＲｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ－ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。
　以下、上記液晶性化合物を用いたパターン光学異方性層の形成方法の好適な態様を例示する。
　第１の好適態様は、液晶性化合物の配向を制御する複数の作用を利用し、その後、外部刺激（熱処理等）によりいずれかの作用を消失させて、所定の配向制御作用を支配的にする方法である。上記の方法としては、例えば、配向膜による配向制御能と、液晶性化合物中に添加される配向制御剤の配向制御能との複合作用により、液晶性化合物を所定の配向状態とし、それを固定して一方の位相差領域を形成した後、外部刺激（熱処理等）により、いずれかの作用（例えば配向制御剤による作用）を消失させて、他の配向制御作用（配向膜による作用）を支配的にし、それによって他の配向状態を実現し、それを固定して他方の位相差領域を形成する。この方法の詳細については、特開２０１２－００８１７０号公報の段落［００１７］～［００２９］に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
　第２の好適態様は、パターン配向膜を利用する態様である。この態様では、互いに異なる配向制御能を有するパターン配向膜を形成し、その上に、液晶性化合物を配置し、液晶性化合物を配向させる。液晶性化合物は、パターン配向膜のそれぞれの配向制御能によって、互いに異なる配向状態を達成する。それぞれの配向状態を固定することで、配向膜のパターンに応じて第１および第２の位相差領域のパターンが形成される。パターン配向膜は、印刷法、ラビング配向膜に対するマスクラビング、光配向膜に対するマスク露光等を利用して形成することができる。大掛かりな設備が不要である点や製造容易な点で、印刷法を利用する方法が好ましい。この方法の詳細については、特開２０１２－０３２６６１号公報の段落［０１６６］～［０１８１］に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
　第３の好適態様としては、例えば、配向膜中に光酸発生剤を添加する態様である。この例では、配向膜中に光酸発生剤を添加し、パターン露光により、光酸発生剤が分解して酸性化合物が発生した領域と、発生していない領域とを形成する。光未照射領域では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶性化合物、および必要に応じて添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶性化合物を、その面内遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し、酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶性化合物は、その面内遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。配向膜に用いられる光酸発生剤としては、水溶性の化合物が好ましく用いられる。使用可能な光酸発生剤の例には、Ｐｒｏｇ． Ｐｏｌｙｍ． Ｓｃｉ．， ２３巻、１４８５頁（１９９８年）に記載の化合物が含まれる。光酸発生剤としては、ピリジニウム塩、ヨードニウム塩およびスルホニウム塩が特に好ましく用いられる。この方法の詳細については、特願２０１０－２８９３６０号明細書に記載があり、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
　工程Ａの好適態様としては、以下の工程（１）～（５）を含む態様が挙げられる。
工程（１）：重合性基を有する液晶性化合物を配向させるための配向膜を形成する工程
工程（２）：フォトマスク下、配向膜に対してパターン状に光照射する工程
工程（３）：配向膜上に、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを塗布して塗膜を形成する工程
工程（４）：配向膜の一方の領域上の液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向に配向させ、配向膜の他方の領域上の液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向とは異なる第二の方向に配向させる工程
工程（５）：配向させた液晶性化合物の重合反応を進行させて配向状態を固定化し、第１位相差領域および第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を形成する工程
　以下、上記好適態様について詳述する。
　なお、上記工程（２）の「パターン状に光照射」とは、光を照射する照射領域および光を照射しない未照射領域を含むようにパターンを形成する場合や、露光量が低い領域および露光量が多い領域を含むような露光量の違いによりパターンを形成する場合がある。また、上記配向膜の一方の領域および他方の領域とは、パターン状に光照射した際に生じる露光量の異なる領域を意図し、例えば、光照射領域および未照射領域、または、露光量の多い領域および露光量の少ない領域をそれぞれ意図する。
　上記方法では、パターン光学異方性層の形成に、一方向に配向処理された配向膜を利用することが好ましい。配向処理は、工程（１）から工程（３）の間に実施することが好ましい。配向処理は、ラビング処理または光配向処理を利用することが好ましく、具体的には、工程（１）と工程（２）との間、工程（２）、または、工程（２）と工程（３）との間に、実施することができる。
　配向処理に光配向処理を用いる場合、工程（１）から工程（３）の間であれば、どの段階でも実施できるが、工程（２）の光照射を配向処理に用いるのが好ましい。
　配向処理にラビング処理を用いる場合は、工程（１）と工程（２）との間に、または、工程（２）と工程（３）との間に、実施することができるが、工程（２）と工程（３）との間に実施するのが好ましい。
　上記配向処理のうち、工程（２）の光照射、または、工程（２）と工程（３）の間に実施するラビング処理を用いるのが好ましく、工程（２）と工程（３）の間に実施するラビング処理を用いるのがより好ましい。
　以降、本発明で最も好ましい態様である、ラビング処理による配向処理について記載する。なお、以下で説明する態様では、少なくとも一種の光酸発生剤を含む組成物からなる配向膜を用いており、パターン状の光照射は光照射領域および未照射領域が生じるように実施する。
　ラビング処理された配向膜（ラビング配向膜）は、ラビング処理によって配向制御能を発現する。通常、一方向にラビング処理された配向膜上で液晶性化合物を配向させると、液晶性化合物は、ラビング方向に対して、その面内遅相軸を平行にして、または直交にして配向する。いずれの配向状態になるかは、配向膜材料、液晶性化合物、および配向制御剤の１以上の種類等によって決定される。後述するように、上記方法では、配向膜への光照射によって発生する酸性化合物の効果により、配向膜材料を分解、および／または、配向制御剤の配向膜界面偏在性を変化させて、ラビング方向に対して液晶性化合物の遅相軸が直交配向した配向状態、および、ラビング方向に対して液晶性化合物の遅相軸が平行配向した配向状態を、それぞれ実現している。第１位相差領域および第２位相差領域の形状および配置は、工程（２）に用いられるフォトマスクを選択することで、所望の形状および配置のパターンにすることができる。
　上記方法では、配向膜の光照射領域上の液晶性化合物の遅相軸を第一の方向に配向させ、配向膜の未照射領域上の液晶性化合物の遅相軸を第一の方向とは異なる第二の方向に配向させる。光照射により、少なくとも一種の光酸発生剤が分解し、光照射領域と光未照射領域とでは、分解によって生じる酸性化合物の割合に差が生じ、それによって配向膜の配向制御能にも差を持たせることができる。一例は、以下の通りである。
　未照射領域では光酸発生剤はほぼ未分解のままであり、配向膜材料、液晶性化合物、および所望により添加される配向制御剤の相互作用が配向状態を支配し、液晶性化合物を、その遅相軸がラビング方向と直交する方向に配向させる。配向膜へ光照射し酸性化合物が発生すると、その相互作用はもはや支配的ではなくなり、ラビング配向膜のラビング方向が配向状態を支配し、液晶性化合物は、その遅相軸をラビング方向と平行にして平行配向する。これらの状態を達成する条件は、使用する各材料／量および照射条件によって変動し、一概に決めることはできない。
　なお、光酸発生剤とは、紫外線等の光照射により分解し酸性化合物を発生する化合物である。光酸発生剤が、光照射により分解して酸性化合物を発生すると、配向膜の配向制御能に変化が生じる。ここでいう配向制御能の変化は、配向膜単独の配向制御能の変化として特定されるものであっても、配向膜とその上に配置される組成物Ａ中に含まれる添加剤等とによって達成される配向制御能の変化として特定されるものであってもよいし、またこれらの組み合わせとして特定されるものであってもよい。光酸発生剤の具体的な態様としては、特開２０１３－２９５５２号の段落［００４５］～［００５７］に例示される化合物が挙げられる。
　上記例では、工程（３）に用いられる組成物Ａが配向膜界面配向制御剤を含有し、工程（２）で配向膜の光照射領域に発生した酸性化合物もしくはその構成イオンが、配向膜界面配向制御剤の配向膜界面偏在性を減少させることによって、配向膜の光照射領域と光未照射領域とに配向制御能の差をもたせてもよい。配向膜界面配向制御剤としてオニウム塩を用いると、円盤状液晶性化合物を、ラビング軸に対して円盤面を直交にして、かつ、円盤面を層面に対して垂直にして配向（即ち直交垂直配向）させることができる。配向膜の光未照射領域上では、配向膜界面配向制御剤が配向膜界面に偏在し、円盤状液晶性化合物を直交垂直配向させるが、配向膜の光照射領域上では、配向膜界面制御剤の配向膜界面偏在性が、光酸発生剤が分解することによって生じた酸性化合物またはそれを構成するイオンによって軽減され、配向膜界面配向制御剤の作用は弱められる。その結果、ラビング処理によって発現された配向制御能が支配的になり、円盤状液晶性化合物は、ラビング軸に対して円盤面を平行にして且つ円盤面を層面に対して垂直にして配向、即ち平行垂直配向状態に転移する。
　この態様では、配向膜界面配向制御剤の配向膜界面偏在性の減少は、配向膜界面配向制御剤を構成しているイオンと、光照射領域に発生した酸性化合物の構成イオンとのイオン交換により生じてもよい。例えば、配向膜界面配向制御剤としてピリジニウム化合物およびイミダゾリウム化合物等のオニウム塩を用いた例では、オニウム塩と、光照射領域に発生した酸性化合物とのアニオン交換により、オニウム塩の配向膜界面偏在性が減少してもよい。
　工程（２）では、フォトマスク下、光照射（例えば、紫外線照射）して、酸性化合物を発生させる。前述の通り、光酸発生剤の分解とともに酸性化合物の生成および拡散が起こるため、フォトマスク下での照射には、紫外線を用いるのが好ましく、非偏光紫外線を用いるのがより好ましい。照射波長としては２００～２５０ｎｍにピークを有することが好ましく、ＵＶ－Ｃ光源を用いることが好ましく、その露光量は、５～１０００ｍＪ／ｃｍ2程度であることが好ましく、５～１００ｍＪ／ｃｍ2程度であることがさらに好ましく、５～５０ｍＪ／ｃｍ2程度であることが特に好ましい。露光量が上記範囲であれば、パターン解像度に優れるパターンが形成される。なお、パターン解像度を向上させるためには、室温で露光することが好ましい。
　後述する工程（５）における、配向状態の固定も、光照射（例えば、紫外線照射）により、重合性液晶の重合反応を進行させることで達成するのが好ましい。照射エネルギーは、１０ｍＪ／ｃｍ2～１０Ｊ／ｃｍ2であることが好ましく、２５～８００ｍＪ／ｃｍ2であることがより好ましい。照度は１０～１０００ｍＷ／ｃｍ2であることが好ましく、２０～５００ｍＷ／ｃｍ2であることがより好ましく、４０～３５０ｍＷ／ｃｍ2であることがさらに好ましい。照射波長としては２５０～４５０ｎｍにピークを有することが好ましく、３００～４１０ｎｍにピークを有することがより好ましい。光重合反応を促進するため、窒素などの不活性ガス雰囲気下または加熱条件下で光照射を実施してもよい。光源としては、低圧水銀ランプ、高圧放電ランプあるいはショートアーク放電ランプが好ましく用いられる。
　なお、配向状態の固定のための重合反応は、迅速に進行するので、工程（５）において全面に光照射され、その段階で光酸発生剤が分解しても、光学異方性層の配向状態への影響はない。
　工程（４）の液晶の配向、および、工程（５）における液晶配向状態の固定は、任意の温度で実施することができるが、工程（４）の液晶の配向温度Ｔ1℃、工程（５）の配向状態の固定温度をＴ2℃とすると、Ｔ1＞Ｔ2を満足する温度で行うことが好ましい。この条件を満足すると、配向状態の乱れをより抑制しつつ、配向状態の固定が可能となる。Ｔ1℃およびＴ2℃それぞれの好ましい温度範囲は、選択する材料等に応じて変動する。一般的には、Ｔ1℃は約５０～約１５０℃であり、Ｔ2℃は約２０～約１２０℃である。またＴ1とＴ2との差は、約１０～約１００℃であるのが好ましい。
［工程Ｂ：ハードコート層形成工程］
　工程Ｂは、重合性化合物を含む組成物Ｂを用いてハードコート層を形成する工程である。ハードコート層は、上記パターン光学異方性層上に配置される層で、外部からの衝撃からパターン光学異方性層を保護する役割を果たす。
　ハードコート層の厚みは３．０～２０μｍであり、パターン光学異方性層中のパターンの位置ズレがより抑制される点で、３．０～１５μｍが好ましく、３．０～１０μｍがより好ましく、３．５～７．０μｍがさらに好ましい。
　ハードコート層の厚みが３．０μｍ未満の場合、形成されるハードコート層の強度が十分でなく、パターン光学異方性層中にひび、割れ、および、輝度ムラの発生を抑制できない。また、ハードコート層が２０μｍ超の場合は、重合性化合物の重合の際に生じるハードコート層の収縮につられて、パターン光学異方性層が仮支持体ごと収縮してしまい、パターンの位置ずれによるクロストークが生じてしまう。
　なお、上記ハードコート層の厚みは平均厚みであり、任意の１０箇所以上のハードコート層の厚みを測定して、それらを算術平均することにより求められる。
　以下では、まず、組成物Ｂ（ハードコート層形成用組成物）中に含まれる成分について詳述する。
　組成物Ｂには、重合性化合物が含有される。重合性化合物は硬化処理により重合して、ハードコート層中のバインダーを構成する。重合性化合物には、上述した重合性基が含まれ、重合性基を２つ以上有する多官能化合物であることが好ましい。重合性基を２つ以上有する多官能化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性基は３つ以上であることがより好ましい。
　重合性基を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、なかでも、（メタ）アクリロイル基または－Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ2が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
　重合性化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類などが挙げられる。
　なかでも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４－ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６－ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３－クロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
　組成物Ｂ中の重合性化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、組成物Ｂ中の全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０～９９質量％がより好ましく、７０～９９質量％がさらに好ましく、８０～９９質量％が特に好ましい。
　組成物Ｂは、上記重合性化合物以外に、他の成分が含まれていてもよい。
　例えば、組成物Ｂには、重合開始剤が含まれていてもよい。重合開始剤としては、主に、光重合開始剤と熱重合開始剤とが使用できるが、光重合性開始剤が好ましく使用される。
　光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３－ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、および好ましい態様、市販品などは、特開２００９－０９８６５８号公報の段落［０１３３］～［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いる。
　組成物Ｂ中の光重合開始剤の含有量は、組成物Ｂに含まれる重合性化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、組成物Ｂ中の全固形分に対して、０．５～８質量％が好ましく、１～５質量％がより好ましい。
　組成物Ｂは、溶媒を含有することができる。溶媒としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶媒を用いることができる。有機溶媒としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４－ジオキサン、１，３－ジオキソラン、１，３，５－トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ－プチロラクトン、２－メトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸メチル、２－エトキシ酢酸エチル、２－エトキシプロピオン酸エチル、２－メトキシエタノール、２－プロポキシエタノール、２－ブトキシエタノール、１，２－ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ－ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２－オクタノン、２－ペンタノン、２－ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
　組成物Ｂの固形分の濃度は２０～８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０～７５質量％であり、さらに好ましくは４０～７０質量％である。
　ハードコート層としては、防眩性を有するハードコート層であってもよい。防眩性のハードコート層としては、例えば、特開平１０－２０６６０３号公報、特開２００２－２４３９０６号公報、特開２００７－２６４１１３号公報などに開示される。
　なお、ハードコート層には、防眩性の付与のために、透光性粒子が含まれていてもよい。このようなハードコート層を形成するためには、上記組成物Ｂ中に透光性粒子が含まれていてもよい。
　透光性粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ2粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子；が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、シリカ粒子が好ましい。
　透光性粒子の形状は、球形あるいは不定形のいずれも使用できる。
　また、ハードコート層において、透光性粒子の凝集性を制御するために、スメクタイト型粘土に、４級アンモニウム塩をインターカレーションさせることにより得られるスメクタイト型粘土有機複合体を利用する態様も好適に例示される。
　また、透光性粒子と、ハードコート層を構成するマトリックスポリマー（バインダー）との屈折率の差は、絶対値として、好ましくは０．０５未満であり、より好ましくは０．００１～０．０３０、さらに好ましくは０．００１～０．０２０である。ハードコート層中の透光性粒子とマトリックスポリマーとの屈折率の差を０．０５未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、光学異方性層の透過光の偏光を解消するなどの悪化作用が無く好ましい。
　上記組成物Ｂを用いたハードコート層の形成方法は特に制限されないが、通常、仮支持体上またはパターン光学異方性層上に組成物Ｂを塗布して、必要に応じて、塗膜に対して硬化処理を施す方法が挙げられる。
　組成物Ｂの塗布の方法は特に制限されず、例えば、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法などが挙げられる。
　なお、塗布後必要に応じて、溶媒を除去するために、加熱・乾燥処理を実施してもよい。
　硬化処理の方法は特に制限されず、加熱処理または光照射処理（電離放射線照射）が挙げられる。例えば、組成物Ｂの塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０～１０００ｍＪ／ｃｍ2の照射量の紫外線を照射して塗膜を硬化するのが好ましい。さらに、表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度０．０１～５％が好ましい。
　紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。また、硬化反応を促進するために、硬化時に温度を高めることもでき、２５～１００℃が好ましく、さらに好ましくは３０～８０℃、最も好ましくは４０～７０℃である。
　また、本発明では、上記組成物Ａおよび上記組成物Ｂのいずれか一方および／または両方に、レベリング剤を含有することができる。レベリング剤は、組成物の塗布後の面状をより均一にすることができる。
　上記工程ＡおよびＢを経ることにより、仮支持体上に、パターン光学異方性層およびハードコート層を含む光学積層体が配置された仮支持体付き光学積層体が製造される。
　光学積層体の厚みは特に制限されず、通常、上述したパターン光学異方性層の厚みとハードコート層の厚みとの合計厚みとなるが、光学積層体の取扱い性がより優れる点で、４．０～２２μｍが好ましく、５．０～１５μｍがより好ましい。
　なお、光学積層体には、その厚みをより薄くする点から、上述した、パターン光学異方性層、ハードコート層および必要に応じて使用される配向膜以外の層が含まれないことが好ましい。特に、特許文献１に記載されるような、支持体（透明支持体）は光学積層体に含まれない。
　本発明では、場合により表面処理を行うことによって、光学積層体のうち、パターン光学異方性層とハードコート層、または、パターン光学異方性層若しくはハードコート層とそれ以外の層（例えば、配向膜、偏光膜、下塗層およびバック層）との接着性の向上を達成することができる。例えば、グロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０-3～２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、さらにまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体としては、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であればよく、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などが挙げられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号　２００１－１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁～３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
（その他の機能層）
　本発明の光学積層体は、必要に応じて、他の機能層を設けることができる。例えば、パターン光学異方性層の光学特性を制御するための非パターン光学異方性層、光学フィルムの屈折率を制御し空気界面および光学積層体の積層界面での反射を低減するための反射防止層、ハードコート層とパターン光学異方性層との密着性を向上するための密着性層、仮支持体との剥離性を向上する剥離層または離型層、光学フィルムのガスバリア性を向上するガスバリア層、光学フィルムの透湿度を下げ耐久性を向上するための低透湿層、光学フィルムのごみ付着性を防止する導電性層、光学フィルム表面の汚れ防止や汚れのふき取り性を向上する防汚層、光学フィルムの吸収スペクトルを制御し偏光子の退色を防止する退色防止層などが挙げられる。尚、本発明の光学フィルムの発明の効果を損なわない限り、これらの機能層を設ける層数や機能、および、これらの組み合わせについては限定されない。
＜工程Ｙ：転写工程＞
　工程Ｙは、上記工程Ｘで形成された仮支持体上の光学積層体を偏光膜上に転写する工程である。本工程を実施することにより、光学積層体と偏光膜とを含む光学フィルムを製造することができる。
　転写する方法については特に制限されず、偏光膜上に光学積層体を転写できれば特に方法は限定されない。
　例えば、図１（Ａ）に示す、仮支持体付き光学積層体１６ａを用いた場合は、仮支持体付き光学積層体から仮支持体を剥離する工程Ｃと、工程Ｃで得られた光学積層体のパターン光学異方性層の表面に、偏光膜を貼り合せる工程Ｄとを実施する方法が挙げられる。より具体的には、まず、図３（Ａ）に示すように、仮支持体付き光学積層体１６ａから仮支持体１０を剥離して、その後図３（Ｂ）に示すように、パターン光学異方性層１２側の表面に偏光膜２０を貼り合せて、所望の光学フィルム１００ａを得る方法が挙げられる。
　また、図１（Ｂ）に示す、仮支持体付き光学積層体１６ｂを用いた場合は、仮支持体付き光学積層体中のパターン光学異方性層の表面に、偏光膜を貼り合せる工程Ｅと、工程Ｅで得られた積層体から仮支持体を剥離して、光学フィルムを得る工程Ｄとを実施する方法が挙げられる。より具体的には、まず、図４（Ａ）に示すように、パターン光学異方性層１２側の表面に偏光膜２０を貼り合せて、その後、図４（Ｂ）に示すように、仮支持体１０を剥離することにより、所望の光学フィルム１００ｂを得る方法が挙げられる。
　なお、図３および４では、パターン光学異方性層の表面上に偏光膜を貼り合せる態様を示すが、本発明は上記態様に限定されない。
　偏光膜を貼り合せる方法は特に制限されず、公知の方法が挙げられる。例えば、ラミネータを用いて、偏光膜を所定の被積層面側に配置して、加熱および／または加圧したローラーまたは平板で圧着または加熱圧着して、貼り付ける方法が挙げられる。
　なお、偏光膜を貼り合せる際には、必要に応じて、粘着層を介して貼り合せてもよい。例えば、図３（Ｂ）中および図４（Ａ）中のパターン光学異方性層１２と偏光膜２０との間に粘着層が介在していてもよい。
　使用される粘着層を構成する材料は特に制限されず、例えば、動的粘弾性測定装置で測定した貯蔵弾性率Ｇ’と損失弾性率Ｇ”との比（ｔａｎδ＝Ｇ”／Ｇ’）が０．００１～１．５である物質が好ましく、いわゆる、粘着剤やクリープしやすい物質等が含まれることが好ましい。本発明に用いることのできる粘着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール系粘着剤が挙げられるが、これに限定されない。
　なお、本工程で使用される偏光膜（偏光子層）は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子を好適に利用することができる。
　偏光膜の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、およびポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
　なお、偏光膜には、その表面に保護フィルムが貼合されていてもよい。
　偏光膜の厚みは特に制限されないが、取扱い性に優れると共に、光学特性にも優れる点より、３５μｍ以下が好ましく、３～２５μｍがより好ましい。
　偏光膜を貼り合せる際には、パターン光学異方性層中の第１位相差領域および第２位相差領域中の面内遅相軸方向に合わせて、適宜最適な貼り合せ方向が選択される。
　例えば、パターン光学異方性層が上記図２に示すような、第１位相差領域および第２位相差領域の面内遅相軸方向が直交する場合は、偏光膜の透過軸に対して第１位相差領域の面内遅相軸および第２位相差領域の面内遅相軸の一方が＋４５°の角度をなし、偏光膜の透過軸に対して第１位相差領域の面内遅相軸および第２位相差領域の面内遅相軸の他方が－４５°の角度をなすことが好ましい。このような構成とすることにより、正確に右円偏光および左円偏光が実現できる。図５は上記態様を示す図であり、偏光膜２０の透過軸と、パターン光学異方性層１２の面内遅相軸の関係を示したものであって、偏光膜２０の透過軸（矢印）と、パターン光学異方性層１２の第１位相差領域１２ａおよび第２位相差領域１２ｂの面内遅相軸（矢印）がそれぞれ４５°および－４５°の角度をなしている。なお、上記角度は４５°および－４５°に限定されず、４５°±１０°および－４５°±１０°であればよい。
　なお、上記面内遅相軸の回転角度は、偏光膜側からパターン光学異方性層を観察して、偏光膜の透過軸を基準とし、時計回り方向に正、反時計回りに負の角度値をもって表す。
　仮支持体を剥離する方法は特に制限されず、公知の方法を採用できる。例えば、図１（Ａ）に示す仮支持体付き光学積層体１６ａの場合、仮支持体１０とパターン光学異方性層１２との間につめを差し込んで剥離のきっかけを与え、その仮支持体１０を光学積層体１８から遠ざかるように湾曲変形させながら、両者を分離する方法が挙げられる。
　上記工程Ｘおよび工程Ｙを経て、偏光膜と、パターン光学異方性層と、ハードコート層とを備える光学フィルムが得られる。得られた光学フィルムは、種々の用途に適用でき、例えば、３Ｄ画像表示装置用光学フィルムとして好適に使用できる。
　上記光学フィルムは、表示パネルの視認側に配置され、表示パネルが表示する画像を右眼用および左眼用の円偏光画像の偏光画像に変換する機能を有する。観察者は、これらの画像を円偏光眼鏡等の偏光板を介して観察し、立体画像として認識する。つまり、光学フィルムを含む３Ｄ画像表示装置として、好適に使用できる。
　上記工程Ｘおよび／または工程Ｙの実施態様としては、生産性の点からは、長尺状のサンプルを用いてロール・ツー・ロールで実施する態様が好ましい。
　例えば、工程Ｙにおいては、生産性の点から、長尺状の仮支持体付き光学積層体と、長尺状の偏光膜とを、ロール・ツー・ロールで貼合して、連続的に長尺状の光学フィルムを製造する方法が好ましい。
　以下、図６に工程Ｙの一実施態様の流れを示す模式図を示す。図６に示すように、まず、送り出しロール３０から矢印の方向に長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ｂが送りだされる。長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ｂは、図に示すように、パターン光学異方性層１２、ハードコート層１４、および、仮支持体１０をこの順で有する。搬送される仮支持体付き光学積層体１６ｂ中のパターン光学異方性層１２上に、偏光膜供給ロール３２より粘着層付き偏光膜Ｆ１が粘着層とパターン光学異方性層１２とが接するように供給され、一対のニップロール３４によって仮支持体付き光学積層体１６ｂ上に圧着される。一対のニップロール３４の間を搬送された積層体中の仮支持体１０は、剥離ロール３６によって剥離され、仮支持体巻取りロール３８によって巻き取られる。なお、仮支持体１０が剥離されることによって得られる光学フィルムは、光学フィルム巻取りロール４０によって巻き取られて、回収される。
　なお、仮支持体巻取りロール３８および光学フィルム巻取りロール４０には、図示しない駆動手段が設けられ、矢印の方向に回転している。
　また、工程Ｙは、上記図６の態様に限定されず、他の態様であってもよい。図７に、工程Ｙの他の実施態様の流れを示す。図７においては、まず、送り出しロール３０から矢印の方向に長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ａが送りだされる。長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ａは、図に示すように、ハードコート層１４、パターン光学異方性層１２、および、仮支持体１０をこの順で有する。まず、搬送される仮支持体付き光学積層体１６ａから仮支持体１０が剥離ロール３６によって剥離され、仮支持体巻取りロール３８によって巻き取られる。その後、搬送されるハードコート層１４およびパターン光学異方性層１２からなる光学積層体中のパターン光学異方性層１２上に、偏光膜供給ロール３２より粘着層付き偏光膜Ｆ１が粘着層とパターン光学異方性層１２とが接するように供給され、一対のニップロール３４によってパターン光学異方性層１２上に圧着され、所望の光学フィルムが得られる。その後、光学フィルムは、光学フィルム巻取りロール４０によって巻き取られて、回収される。
　なお、仮支持体巻取りロール３８および光学フィルム巻取りロール４０には、図示しない駆動手段が設けられ、矢印の方向に回転している。
　さらに、図８に、工程Ｙの他の実施態様の流れを示す。図８に示すように、まず、送り出しロール３０から矢印の方向に長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ａが送りだされる。長尺状の仮支持体付き光学積層体１６ａは、図に示すように、ハードコート層１４、パターン光学異方性層１２、および、仮支持体１０をこの順で有する。まず、搬送される仮支持体付き光学積層体１６ａのハードコート層上に、固定板供給ロール４２より固定板Ｌが供給され、ニップロール３４によってハードコート層上に圧着される。次に、一対のニップロール３４の間を搬送された積層体中の仮支持体１０は、剥離ロール３６によって剥離され、仮支持体巻取りロール３８によって巻き取られる。その後、搬送される固定板Ｌ、ハードコート層１４およびパターン光学異方性層１２からなる積層体中のパターン光学異方性層１２上に、偏光膜供給ロール３２より粘着層付き偏光膜Ｆ１が粘着層とパターン光学異方性層１２とが接するように供給され、一対のニップロール３４によってパターン光学異方性層１２上に圧着される。その後、搬送される積層体中から固定板Ｌが剥離ロール３６によって剥離され、固定板巻取りロール４４によって巻き取られる。その後、形成された光学フィルムは、光学フィルム巻取りロール４０によって巻き取られて、回収される。
　なお、仮支持体巻取りロール３８、光学フィルム巻取りロール４０、および固定板巻取りロール４４には、図示しない駆動手段が設けられ、矢印の方向に回転している。
　上記では工程Ｙをロール・ツー・ロールで実施する態様を述べたが、工程Ｘおよび工程Ｙを一連のロール・ツー・ロールで実施してもよい。
　図９に、工程Ｘおよび工程Ｙの一実施態様の流れを示す模式図を示す。図９に示すように、まず、仮支持体送り出しロール４６から矢印の方向に長尺状の仮支持体が送りだされる。搬送される仮支持体の一方の表面上に、ハードコート層形成用組成物塗布手段４８から上記組成物Ｂが塗布され、その後、図示しないＵＶ硬化装置によって硬化処理が施されて、仮支持体上にハードコート層が形成される。次に、ハードコート層の表面上に、光学異方性層形成用組成物塗布手段５０から上記組成物Ａが塗布され、その後、図示しないラビング処理装置およびＵＶ硬化装置による処理が施されて、パターン光学異方性層が形成される。次に、形成されたパターン光学異方性層の表面上に、粘着剤塗布手段５２から粘着剤が塗布され、粘着層が形成される。次に、搬送されるパターン光学異方性層、ハードコート層および仮支持体からなる仮支持体付き光学積層体中のパターン光学異方性層側上に、偏光膜供給ロール３２より偏光膜Ｆ２が供給され、一対のニップロール３４によってパターン光学異方性層１２上に圧着され、所望の光学フィルムが得られる。その後、一対のニップロール３４の間を搬送された積層体中の仮支持体は、剥離ロール３６によって剥離され、仮支持体巻取りロール３８によって巻き取られる。なお、仮支持体が剥離されることによって得られる光学フィルムは、光学フィルム巻取りロール４０によって巻き取られて、回収される。
　なお、仮支持体巻取りロール３８、および、光学フィルム巻取りロール４０には、図示しない駆動手段が設けられ、矢印の方向に回転している。
　以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
＜ハードコート層用塗布液１の調製＞
　下記の組成となるように各成分をＭＥＫ（メチルエチルケトン）と混合した。孔径５μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液１を調製した。
（ハードコート層塗布液１の組成）
　　アクリレートモノマー（ＮＫエステルＡ９５５０、新中村化学工業社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　 　 ９６．７ｇ
　　重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）    ３．００ｇ
　　レベリング剤（Ｐ－４）　　　　　　　　　　　　  　０．３ｇ
　　ＭＥＫ（メチルエチルケトン）　　　　　　　　　　  １００．０ｇ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000001
［実施例１］
＜光学積層体１の作製＞
（ハードコート層の作製）
　ロール形態である厚み１００μｍのポリエチレンテレフタラートを仮支持体として巻き出して、上記ハードコート層用塗布液１を使用し、仮支持体上に、膜厚５μｍとなるようにハードコート層を塗設した。
　具体的には、特開２００６－１２２８８９号公報の実施例１に記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で各塗布液を塗布し、８０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下酸素濃度約０．１％で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ2、照射量１８０ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して塗布層を硬化させてハードコート層を形成した後、巻き取り、仮支持体上にハードコート層（厚み：５μｍ）を作製した。
（パターン光学異方性層の作製（その１））
　次に、ハードコート層の上に、特表２０１２－５１７０２４号公報の段落［００２８］～［００３５］に記載された実施例の方法を用いて、パターン光学異方性層（厚み：１．５μｍ）を形成し、仮支持体付き光学積層体１を作製した。
　形成されたパターン光学異方性層中では、ストライプ状の第１位相差領域および第２位相差領域が交互に配置されており、それぞれの領域中の面内遅相軸方向は直交していた。また、それぞれの領域における波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは、１２５ｎｍであった。
　なお、上記文献の方法において、ストライプ状に形成された第１位相差領域および第２位相差領域の幅が、それぞれ４８６μｍとなるようなパターンマスクを使用した。
＜保護フィルム付き偏光膜１の作製＞
　１）フィルムの鹸化
　市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック　ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）を、５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
　２）偏光膜の作製
　特開２００１－１４１９２６号公報の実施例１に従い、延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて膜厚２０μｍの偏光膜を作製した。
　３）貼り合わせ
　鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０、上記で作製した偏光膜の順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合して熱乾燥した。この際、セルロースアシレートフィルムの鹸化した面が偏光膜側となるようにし、偏光膜の長手方向と上記セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
＜光学フィルム１の作製＞
　上記で説明した図６に示した方法にて、光学フィルム１を製造した。具体的には、まず、仮支持体付き光学積層体１をロール形態で送り出し、連続搬送した。上記保護フィルム付き偏光膜を同時に連続搬送し、その偏光膜側に、アクリル系粘着剤を塗布し、互いに連続搬送中の仮支持体付き光学積層体１と保護フィルム付き偏光膜とを、パターン光学異方性層の表面および偏光膜の表面が対向するようにアクリル系粘着剤を介して、ニップロールを用いて貼合した。さらに連続搬送し、得られた積層体から、仮支持体を巻取りながら剥離し、保護フィルム付き偏光膜、パターン光学異方性層およびハードコート層を有する光学フィルム１を作製し、仮支持体とは別の巻き芯に巻き取ることでロール形態とした。
　なお、偏光膜の透過軸とパターン光学異方性層中の第１位相差領域の面内遅相軸および第２位相差領域の面内遅相軸とのなす角度は、図５に示すように、それぞれ４５°であった。
［実施例２］
　実施例１と同様の手順で、仮支持体上にハードコート層を形成した。得られたハードコート層上に、以下の方法で配向膜およびパターン光学異方性層を作製し、仮支持体付き光学積層体２を作製した。次に、仮支持体付き光学積層体１の代わりに仮支持体付き光学積層体２を用いた以外は、実施例１と同様の方法で光学フィルム２を作製した。
（露光前配向膜付き積層体の作製）
　上記ハードコート層上に、下記の組成の配向膜形成用塗布液１をワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、露光前配向膜付き積層体を形成した。なお、露光前配向膜の膜厚が０．４５μｍになるようにワイヤーバーを調整した。
──────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液１の組成
──────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料（Ｐ－１）　　　　　　　　　　　　２．４質量部
光酸発生剤（Ｓ－１）　　　　　　　　　　　　　　　　０．０７２質量部
ラジカル重合開始剤
（イルガキュア２９５９、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１８質量部
メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１６．５質量部
ＩＰＡ（イソプロパノール）　　　　　　　　　　　　　　７．２質量部
水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７３．５５質量部
──────────────────────────────────
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000002
（紫外線露光）
　次に、後述するパターン光学異方性層にストライプ状の第１位相差領域（幅：４８６μｍ）および第２位相差領域（幅：４８６μｍ）が形成されるようなストライプマスクを上記作製した露光前配向膜付き積層体上に配置し、室温空気下にて、２００ｎｍ～４００ｎｍの波長領域における照度５００ｍＷ／ｃｍ2の紫外線照射装置（Ｌｉｇｈｔ Ｈａｍｍｅｒ １０、２４０Ｗ／ｃｍ、Ｆｕｓｉｏｎ ＵＶ Ｓｙｓｔｅｍｓ社製）を光源ユニットとして用いて紫外線を０．０６秒間（３０ｍＪ／ｃｍ2）照射しパターン配向膜を形成した。
（パターン光学異方性層の作製（その２））
　上記紫外線露光後のパターン配向膜に、ストライプマスクのストライプに対して４５°の角度を保持して５００ｒｐｍで一方向に１往復、ラビング処理を行った。次いで、下記のパターン光学異方性層用塗布液をワイヤーバーで塗布した。さらに、膜面温度１１０℃で２分間加熱熟成した後、８０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ2の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス社製）を用いて紫外線を２０秒間照射して、その配向状態を固定化することによりパターン光学異方性層を形成した。マスク露光部分（第１位相差領域）では、ラビング方向に対し面内遅相軸方向が平行となるようにディスコティック液晶化合物が垂直配向しており、未露光部分（第２位相差領域）ではラビング方向に対し面内遅相軸方向が直交となるように垂直配向していた。なお、光学異方性層の膜厚が１．２μｍになるようにワイヤーバーを調整した。
　形成されたパターン光学異方性層中では、ストライプ状の第１位相差領域および第２位相差領域が交互に配置されており、それぞれの領域中の面内遅相軸方向は直交していた。また、それぞれの領域における波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションは、１２５ｎｍであった。また、ストライプ状の第１位相差領域および第２位相差領域の幅は、それぞれ４８６μｍであった。
──────────────────────────────────
パターン光学異方性層用塗布液の組成
──────────────────────────────────
ディスコティック液晶化合物Ｅ－２　　　　　　　　　　　　　８０質量部
ディスコティック液晶化合物Ｅ－３　　　　　　　　　　　　　２０質量部
配向膜界面配向剤（ＩＩ－１）　　　　　　　　　　　　　　１．０質量部
空気界面配向剤（Ｐ－３）　　　　　　　　　　　　　　　　０．６質量部
光重合開始剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
多官能モノマー（エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパン
トリアクリレート（ビスコート３６０、大阪有機化学社製））　１０質量部
メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３００質量部
──────────────────────────────────
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000003
［実施例３］
　実施例１で実施した（ハードコート層の作製）および（パターン光学異方性層の作製（その１））の順番を、（パターン光学異方性層の作製（その１））および（ハードコート層の作製）の順で行い、ハードコート層用塗布液１の代わりに以下のハードコート層用塗布液２を用いた以外は、実施例１と同様の手順に従って、仮支持体、パターン光学異方性層、およびハードコート層をこの順で備える仮支持体付き光学積層体３を作製し、ロール形態とした。
（ハードコート層用塗布液２の調製）
　下記の組成となるように各成分をＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）とＭＥＫ（メチルエチルケトン）との混合溶媒（８９対１１（質量比））と混合した。孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過してハードコート層用塗布液２を調製した。なお、樹脂粒子、および、スメクタイトは後述する分散状態で添加した。
（ハードコート層用塗布液２の組成）
　　スメクタイト(ルーセンタイトＳＴＮ、コープケミカル社製)
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．００ｇ
　　樹脂粒子（テクポリマーＳＳＸ、積水化成品工業社製）　  ８．００ｇ
　　アクリレートモノマー（ＮＫエステルＡ９５５０、新中村化学工業社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８７．８５ｇ
　　重合開始剤（イルガキュア９０７、ＢＡＳＦ社製）　　　　３．００ｇ
　　レベリング剤（Ｐ－４）　　　　　　　　　　　　　　　　０．１５ｇ
　　ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）　　　　　　　　１３３．５０ｇ
　　ＭＥＫ（メチルエチルケトン）　　　　　　　　　　　　１６．５０ｇ
Figure JPOXMLDOC01-appb-C000004
（樹脂粒子分散液の調製）
　透光性樹脂粒子の分散液は、撹拌しているＭＩＢＫ溶液中に透光性樹脂粒子（テクポリマーＳＳＸ、積水化成社製）を分散液の固形分濃度が３０質量％になるまで徐々に加え、３０分間撹拌して調製した。
（スメクタイト分散液の調製）
　スメクタイトの分散液は、最終的にハードコート層用塗布液２に使用される全てのＭＥＫを用い、ＭＥＫ中に撹拌しながらスメクタイト（ルーセンタイトＳＴＮ、コープケミカル社製）を徐々に加え、３０分間撹拌して調製した。
＜光学フィルム３の作製＞
　上記で説明した図７で示した方法にて、光学フィルム３を製造した。具体的には、仮支持体付き光学積層体３をロールで送り出し、連続搬送し、搬送中に仮支持体を巻取りながら剥離し、ハードコート層とパターン光学異方性層とを含む光学積層体の構成とし、さらに連続搬送した。次に、上記保護フィルム付き偏光膜を連続搬送させ、その偏光膜側にアクリル系粘着剤を塗布し、ニップロールを用いて、連続搬送中の仮支持体のない光学積層体のパターン光学異方性層側に、アクリル系粘着剤を介して偏光膜を貼合し、光学フィルム３を作製し、ロール形態とした。
　なお、偏光膜の透過軸とパターン光学異方性層中の第１位相差領域の面内遅相軸および第２位相差領域の面内遅相軸とのなす角度は、図５に示すように、それぞれ４５°であった。
［実施例４］
　実施例２で実施した（露光前配向膜付き積層体の作製）、（紫外線露光）、（パターン光学異方性層の作製（その２））、実施例１で実施した（ハードコート層の作製）をこの順で実施し、ハードコート層用塗布液１の代わりにハードコート層用塗布液２を用いて、仮支持体上に、配向膜、パターン光学異方性層、ハードコート層をこの順で有する仮支持体付き光学積層体４を製造した。
＜光学フィルム４の作製＞
　仮支持体付き光学積層体４をロールで送り出し、連続搬送し、搬送中に仮支持体を巻取りながら剥離し、配向膜、パターン光学異方性層、ハードコート層を含む光学積層体とし、さらに連続搬送した。さらに、上記保護フィルム付き偏光膜を連続搬送させ、その偏光膜側にアクリル系粘着剤を塗布し、ニップロールを用いて、連続搬送中の仮支持体のない光学積層体の配向膜側に、アクリル系粘着剤を介して偏光膜と貼合し、光学フィルム４を作製し、ロール形態とした。
　なお、偏光膜の透過軸とパターン光学異方性層中の第１位相差領域の面内遅相軸および第２位相差領域の面内遅相軸とのなす角度は、図５に示すように、それぞれ４５°であった。
［実施例５］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム５を作製した。
［実施例６］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１７μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルム６を作製した。
［実施例７］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学フィルム７を作製した。
［実施例８］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１７μｍに変更した以外は、実施例２と同様の手順に従って、光学フィルム８を作製した。
［実施例９］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、光学フィルム９を作製した。
［実施例１０］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１７μｍに変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、光学フィルム１０を作製した。
［実施例１１］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１０μｍに変更した以外は、実施例４と同様の手順に従って、光学フィルム１１を作製した。
［実施例１２］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから１７μｍに変更した以外は、実施例４と同様の手順に従って、光学フィルム１２を作製した。
［比較例１］
　ハードコート層を作製しなかった以外は、実施例３と同様の手順に従って、光学フィルムの作製を試みた。その際、パターン光学異方性層を仮支持体から剥離しようとしたが、パターン光学異方性層自体が脆く、割れや内部破壊が発生するため、均一に剥離することができなかった。
［比較例２］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから２μｍに変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、光学フィルムＣ１を作製した。
［比較例３］
　ハードコート層の膜厚を５μｍから２５μｍに変更した以外は、実施例３と同様の手順に従って、光学フィルムＣ２を作製した。
（リア側偏光板の作製）
　市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック　ＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）、および、市販のセルロースアシレートフィルム（フジタック　ＴＤ６０、富士フイルム（株）製）を５５℃に保った１．５ｍｏｌ／ＬのＮａＯＨ水溶液（鹸化液）に２分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、２５℃の０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬した後、さらに水洗浴を３０秒流水下に通して、フィルムを中性の状態にした。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したフィルムを作製した。
　上記の鹸化後セルロースアシレートフィルムＴＤ６０、延伸したヨウ素系ＰＶＡ偏光膜、鹸化後のセルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０をこの順番で、ＰＶＡ系接着剤で貼合し、熱乾燥しリア側偏光板を得た。
　この際、偏光膜のロールの長手方向と上記セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０のロールの長手方向とが、平行になるように配置した。
＜液晶表示装置１の作製＞
　ＩＰＳモード液晶セル（ＬＧＤ製　４２ＬＳ５６００）の上下の偏光板を剥し、フロント側に、フロント側偏光板として上述した光学フィルム１を、リア側にリア側偏光板として前述した偏光板を、セルロースアシレートフィルムＺＲＤ４０がそれぞれ液晶セル側となるように、粘着剤を介して、フロント側およびリア側に一枚ずつ貼り付けた。フロント側の偏光板の吸収軸が長手方向（左右方向）に、そして、リア側の偏光板の透過軸が長手方向（左右方向）になるように、クロスニコル配置とした。液晶セルに使用されているガラスの厚さは０．５ｍｍであった。得られた液晶表示装置を液晶表示装置１とした。
（１）直線性
　光学フィルムのパターン光学異方性層のストライプ状のパターンが、ストライプのラインからぶれた最大量を評価した。具体的には、光学フィルムの長手方向を長辺とし、４２インチのワイド液晶に貼合可能なサイズに切り出し、ストライプが直線よりぶれる最大量を求めた。実用上、Ａ、Ｂ、Ｃが好ましく、Ａ、Ｂがより好ましく、Ａが最も好ましい。
Ａ：ぶれの最大量が１０μｍ以内
Ｂ：ぶれの最大量が１０μｍ超２０μｍ以内
Ｃ：ぶれの最大量が２０μｍ超３０μｍ以内
Ｄ：ぶれの最大量が３０μｍ超６０μｍ以内
Ｅ：ぶれの最大量が６０μｍ超
（２）外観特性
　仮支持体から剥離した光学積層体の面状を偏光板クロスニコル下で検査し、以下の評価基準で、ひび、われ、輝度ムラの有無を確認した。
Ａ：目視、５倍のルーペで確認し、良好な面状である。
Ｂ：目視で確認し問題ないが、５倍のルーペで確認し、わずかにひび、われ、輝度ムラが視認される。
Ｃ：目視で確認し、明らかにひび、われ、輝度ムラが視認される。
　なお、表１中、「ＨＣ層」はハードコート層を意図する。
Figure JPOXMLDOC01-appb-T000005
　表１に示すように、本発明の製造方法より得られた光学フィルムは、パターン光学異方性層中のパターンのずれの発生が抑制されると共に、パターン光学異方性層中のひび、割れ、輝度ムラなどの発生が抑制されていた。
　なお、実施例１，５および６などの比較から分かるように、ＨＣ層の厚みが３～１５μｍの場合、パターンのずれの発生がより抑制されることが確認された。
　また、実施例６と１０との比較から分かるように、ＨＣ層上に光学異方性層を積層する態様において、パターンのずれの発生がより抑制されることが確認された。
　一方、ハードコート層を設けていない比較例１では、パターン光学異方性層中にひび、割れ、輝度ムラなどが確認される共に、パターン光学異方性層の機械的強度が低く、偏光膜上に転写することができなかった。
　ハードコート層の厚みが薄い比較例２では、パターン光学異方性層中にひび、割れ、輝度ムラなどが確認される共に、光学フィルムの機械的強度が低いために、偏光膜に貼り付けた際にパターン光学異方性層中のパターンの位置ずれが生じていた。
　また、ハードコート層の厚みが厚い比較例３では、ハードコート層を作製する際の硬化収縮による残留応力のために、パターン光学異方性層中のパターンの位置ずれが生じていた。
　１０　　仮支持体
　１２　　パターン光学異方性層
　１４　　ハードコート層
　１６ａ，１６ｂ　　仮支持体付き光学積層体
　１８　　光学積層体
　２０　　偏光膜
　３０　　送り出しロール
　３２　　偏光膜供給ロール
　３４　　ニップロール
　３６　　剥離ロール
　３８　　仮支持体巻取りロール
　４０　　光学フィルム巻取りロール
　４２　　固定板供給ロール
　４４　　固定板巻取りロール
　４６　　仮支持体送り出しロール
　４８　　ハードコート層形成用組成物塗布手段
　５０　　光学異方性層形成用組成物塗布手段
　５２　　粘着剤塗布手段
　１００ａ，１００ｂ　　光学フィルム

Claims (7)

  1. 　少なくとも偏光膜、パターン光学異方性層、および、ハードコート層を有し、前記パターン光学異方性層が、面内遅相軸方向および面内レターデーションの少なくとも一方が互いに異なる第１位相差領域および第２位相差領域を含み、かつ、前記第１位相差領域および前記第２位相差領域が面内において交互に配置されている、光学フィルムの製造方法であって、
    　少なくとも、重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを用いて前記パターン光学異方性層を形成する工程Ａ、および、重合性化合物を含む組成物Ｂを用いて前記ハードコート層を形成する工程Ｂを実施して、仮支持体上に、厚みが０．５～３．０μｍの前記パターン光学異方性層および厚みが３．０～２０μｍの前記ハードコート層を含む光学積層体を形成して、仮支持体付き光学積層体を得る工程Ｘと、
    　前記仮支持体上の前記光学積層体を前記偏光膜上に転写する工程Ｙとを有する、光学フィルムの製造方法。
  2. 　前記工程Ｘが、前記工程Ａおよび前記工程Ｂをこの順で実施して、前記仮支持体、前記パターン光学異方性層、および、前記ハードコート層をこの順で有する仮支持体付き光学積層体を得る工程であり、
    　前記工程Ｙが、前記仮支持体付き光学積層体から前記仮支持体を剥離する工程Ｃと、工程Ｃで得られた前記光学積層体の前記パターン光学異方性層の表面に、前記偏光膜を貼り合せて、光学フィルムを得る工程Ｄとを備える、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
  3. 　前記工程Ｘが、前記工程Ｂおよび前記工程Ａをこの順で実施して、前記仮支持体、前記ハードコート層、および前記パターン光学異方性層をこの順で有する仮支持体付き光学積層体を得る工程であり、
    　前記工程Ｙが、前記仮支持体付き光学積層体中の前記パターン光学異方性層の表面に、前記偏光膜を貼り合せる工程Ｅと、前記工程Ｅで得られた積層体から前記仮支持体を剥離して、前記光学フィルムを得る工程Ｆとを備える、請求項１に記載の光学フィルムの製造方法。
  4. 　前記ハードコート層の厚みが３．０～１５μｍである、請求項１～３のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
  5. 　前記工程Ａが、前記重合性基を有する液晶性化合物を配向させるための配向膜を形成する工程（１）と、
    　フォトマスク下、前記配向膜に対してパターン状に光照射する工程（２）と、
    　前記配向膜上に、前記重合性基を有する液晶性化合物を含む組成物Ａを塗布して塗膜を形成する工程（３）と、
    　前記配向膜の一方の領域上の液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向に配向させ、前記配向膜の他方の領域上の前記液晶性化合物の面内遅相軸を第一の方向とは異なる第二の方向に配向させる工程（４）と、
    　配向させた前記液晶性化合物の重合反応を進行させて配向状態を固定化し、前記第１位相差領域および前記第２位相差領域を含むパターン光学異方性層を形成する工程（５）と、をこの順で含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
  6. 　前記第１位相差領域および前記第２位相差領域の波長５５０ｎｍにおける面内レターデーションが、それぞれ９０～１６０ｎｍである、請求項１～５のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
  7. 　前記第１位相差領域および前記第２位相差領域の面内遅相軸方向が互いに直交する、請求項１～６のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
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