JP2005298791A - 光学補償シート、偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】光学性能、透明性に優れた光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を提供する。
【解決手段】セルロースアシレート１００質量部に対して、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも一種を０．０１〜２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１〜２０質量部含有する光学フイルムからなる光学補償シート、およびその光学補償シートを用いた偏光板および液晶表示装置。
【化１】

（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁷、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ¹〜Ｒ⁵のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ⁸は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
【選択図】なし

Description

本発明は、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置に関し、詳しくは一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなる光学補償シートおよびそれを用いた偏光板と液晶表示装置とに関する。

セルロースフイルム中でも、セルロースアセテートフイルムは、他のポリマーフイルムと比較して、光学的等方性が高い（レターデーション値が低い）との特徴がある。従って、セルロールアセテートフイルムは、従来、光学的等方性が要求される用途、例えば偏光板などに用いることが普通であった。
しかし近年、光学的異方性が要求される用途（例えば光学補償シート）にも使用できる高いレターデーション値を有するセルロースアセテートフイルムが要求され、それに対応した技術が提案されている（例えば特許文献１）。該公開発明ではセルローストリアセテートで高いレターデーション値を実現するために、少なくとも２つの芳香環を有する芳香族化合物、中でも１，３，５−トリアジン環を有する化合物を添加し、延伸処理を行っている。
一般にセルローストリアセテートは延伸しにくい高分子素材であり、複屈折率を大きくすることは困難であることが知られているが、上記特許文献１では添加剤を延伸処理で同時に配向させることにより複屈折率を大きくすることを可能にし、高いレターデーション値を実現している。このフイルムは偏光板の保護フイルムを兼ねることができるため、安価で薄膜な液晶表示装置を提供することができる利点がある。

近年、液晶表示装置の軽量化、製造コスト低減のために液晶セルの薄膜化が必須となっている。そのために光学補償シートに必要とされる光学性能はより高いＲｅレターデーション値であって、より低いＲｔｈレターデーション値であるフィルムが必要となってきている。
しかしながら、本発明者が特許文献１で開示された方法で鋭意検討した結果、該手法では、高いＲｅ値を実現させようとするとＲｔｈ値も増加してしまい、より高いＲｅ値とより低いＲｔｈ値の実現が困難であった。特許文献１以外にもＶＡ用位相差フィルムの光学性能についての技術を開示している特許文献、例えば特許文献２があるが、Ｒｅ値とＲｔｈ値を両立する方法については明示されていなかった。

また、前述のように、セルロースエステルフイルムは偏光板保護膜を兼ねた光学補償シートとしても使用されるようになったが、高精細化に伴い、セルロースエステルフイルムの面品質に対する要求が厳しくなっている。

セルロースアセテートフイルムを液晶ディスプレーの偏光板保護膜を兼ねた光学補償シートとして使用するには、特にフイルム表面の滑り性（耐傷性）が要求される。即ち、偏光膜と上記フイルムを用いて偏光板を作成する際には、フイルムの鹸化処理（親水化処理）、偏光膜とフイルムの接着剤による接着工程、さらにこれらの工程を行うための搬送作業などが行われる。そして、フイルム表面の耐傷性が十分でない場合は、上記作業中にフイルム表面に傷がつき、このようなフイルムを用いた偏光板が組み込まれた液晶ディスプレーは、致命的な表示欠陥を示す。

セルロースアセテートのフイルムは、例えば、結合酢酸量（酢化度）６０〜６２％のセルローストリアセテートを可塑剤と共にメチレンクロライドとメタノールの混合溶剤に溶解したドープを、連続的に回転するドラムまたは移動するバンド（支持体）上に流延し、次いで溶剤を蒸発させることからなる溶液製膜法により得ることができる。そして、耐傷性の向上のために、従来から使用されている二酸化珪素を、溶剤又は溶剤とセルローストリアセテートとの混合溶液に分散し、得られた分散液を上記ドープと混合し、この混合液を流延、乾燥することによりセルローストリアセテートのフイルムを作製していた。これにより、フイルム表面に凹凸を形成して、滑り性を付与していた。

しかしながら、上記滑り性を向上させるためにマット剤として二酸化珪素を使用した場合、フイルム中に大きな凝集物が発生し、フイルムの透明性を低下させる問題があった。
欧州特許出願公開０９１１６５６Ａ２号明細書 特開２００１−１１６９２６号公報

本発明の目的は、セルロースアシレートフイルムのみで、液晶セルを光学的に補償する、光学性能、及び透明性に優れた光学補償シートを提供することである。
本発明の別の目的は、構成要素の数を増加することなく、偏光板に液晶表示装置に最適な光学補償機能が追加された偏光板を提供することである。
本発明のさらなる別の目的は、面状の優れたセルロースアシレートフイルムによって光学的に補償された液晶表示装置を提供することである。

本発明の目的は、下記１）〜２３）の光学フィルム、下記２４）の光学補償シート、下記２５）〜２７）の偏光板および下記２８）〜３０）の液晶表示装置により達成される。
１）セルロースアシレート１００質量部に対して、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
２）セルロースアシレート１００質量部に対して、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。
３）前記１，３，５−トリアジン環を有する化合物が、一般式（II）で表されることを特徴とする２）項に記載の光学フイルム。

（式中、Ｘ^１は、単結合、−ＮＲ^４−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｘ^２は、単結合、−ＮＲ^５−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｘ^３は、単結合、−ＮＲ^６−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。）
４）セルロースアシレート１００質量部に対して、上記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。
５）紫外線吸収剤が一般式（III）で示されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フイルム。

（式中、Ｑ_１およびＱ_２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子または硫黄原子、窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であっても良い。）
６）紫外線吸収剤が一般式（IV）で示されることを特徴とする１）〜４）のいずれか１項に記載の光学フイルム。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_１、Ｒ_２、およびＲ_３の少なくとも１つは総炭素数１０〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基である。）
７）一般式（Ｖ）で示される紫外線吸収剤を含有することを特徴とする１）〜４）のいずれか１項に項記載の光学フイルム。

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_６は分岐のアルキル基である。）
８）前記一般式（IV）におけるＲ_４、およびＲ_５のうち少なくとも１つの置換基がハロゲン原子である紫外線吸収剤と、Ｒ_４、およびＲ_５の置換基のいずれもがハロゲン原子でない紫外線吸収剤が含有され、ハロゲン原子を有する紫外線吸収剤：ハロゲン原子を有しない紫外線吸収剤が質量比で、２０：８０〜８０：２０の範囲であることを特徴とする４）項記載の光学フィルム。
９）下記数式（Ｉ）で定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍであり、下記数式（II）で定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする１）〜８）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
数式（Ｉ）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
数式（II）：Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。
１０）Ｒｅレターデーション値とＲｔｈレターデーション値との比（Ｒｅ／Ｒｔｈ比）が０．１乃至０．８であることを特徴とする１）〜９）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
１１）膜厚が４０μｍ〜１２０μｍの一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなることを特徴とする１）〜１０）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
１２）３８０ｎｍにおける透過率が８％以下であることを特徴とする１）〜１１）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
１３）紫外線吸収剤がベンゾフェノン系化合物であり、分配係数が３．０以上であることを特徴とする１）、２）、３）、４）、５）、９）、１０）、１１）または１２）項に記載の光学フイルム。
１４）紫外線吸収剤がベンゾフェノン系化合物であり、凝固点が２０℃以上であることを特徴とする１）、２）、３）、４）、５）、９）、１０）、１１）、１２）または１３）項に記載の光学フイルム。
１５）紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であり、分配係数が９．２以上であることを特徴とする１）、２）、３）、４）、６）、７）、８）、９）、１０）、１１）または１２）項に記載の光学フイルム。
１６）紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であり、凝固点が２０℃未満であることを特徴とする１）、２）、３）、４）、６）、７）、８）、９）、１０）、１１）、１２）または１５）項に記載の光学フイルム。
１７）表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする１）〜１６）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
１８）３乃至１００％の延伸倍率で延伸したセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする１）〜１７）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
１９）セルロースアシレートが、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートであり、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈ変化量が０．０１乃至０．１であることを特徴とする１）〜１８）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
２０）フイルムの残留溶剤量が２％乃至５０％の状態で長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸し、該フイルムの遅相軸が該フイルムの長尺方向に対して直交する方向にあることを特徴とする１）〜１９）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
２１）セルロースアシレートフイルムが、セルロースの水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフイルムであって、２位のアシル基の置換度をＤＳ２、３位のアシル基の置換度をＤＳ３、６位のアシル基の置換度をＤＳ６とする時、下記式（III）及び（IV）を満たすことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光学フイルム。
（III） ２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
（IV） ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３２０
２２）セルロースアシレートフイルムが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（Ｖ）を満たすことを特徴とする１）〜２１）のいずれか１項に記載の光学フイルム。
式（Ｖ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
２３）炭素原子数が３〜２２のアシル基が、ブタノイル基またはプロピオニル基であることを特徴とする２２）項に記載の光学フイルム。
２４）１）〜２３）のいずれか１項に記載の光学フイルムからなることを特徴とする光学補償シート。
２５）偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、２４）項に記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
２６）偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が２４）項に記載の光学補償シートであり、該光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも光散乱層と低屈折率層からなる鏡面反射率２．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする偏光板。
２７）偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が２４）項に記載の光学補償シートであり、該光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層されてなる鏡面反射率０．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする偏光板。
２８）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、２４）項に記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
２９）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、２４）項に記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
３０）液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルとバックライト側の偏光板との間に、２４）項に記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。

本発明で光学フィルムとは、光学機能をもったフィルムのことを示し、例えば、反射防止、選択反射、光位相変換、光学補償といった光学機能をもつ層を一つ或いはそれ以上有するフィルムが挙げられる。

本発明では、セルロースアシレート１００質量部に対して、一般式（Ｉ）で示される化合物あるいは、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．０１乃至１０質量部含有させることによって、透明性に優れ、液晶セルを光学的に補償するために充分な光学的異方性を有する光学フイルム、および一枚の当該光学フイルムのみからなる光学補償シートを得ることができる。また、紫外線吸収剤を添加することで高Ｒｅ値を保ちつつ、Ｒｔｈ値だけを低下させることができる。また、マット剤の凝集を防止し、透明性に優れた光学補償フィルムを得ることができた。
偏光板の保護膜は、一般にセルロースアセテートフイルムからなるが、本発明の光学フイルムを偏光板の一方の保護膜として用いると、偏光板の構成要素の数を増加することなく、偏光板に光学補償機能を追加することができる。
本発明の光学補償シートおよび本発明の光学補償シートを保護膜として用いた偏光板は、ＶＡモードおよびＯＣＢモードの液晶表示装置に、特に有利に用いることができる。

［フイルムのレターデーション］
本発明では、セルロースアシレートを含有する光学フイルム（以下、単に「セルロースアシレートフイルム」とも言う）のＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値は、それぞれ、下記数式（Ｉ）および（II）で定義される。
数式（Ｉ）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
数式（II）：Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
数式（Ｉ）および（II）において、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率である。
式（Ｉ）および（II）において、ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向（屈折率が最小となる方向）の屈折率である。
式（II）において、ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率である。
式（Ｉ）および（II）において、ｄは、単位をｎｍとするフイルムの厚さである。

本発明では、セルロースアシレートフイルムのＲｅレターデーション値を好ましくは２０乃至２００ｎｍに、そしてＲｔｈレターデーション値を好ましくは７０乃至４００ｎｍに調節する。また、本発明ではＲｅ／Ｒｔｈ比を好ましくは０．１乃至０．８に調節する。さらに好ましくは、Ｒｅレターデーション値を３０乃至７０ｎｍに、Ｒｔｈレターデーション値を９０乃至２００ｎｍ、そしてＲｅ／Ｒｔｈ比を０．２５乃至０．６に調節する。これらの調整は棒状化合物の種類、添加量および円盤状化合物の種類、添加量、および延伸倍率により行うことが出来る。
本発明においては、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈの変化量を０．０１乃至０．１とすることが可能である。ここで、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈの変化量は、延伸倍率５％以上の少なくとも３点の延伸倍率に対するＲｅ／Ｒｔｈ比を一次近似した時の傾きから求めることができる。

なお、セルロースアシレートフイルムの複屈折率（ｎｘ−ｎｙ）は、０．０００２乃至０．０００９であることが好ましく、０．０００２５乃至０．０００９が更に好ましく、０．０００３５乃至０．０００９であることが最も好ましい。また、セルロースアシレートフイルムの厚み方向の複屈折率｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝は、０．０００６乃至０．００５であることが好ましく、０．０００８乃至０．００５であることが更に好ましく、０．００１２乃至０．００５であることが最も好ましい。

［セルロースアシレートフイルム］
本発明に用いられるセルロースアシレートの原料綿は、公知の原料を用いることができる（例えば、発明協会公開技法２００１−１７４５）。また、セルロースアシレートの合成も公知の方法で行なうことができる（例えば、右田他、木材化学１８０〜１９０頁（共立出版、１９６８年））。セルロースアシレートの粘度平均重合度は２００乃至７００が好ましく２５０乃至５００が更に好ましく２５０乃至３５０が最も好ましい。また、本発明に使用するセルロースエステルは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによるＭｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）の分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．５乃至５．０であることが好ましく、２．０乃至４．５であることがさらに好ましく、３．０乃至４．０であることが最も好ましい。

該セルロースアシレートフイルムのアシル基は、特に制限は無いが、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基を用いることが好ましく、特にアセチル基が好ましい。全アシル基の置換度は１．５乃至３．０が好ましく、２．７乃至３．０がさらに好ましく、２．８乃至２．９５が特に好ましい。本明細書において、アシル基の置換度とは、ＡＳＴＭ Ｄ８１７に従って算出した値である。

アシル基がアセチル基であることが最も好ましく、アシル基がアセチル基であるセルロースアセテートを用いる場合には、酢化度が５９．０乃至６２．５％が好ましく、５９．０乃至６１．５％がさらに好ましい。酢化度がこの範囲にあると、流延時の搬送テンションによってＲｅが所望の値より大きくなることもなく、面内ばらつきも少なく、温湿度によってレターデーション値の変化も少ない。
６位のアシル基の置換度は、Ｒｅ、Ｒｔｈのばらつきを抑制する観点から、０．９以上が好ましい。

また、セルロースの水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフイルムにおいて、２位のアシル基の置換度をＤＳ２、３位のアシル基の置換度をＤＳ３、６位のアシル基の置換度をＤＳ６とする時、下記式（III）及び（IV）を満たすことが好ましい。
（III） ２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
（IV） ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３２０

また、セルロースアシレートが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（Ｖ）を満たすことが好ましい。
式（Ｖ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０

［レターデーション制御剤］
本発明では、一般式（Ｉ）で示される化合物あるいは、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部をセルロースアシレート１００質量部に対し添加する。一般式（Ｉ）で示される化合物あるいは、１，３，５−トリアジン環を有する化合物はセルロースアシレート１００質量部に対し０．１乃至２０質量部添加することがさらに好ましく、０．５乃至２０質量部添加することが特に好ましい。一般式（Ｉ）で示される化合物および１，３，５−トリアジン環を有する化合物は共に、セルアシレートフイルムのレターデーション上昇剤として機能できる。
ここで、１，３，５−トリアジン環を有する化合物としては、特に特開２００１−１６６１４４号公報に記載の化合物を用いることが好ましい。

以下に、一般式（Ｉ）で表される化合物に関して詳細に説明する。

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）

一般式（Ｉ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表し、置換基は後述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。好ましくはＲ^１、Ｒ^３またはＲ^５のうちの１つが電子供与性基であり、Ｒ^３が電子供与性基であることがより好ましい。
電子供与性基とはHammetのσｐ値が０以下のものを表し、Chem．Rev．，９１，１６５（１９９１）記載のHammetのσｐ値が０以下のものが好ましく適用でき、より好ましくは−０．８５〜０のものが用いられる。例えば、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基などが挙げられる。
電子供与性基として好ましくはアルキル基、アルコキシ基であり、より好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４である。）である。

Ｒ^１として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくはアルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、最も好ましくはメトキシ基である。

Ｒ^２として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４、より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

Ｒ^３として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、アルキル基、アルコキシ基であり、特に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）である。最も好ましくはn−プロポキシ基、エトキシ基、メトキシ基である。

Ｒ^４として好ましくは、水素原子または電子供与性基であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、更に好ましくは、水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４）であり、特に好ましくは水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基であり、最も好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

Ｒ^５として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、アミノ基、水酸基であり、より好ましくは、水素原子、アルキル基、アルコキシ基であり、更に好ましくは水素原子、アルキル基（好ましくは炭素数１〜４より好ましくはメチル基である。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６特に好ましくは炭素数１〜４）である。特に好ましくは水素原子、メチル基、メトキシ基である。

Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０として好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは、水素原子、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子である。

Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表し、可能な場合には置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ^８として好ましくは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数２〜１２アリールオキシ基であり、より好ましくは、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、エトキシ基、n−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。

一般式（Ｉ）のうちより好ましくは下記一般式（１−Ａ）である。
一般式（１−Ａ）

（式中、Ｒ^１１はアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
一般式（１−Ａ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^８、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ一般式（Ｉ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

一般式（１−Ａ）中、Ｒ^１１は炭素数１〜１２のアルキル基を表し、Ｒ^１１で表されるアルキル基は直鎖でも分岐があってもよく、また更に置換基を有してもよいが、好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基、より好ましくは炭素数１〜８アルキル基、更に好ましくは炭素数１〜６アルキル基、特に好ましくは炭素数１〜４のアルキル基（例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、iso−プロピル基、n−ブチル基、iso−ブチル基、tert−ブチル基などが挙げられる）を表す。

一般式（Ｉ）のうちより好ましくは下記一般式（１−Ｂ）である。
一般式（１−Ｂ）

（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子、または置換基を表す。Ｒ^１１は炭素数１〜１２のアルキル基を表す。Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）

一般式（１−Ｂ）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９、およびＲ^１０は一般式（Ｉ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。
一般式（１−Ｂ）中、Ｒ^１１は一般式（１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

一般式（１−Ｂ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、およびＲ^５がすべて水素原子の場合にはＸとして好ましくはアルキル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、より好ましくは、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基であり、更に好ましくはアルコキシ基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくは炭素数１〜６、特に好ましくは炭素数１〜４である。）であり、特に好ましくは、メトキシ基、メトキシ基、ｎ−プロポキシ基、iso−プロポキシ基、n−ブトキシ基である。

Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、およびＲ^５のうち少なくとも１つが置換基の場合にはＸとして好ましくはアルキニル基、アリール基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、であり、より好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２）、シアノ基、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜１２）であり、更に好ましくはアリール基（好ましくは炭素数６〜１２のアリール基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニルである。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素２〜１２、より好ましくは炭素数２〜６、更に好ましくは炭素数２〜４、特に好ましくはメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニルである。）、シアノ基であり、特に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。

一般式（Ｉ）のうち更に好ましくは下記一般式（１−Ｃ）である。
一般式（１−Ｃ）

式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^１１およびＸは一般式（１−Ｂ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

一般式（Ｉ）で表される化合物の中でより好ましいのは下記一般式（１−Ｄ）で表される化合物である。
一般式（１−Ｄ）

（式中、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^５は一般式（１−Ｃ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。Ｒ^２１、Ｒ^２２はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘ^１は炭素数６〜１２のアリール基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、又はシアノ基である。）

Ｒ^２１は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基である。
Ｒ^２２は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。

Ｘ^１は炭素数６〜１２のアリール基、炭素２〜１２アルコキシカルボニル基、又はシアノ基であり、好ましくは炭素数６〜１０のアリール基、炭素数２〜６アルコキシカルボニル基、シアノ基であり、より好ましくはフェニル基、p−シアノフェニル基、p−メトキシフェニル基、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、n−プロポキシカルボニル、シアノ基であり、更に好ましくは、フェニル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、n−プロポキシカルボニル基、シアノ基である。

一般式（Ｉ）のうち最も好ましくは下記一般式（１−Ｅ）である。
一般式（１−Ｅ）

（式中、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^５は一般式（１−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか１つは−ＯＲ^１３で表される基である（Ｒ^１３は炭素数１〜４のアルキル基である。）。Ｒ^２１、Ｒ^２２、およびＸ^１は一般式（１−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）

一般式（１−Ｅ）中、Ｒ^２、Ｒ^４およびＲ^５は一般式（１−Ｄ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様だが、いずれか１つは−ＯＲ^１３で表される基であり（Ｒ^１３は炭素数１〜４のアルキル基である。）、好ましくはＲ^４、およびＲ^５が−ＯＲ^１３で表される基であり、より好ましくはＲ^４が−ＯＲ^１３で表される基である。
Ｒ^１３は炭素数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは炭素数１〜３のアルキル基であり、より好ましくはエチル基、メチル基であり、更に好ましくはメチル基である。

以下に前述の置換基Ｔについて説明する。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。

また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

以下に一般式（Ｉ）で表される化合物に関して具体例をあげて詳細に説明するが、本発明は以下の具体例によって何ら限定されることはない。

本発明一般式（Ｉ）で表される化合物は置換安息香酸とフェノール誘導体の一般的なエステル反応によって合成でき、エステル結合形成反応であればどのような反応を用いてもよい。例えば、置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法、縮合剤あるいは触媒を用いて置換安息香酸とフェノール誘導体を脱水縮合する方法などがあげられる。
製造プロセス等を考慮すると置換安息香酸を酸ハロゲン化物に官能基変換した後、フェノールと縮合する方法が好ましい。

反応溶媒として炭化水素系溶媒（好ましくはトルエン、キシレンが挙げられる。）、エーテル系溶媒（好ましくはジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどが挙げられる）、ケトン系溶媒、エステル系溶媒、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどを用いることができる。これらの溶媒は単独でも数種を混合して用いてもよく、反応溶媒として好ましくはトルエン、アセトニトリル、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドである。

反応温度としては、好ましくは０〜１５０℃、より好ましくは０〜１００℃、更に好ましくは０〜９０℃であり、特に好ましくは２０℃〜９０℃である。
本反応には塩基を用いないのが好ましく、塩基を用いる場合には有機塩基、無機塩基のどちらでもよく、好ましくは有機塩基であり、ピリジン、３級アルキルアミン（好ましくはトリエチルアミン、エチルジイソプルピルアミンなどが挙げられる）である。

一般式（Ｉ）で示される化合物または１，３，５−トリアジン環を有する化合物はそれぞれ、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用する。一般式（Ｉ）で示される化合物および１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ましい。棒状、円盤状それぞれ、２種以上の化合物を併用しても良い。

［紫外線吸収剤］
本発明のセルロースアシレートフイルムに使用される紫外線吸収剤について説明する。紫外線吸収剤は、好ましくは、液晶セルを紫外光から守るため、偏光板保護膜として使用するフィルムに使用する。本発明では、紫外線吸収剤を使用することで、さらに、高Ｒｅを保ったままＲｔｈ値のみを低下させる。また、マット剤の凝集を防いで、透明性に優れたフィルムを作製することができる。
紫外線吸収剤は、セルロースアシレート１００質量部に対して、０．１〜２０質量部添加し、０．１〜１５質量部添加することが好ましく、０．１〜１０質量部添加することがさらに好ましい。
紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられ、３８０ｎｍにおける透過率が８％以下であることが好ましい。
本発明に好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、一般式（III）乃至（Ｖ）で示される化合物が好ましく、前記一般式（IV）で表される化合物において、Ｒ_４、Ｒ_５のうち少なくとも１つの置換基がハロゲン原子である化合物、およびＲ_４、Ｒ_５の置換基のいずれもがハロゲン原子でない化合物が特に好ましい。また、上記のハロゲン原子を有する紫外線吸収剤：ハロゲン原子を有しない紫外線吸収剤を質量比で、２０：８０〜８０：２０の範囲で用いることも好ましい。

（式中、Ｑ_１およびＱ_２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子または硫黄原子、窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であっても良い。）

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_１、Ｒ_２、およびＲ_３の少なくとも１つは総炭素数１０〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基である。）

（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_６は分岐のアルキル基である。）

また、特開２００３−３１５５４９号公報に記載されているように、一般式（VI）で示される化合物も好ましく使用することができる。

（式中、Ｒ_０、Ｒ_１は水素原子、炭素数１〜２５のアルキル基、炭素数７〜９のフェニルアルキル基又は無置換、炭素数１〜４のアルキル基置換のフェニル基、置換、無置換のオキシカルボニル基、置換、無置換のアミノカルボニル基を表す。Ｒ_２〜Ｒ_５、Ｒ_１９〜Ｒ_２３は水素原子、炭素数２〜２０の置換、無置換のアルキル基を表す。）

さらには、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。

一般式（III）で示される化合物としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物が挙げられる。

また、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としての具体例を下記に列記するが、本発明はこれらに限定されない。２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ’−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。これらの化合物の添加量は、セルロースアシレートに対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。

また、その他にも旭電化、プラスチック用添加剤概要、「アデカスタブ」のカタログにある光安定剤も使用できる。チバ・スペシャル・ケミカルズのチヌビン製品案内にある光安定剤、紫外線吸収剤も使用できる。SHIPROKASEI KAISYAのカタログにあるＳＥＥＳＯＲＢ、ＳＥＥＮＯＸ、ＳＥＥＴＥＣなども使用できる。城北化学工業のＵＶ吸収剤、酸化防止剤も使用できる。共同薬品のＶＩＯＳＯＲＢ、吉富製薬の紫外線吸収剤も使用できる。

また、さらには、特開２００１−１８７８２５号公報に記載のように、ベンゾトリアゾール系で融点が２０℃以下である紫外線吸収化合物、分子内にエステル基を有する紫外線吸収化合物を使用すること、融点が２０℃以下である紫外線吸収化合物と融点が２０℃より高い紫外線吸収化合物とを併用すること、ベンゾトリアゾール系で９．２以上の分配係数を有する紫外線吸収剤を使用することも好ましい。
なかでも特に、融点が２０℃以下である紫外線吸収化合物や、９．２以上の分配係数を有する紫外線吸収剤を使用すると、Ｒｔｈ値の低下効果が大きくなり、好ましい。また、分配係数が９．２以上の紫外線吸収剤を使用すると、疎水性が高いため、フイルム製膜時のブリードアウトを抑制する効果もあり好ましい。分配係数は、９．３以上であることがさらに好ましい。
分配係数とは以下の式で定義できるオクタノールと水の分配率を表す。

ｌｏｇＰｏ／ｗＰｏ／ｗ＝Ｓｏ／Ｓｗ
Ｓｏ：２５℃でｎ−オクタノール中での該有機化合物の溶解度
Ｓｗ：２５℃で純水中での該有機化合物の溶解度
これらはこの通りにｎ−オクタノールと水を用いて測定することも出来るが、本発明においては、これら分配係数は、ｌｏｇＰ値推算プログラム（Ｄａｙｌｉｇｈｔ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｉｎｆｏｒｍａｔｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍｓ社のＰＣ Ｍｏｄｅｌｓに組み込まれたＣＬＯＧＰプログラム）を使用して推算値を求めることができる。

０．１ｇ／リットルの濃度で溶媒に溶解し１ｃｍ角のセルで溶媒のみの試料を比較として分光吸収スペクトルを測定したときの透過率が５０％となる波長が、３９２〜４２０ｎｍの範囲にある分光吸収スペクトルを有する紫外線吸収剤および該波長が３６０〜３９０ｎｍの範囲にある分光吸収スペクトルを有する紫外線吸収剤を使用することも好ましい。

なお、紫外線吸収剤の添加は予めセルロースアシレートの混合溶液を作製するときに添加してもよいが、セルロースアシレートのドープを予め作製し、流延までのいずれかの時点で添加されてもよい。後者の場合、セルロースアシレートを溶剤に溶解させたドープ液と、紫外線吸収剤と少量のセルロースアシレートとを溶解させた溶液をインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。後添加する紫外線吸収剤には、同時にマット剤を混合しても良いし、そのレターデーション制御剤、可塑剤、劣化防止剤、剥離促進剤等の添加物を混合しても良い。インラインミキサーを用いる場合、高圧下で濃縮溶解することが好ましく、加圧容器の種類は特に問うところではなく、所定の圧力に耐えることができ、加圧下で加熱、撹拌ができればよい。加圧容器はそのほか圧力計、温度計などの計器類を適宜配設する。加圧は窒素ガスなどの不活性気体を圧入する方法や、加熱による溶剤の蒸気圧の上昇によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。溶剤を添加しての加熱温度は、使用溶剤の沸点以上で、かつ該溶剤が沸騰しない範囲の温度が好ましく例えば３０〜１５０℃の範囲に設定するのが好適である。又、圧力は設定温度で、溶剤が沸騰しないように調整される。溶解後は冷却しながら容器から取り出すか、または容器からポンプ等で抜き出して熱交換器などで冷却し、これを製膜に供する。このときの冷却温度は常温まで冷却してもよいが、沸点より５〜１０℃低い温度まで冷却し、その温度のままキャスティングを行うほうが、ドープ粘度を低減できるためより好ましい。

［セルロースアシレートフイルムの製造］
ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフイルムを製造することが好ましい。ソルベントキャスト法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフイルムを製造する。
有機溶媒は、炭素原子数が３乃至１２のエーテル、炭素原子数が３乃至１２のケトン、炭素原子数が３乃至１２のエステルおよび炭素原子数が１乃至６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

炭素原子数が３乃至１２のエーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが含まれる。
炭素原子数が３乃至１２のエステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが含まれる。
二種類以上の官能基を有する有機溶媒の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが含まれる。
ハロゲン化炭化水素の炭素原子数は、１または２であることが好ましく、１であることが最も好ましい。ハロゲン化炭化水素のハロゲンは、塩素であることが好ましい。ハロゲン化炭化水素の水素原子が、ハロゲンに置換されている割合は、２５乃至７５モル％であることが好ましく、３０乃至７０モル％であることがより好ましく、３５乃至６５モル％であることがさらに好ましく、４０乃至６０モル％であることが最も好ましい。メチレンクロリドが、代表的なハロゲン化炭化水素である。
二種類以上の有機溶媒を混合して用いてもよい。

一般的な方法でセルロースアシレート溶液を調製できる。一般的な方法とは、０℃以上の温度（常温または高温）で、処理することを意味する。溶液の調製は、通常のソルベントキャスト法におけるドープの調製方法および装置を用いて実施することができる。なお、一般的な方法の場合は、有機溶媒としてハロゲン化炭化水素（特にメチレンクロリド）を用いることが好ましい。
セルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０乃至４０質量％含まれるように調整する。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
溶液は、常温（０乃至４０℃）でセルロースアシレートと有機溶媒とを攪拌することにより調製することができる。高濃度の溶液は、加圧および加熱条件下で攪拌してもよい。具体的には、セルロースアシレートと有機溶媒とを加圧容器に入れて密閉し、加圧下で溶媒の常温における沸点以上、かつ溶媒が沸騰しない範囲の温度に加熱しながら攪拌する。加熱温度は、通常は４０℃以上であり、好ましくは６０乃至２００℃であり、さらに好ましくは８０乃至１１０℃である。

各成分は予め粗混合してから容器に入れてもよい。また、順次容器に投入してもよい。容器は攪拌できるように構成されている必要がある。窒素ガス等の不活性気体を注入して容器を加圧することができる。また、加熱による溶媒の蒸気圧の上昇を利用してもよい。あるいは、容器を密閉後、各成分を圧力下で添加してもよい。
加熱する場合、容器の外部より加熱することが好ましい。例えば、ジャケットタイプの加熱装置を用いることができる。また、容器の外部にプレートヒーターを設け、配管して液体を循環させることにより容器全体を加熱することもできる。
容器内部に攪拌翼を設けて、これを用いて攪拌することが好ましい。攪拌翼は、容器の壁付近に達する長さのものが好ましい。攪拌翼の末端には、容器の壁の液膜を更新するため、掻取翼を設けることが好ましい。
容器には、圧力計、温度計等の計器類を設置してもよい。容器内で各成分を溶剤中に溶解する。調製したドープは冷却後容器から取り出すか、あるいは、取り出した後、熱交換器等を用いて冷却する。

冷却溶解法により、溶液を調製することもできる。冷却溶解法では、通常の溶解方法では溶解させることが困難な有機溶媒中にもセルロースアシレートを溶解させることができる。なお、通常の溶解方法でセルロースアシレートを溶解できる溶媒であっても、冷却溶解法によると迅速に均一な溶液が得られるとの効果がある。
冷却溶解法では最初に、室温で有機溶媒中にセルロースアシレートを撹拌しながら徐々に添加する。
セルロースアシレートの量は、この混合物中に１０乃至４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０乃至３０質量％であることがさらに好ましい。さらに、混合物中には後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。

次に、混合物を−１００乃至−１０℃（好ましくは−８０乃至−１０℃、さらに好ましくは−５０乃至−２０℃、最も好ましくは−５０乃至−３０℃）に冷却する。冷却は、例えば、ドライアイス・メタノール浴（−７５℃）や冷却したジエチレングリコール溶液（−３０乃至−２０℃）中で実施できる。このように冷却すると、セルロースアシレートと有機溶媒の混合物は固化する。
冷却速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。冷却速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、冷却速度は、冷却を開始する時の温度と最終的な冷却温度との差を冷却を開始してから最終的な冷却温度に達するまでの時間で割った値である。

さらに、これを０乃至２００℃（好ましくは０乃至１５０℃、さらに好ましくは０乃至１２０℃、最も好ましくは０乃至５０℃）に加温すると、有機溶媒中にセルロースアセテートが溶解する。昇温は、室温中に放置するだけでもよし、温浴中で加温してもよい。
加温速度は、４℃／分以上であることが好ましく、８℃／分以上であることがさらに好ましく、１２℃／分以上であることが最も好ましい。加温速度は、速いほど好ましいが、１００００℃／秒が理論的な上限であり、１０００℃／秒が技術的な上限であり、そして１００℃／秒が実用的な上限である。なお、加温速度は、加温を開始する時の温度と最終的な加温温度との差を加温を開始してから最終的な加温温度に達するまでの時間で割った値である。
以上のようにして、均一な溶液が得られる。なお、溶解が不充分である場合は冷却、加温の操作を繰り返してもよい。溶解が充分であるかどうかは、目視により溶液の外観を観察するだけで判断することができる。

冷却溶解法においては、冷却時の結露による水分混入を避けるため、密閉容器を用いることが望ましい。また、冷却加温操作において、冷却時に加圧し、加温時の減圧すると、溶解時間を短縮することができる。加圧および減圧を実施するためには、耐圧性容器を用いることが望ましい。
なお、セルロースアシレート（酢化度：６０．９％、粘度平均重合度：２９９）を冷却溶解法によりメチルアセテート中に溶解した２０質量％の溶液は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）によると、３３℃近傍にゾル状態とゲル状態との疑似相転移点が存在し、この温度以下では均一なゲル状態となる。従って、この溶液は疑似相転移温度以上、好ましくはゲル相転移温度プラス１０℃程度の温度で保存する必要がある。ただし、この疑似相転移温度は、セルロースアシレートの酢化度、粘度平均重合度、溶液濃度や使用する有機溶媒により異なる。

調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）から、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレテートフイルムを製造する。
ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフイルムを形成する。流延前のドープは、固形分量が１８乃至３５％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ソルベントキャスト法における流延および乾燥方法については、米国特許２３３６３１０号、同２３６７６０３号、同２４９２０７８号、同２４９２９７７号、同２４９２９７８号、同２６０７７０４号、同２７３９０６９号、同２７３９０７０号、英国特許６４０７３１号、同７３６８９２号の各明細書、特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号、同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。
ドープは、表面温度が１０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましい。流延してから２秒以上風に当てて乾燥することが好ましい。得られたフイルムをドラムまたはバンドから剥ぎ取り、さらに１００から１６０℃まで逐次温度を変えた高温風で乾燥して残留溶剤を蒸発させることもできる。以上の方法は、特公平５−１７８４４号公報に記載がある。この方法によると、流延から剥ぎ取りまでの時間を短縮することが可能である。この方法を実施するためには、流延時のドラムまたはバンドの表面温度においてドープがゲル化することが必要である。

セルロースアシレートフイルムには、機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、可塑剤を添加することができる。可塑剤としては、リン酸エステルまたはカルボン酸エステルが用いられる。リン酸エステルの例には、トリフェニルフォスフェート（ＴＰＰ）およびトリクレジルホスフェート（ＴＣＰ）が含まれる。カルボン酸エステルとしては、フタル酸エステルおよびクエン酸エステルが代表的である。フタル酸エステルの例には、ジメチルフタレート（ＤＭＰ）、ジエチルフタレート（ＤＥＰ）、ジブチルフタレート（ＤＢＰ）、ジオクチルフタレート（ＤＯＰ）、ジフェニルフタレート（ＤＰＰ）およびジエチルヘキシルフタレート（ＤＥＨＰ）が含まれる。クエン酸エステルの例には、Ｏ−アセチルクエン酸トリエチル（ＯＡＣＴＥ）およびＯ−アセチルクエン酸トリブチル（ＯＡＣＴＢ）が含まれる。その他のカルボン酸エステルの例には、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル、種々のトリメリット酸エステルが含まれる。フタル酸エステル系可塑剤（ＤＭＰ、ＤＥＰ、ＤＢＰ、ＤＯＰ、ＤＰＰ、ＤＥＨＰ）が好ましく用いられる。ＤＥＰおよびＤＰＰが特に好ましい。
可塑剤の添加量は、セルロースエステルの量の０．１乃至２５質量％であることが好ましく、１乃至２０質量％であることがさらに好ましく、３乃至１５質量％であることが最も好ましい。

セルロースアシレートフイルムには、劣化防止剤（例、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン）を添加してもよい。劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９０７０７３号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、劣化防止剤添加による効果が発現し、フイルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）を抑制する観点から、調製する溶液（ドープ）の０．０１乃至１質量％であることが好ましく、０．０１乃至０．２質量％であることがさらに好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。

［セルロースアシレートフイルムの延伸処理］
セルロースアシレートフイルムは、延伸処理によりレターデーションを調整することができる。延伸倍率は、３乃至１００％であることが好ましい。
延伸方法は請求の範囲を逸脱しない範囲で既存の方法を用いることができるが、面内の均一性の観点から特にテンター延伸が好ましく用いられる。本発明のセルロースアシレートフイルムは少なくとも１００ｃｍ以上の幅であることが好ましく、全幅のＲｅ値のばらつきが±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また、Ｒｔｈ値のバラツキは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラツキも幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。
また延伸処理は製膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、延伸開始時の残留溶剤量が２乃至５０％であることが好ましい。延伸開始時の残留溶剤量とは、テンター延伸であれば、ウェブ（生乾きのドープ）の両端をクリップで掴み始めた時の残留溶剤量のことであり、５乃至５０％で延伸を開始することがさらに好ましく、１０乃至４５％で延伸を開始することが特に好ましい。なお、残留溶剤量は下記式で計算する。
（残留溶剤量）＝
１００×｛（ウェブ中の溶剤量）／（ウェブの全体量）｝
また、この際、フイルムを長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸して該フイルムの遅相軸が該フイルムの長尺方向に対して直交するようにすることが好ましい。
延伸温度は延伸時の残留溶剤量と膜厚によって適当な条件を選ぶことができる。
残留溶剤を含む状態で延伸した場合には、延伸後に乾燥させることが好ましい。乾燥方法は前記フイルムの製膜に記載の方法に準じて行うことができる。
延伸後のセルロースアシレートフイルムの厚さは、１１０μｍ以下、好ましくは４０乃至１１０μｍであり、より好ましくは６０乃至１１０μｍであり、８０乃至１１０μｍであることが最も好ましい。この膜厚は本発明の光学補償シートの膜厚に相当する。

［３８０ｎｍにおける透過率］
本発明のセルロースアシレートフイルムは、３８０ｎｍにおける透過率が８％以下であることが好ましく、５％以下がさらに好ましい。３８０ｎｍにおける透過率の低い光学フィルムが偏光板を作製したときの耐光性に優れるため好ましい。
３８０ｎｍにおける透過率は、例えば島津自記分光光度計ＵＶ３１００を用い、フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、３８０ｎｍにおける透過率を求めることができる。

［透明性］
本発明のセルロースアシレートフイルムの透明性は、例えば、試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の測定した透過率が、９１〜１００であることが好ましい。

［ヘイズ］
本発明のセルロースアシレートフイルムは、例えば、ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した値が０〜１．２であることが好ましい。さらに好ましくは、０〜１．０である。

［面状故障］
本発明のセルロースアシレートフイルムは、例えば、セルロースエステルフィルムをサンプリングし、得られたフィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ上に存在する３０μｍ以上の異物あるいは凝集物の数を数えて求めた値が０〜５０であることが好ましい。さらに好ましくは０〜４０、特に好ましくは０〜３０である。

［透湿度］
本発明のセルロースアシレートフイルムの透湿度、例えば、試料７０ｍｍΦを２５℃９０％ＲＨで２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にてＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ^２）し、
透湿度＝調湿後重量−調湿前重量
で求めることができる。２５℃９０％ＲＨでの透湿度は２０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ乃至２５０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであることが好ましく、さらには２０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒ乃至２３０ｇ／ｍ^２・２４ｈｒであることが特に好ましい。
分配係数の大きい（疎水性の高い）紫外線吸収剤を使用すると透湿度は小さくなる傾向があり、これは、フィルム全体の疎水性が増したためと思われる。透湿度が小さいと、環境湿度による光学性能の変化が小さくなると推定されるため、好ましい傾向である。

［セルロースアシレートフイルムの表面処理］
セルロースアシレートフイルムの表面エネルギーを５５乃至７５ｍＮ／ｍとするには、表面処理を施すことが好ましい。表面処理の例として、ケン化処理、プラズマ処理、火炎処理、および紫外線照射処理が挙げられる。ケン化処理には、酸ケン化処理およびアルカリケン化処理が含まれる。プラズマ処理にはコロナ放電処理およびグロー放電処理が含まれる。フイルムの平面性を保つために、これらの表面処理においては、セルロースアシレートフイルムの温度をガラス転移温度（Ｔｇ）以下、具体的には１５０℃以下とすることが好ましい。これらの表面処理後のセルロースアセテートフイルムの表面エネルギーは５５乃至７５ｍＮ／ｍであることが好ましくい。
グロー放電処理は、１０^−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体は、上記のような条件においてプラズマ励起される気体であり、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧でのプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネルギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありセルロースアシレートフイルムの表面処理としては極めて有効である。

アルカリ鹸化処理は、セルロースアシレートフイルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法または鹸化液をセルロースアシレートフイルム塗布する方法で実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコーティング法およびＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、鹸化液の透明支持体に対して塗布するために濡れ性が良く、また鹸化液溶媒によって透明支持体表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。また、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアルカリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

これらの方法で得られた固体の表面エネルギーは「ぬれの基礎と応用」（リアライズ社 １９８９．１２．１０発行）に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。本発明のセルロースアシレートフイルムの場合、接触角法を用いることが好ましい。具体的には、表面エネルギーが既知である２種類の溶液をセルロースアシレートフイルムに滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフイルムの表面エネルギーを算出できる。

セルロースアシレートフイルムに上記の表面処理を実施することにより、フイルムの表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフイルムを得ることができる。このセルロースアシレートフイルムを偏光板の透明保護膜とすることにより、偏光膜とセルロースアシレートフイルムの接着性を向上させることができる。また、本発明のセルロースアシレートフイルムをＯＣＢモードの液晶表示装置に用いる場合、本発明の光学補償シートは、セルロースアシレートフイルム上に配向膜を形成し、その上に円盤状化合物もしくは棒状液晶化合物を含む光学異方性層を設けても良い。光学異方性層は、配向膜上に円盤状化合物（もしくは棒状液晶化合物）を配向させ、その配向状態を固定することにより形成する。このようにセルロースアシレートフイルム上に光学異方性層を設ける場合、従来ではセルロースアシレートフイルムと配向膜との接着性を確保するために、両者の間にゼラチン下塗り層を設ける必要があったが、本発明の、表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフイルムを用いることにより、ゼラチン下塗り層を不要とすることができる。

以上説明した少なくとも一種の棒状化合物と一種以上の円盤状化合物を含んで延伸され、上記レターデーション値Ｒｅ、Ｒｔｈ、およびＲｅ／Ｒｔｈ比を満たし、膜厚が４０μｍ〜１１０μｍのセルロースアシレートフイルムは、一枚だけで光学補償シートとして機能する。

本発明のセルロースアシレートフイルムは、光学補償シートとして用いることが好ましい。
また、本発明のセルロースアシレートフイルムは、セルロースアセテートフイルムであることが好ましい。

［偏光板］
偏光板は、偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる。一方の保護膜として、上記のセルロースアシレートフイルムからなる光学補償シートを用いることができる。他方の保護膜は、通常のセルロースアセテートフイルムを用いてもよい。
偏光膜には、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜がある。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フイルムを用いて製造する。
セルロースアシレートフイルムからなる光学補償シートの遅相軸と偏光膜の透過軸とは、実質的に平行になるように配置する。

［反射防止層］
偏光板の、液晶セルと反対側に配置される透明保護膜には反射防止層を設けることが好ましい。特に本発明では透明保護膜上に少なくとも光散乱層と低屈折率層がこの順で積層した反射防止層又は透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層が好適に用いられる。以下にそれらの好ましい例を記載する。

透明保護膜上に光散乱層と低屈折率層を設けた反射防止層の好ましい例について述べる。
本発明の光散乱層には、マット粒子が分散しており、光散乱層のマット粒子以外の部分の素材の屈折率は１．５０〜２．００の範囲にあることが好ましく、低屈折率層の屈折率は１．３５〜１．４９の範囲にあることが好ましい。本発明においては光散乱層は、防眩性とハードコート性を兼ね備えており、１層でもよいし、複数層、例えば２層〜４層で構成されていてもよい。

反射防止層は、その表面凹凸形状として、中心線平均粗さＲａが０．０８〜０．４０μｍ、１０点平均粗さＲｚがＲａの１０倍以下、平均山谷距離Ｓｍが１〜１００μｍ、凹凸最深部からの凸部高さの標準偏差が０．５μｍ以下、中心線を基準とした平均山谷距離Ｓｍの標準偏差が２０μｍ以下、傾斜角０〜５度の面が１０％以上となるように設計することで、十分な防眩性と目視での均一なマット感が達成され、好ましい。また、Ｃ光源下での反射光の色味がａ^＊値−２〜２、ｂ^＊値−３〜３、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲内での反射率の最小値と最大値の比０．５〜０．９９であることで、反射光の色味がニュートラルとなり、好ましい。またＣ光源下での透過光のｂ^＊値が０〜３とすることで、表示装置に適用した際の白表示の黄色味が低減され、好ましい。また、面光源上と本発明の反射防止フイルムの間に１２０μｍ×４０μｍの格子を挿入してフイルム上で輝度分布を測定した際の輝度分布の標準偏差が２０以下であると、高精細パネルに本発明のフイルムを適用したときのギラツキが低減され、好ましい。

本発明の反射防止層は、その光学特性として、鏡面反射率２．５％以下、透過率９０％以上、６０度光沢度７０％以下とすることで、外光の反射を抑制でき、視認性が向上するため好ましい。特に鏡面反射率は１％以下がより好ましく、０．５％以下であることが最も好ましい。ヘイズ２０％〜５０％、内部ヘイズ／全ヘイズ値０．３〜１、光散乱層までのヘイズ値から低屈折率層を形成後のヘイズ値の低下が１５％以内、くし幅０．５ｍｍにおける透過像鮮明度２０％〜５０％、垂直透過光／垂直から２度傾斜方向の透過率比が１．５〜５．０とすることで、高精細ＬＣＤパネル上でのギラツキ防止、文字等のボケの低減が達成され、好ましい。

［低屈折率層］
本発明の反射防止フイルムの低屈折率層の屈折率は、１．２０〜１．４９であり、好ましくは１．３０〜１．４４の範囲にある。さらに、低屈折率層は下記数式（VI）を満たすことが低反射率化の点で好ましい。
数式（VI）
（ｍ／４）×０．７＜ｎ1ｄ1＜（ｍ／４）×１．３
式中、ｍは正の奇数であり、ｎ1は低屈折率層の屈折率であり、そして、ｄ1は低屈折率層の膜厚（ｎｍ）である。また、λは波長であり、５００〜５５０ｎｍの範囲の値である。

本発明の低屈折率層を形成する素材について以下に説明する。
本発明の低屈折率層には、低屈折率バインダーとして、含フッ素ポリマーを含む。フッ素ポリマーとしては動摩擦係数０．０３〜０．２０、水に対する接触角９０〜１２０°、純水の滑落角が７０°以下の熱または電離放射線により架橋する含フッ素ポリマーが好ましい。本発明の反射防止フイルムを画像表示装置に装着した時、市販の接着テープとの剥離力が低いほどシールやメモを貼り付けた後に剥がれ易くなり好ましく、５００ｇｆ以下が好ましく、３００ｇｆ以下がより好ましく、１００ｇｆ以下が最も好ましい。また、微小硬度計で測定した表面硬度が高いほど、傷がつき難く、０．３ＧＰａ以上が好ましく、０．５ＧＰａ以上がより好ましい。

低屈折率層に用いられる含フッ素ポリマーとしてはパーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン）の加水分解、脱水縮合物の他、含フッ素モノマー単位と架橋反応性付与のための構成単位を構成成分とする含フッ素共重合体が挙げられる。

含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等が挙げられるが、好ましくはパーフルオロオレフィン類であり、屈折率、溶解性、透明性、入手性等の観点から特に好ましくはヘキサフルオロプロピレンである。

架橋反応性付与のための構成単位としてはグリシジル（メタ）アクリレート、グリシジルビニルエーテルのように分子内にあらかじめ自己架橋性官能基を有するモノマーの重合によって得られる構成単位、カルボキシル基やヒドロキシ基、アミノ基、スルホ基等を有するモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、マレイン酸、クロトン酸等）の重合によって得られる構成単位、これらの構成単位に高分子反応によって（メタ）アクリルロイル基等の架橋反応性基を導入した構成単位（例えばヒドロキシ基に対してアクリル酸クロリドを作用させる等の手法で導入できる）が挙げられる。

また上記含フッ素モノマー単位、架橋反応性付与のための構成単位以外に溶剤への溶解性、皮膜の透明性等の観点から適宜フッ素原子を含有しないモノマーを共重合することもできる。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばオレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン等）、アクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔ−ブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロ二トリル誘導体等を挙げることができる。

上記のポリマーに対しては特開平１０−２５３８８号および特開平１０−１４７７３９号各公報に記載のごとく適宜硬化剤を併用しても良い。

［光散乱層］
光散乱層は、表面散乱および／または内部散乱による光拡散性と、フイルムの耐擦傷性を向上するためのハードコート性をフイルムに寄与する目的で形成される。従って、ハードコート性を付与するためのバインダー、光拡散性を付与するためのマット粒子、および必要に応じて高屈折率化、架橋収縮防止、高強度化のための無機フィラーを含んで形成される。

光散乱層の膜厚は、ハードコート性を付与する目的で、１〜１０μｍが好ましく、１．２〜６μｍがより好ましい。薄すぎるとハード性が不足し、厚すぎるとカールや脆性が悪化して加工適性が不足となる。

散乱層のバインダーとしては、飽和炭化水素鎖またはポリエーテル鎖を主鎖として有するポリマーであることが好ましく、飽和炭化水素鎖を主鎖として有するポリマーであることがさらに好ましい。また、バインダーポリマーは架橋構造を有することが好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有するバインダーポリマーとしては、エチレン性不飽和モノマーの重合体が好ましい。飽和炭化水素鎖を主鎖として有し、かつ架橋構造を有するバインダーポリマーとしては、二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの（共）重合体が好ましい。バインダーポリマーを高屈折率にするには、このモノマーの構造中に芳香族環や、フッ素以外のハロゲン原子、硫黄原子、リン原子、及び窒素原子から選ばれた少なくとも１種の原子を含むものを選択することもできる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーとしては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート）、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、上記のエチレンオキサイド変性体、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。上記モノマーは２種以上併用してもよい。

高屈折率モノマーの具体例としては、ビス（４−メタクリロイルチオフェニル）スルフィド、ビニルナフタレン、ビニルフェニルスルフィド、４−メタクリロキシフェニル−４’−メトキシフェニルチオエーテル等が挙げられる。これらのモノマーも２種以上併用してもよい。

これらのエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合は、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、エチレン性不飽和基を有するモノマー、光ラジカル開始剤あるいは熱ラジカル開始剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。これらの光ラジカル開始剤等は公知のものを使用することができる。

ポリエーテルを主鎖として有するポリマーは、多官能エポシキシ化合物の開環重合体が好ましい。多官能エポシキ化合物の開環重合は、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤の存在下、電離放射線の照射または加熱により行うことができる。
従って、多官能エポシキシ化合物、光酸発生剤あるいは熱酸発生剤、マット粒子および無機フィラーを含有する塗液を調製し、該塗液を透明支持体上に塗布後電離放射線または熱による重合反応により硬化して反射防止膜を形成することができる。

二個以上のエチレン性不飽和基を有するモノマーの代わりにまたはそれに加えて、架橋性官能基を有するモノマーを用いてポリマー中に架橋性官能基を導入し、この架橋性官能基の反応により、架橋構造をバインダーポリマーに導入してもよい。
架橋性官能基の例には、イソシアナート基、エポキシ基、アジリジン基、オキサゾリン基、アルデヒド基、カルボニル基、ヒドラジン基、カルボキシル基、メチロール基および活性メチレン基が含まれる。ビニルスルホン酸、酸無水物、シアノアクリレート誘導体、メラミン、エーテル化メチロール、エステルおよびウレタン、テトラメトキシシランのような金属アルコキシドも、架橋構造を導入するためのモノマーとして利用できる。ブロックイソシアナート基のように、分解反応の結果として架橋性を示す官能基を用いてもよい。すなわち、本発明において架橋性官能基は、すぐには反応を示すものではなくとも、分解した結果反応性を示すものであってもよい。
これら架橋性官能基を有するバインダーポリマーは塗布後、加熱することによって架橋構造を形成することができる。

光散乱層には、防眩性付与の目的で、フィラー粒子より大きく、平均粒径が１〜１０μｍ、好ましくは１．５〜７．０μｍのマット粒子、例えば無機化合物の粒子または樹脂粒子が含有される。
上記マット粒子の具体例としては、例えばシリカ粒子、ＴｉＯ_２粒子等の無機化合物の粒子；アクリル粒子、架橋アクリル粒子、ポリスチレン粒子、架橋スチレン粒子、メラミン樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子等の樹脂粒子が好ましく挙げられる。なかでも架橋スチレン粒子、架橋アクリル粒子、架橋アクリルスチレン粒子、シリカ粒子が好ましい。
マット粒子の形状は、球状あるいは不定形のいずれも使用できる。

また、粒子径の異なる２種以上のマット粒子を併用して用いてもよい。より大きな粒子径のマット粒子で防眩性を付与し、より小さな粒子径のマット粒子で別の光学特性を付与することが可能である。

さらに、上記マット粒子の粒子径分布としては単分散であることが最も好ましく、各粒子の粒子径は、それぞれ同一に近ければ近いほど良い。例えば平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合には、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１%以下であり、さらに好ましくは０．０１％以下である。このような粒子径分布を持つマット粒子は通常の合成反応後に、分級によって得られ、分級の回数を上げることやその程度を強くすることにより、より好ましい分布のマット剤を得ることができる。

上記マット粒子は、形成された光散乱層のマット粒子量が好ましくは１０〜１０００ｍｇ／ｍ^２、より好ましくは１００〜７００ｍｇ／ｍ^２となるように光散乱層に含有される。
マット粒子の粒度分布はコールターカウンター法により測定し、測定された分布を粒子数分布に換算する。

光散乱層には、層の屈折率を高めるために、上記のマット粒子に加えて、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも１種の金属の酸化物からなり、平均粒径が０．２μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、より好ましくは０．０６μｍ以下である無機フィラーが含有されることが好ましい。
また逆に、マット粒子との屈折率差を大きくするために、高屈折率マット粒子を用いた光散乱層では層の屈折率を低目に保つためにケイ素の酸化物を用いることも好ましい。好ましい粒径は前述の無機フィラーと同じである。
光散乱層に用いられる無機フィラーの具体例としては、ＴｉＯ_２、ＺｒＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、Ｓｂ_２Ｏ_３、ＩＴＯとＳｉＯ_２等が挙げられる。ＴｉＯ_２およびＺｒＯ_２が高屈折率化の点で特に好ましい。該無機フィラーは表面をシランカップリング処理又はチタンカップリング処理されることも好ましく、フィラー表面にバインダー種と反応できる官能基を有する表面処理剤が好ましく用いられる。
これらの無機フィラーの添加量は、光散乱層の全質量の１０〜９０％であることが好ましく、より好ましくは２０〜８０％であり、特に好ましくは３０〜７５％である。
なお、このようなフィラーは、粒径が光の波長よりも十分小さいために散乱が生じず、バインダーポリマーに該フィラーが分散した分散体は光学的に均一な物質として振舞う。

光散乱層のバインダーおよび無機フィラーの混合物のバルクの屈折率は、１．４８〜２．００であることが好ましく、より好ましくは１．５０〜１．８０である。屈折率を上記範囲とするには、バインダー及び無機フィラーの種類及び量割合を適宜選択すればよい。どのように選択するかは、予め実験的に容易に知ることができる。

光散乱層は、特に塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状均一性を確保するために、フッ素系、シリコーン系の何れかの界面活性剤、あるいはその両者を防眩層形成用の塗布組成物中に含有する。特にフッ素系の界面活性剤は、より少ない添加量において、本発明の反射防止フイルムの塗布ムラ、乾燥ムラ、点欠陥等の面状故障を改良する効果が現れるため、好ましく用いられる。面状均一性を高めつつ、高速塗布適性を持たせることにより生産性を高めることが目的である。

次に透明保護膜上に中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順で積層した反射防止層について述べる。
基体上に少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層（最外層）の順序の層構成から成る反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平８−１２２５０４号公報、同８−１１０４０１号公報、同１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等が挙げられる。又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報等）等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、５％以下あることが好ましく、３％以下がさらに好ましい。又膜の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。

［高屈折率層および中屈折率層］
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを少なくとも含有する硬化性膜から成る。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率１．９以上のものが挙げられる。例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
このような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること（例えば、シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること（特開２００１−１６６１０４等）、特定の分散剤併用（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６２１０８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び／又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも２個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも１種の組成物が好ましい。例えば、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の化合物が挙げられる。
又、金属アルコキドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載されている。
高屈折率層の屈折率は、一般に１．７０〜２．２０である。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０であることが好ましい。また、厚さは５ｎｍ〜１０μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍであることがさらに好ましい。

［低屈折率層］
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成る。低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５である。好ましくは１．３０〜１．５０である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は１．３５〜１．５０であることが好ましい。より好ましくは１．３６〜１．４７である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を３５〜８０質量％の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平９−２２２５０３号公報段落［００１８］〜［００２６］、同１１−３８２０２号公報段落［００１９］〜［００３０］、特開２００１−４０２８４号公報段落［００２７］〜［００２８］、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造をを有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製等）、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報等）等が挙げられる。
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び／又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。
又、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報記載等記載の化合物）、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物（特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報記載の化合物等）等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム，フッ化カルシウム，フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号［００２０］〜［００３８］に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。

［反射防止層の他の層］
さらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。

［ハードコート層］
ハードコート層は、反射防止層を設けた透明保護膜に物理強度を付与するために、透明支持体の表面に設ける。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び／又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、ＷＯ０／４６６１７号公報等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒径０．２〜１０μｍの粒子を含有させて防眩機能（アンチグレア機能）を付与した防眩層（後述）を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、０．２〜１０μｍであることが好ましく、より好ましくは０．５〜７μｍである。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ
Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。

［帯電防止層］
帯電防止層を設ける場合には体積抵抗率が１０^−８（Ωｃｍ^−３）以下の導電性を付与することが好ましい。吸湿性物質や水溶性無機塩、ある種の界面活性剤、カチオンポリマー、アニオンポリマー、コロイダルシリカ等の使用により１０^−８（Ωｃｍ^−３）の体積抵抗率の付与は可能であるが、温湿度依存性が大きく、低湿では十分な導電性を確保できない問題がある。そのため、導電性層素材としては金属酸化物が好ましい。金属酸化物には着色しているものがあるが、これらの金属酸化物を導電性層素材として用いるとフイルム全体が着色してしまい好ましくない。着色のない金属酸化物を形成する金属としてＺｎ，Ｔｉ，Ａｌ，Ｉｎ，Ｓｉ，Ｍｇ，Ｂａ，Ｍｏ，Ｗ，又はＶをあげることができ、これれを主成分とした金属酸化物を用いることが好ましい。具体的な例としては、ＺｎＯ，ＴｉＯ_２，ＳｎＯ_２，Ａｌ_２Ｏ_３，Ｉｎ_２Ｏ_３，ＳｉＯ_２，ＭｇＯ，ＢａＯ，ＭｏＯ_３，Ｖ_２Ｏ_５等、あるいはこれらの複合酸化物がよく、特にＺｎＯ，ＴｉＯ_２，及びＳｎＯ_２が好ましい。異種原子を含む例としては、例えばＺｎＯに対してはＡｌ，Ｉｎ等の添加物、ＳｎＯ_２に対してはＳｂ，Ｎｂ，ハロゲン元素等の添加、またＴｉＯ_２に対してはＮｂ，ＴＡ等の添加が効果的である。更にまた、特公昭５９−６２３５号公報に記載の如く、他の結晶性金属粒子あるいは繊維状物（例えば酸化チタン）に上記の金属酸化物を付着させた素材を使用しても良い。尚、体積抵抗値と表面抵抗値は別の物性値であり単純に比較することはできないが、体積抵抗値で１０^−８（Ωｃｍ^−３）以下の導電性を確保するためには、該導電層が概ね１０^−１０（Ω／□）以下の表面抵抗値を有していればよく更に好ましくは１０^−８（Ω／□）である。導電層の表面抵抗値は帯電防止層を最表層としたときの値として測定されることが必要であり、本明細書に記載の積層フイルムを形成する途中の段階で測定することができる。

［液晶表示装置］
本発明のセルロースアシレートフイルムを用いた偏光板は、液晶表示装置に有利に用いられる。本発明の偏光板は、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。このうち、ＯＣＢモードまたはＶＡモードに好ましく用いることができる。

ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置である。ＯＣＢモードの液晶セルは、米国特許第４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各明細書に開示されている。棒状液晶分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度が速いとの利点がある。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Digest of tech. Papers（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で発表）が含まれる。
ＯＣＢモードおよびＶＡモードの液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に二枚の偏光板を配置してもよいし、ＶＡモードの場合、偏光板をセルのバックライト側に配置してもよい。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。

以下、本発明を実施例に基づき具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されない。

実施例１
（セルロースアセテート溶液０１の調製）
下記表１に示す組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液０１を調製した。

（マット剤溶液０１の調製）
下記表２に示す組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液０１を調製した。

（レターデーション制御剤溶液０１の調製）
下記表３に示す組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、レターデーション制御剤溶液０１を調製した。

（紫外線吸収剤溶液０１の調製）
下記表４に示す組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収溶液０１を調製した。

（セルロースアセテートフイルムの作製）
上記セルロースアセテート溶液を９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、レターデーション制御剤溶液を６．１７質量部、ＵＶ吸収剤溶液０．６６質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。フイルムをバンドから剥離し、延伸開始時の残留溶剤含量３５％で、１３０℃の条件でフイルムをテンターを用いて２６％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま１４０℃で３０秒間保持した。その後、クリップを外して１４０℃で４０分間乾燥させ、セルロースアセテートフイルムを製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの膜厚は９２μｍであった。

セルロースアセテートの種類及びレターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、延伸開始時の残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム２〜１６を作製した。

作製したセルロースアセテートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。
また、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を以下のとおり測定した。結果を表６に示す。

［３８０ｎｍにおける透過率］
島津自記分光光度計ＵＶ３１００を用い、フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、３８０ｎｍにおける透過率を求めた。
［透明性］
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の測定した。
［ヘイズ］
ヘイズ計（１００１ＤＰ型、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
［面状故障］
セルロースエステルフィルムをサンプリングし、得られたフィルムの両端部３０ｃｍ幅、長さ１ｍ上に存在する３０μｍ以上の異物あるいは凝集物の数を数えて求めた。
［透湿度］
試料７０ｍｍΦを２５℃９０％ＲＨで２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にてＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ^２）し、
透湿度＝調湿後重量−調湿前重量
で求めた。

実施例２
実施例１に於いて、セルロースアセテートを、アセチル基の置換度１．９０、プロピオニル基の置換度０．８０のセルロースアセテートプロピオネートに変更し、レターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、剥ぎ取り時残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアシレートフィルム１７〜２０を作製した。
作製したセルロースアシレートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、実施例１と同様に、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を測定した。結果を表６に示す。

実施例３
実施例１に於いて、セルロースアセテートを、アセチル化度２．７５、６位の置換率３５％のセルロースアセテートに変更し、レターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、剥ぎ取り時残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム２１〜２５を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、実施例１と同様に、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を測定した。結果を表６に示す。

実施例４
実施例１に於いて、セルロースアセテートを、アセチル化度２．７８、６位の置換率３３％のセルロースアセテートに変更し、レターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、剥ぎ取り時残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム２６を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、実施例１と同様に、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を測定した。結果を表６に示す。

実施例５
実施例１に於いて、セルロースアセテートを、アセチル化度２．８５、６位の置換率３３％のセルロースアセテートに変更し、レターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、剥ぎ取り時残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム２７〜３０を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、実施例１と同様に、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を測定した。結果を表６に示す。

比較例１
実施例１においてセルロースアセテートの種類及びレターデーション制御剤の種類、添加量、紫外線吸収剤の種類、添加量、剥ぎ取り時残留溶媒量、延伸倍率を表５の内容に変更した以外は同様にしてセルロースアセテートフィルム３１〜３５を作製した。
作製したセルロースアセテートフイルムについて、ＫＯＢＲＡ（２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）製）を用いて、波長５９０ｎｍにおけるＲｅレターデーション値およびＲthレターデーション値を測定した。また、実施例５と同様に、３８０ｎｍにおける透過率、透明性、ヘイズ、面状故障、および透湿度を測定した。結果を表６に示す。
紫外線吸収剤を使用していないセルロースアセテートフィルム３１、３２は、マット剤の凝集が生じ、ヘイズ値、面状故障値が悪化した。
また、レターデーション制御剤を使用しなかったセルロースアセテートフイルム３３は、Ｒｅ値、Ｒｔｈ値が低く、目標値に達しなかった。
また、延伸倍率が１％であるセルロースアセテートフイルム３４は、Ｒｅ値が低く、好ましい目標値に達しなかった。
また、膜厚の厚いセルロースアセテートフィルム３５は、透明性が劣ることがわかる。
なお、フイルム３４は請求項１８の発明、フイルム３５は請求項１１の発明のそれぞれ比較例である。

実施例６
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
作製したセルロースアシレートフイルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。なお、ケン化処理は以下のような条件で行った。
１．５Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を調製し、５５℃に保温した。０．０１Ｎの希硫酸水溶液を調製し、３５℃に保温した。作製したセルロースアセテートフイルム１を上記の水酸化ナトリウム水溶液に２分間浸漬した後、水に浸漬し水酸化ナトリウム水溶液を十分に洗い流した。次いで、上記の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
鹸化処理後のセルロースアセテートフイルムについて、Ｈ_２ＯおよびＣＨ_２Ｉ_２を滴下し、液滴の表面とフイルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフイルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義して、計算によりフイルムの表面エネルギーを測定した。求めた結果を表７に示す。

市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）に同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の、作成したセルロースアセテートフイルム１とは反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸と作成したセルロースアセテートフイルムの遅相軸とは平行になるように配置した。また、偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。
このようにして偏光板Ａ１を作製した。同様にしてセルロースアセテートフイルム２〜１６、２１〜３０、およびセルロースアシレートフィルム１７〜２０を用いた偏光板Ａ２〜１６、Ａ２１〜３０、およびＡ１７〜２０を作製した。セルロースアセテートフイルム２〜１６、２１〜３０、セルロースアシレートフィルム１７〜２０についても鹸化処理後のフイルムについて、表面エネルギーを測定し求めた結果を表７に示す。

比較例２
実施例６と同様にして、セルロースアセテートフイルム３１〜３５を用いた偏光板Ａ３１〜３５を作製した。セルロースアセテートフイルム３１乃至３５についても鹸化処理後のセルロースアセテートフイルムについて、表面エネルギーを測定し求めた結果を表７に示す。

実施例７
（光散乱層用塗布液の調製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物（PETA、日本化薬（株）製）５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤（イルガキュア１８４、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。
さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６０、ＳＸ−３５０、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子（屈折率１．５５、綜研化学（株）製）の３０％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤（ＫＢＭ−５１０３、信越化学工業（株）製）を１０ｇを加え、完成液とした。
上記混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して光散乱層の塗布液を調製した。

（低屈折率層用塗布液の調製）
屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー（ＪＮ−７２２８、固形分濃度６％、ＪＳＲ（株）製）１３ｇ、シリカゾル（シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０％、日産化学（株）製）１．３ｇ、ゾル液a ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

（反射防止層付き透明保護膜０１の作製）
８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ、富士写真フイルム（株）製）をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
該機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフイルムを再び巻き出して、該調製した低屈折率層用塗布液を線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取った。

（偏光板Ｂ１の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
作製した反射防止層付き透明保護膜０１に実施例６と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片側に貼り付けた。
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１に実施例６と同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸とセルロースアセテートフイルム１の遅相軸とは平行になるように配置した。偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。このようにして偏光板Ｂ１を作製した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、２．３％であった。
セルロースアセテートフィルム１の代わりにセルロースアセテートフィルム３乃至１５、２２及び、セルロースアシレートフィルム１７乃至１９、セルロースアセテートフィルム２８乃至３０からも同様にして偏光板Ｂ３乃至Ｂ１５、Ｂ２２、およびＢ１７乃至Ｂ１９、Ｂ２８乃至３０を作製した。

実施例８
（ハードコート層用塗布液の調製）
トリメチロールプロパントリアクリレート（ＴＭＰＴＡ、日本化薬（株）製）７５０．０重量部に、重量平均分子量３０００のポリ（グリシジルメタクリレート）２７０．０重量部、メチルエチルケトン７３０．０ｇ、シクロヘキサノン５００．０ｇ及び光重合開始剤（イルガキュア１８４、日本チバガイギー（株）製）５０．０ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。

（二酸化チタン微粒子分散液の調製）
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子（ＭＰＴ−１２９、石原産業（株）製）を使用した。
この粒子２５７．１ｇに、下記分散剤３８．６ｇ、およびシクロヘキサノン７０４．３ｇを添加してダイノミルにより分散し、重量平均径７０ｎｍの二酸化チタン分散液を調製した。

（中屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液８８．９ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ）５８．４ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７）３．１ｇ、光増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．１ｇ、メチルエチルケトン４８２．４ｇおよびシクロヘキサノン１８６９．８ｇを添加して攪拌した。十分に攪拌ののち、孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。

（高屈折率層用塗布液の調製）
上記の二酸化チタン分散液５８６．８ｇに、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物（ＤＰＨＡ、日本化薬（株）製）４７．９ｇ、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）４．０ｇ、光増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）１．３ｇ、メチルエチルケトン４５５．８ｇ、およびシクロヘキサノン１４２７．８ｇを添加して攪拌した。孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用の塗布液を調製した。

（低屈折率層用塗布液の調製）
本発明に係る共重合体（Ｐ−１）をメチルイソブチルケトンに７質量％の濃度になるように溶解し、末端メタクリレート基含有シリコーン樹脂Ｘ−２２−１６４Ｃ（信越化学（株）製）を固形分に対して３％、光ラジカル発生剤イルガキュア９０７（商品名）を固形分に対して５質量％添加し、低屈折率層用塗布液を調製した。

（反射防止層付透明保護膜０２の作製）
膜厚８０μｍのトリアセチルセルロースフイルム（ＴＤ−８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。１００℃で乾燥した後、酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液を３つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布した。

中屈折率層の乾燥条件は１００℃、２分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら１８０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量４００ｍＪ／ｃｍ² の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率１．６３０、膜厚６７ｎｍであった。

高屈折率層および低屈折率層の乾燥条件はいずれも９０℃、１分の後、１００℃、１分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が１．０体積％以下の雰囲気になるように窒素パージしながら２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度６００ｍＷ／ｃｍ² 、照射量６００ｍＪ／ｃｍ²の照射量とした。
硬化後の高屈折率層は屈折率１．９０５、膜厚１０７ｎｍ、低屈折率層は屈折率１．４４０、膜厚８５ｎｍであった。このようにして、反射防止層付き透明保護膜０２を作製した。

（偏光板Ｃ１の作製）
反射防止層付き透明保護膜０１の代わりに反射防止層付き透明保護膜０２を用いた以外は実施例７と同様にして偏光板Ｃ１を作製した。
分光光度計（日本分光（株）製）を用いて、３８０〜７８０ｎｍの波長領域において、入射角５°における分光反射率を測定し、４５０〜６５０ｎｍの積分球平均反射率を求めたところ、０．４％であった。
セルロースアセテートフィルム１の代わりにセルロースアセテートフィルム３乃至１５、２２、及び、セルロースアシレートフイルム１７乃至１９、セルロースアセテートフイルム２８乃至３０からも同様にして偏光板Ｃ３乃至Ｃ１５、Ｃ２２、およびＣ１７乃至Ｃ１９、Ｃ２８乃至Ｃ３０を作製した。

比較例３
（偏光板Ｂの作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１の代わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルム３１を用いた以外は実施例７と同様に偏光板Ｂ２８を作製した。
また、セルロースアセテートフィルム３２〜３５を用いて同様に偏光板Ｂ３２〜Ｂ３５を作製した。

比較例４
（偏光板Ｃの作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１の代わりに、比較例１で作製したセルロースアセテートフイルム３１を用いた以外は実施例８と同様に偏光板Ｃ３１を作製した。
また、セルロースアセテートフイルム３２乃至３５を用いて同様に偏光板Ｃ３２乃至Ｃ３５を作製した。

実施例９
〔偏光板の作製〕
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。
市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）に実施例６同様のケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両側に貼り付けた。
偏光膜の透過軸と市販のセルローストリアセテートフイルムの遅相軸とは、直交するように配置した。
このようにして偏光板Ｄを作製した。

実施例１０
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１作製した光学補償シートを使用し、実施例６で作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表８に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
セルロースアセテートフィルム３乃至１５、２２、及び、セルロースアシレートフィルム１７乃至１９、２２、セルロースアセテートフィルム２８乃至３０を使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。

実施例１１
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１で作製した光学補償シートを使用し、実施例７で得た偏光板を実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表８に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
セルロースアセテートフィルム３至１５、２２、及び、セルロースアシレートフィルム１７乃至１９、セルロースアセテートフィルム２８乃至３０を使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。

実施例１２
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、実施例１で作製した光学補償シートを使用し、実施例８で作製した偏光板を、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表８に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
セルロースアセテートフィルム３至１５、２２、及び、セルロースアシレートフィルム１７乃至１９、セルロースアセテートフィルム２８乃至３０を使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。

比較例５
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（ＶＬ−１５３０Ｓ、富士通（株）製）について、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表８に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。

比較例６
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、セルロースアセテートフイルム３３および３４を用いて比較例２で作製した偏光板を、セルロースアセテートフイルム３３および３４が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向も黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。結果を表８に示す。本発明の偏光板を用いた場合と比較して視野角が狭いことが分かる。

比較例７
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、セルロースアセテートフイルム３１及び３２を用いて比較例３で作製した偏光板を、セルロースアセテートフイルム３１及び３２が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、セルロースアセテートフィルム３１及び３２で作製した偏光板を使用した場合には、本発明の偏光板を用いた場合に比べて、白表示での輝度がやや劣っていた。

比較例８
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置（富士通（株）製）に設けられている一対の偏光板および一対の光学補償シートの代わりに、セルロースアセテートフイルム３１及び３２を用いて比較例４で作製した偏光板を、セルロースアセテートフイルム３１及び３２が液晶セル側となるように粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付けた。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、セルロースアセテートフィルム３１及び３２で作製した偏光板を使用した場合には、本発明の偏光板を用いた場合に比べて、白表示での輝度がやや劣っていた。

実施例１３
＜液晶セルの作製＞
液晶セルは、基板間のセルギャップを３．６μｍとし、負の誘電率異方性を有する液晶材料（「ＭＬＣ６６０８」、メルク社製）を基板間に滴下注入して封入し、基板間に液晶層を形成して作製した。液晶層のリターデーション（即ち、記液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄ）を３００ｎｍとした。なお、液晶材料は垂直配向するように配向させた。

上記の垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置の上側偏光板（観察者側）には、実施例９で作製した偏光板Ｄを用いた。下側偏光板（バックライト側）には実施例１で作製した光学補償シート２を使用した実施例６で作製した偏光板Ａ２を、実施例１で作製したセルロースアシレートフィルム２が液晶セル側となるように設置した。上側偏光板及び下側偏光板は粘着剤を介して液晶セルに貼りつけた。上側偏光板の透過軸が上下方向に、そして下側偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。
作製した液晶表示装置を観察した結果、正面方向および視野角方向もニュートラルな黒表示が実現できていた。また、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側の階調反転のない範囲）を測定した。
下記表９に示したとおり、本発明の偏光板を具備することにより広い視野角が実現できていた。
セルロースアセテートフィルム２、１６、２１、２３乃至２７、及び、セルロースアシレートフィルム２０を使用して作製した偏光板を使った場合についても同様の結果が得られた。

比較例９
実施例１３において、偏光板Ａ２の代わりに偏光板Ａ３３及びＡ３４を用いたこと以外は実施例１３と同様にして、液晶表示装置を作製した。
作製した液晶表示装置を観察した結果、セルロースアセテートフィルム３３及び３４で作製した偏光板を使用した場合には、本発明の偏光板を用いた場合に比べて、視野角が狭いことが分かる。

実施例１４
（ＯＣＢ型（ベンド配向）液晶セルの作製）
ＴＦＴ電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップ（二枚のガラス基板の隙間）にフッ素系液晶化合物（物性値はΔｎ＝０．１６、Δε＝９．３、ｋ11＝１３．４ｐＮ、ｋ22＝７．４ｐＮ、ｋ33＝１４．７ｐＮ）を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。

（光学的位相差補償フイルムの作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１を実施例６と同様に鹸化処理したフイルム上に、下記の組成の配向膜塗布液を♯１６のワイヤーバーコーターで２８ｍｌ／ｍ^２塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。次に、セルロースアセテートフイルムの遅相軸（波長６３２．８ｎｍで測定）と４５゜の方向に、形成した膜にラビング処理を実施した。

（光学異方性層の形成）
得られた配向膜の上に、下記のディスコティック液晶ＴＥ−１とＴＥ−２を質量比９対１で混合してメチルエチルケトンを加え、全体として１０質量％の溶液を調整した。得られた溶液をスピンコート法により２０００ｒｐｍで塗布を行い、１４５℃まで昇温して熱処理した。その後室温まで冷却し、厚さ１．４μｍの（ディスコティック）液晶層を形成した。波長５４６ｎｍで測定した光学異方性層のＲｅレターデーション値は３０ｎｍであった。また、円盤面と支持体（セルロースアセテートフイルム）面との間の角度は平均で３６゜であった。このようにして光学的位相差補償フイルムを作製した。

（偏光板の作製）
延伸したポリビニルアルコールフイルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を作製した。ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、作製した光学的位相差補償フイルムのセルロースアセテートフイルム側を、セルロースアセテートフイルムの遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように、偏光膜の片側に貼り付けた。市販のセルローストリアセテートフイルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士写真フイルム（株）製）にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の反対側に貼り付けた。このようにして偏光板を作製した。

（液晶表示装置の作製）
得られたベンド配向セルを挟むように、作製した偏光板を二枚貼り付けた。偏光板の光学異方性層がセル基板に対面し、液晶セルのラビング方向とそれに対面する光学異方性層のラビング方向とが反平行となるように配置した。液晶セルに５５Ｈｚの矩形波電圧を印加した。白表示２Ｖ、黒表示５Ｖのノーマリーホワイトモードとした。透過率の比（白表示／黒表示）をコントラスト比として、測定機（ＥＺ−Contrast１６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角を測定した。結果を表１１に示す。

比較例１０
市販のセルロースアセテートフイルム（富士タックＴＤ８０、富士写真フイルム（株）製）に、実施例１４と同様にして、表面処理、配向膜と液晶分子の塗設、偏光板の作製、ＯＣＢ型液晶装置の作製を行った。作製した液晶表示装置の視野角を測定した結果を表１１に示す。

（液晶表示装置の評価）
実施例１４、および比較例１０で作製した液晶表示装置の視角特性の結果を以下の表１１に示す。

実施例１４で作製した液晶表示装置は、比較例１０で作製した液晶表示装置に比較して広視野角を得た。
また、実施例１４で、実施例１で作製したセルロースアセテートフイルム１を用いる代わりにセルロースアセテートフイルム２乃至１６、２１乃至２７、セルロースアシレート１７乃至２０、及びセルロースアセテートフィルム２８乃至３０を用いた場合にも、同様に広視野角が得られた。

Claims (30)

1. セルロースアシレート１００質量部に対して、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
2. セルロースアシレート１００質量部に対して、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。
3. 前記１，３，５−トリアジン環を有する化合物が、一般式（II）で表されることを特徴とする請求項２に記載の光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｘ^１は、単結合、−ＮＲ^４−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｘ^２は、単結合、−ＮＲ^５−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｘ^３は、単結合、−ＮＲ^６−、−Ｏ−または−Ｓ−をあらわす。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、それぞれ独立に、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。Ｒ^４、Ｒ^５およびＲ^６は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基をあらわす。）
4. セルロースアシレート１００質量部に対して、下記一般式（Ｉ）で示される化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の少なくとも一種を０．０１乃至２０質量部含み、かつ、紫外線吸収剤の少なくとも一種を０．１乃至２０質量部含有することを特徴とする光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７、Ｒ^９およびＲ^１０はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４およびＲ^５のうち少なくとも１つは電子供与性基を表す。Ｒ^８は水素原子、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数２〜６のアルキニル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２のアリールオキシ基、炭素数２〜１２のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜１２のアシルアミノ基、シアノ基またはハロゲン原子を表す。）
5. 紫外線吸収剤が一般式（III）で示されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｑ_１およびＱ_２はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘは置換基を表し、Ｙは酸素原子または硫黄原子、窒素原子を表す。ＸＹは水素原子であっても良い。）
6. 紫外線吸収剤が一般式（IV）で示されることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_１、Ｒ_２、およびＲ_３の少なくとも１つは総炭素数１０〜２０の無置換の分岐または直鎖のアルキル基である。）
7. 一般式（Ｖ）で示される紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フイルム。
   

   

   （式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４、およびＲ_５は一価の有機基であり、Ｒ_６は分岐のアルキル基である。）
8. 前記一般式（IV）におけるＲ_４、およびＲ_５のうち少なくとも１つの置換基がハロゲン原子である紫外線吸収剤と、Ｒ_４、およびＲ_５の置換基のいずれもがハロゲン原子でない紫外線吸収剤が含有され、ハロゲン原子を有する紫外線吸収剤：ハロゲン原子を有しない紫外線吸収剤が質量比で、２０：８０〜８０：２０の範囲であることを特徴とする請求項６記載の光学フイルム。
9. 下記数式（Ｉ）で定義されるＲｅレターデーション値が２０乃至２００ｎｍであり、下記数式（II）で定義されるＲthレターデーション値が７０乃至４００ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フイルム。
   数式（Ｉ）：Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
   数式（II）：Ｒth＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ
   ［式中、ｎｘは、フイルム面内の遅相軸方向の屈折率であり；ｎｙは、フイルム面内の進相軸方向の屈折率であり；ｎｚは、フイルムの厚み方向の屈折率であり；そして、ｄは、フイルムの厚さである］。
10. Ｒｅレターデーション値とＲｔｈレターデーション値との比（Ｒｅ／Ｒｔｈ比）が０．１乃至０．８であることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フイルム。
11. 膜厚が４０μｍ〜１２０μｍの一枚のセルロースアシレートフイルムのみからなることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フイルム。
12. ３８０ｎｍにおける透過率が８％以下であることを特徴とする請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光学フイルム。
13. 紫外線吸収剤がベンゾフェノン系化合物であり、分配係数が３．０以上であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、９、１０、１１または１２に記載の光学フイルム。
14. 紫外線吸収剤がベンゾフェノン系化合物であり、凝固点が２０℃以上であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５、９、１０、１１、１２または１３に記載の光学フイルム。
15. 紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であり、分配係数が９．２以上であることを特徴とする請求項１、２、３、４、６、７、８、９、１０、１１または１２に記載の光学フイルム。
16. 紫外線吸収剤がベンゾトリアゾール系化合物であり、凝固点が２０℃未満であることを特徴とする請求項１、２、３、４、６、７、８、９、１０、１１、１２または１５に記載の光学フイルム。
17. 表面エネルギーが５５乃至７５ｍＮ／ｍであるセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする請求項１〜１６のいずれか１項に記載の光学フイルム。
18. ３乃至１００％の延伸倍率で延伸したセルロースアシレートフイルムからなることを特徴とする請求項１〜１７のいずれか１項に記載の光学フイルム。
19. セルロースアシレートが、酢化度が５９．０乃至６１．５％であるセルロースアセテートであり、延伸倍率１％あたりのＲｅ／Ｒｔｈ変化量が０．０１乃至０．１であることを特徴とする請求項１〜１８のいずれか１項に記載の光学フイルム。
20. フイルムの残留溶剤量が２％乃至５０％の状態で長手方向に搬送しながら長手方向と直交する方向に延伸し、該フイルムの遅相軸が該フイルムの長尺方向に対して直交する方向にあることを特徴とする請求項１〜１９のいずれか１項に記載の光学フイルム。
21. セルロースアシレートフイルムが、セルロースの水酸基を炭素原子数が２以上のアシル基で置換して得られたセルロースアシレートからなるフイルムであって、２位のアシル基の置換度をＤＳ２、３位のアシル基の置換度をＤＳ３、６位のアシル基の置換度をＤＳ６とする時、下記式（III）及び（IV）を満たすことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光学フイルム。
    （III） ２．０≦ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６≦３．０
    （IV） ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）≧０．３２０
22. セルロースアシレートが、セルロースの水酸基がアセチル基および炭素原子数が３〜２２のアシル基で置換されたセルロースアシレートからなり、かつ該セルロースアシレートのアセチル基の置換度Ａおよび炭素原子数が３〜２２のアシル基の置換度Ｂが、下記式（Ｖ）を満たすことを特徴とする請求項１〜２０のいずれか１項に記載の光学フイルム。
    式（Ｖ）：２．０≦Ａ＋Ｂ≦３．０
23. 炭素原子数が３〜２２のアシル基が、ブタノイル基またはプロピオニル基であることを特徴とする請求項２２に記載の光学フイルム。
24. 請求項１〜２３のいずれか１項に記載の光学フイルムからなることを特徴とする光学補償シート。
25. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の少なくとも一方が、請求項２４記載の光学補償シートであることを特徴とする偏光板。
26. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が請求項２４記載の光学補償シートであり、該光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも光散乱層と低屈折率層からなる鏡面反射率２．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする偏光板。
27. 偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる偏光板であって、透明保護膜の一方が請求項２４記載の光学補償シートであり、該光学補償シートと反対側の透明保護膜には少なくとも中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層がこの順に積層されてなる鏡面反射率０．５％以下の反射防止層を設けたことを特徴とする偏光板。
28. 液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、請求項２４記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とする液晶表示装置。
29. 液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルと少なくとも一方の偏光板との間に、請求項２４記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。
30. 液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなり、該偏光板が偏光膜およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、該液晶セルとバックライト側の偏光板との間に、請求項２４に記載の光学補償シートが配置されており、該光学補償シートの遅相軸と光学補償シートに隣接する偏光膜の透過軸とが実質的に平行になるように配置されていることを特徴とするＶＡモードの液晶表示装置。