TWI776122B - 用於除塵程序的承載裝置、檢測裝置、輸送裝置及除塵裝置 - Google Patents

用於除塵程序的承載裝置、檢測裝置、輸送裝置及除塵裝置 Download PDF

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Abstract

一種用於除塵程序的承載裝置，包括一承載單元以及一網 格件。多個工件適於配置在承載單元內。網格件設置於承載單元上方。來自承載單元外部的一除塵氣流適於通過網格件並進入承載單元以清潔多個工件。

Description

用於除塵程序的承載裝置、檢測裝置、輸送裝置 及除塵裝置
本發明是有關於一種承載裝置及檢測裝置，且特別是有關於一種適用於除塵程序與光學檢測的承載裝置及檢測裝置。
半導體晶圓經過切割製程後，會形成多個獨立的晶片。切割後的晶片，需要進行自動光學檢查，利用光學辨識儀器取得晶粒的表面影像，再透過後端的電腦影像處理技術，以檢測出檢出晶粒是否損壞、存在異物或圖案異常等瑕疵。
晶片在進行光學檢測之前，需要先進行除塵工作，將各個晶片表面的灰塵或其它異物除去，以避免各個晶片在於光學檢測階段造成誤判。現今裝載多個晶片的方式是採用網格狀的料盤，將多個晶片分別放置在料盤中，再將整個料盤送入產線依序進行除塵與光學檢測。
然而，現有的晶片在除塵過程中可能脫離料盤。此外，現 有的除塵方式，是將氣流直接吹拂晶片，此造成料盤中央處的灰塵可能被吹落到料盤兩側，仍會影響料盤兩側晶片的檢測結果。
本發明提供一種用於除塵程序的承載裝置及檢測裝置，透過除塵單元對於多個待檢測工件進行除塵，再透過檢測單元檢測除塵後的多個工件，可避免工件在除塵過程中脫落以及殘留灰塵而影響檢測結果。
本發明的一種用於除塵程序的承載裝置，包括一承載單元以及一網格件。多個工件適於配置在承載單元中。網格件設置於承載單元上方。來自承載單元外部的一除塵氣流適於通過網格件並進入承載單元以清潔多個工件。
本發明的一種輸送裝置，包括一基座、一運輸通道、一承載單元、一網格件、一抵頂單元以及一進料單元。運輸通道設置於基座上。承載單元配置在運輸通道且多個工件適於配置在承載單元中。網格件設置於承載單元上方。抵頂單元配置在基座上。進料單元配置在基座下方。其中，抵頂單元用以推動承載單元以抵靠於網格件，進料單元用以推動承載單元於運輸通道中平移，使承載單元對位於網格件。
本發明的一種除塵裝置，包括一基座、一網格件、一除塵單元以及一承載單元。網格件配置在基座上方。除塵單元配置在基座且位在網格件上方。承載單元配置在基座且位在網格件下方，且 多個工件適於配置在承載單元中。除塵單元產生一除塵氣流通過網格件並進入承載單元以清潔多個工件，並吸取過濾後的除塵氣流以朝上排放。
本發明的一種檢測裝置，包括一基座、一網格件、一除塵單元、一承載單元以及一檢測單元。網格件配置在基座上方。除塵單元配置在基座且位在網格件上方。承載單元配置在基座且位在網格件下方，且多個工件適於配置在承載單元中。檢測單元配置在基座上且相對遠離除塵單元。其中除塵單元產生一除塵氣流通過網格件以清潔多個工件，並吸取過濾後的除塵氣流以朝上排放，當承載單元通過除塵單元時，檢測單元用以檢測多個工件。
基於上述，本發明的檢測裝置，以承載單元承載多個待檢測的工件，並透過基座的運輸通道將承載單元運送網格件的下方，再以抵頂單元朝上推動承載單元並抵靠於網格件。接著除塵單元用以傳遞一除塵氣流通過網格件以清潔多個工件，並將吸取過濾後的除塵氣流以朝上排放。在除塵過程中，多個工件受到網格件的限制，可避免工件脫離於承載單元。此外，本發明的除塵單元是將吹出的除塵氣流再度吸收，以避免承載單元中央處的灰塵被吹落到承載單元兩側的工件上，進而改善工件在後端光學檢測的良率。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
100:用於除塵程序的承載裝置
110:基座
111:支架
112:L型架
120:網格件
130:除塵單元
131:滑軌座
132:滑動座
133:吸塵座
134:吹嘴
140:承載單元
150:抵頂單元
151:壓缸
152:頂板
160:檢測單元
170:進料單元
171:進料滑座
172:推動架
G:凹槽
A1、A2:除塵氣流
AS:承載空間
H1:抽風口
H2:排風口
GH:網孔
TC:運輸通道
VD:垂直方向
圖1是本發明一實施例的一種用於除塵程序的承載裝置的平面示意圖。
圖2A是本發明一實施例的一種輸送裝置、除塵裝置與檢測裝置的立體示意圖。
圖2B是圖2A的輸送裝置、除塵裝置與檢測裝置於另一方向的立體示意圖。
圖2C是圖2A的輸送裝置、除塵裝置與檢測裝置的部分元件側視示意圖。
圖2D是圖2A的輸送裝置、除塵裝置與檢測裝置的正視平面示意圖。
參考圖1，本發明的用於除塵程序的承載裝置100，包括一承載單元140以及一網格件120。多個工件200適於配置在承載單元140中。網格件120設置於承載單元140上，例如是間隔配置在承載單元140上方。一除塵氣流A1適於通過網格件120並進入承載單元140以清潔多個工件200。簡言之，工件例如是晶片、石英片、半導體元件或其它類似的元件。承載裝置100可在運送過程中，對於所承載的工件進行除塵程序(吹塵+吸塵)。網格件120配置在承載單元且位在各個工件上方，用於防止工件於除塵程序過程中被吹離承載單元。此外，網格件120具有彈性且防靜電特 性，可避免對於工件造成撞擊或電性損壞。
參考圖2A至圖2D，本發明的輸送裝置，包括一基座110、一網格件120、一承載單元140、一抵頂單元150以及一進料單元170。基座110具有兩支架，以構成一運輸通道。承載單元140配置在基座110的其中一支架。進料單元配置在基座下方。網格件120固設在兩支架之間。承載單元140配置在運輸通道中且位在網格件120下方，且多個工件適於配置在承載單元140中。抵頂單元150配置在基座110的其中一支架。進料單元170配置在基座下方。抵頂單元170用以推動承載單元140以抵靠於網格件120。進料單元170用以推動承載單元140於運輸通道中平移，使承載單元140對位於網格件120。
本實施例的輸送裝置，具備抵頂單元150與進料單元170。簡言之抵頂單元170用以將承載單元140朝網格件120推動，使兩者可相互密合。進料單元170用以推動承載單元140於運輸通道中平移，當檢測或除塵完畢後，再將承載單元140移出網格件120。
參考圖2A至圖2D，本發明的除塵裝置，包括一基座110、一網格件120、一除塵單元130以及一承載單元140。多個工件200適於配置在承載單元140中。除塵單元130產生一除塵氣流通過網格件120並進入承載單元140以清潔多個工件，並吸取過濾後的除塵氣流以朝上排放。
本實施例的除塵裝置，具備除塵單元130，當承載單元140 與所承載的多個工件移動至網格件120下方時，可透過除塵單元130對於所承載的工件進行除塵程序(吹塵+吸塵)，以避免灰塵的殘留。
請配合參考圖2A至圖2D，本發明的一種檢測裝置，包括一基座110、一網格件120、一除塵單元130、一承載單元140、一抵頂單元150以及一檢測單元160。
本發明的檢測裝置用以運送工件200例如是晶片(chips)並依序進行除塵與自動光學檢測。詳細而言，自動光學檢測是透過光學儀器取得待檢測晶片的數位影像，再將數位影像傳輸至處理裝置，透過影像處理技術來辨識晶片是否殘留異物或電路圖案是否異常等瑕疵。
基座110具有相互平行設置的兩支架111，且兩支架111共同構成一運輸通道TC。網格件120固設在兩支架111之間且懸空於運輸通道TC。除塵單元130配置在基座110且位在網格件120上方。承載單元140配置在運輸通道TC中且位在網格件120下方，且多個工件200適於配置在承載單元140中。抵頂單元150配置在基座的其中一支架111且位在運輸通道TC中。檢測單元160配置在基座110上且相對遠離除塵單元160。
詳細而言，檢測單元160例如包括系統主機、影像擷取裝置、以及伺服驅動機構。影像擷取裝置與伺服驅動機構耦接且受控於系統主機。影像擷取裝置，包含但不限於，例如CCD camera，可用以取得多個工件200的數位影像並傳輸至系統主機，系統主 機透過影像辨識方法辨識數位影像依據辨識結果判定各個晶片良率。伺服驅動機構用以帶動CCD camera產生二維或三維的移動以對位於待檢測的工件200。
參考圖2A至圖2D及圖1。抵頂單元150用以推動承載單元140抵靠於網格件120的底部，接著除塵單元130用以傳遞一除塵氣流A1通過網格件120並進入承載單元140以清潔多個工件200，並吸取過濾後的除塵氣流A2以朝上排放。當承載單元140通過除塵單元130時，檢測單元160用以檢測承載單元140中的多個工件200。
進一步而言，各支架111的內側形成一凹槽G，且兩凹槽G為相互平行設置。承載單元140的兩對向邊緣適於配置在兩凹槽G中，且間隔於網格件120，承載單元140透過兩凹槽G，而沿著兩支架111直線運送至檢測單元160下方。
進一步而言，參考圖2A及圖2B。除塵單元130包括一滑軌座131、一滑動座132以及一吸塵罩133。
滑軌座131配置在基座110的其中一支架111上且位在網格件120外側。滑動座132可滑動地套設於滑軌座131且交疊於網格件120，此處滑動座132的面積小於網格件120，且滑動座132具有多個吹嘴134，其用以吹出除塵氣流A1。吸塵罩133配置於滑動座132且具有抽風口H1與排風口H2。抽風口H1朝向網格件120且排風口H2朝上穿設於滑動座132。
其中，於除塵過程中，滑動座132適於沿著滑軌座131來 回移動，並以多個吹嘴134傳遞除塵氣流A1至網格件120，且除塵氣流A1適於通過網格件120以吹拂承載單元140中的多個工件200，將灰塵、異物吹離工件200，同時吸塵罩133的抽風口H1(見圖1B)用以吸收過濾後的除塵氣流A2並經由排風口H2(見圖1A)朝上排出。藉此，可避免灰塵、異物離開承載單元140中央的工件200時，散落在承載單元140兩側的工件200上。
抵頂單元150包括一壓缸151以及一頂板152。壓缸151固設在其中一支架111上且位在承載單元140的下方。頂板152連接於壓缸151且適於上下往復移動。當頂板152沿著垂直方向VD上升時，頂板152適於推頂承載單元140朝上並接觸網格件120。當除塵完畢後，頂板152適於沿著垂直方向VD下降，以將承載單元140置放於兩凹槽G，接著將承載單元140沿著兩凹槽G通過除塵單元130並運送至檢測單元160下方。
參考圖2A及圖2B，基座110具有多個L型架112，分別橫跨配置及平行設置在兩支架111上，且網格件120的四處外周緣貼附在多個L型架112的底面。多個L型架112用以支撐網格件120，當抵頂單元150推頂承載單元140朝上時，使網格件120確實貼附於承載單元140且在進行強力吹拂及吸收除塵時，可避免工件200自承載單元140脫落。此外，多個L型架112可避免網格件120產生過量的變形。
參考圖2C及2D，檢測裝置還包括一進料單元170。進料單元170包括一進料滑座171，配置在基座110的下方。一推動架 172可滑動地套設於進料滑座171且朝上延伸至兩支架111之間。其中，推動架172適於沿著進料滑座171往復移動，並用以推動承載單元140於運輸通道TC中平移，最終使承載單元140對位在網格件120下方。
配合參考圖1，於本實施例中，網格件120的材質，包含但不限於玻璃纖維以及鐵氟龍薄層。鐵氟龍薄層配置在玻璃纖維的表面。其中，玻璃纖維使網格件120具備彈性，鐵氟龍薄層使網格件120具防靜電與耐磨等特性。網格件120具有多個網孔GH，各網孔GH的面積尺寸為4mm*4mm。承載單元140具有多個承載空間AS。多個承載空間AS分別連通於相應的網孔GH，且各個承載空間AS面積尺寸大於各網孔GH的面積尺寸。透過多個網孔GH的設置可降低除塵氣流A1進入承載空間AS的流速。
綜上所述，本發明的檢測裝置，以承載單元承載多個待檢測的晶片，並透過基座的運輸通道將承載單元運送網格件的下方，再以抵頂單元朝上推動承載單元並抵靠於網格件。接著除塵單元用以傳遞一除塵氣流通過網格件以清潔多個工件，並將吸取反彈後的氣流以朝上排放。在除塵過程中，多個工件受到網格件的限制，可避免晶片脫離於承載單元。此外，本發明的除塵單元是將過濾後的除塵氣流再度吸收，以避免承載單元中央處的灰塵被吹落到承載單元兩側的工件上，進而改善工件在後端光學檢測的良率。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精 神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100:檢測裝置
120:網格件
140:承載單元
200:工件
A1、A2:除塵氣流
AS:承載空間
GH:網孔

Claims (14)

  1. 一種用於除塵程序的承載裝置，包括：一承載單元，多個工件適於配置於該承載單元內；一網格件，設置於該承載單元上方；其中來自該承載單元外部的一除塵氣流適於通過該網格件並進入該承載單元以清潔該些工件，其中該網格件的材質包括玻璃纖維以及鐵氟龍薄層，該鐵氟龍薄層配置在該玻璃纖維的表面。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的用於除塵程序的承載裝置，其中該網格件具有多個網孔，各該網孔的面積尺寸為4mm*4mm。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的用於除塵程序的承載裝置，其中該承載單元具有多個承載空間，用以容納該些工件且該些承載空間分別連通於相應的該些網孔，且各該承載空間的面積尺寸大於各該網孔的面積尺寸。
  4. 一種輸送裝置，包括：一基座；一運輸通道，設置於該基座上；一承載單元，配置在該運輸通道且多個工件適於配置在該承載單元中；一網格件，設置於該承載單元上方；一抵頂單元，配置在該基座上；以及 一進料單元，配置在該基座下方；其中該抵頂單元用以推動該承載單元以抵靠於該網格件，該進料單元用以推動該承載單元於該運輸通道中平移，使該承載單元對位於該網格件；以及其中該網格件的材質包括玻璃纖維以及鐵氟龍薄層，該鐵氟龍薄層配置在該玻璃纖維的表面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述的輸送裝置，其中該抵頂單元包括一壓缸以及一頂板，該壓缸位在該承載單元的下方，該頂板連接於該壓缸且適於帶動該承載單元相對於該網格件上下往復移動。
  6. 如申請專利範圍第4項所述的輸送裝置，其中，該進料單元包括：一進料滑座，配置在該基座的下方；以及一推動架，可滑動地套設於該進料滑座且朝上延伸至該兩支架之間，該推動架適於沿著該進料滑座往復移動。
  7. 一種除塵裝置，包括一基座；一網格件，配置在該基座上方；一除塵單元，配置在該基座且位在該網格件上方；以及一承載單元，配置在該基座且位在該網格件下方，且多個工件適於配置在該承載單元中，其中該除塵單元產生一除塵氣流通過該網格件並進入該承載 單元以清潔該些工件，並吸取該氣流以朝上排放；以及其中該網格件的材質包括玻璃纖維以及鐵氟龍薄層，該鐵氟龍薄層配只置在該玻璃纖維的表面。
  8. 如申請專利範圍第7項所述的除塵裝置，其中該除塵單元包括：一滑軌座，配置於該基座且位在該網格件外側；一滑動座，可滑動地套設於該滑軌座且交疊於該網格件，該滑動座具有多個吹嘴；以及一吸塵罩，配置於該滑動座中且具有抽風口與排風口，該抽風口朝向該網格件且該排風口朝上穿設於該滑動座，其中，於除塵過程中，該滑動座沿著該滑軌座移動，並以該些吹嘴傳遞該除塵氣流至該網格件，同時該吸塵罩的該抽風口吸收過濾後的該除塵氣流並經由該排風口朝上排出。
  9. 如申請專利範圍第7項所述的除塵裝置，其中該基座具有兩支架以及多個L型架，該兩支架構成一運輸通道，該網格件的外周緣貼附在該些L型架的底面。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的除塵裝置，還包括一進料單元包括：一進料滑座，配置在該基座的下方；以及一推動架，可滑動地套設於該進料滑座且朝上延伸至該兩支架之間，其中，該推動架適於沿著該進料滑座往復移動，並用以推動 該承載單元於該運輸通道中平移，最終使該承載單元對位在該網格件下方。
  11. 如申請專利範圍第7項所述的除塵裝置，其中該網格件具有多個網孔，各該網孔的面積尺寸為4mm*4mm。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的除塵裝置，其中該承載單元具有多個承載空間，分別連通於相應的該些網孔，且各該承載空間的面積尺寸大於各該網孔的面積尺寸。
  13. 一種檢測裝置，包括：一基座；一網格件，配置在該基座上方；一除塵單元，配置在該基座且位在該網格件上方；一承載單元，配置在該基座且位在該網格件下方，且多個工件適於配置在該承載單元中；以及一檢測單元，配置在該基座上且相對遠離該除塵單元，其中該除塵單元產生一除塵氣流通過該網格件以清潔該些工件，並吸取過濾後的該除塵氣流以朝上排放，當該承載單元通過該除塵單元時，該檢測單元用以檢測該些工件；以及其中該網格件的材質包括玻璃纖維以及鐵氟龍薄層，該鐵氟龍薄層配只置在該玻璃纖維的表面。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的檢測裝置，其中該檢測單元包括一系統主機、一影像擷取裝置以及一伺服驅動機構，該影像擷取裝置與該伺服驅動機構耦接且受控於該系統主機。
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