KR20210101163A - 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치, 검측 장치, 수송 장치 및 먼지 제거 장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 적재부 및 그리드를 포함하는 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치를 제공한다. 복수의 작업물은 적재부 내에 배치될 수 있다. 그리드는 적재부의 위쪽에 설치된다. 적재부의 외부로부터의, 먼지 제거용 에어는, 그리드를 통과해 적재부로 진입하여 복수의 작업물을 청소할 수 있다.

Description

먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치, 검측 장치, 수송 장치 및 먼지 제거 장치{CARRY DEVICE, DETECTION DEVICE, CONVEYING DEVICE AND DUST REMOVAL DEVICE FOR DUST REMOVAL PROCEDURES}
본 발명은 적재 장치, 검측 장치, 수송 장치 및 먼지 제거 장치에 관한 것으로, 특히 먼지 제거 프로세스와 광학 검측에 적용되는 적재 장치, 검측 장치, 수송 장치 및 먼지 제거 장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼는 절단 공정을 거친 후, 복수의 독립된 칩을 형성할 수 있다. 검출된 다이의 손상 여부, 이물질 유무 또는 패턴의 이상 여부 등의 결함을 검측하기 위해, 절단된 칩에 자동 광학 검사를 진행하여, 광학 식별기기를 이용해 다이의 표면 영상을 획득한 다음, 후반부의 컴퓨터 이미지 처리 기술을 통해 검토해야 한다.
광학 검측 단계에서 각각의 칩으로 인한 잘못된 판단을 방지하기 위해, 칩의 광학 검측을 진행하기 전에, 먼지 제거 작업을 먼저 진행하여, 각각의 칩의 표면의 먼지 또는 기타 이물질을 제거해야 한다. 오늘날 복수의 칩을 적재하는 방법은 그리드 모양의 트레이를 사용하여, 복수의 칩을 트레이에 각각 놓은 후, 모든 트레이를 생산 라인으로 보내 순차적으로 먼지 제거 및 광학 검측을 진행하는 것이다.
그러나, 먼지를 제거하는 과정에서 기존의 칩이 트레이에서 분리될 수 있다. 또한, 기존의 먼지 제거 방법은 에어를 칩에 직접 분사하는 것으로, 트레이 중앙의 먼지가 트레이 양측으로 날아가 떨어져, 트레이 양측의 칩의 검측 결과에 여전히 영향을 줄 수 있다.
본 발명은 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치 및 검측 장치를 제공하며, 먼지 제거부를 통해 복수의 검측 대상 작업물의 먼지를 제거한 다음, 검측부를 통해 먼지가 제거된 복수의 작업물을 검측하여, 먼지를 제거하는 과정에서 작업물이 탈락되고 먼지가 잔류해 검측 결과에 영향을 주는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치는 적재부 및 그리드를 포함한다. 복수의 작업물은 적재부에 배치될 수 있다. 복수의 작업물은 적재부에 배치되기에 적합하다. 그리드는 적재부의 위쪽에 설치된다. 적재부의 외부로부터의, 먼지 제거용 에어는, 그리드를 통과해 적재부로 진입하여 복수의 작업물을 청소할 수 있다. 적재부의 외부로부터의, 먼지 제거용 에어는, 그리드를 통과해 적재부로 진입하여 복수의 작업물을 청소하기에 적합하다.
본 발명의 수송 장치는 베이스, 운송 통로, 적재부, 그리드, 받침부 및 자재 공급부를 포함한다. 운송 통로는 베이스 위에 설치된다. 적재부는 운송 통로에 배치되고, 복수의 작업물은 적재부에 배치될 수 있다. 복수의 작업물은 적재부에 배치되기 적합하다. 그리드는 적재부의 위쪽에 설치된다. 받침부는 베이스 위에 배치된다. 자재 공급부는 베이스의 아래쪽에 배치된다. 여기에서, 받침부는 적재부를 밀어 그리드를 받치는 데에 사용되고, 자재 공급부는 적재부를 밀어 적재부가 운송 통로에서 평행하게 이동하게 하는 데에 사용되어, 적재부가 그리드에 대응하게 위치하도록 한다.
본 발명의 먼지 제거 장치는 베이스, 그리드, 먼지 제거부 및 적재부를 포함한다. 그리드는 베이스의 위쪽에 배치된다. 먼지 제거부는 베이스에 배치되고 그리드의 위쪽에 위치한다. 적재부는 베이스에 배치되고 그리드의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물은 적재부에 배치될 수 있다. 복수의 작업물은 적재부에 배치되기 적합하다. 먼지 제거부는, 먼지 제거용 에어를 생성하여 그리드를 통과해 적재부로 진입시켜 복수의 작업물을 청소하고, 필터링 후의 먼지 제거용 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출한다.
본 발명의 검측 장치는 베이스, 그리드, 먼지 제거부, 적재부 및 검측부를 포함한다. 그리드는 베이스의 위쪽에 배치된다. 먼지 제거부는 베이스에 배치되고 그리드의 위쪽에 위치한다. 적재부는 베이스에 배치되고 그리드의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물은 적재부에 배치될 수 있다. 복수의 작업물은 적재부에 배치되기에 적합하다. 검측부는 베이스 위에 배치되고 먼지 제거부로부터 상대적으로 멀리 떨어져 있다. 여기에서, 먼지 제거부는 먼지 제거용 에어를 생성하여 그리드를 통해 복수의 작업물을 청소하고, 필터링 후의 먼지 제거용 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출하며, 적재부가 먼지 제거부를 통과할 때, 검측부는 복수의 작업물을 검측하는 데에 사용된다.
상술한 내용에 기초하면, 본 발명의 검측 장치는 적재부를 통해 복수의 검측 대상의 작업물을 적재하고, 베이스의 운송 통로를 통해 적재부를 그리드의 아래쪽으로 운송한 다음, 받침부를 통해 적재부를 위쪽으로 밀어 그리드를 받친다. 그 다음, 먼지 제거부는 먼지 제거용 에어를 그리드를 통해 전달하여 복수의 작업물을 청소하고, 필터링 후의 먼지 제거용 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출하는 데에 사용된다. 먼지를 제거하는 과정에서, 복수의 작업물은 그리드에 제한되어, 작업물이 적재부에서 분리되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 먼지 제거부는 분사된 먼지 제거용 에어를 다시 흡입하여, 적재부 중앙의 먼지가 적재부 양측의 작업물 위로 날아가 떨어지는 것을 방지함으로써, 작업물의 후반부 광학 검측의 수율을 개선한다.
도면은 본 발명을 추가적으로 이해하기 위해 포함되며, 본 명세서에 포함되고 본 명세서의 일부분을 구성한다. 도면은 본 발명의 실시예를 설명하며, 설명과 함께 본 발명의 원리를 해석하는 데에 사용된다.
도 1은 본 발명의 일 실시예의 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치의 평면 개략도다.
도 2a는 본 발명의 일 실시예의 수송 장치, 먼지 제거 장치 및 검측 장치의 입체 개략도다.
도 2b는 도 2a의 수송 장치, 먼지 제거 장치 및 검측 장치의 다른 방향의 입체 개략도다.
도 2c는 도 2a의 수송 장치, 먼지 제거 장치 및 검측 장치의 부분 컴포넌트의 측면 투시 개략도다.
도 2d는 도 2a의 수송 장치, 먼지 제거 장치 및 검측 장치의 정면에서 투시한 평면 개략도다.
지금부터 본 발명의 예시적인 실시예를 상세하게 참고할 것이며, 예시적인 실시예의 예시가 도면에 설명되어 있다. 가능하다면, 동일한 컴포넌트의 부호는 도면 및 설명에서 동일하거나 유사한 부분을 나타내는 데에 사용된다.
도 1을 참고하면, 본 발명의 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치(100)는 적재부(140) 및 그리드(120)를 포함한다. 복수의 작업물(200)은 적재부(140)에 배치될 수 있다. 그리드(120)는 적재부(140) 위에 설치되며, 예를 들어, 거리를 두고 적재부(140)의 위쪽에 배치된다. 먼지 제거용 에어(A1)는 그리드(120)를 통과해 적재부(140)로 진입하여 복수의 작업물(200)을 청소할 수 있다. 요컨대, 작업물은 예를 들어 칩, 석영판, 반도체 컴포넌트 또는 기타 유사한 컴포넌트다. 적재 장치(100)는 운송 과정에서 적재된 작업물에 먼지 제거 프로세스(먼지 분사+먼지 흡입)를 진행할 수 있다. 그리드(120)는 적재부에 배치되고 각각의 작업물의 위쪽에 위치하며, 먼지 제거 프로세스 과정에서 작업물이 적재부에서 분리되는 것을 방지하는 데에 사용된다. 또한, 그리드(120)는 탄성 및 정전기 방지 특성을 가지고 있어, 작업물에 대한 충격 또는 전기적 손상을 방지할 수 있다.
도 2a 내지 도 2d를 참고하면, 본 발명의 수송 장치는 베이스(110), 그리드(120), 적재부(140), 받침부(150) 및 자재 공급부(170)를 포함한다. 베이스(110)는 두 개의 브래킷(111)을 구비하여, 운송 통로를 구성한다. 적재부(140)는 베이스(110)의 브래킷(111) 중 하나에 배치된다. 자재 공급부(170)는 베이스(110)의 아래쪽에 배치된다. 그리드(120)는 두 개의 브래킷(111) 사이에 고정 설치된다. 적재부(140)는 운송 통로에 배치되고 그리드(120)의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물은 적재부(140)에 배치될 수 있다. 받침부(150)는 베이스(110)의 브래킷(111) 중 하나에 배치된다. 자재 공급부(170)는 베이스(110)의 아래쪽에 배치된다. 받침부(150)는 적재부(140)를 밀어 그리드(120)를 받치는 데에 사용된다. 자재 공급부(170)는 적재부(140)가 운송 통로에서 평행하게 이동하도록 미는 데에 사용되어, 적재부(140)가 그리드(120)에 대응하게 위치하도록 한다.
본 실시예의 수송 장치는 받침부(150) 및 자재 공급부(170)를 구비한다. 요컨대, 받침부(150)는 적재부(140)를 그리드(120) 쪽으로 미는 데에 사용되어, 양자가 서로 밀합(密合)할 수 있도록 한다. 자재 공급부(170)는 적재부(140)가 운송 통로에서 평행하게 이동하도록 미는 데에 사용되며, 검측 또는 먼지 제거가 끝난 후, 적재부(140)를 다시 그리드(120) 밖으로 이동시킨다.
도 2a 내지 도 2d를 참고하면, 본 발명의 먼지 제거 장치는 베이스(110), 그리드(120), 먼지 제거부(130) 및 적재부(140)를 포함한다. 복수의 작업물(200)은 적재부(140)에 배치될 수 있다. 먼지 제거부(130)에서 생성된, 먼지 제거용 에어는, 그리드(120)를 통과해 적재부(140)로 진입하여 복수의 작업물을 청소하고, 필터링 후의 먼지 제거용 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출한다.
본 실시예의 먼지 제거 장치는 먼지 제거부(130)를 구비하며, 적재부(140)와 적재된 복수의 작업물이 그리드(120)의 아래쪽으로 이동할 때, 먼지 제거부(130)를 통해 적재된 작업물에 먼지 제거 프로세스(먼지 분사+먼지 흡입)를 진행하여, 먼지가 잔류하는 것을 방지할 수 있다.
도 2a 내지 도 2d를 함께 참고하면, 본 발명의 검측 장치는 베이스(110), 그리드(120), 먼지 제거부(130), 적재부(140), 받침부(150) 및 검측부(160)를 포함한다.
본 발명의 검측 장치는 작업물(200), 예를 들면 칩(Chips)을 운송하고 순차적으로 먼지 제거 및 자동 광학 검측을 진행하는 데에 사용된다. 구체적으로, 자동 광학 검측은 광학 기기를 통해 검측 대상 칩의 디지털 영상을 획득한 다음, 디지털 영상을 처리 장치에 전송하여, 이미지 처리 기술을 통해 칩의 이물질 유무 또는 회로 패턴의 이상 여부 등의 결함을 식별하는 것이다.
베이스(110)는 서로 평행하게 설치된 두 개의 브래킷(111)을 가지며, 두 개의 브래킷(111)은 운송 통로(TC)를 함께 구성한다. 그리드(120)는 두 개의 브래킷(111) 사이에 고정 설치되며, 운송 통로(TC) 위에 떠 있다. 먼지 제거부(130)는 베이스(110)에 배치되고 그리드(120)의 위쪽에 위치한다. 적재부(140)는 운송 통로(TC)에 배치되고 그리드(120)의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물(200)은 적재부(140)에 배치될 수 있다. 받침부(150)는 베이스의 브래킷(111) 중 하나에 배치되고 운송 통로(TC)에 위치한다. 검측부(160)는 베이스(110) 위에 배치되고 먼지 제거부(130)로부터 상대적으로 멀리 떨어져 있다.
구체적으로, 검측부(160)는 예를 들어 호스트 시스템, 영상 캡쳐 장치 및 서보(servo) 기동 기구를 포함한다. 영상 캡쳐 장치는 서보 기동 기구와 커플링되고 호스트 시스템에 의해 제어된다. 영상 캡쳐 장치는 예를 들어 CCD 카메라를 포함하나 이에 한정되지 않으며, 복수의 작업물(200)의 디지털 영상을 획득하여 호스트 시스템에 전송하는 데에 사용될 수 있고, 호스트 시스템은 영상 식별 방법을 통해 디지털 영상을 식별하여 식별 결과에 따라 각각의 칩의 수율을 판정한다. 서보 기동 기구는 CCD camera를 2차원 또는 3차원 이동시켜 검측 대상의 작업물(200)에 대응하게 위치하도록 하는 데에 사용된다.
도 2a 내지 도 2d 및 도 1을 참고한다. 받침부(150)는 적재부(140)를 밀어 그리드(120)의 저부를 받치도록 하는 데에 사용되며, 그 다음, 먼지 제거부(130)는 먼지 제거용 에어(A1)가 그리드(120)를 통과해 적재부(140)로 진입하여 복수의 작업물(200)을 청소하도록 제거용 에어(A1)를 전달하고, 필터링 후의 먼지 제거용 에어(A2)를 흡입하여 위쪽으로 배출하는 데에 사용된다. 적재부(140)가 먼지 제거부(130)를 통과할 때, 검측부(160)는 적재부(140)의 복수의 작업물(200)을 검측하는 데에 사용된다.
추가적으로, 각각의 브래킷(111)의 내측은 홈(G)을 형성하며, 두 개의 홈(G)은 서로 평행하게 설치된다. 적재부(140)의 두 개의 마주 보는 모서리는 두 개의 홈(G)에 배치될 수 있으며, 그리드(120)와 이격되고, 적재부(140)는 두 개의 홈(G)을 통해, 두 개의 브래킷(111)을 따라 검측부(160)의 아래쪽으로 직선 운송된다. 적재부(140)의 두 개의 마주 보는 모서리는 두 개의 홈(G)에 배치되기 적합하다.
추가적으로, 도 2a 및 도 2b를 참고한다. 먼지 제거부(130)는 슬라이딩 레일 시트(131), 슬라이딩 시트(132) 및 먼지 흡입 후드(133)를 포함한다.
슬라이딩 레일 시트(131)는 베이스(110)의 브래킷(111) 중 하나의 위에 배치되고 그리드(120)의 외측에 위치한다. 슬라이딩 시트(132)는 슬라이딩 가능하게 슬라이딩 레일 시트(131)에 맞추어 설치되고 그리드(120)에 중첩되며, 여기에서 슬라이딩 시트(132)의 면적은 그리드(120)보다 작고, 슬라이딩 시트(132)는 먼지 제거용 에어(A1)를 분사하는 데에 사용되는 복수의 분사 노즐(134)을 가진다. 먼지 흡입 후드(133)는 슬라이딩 시트(132)에 배치되고 흡입구(H1)와 배출구(H2)를 가진다. 흡입구(H1)는 그리드(120)를 향하며, 배출구(H2)는 슬라이딩 시트(132)를 위쪽으로 관통하여 설치된다.
여기에서, 먼지를 제거하는 과정에서, 슬라이딩 시트(132)는 슬라이딩 레일 시트(131)를 따라 앞뒤로 이동할 수 있으며, 복수의 분사 노즐(134)을 통해 먼지 제거용 에어(A1)가 그리드(120)로 전달되고, 먼지 제거용 에어(A1)는 그리드(120)를 통해 적재부(140)의 복수의 작업물(200)에 바람을 불어 작업물(200)로부터 먼지, 이물질을 제거하고, 동시에 먼지 흡입 후드(133)의 흡입구(H1)(도 2b 참고)는, 필터링 후의 먼지 제거용 에어(A2)를 흡입하여 배출구(H2)(도 2a 참고)를 통해 위쪽으로 배출하는 데에 사용된다. 이로써, 먼지, 이물질이 적재부(140) 중앙의 작업물(200)에서 제거될 때, 적재부(140) 양측의 작업물(200) 위에 비산되는 것을 방지할 수 있다. 슬라이딩 시트(132)는 슬라이딩 레일 시트(131)를 따라 앞뒤로 이동하기에 적합하다.
받침부(150)는 실린더(151) 및 받침판(152)을 포함한다. 실린더(151)는 브래킷(111) 중 하나에 고정 설치되고 적재부(140)의 아래쪽에 위치한다. 받침판(152)은 실린더(151)에 연결되며 상하 왕복 이동을 할 수 있다. 받침판(152)은 실린더(151)에 연결되며 상하 왕복 이동을 하기에 적합하다. 받침판(152)이 수직 방향(VD)을 따라 상승할 때, 받침판(152)은 적재부(140)를 위쪽으로 밀고 그리드(120)와 접촉할 수 있다. 받침판(152)은 적재부(140)를 위쪽으로 밀고 그리드(120)와 접촉하기에 적합하다. 먼지 제거가 끝난 후, 받침판(152)은 수직 방향(VD)을 따라 하강하여, 적재부(140)를 두 개의 홈(G)에 안착시키고, 그 다음, 적재부(140)가 두 개의 홈(G)을 따라 먼지 제거부(130)를 통과하여 검측부(160) 아래쪽까지 운송되도록 할 수 있다. 받침판(152)은 수직 방향(VD)을 따라 하강하기에 적합하다. 받침판(152)은 수직 방향(VD)을 따라 하강하여, 적재부(140)를 두 개의 홈(G)에 안착시키고, 그 다음, 적재부(140)가 두 개의 홈(G)을 따라 먼지 제거부(130)를 통과하여 검측부(160) 아래쪽까지 운송되도록 하기에 적합하다.
도 2a 및 도 2b를 참고하면, 베이스(110)는 두 개의 브래킷(111)에 각각 가로질러 배치되고 평행하게 설치된 복수의 L형 프레임(112)을 가지고, 그리드(120)의 네 개의 외부 테두리는 복수의 L형 프레임(112)의 저면에 부착된다. 복수의 L형 프레임(112)은 그리드(120)를 지지하는 데에 사용되며, 받침부(150)가 적재부(140)를 위쪽으로 밀 때, 그리드(120)가 적재부(140)에 확실히 부착되게 하고, 강한 힘으로 분사 및 흡입하여 먼지를 제거할 때, 작업물(200)이 적재부(140)로부터 탈락되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 복수의 L형 프레임(112)은 그리드(120)에 과도한 변형이 생기는 것을 방지할 수 있다.
도 2c 및 도 2d를 참고하면, 검측 장치는 자재 공급부(170)를 더 포함한다. 자재 공급부(170)는 베이스(110)의 아래쪽에 배치된 자재 공급 슬라이딩 시트(171)를 포함한다. 푸싱 프레임(172)은 슬라이딩 가능하게 자재 공급 슬라이딩 시트(171)에 맞추어 설치되고 두 개의 브래킷(111) 사이까지 위쪽으로 연장된다. 여기에서, 푸싱 프레임(172)은 자재 공급 슬라이딩 시트(171)를 따라 왕복 이동할 수 있고, 적재부(140)가 운송 통로(TC)에서 평행하게 이동하도록 미는 데에 사용되어, 최종적으로 적재부(140)가 그리드(120)의 아래쪽에 대응하게 위치하도록 한다. 푸싱 프레임(172)은 자재 공급 슬라이딩 시트(171)를 따라 왕복 이동하기에 적합하다.
도 1을 함께 참고하면, 본 실시예에서, 그리드(120)의 재질은 유리 섬유 및 테프론 박막층을 포함하나 이에 한정되지 않는다. 테프론 박막층은 유리 섬유의 표면에 배치된다. 여기에서, 유리 섬유는 그리드(120)가 탄성을 갖도록 하고, 테프론 박막층은 그리드(120)가 정전기 방지 및 내마모성 등의 특성을 갖도록 한다. 그리드(120)는 복수의 메시(GH)를 가지며, 각각의 메시(GH)의 면적 크기는 4mm*4mm다. 적재부(140)는 복수의 적재 공간(AS)을 가진다. 복수의 적재 공간(AS)은 상응하는 메시(GH)에 각각 연결되고, 각각의 적재 공간(AS)의 면적 크기는 각각의 메시(GH)의 면적 크기보다 크다. 복수의 메시(GH)의 설치를 통해 먼지 제거용 에어(A1)가 적재 공간(AS)으로 진입하는 유속을 낮출 수 있다.
상기의 내용을 종합하면, 본 발명의 검측 장치는 적재부를 통해 복수의 검측 대상의 칩을 적재하고, 베이스의 운송 통로를 통해 적재부를 그리드의 아래쪽으로 운송한 다음, 받침부를 통해 적재부를 위쪽으로 밀어 그리드에 접하도록 한다. 그 다음, 먼지 제거부는 먼지 제거용 에어가 그리드를 통과해 복수의 작업물을 청소하도록 전달하고, 튕겨진 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출하는 데에 사용된다. 먼지를 제거하는 과정에서, 복수의 작업물은 그리드에 제한되어, 칩이 적재부에서 분리되는 것을 방지할 수 있다. 또한, 본 발명의 먼지 제거부는 필터링 후의 먼지 제거용 에어를 다시 흡입하여, 적재부 중앙의 먼지가 적재부 양측의 작업물 위로 날아가는 것을 방지함으로써, 작업물의 후반부 광학 검측의 수율을 개선한다.
100: 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치;
110: 베이스;
111: 브래킷;
112: L형 프레임;
120: 그리드;
130: 먼지 제거부;
131: 슬라이딩 레일 시트;
132: 슬라이딩 시트;
133: 먼지 흡입 후드;
134: 분사 노즐;
140: 적재부;
150: 받침부;
151: 실린더;
152: 받침판;
160: 검측부;
170: 자재 공급부;
171: 자재 공급 슬라이딩 시트;
172: 푸싱 프레임;
G: 홈;
A1, A2: 먼지 제거용 에어;
AS: 적재 공간;
H1: 흡입구;
H2: 배출구;
GH: 메시;
TC: 운송 통로;
VD: 수직 방향

Claims (11)

  1. 내부에 복수의 작업물이 배치될 수 있는 적재부; 및
    상기 적재부의 위쪽에 설치된 그리드를 포함하되;
    상기 적재부의 외부로부터의, 먼지 제거용 에어는, 상기 그리드를 통과해 상기 적재부로 진입하여 상기 복수의 작업물을 청소할 수 있는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 그리드의 재질은 유리 섬유 및 테프론 박막층을 포함하고, 상기 테프론 박막층은 상기 유리 섬유의 표면에만 배치되는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 그리드는 복수의 메시를 가지고, 상기 적재부는 상기 복수의 작업물을 수용하는 데에 사용되는 복수의 적재 공간을 가지며, 상기 복수의 적재 공간은 상응하는 상기 복수의 메시에 각각 연결되고, 각각의 상기 적재 공간의 면적 크기는 각각의 상기 메시의 면적 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 먼지 제거 프로세스에 사용되는 적재 장치.
  4. 베이스;
    상기 베이스 위에 설치된 운송 통로;
    상기 운송 통로에 배치되고, 복수의 작업물이 배치될 수 있는 적재부;
    상기 적재부의 위쪽에 설치된 그리드;
    상기 베이스 위에 배치된 받침부; 및
    상기 베이스의 아래쪽에 배치된 자재 공급부를 포함하되;
    상기 받침부는 상기 적재부를 밀어 상기 그리드를 받치는 데에 사용되고,
    상기 자재 공급부는 상기 적재부가 상기 운송 통로에서 평행하게 이동하도록 미는 데에 사용되어, 상기 적재부가 상기 그리드에 대응하게 위치하도록 하는 것을 특징으로 하는 수송 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 받침부는 실린더 및 받침판을 포함하며, 상기 실린더는 상기 적재부의 아래쪽에 위치하고, 상기 받침판은 상기 실린더에 연결되며 상기 적재부를 상기 그리드에 대응하여 상하 왕복 이동시킬 수 있고, 상기 자재 공급부는:
    상기 베이스의 아래쪽에 배치된 자재 공급 슬라이딩 시트; 및
    슬라이딩 가능하도록 상기 자재 공급 슬라이딩 시트에 에 맞추어 설치되고 상기 두 개의 브래킷 사이까지 위쪽으로 연장되는 푸싱 프레임을 포함하며,
    상기 푸싱 프레임은 상기 자재 공급 슬라이딩 시트를 따라 왕복 이동할 수 있는 것을 특징으로 하는 수송 장치.
  6. 베이스;
    상기 베이스의 위쪽에 배치된 그리드;
    상기 베이스에 배치되고 상기 그리드의 위쪽에 위치한 먼지 제거부; 및
    상기 베이스에 배치되고 상기 그리드의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물이 배치될 수 있는 적재부를 포함하되,
    상기 먼지 제거부에서 생성된, 먼지 제거용 에어는, 상기 그리드를 통과해 상기 적재부로 진입하여 상기 복수의 작업물을 청소하고, 상기 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출하는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 장치.
  7. 제6항에 있어서, 상기 먼지 제거부는
    상기 베이스에 배치되고 상기 그리드의 외측에 위치한 슬라이딩 레일 시트;
    슬라이딩 가능하게 상기 슬라이딩 레일 시트에 맞추어 설치되고 상기 그리드에 중첩되며, 복수의 분사 노즐을 가진 슬라이딩 시트; 및
    상기 슬라이딩 시트에 배치되고 상기 그리드를 향하는 흡입구와 상기 슬라이딩 시트를 위쪽으로 관통하여 설치된 배출구를 가진, 먼지 흡입 후드를 포함하되,
    먼지를 제거하는 과정에서, 상기 슬라이딩 시트는 상기 슬라이딩 레일 시트를 따라 이동하고, 상기 복수의 분사 노즐을 통해 상기 먼지 제거용 에어가 상기 그리드로 전달되며, 동시에 상기 먼지 흡입 후드의 상기 흡입구는 필터링 후의 상기 먼지 제거용 에어를 흡입하여 상기 배출구를 경유하여 위쪽으로 배출하는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 장치.
  8. 제6항에 있어서, 자재 공급부를 더 포함하고,
    상기 베이스는 두 개의 브래킷 및 복수의 L형 홈을 가지며, 상기 두 개의 브래킷은 운송 통로를 구성하고, 상기 그리드의 외부 테두리는 상기 복수의 L형 프레임의 저면에 부착되며,
    상기 자재 공급부는:
    상기 베이스의 아래쪽에 배치된 자재 공급 슬라이딩 시트; 및
    슬라이딩 가능하게 상기 자재 공급 슬라이딩 시트에 맞추어 설치되고 상기 두 개의 브래킷 사이까지 위쪽으로 연장되는 푸싱 프레임을 포함하되,
    상기 푸싱 프레임은 상기 자재 공급 슬라이딩 시트를 따라 왕복 이동하고, 상기 적재부를 상기 운송 통로에서 평행하게 이동시켜 최종적으로 상기 적재부를 상기 그리드의 아래쪽에 대응하게 위치시킬 수 있는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 장치.
  9. 제6항에 있어서, 상기 그리드의 재질은 유리 섬유 및 테프론 박막층을 포함하고, 상기 테프론 박막층은 상기 유리 섬유의 표면에만 배치되는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 장치.
  10. 제6항에 있어서, 상기 그리드는 복수의 메시를 가지고;
    상기 적재부는, 상응하는 상기 복수의 메시에 각각 연결된 복수의 적재 공간을 가지며, 각각의 상기 적재 공간의 면적 크기는 각각의 상기 메시의 면적 크기보다 큰 것을 특징으로 하는 먼지 제거 장치.
  11. 베이스;
    상기 베이스의 위쪽에 배치된 그리드;
    상기 베이스에 배치되고 상기 그리드의 위쪽에 위치한 먼지 제거부;
    상기 베이스에 배치되고 상기 그리드의 아래쪽에 위치하며, 복수의 작업물이 배치될 수 있는 적재부; 및
    상기 베이스 위에 배치되고 상기 먼지 제거부로부터 이격된 검측부를 포함하되,
    상기 먼지 제거부에서 생성된, 먼지 제거용 에어는 상기 그리드를 통과하여 상기 복수의 작업물을 청소하고, 필터링 후의 상기 먼지 제거용 에어를 흡입하여 위쪽으로 배출하며,
    상기 적재부가 상기 먼지 제거부를 통과할 때, 상기 검측부는 상기 복수의 작업물을 검측하는 데에 사용되는 것을 특징으로 하는 먼지 제거 프로세스에 사용되는 검측 장치.
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