TWI775292B - 加工裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明不需要波紋罩等保護罩並且提高加工屑的回收率，且包括：加工工作台2A、加工工作台2B，至少固定於水平面上的XY方向上，對加工對象物W加以保持；加工機構3，一面使用加工液一面利用旋轉工具30對加工對象物W進行加工；移動機構5，使加工機構3至少分別於水平面上的XY方向上直線移動；以及加工屑收容部9，設置於加工工作台2A、加工工作台2B的下方，收容藉由利用加工機構3的加工而產生的加工屑S。

Description

加工裝置
本發明是有關於一種加工裝置。
先前，於對經樹脂密封的已密封基板等電子零件進行切斷而單片化時，使用切斷裝置，例如已知有如專利文獻1所示的切削裝置。所述切削裝置包括：卡盤工作台(chuck table)，對加工對象物加以保持；以及例如滾珠螺桿等移動機構，使所述卡盤工作台直線移動。另外，切削裝置包括：保護板(plate)，用於保護所述移動機構免受由切削產生的加工屑或切削時供給的加工液影響；以及濾器，捕捉加工屑。
所述保護板構成為能夠伴隨卡盤工作台的移動而伸縮，且包括：波紋罩，包圍移動機構的上方及側方；以及多個板，設置於該波紋罩的上表面。另外，為了不妨礙利用移動機構的移動而捕捉加工屑，濾器設置於利用移動機構的移動方向的內側或近前側。而且，藉由保護板伴隨卡盤工作台的移動而收縮，自卡盤工作台落下而搭載於保護板的上表面的加工屑落下至濾器並被捕捉。
但是，於藉由保護板如上所述般收縮而將加工屑捕捉至濾器的結構中，會產生搭載於保護板的上表面上的狀態下的加工屑，從而難以提高加工屑的回收率。另外，若卡盤工作台於加工屑搭載於保護板的上表面的狀態下移動，則有加工屑侵入至相互重疊的各板之間的可能性。若有加工屑侵入至板之間，則不僅會妨礙保護板的伸縮，而且擔心與波紋罩接觸而使波紋罩發生破損。若波紋罩發生破損，則加工液會洩漏至移動機構，而使移動機構生鏽，從而引起動作不良或故障。其結果，必須頻繁地進行它們的保養作業或更換作業，從而導致切削裝置的運轉率下降。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]日本專利第6043648號公報
因此，本發明是為了解決所述問題點而成，其主要課題在於不需要波紋罩等保護罩並且提高加工屑的回收率。
即，本發明的加工裝置包括：加工工作台，至少固定於水平面上的XY方向上，對加工對象物加以保持；加工機構，一面使用加工液一面利用旋轉工具對所述加工對象物進行加工；移動機構，使所述加工機構至少分別於水平面上的XY方向上直線移動； 以及加工屑收容部，設置於所述加工工作台的下方，收容藉由利用所述加工機構的加工而產生的加工屑。
根據如此構成的本發明，可不需要波紋罩等保護罩並且提高加工屑的回收率。
1:基板供給機構
2A、2B:切斷用工作台(加工工作台)
3:切斷機構(加工機構)
4A、4B:切斷用夾具
5:移動機構
6A、6B:旋轉機構
7A、7B:真空泵
8:液體供給機構
9:加工屑收容部
10:檢查用工作台
11:托盤
21:基板載置面(保持面)
30:旋轉工具
31A、31B:旋轉刀
32A、32B:主軸
51:Y方向移動部
52:X方向移動部
53:Z方向移動部
71A、71B:配管
81:噴射噴嘴
91:引導部
91X:上部開口
92:回收容器
93:分離部
100:切斷裝置(加工裝置)
511:Y方向導軌
512:支持體
513:滾珠螺桿機構
521:X方向導軌
522:X方向滑塊
531:Z方向導軌
532:Z方向滑塊
911:側周壁
A:基板供給模組
B:基板切斷模組
C:檢查模組
CTL:控制部
L、L':間距
P:製品
S:加工屑
W:已密封基板(加工對象物)
θ:正交度(方向)
圖1是示意性地表示本發明一實施方式的切斷裝置的結構的圖。
圖2是示意性地表示所述實施方式的基板切斷模組的結構的立體圖。
圖3是示意性地表示所述實施方式的基板切斷模組的結構的自Z方向觀察的圖(平面圖)。
圖4是示意性地表示所述實施方式的基板切斷模組的結構的自X方向觀察的圖(側面圖)。
圖5是示意性地表示所述實施方式的基板切斷模組的結構的自Y方向觀察的圖(正面圖)。
圖6是表示與先前的結構進行比較的本實施方式的效果的示意圖。
圖7是表示與先前的結構進行比較的本實施方式的效果的示意圖。
接著，舉例對本發明進行更詳細說明。但是，本發明並不受以下的說明限定。
如上所述，本發明的加工裝置包括：加工工作台，至少固定於水平面上的XY方向上，對加工對象物加以保持；加工機構，一面使用加工液一面利用旋轉工具對所述加工對象物進行加工；移動機構，使所述加工機構至少分別於水平面上的XY方向上直線移動；以及加工屑收容部，設置於所述加工工作台的下方，收容藉由利用所述加工機構的加工而產生的加工屑。
若為所述加工裝置，則相對於至少固定於XY方向上的加工工作台而藉由移動機構移動的加工機構對加工對象物進行加工，因此不需要使加工工作台於X方向或Y方向上移動的移動機構。因此，可於加工工作台的下方設置加工屑收容部，可提高加工屑的回收率。此外，可不需要波紋罩等保護罩，可抑制伴隨保護罩的破損的裝置的運轉率的下降而提高裝置的生產性。
作為加工屑收容部的具體的實施態樣，理想的是所述加工屑收容部包括：引導部，具有於俯視時包圍所述加工工作台的上部開口；以及回收容器，回收由所述引導部引導的加工屑。
若為所述結構，則引導部具有包圍加工工作台的上部開口，因此難以將自加工工作台飛散或落下的加工屑灑出，可進一步提高加工屑的回收率。
所述加工屑收容部理想的是包括分離部，所述分離部將 利用所述加工機構的加工中所使用的加工液與藉由利用所述加工機構的加工而產生的加工屑分離。
若為所述結構，則可回收加工屑而不於回收容器中積存加工液。另外，可再利用經分離的加工液。
於所述加工工作台吸附保持所述加工對象物的情況下，於所述加工工作台連接有用於進行吸附保持的真空泵。此處，由於加工工作台不移動，因此可於加工工作台的旁邊設置真空泵。可將真空泵接近加工工作台，可縮短配管，因此可防止伴隨配管的壓力損失的吸附力的下降。
作為真空泵的具體的配置態樣，理想的是所述真空泵與所述兩個以上的加工工作台分別對應地沿著Y方向設置有兩個以上。
作為使加工機構至少於XY方向上移動的移動機構的具體的實施態樣，考慮所述移動機構包括：X方向移動部，使所述加工機構於X方向上直線移動；以及Y方向移動部，使所述加工機構於Y方向上直線移動，所述Y方向移動部包括：一對Y方向導軌，隔著所述加工工作台沿著Y方向而設置；以及支持體，沿著所述一對Y方向導軌移動，並且經由所述X方向移動部而支持所述加工機構。
由於如此於Y方向上設置的一對Y方向導軌是隔著加工工作台而設置，因此可增大一對Y方向導軌的間距。其結果，可減小Y方向導軌彼此於Z方向上的位置偏移對加工的影響。即，可減 小旋轉工具(例如旋轉刀)與加工工作台的正交度的偏移，可提高加工精度。另外，對Y方向導軌可使用規格較先前低者。
為了於一個加工裝置中提升加工對象物的處理能力，可考慮包括兩個以上的所述加工工作台。
於所述結構中，理想的是所述兩個以上的加工工作台於水平面上沿著Y方向設置。
若為所述結構，則沿著Y方向設置有兩個以上的加工工作台，因此可一舉調整移動機構相對於兩個以上的加工工作台於Y方向上的平行度。另外，當於其中一個加工工作台對加工對象物進行處理時，可於另一個加工工作台上進行搬送等其他處理。
為了提高加工屑的廢棄等維護性，理想的是所述回收容器與所述兩個以上的加工工作台分別對應地設置有兩個以上。
於所述加工機構藉由旋轉刀將所述加工對象物切斷而單片化的情況下，特別重要的是利用旋轉刀切斷的方向與利用移動機構的Y方向一致(即，旋轉刀的旋轉軸方向與利用移動機構的Y方向正交)。於本發明中，僅相對於Y方向移動部的支持體對旋轉刀進行定位即可，與如先前般相對於與旋轉刀分開移動的加工工作台對旋轉刀的旋轉軸方向定位的情況相比，它們的定位變得容易。
作為本發明的加工裝置的具體的實施態樣，理想的是所述加工對象物為經樹脂密封的已密封基板，所述加工機構藉由利用旋轉刀將所述已密封基板切斷而單片化為多個製品。
<本發明的一實施方式>
以下，參照圖式來對本發明的加工裝置的一實施方式進行說明。再者，於以下所示的所有圖中，為了便於理解，均適當省略或誇張而示意性地描繪。對於同一構成元件，標註同一符號而適當省略說明。
<加工裝置的整體結構>
如圖1所示，本實施方式的加工裝置100是藉由將作為加工對象物的已密封基板W切斷而單片化為多個製品P的切斷裝置。所述切斷裝置100包括基板供給模組A、基板切斷模組B與檢查模組C分別作為構成元件。各構成元件(各模組A~模組C)分別相對於其他構成元件而可裝卸且可更換。
基板供給模組A向基板切斷模組B供給已密封基板W。具體而言，基板供給模組A包括用於將已密封基板W供給至基板切斷模組B的基板供給機構1。然後，自基板供給機構1搬出作為被切斷物的已密封基板W，並藉由移送機構(未圖示)移送至基板切斷模組B。
基板切斷模組B使用包括包含旋轉刀及主軸的旋轉工具30的切斷機構(加工機構)3將已密封基板W切斷，且例如為雙切割工作台方式的雙主軸結構。具體而言，基板切斷模組B包括：兩個切斷用工作台(加工工作台)2A、2B；以及兩個主軸32A、32B，用來安裝旋轉刀31A、旋轉刀31B。於切斷用工作台2A安裝有切斷用夾具4A，於切斷用工作台2B安裝有切斷用夾具4B。 關於基板切斷模組B的具體的結構將於後面敘述。
於檢查模組C設置有檢查用工作台10。於檢查用工作台10載置集合體，所述集合體包含將已密封基板W切斷而經單片化的多個製品P。多個製品P由檢查用的相機(未圖示)進行檢查，被篩分為良品及不良品。良品被收容於托盤11中。
再者，於本實施方式中，將進行切斷裝置100的動作、已密封基板W的搬送、已密封基板W的切斷、製品P的檢查等所有的動作或控制的控制部CTL設置於基板供給模組A內。並不限於此，亦可將控制部CTL設置於其他模組內。
<基板切斷模組B的具體的結構>
接著，於本實施方式的切斷裝置100中，關於基板切斷模組B的具體的結構，以下進行說明。再者，為了方便，將於沿著作為切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的上表面的基板載置面21(保持面)的平面(水平面)內相互正交的方向分別設為X方向及Y方向，將與X方向及Y方向正交的鉛垂方向設為Z方向。具體而言，將圖3的左右方向設為X方向，將上下方向設為Y方向。另外，於圖2中，省略了近前側的Y方向導軌511的一部分。
如圖2~圖5所示，基板切斷模組B包括：兩個切斷用工作台2A、2B，對已密封基板W加以保持；切斷機構3，包括包含旋轉刀31A、旋轉刀31B及兩個主軸32A、32B的兩個旋轉工具30；以及移動機構5，使所述切斷機構3的兩個主軸32A、32B分別於XYZ方向上直線移動。
兩個切斷用工作台2A、2B固定並設置於X方向、Y方向及Z方向上。再者，切斷用工作台2A能夠藉由設置於切斷用工作台2A下方的旋轉機構6A於θ方向上旋轉。另外，切斷用工作台2B能夠藉由設置於切斷用工作台2B下方的旋轉機構6B於θ方向上旋轉。
該些兩個切斷用工作台2A、2B是於水平面上沿著Y方向設置。具體而言，兩個切斷用工作台2A、2B是以作為它們的上表面的基板載置面21(保持面)位於同一水平面上(於Z方向上相同高度位置)的方式配置(參照圖4)，並且以它們的基板載置面21的中心(具體而言，利用旋轉機構6A、旋轉機構6A的旋轉中心)位於在Y方向上延伸的同一直線上的方式配置。
另外，兩個切斷用工作台2A、2B吸附保持已密封基板W，如圖2所示，與兩個切斷用工作台2A、2B對應地配置有用於進行吸附保持的兩個真空泵7A、7B。各真空泵7A、真空泵7B例如為水封式真空泵，設置於對應的切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的沿著X方向的斜下方，兩個真空泵7A、7B是沿著Y方向並排設置。
此處，切斷用工作台2A、切斷用工作台2B固定於XYZ方向上，因此可縮短自真空泵7A、真空泵7B連接於切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的配管71A、配管71B，可降低配管71A、配管71B的壓力損失而防止吸附力的下降。其結果，例如即便為1mm見方以下的極小封裝件亦可確實地吸附於切斷用工作台 2A、切斷用工作台2B。另外，由於可防止配管71A、配管71B的壓力損失導致的吸附力的下降，因此可減小真空泵7A、真空泵7B的容量，從而亦導致降低成本。
切斷機構3的兩個主軸32A、32B以它們的旋轉軸沿著X方向的方式設置，且以安裝於它們的旋轉刀31A、旋轉刀31B相互相向的方式配置(參照圖3、圖5)。主軸32A的旋轉刀31A及主軸32B的旋轉刀31B於包含Y方向及Z方向的面內旋轉，藉此將由各切斷用工作台2A、切斷用工作台2B保持的已密封基板W切斷。再者，於基板切斷模組B，如圖4所示，設置有液體供給機構8，所述液體供給機構8具有噴射切削水(加工液)的噴射噴嘴81，以抑制由旋轉刀31A、旋轉刀31B產生的摩擦熱。所述噴射噴嘴81例如由後述的Z方向移動部53支持著。
如圖2~圖5所示，移動機構5使兩個主軸32A、32B分別於X方向、Y方向及Z方向上獨立地直線移動。
具體而言，移動機構5包括：Y方向移動部51，使主軸32A、主軸32B於Y方向上直線移動；X方向移動部52，使主軸32A、主軸32B於X方向上直線移動；以及Z方向移動部53，使主軸32A、主軸32B於Z方向上直線移動。
Y方向移動部51於兩個切斷用工作台2A、2B共用，且包括：一對Y方向導軌511，隔著兩個切斷用工作台2A、2B沿著Y方向而設置；以及支持體512，沿著所述一對Y方向導軌511移動，並且經由X方向移動部52及Z方向移動部53而支持主軸 32A、主軸32B。一對Y方向導軌511設置於沿著Y方向設置的兩個切斷用工作台2A、2B的側方。另外，支持體512例如為門型，且具有於X方向上延伸的形狀。
而且，支持體512例如藉由於Y方向上延伸的滾珠螺桿機構513於一對Y方向導軌511上直線地往復移動。該滾珠螺桿機構513由伺服馬達等驅動源(未圖示)驅動。此外，支持體512亦可構成為藉由線性馬達等其他直動機構進行往復移動。
X方向移動部52包括：X方向導軌521，於支持體512上沿著X方向設置；以及X方向滑塊522，沿著所述X方向導軌521移動。X方向滑塊522例如由線性馬達(未圖示)驅動，且於X方向導軌521上直線地往復移動。於本實施方式中，與兩個主軸32A、32B對應地設置有兩個X方向滑塊522。藉此，兩個主軸32A、32B能夠相互獨立地於X方向上移動。此外，X方向滑塊522亦可構成為藉由使用了滾珠螺桿機構的其他直動機構進行往復移動。
Z方向移動部53包括：Z方向導軌531，於各X方向滑塊522上沿著Z方向設置；以及Z方向滑塊532，沿著所述Z方向導軌531移動並且支持主軸32A、主軸32B。即，Z方向移動部53與各主軸32A、主軸32B對應地設置。Z方向滑塊532例如由偏心凸輪機構(未圖示)驅動，於Z方向導軌531上直線地往復移動。此外，Z方向滑塊532亦可構成為藉由滾珠螺桿機構等其他直動機構進行往復移動。
而且，如圖2~圖5所示，本實施方式的基板切斷模組B更包括加工屑收容部9，所述加工屑收容部9收容因已密封基板W的切斷而產生的邊角料等加工屑S。
所述加工屑收容部9設置於切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的下方，且包括：引導部91，具有於俯視時包圍切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的上部開口91X；以及回收容器92，回收由該引導部91引導的加工屑S。
引導部91將自切斷用工作台2A、切斷用工作台2B飛散或落下的加工屑S導引至回收容器92。本實施方式構成為引導部91的上部開口91X包圍切斷用工作台2A、切斷用工作台2B(參照圖3)，因此難以將加工屑S灑出，可進一步提高加工屑S的回收率。另外，引導部91以包圍於切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的下方所設置的旋轉機構6A、旋轉機構6B的方式設置(參照圖4)，且以保護旋轉機構6A、旋轉機構6B免受加工屑S及切削水的影響的方式構成。
於本實施方式中，加工屑收容部9設為於兩個切斷用工作台2A、2B共用，但亦可與切斷用工作台2A、切斷用工作台2B分別對應地設置。另外，如圖4及圖5所示，藉由使構成引導部91的上部開口91X的側周壁911位於較切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的基板載置面21高的位置，加工屑S容易進入至引導部91內。再者，構成引導部91的上部開口91X的側周壁911的高度位置設為主軸32A、主軸32B等的不妨礙切斷機構3的移 動的程度的高度位置。
回收容器92回收因自重而通過引導部91的加工屑S，於本實施方式中，如圖4等所示，與兩個切斷用工作台2A、2B分別對應地設置。而且，兩個回收容器92構成為可分別獨立地自切斷裝置100拆卸。藉由所述結構，可提高加工屑S的廢棄等的維護性。再者，考慮到已密封基板W的尺寸或加工屑S的尺寸及量、作業性等，回收容器92可於所有的切斷用工作台的下方整體設置一個，亦可設置三個以上。
另外，如圖4等所示，加工屑收容部9包括將切斷水與加工屑分離的分離部93。作為所述分離部93的結構，例如，可考慮於回收容器92的底面設置使切斷水通過的多孔板等過濾器。通過了過濾器的切斷水可返回至液體供給機構8而作為切斷水再利用。
接著，對基板切斷模組B的動作的一例進行說明。
於切斷用工作台2A的切斷是藉由利用移動機構5使兩個主軸32A、32B相對於XYZ方向上所固定的切斷用工作台2A於XYZ方向上移動來進行。例如，於X方向移動部52及Z方向移動部53將主軸32A固定於X方向及Z方向的所期望位置之後，Y方向移動部51使主軸32A、主軸32B於Y方向上移動，藉此已密封基板W沿著Y方向被切斷。藉由一面於X方向上錯開規定距離一面依次進行該動作，已密封基板W於X方向上被切斷為多片。而且，利用旋轉機構6A使切斷用工作台2A於θ方向上旋轉 例如90度，然後，一面如上所述般於X方向上錯開規定距離一面使主軸32A、主軸32B依次於Y方向上移動，藉此已密封基板W的所述多片沿著Y方向被切斷。藉由該些動作，由切斷用工作台2A保持的已密封基板W呈格子狀切斷而單片化。
另外，與於切斷用工作台2A的切斷同樣地，於切斷用工作台2B的切斷是藉由利用移動機構5使兩個主軸32A、32B相對於XYZ方向上所固定的切斷用工作台2B於XYZ方向上移動來進行。例如，於X方向移動部52及Z方向移動部53將主軸32A、主軸32B固定於X方向及Z方向的所期望位置之後，Y方向移動部51使主軸32A、主軸32B於Y方向上移動，藉此切斷用工作台2B的已密封基板W沿著Y方向被切斷。藉由一面於X方向上錯開規定距離一面依次進行該動作，已密封基板W於X方向上被切斷為多片。而且，利用旋轉機構6B使切斷用工作台2B於θ方向上旋轉例如90度，然後，一面如上所述般於X方向上錯開規定距離一面使主軸32A、主軸32B依次於Y方向上移動，藉此已密封基板W沿著Y方向被切斷。藉由該些動作，由切斷用工作台2B保持的已密封基板W呈格子狀切斷而單片化。
於所述動作中，於切斷用工作台2A的切斷處理與於切斷用工作台2B的切斷處理分別交替地進行，但亦可設為Y方向移動部51使主軸32A、主軸32B於切斷用工作台2A及切斷用工作台2B上移動，藉此同時地進行於切斷用工作台2A的切斷處理與於切斷用工作台2B的切斷處理。
<本實施方式的效果>
根據本實施方式的切斷裝置100，相對於XYZ方向上所固定的切斷用工作台2A、切斷用工作台2B而藉由移動機構5移動的切斷機構3(旋轉工具30)將已密封基板W切斷，因此不需要使切斷用工作台2A、切斷用工作台2B移動的移動機構。因此，可於切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的下方設置加工屑收容部9，可提高加工屑S的回收率。另外，可不需要波紋罩等保護罩，可抑制伴隨保護罩的破損的裝置的運轉率的下降而提高裝置的生產性。
於本實施方式中，加工屑收容部9的引導部91具有包圍切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的上部開口91X，因此難以將自切斷用工作台2A、切斷用工作台2B飛散或落下的加工屑灑出，可進一步提高加工屑S的回收率。
於本實施方式中，加工屑收容部9包括將加工液與加工屑S分離的分離部93，因此可回收加工屑S而不於回收容器92中積存加工液。另外，可再利用經分離的加工液。
於本實施方式中，於Y方向上設置的一對Y方向導軌511是隔著切斷用工作台2A、切斷用工作台2B而設置，因此可增大一對Y方向導軌511的間距。其結果，可減小Y方向導軌511彼此於Z方向上的位置偏移對加工的影響。即，如圖6所示，一對導軌511的間距L'大於先前的結構的間距L，因此可減小旋轉刀與加工工作台的正交度θ的偏移。進而，藉由一對導軌511的 間距變大，而Y方向移動部51的直進性提高，其結果，旋轉刀31A、旋轉刀31B的刀尖的晃動變小，切斷時的切削阻力等變小，而可提高加工精度。另外，對於Y方向導軌511，可使用規格較先前低者。
於本實施方式中，移動機構5中位於最下側的Y方向移動部51(具體而言為Y方向導軌511及滾珠螺桿機構513)位於切斷用工作台2A、切斷用工作台2B的側方，因此如圖7所示，為Y方向移動部51遠離水循環的結構，可減小Y方向移動部51的因水而發生故障的風險，可延長裝置壽命。
於本實施方式中，兩個以上的切斷用工作台2A、2B於切斷時不於Y方向上移動，因此可一舉調整移動機構5(Y方向移動部51)相對於兩個以上的切斷用工作台2A、2B於Y方向上的平行度。即，當於切斷時切斷用工作台移動的先前裝置設置兩個切斷用工作台時，需要調整兩個切斷用工作台於Y方向上的平行度，進而調整所述經調整於Y方向上的平行度及旋轉刀於Y方向上的平行度(具體而言，需要進行兩次調整)，但於本實施方式中，由於兩個切斷用工作台2A、2B於切斷時不於Y方向上移動，因此僅調整旋轉刀31A、旋轉刀31B於Y方向上的平行度即可(具體而言，進行一次調整即可)。
另外，為沿著Y方向設置有兩個以上的切斷用工作台2A、2B，並且使支持主軸32A、主軸32B的支持體512沿著Y方向移動的結構，因此當於其中一個切斷用工作台2A對已密封基板 W進行處理時，可於另一個切斷用工作台2B上進行搬送等其他處理。
<其他變形實施方式>
再者，本發明並不限於所述實施方式。
例如，於所述實施方式中，對雙切割工作台方式且雙主軸結構的切斷裝置進行了說明，但並不限於此，亦可為單切割工作台(single cut table)方式且單主軸結構的切斷裝置、或單切割工作台方式且雙主軸結構的切斷裝置等。
於所述實施方式中，沿著Y方向設置了雙切割工作台方式的兩個切斷用工作台，但亦可沿著X方向設置多個切斷用工作台。於此情況下，各切斷用工作台的Y方向的位置可設為相同，亦可錯開。於將Y方向的位置錯開而設置多個切斷用工作台的情況下，藉由設置能夠接近各切斷用工作台的搬送機構，可將基板搬送至未切斷的切斷用工作台或自該切斷用工作台搬出基板。
除此以外，本發明的加工裝置亦可進行切斷以外的加工，例如亦可進行切削或研削等其他機械加工。
此外，本發明並不限於所述實施方式，當然能夠於不脫離其主旨的範圍內進行各種變形。
[產業上的可利用性]
根據本發明，可不需要波紋罩等保護罩並且提高加工屑的回收率。
2A、2B:切斷用工作台(加工工作台)
7A、7B:真空泵
9:加工屑收容部
31A、31B:旋轉刀
32A、32B:主軸
51:Y方向移動部
52:X方向移動部
53:Z方向移動部
71A、71B:配管
91:引導部
91X:上部開口
92:回收容器
511:Y方向導軌
512:支持體
513:滾珠螺桿機構
521:X方向導軌
522:X方向滑塊
531:Z方向導軌
532:Z方向滑塊
911:側周壁
W:已密封基板(加工對象物)

Claims (10)

  1. 一種加工裝置，包括：加工工作台，至少固定於水平面上的XY方向上，並且具有對加工對象物加以保持的保持面；加工機構，一面使用加工液一面利用旋轉工具對所述加工對象物進行加工；移動機構，使所述加工機構至少分別於水平面上的XY方向上直線移動；以及加工屑收容部，設置於所述加工工作台的下方，收容藉由利用所述加工機構的加工而產生的加工屑，所述加工裝置的特徵在於：所述加工屑收容部包括：引導部，具有於俯視時包圍所述加工工作台的上部開口；以及回收容器，回收由所述引導部引導的加工屑，並且構成所述引導部的上部開口的側周壁位於較所述保持面高的位置。
  2. 如請求項1所述的加工裝置，其中所述加工屑收容部包括分離部，所述分離部將利用所述加工機構的加工中所使用的加工液與利用所述加工機構的加工而產生的加工屑分離。
  3. 如請求項1所述的加工裝置，包括兩個以上的所述加工工作台。
  4. 如請求項3所述的加工裝置，其中 所述回收容器與兩個以上的所述加工工作台分別對應地設置有兩個以上。
  5. 如請求項1所述的加工裝置，其中所述移動機構包括：X方向移動部，使所述加工機構於X方向上直線移動；以及Y方向移動部，使所述加工機構於Y方向上直線移動，所述Y方向移動部包括：一對Y方向導軌，隔著所述加工工作台沿著Y方向而設置；以及支持體，沿著所述一對Y方向導軌移動，並且經由所述X方向移動部而支持所述加工機構。
  6. 如請求項3所述的加工裝置，其中兩個以上的所述加工工作台是於水平面上沿著Y方向設置。
  7. 如請求項1所述的加工裝置，其中所述加工工作台吸附保持所述加工對象物，於所述加工工作台的旁邊設置有用於進行吸附保持的真空泵。
  8. 如請求項7所述的加工裝置，其中所述加工裝置包括兩個以上的所述加工工作台，所述真空泵與兩個以上的所述加工工作台分別對應地沿著Y方向設置有兩個以上。
  9. 如請求項1所述的加工裝置，其中所述加工機構利用旋轉刀將所述加工對象物切斷而單片化。
  10. 如請求項1至請求項9中任一項所述的加工裝 置，其中所述加工對象物為經樹脂密封的已密封基板，所述加工機構藉由利用旋轉刀將所述已密封基板切斷而單片化為多個製品。
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