TWI760579B - 保管裝置 - Google Patents

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TWI760579B TW107141154A TW107141154A TWI760579B TW I760579 B TWI760579 B TW I760579B TW 107141154 A TW107141154 A TW 107141154A TW 107141154 A TW107141154 A TW 107141154A TW I760579 B TWI760579 B TW I760579B
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早川雅章
冨田洋靖
林政貴
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日商村田機械股份有限公司
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Abstract

保管裝置係具備有：殼體、基座台(11)、光柵保管棚架(31)、及馬達(81)。基座台(11)係被配置在殼體內，且相對該殼體，位置被固定。光柵保管棚架(31)係透過以上下方向延伸的旋轉軸(15)而與基座台(11)相連結，且以旋轉軸(15)為中心，相對基座台(11)作相對旋轉。馬達(81)係使旋轉軸(15)旋轉。基座台(11)係具備有：以非接觸傳送電力的送電部(14)。光柵保管棚架(31)係具備有：旋轉棚架(32)、檢測裝置(33)、及受電部(34)。在旋轉棚架(32)係配置光柵。檢測裝置(33)係配置成與旋轉棚架(32)一體旋轉，且藉由電力被驅動。受電部(34)係將由送電部(14)被傳送的電力供給至檢測裝置(33)。

Description

保管裝置
本發明主要關於具備旋轉棚架的保管裝置。
自以往以來已知一種用以保持被供作半導體製造的光柵等的保管裝置。專利文獻1係揭示該類保管裝置。
專利文獻1的保存裝置係具備有：形成用以保存晶圓、光柵等對象物的至少1個被閉鎖的區域的殼體。在殼體的內側係配置對象物保存裝置。對象物保存裝置係具有上下平行配列的多數環狀棚架。在對象物保存裝置係具備用以實現繞著垂直的旋轉軸的旋轉運動的手段。對象物保存裝置係由多數保存模組所成。以配置在對象物保存裝置內的保存模組進入至對象物操作裝置的到達位置內的方式，該對象物保存裝置藉由電氣驅動裝置予以旋轉。藉由對象物操作裝置，處理被保存在保存模組內的對象物。 [先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1] 日本特表2009-545141號公報
(發明所欲解決之課題)
例如，為了光柵等對象物的品質管理，有欲在對象物保存裝置內配置各種感知器或攝影機等裝置的要求。但是，在上述專利文獻1的構成中，若欲由被設在對象物保存裝置的外部的電源，對感知器等供給電力時，由於對象物保存裝置進行旋轉，會發生供電纜線的扭歪。
本發明係鑑於以上情形而完成者，其目的在提供一種可一邊確保旋轉棚架的旋轉，一邊對被配置在旋轉棚架的裝置供給電力的保管裝置。 (解決課題之手段及效果)
本發明所欲解決之課題係如以上所示，接下來說明用以解決該課題的手段及其效果。
藉由本發明之觀點，提供關於用以保管物品的保管裝置的以下構成。亦即，該保管裝置係具備有：殼體、固定部、旋轉部、及旋轉軸驅動部。前述固定部係被配置在前述殼體內，且相對該殼體，位置被固定。前述旋轉部係透過以上下方向延伸的旋轉軸而與前述固定部相連結，且以前述旋轉軸為中心，相對前述固定部作相對旋轉。前述旋轉軸驅動部係使前述旋轉軸旋轉。前述固定部係具備有：以非接觸傳送電力的送電部。前述旋轉部係具備有：旋轉棚架、電力驅動裝置、及受電部。在前述旋轉棚架係配置前述物品。前述電力驅動裝置係配置成與前述旋轉棚架一體旋轉，且藉由電力被驅動。前述受電部係將由前述送電部被傳送的電力供給至前述電力驅動裝置。
藉此，可實現對視需要連同旋轉部一起旋轉的電力驅動裝置的無線供電。
在前述保管裝置中，以形成為以下構成為佳。亦即，前述送電部係具備有：支持體、及導電體。前述支持體係包圍前述旋轉軸的外周的至少一部分。前述導電體係沿著前述支持體延伸的方向而被配置在該支持體。前述受電部係具備有：捲繞導電構件而形成的線圈。藉由利用在前述送電部的前述導電體流通電流而發生的磁場，使前述受電部的前述線圈發生感應電流。
藉此，可以簡單的構成，實現非接觸供電。
在前述之保管裝置中，前述導電體係可藉由印刷基板的電路圖案所構成。
此時，可構成低成本且精簡的送電部。
在前述之保管裝置中，亦可形成為以下構成。亦即，前述支持體係具備有：形成為以周方向延伸的導電體導引部。前述導電體係沿著前述導電體導引部作配置。
此時，可以簡單的構成，形成送電部。
在前述之保管裝置中，較佳為前述送電部係具備有：被設在和前述導電體與前述受電部相對面之側為相反側的磁性薄片。
藉此，磁性薄片作為背軛來發揮功能，可使經通電的導電體所發生的磁通集中在受電部側。結果，可以精簡的構成，使送電部中的送電效率提升。
在前述之保管裝置中，較佳為在前述導電體與前述磁性薄片之間配置有其他構件、或形成有間隙。
藉此，由於可將導電體與磁性薄片之間適度分離，因此可抑制導電體所發生的磁通朝向與受電部為相反側流通。
在前述之保管裝置中，較佳為在前述導電體與前述磁性薄片之間配置有由非磁性體所成之板狀構件。
藉此，可以精簡的構成，有效減低導電體所發生的磁通朝向與受電部為相反側流通。
在前述之保管裝置中，以形成為以下構成為佳。亦即，該保管裝置係具備有：被配置在以前述旋轉軸為中心的圓周上的至少2個前述受電部。前述送電部係配置成與前述受電部的旋轉軌跡相向。當以與前述旋轉軸呈平行的方向觀看時，前述送電部係形成為具有沿著前述旋轉軸的周方向的開口部的圓弧狀，配置成與至少1個前述受電部恒常重疊。
藉此，可將送電部小型化，並且可實現安定的非接觸供電。
在前述之保管裝置中，以形成為以下構成為佳。亦即，前述開口部係形成為可使前述旋轉軸通過的大小。前述送電部係可安裝卸下地被安裝在前述旋轉軸的外周側。
藉此，送電部的安裝／卸下較為容易，保養作業性提升。
在前述之保管裝置中，較佳為前述電力驅動裝置係包含：溫度感知器、濕度感知器、氣體成分檢測器、及攝影機之中至少1個。
藉此，可利用電力驅動裝置，輕易取得關於旋轉棚架內的保管狀態等的資訊。
接著，參照圖示，說明本發明之實施形態。圖1係顯示本發明之一實施形態之保管裝置100的外觀的斜視圖。圖2係保管裝置100的正面圖。圖3係保管裝置100的平面圖。圖4係詳細顯示殼體1內的光柵保管棚架31及供其驅動用的構成的部分剖面斜視圖。
圖1所示之第1實施形態之保管裝置100係被設置在半導體工廠或液晶工廠等的清淨室內，被使用在用以保管半導體或液晶基板的曝光用光柵(物品)。該保管裝置100係如圖1至圖3(例如圖2)所示，主要具備有：殼體1、基座台(固定部)11、光柵保管棚架(旋轉部)31、箱保管棚架51、及馬達(旋轉軸驅動部)81。
殼體1係藉由例如金屬板，構成為中空的大致長方體狀。在殼體1的內部係形成有對外部保有氣密的保管空間。
保管裝置100係具備省略圖示的沖洗裝置，該沖洗裝置係在殼體1的內部的保管空間填充沖洗氣體，藉此可防止被收容的光柵的污染。以沖洗氣體而言，係考慮例如清淨且乾燥的空氣、及氮氣，惟並非限定於該等。
基座台11係如圖2所示，被配置在保管空間內的下部，且被固定在殼體1。基座台11係如圖4所示，具備有：支持箱12、及送電部14。
支持箱12係構成為將其軸線朝向上下方向的中空圓筒狀。支持箱12係形成為其上端部被閉鎖的形狀。在支持箱12的上面的中央部，鉛直朝上方延伸的旋轉軸15可以其軸線為中心而旋轉地予以支持。
送電部14係被安裝在支持箱12的上面。送電部14係可對光柵保管棚架31所具備的後述受電部34，以非接觸傳送電力。其中，關於送電部14的詳細構成，容後敘述。
光柵保管棚架31係保管多數光柵。如圖4所示，光柵保管棚架31係具備有：旋轉棚架32、檢測裝置(電力驅動裝置)33、及受電部34。光柵保管棚架31係配置在比基座台11為更高的位置，構成為伴隨旋轉軸15的旋轉而旋轉。
旋轉棚架32係具備有以上下方向隔著間隙排列配置的複數棚架板37。各個棚架板37係形成為中空環狀。棚架板37係藉由相對旋轉軸15以放射狀固定的複數支持樑38，而被安裝在旋轉軸15。支持樑38係每1個棚架板37，配置例如8個，以周方向隔著相等間隔排列配置。旋轉軸15藉由後述的馬達81被旋轉驅動，藉此複數棚架板37同時旋轉。藉此，可以旋轉棚架32成為所希望的方向的方式變更旋轉相位。旋轉軸15係可正反旋轉。
如圖3所示，複數保管區39被設定為將各個棚架板37的上側的保管空間以周方向分割成複數。雖未圖示，在各個保管區39中，形成為中空的大致箱狀的光柵保管模組被載置於棚架板37。在光柵保管模組係在以上下方向排列的狀態下保管光柵。各個光柵係可由光柵保管模組視需要進行取出或放入。
藉由使旋轉棚架32適當旋轉，將配置有特定的光柵保管模組的保管區39的旋轉相位，可以與後述之光柵搬運裝置76可進出的旋轉相位相配合的方式，調整棚架板37的位置。藉此，可使用光柵搬運裝置76，將所希望的光柵在光柵保管模組進行收容或取出。
圖4所示之檢測裝置33係被固定在例如棚架板37，可取得關於光柵保管棚架31中的溫度、濕度或光柵保管模組的姿勢等保管狀態的資訊。以檢測裝置33之例而言，考慮周知的溫度感知器、濕度感知器、攝影機、及氣體成分檢測器等，惟並非限定於此。檢測裝置33被配置在旋轉棚架32的位置及數量係可視情況而任意設定。檢測裝置33係伴隨旋轉棚架32的旋轉，與該旋轉棚架32一體旋轉。檢測裝置33係藉由從受電部34透過纜線35而被供給的電力予以驅動。
檢測裝置33係將所檢測出的資訊，藉由無線通訊而傳送至被配置在保管裝置100的外部的裝置等(例如圖1所示之終端裝置91)。無線通訊係可按照例如無線LAN等周知規格來進行。藉由該構成，保管裝置100的管理者可由外部在終端裝置91的顯示器等輕易確認光柵保管棚架31中的保管狀態。
受電部34係如圖4所示，朝下被安裝在支持構成旋轉棚架32的最下部的棚架板37的支持樑38。受電部34係由送電部14藉由非接觸供電獲得電力，透過纜線35而供給至檢測裝置33。
箱保管棚架51係如圖2所示，具備有：保管棚架52、及緩衝區棚架53。保管棚架52及緩衝區棚架53係可保管被使用在用以搬運光柵之省略圖示的搬運箱。保管棚架52係全體構成為圓筒狀，如圖4所示，被配置在光柵保管棚架31的下方。該保管棚架52係具備有以上下排列配置的複數棚架板，該等棚架板係可藉由未圖示的馬達而使其旋轉。緩衝區棚架53係如圖2所示，被固定在後述之箱開放裝置66的正上方。該緩衝區棚架53係在暫時保管待機在箱開放裝置66的處理的搬運箱等目的下被使用。
馬達81係由例如電動馬達所構成，被固定在支持箱12的內部。用以驅動馬達81的電力係由省略圖示的電源，使用纜線而被供給。馬達81的驅動力係藉由適當的驅動傳達機構而被傳達至旋轉軸15，藉此旋轉軸15被驅動。
保管裝置100係除了殼體1、光柵保管棚架31、及箱保管棚架51之外，具備有：收授埠61、箱開放裝置66、箱搬運裝置71、及光柵搬運裝置76。
收授埠61係如圖1所示，具備有：上部埠62、及下部埠63。
上部埠62係被配置在殼體1的前部的稍微上方。在上部埠62係形成有可將上面開放的2個開口62a、62b。保管裝置100係可透過該開口62a、62b，在與省略圖示的高架搬運車等之間，進行收容有光柵的搬運箱的收授。
下部埠63係在殼體1的前部，被配置在上部埠62的下方。在下部埠63係形成有可將上面開放的2個開口63a、63b。保管裝置100係可透過該開口63a、63b，在與作業者或機器人等之間進行搬運箱的收授。
被搬運至收授埠61的搬運箱係藉由箱搬運裝置71而被搬運至箱開放裝置66或箱保管棚架51。
箱開放裝置66係被配置在上述保管空間，可將搬運箱開放而形成為可將內部的光柵取出的狀態。
箱搬運裝置71係如圖3所示，在上述保管空間中，被配置在接近收授埠61之側。箱搬運裝置71係構成為例如具有手部72、及2個手臂73、74的多關節型手臂機器人。此外，箱搬運裝置71係藉由未圖示的馬達被驅動，而可朝上下方向移動。
箱搬運裝置71係一邊視需要作昇降一邊使手部72及手臂73、74進行動作，藉此可在上部埠62或下部埠63、與箱開放裝置66、與箱保管棚架51之間搬運搬運箱。
光柵搬運裝置76係如圖3所示，在上述保管空間，被配置在平面視下夾著箱開放裝置66而與箱搬運裝置71相對向的位置。光柵搬運裝置76係與箱搬運裝置71同樣地，構成為具有手部77、及2個手臂78、79的多關節型手臂機器人。此外，光柵搬運裝置76係藉由未圖示的馬達被驅動，而可朝上下方向移動。
光柵搬運裝置76係一邊視需要作昇降一邊使手部77及手臂78、79進行動作，藉此可在箱開放裝置66、與光柵保管棚架31之間搬運光柵。
接著，參照圖4至圖9，詳加說明對被配置在光柵保管棚架31的檢測裝置33供給電力的非接觸供電構造。圖5係顯示送電部14的構成的斜視圖。圖6係顯示送電部14及受電部34的構成的剖面圖。圖7係顯示受電部34的構成的斜視圖。圖8係顯示非接觸供電構造的部分平面圖。圖9係顯示旋轉棚架32由圖8的狀態旋轉的樣子的部分平面圖。其中，在圖8及圖9中係顯示在旋轉棚架32中，棚架板37被卸下後的狀態。
該非接觸供電構造係如圖4所示，由以下所構成：被安裝在基座台11的支持箱12的上部的送電部14；及被安裝在光柵保管棚架31的最下方的支持樑38的複數(本實施形態中為2個)受電部34。
送電部14係如圖4及圖5所示，形成為具有沿著旋轉軸15的周方向的開口部14a的圓弧狀。該送電部14係具備有：基座板(基座構件)21、繞組支持區塊(支持體)22、及1次線圈23。在圖4及圖5中雖未顯示，惟如圖6所示，送電部14另外具備有磁性薄片3。
基座板21係形成為例如由鋁金屬等非磁性體所成之大致圓弧狀的細長板狀。基座板21係形成為具有例如數毫米左右的厚度的薄板狀。基座板21係藉由未圖示的固定構件(例如螺絲等)，可安裝卸下地被安裝在支持箱12的上面。
繞組支持區塊22係與基座板21同樣地形成為大致圓弧狀的細長板狀，且被固定在後述之磁性薄片3的上面。繞組支持區塊22係例如藉由合成樹脂的射出成形所形成。在繞組支持區塊22的上面，如圖5所示，形成有以周方向細長形成的2個軌條部22a。
各個軌條部22a係構成為使上側(接近受電部34之側)開放的凹溝，遍及形成為圓弧狀的繞組支持區塊22的周方向全體而形成。在該凹溝係可收容1次線圈23。2個軌條部22a係配置成同心圓弧狀。藉此，在繞組支持區塊22的上面，在內周側的軌條部22a、與外周側的軌條部22a之間，形成有相對成凸的圓弧狀的凸部(導電體導引部)25。
1次線圈23係將屬於電性良導體的細長李茲線(導電體)27，沿著軌條部22a進行捲繞而形成。具體而言，如圖5所示，將李茲線27，沿著1個軌條部22a由繞組支持區塊22的周方向一端側朝向另一端側作配置之後，在該另一端側折返，而沿著其他軌條部22a作配置而在前述一端側再次折返。如上所示，一邊將李茲線27交替配置在2個軌條部22a一邊使其周繞複數次在凸部25，藉此形成有1次線圈23。在該1次線圈23係可由未圖示的變流器流通交流電流。
在本實施形態中，李茲線27係以在上下方向形成複數層的方式，而且，在各層在凸部25的周圍周繞複數的方式被捲繞。藉此，可使其以精簡構成發生強磁通。
開口部14a係形成為可使旋轉軸15通過的大小。詳言之，基座板21的兩端的直線距離形成為與旋轉軸15的直徑大致相等。藉此，可透過開口部14a，將旋轉軸15放入送電部14的內側、或取出至外側。結果，送電部14的安裝／卸下較為容易，因此保養性提升。此外，將送電部14後接式地設置在既有的保管裝置亦較為容易。
磁性薄片3係與基座板21同樣地形成為大致圓弧狀的細長薄片狀，被固定在基座板21的上面。磁性薄片3係由適當的磁性體所成，形成為薄型薄片狀。磁性薄片3的厚度係可形成為例如1毫米以下。
磁性薄片3係如圖6所示，以介在於1次線圈23與基座板21之間的方式，設在繞組支持區塊22的下方且為基座板21的上方。
設成如上所示的磁性薄片3係作為背軛來發揮功能，可抑制在通電的1次線圈23所發生的磁通朝向下側漏洩，而使其集中在上方。結果，可使受電部34側發生強磁場。此外，藉由因磁性薄片3所致之磁通遮斷效果，可抑制在基座板21所發生的渦流。因此，可抑制基座板21中的渦流損失，可提升送電部14的送電效率。
在1次線圈23與磁性薄片3之間係配置有繞組支持區塊22(具體而言，相當於軌條部22a的底部的部分)。該部分係以形成為具有一定程度的厚度為佳。如圖6所示，由軌條部22a的內底面至繞組支持區塊22的底面的長度L1被認為形成為例如數毫米。1次線圈23與磁性薄片3之間係遠離該長度L1來作配置。
受電部34係如由下側觀看的斜視圖亦即圖7所示，具備有：基座區塊(基座構件)41、磁芯42、及2次線圈43。
基座區塊41係藉由例如樹脂等所形成。磁芯42係由例如鐵氧體芯所成，被固定在基座區塊41的下部。磁芯42係形成為橫向E字狀，在其下面係形成有朝下開放的2個直線狀的凹溝42a。藉由在該磁芯42捲繞電線(導電構件)47，形成有2次線圈43。
在基座區塊41的下面係固定有繞組導引構件44。在圖7中係僅顯示1個繞組導引構件44，但是繞組導引構件44係在凹溝42a的長邊方向，分別配置在磁芯42的兩側的端部。各個繞組導引構件44係具備有折返導件45。在該折返導件45係可纏繞構成2次線圈43的電線47。
2次線圈43係對應各個凹溝42a來作配置。具體而言，如圖7所示，在磁芯42中，將電線47捲繞在凹溝42a的部分，藉此形成2次線圈43。
在以上構成中，若在送電部14的1次線圈23流通交流電流，在與送電部14以上下方向相向的受電部34中，在2次線圈43流通感應電流。藉此，可由送電部14以非接觸供電至受電部34。
在本實施形態之非接觸供電構造中，送電部14係如圖8所示，以包圍旋轉軸15的外周的方式，被固定在支持箱12的上面。另一方面，2個受電部34係在以旋轉軸15為中心而彼此相位差異180°的位置，以其長邊方向與送電部14的1次線圈23(換言之為受電部34的旋轉軌跡亦即圓)的切線方向呈平行的方式，朝下安裝在光柵保管棚架31的支持樑38。
送電部14係形成為圓弧狀，其中心角係被設定為稍微大於180°的角度。藉此，在送電部14形成有可使旋轉軸15通過的較大開口部14a。此外，即使如上所示在送電部14形成開口部14a，亦如圖8及圖9所示，送電部14係可與至少任1個受電部34以上下方向恒常相對面來傳送電力。藉此，無關於旋轉棚架32的旋轉相位，可安定進行非接觸供電。
圖4所示之檢測裝置33係對該2個受電部34的雙方，藉由纜線35作電性連接。其中，受電部34所輸出的交流電流係藉由整流器36而被轉換成直流。整流器36係被安裝成連同旋轉軸15一起旋轉。在圖4係顯示將整流器36安裝在支持樑38之例，但是整流器36的位置係可作適當變更。藉此，可對檢測裝置33，由任1個受電部34供給電力。如上所示，在彼此相對旋轉的基座台11與旋轉棚架32之間配置非接觸供電構造，因此即使旋轉棚架32旋轉，亦不會有使電線扭歪的情形，可對檢測裝置33安定供給電力。
如以上說明所示，本實施形態之保管裝置100係具備有：殼體1、基座台11、光柵保管棚架31、及馬達81。基座台11係配置在殼體1內，且相對該殼體1固定位置。光柵保管棚架31係透過以上下方向延伸的旋轉軸15而與基座台11相連結，以旋轉軸15為中心而對基座台11作相對旋轉。馬達81係使旋轉軸15旋轉。基座台11係具備有：以非接觸傳送電力的送電部14。光柵保管棚架31係具備有：旋轉棚架32、檢測裝置33、及受電部34。在旋轉棚架32係配置光柵。檢測裝置33係配置成與旋轉棚架32一體旋轉，藉由電力被驅動。受電部34係對檢測裝置33供給由送電部14被傳送的電力。
藉此，可實現對被配置在旋轉的光柵保管棚架31的檢測裝置33的無線供電。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，送電部14係具備有：繞組支持區塊22、及李茲線27。繞組支持區塊22係包圍旋轉軸15的外周的一部分。李茲線27係沿著繞組支持區塊22延伸的方向被配置在該繞組支持區塊22。受電部34係具備捲繞電線47而形成的2次線圈43。利用藉由在送電部14的李茲線27流通電流而發生的磁場，使受電部34的2次線圈43發生感應電流。
藉此，可以簡單的構成，實現非接觸供電。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，繞組支持區塊22係具備有形成為以周方向延伸的凸部25。李茲線27係沿著凸部25作配置。
藉此，可以簡單的構成來構成送電部14。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，送電部14係具備被設在和李茲線27與受電部34相對面之側為相反側的磁性薄片3。
藉此，磁性薄片作為背軛來發揮功能，可使被通電的李茲線27所發生的磁通集中在受電部34側。結果，可以精簡的構成，使送電部14中的送電效率提升。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，在李茲線27與磁性薄片3之間配置作為其他構件的繞組支持區塊22。
藉此，可將李茲線27與磁性薄片3之間適度分離，因此可抑制李茲線27所發生的磁通流向與受電部34為相反側。
此外，本實施形態之保管裝置100係具備有被配置在以旋轉軸15為中心的圓周上的2個受電部34。送電部14係配置成與受電部34的旋轉軌跡相向。以與旋轉軸15呈平行的方向觀看時，送電部14係形成為具有沿著旋轉軸15的周方向的開口部14a的圓弧狀，配置成至少與1個受電部34恒常重疊。
藉此，可將送電部14小型化，並且可實現安定的非接觸供電。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，送電部14的開口部14a係形成為可使旋轉軸15通過的大小。送電部14係可安裝卸下地被安裝在旋轉軸15的外周側。
藉此，送電部14的安裝／卸下較為容易，保養作業性提升。
此外，在本實施形態之保管裝置100中，檢測裝置33係可構成為溫度感知器、濕度感知器、或攝影機等。
藉此，利用檢測裝置33，可輕易取得關於旋轉棚架32內的保管狀態等的資訊。
接著，說明第2實施形態。圖10係顯示具有第2實施形態之送電部14x的非接觸供電構造的部分平面圖。圖11係顯示第2實施形態之多層基板28的電路圖案29的構成的斜視圖。圖12係顯示第2實施形態之送電部14x及受電部34的構成的側剖面圖。其中，在本實施形態之說明中，對與前述實施形態相同或類似的構件係在圖示標註相同的符號，且有省略說明的情形。
本實施形態之送電部14x係如圖10所示，由基座板21、磁性薄片3、多層基板(印刷基板)28、及樹脂板(板狀構件)4所構成。其中，在多層基板28中，由玻璃纖維等所成之基材係相當於支持體，以銅箔等形成在該基材的表面的電路圖案29係相當於導電體。
多層基板28係被配置在設於磁性薄片3之上的樹脂板4之上。在本實施形態中，多層基板28係構成為6層基板，各層的電路圖案29係如圖11所示，形成為沿著多層基板28的外形的圓弧而往返的細長迴圈狀。各層的電路圖案29係透過貫穿孔而與上側或下側的電路圖案29作電性連接。藉此，構成捲繞6匝的的1次線圈。
樹脂板4係如圖12所示，以介在於多層基板28與磁性薄片3之間的方式，設在多層基板28的下方且為基座板21的上方。樹脂板4係由透磁率低的非磁性體的樹脂所成。此外，該樹脂係非導電體。樹脂板4係具有預定的厚度，並且形成為在平面視下具有與多層基板28相同形狀的板狀。在樹脂板4的厚度方向一側配置磁性薄片3，且在另一側配置多層基板28。樹脂板4的厚度被認為形成為例如數毫米。
如上所示，在本實施形態中，可藉由印刷基板來構成具有與第1實施形態同樣功能的送電部14x，因此可實現成本低減及精簡的構造。
此外，在本實施形態中，係在多層基板28與磁性薄片3之間配置有樹脂板4，因此可以精簡的構成，抑制電路圖案29所發生的磁通流至與受電部34為相反側。藉此，可減低在磁性薄片3的磁滯損失及在基座板21的渦流損失，而使送電效率提升。
以上說明本發明之較適實施形態，惟上述構成係可例如變更如下。
光柵保管棚架31係形成為全體形成為一體進行旋轉的構成，惟並非限定於此，例如亦可構成為按每個棚架板37進行旋轉。此時，若在各個棚架板37之間配置上述之非接觸供電構造即可。
在繞組支持區塊22中，亦可省略凹溝狀的軌條部22a，而變更為僅將凸部25形成為凸狀的構成。此時，1次線圈23係藉由以沿著凸部25的方式配置(纏繞)李茲線27而形成。
在送電部14中，亦可使李茲線27未周繞複數次，而配置成一邊僅折返1次一邊沿著繞組支持區塊22往返。此時亦可形成有捲繞1匝的1次線圈23。
送電部14中的1次線圈23的捲繞匝數、受電部34中的2次線圈43的捲繞匝數係可分別適當變更。
檢測裝置33亦可固定在旋轉棚架32的適當場所，例如支持樑38。
在光柵保管棚架31亦可具備可暫時蓄存電力的電池。此時，藉由從受電部34被供給的電力，將電池充電，且由電池對檢測裝置33供給電力。
送電部14、14x亦可形成為不具有開口部14a之封閉的圓環狀。此時，受電部34的個數亦可為1個。
送電部14與受電部34亦可取代在旋轉軸15的軸方向相向的構成，而變更為在徑方向相向的構成。
在送電部14中，亦可在繞組支持區塊22與磁性薄片3之間設置樹脂板4。此時，亦可將繞組支持區塊22形成較薄。
例如亦可使用較小的間隔件，使繞組支持區塊22或多層基板28，以在與磁性薄片3之間形成間隙的方式，由磁性薄片3上浮到上方來作配置。
亦可省略磁性薄片3及樹脂板4之中至少一方。
亦可對檢測裝置33以外的電力驅動裝置，透過上述之送電部14及受電部34供給電力。
保管裝置100亦可使用在用以保管光柵以外的物品，例如半導體晶圓。
1‧‧‧殼體 3‧‧‧磁性薄片 4‧‧‧樹脂板 11‧‧‧基座台(固定部) 12‧‧‧支持箱 14‧‧‧送電部 14a‧‧‧開口部 14x‧‧‧送電部 15‧‧‧旋轉軸 21‧‧‧基座板 22‧‧‧繞組支持區塊 22a‧‧‧軌條部 23‧‧‧1次線圈 25‧‧‧凸部(導電體導引部) 27‧‧‧李茲線 28‧‧‧多層基板 29‧‧‧電路圖案 31‧‧‧光柵保管棚架 32‧‧‧旋轉棚架 33‧‧‧檢測裝置(電力驅動裝置) 34‧‧‧受電部 35‧‧‧纜線 36‧‧‧整流器 37‧‧‧棚架板 38‧‧‧支持樑 39‧‧‧保管區 41‧‧‧基座區塊(基座構件) 42‧‧‧磁芯 42a‧‧‧凹溝 43‧‧‧2次線圈 44‧‧‧繞組導引構件 45‧‧‧折返導件 47‧‧‧電線(導電構件) 51‧‧‧箱保管棚架 52‧‧‧保管棚架 53‧‧‧緩衝區棚架 61‧‧‧收授埠 62‧‧‧上部埠 62a、62b‧‧‧開口 63‧‧‧下部埠 63a、63b‧‧‧開口 66‧‧‧箱開放裝置 71‧‧‧箱搬運裝置 72‧‧‧手部 73、74‧‧‧手臂 76‧‧‧光柵搬運裝置 77‧‧‧手部 78、79手臂 81‧‧‧馬達 91‧‧‧終端裝置 100‧‧‧保管裝置 L1‧‧‧長度
圖1係顯示本發明之第1實施形態之保管裝置的外觀的斜視圖。 圖2係保管裝置的正面圖。 圖3係保管裝置的平面圖。 圖4係詳細顯示殼體內的光柵保管部及供其驅動用的構成的部分剖面斜視圖。 圖5係顯示送電部的構成的斜視圖。 圖6係顯示送電部及受電部的構成的剖面圖。 圖7係顯示受電部的構成的斜視圖。 圖8係顯示非接觸供電構造的部分平面圖。 圖9係顯示旋轉棚架由圖8的狀態旋轉的樣子的部分平面圖。 圖10係顯示第2實施形態之非接觸供電構造的部分平面圖。 圖11係顯示第2實施形態之多層基板的電路圖案的構成的斜視圖。 圖12係顯示第2實施形態之送電部及受電部的構成的剖面圖。
11‧‧‧基座台(固定部)
12‧‧‧支持箱
14‧‧‧送電部
15‧‧‧旋轉軸
31‧‧‧光柵保管棚架
32‧‧‧旋轉棚架
33‧‧‧檢測裝置(電力驅動裝置)
34‧‧‧受電部
35‧‧‧纜線
36‧‧‧整流器
37‧‧‧棚架板
38‧‧‧支持樑
52‧‧‧保管棚架
81‧‧‧馬達

Claims (10)

  1. 一種保管裝置，其係用以保管物品的保管裝置，其特徵為：具備有：殼體；被配置在前述殼體內，且相對該殼體，位置被固定的固定部；透過以上下方向延伸的旋轉軸而與前述固定部相連結，且以前述旋轉軸為中心，相對前述固定部作相對旋轉的旋轉部；及使前述旋轉軸旋轉的旋轉軸驅動部，前述固定部係具備有：以非接觸傳送電力的送電部，前述旋轉部係具備有：配置前述物品的旋轉棚架；配置成與前述旋轉棚架一體旋轉，且藉由電力被驅動的電力驅動裝置；及將由前述送電部被傳送的電力供給至前述電力驅動裝置的受電部。
  2. 如申請專利範圍第1項之保管裝置，其中，前述送電部係具備有：包圍前述旋轉軸的外周的至少一部分的支持體；及沿著前述支持體延伸的方向而被配置在該支持體的導 電體，前述受電部係具備有：捲繞導電構件而形成的線圈，藉由利用在前述送電部的前述導電體流通電流而發生的磁場，使前述受電部的前述線圈發生感應電流。
  3. 如申請專利範圍第2項之保管裝置，其中，前述導電體係藉由印刷基板的電路圖案所構成。
  4. 如申請專利範圍第2項之保管裝置，其中，前述支持體係具備有：形成為以周方向延伸的導電體導引部，前述導電體係沿著前述導電體導引部作配置。
  5. 如申請專利範圍第2項之保管裝置，其中，前述送電部係具備有：被設在和前述導電體與前述受電部相對面之側為相反側的磁性薄片。
  6. 如申請專利範圍第5項之保管裝置，其中，在前述導電體與前述磁性薄片之間配置有其他構件、或形成有間隙。
  7. 如申請專利範圍第6項之保管裝置，其中，在前述導電體與前述磁性薄片之間配置有由非磁性體所成之板狀構件。
  8. 如申請專利範圍第1項至第7項中任一項之保管裝置，其中，具備有：被配置在以前述旋轉軸為中心的圓周上的至少2個前述受電部，前述送電部係配置成與前述受電部的旋轉軌跡相向，當以與前述旋轉軸呈平行的方向觀看時，前述送電部係形成為具有沿著前述旋轉軸的周方向的開口部的圓弧狀，配置成與至少1個前述受電部恒常重疊。
  9. 如申請專利範圍第8項之保管裝置，其中，前述開口部係形成為可使前述旋轉軸通過的大小，前述送電部係可安裝卸下地被安裝在前述旋轉軸的外周側。
  10. 如申請專利範圍第1項之保管裝置，其中，前述電力驅動裝置係包含：溫度感知器、濕度感知器、氣體成分檢測器、及攝影機之中至少1個。
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