TWI753357B - 表面保護膜及使用彼製造有機發光電子裝置之方法 - Google Patents

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Abstract

本發明係關於表面保護膜；及使用彼製造有機發光電子裝置之方法。

Description

表面保護膜及使用彼製造有機發光電子裝置之方法
本申請案係關於表面保護膜、及使用彼製造有機發光電子裝置之方法。 本申請案主張於2019年1月25日於韓國智慧財產局申請之韓國專利申請案第10-2019-0010031號之優先權及權益，其全部內容以引用方式併入本文中。
將塑膠基板用作可撓式顯示器基板材料之問題在於對濕氣、氧氣等之氣體阻擋特性(gas barrier characteristic)非常低。因此，在相關技術領域中，藉由形成在基板上施加各種材料及結構之阻擋膜來減輕該塑膠基板的問題。 然而，近來，因為不再使用現有的阻擋膜，因此需要為能夠在製造可撓式光學元件之製程期間保護薄膜封裝(thin film encapsulation，TFE)層之製程開發表面保護膜。用於製程之表面保護膜係暫時保護薄膜封裝層的膜，並在該製程期間經附接至薄膜封裝層，然後移除。 [先前技術文件] [專利文件] (專利文件1) 韓國專利申請早期公開案第 10-2010-0003717號
[技術問題] 本發明致力於提供能夠藉由鼓式滾筒層壓法(drum roll lamination method)連續附接至有機發光元件之表面保護膜。 根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜藉由防止鼓墊污染來改善用於鼓式滾筒(drum roll)之鼓墊(drum pad)的使用壽命。 [技術方案] 本說明書之一例示性具體實施例提供一種表面保護膜，其包含：基底層，其依序包含第一抗靜電層、基底膜、及第二抗靜電層；及黏著劑層，其提供於與其上提供基底膜之第二抗靜電層的表面相對之表面上，其中表面保護膜滿足下列方程式1。 ＜方程式1＞ (黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)＞0.5 gf/in 在表面保護膜中，當將與其上提供基底層之黏著劑層的表面相對之表面定義為第一表面，且將與其上提供黏著劑層之基底層的表面相對之表面定義為第二表面時， 黏著劑強度A係當使用2 kg滾輪將該表面保護膜之該第一表面附接至玻璃，並在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角(peel angle)將該表面保護膜從該玻璃剝離時之剝離強度，以及 黏著劑強度B係當使用2 kg滾輪將該表面保護膜之該第二表面附接至鼓墊，並在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角將該表面保護膜從該鼓墊剝離時之剝離強度。 本說明書之一例示性具體實施例亦提供製造一種有機發光電子裝置之方法，該方法包含：將上述表面保護膜之黏著劑層附接在有機發光元件之封裝層上。 [有利的效果] 根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜可藉由鼓式滾筒層壓法附接至有機發光元件之封裝層，使得產品之生產力可顯著地改善。 當使用根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜時，在滾筒層壓製程期間，附接表面保護膜之鼓墊的污染較低，使得即使重複將表面保護膜附接至封裝層之製程，墊與表面保護膜之黏著劑強度仍可維持，並可增加墊之使用壽命。
在下文中，將描述本申請案之較佳例示性具體實施例。然而，本申請案之例示性具體實施例可不同於下列描述進行修改，且本申請案之範疇並未受限於下列描述。提供本申請案之例示性具體實施例以向所屬技術領域中具有通常知識者詳細描述本申請案。 在本說明書中，「p至q」意指「p或更大及q或更小」之範圍。 在本說明書中，聚合物包含單體之事實意指該單體參與聚合反應，因此在聚合物中作為重複單元被包括在內。 在本說明書中，共聚物包含具有單體係不規則混合形式之雜亂共聚物、嵌段以預定間隔重複排列之嵌段共聚物、或具有單體係反覆交替聚合形式之交替共聚物。 於本說明書中當將一層「提供」另一層的一個表面上時，此不僅包含其中使一層與另一層之一個表面接觸之情況，亦包含其中在兩層之間存在又另一層之情況。在本說明書中，當一個部分「包含」一個組成元件(constituent element)時，除非另有具體說明，否則此不意指排除另一組成元件，而是意指可進一步包括另一組成元件。再者，一個部分包含一個組成元件之事實意指包括一或多個組成元件。在本說明書中，除非另有限定，否則「玻璃」可意指無鹼玻璃(由NEG Co., Ltd.製造，OA-21）。 本說明書之例示性具體實施例提供表面保護膜，其包含：基底層，其依序包含第一抗靜電層、基底膜、及第二抗靜電層；及黏著劑層，其提供於與其上提供基底膜之第二抗靜電層的表面相對之表面上，其中表面保護膜滿足方程式1。當表面保護膜滿足方程式1之關係時，附接至鼓墊之表面保護膜可容易層壓至玻璃。 圖1說明根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜。參照圖1，根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜，其包含：基底層100，在其中依序提供第一抗靜電層101、基底膜102、及第二抗靜電層103；及黏著劑層200。 在例示性具體實施例中，本發明之表面保護膜可藉由鼓式滾筒層壓法附接至有機發光元件的表面，且在此情況下，可藉由附接鼓墊之旋轉滾筒將表面保護膜供給至黏附體的表面。 在本說明書中，方程式1可滿足任一種鼓墊，且當將根據本說明書之例示性具體實施例的表面保護膜與滿足方程式1之鼓墊一起使用時，表面保護膜容易藉由鼓式滾筒層壓法來轉移。在例示性具體實施例中，鼓墊可為由DCTK製造之IMP 1P4-40SBL-S。由於附接表面保護膜之有機發光元件的表面特性與玻璃板的表面特性類似，所以當表面保護膜滿足方程式1之關係時，附接至鼓墊之表面保護膜可容易層壓至有機發光元件的表面。 在例示性具體實施例中，方程式1之黏著劑強度A係黏著劑層與黏附體之間的黏著劑強度，且黏著劑強度B可意指基底層與鼓墊之間的黏著劑強度。當(黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)係0.5 gf/in或更小時，表面保護膜難以從鼓墊轉移至黏附體。 在例示性具體實施例中，(黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)係大於0.8 gf/in，且在此情況下，表面保護膜更容易藉由鼓式滾筒層壓法從鼓墊轉移至黏附體。 只要表面保護膜滿足(黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)之下限值，即可實現本發明所預期的效果。(黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)之上限沒有受限，但在例示性具體實施例中可為10 gf/in或更小。 在本說明書中，第二表面意指基底層之表面，其與基底層之多個表面中面對黏著劑層的表面平行，且面對相反方向。 在例示性具體實施例中，第二表面意指與其上提供基底膜之第一抗靜電層的表面相對之表面。 在例示性具體實施例中，黏著劑強度A及黏著劑強度B可具有任何黏著劑強度，只要黏著劑強度A及黏著劑強度B滿足方程式1之關係即可。黏著劑強度A及黏著劑強度B沒有限制，但在例示性具體實施例中，黏著劑強度A係3 gf/in至10 gf/in，且黏著劑強度B係2 gf/in至9.5 gf/in。 在本說明書中，接觸角係當液體在固體表面上熱力學平衡時，液體在固體表面上之接觸角。接觸角係固體表面濕潤性之量度。低接觸角指示高濕潤性(親水性)及高表面能量，而高接觸角指示低濕潤性(疏水性)及低表面能量。 在例示性具體實施例中，第二表面之水接觸角係80°或更大。表面保護膜之第二表面的水接觸角愈高，附接至第二表面之諸如灰塵的雜質愈少，使得在將該第二表面附接至鼓墊或從鼓墊分離之製程期間，鼓墊之污染程度變低，從而增加鼓墊的使用壽命。 在例示性具體實施例中，第二表面之水接觸角係88°或更大。當第二表面之水接觸角係88°或更大時，可進一步增加鼓墊之使用壽命。在本說明書中，可改變基底層之材料，只要第二表面之水接觸角滿足上面範圍即可。 在例示性具體實施例中，第二表面之水接觸角係180°或更小。 水接觸角係在當將4 ml的超純水(DI水)滴在待測樣本上之後經過10秒時之時間點的接觸角。水接觸角係使用接觸角分析儀來測量。 在例示性具體實施例中，第二表面之黏著劑強度維持率係90%或更大。 在例示性具體實施例中，第二表面之黏著劑強度維持率係97%或更大。 黏著劑強度維持率(%)係(黏著劑強度C)/(黏著劑強度B)×100， 黏著劑強度B係當以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角將表面保護膜之第二表面從鼓墊剝離時之剝離強度，以及 黏著劑強度C係當製備50個表面保護膜及1個鼓墊，將50個表面保護膜之各者的第二表面附接至1個鼓墊之相同位置，且當以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角依序重複剝離表面保護膜之過程50次時，將第50個表面保護膜從鼓墊剝離時之剝離強度。 當更詳細描述用於測量黏著劑強度C之方法時，方法重複將50個表面保護膜附接至1個鼓墊並從其剝離之過程，且此意指附接50個表面保護膜之鼓墊的位置係相同的，且藉由進行以下方法將附接及剝離過程重複50次：附接一個表面保護膜並剝離一個表面保護膜，然後附接另一個表面保護膜並剝離另一個表面保護膜。 在例示性具體實施例中，第二表面之黏著劑強度維持率係100%或更小。 在例示性具體實施例中，第二表面之黏著劑強度維持率係100%之事實意指即使將50個表面保護膜附接至相同鼓墊並將50個表面保護膜移除之過程依序重複50次，鼓墊對表面保護膜之第二表面的黏著劑強度與初始的黏著劑強度相同。 在例示性具體實施例中，表面保護膜包含：基底層，其依序包含第一抗靜電層、基底膜、及第二抗靜電層；及黏著劑層，其提供於第二抗靜電層上，並滿足方程式1。 在例示性具體實施例中，黏著劑層係直接提供於第二抗靜電層上。在本說明書中，「將X層直接提供於Y層上」意指使X層與Y層接觸。 在例示性具體實施例中，表面保護膜進一步包含依序包含下列之保護層：第三抗靜電層；保護膜；及第四抗靜電層，且黏著劑層係提供於保護層與基底層之間。 參照圖2，根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜，其依序包含第一抗靜電層101、基底膜102、第二抗靜電層103、黏著劑層200、第三抗靜電層301、保護膜302、及第四抗靜電層303。 在例示性具體實施例中，使第三抗靜電層與黏著劑層接觸。作為黏著劑層，可採用任何適當的黏著劑層，只要黏著劑層可實現滿足方程式1之關係的黏著劑強度即可。 黏著劑層包含至少一種選自下列之黏著劑：丙烯酸系黏著劑(acrylic adhesive)；胺甲酸酯系黏著劑；聚酯系黏著劑；乙烯基烷基醚系黏著劑；聚醯胺系黏著劑；苯乙烯-二烯嵌段共聚物系黏著劑；橡膠系黏著劑；及聚矽氧系黏著劑，但不限於此。 黏著劑層可在不損害本發明之效果的範圍內進一步包含任何其他組分。其他組分之實例包含增黏劑、無機填料、有機填料、金屬粉末、顏料、箔狀材料(foil-shaped material)、軟化劑、塑化劑、抗老化劑(age resistor)、導電劑(conductive agent)、抗靜電劑、抗氧化劑、UV吸收劑、光穩定劑、表面潤滑劑、整平劑、腐蝕抑制劑、耐熱穩定劑、聚合抑制劑、潤滑劑、溶劑等。 在例示性具體實施例中，丙烯酸系黏著劑可為丙烯酸系聚合物，其包含一種類型或二或更多種類型的(甲基)丙烯酸烷酯作為單體組分。丙烯酸系聚合物可為均聚物或共聚物。 在(甲基)丙烯酸烷酯中，烷基可為具有1至20個碳原子之直鏈或支鏈烷基。(甲基)丙烯酸烷基酯可為，例如，(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸異丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸二級丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-乙基丁酯、(甲基)丙烯酸正辛酯、(甲基)丙烯酸異辛酯、(甲基)丙烯酸異壬酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十四基酯等，但不限與此。(甲基)丙烯酸酯意指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。以100wt%之組成丙烯酸系黏著劑之總單體組分為基準計，(甲基)丙烯酸烷酯可以50wt%至100wt%之量包括。 丙烯酸系聚合物可包含可與(甲基)丙烯酸烷酯聚合之其他聚合物單元。作為其他單體單元，例如，可以使用選自下列之一種類型或二或更多種類型：含羧基之單體，諸如丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸羧基乙酯、丙烯酸羧基戊酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、及巴豆酸；酸酐單體，諸如無水順丁烯二酸及無水伊康酸；含羥基之單體，諸如(甲基)丙烯酸羥基乙酯、(甲基)丙烯酸羥基丙酯、(甲基)丙烯酸羥基丁酯、(甲基)丙烯酸羥基己酯、(甲基)丙烯酸羥基辛酯、(甲基)丙烯酸羥基癸酯、(甲基)丙烯酸羥基月桂酯、及(4-羥基甲基環己基)甲基(甲基)丙烯酸酯；含磺酸基之單體，諸如苯乙烯磺酸、烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、及(甲基)丙烯醯基氧基萘磺酸；醯胺類單體，諸如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、及N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺；含胺基之單體，諸如二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、N,N-二甲基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯、及三級丁基胺基乙基(甲基)丙烯酸酯；含烷氧烷基之單體，諸如甲氧基乙基(甲基)丙烯醯胺及乙氧基乙基(甲基)丙烯醯胺；含醯亞胺之單體，諸如N-環己基順丁烯二醯亞胺、N-異丙基順丁烯二醯亞胺、N-月桂基順丁烯二醯亞胺、N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-甲基伊康醯亞胺(N-methylitaconimide)、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、及N-月桂基伊康醯亞胺；琥珀醯亞胺類單體，諸如N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、及N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺；乙烯基類單體，諸如乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯烷酮、甲基乙烯基吡咯烷酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌
Figure 109102532-A0304-12-0000-4
、乙烯基吡唑、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基
Figure 109102532-A0304-12-0059-1
唑、乙烯基嗎啉、N-乙烯基羧酸醯胺、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、氯苯乙烯、氯甲基苯乙烯、及N-乙烯基己內醯胺；含氰基之單體，諸如丙烯腈及甲基丙烯腈；含環氧基之丙烯酸樹脂類單體，諸如(甲基)丙烯酸環氧丙基；二醇類(甲基)丙烯酸酯單體，諸如(甲基)丙烯酸聚乙二醇酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基乙二醇酯、及(甲基)丙烯酸甲氧基聚丙二醇酯；具有多環(諸如四氫糠基)之酯類(甲基)丙烯酸酯單體、氟(甲基)丙烯酸酯、及(甲基)丙烯酸聚矽氧酯、鹵素原子、矽原子等；多官能單體，諸如二(甲基)丙烯酸己二醇酯、二(甲基)丙烯酸(聚)乙二醇酯、二(甲基)丙烯酸(聚)丙二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、二(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三(甲基)丙烯酸新戊四醇酯、六(甲基)丙烯酸二新戊四醇酯、丙烯酸環氧酯、聚酯丙烯酸酯、及胺甲酸酯丙烯酸酯；烯烴系單體，諸如異戊二烯、丁二烯、及異丁烯；及乙烯基醚類單體，諸如乙烯基醚，但其他單體單元不限於此。以100wt%之組成丙烯酸系黏著劑之總單體組分為基準計，可與(甲基)丙烯酸烷酯聚合之其他單體的可以0wt%至50 wt%之量包括。 胺甲酸酯系黏著劑層可為包含聚胺甲酸酯系樹脂之黏著劑層。在例示性具體實施例中，聚胺甲酸酯樹脂意指藉由固化含有多元醇及多官能異氰酸酯化合物之組成物所獲得的樹脂。以100wt%之胺甲酸酯系黏著劑層為基準計，胺甲酸酯系樹脂可以50wt%至100wt%之量包括。多元醇可為一種類型或二或更多種類型，且可選擇具有二或更多個羥基之任何適當的多元醇。在例示性具體實施例中，多元醇可為聚酯系多元醇、聚醚系多元醇、聚碳酸酯系多元醇、聚己內酯系多元醇等，但不限於此。 聚酯系多元醇係包含酯鍵之多元醇，酯鍵由多元醇與羧酸之反應所形成，並包含聚醚酯多元醇、聚碳酸酯聚酯多元醇等。多元醇可為乙二醇、1,3-丙二醇、二乙二醇、1,4-丁二醇、新戊四醇、三乙醇胺、己三醇、聚丙二醇、1,2-己二醇等，但不限於此。羧酸可為琥珀酸、順丁烯二酸、己二酸、庚二酸、壬二酸、癸二酸、1,9-九亞甲基二羧酸、1,12-十二亞甲基二羧酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸、1,4-萘二羧酸、4,4’-聯苯二羧酸或其酐等，但不限於此。 聚醚系多元醇係由使用多元醇、雙酚、二羥苯等作為起始劑，並使環氧烷(諸如環氧乙烷、環氧丙烷、及環氧丁烷)經受加成聚合所形成的多元醇。例如，聚醚系多元醇可為聚乙二醇、聚丙二醇、聚四亞甲基二醇等，但不限於此。 聚己內酯系多元醇係由使內酯(諸如ε-己內酯(ε-caprolactone)、δ-戊內酯(δ-valerolactone)、及β-甲基-δ-戊內酯)經受開環聚合所形成的多元醇。例如，聚己內酯多元醇可為碳酸二甲酯、碳酸二乙酯、碳酸伸乙酯等，但不限於此。 聚碳酸酯系多元醇係由使內酯與聚碳酸酯多元醇開環聚合或使聚碳酸酯系多元醇與聚酯系多元醇或聚醚系多元醇等共聚合所形成的多元醇。 多官能異氰酸酯化合物可為一種類型或二或更多種類型，且可選擇任何多官能異氰酸酯，只要多官能異氰酸酯化合物可引起與多元醇之胺酯化反應(urethanization reaction)即可。作為多官能異氰酸酯化合物，在例示性具體實施例中，異氰酸酯化合物(a2)可使用選自由下列所組成之群組的一種類型或二或更多種類型：2,4-或4,4’-亞甲基二苯基二異氰酸酯(2,4- or 4,4’-methylene diphenyl diisocyanate，MDI)、伸苯二甲基二異氰酸酯(xylylene diisocyanate，XDI)、間或對四甲基伸苯二甲基二異氰酸酯(m- or p-tetramethylxylylene diisocyanate，TMXDI)、伸甲苯基二異氰酸酯(toluylene diisocyanate，TDI)、二或四烷基二苯基甲烷二異氰酸酯、3,3’-二甲基二苯基-4,4’-二異氰酸酯(3,3’-dimethyldiphenyl-4,4’-diisocyanate，TODI)、1,3-伸苯基二異氰酸酯、1,4-伸苯基二異氰酸酯、萘二異氰酸酯(naphthalene diisocyanate，NDI)、4,4’-二苄基二異氰酸酯、氫化MDI(hydrogenated MDI，H12MDI)、1-甲基-2,4-二異氰酸基環己烷、1,12-二異氰酸基十二烷、1,6-二異氰酸基-2,2,4-三甲基己烷、1,6-二異氰酸基-2,4,4-三甲基己烷、異佛爾酮二異氰酸酯(isophorone diisocyanate，IPDI)、四甲氧基丁烷-1,4-二異氰酸酯、丁烷-1,4-二異氰酸酯、己烷-1,6-二異氰酸酯(hexane-1,6-diisocyanate，HDI)、二聚物脂肪酸二異氰酸酯(dimer fatty acid diisocyanate)、二環己基甲烷二異氰酸酯、環己烷-1,4-二異氰酸酯、及伸乙基二異氰酸酯，但不限於此。 在例示性具體實施例中，多元醇與多官能異氰酸酯化合物之間的異氰酸酯基與羥基之當量比；及多元醇與多官能異氰酸酯化合物之含量比可考量黏著劑層之特性任意適當地選擇。 作為橡膠系黏著劑，可使用天然橡膠或各種合成橡膠。合成橡膠可為使用以下作為基底聚合物之橡膠類黏著劑，例如，聚異戊二烯橡膠、苯乙烯/丁二烯(styrene·butadiene，SB)橡膠、苯乙烯/異戊二烯(styrene·isoprene, SI)橡膠、苯乙烯/異戊二烯/苯乙烯嵌段共聚物(styrene·isoprene·styrene，SIS)橡膠、苯乙烯/丁二烯/苯乙烯嵌段共聚物(styrene·butadiene·styrene，SBS)橡膠、苯乙烯/乙烯/丁烯/苯乙烯嵌段共聚物(styrene·ethylene·butylene·styrene，SEBS)橡膠、苯乙烯/乙烯/丙烯/苯乙烯嵌段共聚物(styrene·ethylene·propylene·styrene，SEPS)橡膠、苯乙烯/乙烯/丙烯嵌段共聚物(styrene·ethylene·propylene，SEP)橡膠、再生橡膠(reclaimed rubber)、丁基橡膠、聚異丁烯、其變體等，但該合成橡膠不限於此。 聚矽氧系黏著劑可採用任何適合的聚矽氧類黏著劑。  作為此種聚矽氧系黏著劑，較佳地，可採用藉由摻合或聚集矽樹脂所獲得者。作為聚矽氧系黏著劑，可使用加成反應固化型聚矽氧系黏著劑或過氧化物固化型聚矽氧系黏著劑。 加成反應固化型聚矽氧系黏著劑可藉由使含氫矽基之矽氧烷化合物與含烯基之有機聚矽氧烷反應來形成。 含烯基之有機聚矽氧烷的具體實例包含在分子鏈之兩末端經二甲基乙烯基矽氧基封端之二甲基聚矽氧烷、在分子鏈之兩末端經二甲基乙烯基矽氧烷封端之二甲基矽氧烷甲基乙烯基矽氧烷共聚物、在分子鏈之兩末端經二甲基乙烯基矽氧基封端之二甲基矽氧烷甲基苯基矽氧烷共聚物、在分子鏈之兩末端經三甲基矽氧基封端之甲基乙烯基聚矽氧烷、在分子鏈之兩末端經三甲基矽氧基封端之二甲基矽氧烷甲基乙烯基矽氧烷共聚物、在分子鏈之兩末端經三甲基矽氧基封端之二甲基矽氧烷甲基(5-己烯基)矽氧烷共聚物、在分子鏈之兩末端經二甲基乙烯基矽氧基封端之二甲基矽氧烷甲基乙烯基矽氧烷甲基苯基矽氧烷共聚物、在分子鏈之兩末端經二甲基羥基封端之甲基乙烯基聚矽氧烷、或在分子鏈之兩末端經二甲基羥基封端之二甲基矽氧烷甲基乙烯基矽氧烷共聚物等，但不限於此。 過氧化物固化型聚矽氧系黏著劑可藉由固化包含過氧化物固化型聚矽氧樹脂及過氧化物固化劑來形成。過氧化物固化型聚矽氧樹脂可包含過氧化物固化型聚矽氧橡膠及/或其部分縮合物。過氧化物固化型聚矽氧樹脂沒有特別限制，且可不受限制地使用具有二甲基矽氧烷作為主要成分單元之任何有機聚矽氧烷。如有需要，可將除羥基以外之官能基引入有機聚矽氧烷中。有機聚矽氧烷之具體實例包含二甲基聚矽氧烷。過氧化物固化型聚矽氧樹脂可包含二或更多種類型的過氧化物固化型聚矽氧橡膠，且可包含二或更多種類型的該過氧化物固化型聚矽氧橡膠之部分縮合物。 過氧化物固化劑可為，例如，過氧化苯甲醯、過氧苯甲酸三級丁酯、過氧化二異丙苯、過氧化三級丁基異丙苯、過氧化二三級丁基、2,5-二甲基-2,5-二(三級丁基過氧基)己烷、過氧化2,4-二氯苯甲醯、1,1-雙(三級丁基過氧基)-3,3,5-三甲基環己烷、或2,5-甲基-2,5-二(三級丁基過氧基)己炔-3，但不限於此。 在本發明中，可考量本申請案之目的，適當地選擇黏著劑層之厚度。例如，黏著劑層可具有10 μm或更大；30 μm 或更大；或45 μm或更大之厚度。例如，黏著劑層可具有200 μm或更小；150 μm或更小；100 μm或更小；或90 μm或更小之厚度。藉由將黏著劑層之厚度設定在上面範圍中，可改善黏著劑層對黏附體表面之黏著性及濕潤性。 可包括在黏著劑層中之聚合物可藉由典型的聚合方法來製備，例如，諸如溶液聚合、光聚合、總體聚合、懸浮聚合、或乳化聚合之方法。 形成黏著劑層之方法沒有特別限制，且例如，可以使用藉由諸如棒塗佈機之典型手段將黏著劑組成物施加至基底膜來形成黏著劑層之方法、或藉由事先將黏著劑組成物施加至可剝離基底(peelable base)之表面，接著再將該黏著劑層轉移至基底膜來形成黏著劑層之方法等。在例示性具體實施例中，黏著劑層可藉由進一步進行乾燥及/或固化製程來形成。 作為施加黏著劑組成物之方法，可以採用諸如反向塗佈(reverse coating)及凹版塗佈(gravure coating)之滾筒塗佈法、旋轉塗佈法、網版塗佈法(screen coating method)、噴注塗佈法(fountain coating method)、浸漬法、噴霧法等，但該方法不限於此。 作為乾燥黏著劑組成物之方法，可使用任何公開已知的乾燥方法，且在例示性具體實施例中，可使用諸如烘箱及加熱板之方法。 固化黏著劑組成物之方法沒有特別限制，且例如，可採用通過適當加熱、乾燥、及/或老化製程、及藉由電磁波製程之固化方法。 在本說明書中，術語「抗靜電層(anti-static layer)」意指抑制靜電產生之層。 第一至第四抗靜電層可藉由公開已知的方法來形成，以便達到所欲的效果。例如，第一至第四抗靜電層可藉由在線塗佈法(in-line coating method)在基底膜之兩個表面及保護膜之兩個表面上形成。在線塗佈法中，由於塗佈係在膜製備製程期間進行，所以塗層與膜之間的黏合性(adhesion)增加，且塗層伴隨膜之製備連續地施予，使得其優點在於可縮短製程並可將膜儘可能的製薄。 在本發明中，可考量本申請案之目的，第一至第四抗靜電層可由適當的抗靜電組成物所形成。例如，第一至第四抗靜電層可包含選自由下列所組成之群組的一種或其混合物：丙烯酸系樹脂(acrylic resin)、胺甲酸酯系樹脂、胺甲酸酯丙烯酸系共聚物、酯系樹脂、醚系樹脂、醯胺系樹脂、環氧系樹脂、及三聚氰胺樹脂，但不限於此。 在一個實例中，第一至第四抗靜電層可包含導電材料。導電材料可包含導電聚合物或奈米碳管，但不限於此。 導電聚合物可由，例如，聚苯胺系、聚吡咯系、聚噻吩系聚合物、其衍生物、及其共聚物所組成，但不限於此。 奈米碳管可具有管狀形狀，其藉由將每個由6個碳原子所組成的六邊形環連接所形成的石墨板進行輥壓(rolling)來產生。奈米碳管具有優異的剛性及導電性，使得當將奈米碳管用作表面保護膜之抗靜電層時，可增加抗靜電層之硬度，並可改善抗靜電功能。奈米碳管可為多壁(multi-walled)奈米碳管或單壁(single-walled)奈米碳管。 基底膜及保護膜之類型沒有特別限制。基底膜可包含一或多種選自由下列所組成之群組：例如，聚對苯二甲酸乙二酯；聚四氟乙烯；聚乙烯；聚丙烯；聚丁烯；聚丁二烯；氯乙烯共聚物；聚胺甲酸酯；乙烯乙酸乙烯酯；乙烯-丙烯共聚物；乙烯-丙烯酸乙酯共聚物；乙烯-丙烯酸甲酯共聚物；聚醯亞胺；尼龍；苯乙烯系樹脂或彈性體；聚烯烴系樹脂或彈性體；其他彈性體；聚氧化烯系樹脂或彈性體；聚酯系樹脂或彈性體；聚氯乙烯系樹脂或彈性體；聚碳酸酯系樹脂或彈性體；聚苯硫醚系樹脂或彈性體；烴混合物；聚醯胺系樹脂或彈性體；丙烯酸酯系樹脂或彈性體；環氧系樹脂或彈性體；聚矽氧系樹脂或彈性體；及液晶聚合物，但不限於此。在一例示性具體實施例中，基底膜及保護膜可為聚對苯二甲酸乙二酯(polyethylene terephthalate，PET)膜。基底膜及保護膜可由單層所構成、或可堆疊有二或更多層。 可使基底膜及保護膜之一個表面或兩個表面經受典型的物理或化學表面處理，諸如消光處理(mat treatment)、電暈放電處理、底漆處理、及交聯處理，以便增強與黏著劑層或其他層之黏合性、持續性等。 可考量本申請案之目的，適當地選擇基底膜及保護膜之厚度。 在例示性具體實施例中，基底膜可具有25 μm或更大及150 μm或更小、50 μm或更大及125 μm或更小、或75 μm或更大及100 μm或更小之厚度。當在將其上形成黏著劑層之基底層層壓至有機發光元件之封裝層的時候，基底膜之範圍在小於上面厚度範圍內時，存在基底膜容易變形之擔憂，且當基底膜之範圍在大於上面厚度範圍內時，可能發生層壓缺陷。 在例示性具體實施例中，保護膜可具有25 μm或更大及150 μm或更小、25 μm或更大及125 μm或更小、或25 μm或更大及100 μm或更小之厚度。 在例示性具體實施例中，保護層進一步包含離型層，其提供於與其上提供該保護膜之該第三抗靜電層的表面相對之表面上。 參照圖3，根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜，其包含：基底層，在其中依序提供第一抗靜電層101、基底膜102、及第二抗靜電層103；黏著劑層200；及保護層300，在其中依序提供離型層304、第三抗靜電層301、保護膜302、及第四抗靜電層303。離型層可提供於第三抗靜電層301與黏著劑層200之間。 可考量本發明之目的，適當地選擇離型層。在例示性具體實施例中，離型層可由適當的離型劑所形成，只要黏著劑層係在滿足方程式1之關係的範圍內即可。作為離型層之材料，可以使用，例如，聚矽氧系離型劑、氟系離型劑、長鏈烷基系離型劑、脂肪酸醯胺系離型劑等，但該材料不限於此。在一例示性具體實施例中，作為離型層之材料，可使用聚矽氧系離型劑。 離型層可藉由用離型劑塗佈，例如，第三抗靜電層並乾燥該離型劑來形成。作為塗佈方法，具體而言，可以使用，例如，滾筒塗佈、凹版塗佈、微凹版塗佈、凹印吻塗佈(kiss gravure coating)、逗點刮刀塗佈(comma knife coating)、滾筒塗佈、噴霧塗佈、線棒塗佈(Meyer Bar coating)、狹縫模具塗佈(slot die coating)、反向塗佈(reverser coating)、柔版法(flexo method)、支距法(offset method)等。可考量本申請案之目的，適當地選擇離型層之厚度。例如，離型層可為10 nm或更大及500 nm或更小；10 nm或更大及300 nm或更小；或10 nm或更大及200 nm或更小。當離型層係小於或大於上述範圍之厚度時，在製程期間可能發生膜缺陷。 本發明亦提供製造有機發光電子裝置之方法，該方法包含：將表面保護膜之黏著劑層附接在有機發光元件之封裝層上。 在本說明書中，鼓式滾筒層壓法意指藉由對可旋轉的鼓式滾筒連續地供應表面保護膜來將表面保護膜層壓至黏附體之表面的方法。當使用鼓式滾筒層壓法時，每小時產品的產量增加，且在該製程期間所投入的人力及成本降低，從而改善工作性(workability)。 在例示性具體實施例中，將附接鼓墊之鼓式滾筒(層壓鼓輪(laminate drum))安裝在黏附體被輸送通過的產線上，且在將附接至鼓墊之表面保護膜轉移至黏附體的同時，使該表面保護膜及該黏附體彼此層壓。 在例示性具體實施例中，黏附體可為有機發光元件。 在例示性具體實施例中，有機發光元件依序包含背板、塑膠基板、有機發光二極體、薄膜電晶體、及封裝層。在鼓式滾筒層壓製程中，可將表面保護膜之黏著劑層附接至封裝層。 封裝層可在有機發光電子裝置中展現優異的濕氣阻斷特性及光學特性。此外，不論有機發光電子裝置之形式(諸如頂部發光或底部發光)為何，該封裝層可形成為穩定的封裝層。 在例示性具體實施例中，封裝層可包含單層或多層無機材料層。作為形成封裝層之方法，可應用所屬技術領域中已知的形成封裝層之典型方法。 單層或多層無機材料層可包含，例如，氧化鋁系無機材料層、氮化矽系無機材料層、氧氮化矽系無機材料層等。 在例示性具體實施例中，鼓墊包含一或二或更多種選自由下列所組成之群組：聚矽氧橡膠、氟橡膠、丙烯酸類橡膠、聚胺甲酸酯橡膠、聚醯胺橡膠、天然橡膠、聚異丁烯橡膠、聚異戊二烯橡膠(polyisoprene rubber，IR)、異丁烯-異戊二烯橡膠(isobutylene-isoprene rubber，IIR)、氯平橡膠(chloroprene rubber，CR)、丁基橡膠、腈丁基(nitrile butyl)橡膠、腈丁二烯橡膠(nitrile butadiene rubber，NBR)、苯乙烯-丁二烯橡膠(SBR)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBS)橡膠、苯乙烯-異戊二烯-苯乙烯(SIS)橡膠、苯乙烯-乙烯-丁二烯橡膠、苯乙烯-乙烯-丁二烯-苯乙烯(SBBS)橡膠、苯乙烯-異戊二烯-丙烯-苯乙烯橡膠、氯磺化聚乙烯橡膠、及乙烯-丙烯-二烯橡膠(ethylene-propylene-diene rubber，EPDM)。 在例示性具體實施例中，鼓墊可為胺甲酸酯系墊、丙烯酸系墊(acrylic pad)、或橡膠系墊。 在例示性具體實施例中，鼓墊包含具有200 μm或更小之直徑的孔。鼓墊中所包括的孔之直徑可彼此相同或不同，且該孔係不規則地分佈於鼓墊中。 在例示性具體實施例中，胺甲酸酯系墊可藉由使醇衍生物(乳酸化合物或己內酯化合物)與異氰酸酯化合物反應來製備。 在例示性具體實施例中，丙烯酸系墊可藉由使包含下列之單體反應來製備：丙烯酸甲酯；丙烯酸乙酯；羥基或可交聯基團。 在例示性具體實施例中，當製造胺甲酸酯系墊及丙烯酸系墊時，孔可藉由添加發泡劑或注射氣泡來形成，但孔之形成方法沒有限制。 在例示性具體實施例中，當表面保護膜進一步包含保護層時，製造有機發光電子裝置之方法進一步包含將保護層從表面保護膜移除。 在例示性具體實施例中，將表面保護膜附接在有機發光元件的封裝層上之方法可藉由鼓式滾筒層壓法來進行。 在例示性具體實施例中，將上述表面保護膜附接至光學膜之形式可為將背板511；塑膠基板512；薄膜電晶體513；有機發光二極體514；封裝層515；黏著劑層200；及基底層100依序堆疊之形式，如圖4中說明。 製造有機發光電子裝置之方法進一步包括；在將表面保護膜附接在封裝層上之後移除基底膜。 在例示性具體實施例中，製造有機發光電子裝置之方法進一步包含：將表面保護膜從封裝層移除；及將觸控螢幕面板及覆蓋窗(cover window)堆疊在封裝層上。 [發明模式] 在下文中，將通過依照本申請案之實例及未依照本申請案的比較例來更詳細描述本申請案，然而，本申請案的範疇不受下面提出的實例限制。實施例 1 將72重量份的甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate，MMA)、23重量份的甲基丙烯酸正丁酯(n-butyl methacrylate，NBMA)、5重量份的丙烯酸(acrylic acid，AA)、及聚合起始劑偶氮雙異丁腈(Azobisisobutyronitrile ，AIBN)引入加熱至沸點的甲基乙基酮(methyl ethyl ketone，MEK)溶劑中，並在80℃至85℃下混合及逐滴添加，從而製備具有95%或更高轉化率之丙烯酸系黏合劑(acrylic binder)。 將藉由混合100重量份的甲基乙基酮(MEK)及5重量份的丙烯酸系黏合劑所稀釋的10 g溶液(A)、藉由混合100重量份的丙醇及0.1重量份的多壁奈米碳管(MWCNT，Wonil Corporation)所稀釋的90 g溶液(B)、及藉由混合100重量份的甲基乙基酮(MEK)及5重量份的環氧固化劑(BXX-5420, SAMYOUNG INK&PAINT INDUSTRIAL, CO., LTD.)所稀釋的5 g溶液(C)混合，從而製備抗靜電層組成物。 在將聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜之兩個表面用所製備的抗靜電層組成物各自塗佈至100 nm之厚度之後，將聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜在100℃下乾燥3分鐘，從而製備基底層。 隨後，將第二抗靜電層用藉由向胺甲酸酯系黏著劑樹脂(UA-4, SAMHWA PAINTS INDUSTRIAL CO., LTD.)添加以100重量份的胺甲酸酯系黏著劑樹脂為基準計，為5重量份的異氰酸酯固化劑所獲得的塗佈溶液塗佈，接著將該經塗佈之胺甲酸酯系黏著劑樹脂乾燥並老化，從而製備胺甲酸酯系黏著劑層。 製備保護層(12ASW, SKC Co., Ltd.)，其中在具有50 μm之厚度的聚對苯二甲酸乙二酯(PET)膜(XD510P, TAK Inc.)之兩個表面上形成第三抗靜電層及第四抗靜電層，且該第三抗靜電層塗佈有離型層。將基底層層壓至保護層，以使在其上形成離型層之表面與黏著劑層接觸，從而製備具有150 μm之厚度的表面保護膜。實施例 2 以與實施例1相同之方式製備表面保護膜，除了使用單壁奈米碳管(SWCNT, Wonil Corporation)來代替多壁奈米碳管(MWCNT, Wonil Corporation)，且環氧固化劑使用量為7重量份，而非5重量份。 實施例 3 以與實施例1相同之方式製備表面保護膜，除了使用甲基丙烯酸正己酯來代替甲基丙烯酸正丁酯(NBMA)，且環氧固化劑使用量為7重量份，而非5重量份。實施例 4 以與實施例1相同之方式製備表面保護膜，除了使用單壁奈米碳管(SWCNT, Wonil Corporation)來代替多壁奈米碳管(MWCNT, Wonil Corporation)，使用甲基丙烯酸正己酯來代替甲基丙烯酸正丁酯(NBMA)，且環氧固化劑使用量為7重量份，而非5重量份。比較例 1 以與實施例1相同之方式製備表面保護膜，除了使用60重量份的甲基丙烯酸甲酯及40重量份的甲基醚甲基丙烯酸酯(Mn = 500 g/mol)來代替72重量份的甲基丙烯酸甲酯(MMA)、23重量份的甲基丙烯酸正丁酯(NBMA)、及5重量份的丙烯酸(AA)。比較例 2 以與實施例1相同之方式製備表面保護膜，除了使用50重量份的甲基丙烯酸丁酯及50重量份的甲基醚甲基丙烯酸酯(Mn=500 g/mol)來代替72重量份的甲基丙烯酸甲酯(MMA)、23重量份的甲基丙烯酸正丁酯(NBMA)、及5重量份的丙烯酸(AA)。 黏著劑強度A之測量方法 樣品係藉由切割所製備的表面保護膜以具有25 mm之寬度及150 mm之長度來製備。藉由將保護層從表面保護膜移除並使用2 kg滾筒來將表面保護膜之第一表面附接至玻璃。隨後，使用設備(質構分析儀Texture Analyzer，由Stable Micro Systems，UK製造)在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角將表面保護膜從玻璃剝離時，評估剝離強度，並將該剝離強度定義為黏著劑強度A。 黏著劑強度B之測量方法 樣品係藉由切割所製備的表面保護膜以具有25 mm之寬度及150 mm之長度來製備。藉由將保護層從表面保護膜移除並使用2 kg滾筒來將表面保護膜之第二表面附接至鼓墊(DCTK, IMP 1P4-40SBL-S)。隨後，使用設備(質構分析儀(Texture Analyzer)，由Stable Micro Systems，UK製造)在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角將表面保護膜從鼓墊剝離時，評估剝離強度，並將該剝離強度定義為黏著劑強度B。 水接觸角之測量 水接觸角係在當將4 ml的超純水(DI水)滴在所製備的表面保護膜上之後經過10秒時的時間點，使用接觸角測量裝置(液滴形狀分析儀(drop shape analyzer), KRUSS GmbH)來測量。 層壓之測定 樣品係藉由切割所製備的表面保護膜以具有100 mm之寬度及250 mm之長度來製備。藉由將保護層從表面保護膜移除並使用2 kg滾筒來將表面保護膜之第二表面附接至鼓墊(DCTK, IMP 1P4-40SBL-S)。之後，將表面保護膜之黏著劑層附接至玻璃，並以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角將附著的墊從玻璃移除。使用10個表面保護膜、10個鼓墊、及10片玻璃進行該測試10次。在所有進行10次之測試中，將表面保護膜從鼓墊剝離且附接至玻璃，並經肉眼確認時表面保護膜經附接至玻璃而無翹起之情況表示為「O」。在進行的10次之測試中，將表面保護膜從來沒有從所附接的墊移除、或在表面保護膜與玻璃之間存在翹起之情況表示為「X」。 鼓墊層壓次數之測量 以與黏著劑強度B之測量方法相同之方式，在重複將表面保護膜附接至1個鼓墊(DCTK, IMP 1P4-40SBL-S)並將表面保護膜從鼓墊剝離之過程中，測量表面保護膜可附接至鼓墊之次數。在此，用於附接之表面保護膜係藉由前述方法所製備的不同表面保護膜。當將表面保護膜附接至鼓墊時，將發生翹起同時表面保護膜之邊緣無法完全黏附至鼓墊之情況評估為表面保護膜無法再黏附至鼓墊之情況。 在層壓50次之後，鼓墊與基底層之間的黏著劑強度(黏著劑強度C) 製備50個表面保護膜及1個鼓墊(DCTK, IMP 1P4-40SBL-S)。將50個不同表面保護膜附接至一個鼓墊並從一個鼓墊剝離50個不同表面保護膜之過程依序重複50次。在此情況下，使用2 kg滾筒將第二表面附接至鼓墊，並使用設備(質構分析儀，由Stable Micro Systems, UK製造)，以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角將每個表面保護膜從玻璃剝離。將第50個表面保護膜從鼓墊剝離時之剝離強度指示為黏著劑強度C。 黏著劑強度維持率 黏著劑強度維持率係如下估計。 黏著劑強度維持率(%)=黏著劑強度C/黏著劑強度B×100
Figure 02_image001
從表1，可確認的是，在本發明之表面保護膜中，黏著劑強度A與黏著劑強度B之間的差異係0.5 gf/in或更大，且本發明之表面保護膜容易從鼓墊轉移至有機發光元件。 此外，可確認的是，在本發明之表面保護膜中，由於第二表面之高水接觸角，故鼓墊之污染低，且鼓墊層壓次數高，以及即使重複表面保護膜之附接及分離，鼓墊黏著劑強度之退化也低。
100:基底層 101:第一抗靜電層 102:基底膜 103:第二抗靜電層 200:黏著劑層 300:保護層 301:第三抗靜電層 302:保護層 303:第四抗靜電層 304:離型層 500:有機發光元件 511:背板膜 512:塑膠基板 513:薄膜電晶體 514:有機發光二極體 515:封裝層
[圖1]至[圖3] 說明根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜的結構。 [圖4] 說明其中將根據本發明之例示性具體實施例的表面保護膜附接至有機發光元件的形式。
100:基底層
101:第一抗靜電層
102:基底膜
103:第二抗靜電層
200:黏著劑層

Claims (9)

  1. 一種表面保護膜，其包含： 基底層，其依序包含第一抗靜電層、基底膜、及第二抗靜電層；及 黏著劑層，其提供於與其上提供該基底膜之該第二抗靜電層的表面相對之表面上， 其中該表面保護膜滿足下列程式1： ＜方程式1＞ (黏著劑強度A)-(黏著劑強度B)＞ 0.5 gf/in 在該表面保護膜中，當將與其上提供該基底層之該黏著劑層的表面相對之表面定義為第一表面，且將與其上提供該黏著劑層之該基底層的表面相對之表面定義為第二表面時， 黏著劑強度A係當使用2 kg滾輪將該表面保護膜之該第一表面附接至玻璃，並在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角(peel angle)將該表面保護膜從該玻璃剝離時之剝離強度，以及 黏著劑強度B係當使用2 kg滾輪將該表面保護膜之該第二表面附接至鼓墊(drum pad)，並在25℃下、以2 m/min之剝離速度、及180°之剝離角將該表面保護膜從該鼓墊剝離時之剝離強度。
  2. 如請求項1之表面保護膜，其中該第二表面之水接觸角(water contact angle)係80°或更大。
  3. 如請求項1之表面保護膜，其中該第二表面之黏著劑強度維持率(adhesive strength maintenance ratio)係90%或更大： 該第二表面之黏著劑強度維持率(%)係(黏著劑強度C)/(黏著劑強度B)×100， 黏著劑強度B係當將該表面保護膜之該第二表面以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角從鼓墊剝離時之剝離強度，以及 黏著劑強度C係當製備50個表面保護膜及1個鼓墊，將該50個表面保護膜之各者的第二表面附接至該1個鼓墊之相同位置，且當以2 m/min之剝離速度及180°之剝離角依序重複剝離該表面保護膜之過程50次時，將該第50個表面保護膜從該鼓墊剝離時之剝離強度。
  4. 如請求項1之表面保護膜，其進一步包含依序包含下列之保護層：第三抗靜電層；保護膜；及第四抗靜電層，其中該黏著劑層係提供於該保護層與該基底層之間。
  5. 如請求項4之表面保護膜，其中該保護層進一步包含離型層，其提供於與其上提供該保護膜之該第三抗靜電層的表面相對之表面上。
  6. 一種製造有機發光電子裝置之方法，該方法包含： 將請求項1至5中任一者之表面保護膜的黏著劑層附接在有機發光元件之封裝層上。
  7. 如請求項6之方法，其中將表面保護膜附接在有機發光元件的封裝層上之方法係藉由鼓式滾筒層壓法(drum roll lamination method)來進行。
  8. 如請求項6之方法，其中該有機發光元件依序包含背板、塑膠基板、薄膜電晶體、有機發光二極體、及封裝層。
  9. 如請求項6之方法，其進一步包含： 將該表面保護膜從該封裝層移除，及 將觸控螢幕面板及覆蓋窗(cover window)堆疊在該封裝層上。
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