TWI752915B - 光學構件用黏著劑層、附黏著劑層之光學構件及影像顯示裝置 - Google Patents

光學構件用黏著劑層、附黏著劑層之光學構件及影像顯示裝置 Download PDF

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Abstract

[課題]本發明之目的在於提供一種光學構件用黏著劑層，其能夠貼合經大型化、薄膜化之各種光學構件或具高低差的光學構件，並且具有光擴散機能。又，本發明之目的在於提供一種在光學構件之至少一面具有至少1層前述光學構件用黏著劑層的附黏著劑層之光學構件及一種包含前述附黏著劑層之光學構件的影像顯示裝置。 [解決手段]一種光學構件用黏著劑層，特徵在於包含至少1層厚度5~300μm之光擴散黏著劑層，該光擴散黏著劑層是由含(甲基)丙烯酸系聚合物之基底黏著劑組成物及光擴散性微粒子所形成，且黏著劑層整體的厚度為20μm以上、霧度為10~96%。

Description

光學構件用黏著劑層、附黏著劑層之光學構件及影像顯示裝置
發明領域 本發明係有關於具光擴散機能之光學構件用黏著劑層及在光學構件之至少一面具有至少1層前述光學構件用黏著劑層的附黏著劑層之光學構件。又，本發明係有關於包含前述附黏著劑層之光學構件的影像顯示裝置。
發明背景 近年來，在液晶顯示裝置等影像顯示裝置方面係要求大型化、薄膜化，而對構成影像顯示裝置的各光學構件也有同樣的需求。在利用黏著劑來將此類經大型化、薄膜化之各光學構件固定並積層時，容易在光學構件發生貼合不良的狀況(皺紋或歪曲等)，結果會有顯示部出現不良缺陷的情形。
又，前述影像顯示裝置的背光模組中一般含有擴散片以提高可視性，但有時只靠該擴散片無法確保足夠的可視性，而有隨擴散片使用具光擴散機能之黏著劑層的情形。
作為此類光擴散黏著劑，已揭示了一種光擴散黏著劑，其包含：含有基底聚合物之黏著劑、與折射率較該黏著劑低之光擴散性微粒子，且該基底聚合物含有(甲基)丙烯酸系聚合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有含芳香族環之(甲基)丙烯酸系單體作為單體單元(例如參照專利文獻1)。 先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利公開案第2014-224964號公報
發明概要 發明欲解決之課題 專利文獻1之黏著劑層雖然具有光擴散機能，但在貼合經大型化薄膜化之各種光學構件時，還是會有出現皺紋或鼓起的情形。又例如在貼合如稜鏡片般表面有高低差(凹凸)的光學構件時需要有高低差吸收性，但專利文獻1的黏著劑層在高低差吸收性這一點上並不足夠。
於是，本發明之目的在於提供一種光學構件用黏著劑層，其能夠貼合經大型化薄膜化之各種光學構件或具高低差的光學構件，並且具有光擴散機能。又，本發明之目的在於提供一種在光學構件之至少一面具有至少1層前述光學構件用黏著劑層的附黏著劑層之光學構件和一種包含前述附黏著劑層之光學構件的影像顯示裝置。 用以解決課題之手段
本案發明人等為解決前述課題而反覆精心探究，結果發現了下述透明樹脂層，遂完成本發明。
即，本發明是有關於一種光學構件用黏著劑層，特徵在於包含至少1層厚度5~300μm之光擴散黏著劑層，該光擴散黏著劑層是由含(甲基)丙烯酸系聚合物之基底黏著劑組成物及光擴散性微粒子所形成，且黏著劑層整體的厚度為20μm以上、霧度為10~96%。
前述光擴散性微粒子宜為聚矽氧樹脂微粒子。
前述光擴散性微粒子的折射率宜較前述基底黏著劑組成物的折射率更低。
前述光擴散性微粒子的體積平均粒徑宜為1~5μm。
本發明之黏著劑層可為在前述光擴散黏著劑層之至少一面貼合霧度0.01~5%之透明黏著劑層而形成，且前述光擴散黏著劑層的厚度宜為5~30μm，霧度0.01~5%之透明黏著劑層的厚度宜為50~300μm。
前述光擴散黏著劑層中前述光擴散性微粒子的含量宜為3~30重量%。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物宜含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羧基單體作為單體成分。
前述透明黏著劑層宜含有(甲基)丙烯酸系聚合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷酯、含羥基單體及含氮單體作為單體成分。
前述透明黏著劑層所含(甲基)丙烯酸系聚合物宜未含有含羧基單體作為單體成分。
又本發明係有關於一種附黏著劑層之光學構件，特徵在於光學構件之至少一面具有至少1層前述光學構件用黏著劑層。再者，本發明係有關於一種影像顯示裝置，特徵在於包含前述附黏著劑層之光學構件。 發明效果
本發明之光學構件用黏著劑層由於具有特定厚度的光擴散黏著劑層且黏著劑層整體具有特定的厚度，因此可以毫無皺紋或鼓起地積層經大型化薄膜化之各種光學構件。又，本發明之光學構件用黏著劑層由於具有特定的厚度，因此即便在貼合例如像稜鏡片這樣表面有高低差的構件時，也能順著前述高低差而毫無空隙地進行貼合。又，本發明之光學構件用黏著劑層由於具有特定的霧度，因此在光學構件用黏著劑層需要的顯示不均性(display unevenness)或耐久性方面也相當優良。使用了本發明這樣的光學構件用黏著劑層的附黏著劑層之光學構件及包含該附黏著劑層之光學構件的影像顯示裝置便具有高可靠度。
較佳實施例之詳細說明 用以實施發明之形態 本發明之光學構件用黏著劑層，特徵在於其包含至少1層厚度5~300μm之光擴散黏著劑層，且該光擴散黏著劑層是由含(甲基)丙烯酸系聚合物之基底黏著劑組成物及光擴散性微粒子所形成，而黏著劑層整體的厚度為20μm以上、霧度為10~96%。
本發明之光學構件用黏著劑層的結構沒有特別限制，只要具有至少1層厚度5~300μm之光擴散黏著劑層且黏著劑層整體厚度20μm以上即可。具體的結構雖無特別限定，但可舉例如以下的結構。
在前述光擴散黏著劑層的厚度低於20μm的情形時，可隨著該光擴散黏著劑層貼合光擴散黏著劑層以外的透明黏著劑層以使總厚度成為20μm以上，而形成本發明之光學構件用黏著劑層。此情形時，光擴散黏著劑層或其以外之透明黏著劑層可各別為1層亦可為2層以上，例如可像圖1(a)所示般，由光擴散黏著劑層2與透明黏著劑層3形成光學構件用黏著劑層1。又，亦可如圖1(b)所示在光擴散黏著劑層2的兩面形成透明黏著劑層3，亦可如圖1(c)所示將光擴散黏著劑層2與透明黏著劑層3交互積層。又，即便在前述光擴散黏著劑層的厚度為20μm以上的情形時，仍可作成和圖1(a)~(c)相同的形態，惟如圖1(d)所示，亦可僅以1層光擴散黏著劑層2作成本發明之光學構件用黏著劑層1。此外，圖1(a)~(d)係圖示光學構件用黏著劑層1的兩面貼合有分離件4的形態。
1. 光學構件用黏著劑層 本發明之光學構件用黏著劑層之黏著劑層整體的厚度為20μm以上，並以30μm以上為佳，50μm以上較佳，100μm以上更佳，超過100μm尤佳。黏著劑層整體的厚度在20μm以上時，即便作為被黏著物的光學構件是像稜鏡片這樣在其表面有高低差的構件，亦能夠順著前述高低差而毫無空隙地進行貼合，故而為宜。又，黏著劑層整體厚度的上限值並無制別限定，惟以300μm以下的程度為佳，200μm以下的程度較佳。
(1)光擴散黏著劑層 本發明之光學構件用黏著劑層所包含之光擴散黏著劑層是由含(甲基)丙烯酸系聚合物之基底黏著劑組成物及光擴散性微粒子所形成，厚度為5~300μm。
(1-1)基底黏著劑組成物 本發明所用基底黏著劑組成物包含(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以作為基底聚合物。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)包含構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)主骨架的(甲基)丙烯酸烷酯(a1)以作為單體單元。此外，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯。
前述(甲基)丙烯酸烷酯(a1)可舉如具有直鏈狀或分枝鏈狀之碳數1~18烷基之物。例如，作為前述烷基，可例示如甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、戊基、己基、環己基、庚基、2-乙基己基、異辛基、壬基、癸基、異癸基、十二基、異十四基、月桂基、十三基、十五基、十六基、十七基、十八基等。其等可單獨或組合使用。
前述(甲基)丙烯酸烷酯(a1)的摻混比例，相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)係50重量%以上為佳，50~100重量%較佳，60~100重量%更佳，70~90重量%尤佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)，以接著性及耐熱性等的改善為目的宜包含選自於由含羧基單體(a2)、含羥基單體(a3)及含氮單體(a4)構成之群組中1種以上的單體作為單體成分。
就含羧基單體(a2)而言，可無特別限制地使用具有聚合性官能基並具有羧基之物，且該聚合性官能基係(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之官能基。含羧基單體可舉例如(甲基)丙烯酸、羧乙基(甲基)丙烯酸酯、羧戊基(甲基)丙烯酸酯、伊康酸、順丁烯二酸、反丁烯二酸、巴豆酸及異巴豆酸等，其等可單獨或組合使用。伊康酸、順丁烯二酸可使用其等之酸酐。於此等當中以丙烯酸、甲基丙烯酸為佳，且尤以丙烯酸為佳。
前述含羧基單體(a2)的摻混比例，相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)係10重量%以下為佳，0.05~10重量%較佳，0.1~10重量%更佳，0.5~5重量%尤佳。
含羥基單體(a3)可無特別限制地使用具有聚合性官能基並具有羥基之物，且該聚合性官能基係(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和性雙鍵者。含羥基單體可舉例如(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸-3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸-6-羥己酯、(甲基)丙烯酸-8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸-10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸-12-羥月桂酯等(甲基)丙烯酸羥烷基酯、(甲基)丙烯酸(4-羥甲基環己基)甲酯等(甲基)丙烯酸羥烷基環烷酯。此外，可舉如羥乙基(甲基)丙烯醯胺、烯丙醇、2-羥乙基乙烯基醚、4-羥丁基乙烯基醚及二乙二醇單乙烯基醚等。其等可單獨或組合使用。其等當中以(甲基)丙烯酸羥烷酯為佳，而(甲基)丙烯酸-2-羥乙酯較佳。
前述含羥基單體(a3)的摻混比例，相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)係20重量%以下為佳，0.05~20重量%較佳，0.1~15重量%更佳，1~15重量%尤佳。
含氮單體(a4)可無特別限制地使用具有聚合性官能基以及具氮原子之官能基之物，且該聚合性官能基係(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和性雙鍵者。含氮單體(a4)可舉例如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N,N-二乙基(甲基)丙烯醯胺、N-異丙基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、(甲基)丙烯醯基嗎福林等(甲基)丙烯醯胺系單體；例如(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等末端有1級、2級或3級胺基的單體；例如丙烯腈、甲基丙烯腈等含氰基的單體；N-乙烯吡咯啶酮，N-(1-甲基乙烯)吡咯啶酮等吡咯啶酮系單體；其他如N-乙烯吡啶、N-乙烯吡啶、N-乙烯嘧啶、N-乙烯哌
Figure 105125917-A0304-12-xxxx-4
、N-乙烯吡嗪、N-乙烯吡咯、N-乙烯咪唑、N-乙烯
Figure 105125917-A0304-12-0015-1
唑、N-乙烯嗎福林等含乙烯基雜環化合物；N-乙烯乙醯胺等乙烯羧酸醯胺化合物；例如，N-環己基馬來醯亞胺、N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；例如，N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體；例如N-(甲基)丙烯醯基氧基亞甲基琥珀醯亞胺，N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺，N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等琥珀醯亞胺系單體；其他如2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸等含磺酸基的(甲基)丙烯醯胺系單體、二丙酮丙烯醯胺等等。其等當中又以含乙烯基之雜環化合物為佳，而N-乙烯吡咯啶酮較佳。
前述含氮單體(a4)的摻混比例，相對於構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總構成單體(100重量%)係20重量%以下為佳，0.05~20重量%較佳，0.1~15重量%更佳，1~15重量%尤佳。
前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)中，除了前述(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、含羧基單體(a2)、含羥基單體(a3)及含氮單體(a4)以外，以改善接著性和耐熱性等為目的可進一步利用共聚導入1種以上之共聚單體其具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵的聚合性官能基。此等共聚單體之具體例可舉例如丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、磺丙基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基之單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基之單體等。
進一步作為改質單體亦可使用醋酸乙烯酯、丙酸乙烯酯等乙烯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；四氫呋喃甲基(甲基)丙烯酸酯、氟化(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等。進一步可舉如異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。
作為上述以外的可共聚合之單體，可進一步舉如含有矽原子的矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可舉例如3-丙烯醯氧基丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯基氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。
又，前述單官能性單體以，為了調整黏著劑的凝集力，可視需要使用多官能性單體作為共聚單體。在這方面，於本發明中，單官能性單體是表示具有1個聚合性官能基的單體且所述聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵；而多官能性單體則是如後述般表示具有至少2個聚合性官能基的單體且所述聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵。
多官能性單體是具有至少2個聚合性官能基的單體且所述聚合性官能基具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等不飽和雙鍵，其可舉例如(聚)乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、(聚)丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2-乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,12-十二烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三(甲基)丙烯酸酯等多元醇與(甲基)丙烯酸的酯化合物；(甲基)丙烯酸烯丙酯、(甲基)丙烯酸乙烯酯、二乙烯苯、環氧基丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯、胺甲酸乙酯丙烯酸酯、丁基二(甲基)丙烯酸酯、己基二(甲基)丙烯酸酯等。多官能性單體可單獨使用1種或組合2種以上使用。
前述含羧基單體(a2)、含羥基單體(a3)、含氮單體(a4)以外的共聚單體之比例沒有特別限制，惟在構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的總單體中，是以10重量%以下為佳，0.1~10重量%較佳，0.1~5重量%更佳。
(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可依目的及所欲特性等經由適當組合並進行聚合而得。所得(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等中之任一者。(甲基)丙烯酸系聚合物(A)可以任意適當方法邁澎合成，例如可參考大日本圖書(股)發行、中前勝彦著「接著・黏著之化學與應用」來進行合成。
舉例來說，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)的聚合方法可採用任意的適當方法。具體例可舉如溶液聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合。
自由基聚合所使用之聚合起始劑、鏈轉移劑、乳化劑等可無特別限定地適當選擇並使用。另外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑之使用量及反應條件來控制，可因應其等之種類來適當地調整其使用量。
舉例來說，在溶液聚合等中，聚合溶劑可使用諸如乙酸乙酯、甲苯等。作為具體的溶液聚合例，反應是在氮等惰性氣體氣流下添加聚合起始劑並於通常50~70℃左右、5~30小時左右的反應條件下進行。
可用於溶液聚合等之熱聚合引發劑可舉例如：2, 2’-偶氮二異丁腈、2, 2’-偶氮二-2-甲基丁腈、2, 2’-偶氮二(2-甲基丙酸)二甲酯、4, 4’-偶氮二-4-氰基吉草酸、偶氮二異戊腈、2, 2’-偶氮二(2-甲脒基丙烷)二氫氯化物、2, 2’-偶氮二[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二氫氯化物、2, 2’-偶氮二(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2, 2’-偶氮二(N, N’-二亞甲基異丁基脒)、2, 2’-偶氮二[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純薬社製，VA-057)等之偶氮系引發劑；過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯、二第二丁基過氧二碳酸酯、第三丁基過氧新癸酸酯、第三己基過氧三甲基乙酸酯、第三丁基過氧三甲基乙酸酯、過氧化二月桂醯基、過氧化二正辛醯基、1, 1, 3, 3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、過氧化二(4-甲基苯甲醯基)、過氧化二苯甲醯基、第三丁基過氧基異丁酸酯、1, 1-二(第三己基過氧基)環己烷、第三丁基氫過氧化物、過氧化氫等之過氧化物系引發劑；過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉的組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等將過氧化物與還原劑組合而得之氧化還原系起始劑等；但不受限於此。
前述聚合起始劑可單獨使用亦可混合2種以上來使用，惟相對於100重量份之構成(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總單體成分，以1重量份左右以下為佳，0.005~1重量份左右較佳，0.02~0.5重量份左右更佳。
另舉例來說，使用諸如2,2’-偶氮二異丁腈作為聚合引發劑來製造(甲基)丙烯酸系聚合物(A)時，相對於100重量份之單體成分總量，聚合引發劑之使用量宜為0.2重量份以下左右，更宜作成0.06~0.2重量份左右。
作為鏈轉移劑，可舉例如月桂硫醇、環氧丙硫醇、巰醋酸、2-巰乙醇、硫代二醇酸、硫代乙醇酸-2-乙基己酯、2,3-二巰-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用亦可混合2種以上使用，但整體含量相對於100重量份之單體成分總量為0.1重量份左右以下。
又，作為用於乳化聚合時的乳化劑，可舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧乙烯烷基醚硫酸銨、聚氧乙烯烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑、聚氧乙烯烷基醚、聚氧乙烯烷基苯基醚、聚氧乙烯脂肪酸酯、聚氧乙烯-聚氧丙烯嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可併用2種以上。
還可以使用導入了丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基的反應性乳化劑。具體而言，有例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上均為第一工業製藥公司製)、Ade Gallia Soap SE10N(ADEKA公司製)等。
乳化劑的使用量相對於100重量份之單體成分總量宜為5重量份以下，更宜為0.3~5重量份，從聚合安定性及機械的安定性等觀點來看，尤宜為0.5~1重量份。
此外，(甲基)丙烯酸系聚合物(A)以放射線聚合來製造時，可藉由照射電子束、UV(紫外線)等放射線來聚合前述單體成分，而製得該聚合物。以電子束進行前述放射線聚合時，並不特別需要令前述單體成分含有光聚合引發劑，但以紫外線聚合來進行前述放射線聚合時，尤以可縮短聚合時間之優點等觀點來看，可令單體成分含有光聚合引發劑。光聚合引發劑可單獨使用1種，或組合2種以上使用。
光聚合引發劑並無特別限制，只要是可引發光聚合之物質即無特別限制，可使用一般採用的光聚合引發劑。舉例來說，可使用安息香醚系光聚合引發劑、苯乙酮系光聚合引發劑、α-酮醇系光聚合引發劑、芳香族磺醯氯系光聚合引發劑、光活性肟系光聚合引發劑、安息香系光聚合引發劑、二苯乙二酮系光聚合引發劑、二苯甲酮系光聚合引發劑、縮酮系光聚合引發劑、9-氧硫
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系光聚合引發劑及醯基膦氧化物系光聚合引發劑等。
具體而言，安息香醚系光聚合引發劑可舉例如安息香甲醚、安息香乙醚、安息香丙醚、安息香異丙醚、安息香異丁醚、2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙-1-酮[商品名：IRGACURE 651，BASF公司製]及大茴香醚甲醚等。苯乙酮系光聚合引發劑可舉例如1-羥基環己基苯基酮[商品名：IRGACURE 184，BASF公司製]、4-苯氧基二氯苯乙酮、4-第三丁基-二氯苯乙酮、1-[4-(2-羥基乙氧基)-苯基]-2-羥基-2-甲基-1-丙-1-酮[商品名：IRGACURE 2959，BASF公司製]、2-羥基-2-甲基-1-苯基-丙-1-酮[商品名：DAROCUR 1173，BASF公司製]、甲氧基苯乙酮等。α-酮醇系光聚合引發劑可舉例如2-甲基-2-羥基丙醯苯、1-[4-(2-羥乙基)-苯基]-2-羥基-2-甲基丙-1-酮等。芳香族磺醯氯系光聚合引發劑可舉例如2-萘磺醯氯等。光活性肟系光聚合引發劑可舉例如1-苯基-1,1-丙二酮-2-(鄰乙氧羰基)-肟等。
此外，安息香系光聚合引發劑包含諸如安息香等。二苯乙二酮系光聚合引發劑包含諸如二苯乙二酮等。二苯甲酮系光聚合引發劑包含諸如二苯甲酮、苯甲醯基安息香酸、3,3´-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、聚乙烯基二苯甲酮、α-羥基環己基苯基酮等。縮酮系光聚合引發劑包含諸如苄基二甲基縮酮等。9-氧硫
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系光聚合引發劑包含諸如9-氧硫
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、2-氯-9-氧硫
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、2-甲基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、2,4-二甲基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、異丙基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、2,4-二氯-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、2,4-二乙基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、異丙基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、2,4-二異丙基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
、十二烷基-9-氧硫
Figure 105125917-003-035-2
Figure 105125917-A0304-12-0019-3
等。
醯基膦系光聚合開始劑可與例如：雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)(2,4,4-三甲基戊基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-正丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(2-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-(1-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-第三丁基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)環己基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)辛基膦氧化物、雙(2-甲氧基苯甲醯基)(2-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2-甲氧基苯甲醯基)(1-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧基苯甲醯基)(2-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二乙氧基苯甲醯基)(1-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,6-二丁氧基苯甲醯基)(2-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,4-二甲氧基苯甲醯基)(2-甲基丙-1-基)膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)(2,4-二戊氧基苯基)膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)苄基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)苄基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基丙基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2-苯基乙基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基苄基丁基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基苄基辛基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,5-二異丙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-4-甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,5-二乙基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,3,5,6-四甲基苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二正丁氧基苯基膦氧化物、2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基膦氧化物、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)異丁基膦氧化物、2,6-二甲氧基苯甲醯基-2,4,6-三甲基苯甲醯基-正丁基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)苯基膦氧化物、雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)-2,4-二丁氧基苯基膦氧化物、1,10-雙［雙(2,4,6-三甲基苯甲醯基)膦氧化物］癸烷、三(2-甲基苯甲醯基)膦氧化物等等。
光聚合起始劑的使用量沒有特別限制，例如相對於100重量份之構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之總單體以0.01~5重量份為佳，0.05~3重量份較佳，0.05~1.5重量份更佳，0.1~1重量份尤佳。光聚合起始劑的使用量若在上述範圍內則可使聚合反應充份進行。另外，光聚合性開始劑可單獨使用1種或是組合2種以上使用。
本發明所用的(甲基)丙烯酸系聚合物(A)之重量平均分子量係以40萬~250萬為佳，60萬~220萬較佳。藉由使重量平均分子量大於40萬，可使黏著劑層之耐久性獲得滿足，並可抑制黏著劑層之凝集力變小而發生殘膠的情況。另外，重量平均分子量是指以凝膠滲透層析法(GPC)測定並經由聚苯乙烯換算所算出的值。又，放射線聚合所得之(甲基)丙烯酸系聚合物難以測定分子量。
本發明所用的基底黏著劑組成物亦可含有交聯劑。交聯劑可舉例如有機系交聯劑、多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉例如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物呈共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬可舉例如Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti。有機化合物可舉例如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物。有機化合物中可作共價鍵結或配位鍵結的原子可舉例如氧原子。其等之中係宜以異氰酸酯系交聯劑作為交聯劑。
異氰酸酯系交聯劑代表性地係指1分子中有2個以上異氰酸酯基的化合物。可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體，及該等異氰酸酯單體與三羥甲基丙烷等進行加成而成的異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，還有與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等行加成反應而成的胺甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯等等。尤佳的是聚異氰酸酯化合物，選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、及異佛酮二異氰酸酯構成之群組中之1種或從其而來的聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、及異佛酮二異氰酸酯構成之群組中之1種或從其而來的聚異氰酸酯化合物包括：六亞甲基異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基異氰酸酯、多元醇改質氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸二甲苯基二異氰酸酯，及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。
環氧系交聯劑代表性地係指1分子中有2個以上環氧基(環氧丙基)的化合物。環氧系交聯劑可與例如乙二醇二環氧丙基醚、丙二醇二環氧丙基醚、對苯二甲酸二環氧丙酯、螺甘油二環氧丙基醚、二環氧丙基胺基甲基環己烷、四環氧丙基二甲苯二胺、聚環氧丙基間二甲苯二胺等。
過氧化物可採用能夠利用加熱或照光產生自由基活性原而進行基底聚合物之交聯反應的任意適當的化合物。若考量作業性及安定性，則宜為1分鐘半衰期溫度為80℃~160℃的過氧化物，而90℃~140℃的過氧化物較佳。過氧化物的具體例可舉如：二(2-乙基己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：90.6℃)、二(4-第三丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二第二丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧異丁酸第三己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧異丁酸第三丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苄醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苄醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、第三丁基過氧異丁酸酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(第三己基過氧)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半為止的時間。因此，過氧化物之1分鐘半衰期溫度是指過氧化物的殘存量於1分鐘變成一半的溫度。有關用於在任意時間達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂(股)的「有機過氧化物目錄第9版(2003年5月)」等。
交聯劑的使用量宜相對於100重量份之(甲基)丙烯酸系聚合物(A)為0.01~20重量份，並以0.03~10重量份較佳。交聯劑的使用量低於0.01重量份時，會有黏著劑凝集力不足的傾向，而有加熱時出現發泡的狀況。若交聯劑的使用量超過20重量份，就會有耐濕性不足、易於發生剝落等狀況。
前述基底黏著劑組成物亦可含有任意的適當添加劑。添加劑可舉例如抗靜電劑、抗氧化劑、偶合劑。添加劑的種類、添加量及組合等，可視目的而作適切設定。
本發明所用之光擴散黏著劑層中基底黏著劑組成物的含量係50~99.7重量%為佳、52~97重量%較佳、70~97重量%更佳。
前述基底黏著劑組成物的折射率係1.47以上為佳、1.47~1.60較佳、1.47~1.55更佳。基底黏著劑組成物的折射率若為前述範圍，就可使其與後述光擴散性微粒子的折射率差值作成所欲的範圍。其結果是可獲得硬化後有所欲霧度值的光擴散黏著劑層，故而為宜。
(1-2)光擴散性微粒子 前述光擴散黏著劑層是在由前述基底黏著劑組成物所形成的黏著劑層中分散有光擴散性微粒子之物。前述光擴散性微粒子，在可獲得本發明效果的前提下，可使用任意的適當物質。具體例可舉如無機微粒子、高分子微粒子等，惟其等之中以高分子微粒子為宜。
前述高分子微粒子的材質可舉例如聚矽氧樹脂、甲基丙烯酸系樹脂(例如聚甲基丙烯酸甲酯)、聚苯乙烯樹脂、聚胺甲酸乙酯樹脂、三聚氰胺樹脂。該等樹脂具有對前述基底黏著劑組成物優良的分散性及與前述基底黏著劑組成物之間適當的折射率差值，故可獲得擴散性能優良的光擴散黏著劑層。其等之中又以聚矽氧樹脂、聚甲基丙烯酸甲酯尤佳。
光擴散性微粒子的形狀可為例如球形、扁平形、不規則形。光擴散性微粒子可單獨使用亦可組合2種以上來使用。
本發明所用之光擴散性微粒子的折射率宜較前述基底黏著劑組成物的折射率更低。光擴散性微粒子的折射率係1.30~1.70為佳，1.40~1.65較佳。光擴散性微粒子的折射率若為前述範圍，其與基底黏著劑組成物之間的折射率差值即得以作成所欲範圍，結果可獲得硬化後有所欲霧度值的光擴散黏著劑層，故而為宜。
光擴散性微粒子與基底黏著劑組成物之間的折射率差的絕對值係宜為大於0且0.2以下，較佳為大於0且0.15以下，更佳為0.01~0.13。
光擴散性微粒子的體積平均粒徑係以1~5μm左右為佳、2~5μm左右較佳、2~4μm左右更佳。光擴散性微粒子的體積平均粒徑若在前述範圍內，就能藉由與前述基底黏著劑組成物組合而獲得具有所欲霧度值的光擴散黏著劑層，故而為宜。此外，體積平均粒徑例如可使用超離心式自動粒度分布測定裝置來測定。
光擴散黏著劑層中的光擴散性微粒子含量並無特別限制，惟以0.3~50重量%為佳、3~48重量%較佳、3~30重量%更佳。藉由使光擴散性微粒子的摻混量為前述範圍，可獲得具有優良光擴散性能的光擴散黏著劑層。
(1-3)光擴散黏著劑層之形成方法 前述光擴散黏著劑層可例如藉由下述方法形成：將光擴散性微粒子分散於前述基底黏著劑組成物中而成的光擴散黏著劑組成物塗佈在支持體上，並將溶劑等乾燥去除。在塗佈光擴散黏著劑組成物時，亦可適當添加一種以上的溶劑。又，前述基底黏著劑組成物為活性能量線硬化型的情形時，可藉由下述方法形成光擴散黏著劑層：製作預聚物其係聚合部份的前述基底黏著劑組成物而成，使光擴散性微粒子分散在該預聚物中形成光擴散黏著劑組成物並將其塗佈於支持體上，對該塗佈層照射紫外線等活性能量線，而形成光擴散黏著劑層。又，亦可將前述光擴散黏著劑組成物直接塗佈在後述的偏光薄膜等光學構件上，形成光擴散黏著劑層。
前述光擴散黏著劑層的厚度為5~300μm，並以5~250μm為佳，50~250μm較佳，100~200μm更佳，大於100μm且200μm以下尤佳。藉由讓光擴散黏著劑層的厚度在前述範圍內，就能夠順著欲貼合材料的微小凹凸或用來提供光學機能的凹凸部進行貼合，故而為宜。又，在將透明黏著劑層貼合於光擴散黏著劑層的情形時，從光擴散黏著劑的物性影響不會對周邊構件的貼合效果造成影響此點來看，前述光擴散黏著劑層的厚度在5~100μm左右是適宜的，而5~30μm左右較佳。又，光擴散黏著劑層由2層以上構成時，所有光擴散黏著劑層的厚度合計值在前述範圍內即可。
光擴散黏著劑組成物的塗佈方法可使用各種方法。具體而言，可舉例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾塗佈、唇塗佈、利用模塗佈機等的擠壓式塗佈法等的方法。
前述加熱乾燥溫度以30℃~200℃左右為佳，40℃~180℃較佳，80℃~160℃更佳。藉由將加熱溫度設成上述範圍，可獲得具有優異黏著特性的黏著劑。乾燥時間可採用適宜且適切的時間。上述乾燥時間以5秒~20分左右為佳，30秒~10分較佳，1分~8分更佳。
在前述基底黏著劑組成物為活性能量線硬化型黏著劑的情形時，可經由照射紫外線等活性能量線來形成光擴散黏著劑層。紫外線照射可使用高壓水銀燈、低壓水銀燈、金屬鹵素燈、化學燈等。
前述支持體可使用例如經剝離處理之片材。作為經剝離處理之片材，優選使用聚矽氧剝離襯材。
在經剝離處理之片材上形成有黏著劑層的黏著片，在前述黏著劑層露出的情形時，也可在供實際使用之前以經剝離處理之片材(分離件)來保護黏著劑層。在實際使用時，前述經剝離處理之片材會被剝離。
分離件的構成材料係可舉例如塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料，網子、發泡片、金屬箔及其等之積層體等適宜的薄片體等，不過從表面平滑性優良此點來看優選使用塑膠薄膜。
前述塑膠薄膜可舉例如聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚丁二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物薄膜等。
前述分離件的厚度一般為5~200μm，宜為5~100μm左右。在前述分離件上，亦可視需要利用矽氧系、氟系、長鏈烷基系或者脂肪酸醯胺系之離型劑、矽石粉等作離型及防污處理，或進行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。特別是，藉由在前述分離件之表面適當施以矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更加提高脫離前述黏著劑層之剝離性。
所形成的光擴散黏著劑層之霧度值係10~99%為佳，10~96%較佳，20~96%更佳，40~80%尤佳。藉由令霧度值在前述範圍，可獲得所欲擴散性能並能良好抑制波紋及眩光的發生，故而為宜。光擴散黏著劑的光擴散性能可藉由調整基質(黏著劑)的構成材料以及光擴散性微粒子的構成材料、體積平均粒徑及摻混量等來作控制。
前述光擴散黏著劑層的全光線穿透率係75%以上為佳，80%以上較佳，85%以上更佳。
(2)透明黏著劑層 本發明之光學構件用黏著劑層如前所述，可含有前述光擴散黏著劑層以外的透明黏著劑層。
前述透明黏著劑層並無特別限定，可舉如由含有基底聚合物及交聯劑之黏著劑組成物所形成之物。該黏著劑組成物可作成丙烯酸系、合成橡膠系、樹膠系、聚矽氧系等黏著劑等等，惟從透明性、耐熱性等的觀點來看，宜為以(甲基)丙烯酸系聚合物作為基底聚合物的丙烯酸系黏著劑。
(甲基)丙烯酸系聚合物所含單體成分優選可使用如在前述基底黏著劑組成物所例舉之物，並宜為含有(甲基)丙烯酸烷酯(a1)、含羥基單體(a3)及含氮單體(a4)以作為單體成分的(甲基)丙烯酸系聚合物。又，前述(甲基)丙烯酸系聚合物所含單體成份宜不含有含羧基單體。各單體的摻混比例及透明黏著劑層之形成方法，可舉如和光擴散黏著劑層的情形時相同的方法。
前述透明黏著劑層的霧度並無特別限定，惟以0.01~5%為佳，0.05~5%較佳，0.1~3%更佳。藉由讓透明黏著劑層的霧度在前述範圍，霧度等光學設計會變得容易，故而為宜。
又，前述透明黏著劑層的厚度沒有特別限定，在與前述光擴散黏著劑層貼合而形成黏著劑層時整體厚度變成20μm以上即可，雖無特別限定惟以20~300μm為佳，50~300μm較佳。藉由讓透明黏著劑層的厚度在前述範圍，就可順著欲貼合材料的微小凹凸、或提供光學機能狦的凹凸部進行貼合故而為宜。
(3) 光學構件用黏著劑層 本發明之光學構件用黏著劑層如前所述，可為僅由1層光擴散黏著劑層形成，亦可由至少1層光擴散黏著劑層與至少1層透明黏著劑層形成。
本發明之光學構件用黏著劑層在對光學構件的適用上正為適宜，光學構件則如後所述。光學構件之中亦可適宜使用在增亮薄膜與偏光薄膜。
本發明之光學構件用黏著劑層整體的霧度值為10~96%，並以20~96%為佳，30~96%較佳。霧度值一旦不足10%，針對從背光及稜鏡片而來的光有不均衡的狀態，由於其無法消除光的不均衡故會有顯示不均勻的現象發生。又，在黏著劑層的霧度值超過96%時，黏著劑層需要添加大量粒子，此時黏著劑層的應力緩和性及接著性會降低而耐久性差。
2．附黏著劑層之光學構件 本發明之附黏著劑層之光學構件，特徵在於其係於光學構件之至少一面具有至少1層前述光學構件用黏著劑層。
可使用各種影像顯示裝置等在製造時所用之物作為光學構件，其種類沒有特別限制，可舉例如偏光薄膜、相位差板、增亮薄膜、或防眩片等。此外，光學構件可為偏光薄膜與相位差板積層而成之物或相位差板之積層體，偏光薄膜與增亮薄膜或防眩片之積層體等，將光學材料積層2層以上而成之物。其等之中又以增亮薄膜與偏光薄膜為宜。
一般可使用在偏光件之單面或兩面具有透明保護薄膜者作為前述偏光薄膜。
偏光件並無特別限定，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料等二色性材料並加以單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。其等之中尤其以由聚乙烯基醇系薄膜與碘等雙色性物質所構成之偏光件為佳。該等偏光件的厚度雖無特別限制，但一般而言為5~80μm左右。
將聚乙烯醇系薄膜以碘染色並單軸延伸而成的偏光件，係例如可藉由將聚乙烯醇浸漬於碘之水溶液來染色並將其延伸成原長之3~7倍而製成。亦可視需要浸漬於可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之溴化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯基醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色並一邊延伸，又亦可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸及溴化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。
又，本發明中亦可使用厚度10μm以下的薄型偏光件。從薄型化的觀點而言，以該厚度為1~7μm者為佳。這種薄型偏光件，厚度不均現象較少且可視性優異，又尺寸變化較少故耐久性優異，而且作成偏光板的厚度亦能力求薄型化，就此等觀點來看係為優選。
作為薄型之偏光件，代表性而言，可舉如日本專利公開案第昭51-069644號公報及日本專利公開案第2000-338329號公報、國際公開第2010/100917說明書、PCT/JP2010/001460說明書，或日本專利申請案第2010-269002號說明書及第2010-263692號說明書中所記載之薄型偏光膜。該等薄型偏光膜，可藉由包含將聚乙烯基醇系樹脂(以下，亦稱為PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸之步驟與染色步驟之製法來獲得。若為該製法，則即便PVA系樹脂層變薄，亦可藉由利用延伸用樹脂基材來支持而在不因延伸而產生破斷等瑕疵的情況下進行延伸。
作為前述薄型偏光膜，在包含以積層體狀態進行延伸之步驟與染色步驟的製法中，就可高倍率延伸並可提升偏光性能此點而言，宜為如國際公開第2010/100917說明書、PCT/JP2010/001460說明書、或日本專利申請案第2010-269002號說明書、日本專利申請案第2010-263692號說明書所記載般包括於硼酸水溶液中進行延伸之步驟的製法所得者，尤其宜為經由日本專利申請案第2010-269002號說明書、日本專利申請案第2010-263692號說明書所記載之包括於硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸步驟的製法所獲得者。
在前述偏光件之單面或兩面所設置的透明保護薄膜，其形成材料宜為透明性、機械強度、熱安定性、水分阻斷性、等向性等優良之物。可舉如：聚對苯二甲酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯等聚酯系聚合物；二乙醯纖維素及三乙醯纖維素等纖維素系聚合物；聚甲基丙烯酸甲酯等丙烯酸系聚合物；聚苯乙烯及丙烯腈-苯乙烯共聚物(AS樹脂)等苯乙烯系聚合物；以及聚碳酸酯系聚合物等。又，亦可列舉下述聚合物作為形成前述透明保護薄膜之聚合物之例：聚乙烯、聚丙烯、具有環狀系乃至降莰烯結構之聚烯烴、乙烯-丙烯共聚物等聚烯烴系聚合物、氯化乙烯系聚合物、尼龍及芳香族聚醯胺等醯胺系聚合物、亞胺系聚合物、碸系聚合物、聚醚碸系聚合物、聚醚醚酮系聚合物、聚伸苯硫系聚合物、乙烯醇系聚合物、氯化亞乙烯系聚合物、乙烯縮丁醛系聚合物、芳酯系聚合物、聚甲醛系聚合物、環氧系聚合物或前述聚合物之摻合物等。透明保護薄膜亦可作成丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯醯基胺甲酸乙酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂之硬化層或紫外線硬化型樹脂之硬化層而形成。
透明保護薄膜的厚度可適當決定，惟一般由強度及操作性等作業性及薄層性等觀點係為1~500μm左右。
前述偏光件與保護薄膜通常透過水系接著劑等而密著。就水系接著劑而言，可例示如異氰酸酯系接著劑、聚乙烯醇系接著劑、明膠系接著劑、乙烯基系乳膠系、水系聚胺酯、水系聚酯等。上述之外，作為偏光件與透明保護薄膜的接著劑可舉如紫外硬化型接著劑、電子束硬化型接著劑等。電子束硬化型偏光薄膜用接著劑對上述各種透明保護薄膜展現適當的接著性。又本發明所用接著劑中可令其含有金屬化合物填料。
前述透明保護薄膜之未接著偏光件的面上，可設置硬質層或者施以抗反射處理及為抗黏、擴散乃至抗眩而做的處理。
本發明之附黏著劑層之光學構件的具體使用形態之一例係示於圖2。本發明之具有光學構件用黏著劑層1的偏光薄膜10(附黏著劑層之光學構件)，可將黏著劑層面貼合在稜鏡片20之高低差面來使用。本發明之附黏著劑層之光學構件，由於具有本發明之光學構件用黏著劑層，故能夠順著前述高低差而無空隙地進行貼合。圖2中，偏光薄膜10係使用偏光件11兩面有保護薄膜12之物，但也可以是在偏光件11單面具有保護薄膜12的單面保護偏光薄膜。又，稜鏡片20代表性地具有基板22與稜鏡部21。
本發明之光學構件用黏著劑層1具備光擴散機能，故可用來取代通常設在影像顯示裝置背光側的擴散片。
3．影像影示裝置 本發明之影像顯示裝置特徵在於包含前述附黏著劑層之光學構件。本發明之影像顯示裝置為含有本發明之附黏著劑層之光學構件之物即可，其他結構可舉如和習知影像顯示裝置相同者。
本發明之影像顯示裝置由於包含前述附黏著劑層之光學構件故具有高可靠度。又，本發明之光學構件用黏著劑層具備光擴散機能，故可使用前述附黏著劑層之光學構件來代替設在背光側的擴散片，而能夠使影像顯示裝置薄膜化。 實施例
以下藉由實施例具體說明本發明，但本發明並不受此等實施例所限定。此外，各例中的份及%均為重量基準。實施例等之評價項目係如下述般測定。
製造例1(光擴散黏著劑組成物(A-1)的製造) 在配備有溫度計、攪拌機、回流冷卻管及氮氣導入管的可分離式燒瓶中，摻混作為單體成分的2-乙基己基丙烯酸酯(2EHA)70份、N-乙烯-2-吡咯啶酮(NVP)15份及2-羥乙基丙烯酸酯(HEA)15份、光聚合起始劑(商品名：IRGACURE184，BASF公司製)0.1份後，照射紫外線直至黏度(量測條件：BH粘度計No．轉子，10rpm，測定溫度30℃)變成約20Pa・s為止，獲得上述單體成分一部份已聚合的預聚物組成物。
接著，相對於100份之所得預聚物組成物摻混0.2份的異氰酸酯交聯劑(商品名：CORONATE L，三羥甲基丙烷的甲苯二異氰酸酯加成物，日本聚胺酯工業(股)製)，獲得基底黏著劑組成物(A-1)。所得基底黏著劑組成物(A-1)的折射率為1.475。
相對於100份之所得基底黏著劑組成物(A-1)，添加14份之作為光擴散性微粒子的聚矽氧樹脂微粒子(商品名：Tospearl 145，體積平均粒徑：4μm，折射率：1.43，聚矽氧樹脂系微粒子，邁圖高新材料公司製)，獲得光擴散黏著劑組成物(A-1)。
製造例2~5(光擴散黏著劑組成物(A-2)~(A-5)的製造) 對製造例1如表1所示般改變光擴散性微粒子的添加量，此外以和製造例1相同方式製造光擴散黏著劑組成物(A-2)~(A-5)。
製造例6(光擴散黏著劑組成物(A-6)的製造) 於配備有攪拌棄片、溫度計、氮氣導入管及冷卻器的4頸燒瓶中，將丁基丙烯酸酯100份、丙烯酸5份、丙烯酸羥乙酯1份及作為聚合引發劑的2,2’-偶氮雙異丁腈0.1份與醋酸乙酯100份一同置入(單體濃度50%)，邊慢慢攪拌邊導入氮氣進行氮置換後，將燒瓶內液溫保持在55℃附近進行8小時間的聚合反應，調製重量平均分子量(Mw)180萬的丙烯酸系聚合物(A-6)之溶液。
相對於上述所得之丙烯酸系聚合物(A-6)溶液的固體成分100份，添加異氰酸酯系交聯劑(商品名：CORONATE L，三羥甲基丙烷／甲苯二異氰酸酯3聚物加成物，日本聚胺酯工業(股)製)0.66份、苯甲醯基過氧化物(NYPER BMT，日本油脂(股)製)0.3份，矽烷偶合劑(商品名：KBM403，信越化學工業(股)製)0.2份，獲得基底黏著劑組成物(A-6)。
相對於所得基底黏著劑組成物(A-6)的固體成分100份，摻混作為光擴散性微粒子的聚矽氧樹脂微粒子(商品名：Tospearl 145，體積平均粒徑：4μm，折射率：1.43，聚矽氧樹脂系微粒子，邁圖高新材料公司製)26份，調製光擴散黏著劑組成物(A-6)。
製造例7(光擴散黏著劑組成物(A-7)的製造) 就製造例6如表1所示般改變其光擴散性微粒子的添加量，此外以和製造例6相同方式製造光擴散黏著劑組成物(A-7)。
製造例8~12(光擴散黏著劑組成物(A-8)~(A-12)的製造) 就製造例1如表1所示般改變其光擴散性微粒子的添加量，此外以和製造例1相同方式製造光擴散黏著劑組成物(A-8)~(A-12)。
【表1】
Figure 02_image001
實施例1(光擴散黏著劑層之製造) 在單面經聚矽氧剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRF，三菱樹脂(股)製)的剝離處理面上，塗佈製造例1所得光擴散黏著劑組成物(A-1)以使所得光擴散黏著劑層的厚度成為23μm，形成塗佈層。接著，在所形成之塗佈層的表面披覆單面經聚矽氧剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRE，三菱樹脂(股)製)以使該薄膜的剝離處理面成為塗佈層側。藉此令光擴散黏著劑組成物的塗佈層阻斷氧。對經此所得之具塗佈層的片材使用化學燈((股)東芝製)照射照度100mW／cm2 (以在約350nm具最大感度的Topcon UVR-T1來測定)的紫外線30秒，使塗佈層硬化而形成光擴散黏著劑層，製作黏著片。披覆在黏著劑層的兩面的聚酯薄膜係發揮作為剝離襯材的機能。
實施例2~12、比較例1~3、6、7 將所用之光擴散黏著劑組成物的乾燥後厚度改變為表2所記載者，此外以和實施例1相同方式製作黏著片。
實施例13 (第1層、第3層(透明黏著劑層)之製造) 使用製造例8所得光擴散黏著劑組成物(A-8)，以將得黏著劑層之厚度變成50μm的方式進行，此外以和實施例1相同方式製作透明黏著劑層用黏著片。製作2片相同之物。
(第2層(光擴散黏著劑層)之製造) 在單面經聚矽氧剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRF，三菱樹脂(股)製)的剝離處理面上，塗佈製造例7所得光擴散黏著劑組成物(A-7)以使所得光擴散黏著劑層的厚度成為23μm形成塗佈層，於155℃進行1分鐘乾燥形成光擴散黏着劑層。
將上述所得之透明黏著劑層用黏著片一邊的剝離片剝離，於上述所得之光擴散黏著劑層的兩面貼合透明黏著劑層，形成光學構件用黏著劑層。
實施例14 將所用之光擴散黏著劑組成物的乾燥後厚度改變為表2所記載者，此外以和實施例13相同方式製作黏著片。
實施例15 (第2層(光擴散黏著劑層)之製造) 在單面經聚矽氧剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRF，三菱樹脂(股)製)的剝離處理面上，塗佈製造例10所得光擴散黏著劑組成物(A-10)以使所得光擴散黏著劑層的厚度成為23μm，形成塗佈層。接著，在所形成之塗佈層的表面披覆單面經聚矽氧剝離處理之厚度38μm的聚酯薄膜(商品名：Diafoil MRE，三菱樹脂(股)製)以使該薄膜的剝離處理面成為塗佈層側。藉此令光擴散黏著劑組成物的塗佈層阻斷氧。對經此所得之具塗佈層的片材使用化學燈((股)東芝製)照射照度100mW／cm2 (以在約350nm具最大感度的Topcon UVR-T1來測定)的紫外線30秒，使塗佈層硬化而形成光擴散黏著劑層，製作黏著片。披覆在黏著劑層的兩面的聚酯薄膜係發揮作為剝離襯材的機能。
使用前述黏著劑層作為實施例13中的第2層(光擴散黏著劑層)，此外以和實施例13相同方式製作黏著片。
實施例16、17、比較例4~5 所用之擴散黏著劑組成物，除厚度改變為表2所記載外，以和實施例15相同方式製作黏著片。
針對實施例及比較例所得黏著劑層進行以下的評價。評價結果係示於表2。
＜基底黏著劑組成物之折射率＞ 利用阿貝折射率計(商品名：DR-M2，(股)ATAGO製)進行測定。
＜霧度值＞ 針對實施例及比較例所用的各光擴散黏著劑層及透明黏著劑層的霧度值、實施例及比較例所得黏著劑層的總霧度值，係利用JIS 7136規範之方法使用霧度計(商品名：HN-150，(股)村上色彩科學研究所製)進行測定。
＜貼合＞ 準備在偏光薄膜(商品名：CVT，日東電工(股)製)上貼合有增亮薄膜(商品名：DBEF-Q，3M製)的偏光薄膜。將實施例及比較例所得黏著片一邊的剝離薄膜剝離，貼合在該偏光薄膜的增亮薄膜側。再將黏著片另一邊的剝離薄膜剝離，對著有50μm或5μm之凹凸的稜鏡片以手持滾筒進行貼合，進行50℃、5atm下15分鐘的高壓釜處理。以目視確認貼合後的狀態，依以下評價基準進行評價。 ◎：即便在使用了有50μm凹凸的稜鏡片的情形時，仍能夠在沒有200μm以上氣泡產生下進行貼合。 ○：在使用了有50μm凹凸的稜鏡片的情形時有200μm以上的氣泡產生，但在使用了有5μm凹凸的稜鏡片的情形時能夠在沒有200μm以上的氣泡產生下進行貼合。 ×：在使用了有5μm凹凸的稜鏡片的情形時無法在沒有200μm以上的氣泡產生下進行貼合。
＜顯示不均＞ 將實施例及比較例所得黏著片上貼合前述偏光薄膜而成之物裁切成縱長400mm×寬250mm的尺寸，作成試樣。將該試樣於厚度0.07mm的無鹼玻璃板上以積層機進行貼合，在其相反面貼合透明附黏著劑層之偏光板以使其成為正交偏光後，在50℃5atm下進行15分鐘的高壓釜處理，製作評價試樣。然後，置於1萬燭光的背光上利用目視觀察漏光，依下述基準評價角落不均現象。 ◎：無不均現象，實用上沒有問題 ○：發生不均現象但在顯示區域僅少量出現，實用上沒有問題。 ×：發生不均現象並在顯示區域顯著出現，實用上有問題。
＜耐久性＞ 在貼合玻璃／偏光薄膜(商品名：CVT，日東電工(股)製)／增亮薄膜(商品名：DBEF-Q，3M製)／實施例及比較例所得黏著劑層／稜鏡片的狀態下，目視觀察於80℃、60℃／90%R.H環境下投入240小時後的狀態。依以下評價基準進行評價。 〇：未出現超過100μm的起泡及剝落。 ×：出現超過100μm的起泡、剝落。
＜加工性＞ 附分離件之實施例及比較例所得的黏著劑層以10cm×20cm尺寸的衝壓刀進行衝壓(punching)。以目視確認衝壓時的狀態，依以下評價基準進行評價。 ○：可毫無問題進行衝壓。 ×：試樣附著在刀上無法進行衝壓。
【表2】
Figure 02_image003
1‧‧‧光學構件用黏著劑層 2‧‧‧光擴散黏著劑層 3‧‧‧透明黏著劑層 4‧‧‧分離件 10‧‧‧偏光薄膜 11‧‧‧偏光件 12‧‧‧保護薄膜 20‧‧‧稜鏡片 21‧‧‧稜鏡部 22‧‧‧基板
圖1(a)~(d)為示意性表示本發明光學構件用黏著劑層之實施形態的剖面圖。 圖2為示意性表示本發明光學構件用黏著劑層之使用形態的剖面圖。
1‧‧‧光學構件用黏著劑層
2‧‧‧光擴散黏著劑層
3‧‧‧透明黏著劑層
4‧‧‧分離件

Claims (10)

  1. 一種光學構件用黏著劑層，其特徵在於：包含至少1層厚度5~300μm之光擴散黏著劑層，該光擴散黏著劑層是由含(甲基)丙烯酸系聚合物之基底黏著劑組成物及光擴散性微粒子所形成，於前述光擴散黏著劑層之至少一面上具有霧度0.01~5%之透明黏著劑層，前述光擴散黏著劑層的厚度為5~30μm，前述透明黏著劑層的厚度為50~300μm，並且，黏著劑層整體的厚度為20μm以上、霧度為10~96%。
  2. 如請求項1之光學構件用黏著劑層，其中前述光擴散性微粒子為聚矽氧樹脂微粒子。
  3. 如請求項1之光學構件用黏著劑層，其中前述光擴散性微粒子的折射率較前述基底黏著劑組成物的折射率更低。
  4. 如請求項1之光學構件用黏著劑層，其中前述光擴散性微粒子之體積平均粒徑為1~5μm。
  5. 如請求項1之光學構件用黏著劑層，其中前述光擴散黏著劑層中前述光擴散性微粒子的含量為3~30重量%。
  6. 如請求項1至5中任一項之光學構件用黏著劑層，其中前述(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷酯及含羧基單體作為單體成分。
  7. 如請求項1之光學構件用黏著劑層，其中前述透明黏著劑層含有(甲基)丙烯酸系聚合物，該(甲基)丙烯酸系聚合物含有(甲基)丙烯酸烷酯、含羥基單體及含氮單體作為單體成分。
  8. 如請求項7之光學構件用黏著劑層，其中前述透明黏著劑層所含(甲基)丙烯酸系聚合物並未含有含羧基單體作為單體成分。
  9. 一種附黏著劑層之光學構件，特徵在於光學構件之至少一面具有至少1層如請求項1至8中任一項之光學構件用黏著劑層。
  10. 一種影像顯示裝置，特徵在於包含如請求項9之附黏著劑層之光學構件。
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