TWI763791B

TWI763791B - 液晶面板及液晶顯示裝置

Info

Publication number: TWI763791B
Application number: TW107107429A
Authority: TW
Inventors: 中村恒三; 吉川貴博; 森本有; 加藤惠
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2017-03-06
Filing date: 2018-03-06
Publication date: 2022-05-11
Also published as: TW201837506A; CN110268310A; KR102533838B1; JPWO2018164063A1; WO2018164063A1; KR20190124699A

Abstract

本發明液晶面板具有：IPS模式之液晶單元、從前述液晶單元之視辨側起依序配置之第1光學機能層及第1偏光薄膜、與從前述液晶單元之背面側起依序配置之第2光學機能層2及第2偏光薄膜，該液晶面板之特徵在於：前述第1光學機能層及第2光學機能層中之至少任一光學機能層含有色素且霧度在0.2~2%之範圍。本發明之液晶面板不僅可達成廣色域與低反射率，同時還可滿足高對比。

Description

液晶面板及液晶顯示裝置

本發明係涉及液晶面板。該液晶面板可形成液晶顯示裝置。前述液晶面板、液晶顯示裝置可應用於各種用途上，例如亦可用於應用於液晶顯示裝置之視辨側之觸控面板等輸入裝置。前述觸控面板適宜應用於光學方式、超音波方式、靜電容方式、電阻膜方式等觸控面板。尤適宜用於靜電容方式之觸控面板。上述觸控面板並無特別限定，例如可用於行動電話、輸入板個人電腦、行動資訊終端等。

發明背景液晶顯示裝置從其影像形成方式來看，在液晶單元的兩面配置偏光元件是必要不可或缺的，且一般是貼附有偏光薄膜。將前述偏光薄膜貼附於液晶單元時，通常係使用黏著劑。又，通常為了降低光的損失，偏光薄膜與液晶單元之接著會使用黏著劑將各個材料密著。於所述情況時，一般會使用已將黏著劑以黏著劑層之形式預先設置於偏光薄膜之單面的附黏著劑層之偏光薄膜，因其具有於固定偏光薄膜時不須經過乾燥步驟等優點。

近年來，對影像顯示裝置要求亮度、鮮豔度(即廣色域化)，而有機EL顯示裝置(OLED)備受矚目，從而對液晶顯示裝置亦同樣尋求廣色域化。作為使液晶顯示裝置廣色域化之方法，舉例而言已提出有一種液晶面板，該液晶面板係透過含有於特定波長(560~610nm)之範圍中顯示出吸收極大波長的色素之黏著劑層，將偏光薄膜積層於前述液晶單元之單面或兩面上者(專利文獻1、2)。

先前技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2011-039093號公報專利文獻2：日本特開2014-092611號公報

發明概要發明欲解決之課題上述液晶面板因一般來說反射率高，故而要求降低反射率。本發明人等針對專利文獻1、2記載之液晶面板進行檢討後，發現該液晶面板不僅色域擴大還具有反射率降低之優點，但對比卻降低。

本發明之目的即提供一種液晶面板，其具有液晶單元與偏光薄膜且使用有含有色素之光學機能層，並且該液晶面板不僅可達成廣色域與低反射率，同時還可滿足高對比。並且本發明之目的還在於提供一種使用有前述液晶面板之液晶顯示裝置。

用以解決課題之手段本發明人等為解決前述課題積極努力檢討後，發現了下述具備具有特定模式之液晶單元與含有預定霧度之色素之光學機能層的偏光薄膜之液晶面板，遂而完成本發明。

即，本發明係涉及一種液晶面板，其具有： IPS模式之液晶單元；從前述液晶單元之視辨側起依序配置之第1光學機能層及第1偏光薄膜；與從前述液晶單元之背面側起依序配置之第2光學機能層及第2偏光薄膜；該液晶面板之特徵在於：前述第1光學機能層及第2光學機能層中之至少任一光學機能層含有色素且霧度在0.2~2%之範圍。

前述液晶面板中，其至少第1光學機能層宜含有色素且霧度在0.3~2%之範圍。

前述液晶面板中，前述含有色素之光學機能層之霧度宜為0.2%~1.5%。

前述液晶面板中，前述色素可使用於波長區域470~510nm及波長區域570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長者。

前述液晶面板中，前述色素可使用四氮雜卟啉系色素。

前述液晶面板宜相對於形成前述光學機能層之樹脂層的基礎聚合物100重量份，含有0.01~5重量份之前述色素。

又，本發明涉及一種液晶顯示裝置，其特徵在於：其使用有前述液晶面板。發明效果

本發明之液晶面板可於貼合液晶單元與偏光薄膜時使用含有色素之光學機能層。前述光學機能層可利用色素吸收一部分波長的光，藉以調整液晶顯示裝置整體色相，並可利用廣色域化改善鮮豔度。尤其是在波長區域470~510nm及波長區域570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長的色素，可吸收於RGB以外之波長區域(波長區域470~510nm及/或波長區域570~610nm)中的色彩表現不必要的發光，進而抑制前述不必要之發光，對廣色域化特別有效。

又，本發明之液晶面板中於液晶單元之至少單側所用光學機能層具有色素，故一般而言不僅可使液晶面板廣色域化，還可降低反射率，但色素與光學機能層之形成材料的相溶性若較差時，則光學機能層霧度會升高。而且，已知因光學機能層之霧度所致之光擴散會對液晶面板造成影響，使液晶面板的對比降低，進而使反射率上升。另一方面，亦已知霧度對液晶面板之對比所造成的影響會因液晶單元之模式而有所不同。舉例來說，已知使用VA模式之液晶單元的液晶面板其光學機能層之霧度對對比的影響大。相對於此，IPS模式之液晶單元其光學機能層之霧度對對比的影響即比VA模式小。本發明鑒於上述見解，對於即便在霧度產生的情況下對對比之影響亦較小的IPS模式液晶單元，應用一種光學機能層其使光學機能層中含有色素來產生霧度且該霧度控制在0.2~2%之範圍內，藉此，即可製得一種液晶面板(IPS模式)其不僅可達成廣色域與低反射率，同時還可滿足高對比。

又，在本發明之液晶面板中，因使用有具有如上述般之構成的液晶面板，故在色素已充分溶解之光學機能層中，霧度可變得非常小且偏光特性不會大幅減小，並且可將液晶面板本身所具有之光分佈的起伏利用微小的霧度來控制偏光方向，藉此可維持作為液晶面板之偏光度、透射率並可滿足低反射率及高對比。

用以實施發明之形態一邊參照圖式一邊說明本發明液晶面板之實施形態。圖1係顯示本發明液晶面板之一實施形態之截面圖。圖1之液晶面板具有：IPS模式之液晶單元C、從該液晶單元C之視辨側起依序配置之第1光學機能層A1及第1偏光薄膜P1、與從前述液晶單元C之背面側起依序配置之第2光學機能層A2及第2偏光薄膜P2。

以下就本發明之液晶面板之各構件予以說明。

＜液晶單元＞液晶單元C(玻璃基板/液晶層/玻璃基板之構成)可使用IPS模式之液晶單元。此外，液晶單元若為IPS型模式外之TN模式、STN模式、VA模式等時，該等液晶單元受光學機能層之霧度所帶來的影響大故而難以控制對比。

液晶單元C之液晶層可使用包含在電場不存在之狀態下平行配向之液晶分子的液晶層。液晶分子宜使用向列型液晶。液晶單元C具有於2片透明基板間包夾前述液晶層之構成。液晶單元之內或外亦可採內嵌觸控感測機能之液晶面板之形態。又，亦可於液晶單元上(視辨側之透明基板)設置彩色濾光片基板。用以形成前述透明基板之材料例如可舉玻璃或聚合物薄膜。

＜光學機能層＞本發明之光學機能層只要為樹脂層即無特別限定。前述樹脂層可舉薄膜層、黏著劑層等。前述光學機能層可由含有基礎聚合物之組成物形成。含有色素之光學機能層可由含有基礎聚合物及色素之組成物形成。本發明之前述第1光學機能層及第2光學機能層可使用薄膜層、黏著劑層等，前述第1光學機能層及第2光學機能層可為同種類光學機能層亦可為不同種類光學機能層。又，本發明之第1光學機能層及第2光學機能層可由同種類或不同種類之多層光學機能層形成。

本發明之前述第1光學機能層及第2光學機能層中之至少任一光學機能層可使用含有色素且霧度在0.2~2%之範圍者。前述第1光學機能層及第2光學機能層中之至少任一層或兩層可使用具有色素且霧度在0.2~2%之範圍者，然由滿足低反射率且高對比之觀點，宜至少第1光學機能層含有色素且霧度在0.2~2%之範圍。又，當將本發明之第1光學機能層、第2光學機能層利用同種類或不同種類之多層光學機能層形成時，係使用多層中之至少1層含有色素且霧度在0.2~2%之範圍者。

前述具有色素之光學機能層之霧度可使用控制在0.2~2%之範圍者，且前述霧度宜為0.2~1.5%。並且以0.2~1.2%為宜，更宜為0.2~1%。前述具有色素之光學機能層之霧度若小於0.2%時，則因沒有利用霧度進行微小的偏光控制，故難謂其相對於以往之對比具有較高的優勢。另一方面，前述具有色素之光學機能層之霧度若大於2%時，則無法維持液晶面板之對比。尤其是，前述含有色素之光學機能層的霧度若控制在0.2~1.5%之範圍時，則其相較於不具有色素之光學機能層，可提高霧度並能同時提升對比。

此外，本發明之前述第1光學機能層或第2光學機能層中之至少一層使用前述具有色素之光學機能層(霧度在0.2~2%之範圍)時，若另一光學機能層之霧度高則會對液晶面板之對比造成影響，故該另一光學機能層宜使用不具有色素之光學機能層或具有色素之光學機能層(惟，霧度小於0.2%)。

前述具有色素之光學機能層之霧度(0.2~2%)的調整可利用選擇色素種類、控制色素含量、光學機能層之厚度來進行。

＜色素＞本發明之光學機能層可含有之色素可使用各種色素。色素可舉例如四氮雜卟啉系、卟啉系、花青系、偶氮系、吡咯亞甲基系、方酸菁系、

系、氧雜菁系、方酸系等各種化合物。前述色素從廣色域化觀點來看，宜使用四氮雜卟啉系色素、卟啉系色素、花青系色素、方酸菁系色素、方酸系色素，尤宜使用四氮雜卟啉系色素。前述色素具體而言公開於日本專利特開2011-116818號公報等。前述色素可只使用1種，也可併用2種以上。

前述色素宜為在波長區域470~510nm及波長區域570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長者。於前述波長區域具有極大吸收波長的色素，可吸收色彩表現不必要的發光，從而抑制該發光，對廣色域化有效。於前述波長區域具有極大吸收波長的色素可適用四氮雜卟啉系色素。在波長區域570~610nm表現極大吸收波長的色素可舉例如山本化成公司製四氮雜卟啉系化合物(商品名：PD-320、PD311)、山田化學工業公司製四氮雜卟啉系化合物(商品名：FDG-007)等。另外，色素的極大吸收波長之測定，係以分光光度計(日本分光公司製V-570)來進行。

本發明之光學機能層之色素含量會依色素之吸收波長區域、吸光係数及基礎聚合物種類作調整，但通常由兼顧廣色域化與霧度之控制之觀點，相對於基礎聚合物100重量份宜為0.01~5重量份，且以0.05~3重量份為佳，0.1~1重量份更佳。尤其在使用四氮雜卟啉系色素時，以前述範圍為宜。

＜黏著劑層＞本發明之光學機能層可舉黏著劑層。前述黏著劑層可由含有黏著性之基礎聚合物的黏著劑組成物形成。黏著性之基礎聚合物種類並無特別限制，例如可舉橡膠系聚合物、(甲基)丙烯酸系聚合物、聚矽氧系聚合物、胺甲酸乙酯系聚合物、乙烯基烷基醚系聚合物、聚乙烯醇系聚合物、聚乙烯吡咯啶酮系聚合物、聚丙烯醯胺系聚合物、纖維素系聚合物等各種聚合物。

本發明之黏著劑組成物係以黏著性之基礎聚合物為主成分來含有。主成分係指黏著劑組成物所含之總固體成分中含量比率最多的成分，舉例而言係指黏著劑組成物所含之總固體成分中佔超過50重量%之成分，進而指佔超過70重量%之成分。

該等黏著性之基礎聚合物中，適宜使用光學透明性佳、可展現適宜濕潤性、凝聚性與接著性之黏著特性，並且耐候性及耐熱性等優異者。可展現所述特徴之物可適宜使用(甲基)丙烯酸系聚合物。以下，針對黏著劑層之形成材料、亦即以將含有(甲基)丙烯酸烷基酯作為單體單元的(甲基)丙烯酸系聚合物作為基礎聚合物的丙烯酸系黏著劑予以說明。

＜(甲基)丙烯酸系聚合物＞前述(甲基)丙烯酸系聚合物通常含有以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分作為單體單元。另，(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酯，本發明之(甲基)亦為同意。

構成前述(甲基)丙烯酸系聚合物之主骨架的(甲基)丙烯酸烷基酯，可以例示直鏈狀或支鏈狀之烷基的碳數1~18者。該等可單獨使用或可組合使用。該等烷基的平均碳數宜為3~9。

又，由黏著特性、耐久性、相位差之調整、折射率之調整等觀點來看，可採用如(甲基)丙烯酸苯氧乙酯、(甲基)丙烯酸苄酯等含有芳香環之(甲基)丙烯酸烷基酯。

為了改善接著性及耐熱性，可於前述(甲基)丙烯酸系聚合物之中，藉由共聚來導入1種以上具有(甲基)丙烯醯基或乙烯基等具不飽和雙鍵之聚合性官能基的共聚單體。這類的共聚單體之具體例可舉如(甲基)丙烯酸2-羥乙酯、(甲基)丙烯酸3-羥丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸6-羥己酯、(甲基)丙烯酸8-羥辛酯、(甲基)丙烯酸10-羥癸酯、(甲基)丙烯酸12-羥月桂酯及(4-羥甲基環己基)-甲基丙烯酸酯等含羥基單體；(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羧乙酯、(甲基)丙烯酸羧戊酯、伊康酸、馬來酸、延胡索酸、巴豆酸等含羧基單體；馬來酸酐、伊康酸酐等含酸酐基單體；丙烯酸之己內酯加成物；苯乙烯磺酸或烯丙基磺酸、2-(甲基)丙烯醯胺-2-甲基丙磺酸、(甲基)丙烯醯胺丙磺酸、(甲基)丙烯酸磺丙酯、(甲基)丙烯醯氧基萘磺酸等含磺酸基單體；2-羥乙基丙烯醯基磷酸酯等含磷酸基單體等。

又，作為改質目的之單體例亦可舉如(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺或N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲丙烷(甲基)丙烯醯胺等(N-取代)醯胺系單體；(甲基)丙烯酸胺乙酯、(甲基)丙烯酸-N,N-二甲基胺乙酯、(甲基)丙烯酸三級丁基胺乙酯等(甲基)丙烯酸烷基胺基烷基酯系單體；(甲基)丙烯酸甲氧乙酯、(甲基)丙烯酸乙氧乙酯等(甲基)丙烯酸烷氧基烷基酯系單體；N-(甲基)丙烯醯氧基亞甲基琥珀醯亞胺或N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺、N-丙烯醯基

啉等琥珀醯亞胺系單體；N-環己基馬來醯亞胺或N-異丙基馬來醯亞胺、N-月桂基馬來醯亞胺或N-苯基馬來醯亞胺等馬來醯亞胺系單體；N-甲基伊康醯亞胺、N-乙基伊康醯亞胺、N-丁基伊康醯亞胺、N-辛基伊康醯亞胺、N-2-乙基己基伊康醯亞胺、N-環己基伊康醯亞胺、N-月桂基伊康醯亞胺等伊康醯亞胺系單體等等。

進一步作為改質單體亦可使用乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基吡咯啶酮、甲基乙烯基吡咯啶酮、乙烯基吡啶、乙烯基哌啶酮、乙烯基嘧啶、乙烯基哌

、乙烯基吡

、乙烯基吡咯、乙烯基咪唑、乙烯基

唑、乙烯基

啉、N-乙烯基羧酸醯胺類、苯乙烯、α-甲基苯乙烯、N-乙烯基己內醯胺等乙烯系單體；丙烯腈、甲基丙烯腈等氰基丙烯酸酯系單體；(甲基)丙烯酸環氧丙酯等含環氧基之丙烯酸系單體；聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基乙二醇(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯等二醇系丙烯酸酯單體；(甲基)丙烯酸四氫糠酯、氟(甲基)丙烯酸酯、聚矽氧(甲基)丙烯酸酯或2-甲氧基乙基丙烯酸酯等丙烯酸酯系單體等等。更可列舉異戊二烯、丁二烯、異丁烯、乙烯基醚等。

此外，上述以外之可共聚單體尚可舉如含有矽原子之矽烷系單體等。作為矽烷系單體，可列舉例如3-丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、4-乙烯基丁基三甲氧基矽烷、4-乙烯基丁基三乙氧基矽烷、8-乙烯基辛基三甲氧基矽烷、8-乙烯基辛基三乙氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三甲氧基矽烷、10-甲基丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷、10-丙烯醯氧癸基三乙氧基矽烷等。

又，作為共聚單體，也可使用三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、雙酚A二環氧丙基醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲丙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己內酯改質二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸與多元醇之酯化物等的具有2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等不飽和雙鍵之多官能性單體，或在聚酯、環氧、胺甲酸乙酯等的骨架上附加2個以上(甲基)丙烯醯基、乙烯基等之不飽和雙鍵作為與單體成分相同的官能基的聚酯(甲基)丙烯酸酯、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。

前述(甲基)丙烯酸系聚合物在總構成單體的重量比率中係以(甲基)丙烯酸烷基酯為主成分，而(甲基)丙烯酸系聚合物中之前述共聚單體之比率並無特別限制，但前述共聚單體之比率在總構成單體的重量比率中宜為0~20%左右、0.1~15%左右、更宜為0.1~10%左右。

且在該等共聚單體當中，由接著性、耐久性等觀點來看，又宜使用含羥基之單體、含羧基之單體。可併用含羥基之單體及含羧基之單體。該等共聚單體在黏著劑組成物含有交聯劑時會成為其與交聯劑的反應點。由於含羥基之單體、含羧基之單體等在分子間與交聯劑之反應性佳，故為了提升所獲得之黏著劑層的凝聚性及耐熱性，宜使用該等單體。以重工性之觀點，含羥基之單體較為理想，而以可兼具耐久性與重工性之觀點，含羧基之單體較為理想。

當含有含羥基之單體作為前述共聚單體時，其比率以0.01~15重量%為宜，以0.03~10重量%為佳，以0.05~7重量%更佳。當含有含羧基之單體作為前述共聚單體時，其比率以0.05~10重量%為宜，以0.1~8重量%為佳，以0.2~6重量%更佳。

本發明之(甲基)丙烯酸系聚合物通常是使用重量平均分子量為50萬~300萬之範圍者。若考慮耐久性尤其是耐熱性，宜使用重量平均分子量為70萬~270萬之物。更以80萬~250萬為宜。重量平均分子量若小於50萬，在耐熱性觀點來看不宜。又，重量平均分子量若變得大於300萬，就需要大量的稀釋溶劑以調整成塗佈所需黏度而會拉高成本故並不適宜。另，重量平均分子量係指以GPC(凝膠滲透層析法；Gel Permeation Chromatography)測定且以聚苯乙烯換算所算出之值。

所述(甲基)丙烯酸系聚合物之製造，可適當選擇溶液聚合、UV聚合等放射線聚合、塊狀聚合、乳化聚合、各種自由基聚合等公知之製造方法。又，所得(甲基)丙烯酸系聚合物可為無規共聚物、嵌段共聚物、接枝共聚物等任一者。

另，在溶液聚合中，聚合溶劑可使用例如乙酸乙酯、甲苯等。作為溶液聚合之具體例，反應可在氮等惰性氣體氣流下添加聚合引發劑，並通常在50~70℃左右、5~30小時左右之反應條件下進行。

用於自由基聚合之聚合引發劑、鏈轉移劑、乳化劑等並無特別限定，可適當選用。此外，(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量可藉由聚合引發劑、鏈轉移劑的使用量及反應條件來控制，並可因應其等之種類來適當地調整其使用量。

作為自由基聚合引發劑，可列舉例如2,2’-偶氮雙異丁腈、2,2’-偶氮雙(2-脒基丙烷)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(5-甲基-2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二硫酸鹽、2,2’-偶氮雙(N,N’-二亞甲基異丁基脒)、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物(和光純藥公司製，VA-057)等之偶氮系引發劑、過硫酸鉀、過硫酸銨等之過硫酸鹽、二(2-乙基己基)過氧化二碳酸酯、二(4-三級丁基環己基)過氧化二碳酸酯、二-二級丁基過氧化二碳酸酯、過氧化新癸酸三級丁酯、過氧化三甲基乙酸三級己酯、過氧化三甲基乙酸三級丁酯、二月桂醯基過氧化物、二-正辛醯基過氧化物、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物、二苯甲醯基過氧化物、過異丁酸三級丁酯、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷、三級丁基過氧化氫、過氧化氫等的過氧化物系引發劑、過硫酸鹽與亞硫酸氫鈉之組合、過氧化物與抗壞血酸鈉的組合等過氧化物與還原劑組合而成之氧化還原系引發劑等，但並非受該等所限定。

前述自由基聚合引發劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於100重量份之單體，宜為0.005~1重量份左右，更宜為0.02~0.5重量份左右。

作為鏈轉移劑，可列舉例如月桂基硫醇、環氧丙基硫醇、巰乙酸、2-巰基乙醇、硫代乙醇酸、硫代乙醇酸2-乙基己酯、2,3-二巰基-1-丙醇等。鏈轉移劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於單體成分的總量100重量份，為0.1重量份左右以下。

又，作為用於進行乳化聚合時的乳化劑，可列舉例如月桂基硫酸鈉、月桂基硫酸銨、十二基苯磺酸鈉、聚氧伸乙基烷基醚硫酸銨、聚氧伸乙基烷基苯基醚硫酸鈉等之陰離子系乳化劑，聚氧伸乙基烷基醚、聚氧伸乙基烷基苯基醚、聚氧伸乙基脂肪酸酯、聚氧伸乙基-聚氧伸丙基嵌段聚合物等之非離子系乳化劑等。該等乳化劑可單獨使用亦可將2種以上併用。

並且，以反應性乳化劑來說，導入丙烯基、烯丙基醚基等自由基聚合性官能基之乳化劑，具體而言可舉例如Aqualon HS-10、HS-20、KH-10、BC-05、BC-10、BC-20(以上皆為第一工業製藥公司製)、ADEKA REASOAP SE10N(旭電化工公司製)等。由於反應性乳化劑在聚合後會組入聚合物鏈，故耐水性良好而為佳。乳化劑的使用量相對於單體成分總量100重量份為0.3~5重量份，而由聚合穩定性及機械穩定性來看宜為0.5~1重量份。

＜交聯劑＞並且，本發明中，可於用以形成黏著劑層的黏著劑組成物中含有交聯劑。作為交聯劑，可使用有機系交聯劑或多官能性金屬螯合物。有機系交聯劑可舉出如異氰酸酯系交聯劑、過氧化物系交聯劑、環氧系交聯劑、亞胺系交聯劑等。多官能性金屬螯合物是多價金屬與有機化合物共價鍵結或配位鍵結之物。多價金屬原子可列舉Al、Cr、Zr、Co、Cu、Fe、Ni、V、Zn、In、Ca、Mg、Mn、Y、Ce、Sr、Ba、Mo、La、Sn、Ti等。有機化合物中可共價鍵結或配位鍵結之原子可舉如氧原子等，有機化合物則可舉如烷基酯、醇化合物、羧酸化合物、醚化合物、酮化合物等。

異氰酸酯系交聯劑之化合物可舉例如甲苯二異氰酸酯、氯苯二異氰酸酯、四亞甲基二異氰酸酯、伸二甲苯基二異氰酸酯、二苯甲烷二異氰酸酯、經氫化之二苯甲烷二異氰酸酯等異氰酸酯單體，及該等異氰酸酯單體與三羥甲丙烷等進行加成而成的異氰酸酯化合物或三聚異氰酸酯化物、縮二脲型化合物，還有與聚醚多元醇或聚酯多元醇、丙烯酸多元醇、聚丁二烯多元醇、聚異戊二烯多元醇等行加成反應而成的胺甲酸乙酯預聚物型異氰酸酯等等。尤佳為聚異氰酸酯化合物，且為選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物。在此，選自於由六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及異佛酮二異氰酸酯所構成群組中之1種或源自於其的聚異氰酸酯化合物包括：六亞甲基二異氰酸酯、氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、異佛酮二異氰酸酯、多元醇改質六亞甲基二異氰酸酯、多元醇改質氫化伸二甲苯基二異氰酸酯、三聚物型氫化伸二甲苯基二異氰酸酯及多元醇改質異佛酮二異氰酸酯等。所例示之聚異氰酸酯化合物與羥基之反應因尤能使聚合物中所含之酸、鹼基如觸媒般的迅速進行，故特別有助於加速交聯，因而較為理想。

過氧化物只要是經加熱或光照射會產生自由基活性種而使黏著劑組成物之基礎聚合物進行交聯者即可適當使用，但考慮到作業性及穩定性，宜使用1分鐘半衰期溫度在80℃~160℃之過氧化物，且較宜使用在90℃~140℃之過氧化物。

前述過氧化物可舉如二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、過氧二碳酸二-二級丁酯(1分鐘半衰期溫度：92.4℃)、過氧新癸酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：103.5℃)、過氧化三甲基乙酸三級己酯(1分鐘半衰期溫度：109.1℃)、過氧化三甲基乙酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：110.3℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二正辛醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：117.4℃)、1,1,3,3-四甲基丁基過氧基-2-乙基己酸酯(1分鐘半衰期溫度：124.3℃)、二(4-甲基苯甲醯基)過氧化物(1分鐘半衰期溫度：128.2℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)、過異丁酸三級丁酯(1分鐘半衰期溫度：136.1℃)、1,1-二(三級己基過氧基)環己烷(1分鐘半衰期溫度：149.2℃)等。其中，尤從交聯反應效率優異之觀點來看，以二(4-三級丁基環己基)過氧二碳酸酯(1分鐘半衰期溫度：92.1℃)、二月桂醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：116.4℃)、二苯甲醯基過氧化物(1分鐘半衰期溫度：130.0℃)等適於使用。

此外，過氧化物之半衰期係表示過氧化物之分解速度的指標，意指過氧化物之殘存量變成一半時的時間。有關用以在任意時間達半衰期的分解溫度、及在任意溫度下的半衰期時間等，係記載於製造商目錄等之中，例如記載於日本油脂股份有限公司的「有機過氧化物型錄第9版(2003年5月)」等。

黏著劑組成物中，相對於(甲基)丙烯酸系聚合物等之基礎聚合物100重量份，前述交聯劑之使用量宜為20重量份以下，更宜為0.01~20重量份，又更宜為0.03~10重量份。另，若前述交聯劑多於20重量份，耐濕性將不足，從而容易在可靠性試驗等中發生剝離。

並且，本發明之用以形成黏著劑層的黏著劑組成物可含有矽烷耦合劑。藉由使用矽烷耦合劑，可提高耐久性。作為矽烷耦合劑，具體而言可舉例如3-環氧丙氧基丙基三甲氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二乙氧基矽烷、2-(3-4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等含環氧基之矽烷耦合劑；3-胺丙基三甲氧基矽烷、N-2-(胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、3-三乙氧基矽基-N-(1,3-二甲基亞丁基)丙胺、N-苯基-γ-胺丙基三甲氧基矽烷等含胺基之矽烷耦合劑；3-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、3-甲基丙烯醯氧丙基三乙氧基矽烷等含(甲基)丙烯醯基之矽烷耦合劑；3-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷等含異氰酸酯基之矽烷耦合劑等。

前述矽烷耦合劑可單獨使用，亦可將2種以上混合使用，但整體含量相對於前述(甲基)丙烯酸系聚合物等之基礎聚合物100重量份，前述矽烷耦合劑宜為0.001~5重量份，較宜為0.01~1重量份，更宜為0.02~1重量份，進一步更以0.05~0.6重量份為佳。此為可提高耐久性，並適度保持液晶單元等對光學構件之接著力的量。

並且，本發明中形成黏著劑層之黏著劑組成物中可摻混聚醚改質聚矽氧。聚醚改質聚矽氧舉例而言可使用公開於日本專利特開2010-275522號公報之物。

本發明中，形成黏著劑層之黏著劑組成物中可進一步含有其他公知之添加劑，舉例而言可因應使用用途適當添加著色劑、顏料等粉體，染料、界面活性劑、可塑劑、增黏劑、表面潤滑劑、調平劑、軟化劑、抗老化劑、抗氧化劑、光穩定劑、紫外線吸收劑、聚合抑制劑、無機或有機填充劑、金屬粉、粒子狀、箔狀物等。又，在可控制的範圍內，也可採用添加還原劑的氧化還原系。

雖是利用前述黏著劑組成物來形成黏著劑層，但在形成黏著劑層時，宜調整交聯劑的添加量，並充分考慮交聯處理溫度及交聯處理時間之影響。

交聯處理溫度與交聯處理時間可依據所使用的交聯劑而調整。交聯處理溫度宜為170℃以下。

又，所述交聯處理可以黏著劑層的乾燥步驟時之溫度實行，也可以在乾燥步驟後另外設置交聯處理步驟而實行。

又，關於交聯處理時間，可考慮生產性與作業性進行設定，但通常為0.2~20分鐘左右，宜為0.5~10分鐘左右。

形成黏著劑層之方法，舉例而言可採用：將前述黏著劑組成物塗佈於經剝離處理之分離件等，並將聚合溶劑等乾燥去除而形成黏著劑層後，將其轉印至偏光薄膜上之方法；或者將前述黏著劑組成物塗佈於偏光薄膜，並將聚合溶劑等乾燥去除而於偏光薄膜上形成黏著劑層之方法等來製作。另，於塗佈黏著劑時可適度地另外添加聚合溶劑以外之一種以上溶劑。

經剝離處理之分離件宜使用聚矽氧剝離襯材。於所述襯材上塗佈本發明之接著劑組成物並使其乾燥而形成黏著劑層的步驟中，使黏著劑乾燥之方法可視目的採用適宜且適切的方法。宜使用將上述塗布膜進行過熱乾燥之方法。加熱乾燥溫度宜為40℃~200℃，更宜為50℃~180℃，尤宜為70℃~170℃。將加熱溫度設定為上述範圍，可獲得具有優異黏著特性之黏著劑。

乾燥時間可適當採用適宜的時間。上述乾燥時間宜為5秒~20分鐘，更宜為5秒~10分鐘，尤宜為10秒~5分鐘。

又，可於偏光薄膜表面形成錨固層、或施行電暈處理、電漿處理等之各種易接著處理後形成黏著劑層。又，亦可對黏著劑層表面施行易接著處理。

前述黏著劑層之形成方法可採用各種方法。具體而言，可舉出例如輥塗佈、接觸輥塗佈、凹版塗佈、逆塗佈、輥刷、噴塗佈、浸漬輥塗佈、棒塗佈、刮刀塗佈、空氣刮刀塗佈、簾式塗佈、唇塗佈、利用模塗機等的擠壓式塗佈法等方法。

前述黏著劑層的厚度無特別限制，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。由調整該黏著劑層之霧度來看，前述含有色素之黏著劑層之厚度宜為30μm以下。前述黏著劑層之厚度宜為28μm以下，且以23μm以下為佳。

當前述黏著劑層露出時，也可利用經剝離處理的片材(分離件)保護黏著劑層直到可供實際應用前。

＜薄膜層＞又，本發明之光學機能層可舉薄膜層，且前述薄膜層可由含有薄膜形成用之基礎聚合物之組成物形成。用來形成薄膜層之基礎聚合物的材料可舉例與後述用以構成透明保護薄膜之材料相同之材料。尤其前述材料宜使用三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)等。薄膜層可適宜使用接著劑、黏著劑等來應用於偏光薄膜。

形成含有色素之薄膜層的方法可採用各種方法。例如於使前述樹脂材料顆粒溶解於溶劑時，可混合色素調製出組成物後，將該組成物進行澆鑄或擠製來製造薄膜層。此時，可以適宜厚度成形薄膜層。調製前述組成物時可適宜摻混添加劑。

前述薄膜層之厚度並無特別限制，與黏著劑層同樣，例如為1~100μm左右。宜為2~50μm，較宜為2~40μm，更宜為5~35μm。前述分離件亦可應用於薄膜層。

前述分離件之構成材料可舉例如聚乙烯、聚丙烯、聚對苯二甲酸乙二酯及聚酯薄膜等塑膠薄膜、紙、布、不織布等多孔質材料、網狀物、發泡片、金屬箔及其等之積層體等之適當薄片體等，但從表面平滑性優異之觀點來看，適宜使用塑膠薄膜。

該塑膠薄膜只要為可保護前述光學機能層(尤為黏著劑層)之薄膜即無特別限定，可舉例如聚乙烯醇薄膜、聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、聚丁烯薄膜、聚戊二烯薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚氯乙烯薄膜、氯乙烯共聚物薄膜、聚對苯二甲酸乙二酯薄膜、聚對苯二甲酸丁二酯薄膜、聚胺甲酸乙酯薄膜、乙烯-乙酸乙酯共聚物薄膜等。

前述分離件的厚度通常為5~200μm，並宜為5~100μm左右。對前述分離件亦可視需要進行利用聚矽氧系、氟系、長鏈烷基系或脂肪酸醯胺系脫模劑、二氧化矽粉等實行脫模及防污處理，及施行塗佈型、捏合型、蒸鍍型等抗靜電處理。尤其，藉由對前述分離件之表面適當實施聚矽氧處理、長鏈烷基處理、氟處理等剝離處理，可更提高自前述光學機能層(尤為黏著劑層)剝離之剝離性。

此外，上述光學機能層為黏著劑層時，該黏著劑層可用於貼合於液晶單元之時，亦可以事先於偏光薄膜設置有黏著劑層之附黏著劑層之偏光薄膜作使用。在附黏著劑層之偏光薄膜的製作中所使用之經剝離處理的片材，可直接作為附黏著劑層之偏光薄膜的分離件使用，而可在製程方面簡略化。

＜偏光薄膜＞本發明之第1偏光薄膜、第2偏光薄膜可使用於前述偏光件單面或兩面具有透明保護薄膜者。

前述偏光件並無特別限制，可使用各種偏光件。作為偏光件，可舉如使聚乙烯醇系薄膜、部分縮甲醛化聚乙烯醇系薄膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化薄膜等親水性高分子薄膜吸附碘或二色性染料之二色性物質並進行單軸延伸者，以及聚乙烯醇之脫水處理物或聚氯乙烯之脫鹽酸處理物等聚烯系配向薄膜等。該等之中以由聚乙烯醇系薄膜與碘等的二色性物質構成之偏光件較適宜。該等偏光件之厚度無特別限制，一般在80μm左右以下。

將聚乙烯醇系薄膜用碘染色並經單軸延伸的偏光件可藉由例如將聚乙烯醇系薄膜浸漬於碘的水溶液中來進行染色，並延伸成原長的3~7倍來製成。亦可視需要浸漬於亦可含有硼酸或硫酸鋅、氯化鋅等之碘化鉀等的水溶液中。進一步亦可視需要在染色前將聚乙烯醇系薄膜浸漬於水中進行水洗。藉由水洗聚乙烯醇系薄膜，可洗淨聚乙烯醇系薄膜表面的污垢及抗結塊劑，除此之外也有使聚乙烯醇系薄膜膨潤從而防止染色參差等不均的效果。延伸可於以碘染色後進行，亦可一邊染色一邊延伸，又或可於延伸後以碘染色。亦可在硼酸或碘化鉀等之水溶液中或水浴中進行延伸。

又，偏光件可使用厚度10μm以下的薄型偏光件。從薄型化觀點來說，該厚度在1~7μm為宜。這種薄型偏光件因厚度參差較少，視辨性較佳，且尺寸變化較少故耐久性優異，而且在作為偏光薄膜的厚度上亦能力求薄型化，就此等觀點來看較為理想。

薄型偏光件代表性地可列舉記載於日本專利特開昭51-069644號公報、或日本專利特開2000-338329號公報、WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460號的說明書、或日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書的薄型偏光膜。該等薄型偏光膜可藉由包含有將聚乙烯醇系樹脂(以下，也稱PVA系樹脂)層與延伸用樹脂基材在積層體的狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法製得。若為該製法，則即使PVA系樹脂層很薄，因其被延伸用樹脂基材支持著，故可在不因延伸造成斷裂等不良狀況下延伸。

作為前述薄型偏光膜，在包含有在積層體之狀態下延伸的步驟與染色的步驟之製法中，就可高倍率地延伸來提高偏光性能之觀點來看，較理想的是利用如WO2010/100917號公報手冊、PCT/JP2010/001460之說明書、或是日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸之步驟的製法所製得者，特別理想的是利用如日本專利特願2010-269002號說明書或日本專利特願2010-263692號說明書中所記載之包含有在硼酸水溶液中延伸前進行輔助性空中延伸之步驟的製法所製得者。

作為構成透明保護薄膜的材料，可使用例如透明性、機械強度、熱穩定性、抗濕性、等向同性等優異之熱可塑性樹脂。作為該種熱可塑性樹脂之具體例，可舉如三乙醯纖維素等纖維素樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、環狀聚烯烴樹脂(降莰烯系樹脂)、聚芳酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂及其等之混合物。此外，在偏光件的單面，透明保護薄膜是藉由接著劑層而貼合，而在另一面，透明保護薄膜可使用(甲基)丙烯酸系、胺甲酸乙酯系、丙烯酸胺甲酸乙酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化性樹脂或紫外線硬化型樹脂。透明保護薄膜中亦可含有1種以上任意的適當添加劑。添加劑可舉如紫外線吸收劑、抗氧化劑、滑劑、可塑劑、脫模劑、抗著色劑、阻燃劑、成核劑、抗靜電劑、顏料、著色劑等。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量宜為50~100重量%，較佳為50~99重量%，更佳為60~98重量%，特佳為70~97重量%。透明保護薄膜中之上述熱可塑性樹脂含量在50重量%以下時，會有無法充分發揮熱可塑性樹脂原有的高透明性等之虞。

透明保護薄膜之厚度並無特別限制，例如為10~90μm左右。宜為15~60μm，更宜為20~50μm。

前述透明保護薄膜之不接著偏光件的面上，可設置硬塗層、抗反射層、抗黏著層、擴散層乃至防眩層等機能層(表面層)。

用於前述偏光件與透明保護薄膜的貼合之接著劑只要在光學上是透明的，則可無特別限制地使用水系、溶劑系、熱熔膠系、自由基硬化型、陽離子硬化型之各種形態的接著劑，但水系接著劑或自由基硬化型接著劑較適宜。

＜液晶面板＞本發明之液晶面板如前述，具有：IPS模式之液晶單元、從該液晶單元之視辨側起依序配置之第1光學機能層及第1偏光薄膜、與從該液晶單元之背面側起依序配置之第2光學機能層及第2偏光薄膜。液晶面板之形成，除了前述偏光薄膜之外，亦可適用其他光學層。所述光學層並無特別限定，但舉例而言可於液晶單元之視辨側及/或背面側使用1層或2層以上之諸如反射板、半透射板、相位差板(包含1/2及1/4等波長板)、視角補償薄膜及亮度提升薄膜等會被使用於液晶面板之形成的光學層。

＜液晶顯示裝置＞液晶顯示裝置係使用上述液晶面板，並視需要適當組裝照明系統等構成零件並組入驅動電路等來形成。此外，於形成液晶顯示裝置時，可在適當位置上配置1層或2層以上之諸如擴散板、防眩層、抗反射膜、保護板、稜鏡陣列、透鏡陣列片材、光擴散板、背光件等適當零件。又，可形成諸如於照明系統中使用背光件或反射板者等適當之液晶顯示裝置。實施例

以下，以實施例來具體說明本發明，惟本發明不受該等實施例限定。至於，各例中之份及%皆為重量基準。以下，未特別規定之室溫放置條件全部為23℃且65%RH。

＜(甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量的測定＞ (甲基)丙烯酸系聚合物之重量平均分子量(Mw)是利用GPC(凝膠滲透層析法)來測定。針對Mw/Mn亦同樣進行測定。・分析裝置：Tosoh(東曹)公司製，HLC-8120GPC ・管柱：Tosoh(東曹)公司製、G7000H_XL +GMH_XL +GMH_XL ・管柱尺寸：各7.8mmφ×30cm 計90cm ・管柱溫度：40℃ ．流量：0.8mL/min ・注入量：100μL ・溶析液：四氫呋喃・檢測器：示差折射計(RI) ・標準試料：聚苯乙烯

比較例1 ＜偏光薄膜之製作＞為了製作薄型偏光層，首先將非晶性PET基材上成膜有厚9μm之PVA層的積層體，在延伸溫度130℃下利用空中輔助延伸生成延伸積層體，接著將延伸積層體利用染色生成著色積層體後，在延伸溫度65度下利用硼酸水中延伸將著色積層體與非晶性PET基材一體地進行延伸，以使總延伸倍率成為5.94倍，而生成出包含厚4μm之PVA層的光學薄膜積層體。而可生成包含用以構成高功能偏光層之厚度4μm之PVA層的光學薄膜積層體，該光學薄膜積層體之成膜於非晶性PET基材之PVA層的PVA分子經所述2段延伸而高度配向，且藉染色而吸附的碘以多碘離子錯合物之形式於一方向高度配向。並且，一邊於該光學薄膜積層體之偏光層表面塗佈聚乙烯醇系接著劑一邊貼合經皂化處理過之厚40μm的丙烯酸樹脂薄膜後，剝離非晶性PET基材而製出使用有薄型偏光件之偏光薄膜。並將其稱為薄型偏光薄膜。

＜(甲基)丙烯酸系聚合物之調製＞將含有100份之丙烯酸丁酯、0.01份之丙烯酸2-羥乙酯以及5份之丙烯酸的單體混合物饋入具備冷卻管、氮導入管、溫度計及攪拌裝置之反應容器中。並且，相對於100份之前述單體混合物，將作為聚合引發劑之0.1份之2,2’-偶氮雙異丁腈與100份之乙酸乙酯一同饋入，並一邊緩慢攪拌一邊將氮氣導入以進行氮置換後，使燒瓶內之液溫保持於55℃附近進行8小時之聚合反應，調製出重量平均分子量(Mw)180萬、Mw/Mn＝4.1之丙烯酸系聚合物的溶液(固體成分濃度30重量%)。

(調製黏著劑組成物) 相對於上述製出之丙烯酸系聚合物溶液的固體成分100份，摻混下述物質而製得黏著劑組成物： 0.3份之苯甲醯基過氧化物(日本油脂公司製之商品名NYPER BMT)、 1份之異氰酸酯系交聯劑(Tosoh公司製之商品名Coronate L)。

(附黏著劑層之偏光薄膜之製作) 藉由將前述黏著劑組成物用灑佈器均勻塗敷於經聚矽氧系剝離劑處理過之聚對苯二甲酸乙二酯薄膜之剝離基材(三菱樹脂公司製 MRF38CK)的表面，並以155℃之空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘來進行，而形成厚20μm之黏著劑層。將該具有色素之黏著劑層轉印於上述薄型偏光薄膜之偏光件(PVA層)之面而製出附黏著劑層之偏光薄膜。

(IPS模式之液晶面板之製作) 從LG Electronics公司製液晶TV(43UF7710)取出液晶面板(包含IPS模式之液晶單元之液晶面板)，並從液晶單元去除視辨側之附黏著劑層之偏光薄膜。從上述製出之附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層剝離分離件後，將該附黏著劑層之偏光薄膜的黏著劑層貼附至前述去除了附黏著劑層之偏光薄膜的液晶單元部分，而製出IPS模式之液晶面板。

實施例1 除了將比較例1之黏著劑組成物之調製中相對於丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份進一步摻混0.25份之四氮雜卟啉系色素(山本化成公司製之商品名PD-320：於波長595nm具有極大吸收波長)外，依與實施例1相同方式製出附黏著劑層之偏光薄膜，並使用該附黏著劑層之偏光薄膜而製出IPS模式之液晶面板。

實施例2 除了將比較例1之黏著劑組成物之調製中相對於丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份進一步摻混0.5份之四氮雜卟啉系色素山田化學工業公司製之商品名FDG-007(於波長595nm具有極大吸收波長)外，依與實施例1相同方式製出附黏著劑層之偏光薄膜，並使用該附黏著劑層之偏光薄膜而製出IPS模式之液晶面板。

比較例2 除了將實施例1之黏著劑組成物之調製中相對於丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份進一步摻混0.25份之花青系色素(山田化學公司製之商品名FDB-008：於波長495nm具有極大吸收波長)外，依與實施例1相同方式製出附黏著劑層之偏光薄膜，並使用該附黏著劑層之偏光薄膜而製出IPS模式之液晶面板。

參考比較例1 (附相位差薄膜之偏光薄膜) 於比較例1之偏光薄膜之製作中於製出薄型偏光薄膜後，進而用聚乙烯醇系接著劑於薄型偏光薄膜之偏光件面貼附厚度40μm之相位差薄膜(日本ZEON公司製之ZEONOR薄膜，正面相位差52nm，厚度相位差125nm)而製出附相位差薄膜之偏光薄膜。

(附黏著劑層之偏光薄膜之製作) 接著，使用與比較例1相同之黏著劑組成物，依與比較例1相同方式於附相位差薄膜之偏光薄膜之相位差薄膜側形成黏著劑層而製出附黏著劑層(附相位差薄膜)之偏光薄膜。

(VA模式之液晶面板之製作) 從Samsung公司製液晶TV(UN48JU6350F)取出液晶面板(包含VA模式之液晶單元之液晶面板)，並從液晶單元去除視辨側之附黏著劑層之偏光薄膜。從上述製出之附黏著劑層(附相位差薄膜)之偏光薄膜的黏著劑層剝離分離件後，將該附黏著劑層(附相位差薄膜)之偏光薄膜的黏著劑層貼附至前述去除了附黏著劑層之偏光薄膜的液晶單元部分，而製出VA模式之液晶面板。

參考比較例2 除了將參考比較例1中相對於丙烯酸系聚合物溶液之固體成分100份進一步摻混0.25份之卟啉系色素(山本化成公司製之商品名PD-320：於波長595nm具有極大吸收波長)作為黏著劑組成物外，依與參考比較例1相同方式製出附黏著劑層(附相位差薄膜)之偏光薄膜，並使用該附黏著劑層(附相位差薄膜)之偏光薄膜而製出VA模式之液晶面板。

針對於上述實施例及比較例(包含比較參考例)製得之黏著劑層、液晶面板進行以下評估。評估結果列於表1。

(黏著劑層之霧度(內部霧度)之測定) 藉由將各例所用黏著劑組成物用灑佈器均勻塗敷於全光線透射率93.3%、霧度0.1%之無鹼玻璃之單面後，在155℃的空氣循環式恆溫烘箱乾燥2分鐘來進行而形成厚度20μm之黏著劑層，並將所製得之形成有厚度20μm之黏著劑層之物用霧度計(村上色彩技術研究所製，MH-150)測定霧度。利用霧度計進行測定時，係將黏著劑層側配置於光源側。霧度值因無鹼玻璃之霧度值為0.1%，故從測定值扣除0.1%後將該值作為霧度值。

(液晶面板之對比的測定) 將各例製出得之液晶面板還原成原本的液晶TV後，於暗房內用色彩亮度計((股)TOPCON TECHNOHOUSE製之SR-UL1)測定液晶TV顯示黑畫面時及白畫面時之正面亮度。從(白畫面時的亮度/黑畫面時的亮度)求取對比。並於表1顯示以使用不具有色素之黏著劑層之情況(比較例1、參考比較例1)的對比為100%時之對比的指標(%)。

(液晶面板之反射率的測定) 針對各例製得之液晶面板，用Konica Minolta製之商品名「CM-2600d」以D65光源利用包含正反射的(SCI)方式進行測定。測定溫度設為23℃。並以重複次數2次之平均值作為測定值。

[表1]

C‧‧‧IPS模式之液晶單元A1‧‧‧第1光學機能層A2‧‧‧第2光學機能層P1‧‧‧第1偏光薄膜P2‧‧‧第2偏光薄膜

圖1係顯示本發明液晶面板之一實施形態之截面圖。

C‧‧‧IPS模式之液晶單元

A1‧‧‧第1光學機能層

A2‧‧‧第2光學機能層

P1‧‧‧第1偏光薄膜

P2‧‧‧第2偏光薄膜

Claims

一種液晶面板，具有：IPS模式之液晶單元；從前述液晶單元之視辨側起依序配置之第1光學機能層及第1偏光薄膜；與從前述液晶單元之背面側起依序配置之第2光學機能層及第2偏光薄膜；該液晶面板之特徵在於：前述第1光學機能層含有色素且霧度在0.2~2%之範圍內，前述第2光學機能層不具有色素。
如請求項1之液晶面板，其至少第1光學機能層含有色素且霧度在0.2~1.5%之範圍。
如請求項1之液晶面板，其中前述含有色素之光學機能層的霧度為0.2~2%。
如請求項1之液晶面板，其中前述色素於波長區域470~510nm及波長區域570~610nm中之至少任一區具有極大吸收波長。
如請求項1之液晶面板，其中前述色素為四氮雜卟啉系色素。
如請求項1至5中任一項之液晶面板，其相對於形成前述光學機能層之樹脂層的基礎聚合物100重量份，含有0.01~5重量份之前述色素。
一種液晶顯示裝置，其特徵在於：其使用有如請求項1至6中任一項之液晶面板。