TWI741109B - 有機ｅｌ顯示裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種有機EL顯示裝置，其具備光學特性優異的畫素分割層(8)及/或平坦化層(4)，同時具有優異的發光可靠性。該有機EL顯示裝置係具備第一電極(10)、畫素分割層(8)、發光畫素(9)、第二電極(5)、平坦化層(4)及基材(6)之有機EL顯示裝置，其中畫素分割層(8)及/或平坦化層(4)含有具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料。

Description

有機EL顯示裝置
本發明關於有機EL顯示裝置。
於智慧型手機、平板PC及電視等之具有薄型顯示器的顯示裝置中，已開發出搭載有機電致發光(EL)顯示器的許多製品。
有機EL顯示裝置係使用因從陰極所注入的電子與從陽極所注入的電洞之再結合所造成的能量，進行發光的自發光型之顯示裝置。已知有機EL顯示裝置之發光畫素中所用的有機發光材料係不耐氣體成分或水分，因暴露於此等中而有機EL顯示裝置的發光可靠性降低。為了提高發光可靠性，不僅提高有機發光材料本身的耐久性，而且提高電極上所形成的畫素分割層或覆蓋驅動電路的平坦化層等之構成發光元件的周邊材料之特性者為必要且不可欠缺，有揭示一種有機EL，其具備具有特定範圍的硫/碳原子數比率之畫素分割層與平坦化層(例如，專利文獻1)。
又，近年來，嘗試藉由將遮光性賦予至畫素分割層及/或平坦化層，而減低太陽光等的外光反射，提高有機EL顯示裝置的視覺辨認性及對比。作為其具體 例，有揭示具備經黑色化的畫素分割層之有機EL顯示裝置(例如，專利文獻2)。
作為形成有機EL顯示裝置之經黑色化的畫素分割層用之組成物，可舉出混合不同色相的顏料，而模擬黑色化的感光性組成物，作為其具體例，有揭示含有紅色顏料與藍色顏料作為遮光材料之感光性組成物(例如，參照專利文獻3)。另一方面，於要求能減低外光反射的機能之液晶顯示裝置的黑色矩陣之領域中，作為代替缺乏絕緣性的介電常數高之黑色顏料的碳黑之技術，有提案藉由有機顏料之混合而模擬黑色化之技術，作為其具體例，有揭示一種感光性組成物，其含有由黃色顏料、藍色顏料及紫色顏料之組合或由黃色顏料、紅色顏料及藍色顏料之組合所構成的複數種顏料作為遮光材料(例如，參照專利文獻4)
[先前技術文獻] [專利文獻]
專利文獻1：國際公開第2016/047483號公報
專利文獻2：日本特開2013-30293號公報
專利文獻3：日本特開2013-207124號公報
專利文獻4：日本特開平9-302265號公報
然而，藉由微影術將模擬黑色化的感光性組成物予以圖案加工而得到硬化膜，使用該硬化膜作為有 機EL顯示裝置的畫素分割層及/或平坦化層時，於最終所得之畫素分割層及/或平坦化層的光學特性與有機EL顯示裝置的發光可靠性中，有在至少任一者發生問題之難題。基於以上之背景，迫切希望一種有機EL顯示裝置，其具備光學特性優異的畫素分割層及/或平坦化層，同時具有優異的發光可靠性。
本發明之有機EL顯示裝置係具備第一電極、畫素分割層、發光畫素、第二電極、平坦化層及基材之有機EL顯示裝置，其特徵為：前述畫素分割層及/或前述平坦化層含有具有下述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料。
Figure 106144721-A0202-12-0003-1
依照本發明之有機EL顯示裝置，由於具備具有優異的光學特性之畫素分割層及/或平坦化層，可得到高的視覺辨認性與對比，且可得到優異的發光可靠性。
1:TFT
2:配線
3:TFT絕緣層
4:平坦化層
5:第二電極
6:基材
7:接觸孔
8:畫素分割層
9:發光畫素(有機EL層)
10:第一電極
11:無鹼玻璃基板
12:金屬反射層
13:第二電極(ITO電極)
14:輔助電極(ITO電極)
15:畫素分割層
16:發光畫素(有機EL層)
17:第一電極
18:無鹼玻璃基板
19:平坦化層
20‧‧‧第二電極(ITO電極)
21‧‧‧輔助電極(ITO電極)
22‧‧‧畫素分割層
23‧‧‧發光畫素(有機EL層)
24‧‧‧第一電極
圖1係表示本發明之實施形態的有機EL顯示裝置之TFT基板的剖面圖。
圖2係以實線表示實施例12中的硬化膜之透光率光譜，以虛線表示比較例29中的硬化膜之透光率光譜的圖。
圖3係顯示實施例中的本發明之有機EL顯示裝置之製作方法的概略圖。
圖4係顯示實施例中的本發明之有機EL顯示裝置之另一製作方法的概略圖。
[實施發明之形態]
以下，詳細說明本發明。再者，本說明書中使用「~」表示的數值範圍係意指包含「~」之前後記載的數值當作下限值及上限值之範圍。本說明書中所謂的畫素分割層，就是指有機EL顯示裝置用的畫素分割層，所謂的平坦化層，就是指有機EL顯示裝置用的平坦化層。所謂的有機EL顯示裝置，就是指不能彎曲的剛性型之有機EL顯示裝置與能彎曲的可撓型之有機EL顯示裝置這兩者。又，所謂的遮光性，就是表示能遮蔽可見光區域的波長380~780nm之光的程度，遮光性愈高，表示光的穿透率愈低。著色材料之稱呼中所用的「C.I.」係顏色索引屬名(Colour Index Generic Name)的簡稱，以染料與色料師協會(The Society of Dyers and Colourists)發行的色指數為基礎，關於在顏色索引中已登記過的著色材料，顏色索引屬名表示顏料或染料的化學結構或結 晶形。於本說明書中，鹼顯影液之記載只要沒有特別預先指明，則指有機系鹼水溶液。
所謂的遮光材料，就是指具有能吸收可見光區域中至少一部分的波長之光的機能之化合物，具體而言指顏料或染料，感光劑係不符合此。又，關於遮光材料每種的顏色之稱呼，不是依據本發明者們的目視感官評價者，例如所謂的黃色顏料，就是指屬於「C.I.顏料黃」的顏料或以彼等作為母體的顏料衍生物，所謂的藍色顏料，就是指屬於「C.I.顏料藍」的顏料或以彼等作為母體的顏料衍生物，所謂的紅色顏料，就是指屬於「C.I.顏料紅」的顏料或以彼等作為母體的顏料衍生物，所謂的紫色顏料，就是指屬於「C.I.顏料紫」的顏料或以彼等作為母體的顏料衍生物，橙色顏料、茶色顏料、綠色顏料、黑色顏料等之記載亦同樣。
本發明者們對於上述課題，進行原理查證，結果得知：形成黑色的畫素分割層及/或平坦化層用的感光性組成物中所含有的(a)遮光材料之耐久性，係影響最終所得之有機EL顯示裝置的發光可靠性。此處所言的發光可靠性之降低，就是指使有機EL顯示裝置連續地持續亮燈時，以亮燈初期為基準，發光元件中的發光面積隨著亮燈時間的經過而縮小，結果亮度降低之現象，發光可靠性愈低，作為顯示裝置的價值愈低。更具體而言，混合複數種的有機顏料而模擬黑色化時，賦予波長380~450nm之區域中的遮光性用的遮光材料之耐熱性、耐鹼性的至少任一者為不充分，明顯地成為使發光可靠性 降低之原因。如果為了不損害發光可靠性，而不將波長380~450nm之區域中的遮光性賦予至畫素分割層時，則減低藍色調的外光反射之效果變弱，而且由於畫素分割層或平坦化層之上所成膜之第一電極的銀/鎂合金之膜係可見光區域中的透光率在愈短波長側愈高，結果使用者變成感受藍色調的反射光，故作為顯示裝置的價值會降低。混合色相不同的複數種顏料而使用的模擬黑色化之技術，係在將所欲的光學特性賦予至畫素分割層及/或平坦化層時，比使用單一種的黑色顏料之情況，於可較自由自在地調整光之每波長區域的光學特性之點非常有用，但由於至目前為止尚未找到能適用於控制有機EL顯示裝置的畫素分割層及/或平坦化層的波長380~450nm之區域中的遮光性之遮光材料，故發生光學特性與發光可靠性之權衡關係，彼等之兼備為困難。
鑒於上述，本發明者們進行專心致力的檢討，結果發現於具備第一電極、畫素分割層、發光畫素、第二電極、平坦化層及基材的有機EL顯示裝置中，由於畫素分割層及/或平坦化層含有具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，可兼具優異的光學特性與優異的發光可靠性，而完成本發明。
意外地，即使僅使用本業者的技術常識中熟知的耐熱性、耐光性及耐藥品性高且在液晶顯示裝置之領域中多年使用的C.I.顏料黃138、139、150等之有機黃色顏料，也無法解決本問題，而發現至目前為止在顯示裝置之領域中不適合的具有上述結構式(1)所示之苯 并咪唑酮結構的黃色顏料之有用性。再者，發現若使用僅限於完全不同的技術領域之塑膠物品的摻混著色的用途之C.I.顏料黃192，則有機EL顯示裝置的發光可靠性成為最良好。
另一方面，作為賦予波長380~450nm之區域中的遮光性用之主成分，於黃色顏料以外，考慮橙色顏料，但是僅使用具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的橙色顏料時，無法解決本課題。作為具體例，例如可舉出C.I.顏料橙64，其為在250℃以上的高溫條件下具有耐熱性之一般已知的苯并咪唑酮系橙色顏料，但是因與鹼顯影液之接觸而橙色顏料部分地分解而液狀化，不僅波長380~450nm之區域中的遮光性在顯影步驟中降低，而且得不到充分的發光可靠性。
根據以上，達成結論為選擇具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料者，係針對本課題之解決取得特別顯著的效果，而發明一種有機EL顯示裝置，其特徵為具備含有此之畫素分割層及/或平坦化層。
本發明之有機EL顯示裝置具備第一電極、畫素分割層、發光畫素、第二電極、平坦化層及基材。圖1中顯示作為本發明之實施形態的具體例所舉出的有機EL顯示裝置中的TFT基板之剖面圖。
於基材(6)之表面上以行列狀設置下閘極型或上閘極型的TFT(1)(薄膜電晶體)，以覆蓋此TFT(1)與連接至TFT(1)的配線(2)之狀態形成TFT絕緣層(3)。再者，於TFT絕緣層(3)之表面上，形成平坦化層(4)，於 平坦化層(4)中設置將配線(2)開口之接觸孔(7)。於平坦化層(4)之表面上，圖案形成第二電極(5)，連接至配線(2)。以包圍第二電極(5)的圖案周緣之方式，形成畫素分割層(8)。於畫素分割層(8)中設置開口部，於開口部中形成包含有機EL發光材料的發光畫素(9)，第一電極(10)係以覆蓋畫素分割層(8)與發光畫素(9)之狀態而成膜。將由以上之積層構成所組成的TFT基板在真空下密封後，若對於發光畫素部直接施加電壓，則可作為有機EL顯示裝置發光。
發光畫素(9)係排列有在光的3原色之紅、藍、綠區域中具有各自的發光尖峰波長之不同種類的畫素者，或亦可在全面上製作能發出白色的發光光線之發光畫素，組合紅、藍、綠的彩色濾光片者作為另外的積層構件。通常顯示的紅色區域之尖峰波長為560~700nm，藍色區域之尖峰波長為420~500nm，綠色區域之尖峰波長為500~550nm，但於本發明之有機EL顯示裝置中，發光畫素之種類係沒有特別的限定，發光光線亦可具有任何的尖峰波長。作為第二電極(5)，例如可適宜使用由ITO(銦錫氧化物)所構成之透明膜，作為第一電極(10)，例如可適宜使用銀/鎂等的合金膜，但只要是能作為電極發揮機能之層，則亦可由任何物質所構成。又，作為構成發光畫素的有機EL發光材料，除了發光層，還可更適宜使用組合有電洞輸送層及/或電子輸送層的材料。
本發明之有機EL顯示裝置的光取出方向係 可為將由發光畫素所放出的發光光線通過基材(6)，往基材側取出之底部發光型有機EL顯示裝置，也可為通過第一電極，將發光光線往基材(6)的相反側取出之頂部發光型有機EL顯示裝置，並沒有特別的限定。於平坦化層(4)與第二電極(5)之間，為了提高往一方向的光取出效率，亦可進一步設置金屬反射層等。於基材(6)若使用以玻璃等為代表的硬質板狀基材，則成為不能彎曲的剛性型之有機EL顯示裝置，若使用由聚醯亞胺等之富有柔軟性的樹脂薄膜所構成之基材，則成為能彎曲的可撓型之有機EL顯示裝置。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層，為了使抑制外光反射的機能成為更有效果者，可見光區域的光之每波長的透光率之差異少，即遮光性中的波長依賴性少者較佳，畫素分割層及/或平坦化層所含有的(a)遮光材料較佳為包含(a-1)黃色顏料與藍色顏料與紅色顏料，或(a-2)黃色顏料與紫色顏料。另外，包含黃色顏料與紫色顏料時，即使更包含彼等以外的顏色之遮光材料，也定義為屬於(a-2)黃色顏料與紫色顏料之組合者。
於(a)遮光材料為(a-1)之組合時，黃色顏料係作為遮蔽波長380~450nm的區域之光用的成分，藍色顏料作為遮蔽波長550~780nm的區域之光用的成分，紅色顏料係作為遮蔽波長450~600nm的區域之光用的成分而含有，以在各波長區域中得到所欲的光學特性之方式設定混合比率，可藉由減法混色而模擬黑色化。
另一方面，於(a)遮光材料為(a-2)之組合時，黃色顏料係作為遮蔽波長380~450nm的區域之光用的成分，紫色顏料係作為遮蔽波長450~650nm的區域之光用的成分而含有，以在各波長區域中得到所欲的光學特性之方式設定混合比率，可藉由減法混色而模擬黑色化。於(a-2)之組合中，亦可進一步含有能遮蔽波長650~780nm的區域之光的成分。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層，係具有下述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料作為(a)遮光材料中的黃色顏料成分。畫素分割層及/或平坦化層係可使用感光性組成物而形成，於該感光性組成物中，作為(a)遮光材料，可預先含有具有下述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，藉此可在畫素分割層及/或平坦化層之膜中，填充具有下述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，而賦予對於波長380~450nm的區域之光的遮光性。
Figure 106144721-A0202-12-0010-2
所謂具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，就是指以下述結構式(2)所示之C.I.顏 料黃120、下述結構式(3)所示之C.I.顏料黃151、下述結構式(30)所示之C.I.顏料黃154、下述結構式(4)所示之C.I.顏料黃175、下述結構式(5)所示之C.I.顏料黃180、下述結構式(6)所示之C.I.顏料黃181、下述結構式(7)所示之C.I.顏料黃192、下述結構式(8)所示之C.I.顏料黃194及彼等作為母體的顏料衍生物。
Figure 106144721-A0202-12-0012-3
Figure 106144721-A0202-12-0012-4
Figure 106144721-A0202-12-0012-5
Figure 106144721-A0202-12-0013-6
Figure 106144721-A0202-12-0013-7
Figure 106144721-A0202-12-0014-8
Figure 106144721-A0202-12-0014-9
其中，從耐熱性及耐鹼性優異之點來看，較佳為C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃192、C.I.顏料黃194，更佳為C.I.顏料黃192。此等之具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料係可單獨或混合複數種而使用。
此處所言的顏料之耐熱性，就是於後述的顯影步驟中，藉由與鹼顯影液的接觸，對於顏料施加化學負荷後，對於進一步加熱處理的熱分解性及/或昇華性之程度，愈能減低顏料的熱分解物/昇華物的發生量，指耐熱性愈優異。又，顏料之耐熱性所造成的對於發光可靠 性之影響，由於是顏料與鹼顯影液接觸而產生的顏料之溶解物及/或分解物複合地參與，故與鹼顯影液無參與之本業者間的技術常識為基礎之顏料單獨的粉末狀態之耐熱性的指標不同。
有機EL顯示裝置的畫素分割層及/或平坦化層所要求之耐熱溫度，較佳為200℃以上，更佳為230℃以上，尤佳為250℃以上，高溫條件下的來自畫素分割層及/或平坦化層的氣體發生量愈少愈佳，可提高發光可靠性。
此處所言的顏料之耐鹼性，就是指對於後述的顯影步驟中使用的鹼顯影液之2.38重量%氫氧化四甲銨水溶液，在大氣壓下15℃~150℃條件下之溶解性、分解性的程度。此處，將大氣壓下15℃~150℃條件下的耐性當作指標之理由，係因為隨著後述的硬化步驟中顯影膜被加熱，殘留在顯影膜之表面及/或內部的鹼顯影液之顏料溶解能力及/或顏料分解能力會升高。因此，本說明書中所言的耐鹼性，不僅常溫，而且亦包括加熱條件下的耐鹼性。
作為含有顏料或顏料的膜之耐鹼性的指標，依照本業者間之技術常識，一般使用大氣壓下10~30℃條件下的1~10重量%氫氧化鈉水溶液或1~10重量%碳酸鈉水溶液等之無機系鹼水溶液，但於本說明書中是將對於畫素分割層及/或平坦化層之形成時適合的高濃度之有機系鹼顯影液的2.38重量%氫氧化四甲銨水溶液之耐性，當作其評價基準，顏料之耐鹼性愈高，指愈能減 低顏料的溶解物、分解物之發生。大體上，有機顏料係與鹼水溶液的pH無關，對於有機系鹼水溶液的耐性係比無機系鹼水溶液低。
具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，係因苯并咪唑酮結構的氫鍵而分子間相互作用提高，分子彼此穩固地締合，形成剛性的結晶結構，適合作為有機EL顯示裝置的畫素分割層及/或平坦化層所含有的(a)遮光材料，除了高的耐熱性，還具有高的耐鹼性，故不損害發光可靠性，可得到優異的光學特性。具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之最大特徵為：對於有機系鹼水溶液的耐久性極高，即使在顯影步驟中與有機系鹼水溶液接觸後，也能展現顏料種類固有的高耐熱性，不易促進有機EL發光材料之劣化，可提高發光可靠性之點。此外，除了C.I.顏料黃154以外，以C.I.顏料黃120、151、175、180、181、192、194及彼等作為母體的顏料衍生物之分子結構，儘管不具有鹵素原子或金屬錯合物結構，卻能充分展現畫素分割層及/或平坦化層所必要的高耐熱性，而亦在提高發光可靠性方面更有利。於如此之對於有機系鹼水溶液的耐性及顏料分子的構成元素之點中，與為了提高顏料固有的耐久性而具有多數的氯原子作為鹵素原子的C.I.顏料黃138或具有鎳錯合物結構的C.I.顏料黃150等一般熟知具有高耐熱性的有機黃色顏料比較下，在用途上具有較顯著的優越性。
具體而言，於畫素分割層及/或平坦化層之形 成時，在顯影步驟中，對於包含具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之膜，當鹼顯影液接觸及滲透之際，抑制顏料的溶解及/或分解，抑制來自顏料的溶解物及/或分解物殘留在畫素分割層及/或平坦化層之膜內部者，結果發光可靠性升高。又，就可抑制顯影液對於後述的顯影膜中之過度滲透，將顯影步驟中的膜強度維持為高，能減低因顯影膜局部地剝落所造成的開口部上之顯影殘渣的發生之點，亦發光可靠性更進一步升高。畫素分割層中的開口部係成為本發明之有機EL顯示裝置中的發光畫素部之部位，由於與顯示品質直接關聯，故在形成畫素分割層之際，愈能減低顯影殘渣愈佳。
因加熱及/或鹼等外部負荷所致的顏料之溶解及/或分解之現象，係因其結晶結構及/或分子結構之破壞所致者，由於在畫素分割層及/或平坦化層之形成過程中伴隨面內不均勻地膜之變色或褪色，故在生產上安定地得到所欲的光學特性之方面，亦為包含(a)遮光材料的顏料之耐鹼性愈高愈佳。
於合成黃色顏料之際，作為導入上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構之方法，可舉出使用具有苯并咪唑酮結構的顏料中間體作為合成原料的一部分進行合成之方法，例如使用下述結構式(9)所示之5-乙醯乙醯基胺基苯并咪唑酮作為顏料中間體，使其與各種重氮鹽反應等而合成顏料粗製物，接著經過水洗、粉碎、分級等之顏料化步驟，可得到上述之C.I.顏料黃120、C.I.顏料黃151、C.I.顏料黃154、C.I.顏料黃175、C.I.顏料黃180、 C.I.顏料黃181、C.I.顏料黃194。於此等之群中，藉由偶氮偶合反應所合成的顏料係宜選擇已儘量去除來自重氮鹽的鹵素系雜質者。
Figure 106144721-A0202-12-0018-10
又，使用下述結構式(10)所示之5,6-二胺基苯并咪唑酮作為顏料中間體，合成顏料粗製物，接著經過顏料化步驟，可得到結構式(7)所示之C.I.顏料黃192。C.I.顏料黃192由於具有來自下述結構式(11)所示之1,8-萘二羧酸酐的結構與包含苯并咪唑酮結構的剛性之縮合多環結構，故耐熱性及耐鹼性極高。
Figure 106144721-A0202-12-0019-11
Figure 106144721-A0202-12-0019-12
黃色顏料之含量係不依賴於上述(a-1)之組合或(a-2)之組合，在充分得到波長380~450nm之區域中的遮光性之方面，較佳為用於形成畫素分割層及/或平坦化層的感光性組成物中所含有的全部顏料中之10重量%以上，更佳為15重量%以上。抑制形成畫素分割層及/或平坦化層時的圖案邊緣剝離而低錐形化，避免畫素分割層上所成膜的電極之斷線，而驅動本發明之有機EL顯示裝置時，在抑制發光畫素部中的非亮燈部位之發生方面，黃色顏料之含量較佳為感光性組成物中含有的全部顏料中之40重量%以下，更佳為35重量%以下。
又，具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之含量，從發光可靠性之觀點來看，較佳為感光性組成物所含有的全部黃色顏料中之50重量%以上，更佳為80重量%以上，尤佳為100重量%。
另外，作為不具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，可舉出C.I.顏料黃12、13、17、20、24、74、83、86、93、95、109、110、117、125、129、137、138、139、147、148、150、153、155、166、168、185、191、193、199，可單獨或混合複數種的此等之黃色顏料，於不損害發光可靠性之範圍內，按照需要而適量使用。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層所含有的具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料，亦包括下述通式(12)所示之顏料衍生物，可含有此等之顏料衍生物作為(a)遮光材料之一部分，也可作為分散助劑發揮機能。
Figure 106144721-A0202-12-0020-13
(上述通式(12)中，Bz係在具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的有機顏料之中，表示屬於「C.I.顏料黃」的顏料之殘基。包含硫原子及/或氮原子的取代基Y係不限定對於Bz的鍵結位置，表示磺酸基、磺酸基的金屬鹽、磺酸基的銨鹽、磺醯胺基及/或鄰苯二甲醯亞胺烷基。取代基數n為整數，表示1或2)。
上述通式(12)所示之顏料衍生物例如係可將C.I.顏料黃120、151、175、180、181、192或194當作母體顏料，藉由磺化、中和、磺醯胺化或鄰苯二甲醯亞 胺烷基化等眾所周知的衍生化處理而合成。作為上述通式(12)所示之顏料衍生物的較佳具體例，可舉出以C.I.顏料黃194作為母體，進行磺化處理而得之以下述結構式(13)所示之單磺化物，以C.I.顏料黃192作為母體，進行磺化處理而得之下述結構式(14)所示之單磺化物。再者，於上述通式(12)中，所謂「包含硫原子及/或氮原子的取代基Y係不限定對於Bz的鍵結位置」，亦包括對於上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構中的構成芳香環的碳原子及/或構成雜環的氮原子，取代基Y直接鍵結之情況，或鍵結位置不同的分子複數混合存在者之情況。
Figure 106144721-A0202-12-0021-14
Figure 106144721-A0202-12-0021-15
上述通式(12)所示之顏料衍生物係在進行後述的溶劑鹽磨(solvent salt milling)等之濕式粉碎處理時添加及混煉，亦可使其預先擔載於未經衍生化處理的有機顏料之表面上而使用，或可於進行後述的濕式介質分散處理時添加，作為分散助劑使用。再者，母體顏料固有的遮光性係不因衍生化處理而喪失，上述通式(12)所示之顏料衍生物本身亦可作為有助於畫素分割層及/或平坦化層的遮光性提高之成分而發揮機能。
於形成本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層用的感光性組成物中，作為(a)遮光材料，藉由進一步含有黃色顏料以外的顏料，可在畫素分割層及/或平坦化層之膜中，填充黃色顏料以外的顏料，而提高遮光性。
當(a)遮光材料包含(a-1)黃色顏料與藍色顏料與紅色顏料時，作為藍色顏料，可舉出有機藍色顏料、無機藍色顏料，但從介電常數低之點來看，較佳為有機藍色顏料，作為具體例，可舉出C.I.顏料藍15：1、15：2、15：3、15：4、15：6、16、60、64、65、75、79、80，可單獨或混合複數種的此等而使用。其中，從耐熱性及耐鹼性高之點來看，藍色顏料較佳為選自包含下述結構式(15)所示之β型銅酞青藍的C.I.顏料藍15：3、15：4及ε型銅酞青藍的C.I.顏料藍15：6、下述結構式(16)所示之陰丹酮藍(陰丹士林藍)的C.I.顏料藍60之群組的至少1種。又，於曝光光線區域的光之穿透率高，能提高後述之曝光步驟中的感度之點上，C.I.顏料藍60較佳 為包含藍色顏料中的50重量%以上。
Figure 106144721-A0202-12-0023-16
Figure 106144721-A0202-12-0023-17
當(a)遮光材料為上述(a-1)之組合時，為了充分地遮蔽波長550~780nm的區域之光，藍色顏料之含量較佳為感光性組成物中含有的全部顏料中之15重量%以上，更佳為30重量%以上。從後述的曝光步驟中的感度之觀點來看，較佳為70重量%以下，更佳為60重量%以下。
又，(a)遮光材料所包含的藍色顏料亦可包含以藍色顏料作為母體的顏料衍生物。
作為紅色顏料，可舉出有機紅色顏料、無機紅色顏料，但從介電常數低之點來看，較佳為有機紅色顏料，作為具體例，可舉出C.I.顏料紅9、48、97、122、123、144、148、149、166、168、177、179、180、190、192、196、202、209、215、216、217、220、223、224、226、227、228、240、254，可單獨或混合複數種的此等而使用。其中，從耐熱性及耐鹼性高，在結構中不具有成為發光可靠性降低之主要原因的鹵素原子之點來看，紅色顏料更佳為選自包含下述結構式(17)所示之苝系紅色顏料的C.I.顏料紅123、下述結構式(18)所示之苝系紅色顏料的C.I.顏料紅149、下述結構式(19)所示之蒽醌系紅色顏料的C.I.顏料紅177、下述結構式(20)所示之苝系紅色顏料的C.I.顏料紅179、下述結構式(21)所示之苝系紅色顏料的C.I.顏料紅190之群組的至少1種。又，從著色力高，能提高每含量的遮光性之點來看，C.I.顏料紅179及/或190更佳為包含紅色顏料中的50重量%以上。
Figure 106144721-A0202-12-0025-18
Figure 106144721-A0202-12-0025-19
Figure 106144721-A0202-12-0026-20
Figure 106144721-A0202-12-0027-21
Figure 106144721-A0202-12-0027-22
當(a)遮光材料為上述(a-1)之組合時，為了充分地遮蔽波長450~600nm的區域之光，紅色顏料之含量較佳為感光性組成物中含有的全部顏料中之10重量%以上，更佳為20重量%以上。從後述的光學濃度之觀點來看，較佳為60重量%以下，更佳為50重量%以下。又，(a)遮光材料所包含的紅色顏料亦可包含以紅色顏料作為母體的顏料衍生物。
當(a)遮光材料包含(a-2)黃色顏料與紫色顏料時，作為紫色顏料，可舉出有機紫色顏料、無機紫色顏料，但從介電常數低之點來看，較佳為有機紫色顏料，作為具體例，可舉出C.I.顏料紫19、23、29、30、32、37、40、50，可單獨或混合複數種的此等而使用。其中，從耐熱性及耐鹼性高，在結構中不具有成為發光可靠性降低之主要原因的鹵素原子之點來看，紫色顏料更佳為選自包含下述結構式(22)所示之喹吖啶酮系紫色顏料的C.I.顏料紫19、下述結構式(23)所示之苝系紫色顏料的C.I.顏料紫29、下述結構式(24)所示之二
Figure 106144721-A0202-12-0028-78
系紫色顏料的C.I.顏料紫37之群組的至少1種。又，於分散性高之點上，至少C.I.顏料紫19及/或29更佳為包含紫色顏料中的50重量%以上。此處所言的C.I.顏料紫19，較佳為呈現藍色調強的紫色之色相的β型結晶或包含50重量%以上的β型結晶之混晶。
Figure 106144721-A0202-12-0029-23
Figure 106144721-A0202-12-0029-24
Figure 106144721-A0202-12-0029-25
為了充分地遮蔽波長450~650nm的區域之光，紫色顏料之含量較佳為感光性組成物中含有的全部顏料中之30重量%以上，更佳為40重量%以上。於調整與遮蔽波長450~650nm以外之可見光區域的遮光材料成分之平衡，得到優異的光學特性之方面，較佳為90重量%以下，更佳為80重量%以下。又，(a)遮光材料所包 含的紫色顏料亦可包含以紫色顏料作為母體的顏料衍生物。
於上述(a-2)之組合中，亦可進一步併用藍色顏料，提高波長650~780nm的區域之光的遮光性，作為此時使用的藍色顏料，較佳為由上述C.I.顏料藍15：3、15：4、15：6、60之群所選出的至少1種之有機藍色顏料。
再者，作為(a)遮光材料，亦可併用上述的黃色顏料、藍色顏料、紅色顏料及紫色顏料以外之顏料及/或具有各種色相之染料，藉此微調整畫素分割層的光學特性。從每重量的著色力高，遮光性高之點來看，較佳為顏料，從介電常數低，絕緣性高之點來看，更佳為有機顏料。惟，即使(a)遮光材料為(a-1)之組合或(a-2)之組合的任一情況，在安定化感光性組成物的儲存安定性與光學特性之方面，也較佳為將所含有的顏料之合計色數設為6色以下，更佳設為5色以下，尤佳設為4色以下。
作為有機黑色顏料，可舉出C.I.顏料黑7、31、32，作為有機橙色顏料，可舉出C.I.顏料橙36、43、71、73，作為有機綠色顏料，可舉出C.I.顏料綠7、36、58、59，作為有機茶色顏料，可舉出C.I.顏料褐25、26、28，作為無機黑色顏料，可舉出氮化鈦、氧氮化鈦等之鈦黑。作為C.I.顏料黑7的碳黑，可舉出根據其製法所分類的燈黑、乙炔黑、熱黑、槽黑、爐黑等。
作為黑色染料，可舉出C.I.溶劑黑5、7、C.I.酸性黑2，作為黃色染料，可舉出C.I.溶劑黃114、直接 黃33、34、35、39、50、54、69、70、C.I.酸性黃3，作為藍色染料，可舉出C.I.溶劑藍122、C.I.直接藍77、90、93、94、95、100、101、150、153、187、189、C.I.鹼性藍1、5、7、8、C.I.酸性藍59、102，作為紅色染料，可舉出C.I.溶劑紅88、C.I.直接紅82、83、84、98、99、106、107、172、176、181，作為紫色染料，可舉出C.I.直接紫47、52、54、60、C.I.鹼性紫1、2、3、4、7、10、13、14、15、16、20，作為綠色染料，可舉出C.I.直接綠27、34、65、C.I.鹼性綠1、4。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層所含有的(a)遮光材料之含量，在可見光區域中得到充分的遮光性之方面，較佳為全部固體成分中之5重量%以上，更佳為10重量%以上。又，於確保形成畫素分割層及/或平坦化層用的感光性組成物之儲存安定性，得到對於曝光的充分感度與顯影性之方面，較佳為70重量%以下，更佳為50重量%以下。
於本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層中，或於形成彼等用的感光性組成物中，作為(a)遮光材料所含有的顏料、顏料衍生物及染料，係可藉由組合NMR、ICP質量分析、紅外吸收光譜、飛行時間質量分析計(TOF-MS)、CuKα射線所致的粉末X射線繞射，鑑定化學結構及結晶形，而界定顏色索引號碼。關於顏料成分，當直接的分析變困難時，只要對於組成物進行重複離心分離、過濾及洗淨而成為顏料濃縮物的前處理，則可更提高分析精度。
作為(a)遮光材料所含有的黃色顏料、藍色顏料、紅色顏料、紫色顏料各自之平均一次粒徑，從提高畫素分割層及/或平坦化層的遮光性之觀點來看，較佳為30nm以上，從提高圖案直線性之觀點來看，較佳為150nm以下。此處所言的平均一次粒徑，就是指藉由使用影像解析式粒度分布測定裝置的粒度測定法而算出之一次粒徑的數量平均值。於影像的拍攝中，可使用穿透型電子顯微鏡(TEM)，於倍率50000倍之條件下，自已經拍攝顏料的一次粒子為100個以上之影像，算出平均一次粒徑。當(a)遮光材料不是球狀時，將其長徑與短徑之平均值當作一次粒徑。於影像解析中，可使用MOUNTECH公司製影像解析式粒度分布軟體Mac-View。畫素分割層及/或平坦化層中含有的顏料之一次粒徑只要是在每基材切出畫素分割層及/或平坦化層，埋入熱硬化性樹脂中，研磨其切剖面而觀測即可。
有使平均一次粒徑小徑化或將粗大部分磨碎而窄化粒度分布之必要時，可藉由溶劑鹽磨等的濕式混煉處理而進行前處理，將平均一次粒徑經調整至所欲範圍的顏料予以分散，而含於感光性組成物中，使用其來形成畫素分割層及/或平坦化層。所謂的溶劑鹽磨，就是指將顏料、作為磨碎材料而機能的水溶性無機鹽、與水溶性溶劑之混合物予以加溫，以高黏度糊狀態進行混煉之方法。作為水溶性無機鹽，可舉出氯化鈉或氯化鉀，作為水溶性溶劑，可舉出醇系溶劑或二醇系溶劑，但一般使用氯化鈉與二乙二醇。於混煉處理中，例如可使用 Kneader(井上製作所(股)製)，以調整結晶成長速度與微細化速度之平衡而成為所欲的粒度之方式，適宜設定顏料濃度、混煉速度、溫度及時間等之混煉條件即可。
亦可於混煉後乾燥，視需要進一步進行乾式粉碎處理，藉此進行二次凝聚粒徑分布之控制。藉由截止粗大部分，將二次凝聚粒徑分布預先控制在所欲範圍，於其後的濕式分散處理步驟中，有能顯著縮短對於到達目標之分散後粒徑所需要的分散處理時間之情況。於乾式粉碎處理中，例如可使用「Nanojetmizer」(註冊商標)(AISHIN-NANOTECH(股)製)、「Spiral Jet Mill」(註冊商標)(HOSOKAWA MICRON(股)製)。
關於形成本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層用的感光性組成物之(a)遮光材料以外的成分，於以下說明。
感光性組成物含有(b)感光劑，可藉由包含後述的曝光步驟、顯影步驟之微影術而形成高解析度的圖案。感光性組成物係可為藉由隔著曝光遮罩的圖案曝光，而使曝光部之膜的鹼溶解性降低，藉由鹼顯影液去除未曝光部的膜，而進行圖案形成之所謂負型的微影術中使用之負型感光性組成物，或可為藉由隔著曝光遮罩的圖案曝光，使曝光部之膜的鹼溶解性比未曝光部之膜的鹼溶解性相對地提高，藉由鹼顯影液去除曝光部之膜，而進行圖案形成之所謂正型的微影術中使用之正型感光性組成物，但從即使少許的曝光量也能良好地圖案化，可更提高最終所得之畫素分割層及/或平坦化層的遮 光性來看，較佳為負型的感光性組成物。畫素分割層及平坦化層係在有機EL顯示裝置的驅動原理上，皆要求作為絕緣膜的機能，故形成畫素分割層用的感光性組成物與形成平坦化層用的感光性組成物可相同，也可相異。又，形成兩層用的感光性組成物所具有的負型或正型之任一種感光性係可相同，也可相異。
當感光性組成物為負型感光性組成物時，(b)感光劑包含具有2個以上的自由基聚合性基之化合物與光聚合起始劑。藉由將具有2個以上的自由基聚合性基之化合物與後述的光聚合起始劑併用，可因曝光而發生自由基聚合反應，使其光硬化，藉由鹼顯影液去除未曝光部而圖案化。再者，具有2個以上的自由基聚合性基之化合物的硬化物，係成為本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層之構成成分。
作為自由基聚合性基，從曝光時的感度升高及硬化膜的硬度升高之觀點來看，較佳為(甲基)丙烯酸基。此處所言的(甲基)丙烯酸基，就是指甲基丙烯酸基或丙烯酸基。作為具有2個以上的(甲基)丙烯酸基之化合物，例如可舉出二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、二-三羥甲基丙烷四(甲基)丙烯酸酯、1,3-丁二醇二(甲基)丙烯酸 酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、二羥甲基-三環癸烷二(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化甘油三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化新戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇七(甲基)丙烯酸酯、三新戊四醇八(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇九(甲基)丙烯酸酯、四新戊四醇十(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇之ε-己內酯加成(甲基)丙烯酸酯、乙氧基化雙酚A二(甲基)丙烯酸酯、2,2-雙[4-(3-(甲基)丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)苯基]丙烷、1,3,5-三((甲基)丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸、1,3-雙((甲基)丙烯醯氧基乙基)異三聚氰酸、9,9-雙[4-(2-(甲基)丙烯醯氧基乙氧基)苯基]茀、9,9-雙[4-(3-(甲基)丙烯醯氧基丙氧基)苯基]茀、9,9-雙(4-(甲基)丙烯醯氧基苯基)茀或彼等的酸改質體、環氧乙烷改質體或環氧丙烷改質體等，可單獨或混合複數種的此等而使用。
具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之含量，從對於曝光的感度升高之觀點來看，相對於後述的鹼可溶性樹脂與具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之含量合計100重量份，較佳為5重量份以上，更佳為15重量份以上。另一方面，具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之含量，從後述之硬化步驟中的回流 性之觀點來看，相對於鹼可溶性樹脂與具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之含量合計100重量份，較佳為80重量份以下，更佳為60重量份以下。
所謂的光聚合起始劑，就是指因曝光而鍵裂開及/或反應，產生自由基之化合物。藉由含有光聚合起始劑，因曝光而使具有2個以上的自由基聚合性基之化合物進行光硬化，藉由鹼顯影液去除未曝光部而可圖案化。
作為光聚合起始劑，例如可舉出「Adeka Optomer」(註冊商標)N-1818、N-1919、「Adeka Cluz」(註冊商標)NCI-831(以上，皆ADEKA(股)製)等之咔唑系光聚合起始劑、2,4,6-三甲基苯甲醯基-二苯基-氧化膦(BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)TPO)等之醯基氧化膦系光聚合起始劑、1,2-辛烷二酮,1-[4-(苯硫基)-,2-(O-苯甲醯基肟)](BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)OXE01)、乙酮,1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]-,1-(O-乙醯基肟)(BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)OXE02)等之肟酯系光聚合起始劑、2-甲基-1-(4-甲硫基苯基苯基)-2-
Figure 106144721-A0202-12-0036-79
啉丙烷-1-酮(BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)907)、2-苄基-2-二甲基胺基-1-(4-
Figure 106144721-A0202-12-0036-80
啉苯基)-丁酮-1(BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)369)、2-(二甲基胺基)-2-[(4-甲基苯基)甲基]-1-[4-(4-
Figure 106144721-A0202-12-0036-81
啉基)苯基]-1-丁酮(BASF公司製「Irgacure」(註冊商標)379EG)等之α-胺基烷基苯酮系光聚合起始劑等，可單獨或混合複數種的此等而使用。其 中，於後述的曝光步驟中，在對於由j線(313nm)、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)所組成的混合線之感度高之點上，更佳為咔唑系光聚合起始劑、肟酯系光聚合起始劑。
感光性組成物為負型時的光聚合起始劑之含量，對於曝光的感度升高之觀點來看，相對於具有2個以上的自由基聚合性基之化合物100重量份，較佳為5重量份以上，更佳為10重量份以上。另一方面，光聚合起始劑之含量，從對於曝光的深部硬化性之觀點來看，相對於具有2個以上的自由基聚合性基之化合物100重量份，較佳為60重量份以下，更佳為40重量份以下。再者，光聚合起始劑係在後述的硬化步驟中被揮發去除，宜儘量減少本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層中之殘留量。
當感光性組成物為正型感光性組成物時，(b)感光劑包含酸產生劑。由於包含光酸產生劑，藉由曝光，對於未曝光部而言，相對地提高曝光部的鹼溶解性，可藉由鹼顯影液去除曝光部而進行圖案化。
作為光酸產生劑，較佳為醌二疊氮化合物。作為醌二疊氮化合物，更佳為以醌二疊氮磺醯氯將具有酚性羥基的化合物予以酯化後之反應物。
作為具有酚性羥基的化合物，可舉出Bis-Z、BisP-EZ、TekP-4HBPA、TrisP-HAP、TrisP-PA、TrisP-PHBA、BisOCHP-Z、BisP-MZ、BisP-PZ、BisP-IPZ、BisOCP-IPZ、BisP-CP、BisRS-2P、BisRS-3P、 BisP-OCHP、亞甲基三-p-CR、亞甲基四-p-CR、BisRS-26X、Bis-PFP-PC(皆本州化學工業(股)製)、BIR-OC、BIP-PC、BIR-PC、BIR-PTBP、BIR-PCHP、BIP-BIOC-F、4PC、BIR-BIPC-F、TEP-BIP-A(皆旭有機材工業(股)製)。
作為醌二疊氮磺醯氯，可舉出4-萘醌二疊氮磺醯氯、5-萘醌二疊氮磺醯氯。如此的醌二疊氮化合物由於在後述的曝光步驟中，對於由j線(313nm)、i線(365nm)、h線(405nm)、g線(436nm)所組成的混合線之感度高而較宜。
作為如此的醌二疊氮化合物之添加量，從圖案加工性與最終所得之畫素分割層的耐熱性之觀點來看，相對於100重量份的後述之鹼溶解性樹脂，較佳為1~50重量份。必須提高感光性組成物的鹼溶解性時，亦可不將上述具有酚性羥基的化合物之酚性羥基的一部分酯化，而故意地使其殘存。
於以負型或正型的微影術進行圖案化而形成畫素分割層及/或平坦化層之方面，感光性組成物較佳為含有鹼可溶性樹脂。再者，鹼可溶性樹脂之硬化物係成為本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層之構成成分。
此處所言的鹼可溶性樹脂，就是指在其結構中具有羥基及/或羧基作為鹼可溶性基，且酸價為10mgKOH/g以上，重量平均分子量(Mw)為500以上150,000以下之樹脂。此處，所謂的重量平均分子量 (Mw)，就是以四氫呋喃作為載體的凝膠滲透層析法進行分析，使用標準聚苯乙烯的校正曲線所換算之值。
鹼可溶性樹脂之鹼溶解速度係在得到高解析度之方面，較佳為50nm以上，更佳為100nm以上。另一方面，於抑制顯影所致的過度薄膜化或圖案剝落之方面，較佳為10,000nm以下，更佳為8,000nm以下。此處所言的鹼溶解速度，就是指每1分鐘對鹼顯影液所溶解的膜厚，具體而言是指：將在γ-丁內酯中溶解有鹼可溶性樹脂之溶液塗布於矽晶圓基板上，於經設定在實際溫度120℃的熱板上預烘烤4分鐘而得到膜厚12μm±0.5μm的預烘烤膜，接著將預烘烤膜在液溫23±1℃的2.38重量%氫氧化四甲銨水溶液中顯影1分鐘，以水沖洗30秒而得到顯影膜，自預烘烤膜之膜厚扣除顯影膜之膜厚而得之值。
作為鹼可溶性樹脂，可舉出卡多(cardo)樹脂、丙烯酸樹脂、酚醛清漆樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚醯亞胺前驅物、聚苯并
Figure 106144721-A0202-12-0039-82
唑樹脂、聚苯并
Figure 106144721-A0202-12-0039-83
唑前驅物、聚醯胺樹脂、矽氧烷樹脂，但含有高溫下排氣量(氣體發生量)少的樹脂者係在提高發光可靠性之方面較宜。
當感光性組成物為負型時，從圖案加工性與發光可靠性之觀點來看，較佳為含有卡多樹脂及/或聚醯亞胺樹脂，再者從發光可靠性與感光性組成物的分散安定性之觀點來看，較佳為至少含有聚醯亞胺樹脂。
另一方面，當感光性組成物為正型時，從圖案加工性與發光可靠性之觀點來看，較佳為含有由聚醯 亞胺樹脂、聚醯亞胺前驅物、聚苯并
Figure 106144721-A0202-12-0040-84
唑樹脂、聚苯并
Figure 106144721-A0202-12-0040-85
唑前驅物、矽氧烷樹脂所選出的至少1種之鹼可溶性樹脂，從圖案加工性之觀點來看，更佳為含有聚醯亞胺樹脂及/或聚醯亞胺前驅物。
所謂的卡多樹脂，就是指具有卡多骨架的樹脂，所謂的卡多骨架，就是指對於構成環狀結構的環碳原子之四級碳原子，2個芳香族基以單鍵連接之骨架。此處所言的環狀結構，例如可舉出茀骨架、1-苯基-2,3-二氫-1H-茚骨架或N-苯基酚酞骨架，作為芳香族基，例如可舉出苯基，作為卡多骨架，可舉出對於茀骨架、1-苯基-2,3-二氫-1H-茚骨架或N-苯基酚酞骨架所具有的四級碳原子，2個苯基各自以碳-碳的單鍵連接之骨架。如此的卡多樹脂係可將在分子內具有：茀骨架、1-苯基-2,3-二氫-1H-茚骨架及/或N-苯基酚酞骨架、與具有羥基或環氧基的任一者之2個芳香族基的化合物當作來源而合成。當感光性組成物為負型感光性組成物時，較佳為使用具有自由基聚合性基的卡多樹脂。
作為卡多樹脂之較佳具體例，可舉出具有茀骨架且具有下述通式(25)所示之結構單元與自由基聚合性基之卡多樹脂、具有1-苯基-2,3-二氫-1H-茚骨架且具有下述通式(26)所示之結構單元與自由基聚合性基之卡多樹脂、具有N-苯基酚酞骨架且具有下述通式(27)所示之結構單元與自由基聚合性基之卡多樹脂。
Figure 106144721-A0202-12-0041-26
Figure 106144721-A0202-12-0041-27
Figure 106144721-A0202-12-0041-28
(上述通式(25)、(26)及(27)中，Q1~Q8表示直接鍵結於苯環的原子或取代基，各自可相同或可相異，為氫原子、碳數1~6的烷基或碳數1~6的烷氧基，a~h表示碳數1~6的烷基及/或碳數1~6的烷氧基之取代基數，為1或2)。
於提高形成畫素分割層及/或平坦化層時的 顯影性之方面，卡多樹脂的酸價較佳為10mgKOH/g以上，更佳為50mgKOH/g以上。另一方面，於抑制圖案邊緣的剝落之方面，較佳為300mgKOH/g以下，更佳為250mgKOH/g以下。
從抑制圖案邊緣的剝落之觀點來看，卡多樹脂之重量平均分子量較佳為2,000以上，更佳為3,000以上。另一方面，從抑制卡多樹脂之聚合時的凝膠化與抑制顯影步驟中的顯影殘渣之觀點來看，較佳為40,000以下，更佳為20,000以下。此處，所謂的重量平均分子量(Mw)，就是使用以四氫呋喃作為載體的凝膠滲透層析法進行分析，使用標準聚苯乙烯的校正曲線所換算之值。
作為卡多樹脂，亦可使用市售品，例如可舉出「ADEKA ARKLS」(註冊商標)WR-301(ADEKA(股)製)、「Ogsol」(註冊商標)CR-TR1、CR-TR2、CR-TR3、CR-TR4、CR-TR5、CR-TR6(以上，皆大阪氣體化學(股)製)。
作為聚醯亞胺樹脂，較佳為具有下述通式(28)所示之結構單元的聚醯亞胺樹脂。
Figure 106144721-A0202-12-0043-29
(上述通式(28)中，R1表示4~10價的有機基；R2表示2~8價的有機基；R3及R4各自獨立地表示酚性羥基、磺酸基或硫醇基；p及q各自獨立地表示0~6之範圍)。
通式(28)中，R1-(R3)p表示酸二酐的殘基。R1較佳為具有芳香族環或環狀脂肪族基之碳原子數5~40的有機基。
作為酸二酐，例如可舉出焦蜜石酸二酐、3,3’,4,4’-聯苯基四羧酸二酐、3,3’,4,4’-二苯基酮四羧酸二酐、雙(3,4-二羧基苯基)碸二酐、雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐、2,2-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷二酐等之具有芳香族環的四羧酸二酐、丁烷四羧酸二酐等之具有脂肪族基的四羧酸二酐、1,2,3,4-環戊烷四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛-7-烯-四羧酸二酐、雙環[2.2.2]辛烷四羧酸二酐等之具有環狀脂肪族基的四羧酸二酐。
通式(28)中，R2-(R4)q表示二胺的殘基。R2較佳為具有芳香族環或環狀脂肪族基之碳原子數5~40 的有機基。
作為二胺，例如可舉出間苯二胺、對苯二胺、1,4-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(4-胺基苯氧基)苯、1,3-雙(3-胺基苯氧基)苯、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]碸、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]丙烷、雙[4-(4-胺基苯氧基)苯基]六氟丙烷、雙[4-(3-胺基苯氧基)苯基]碸、9,9-雙(4-胺基苯基)茀、二胺基二苯基醚、二胺基二苯基碸、二胺基二苯基甲烷、二胺基二苯基丙烷、二胺基二苯基六氟丙烷、二胺基二苯硫基醚、聯苯胺、2,2’-雙三氟聯苯胺、2,2’-雙三氟聯苯胺等之具有芳香族環的二胺、2,5-雙(胺基甲基)雙環[2.2.1]庚烷、2,6-雙(胺基甲基)雙環[2.2.1]庚烷等之具有環狀脂肪族基的二胺。
具有通式(28)所示之結構單元的聚醯亞胺樹脂，較佳為在主鏈末端具有羧基、酚性羥基、磺酸基及/或硫醇基者。藉由使用具有羧基、酚性羥基、磺酸基及/或硫醇基的末端封閉劑來封閉聚醯亞胺樹脂之末端，可將此等之基導入至主鏈末端。作為末端封閉劑，例如可舉出單胺、酸酐、單羧酸、單醯氯化合物或單活性酯化合物。
從顯影性之觀點來看，聚醯亞胺樹脂的酸價較佳為10mgKOH/g以上，更佳為50mgKOH/g以上。另一方面，從抑制畫素分割層及/或平坦化層的圖案邊緣剝離之觀點來看，酸價更佳為300mgKOH/g以下。
從畫素分割層的硬度之觀點來看，聚醯亞胺樹脂之重量平均分子量較佳為5,000以上，更佳為10,000 以上。另一方面，從在鹼顯影液中的溶解性之觀點來看，較佳為100,000以下，更佳為70,000以下。此處，所謂的重量平均分子量(Mw)，就是以四氫呋喃作為載體的凝膠滲透層析法進行分析，使用標準聚苯乙烯的校正曲線所換算之值。
感光性組成物亦可含有分散劑。所謂的分散劑，就是指兼備具有對顏料表面的化學鍵結或吸附作用之顏料親和性基與具有親溶劑性的高分子鏈或基者。作為分散劑的作用機構，除了酸-鹼相互作用，還有氫鍵、凡得瓦力等複合地參與，於製作後述的顏料分散液時所進行的濕式介質分散處理中，藉由提高有機顏料表面對於分散介質的濕潤性，提高高分子鏈所致的有機顏料彼此之立體排斥效果及/或靜電排斥效果，而促進顏料的二次凝聚體之解凝聚，且抑制再凝聚，藉此達成使其分散狀態安定化之效果。
作為分散劑，可較宜使用具有鹼性吸附基的分散劑、具有酸性基的分散劑、非離子系分散劑，作為具有鹼性吸附基的分散劑，例如可舉出DisperBYK-142、145、164、167、182、187、2001、2008、2009、2010、2013、2020、2025、9076、9077、BYK-LP N6919、BYK-LP N21116、BYK-JET9152(以上，皆BYK化學公司製)、「Solsperse」(註冊商標)9000、11200、13650、20000、24000、24000SC、24000GR、32000、32500、32550、326000、33000、34750、35100、35200、37500、39000、56000、76500(以上，皆LUBRIZOL公司製)、 Efka-PX4310、4320、4710(以上，皆BASF公司製)，作為具有酸性基的分散劑，例如可舉出「Tego dispers」(註冊商標)655(EVONIK公司製)、Disper BYK-102、118、174、2096(以上，皆BYK化學公司製)，作為非離子系分散劑，例如可舉出「SOLSPERSE」(註冊商標)54000(LUBRIZOL公司製)、「Tego dispers」(註冊商標)650、652、740W(以上，皆EVONIK公司製)，考慮(a)遮光材料所包含的各顏料固有之表面特性或平均一次粒徑，為了得到後述的平均分散粒徑，可適宜地單獨或混合複數種此等之分散劑而使用。
於後述的濕式介質分散處理中之充分的解凝聚性與抑制分散處理後的再凝聚之方面，相對於(a)遮光材料所包含的顏料100重量份，分散劑之含量較佳為10重量份以上，更佳為20重量份以上。另一方面，於抑制因顏料之過度分散所致的再凝聚性之方面，相對於(a)遮光材料所包含的顏料100重量份，較佳為100重量份以下，更佳為60重量份以下。
感光性組成物亦可含有溶劑。由於含有溶劑，可調整黏度、塗布性、儲存安定性，藉由選擇恰當的溶劑，可提高最終所得之畫素分割層及/或平坦化層的膜厚均勻性。
作為溶劑，例如可舉出醚類、乙酸酯類、酯類、酮類、芳香族烴類、醇類等。亦可含有2種以上的此等。作為醚類，例如可舉出乙二醇單甲基醚、乙二醇單乙基醚、乙二醇單正丙基醚、乙二醇單正丁基醚、二 乙二醇單甲基醚、二乙二醇單乙基醚、二乙二醇單正丙基醚、二乙二醇單正丁基醚、三乙二醇單甲基醚、三乙二醇單乙基醚、丙二醇單甲基醚、丙二醇單乙基醚、丙二醇單正丙基醚、丙二醇單正丁基醚、二丙二醇單甲基醚、二丙二醇單乙基醚、二丙二醇單正丙基醚、二丙二醇單正丁基醚、二丙二醇二甲基醚、二丙二醇甲基正丁基醚、三丙二醇單甲基醚、三丙二醇單乙基醚、二乙二醇二甲基醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙基醚、四氫呋喃等。作為乙酸酯類，例如可舉出乙酸丁酯、乙二醇單甲基醚乙酸酯、乙二醇單乙基醚乙酸酯、丙二醇單甲基醚乙酸酯(以下，「PGMEA」)、3-甲氧基丁基乙酸酯(以下，「MBA」)、乙二醇單丁基醚乙酸酯、二乙二醇單甲基醚乙酸酯、二乙二醇單乙基醚乙酸酯、二乙二醇單丁基醚乙酸酯、環己醇乙酸酯、丙二醇二乙酸酯、二丙二醇甲基醚乙酸酯、3-甲氧基-3-甲基-1-丁基乙酸酯、1,4-丁二醇二乙酸酯、1,3-丁二醇二乙酸酯、1,6-己二醇二乙酸酯等。作為酯類，例如可舉出2-羥基丙酸甲酯、2-羥基丙酸乙酯等之乳酸烷酯類、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙氧基乙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯、3-甲基-3-甲氧基丁基乙酸酯、3-甲基-3-甲氧基丁基丙酸酯、乙酸乙酯、乙酸正丙酯、乙酸異丙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯、甲酸正戊酯、乙酸異戊酯、丙酸正丁酯、丁酸乙酯、丁酸正丙酯、丁酸異丙酯、丁酸正丁酯、丙酮酸甲酯、丙 酮酸乙酯、丙酮酸正丙酯、乙醯乙酸甲酯、乙醯乙酸乙酯、2-氧代丁酸乙酯等。作為酮類，例如可舉出甲基乙基酮、環己酮、2-庚酮、3-庚酮等。作為芳香族烴類，例如可舉出甲苯、二甲苯等。作為醇類，例如可舉出異丙醇、丁醇、異丁醇、戊醇、4-甲基-2-戊醇、3-甲基-2-丁醇、3-甲基-3-甲氧基丁醇、二丙酮醇等。一般而言，在大致區分顏料與染料之方面，顏料係視為在溶劑中不溶的著色材料，但依據顏料種類與溶劑種類之組合，有顏料以一定的溶解度稍微溶解之情況。於形成本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦化層用的感光性組成物中，在抑制(a)遮光材料所包含的顏料之溶解，提高分散安定性及發光可靠性之方面，全部溶劑中乙酸酯系溶劑之含量較佳為50重量%以上，更佳為70重量%以上。
從塗布步驟中之塗布膜的膜厚均勻性之觀點來看，感光性組成物中的溶劑之含量較佳為50重量%以上，更佳為70重量%以上。另一方面，從抑制顏料沈降之觀點來看，溶劑之含量較佳為95重量%以下，更佳為90重量%以下。
感光性組成物亦可含有熱交聯劑。藉由含有熱交聯劑，可提高最終所得之畫素分割層及/或平坦化層的膜強度。作為熱交聯劑，可舉出在分子內至少具有2個以上的烷氧基甲基及/或羥甲基之化合物、具有2個以上的環氧基之化合物。
作為具有2個以上的烷氧基甲基及/或羥甲基 之化合物，例如可舉出Nikalac(註冊商標)MW-100LM、MX-270、MX-280、MX-290(三和化學(股)製)、DML-PC(本州化學工業(股)製)。
作為具有2個以上的環氧基之化合物，例如可舉出「Epolite」(註冊商標)40E、同100E、同200E、同400E、同70P、同200P、同400P、同4000、同3002(N)(以上，皆共榮社化學(股)製)、「jER」(註冊商標)828、同1002、同1750、同1007、同YX8100-BH30、同E1256、同E4250、同E4275(以上，皆三菱化學(股)製)、「TECHMORE」(註冊商標)VG-3101L(PRINTECH(股)製)、「TEPIC」(註冊商標)S、同G、同P、同L(以上，皆日產化學工業(股)製)。
感光性組成物亦可含有調平劑。藉由含有調平劑，可提高塗布性或塗布膜之表面的平滑性，可提高最終所得之畫素分割層及/或平坦化層的膜厚均勻性。作為調平劑，可舉出月桂基硫酸銨、聚氧乙烯烷基醚硫酸三乙醇胺等之陰離子界面活性劑、硬脂胺乙酸酯、月桂基三甲基銨氯化物等之陽離子界面活性劑、月桂基二甲基胺氧化物、月桂基羧基甲基羥基乙基咪唑鎓甜菜鹼等之兩性界面活性劑、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚、山梨糖醇酐單硬脂酸酯等之非離子界面活性劑、以聚二甲基矽氧烷等作為主骨架的聚矽氧系界面活性劑、氟系界面活性劑，作為市售品，例如可舉出BYK-302、BYK-333、BYK-350、BYK-392(以上，皆BYK化學公司製)。
作為調製感光性組成物之方法，例如可舉出作為(a)遮光材料，預先調製至少包含具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之顏料分散液，再添加包含(b)感光劑的其他成分，進行攪拌，視需要進行過濾之調製方法。
顏料分散液係可混合顏料、分散劑、溶劑及視需要混合其它成分，進行濕式介質分散處理而得，可考慮(a)遮光材料所包含的顏料種類之特性，對於每單一的顏料分別調製顏料分散液後，混合彼等而得，或可藉由混合複數種的顏料並同時分散之共分散處理而得。
作為進行濕式介質分散處理用的分散機，可舉出橫型或縱型珠磨機、輥磨機等，例如可舉出「DYNO-MILL」(註冊商標)(Willy A.Bachofen公司製)、「Spike Mill」(註冊商標)(井上製作所(股)製)、「Sand Grinder」(註冊商標)(DUPONT公司製)。作為分散機用的介質，可舉出氧化鋯珠、鋯石珠、無鹼玻璃珠，為了避免因破裂或磨碎之污染而發光可靠性降低者，較佳為使用不包含成為金屬及金屬離子雜質源的成分之珠。又，珠之直徑較佳為0.03~5mm，真球度愈高愈佳。分散機之運轉條件只要是以顏料的分散後平均粒度或黏度成為所欲的範圍之方式，考慮珠硬度、處理性、生產性等，適宜設定即可。
於顏料分散液中，(a)遮光材料所包含的顏料之平均分散粒徑，從塗布性與儲存安定性之觀點來看，較佳為40nm以上。另一方面，從提高畫素分割層及/或 平坦化層的圖案直線性之觀點來看，較佳為200nm以下。此處所言的顏料之平均分散粒徑，就是指粒徑的數量平均值，可使用粒度分布測定裝置進行測定。作為粒度分布測定裝置，可使用動態光散射法粒度分布測定裝置「SZ-100(HORIBA製)」或雷射繞射‧散射法粒度分布測定裝置「MT-3000(Microtrac製)」。
接著，說明本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦層中較佳的膜特性與形成方法。本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦層係使具有負型或正型之任一種感光性的感光性組成物硬化而得之硬化膜。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦層，在減低外光反射，提高作為顯示裝置的價值之方面，膜厚每1.0μm的光學濃度較佳為0.5以上，更佳為0.8以上，尤佳為1.0以上。此處所言的光學濃度，就是指在透光性基材上，使用感光性組成物，以成為膜厚1.0μm的膜厚之方式形成硬化膜，使用光學濃度計(X-Rite公司製；X-rite 361T)，測定入射光強度與穿透光強度，由以下之式所算出的值，光學濃度愈高，表示遮光性愈高。
光學濃度=log10(I0/I)
I0：入射光強度
I：穿透光強度
又，在波長550nm的透光率與在波長380~450nm之區域中的最大透光率之差較佳為小於30%，更 佳為小於25%，尤佳為小於20%。此處所言的透光率，係可在透光性基材上，以成為膜厚1.0μm的膜厚之方式形成硬化膜，用紫外可見分光光度計的「UV-260(島津製作所(股)製)」進行測定。作為透光性基材，可較宜使用透光性玻璃基材的「Tempax(AGC Techno Glass(股)製)」。
兼顧在波長550nm的透光率與在波長380~450nm之區域中的最大透光率之差及光學濃度之兩者，係在光學特性上較宜。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦層之介電常數，於提高有機EL顯示裝置的發光可靠性及驅動安定性之方面，愈低愈佳。此處所言的介電常數，就是指相對介電常數，畫素分割層、平坦層共通，在頻率1kHz的介電常數較佳為7.0以下，更佳為5.0以下，尤佳為4.0以下。此處，介電常數係可使用Agilent Technologies公司製LCR計等的介電常數測定裝置進行測定。
本發明之有機EL顯示裝置的畫素分割層，從可將顯示區域予以高精細化，提高影像或映像的顯示品質，提高作為顯示裝置的價值之點來看，顯示區域中之畫素分割層的開口率較佳為30%以下，更佳為20%以下。此處所言的開口率，就是指相對於畫素分割層之面積而言，畫素分割層的開口部之面積率。由於開口率愈低，則顯示區域中之畫素分割層的形成面積愈大，故畫素分割層的光學特性與發光可靠性之有關性能係大幅地影響。即，愈是開口率低且具有高精細的顯示區域之有 機EL顯示裝置，愈更大地貢獻本發明之效果。
本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層及/或平坦層，例如可藉由依順序包含塗布步驟、預烘烤步驟、曝光步驟、顯影步驟、硬化步驟之方法而形成。從生產性提高之觀點來看，亦可進行在基板每一片彙集數片的有機EL顯示裝置，將其配置而形成之多面取得加工。
於塗布步驟中，將感光性組成物塗布於基材上而得到塗布膜。例如，於頂部發光型之有機EL顯示裝置的情況，作為基材，可舉出在玻璃基材或可撓性基材之表面上，依順序積層有由圖案狀的銀/銅合金等所構成之反射層與相同圖案狀的ITO電極者。作為可撓性薄膜基材，較佳為具有高的耐熱性與彎曲性之基材，其中較佳為在作為暫時支撐體的玻璃基材之表面上固定有聚醯亞胺系薄膜的基材。
於塗布步驟中，塗布感光性組成物而得到塗布膜。作為塗布步驟中使用的塗布裝置，例如可舉出狹縫塗布機、旋轉塗布機、凹版塗布機、浸塗機、幕流(curtain flow)塗布機、輥塗機、噴塗機、網版印刷機、噴墨機。畫素分割層及平坦化層由於在構件構成上通常以0.5~3μm左右之厚度形成，故從適合薄膜塗布，不易發生塗布缺陷，膜厚均勻性與生產性優異來看，較佳為狹縫塗布機或旋轉塗布機，從省液之觀點來看，更佳為狹縫塗布機。
於預烘烤步驟中，藉由加熱而使塗布膜中的 溶劑揮發，得到預烘烤膜。作為加熱裝置，例如可舉出熱風烘箱、熱板、遠紅外線烘箱(IR烘箱)等。亦可進行針間隙預烘烤或接觸預烘烤。預烘烤溫度較佳為50~150℃，預烘烤時間較佳為30秒~數小時。例如，可在80℃預烘烤2分鐘後，在120℃預烘烤2分鐘等，以二段或其以上的多段進行預烘烤。為了更提高膜厚均勻性，在塗布步驟之後，藉由真空/減壓乾燥機使塗布膜所包含的溶劑之一部分揮發後，亦可進行加熱的預烘烤步驟。
於曝光步驟中，從預烘烤膜的膜面側，隔著光罩照射活性化學線而得到曝光膜。作為曝光步驟中使用的曝光裝置，可舉出步進曝光機、鏡面投影光罩對準曝光機(MPA)、平行光罩對準曝光機(PLA)等。作為曝光時所照射的活性化學線，例如可舉出紫外線、可見光線、電子線、X射線、KrF(波長248nm)雷射、ArF(波長193nm)雷射等。其中，較佳為水銀燈的j線(波長313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)或g線(波長436nm)，更佳為彼等之混合線。曝光量通常為10~4000mJ/cm2左右(i線換算值)。作為遮罩，例如可舉出在玻璃、石英或薄膜等之在曝光波長中具有透光性的基材之單側的表面上，圖案狀地成膜有由鉻等的金屬或黑色有機樹脂所構成之具有曝光光線遮蔽性的薄膜之遮罩。於畫素分割層及/或平坦化層之形成中，可使用負型或正型的任一種遮罩，使活性化學線僅穿透遮罩開口部，藉由圖案曝光而得到曝光膜。
於顯影步驟中，當感光性組成物具有負型感光性時，藉由顯影而去除未曝光部，得到圖案狀的顯影膜。另一方面，當感光性組成物具有正型感光性時，藉由顯影而去除曝光部，得到圖案狀的顯影膜。作為顯影方法，例如可舉出於作為顯影液的有機系鹼水溶液或無機系鹼水溶液中，藉由噴淋、浸漬、覆液(puddle)等之方法，浸漬曝光膜10秒~10分鐘之方法。
於曝光膜中，利用曝光部/未曝光部對顯影液的溶解性之差，可得到圖案狀的顯影膜。此處，所謂的曝光部，就是指通過遮罩開口部照射曝光光線之部位，另一方面，所謂的未曝光部，就是指未照射曝光光線之部位。
當感光性組成物具有負型感光性時，未曝光部成為圖案開口部，當具有正型感光性時，曝光部成為圖案開口部。更具體而言，於形成畫素分割層時，開口部最終地成為有機EL顯示裝置中的發光畫素部。另一方面，於形成平坦化層時，開口部最終地成為有機EL顯示裝置中的接觸孔。
作為顯影步驟中可用的顯影液，可舉出有機系鹼水溶液、無機系鹼水溶液，通常在大氣壓下15~35℃之範圍內以一定的液溫使用。作為有機系鹼水溶液，例如可舉出氫氧化四甲銨水溶液(以下，「TMAH」)、二乙醇胺水溶液、二甲基胺基乙醇水溶液、二乙基胺基乙醇水溶液、三乙胺水溶液、二乙胺水溶液。作為無機系鹼水溶液，例如可舉出氫氧化鉀水溶液(以下，「KOH」)、 碳酸氫鈉水溶液、氫氧化鈉水溶液。其中，從在顯影後的硬化步驟中能使在顯影步驟中滲透至顯影膜的表層或內部而殘留的顯影液容易地揮發之點來看，較佳為TMAH水溶液，其中從得到高的顯影性且可將生產節拍縮短化之點來看，TMAH水溶液的濃度更佳為1重量%以上。通常，畫素分割層及平坦化層之形成中所用的顯影液為2.38重量%TMAH水溶液。2.38重量%TMAH水溶液係可使用市售品，或也可將高濃度品稀釋而使用，亦可在對於發光可靠性無不良影響的範圍內，微量添加非離子系界面活性劑而使用於顯影。又，顯影後亦可施加藉由去離子水的噴淋之洗淨處理及/或空氣噴射而進行之除水處理。
於硬化步驟中，藉由加熱而使顯影膜熱硬化，同時使水分、殘留的顯影液等之成分揮發，而得到硬化膜。硬化步驟後所得之硬化膜係相當於本發明之有機EL顯示裝置所具備的畫素分割層或平坦化層。作為加熱裝置，例如可舉出熱風烘箱、IR烘箱等。為了提高發光可靠性，加熱溫度較佳為200~280℃，加熱時間較佳為15~90分鐘。加熱環境較佳為空氣或氮氣環境，加熱時的壓力較佳為大氣壓。
[實施例]
以下，舉出實施例及比較例來詳細說明本發明，惟本發明之態樣不受此等所限定。再者，實施例及比較例中記載的各種顏料僅使用不意圖含有表面處理劑等的其他成分之未處理型的顏料。
首先，說明各實施例及比較例中的評價方法。
<必要最低曝光量之算出方法>
於100mm×100mm的無鹼玻璃基板之表面上，藉由濺鍍法，將厚度10nm的銀/銅合金之薄膜(體積比10：1)予以全面成膜，進行蝕刻而形成圖案狀的金屬反射層，接著藉由濺鍍法，將膜厚10nm的ITO透明導電膜予以全面成膜，得到必要最低曝光量評價用基板。
於所得之必要最低曝光量評價用基板之表面上，以最終所得之硬化膜的厚度成為1.0μm之方式調節旋轉數，以旋轉塗布機塗布感光性組成物而得到塗布膜，使用熱板(SCW-636；大日本SCREEN製造(股)製)，將塗布膜在大氣壓下以100℃預烘烤120秒，而得到預烘烤膜。使用兩面對準單面曝光裝置(光罩對準曝光機PEM-6M；UNION光學(股)製)，隔著感度測定用的灰階遮罩(MDRM MODEL 4000-5-FS；Opto-Line International公司製)，以超高壓水銀燈的j線(313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)及g線(波長436nm)之混合線進行圖案化曝光後，使用微影術用小型顯影裝置(AD-2000；瀧澤產業(股)製)，以2.38重量%TMAH水溶液進行顯影，而得到顯影膜。接著，使用FPD檢査顯微鏡(MX-61L；OLYMPUS(股)製)，觀察所製作的顯影膜之解析圖案，於線與間隙圖案(line and space pattern)中，將圖案線寬與間距寬度以1比1形成的曝光量(mJ/cm2：i線照度計之值)當作感光性組成物之必要最低曝光量(感度)。
(1)光學特性之評價
(i)光學濃度
對於實施例1~31及比較例1~34所得之在Tempax之表面上具備硬化膜的光學特性評價用基板，使用光學濃度計(X-Rite公司製X-Rite 361T)，從膜面側，在面內3個地方測定光學濃度(OD值)，將其平均值的小數點第二位予以四捨五入，求出到小數點第一位為止之數值，藉由除以硬化膜的厚度(μm)，而算出硬化膜的厚度每1.0μm之OD值(OD/μm)。另外測定未形成硬化膜之Tempax的基板固有之OD值，結果為0.00，故將光學特性評價用基板之OD值視為硬化膜的OD值。再者，硬化膜的厚度係使用觸針式膜厚測定裝置(東京精密(股)；Surfcom)，在面內3個地方測定，將其平均值的小數點第二位予以四捨五入，求出到小數點第一位為止之數值。
(ii)波長380~450nm之區域中的最大透光率與在波長550nm的透光率之差
對於實施例1~31及比較例1~34所得之在Tempax之表面上具備硬化膜的光學特性評價用基板，使用紫外可見分光光度計的「UV-260(島津製作所(股)製)」，每1nm測定可見光區域的380~780nm中之各波長的透光率，自波長380~450nm之區域中的最大透光率(%)之值，扣除在波長550nm的透光率(%)之值，算出透光率之差。將波長380~450nm之區域中的最大透光率與在波長550nm的透光率之差愈小的硬化膜，視為光學特性愈優異，根據以下的判定基準進行評價，將A~C當作 合格，將D~E當作不合格。再者，於全部的實施例及比較例中，沒有透光率之差成為負值的光學特性評價基板。
A：小於20%
B：20%以上且小於25%
C：25%以上且小於30%
D：30%以上且小於35%
E：35%以上
(2)介電常數之評價
對於實施例1~31及比較例1~34所得之依順序具備鋁基材、硬化膜、鋁薄膜的介電常數評價用基板，使用介電常數測定裝置的「LCR計4294A(Agilent Technologies公司製)」，在面內4個地方測定在頻率1kHz的介電常數，將其平均值的小數點第二位予以四捨五入，求出到小數點第一位為止之數值。再者，硬化膜的厚度係使用觸針式膜厚測定裝置(東京精密(股)；Surfcom)，在面內4個地方測定，將其平均值的小數點第二位予以四捨五入，求出到小數點第一位為止之數值。
(3)發光可靠性之評價
將實施例1~31及比較例1~34所得之有機EL顯示裝置，以發光面為上，在經加熱到80℃的熱板上，以10mA/cm2直流驅動而使其發光，照這樣靜置，於1小時後、500小時後、1000小時後，測定相對於發光畫素的面積而言的發光部之面積率(畫素發光面積率)，將1小時後的畫素發光面積率當作基準，愈能維持高的畫素發 光面積率則視為發光可靠性愈優異，根據以下之判定基準進行評價，將A~C當作合格，將D~F當作不合格。
A：90%以上
B：85%以上且小於90%
C：80%以上且小於85%
D：60%以上且小於80%
E：小於60%
F：於驅動後立即的時間點，非亮燈的發光畫素部有1處以上
(合成例：聚醯亞胺樹脂溶液A之合成)
於乾燥氮氣流下，將150.15g的2,2-雙(3-胺基-4-羥基苯基)六氟丙烷(0.41mol)、6.20g的1,3-雙(3-胺基丙基)四甲基二矽氧烷(0.02莫耳)及作為末端封閉劑之13.65g的3-胺基苯酚(0.13mol)溶解於溶劑之500g的N-甲基-2-吡咯啶酮(以下，「NMP」)中，於其中加入155.10g的雙(3,4-二羧基苯基)醚二酐(0.50莫耳)及150g的NMP，在20℃攪拌1小時，更一邊去除水一邊在180℃攪拌4小時。反應結束後，將反應液投入至10L的水中，過濾收集所生成的沈澱物，以水洗淨5次，於80℃的真空乾燥機中乾燥20小時，合成具有上述通式(28)所示之結構單元的鹼可溶性樹脂，其為聚醯亞胺樹脂粉末，將此溶解於溶劑的PGMEA中，得到固體成分30重量%的聚醯亞胺樹脂溶液A。再者，聚醯亞胺樹脂粉末係重量平均分子量(Mw)為25,000，固體成分酸價為160(mgKOH/g)，在PGMEA中易溶。
(合成例：醌二疊氮化合物a之合成)
於乾燥氮氣流下，使作為具有酚性羥基的化合物之21.23g(0.05mol)的TrisP-PA(本州化學工業(股)製)與33.58g(0.125mol)的5-萘醌二疊氮磺醯氯溶解於450.00g的1,4-二
Figure 106144721-A0202-12-0061-86
烷中，成為室溫。於其中，一邊維持系統內為25~35℃，一邊滴下混合有50.00g的1,4-二
Figure 106144721-A0202-12-0061-87
烷之12.65g(0.125mol)的三乙胺。滴下後在30℃攪拌2小時。接著，過濾三乙胺鹽，將濾液投入至水中，過濾回收所析出的沈澱。將此沈澱物在真空乾燥機中乾燥，得到結構式(29)所示之醌二疊氮化合物a。
Figure 106144721-A0202-12-0062-30
Figure 106144721-A0202-12-0062-31
(調製例1)
於作為溶劑之850.00g的PGMEA中混合作為分散劑之37.50g的SOLSPERSE 20000(在分子末端具有三級胺基作為鹼性吸附基之聚醚系高分子分散劑)，攪拌10分鐘後，投入作為具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之112.50g的C.I.顏料黃192，攪拌30分鐘，以填充有0.4mm
Figure 106144721-A0202-12-0062-88
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用30分鐘循環方式進行濕式介質分散處理。再者，以填充有0.05mm
Figure 106144721-A0202-12-0062-89
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用1小時循環方式 進行濕式介質分散處理，調製固體成分15重量%的顏料分散液1。表1中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0066-2
(調製例2~18)
代替C.I.顏料黃192，分別使用作為具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之C.I.顏料黃120、181、194、151、175、180，以與調製例1同樣之程序調製顏料分散液2~7。
又，代替C.I.顏料黃192，分別使用作為不具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之C.I.顏料黃147、155、55、74、83、138、139、150，以與調製例1同樣之程序調製顏料分散液顏料分散液8~15。
再者，代替C.I.顏料黃192，分別使用C.I.顏料橙13、62、64，以與調製例1同樣之程序調製顏料分散液16~18。
表1中顯示各原料之摻合量(g)。
(調製例19~32)
代替C.I.顏料黃192，分別使用C.I.顏料藍15：6、60、16，以與調製例1同樣之程序，分別調製顏料分散液19~21。
代替C.I.顏料黃192，分別使用C.I.顏料紅123、149、179、190、254，以與調製例1同樣之程序，調製顏料分散液22~26。
代替C.I.顏料黃192，分別使用C.I.顏料紫19、29、37、23，以與調製例1同樣之程序，調製顏料分散液27~30。
代替C.I.顏料黃192，使用C.I.顏料綠7，以與調製例1同樣之程序，調製顏料分散液31。
代替C.I.顏料黃192，使用C.I.顏料黑7，以與調製例1同樣之程序，調製顏料分散液32。再者，於C.I.顏料黑7中，使用以爐法所製造的酸性碳黑。
表2中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0069-4
(調製例33)
代替SOLSPERSE 20000，使用Tego dispers655(在分子末端具有磷酸基作為酸性吸附基的環氧乙烷/苯乙烯氧化物系高分子分散劑)作為分散劑，以與調製例1同樣之程序，調製顏料分散液33。
表2中顯示各原料之摻合量(g)。
(調製例34~37)
代替SOLSPERSE 20000，使用Tego dispers655作為分散劑，另外代替顏料黃192，使用C.I.顏料黃150、C.I.顏料藍60、C.I.顏料紅179、C.I.顏料紫29，以與調製例1同樣之程序分別調製顏料分散液34~37。
表2中顯示各原料之摻合量(g)。
(調製例38)
混合6.60g的顏料分散液1、8.80g的顏料分散液20與6.60g的顏料分散液24並攪拌後，混合5.63g的聚醯亞胺樹脂溶液A、作為具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之1.69g的二新戊四醇之ε-己內酯加成丙烯酸酯(KAYARAD DPCA-60；日本化藥(股)製)、作為光聚合起始劑之0.45g的「Adeka Cluz」(註冊商標)NCI-831(ADEKA(股)製)、作為熱交聯劑之在分子內具有3個環氧基的化合物之0.38g的VG-3101L、作為溶劑之11.36g的PGMEA及8.50g的MBA，栓緊後在搖動器上攪拌30分鐘，調製固體成分15重量%的負型感光性組成物1。表3中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0071-5
(調製例39~54)
以表3~4中所示的各原料之種類及摻合量(g)，分別調製固體成分15重量%的負型感光性組成物2~17。
Figure 106144721-A0305-02-0073-45
(調製例55)
混合6.60g的顏料分散液1、8.80g的顏料分散液20與6.60g的顏料分散液24並攪拌後，混合作為鹼可溶性樹脂之5.11g的「ADEKA ARKLS」(註冊商標)WR-301(ADEKA(股)製；以下述比例包含：44重量%的對於使具有環氧基的芳香族化合物及不飽和羧酸進行開環加成反應所得之樹脂，使羧酸酐反應而得之卡多樹脂、56重量%的PGMEA之樹脂溶液)、作為具有2個以上的自由基聚合性基之化合物之1.13g的KAYARAD DPCA-60、作為光聚合起始劑之0.45g的NCI-831、作為熱交聯劑之在分子內具有3個環氧基的化合物之0.38g的VG-3101L、作為溶劑之12.44g的PGMEA及8.50g的MBA，栓緊後在搖動器上攪拌30分鐘，調製固體成分15重量%的負型感光性組成物18。表4中顯示各原料之摻合量(g)。再者，WR-301的固體成分酸價為99(mgKOH/g)，重量平均分子量為5700。
(調製例56~88、90~95)
以表4~9中所示的各原料之種類及摻合量(g)，分別調製固體成分15重量%的負型感光性組成物19~57。
Figure 106144721-A0305-02-0075-46
Figure 106144721-A0305-02-0076-42
Figure 106144721-A0305-02-0077-9
Figure 106144721-A0305-02-0078-10
Figure 106144721-A0305-02-0079-11
(調製例96)
混合3.24g的顏料分散液33、4.31g的顏料分散液35與3.24g的顏料分散液36並攪拌後，混合16.34g的聚醯亞胺樹脂溶液A、作為感光劑之0.98g的醌二疊氮化合物a、作為溶劑之13.40g的PGMEA及8.50g的MBA，栓緊後在搖動器上攪拌30分鐘，調製固體成分15重量%的正型感光性組成物1。表10中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0081-12
(調製例97~99)
以表10中所示的各原料之種類及摻合量(g)，分別調製固體成分15重量%的正型感光性組成物2~4。
(實施例1)
於Tempax(50mm×50mm的透光性玻璃基材)之表面上，以最終所得之硬化膜的厚度成為1.0μm之方式調節旋轉數，以旋轉塗布機塗布負型感光性組成物1而得到塗布膜，使用熱板(SCW-636；大日本SCREEN製造(股)製)，將塗布膜在大氣壓下以100℃預烘烤120秒，而得到預烘烤膜。使用兩面對準單面曝光裝置(光罩對準曝光機PEM-6M；UNION光學(股)製)，將超高壓水銀燈的j線(313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)及g線(波長436nm)之混合線，以前述方法所得之必要最低曝光量，對於預烘烤膜全面照射曝光光線，而得到曝光膜。接著，使用微影術用小型顯影裝置(AD-2000；瀧澤產業(股)製)，以2.38重量%TMAH水溶液顯影60秒，以去離子水沖洗30秒而得到顯影膜，使用高溫惰氣烘箱(INH-9CD-S；光洋熱系統(股)製)，於氮氣環境下，將顯影膜以250℃加熱60分鐘，於Tempax上得到膜厚1.0μm的硬化膜。使用以上之程序所製作的光學特性評價用基板，以前述之方法評價硬化膜的光學特性，表11中顯示結果。
接著，於厚度0.5mm的鋁基材(70mm×70mm)之表面上，以最終所得之硬化膜的厚度成為2.0μm之方式調節旋轉數，以旋轉塗布機塗布負型感光性組成物1 而得到塗布膜，使用熱板，將塗布膜在大氣壓下以100℃預烘烤120秒，而得到預烘烤膜。使用兩面對準單面曝光裝置，將超高壓水銀燈的j線(313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)及g線(波長436nm)之混合線，以前述方法所得之必要最低曝光量，對於預烘烤膜全面照射曝光光線，而得到曝光膜。使用高溫惰氣烘箱，於氮氣環境下，將曝光膜以250℃加熱60分鐘，於鋁基材上得厚度2.0μm的硬化膜。再者，於硬化膜之表面上，以成為70nm的膜厚之方式圖案蒸鍍鋁薄膜，得到介電常數評價用基板。表11中顯示評價硬化膜之介電常數的結果。再者，熱板、兩面對準單面曝光裝置、高溫惰氣烘箱係使用與上述的光學特性評價用基板製作時相同者。
Figure 106144721-A0305-02-0084-13
接著，用以下之方法，製作發光可靠性評價用之有機EL顯示裝置，其具備將負型感光性組成物1硬化所得之硬化膜作為畫素分割層。
圖3中顯示具備畫素分割層的有機EL顯示裝置之製作步驟。
於38mm×46mm的無鹼玻璃基板(11)之表面上，藉由濺鍍法，將厚度10nm的銀/銅合金之薄膜(體積比10：1)予以全面成膜，進行蝕刻而形成圖案狀的金屬反射層(12)。接著藉由濺鍍法，將厚度10nm的ITO透明導電膜予以全面成膜，進行蝕刻而形成相同圖案狀的第二電極(13)與作為引出電極的輔助電極(14)後，以「Semico Clean」(註冊商標)56(FURUCHI化學(股)製)進行10分鐘超音波洗淨，以超純水洗淨，而得到電極形成基板。
於電極形成基板之表面上，使用旋轉塗布機(MS-A100；MIKASA(股)製)，以最終所得之畫素分割層的厚度成為1.0μm之方式調節旋轉數，塗布負型感光性組成物1，而得到塗布膜。使用熱板(SCW-636；大日本SCREEN製造(股)製)，將塗布膜在大氣壓下以100℃預烘烤120秒，而得到預烘烤膜。
使用兩面對準單面曝光裝置(光罩對準曝光機PEM-6M；UNION光學(股)製)，隔著負型曝光遮罩，將超高壓水銀燈的j線(313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)及g線(波長436nm)之混合線，以必要最低曝光量，對於預烘烤膜照射曝光光線圖案，得到曝光膜。接著，使用微影術用小型顯影裝置(AD-2000；瀧澤產業 (股)製)，以2.38重量%TMAH水溶液顯影60秒，以去離子水沖洗30秒，而得到顯影膜。
再者，使用高溫惰氣烘箱，於氮氣環境下，將顯影膜以250℃加熱60分鐘而成為硬化膜，得到在電極形成基板中央部之縱16mm/橫16mm的區域內排列有開口部(橫70μm/縱260μm)且形成有厚度1.0μm的畫素分割層(15)之開口率25%的畫素分割層形成基板1。再者，此開口部係在經過後述的製程後，最終成為有機EL顯示裝置的發光畫素部之部分。
接著，使用畫素分割層形成基板1，進行有機EL顯示裝置之製作。為了藉由真空蒸鍍法形成包含發光層的發光畫素(16)，於真空度1×10-3Pa以下之蒸鍍條件下，對於蒸鍍源，使畫素分割層形成基板1旋轉，首先作為電洞注入層，以膜厚成為10nm之方式將化合物(HT-1)成膜，作為電洞輸送層，以膜厚成為50nm之方式將化合物(HT-2)成膜。接著，於發光層上，以膜厚成為40nm之方式，蒸鍍化合物(GH-1)作為主體材料，蒸鍍化合物(GD-1)作為摻雜材料。然後，作為電子輸送材料，將化合物(ET-1)與化合物(LiQ)以體積比1：1且以40nm之厚度進行積層。
接著，以膜厚成為2nm之方式蒸鍍化合物(LiQ)後，以膜厚成為10nm之方式蒸鍍銀/鎂合金(體積比10：1)而形成第一電極(17)。然後，於低濕/氮氣環境下，藉由使用環氧樹脂系黏著劑，黏著帽狀玻璃板而密封，得到有機EL顯示裝置1。還有，此處所言的厚度係 晶體振盪式膜厚監視器的顯示值。
以下分別顯示發光畫素之形成中所用的化合物群(HT-1、HT-2、GD-1、GH-1、LiQ、ET-1)之化學結構。
Figure 106144721-A0202-12-0085-43
Figure 106144721-A0202-12-0085-44
Figure 106144721-A0202-12-0086-45
Figure 106144721-A0202-12-0086-46
Figure 106144721-A0202-12-0087-47
Figure 106144721-A0202-12-0087-48
接著，另外僅更換負型曝光遮罩的開口率，藉由同樣之方法，製作具備開口率18%的畫素分割層之有機EL顯示裝置2。
對於有機EL顯示裝置1及2，藉由前述之方法評價發光可靠性，表12中顯示結果。
Figure 106144721-A0305-02-0090-43
接著，用以下之方法，製作發光可靠性評價用之有機EL顯示裝置，其具備將負型感光性組成物1硬化所得之硬化膜作為畫素分割層及平坦化層。
圖4中顯示具備畫素分割層及平坦化層的有機EL顯示裝置之製作步驟。
於38mm×46mm的無鹼玻璃基板(18)之表面上，使用旋轉塗布機，以最終所得之平坦化層的厚度成為1.5μm之方式調節旋轉數，塗布負型感光性組成物1，而得到塗布膜。使用熱板，將塗布膜在大氣壓下以100℃預烘烤120秒，而得到預烘烤膜。使用兩面對準單面曝光裝置，隔著負型曝光遮罩，將超高壓水銀燈的j線(313nm)、i線(波長365nm)、h線(波長405nm)及g線(波長436nm)之混合線，以必要最低曝光量，對於預烘烤膜照射曝光光線圖案，而得到曝光膜。接著，使用微影術用小型顯影裝置，以2.38重量%TMAH水溶液顯影60秒，以去離子水沖洗30秒而得到顯影膜。再者，使用高溫惰氣烘箱，於氮氣環境下，將顯影膜以250℃加熱60分鐘而成為硬化膜，在無鹼玻璃基板之中央，得到在面內不具有開口部的平坦膜狀之平坦化層(19)。
接著，於平坦化層(19)之表面上，分別以濺鍍法，將厚度10nm的銀/銅合金之薄膜(體積比10：1)與厚度10nm的ITO透明導電膜依順序地全面成膜。一併蝕刻銀/銅合金之薄膜與ITO透明導電膜之2層，圖案形成金屬反射層/第二電極(20)與金屬反射層/輔助電極(21)後，以「Semico Clean」56進行10分鐘超音波洗淨， 以超純水洗淨，而得到電極形成基板。再者，以最終所得之有機EL顯示裝置的有效發光區域中的開口率成為70%之方式，形成由金屬反射層/第二電極之2層所構成的積層圖案，於平坦化層(19)之表面積中，成為30%的膜表面經該積層圖案所覆蓋，70%的膜表面露出之狀態。於以後的步驟中，以與上述之有機EL顯示裝置2製作時同樣之方法，使用負型感光性組成物1，形成畫素分割層(22)，再者依順序形成發光畫素(23)、第一電極(24)後，進行密封，製作有機EL顯示裝置3，其具備膜厚1.0μm/開口率18%的畫素分割層與膜厚1.5μm/開口率0%的平坦化層，以前述之方法進行發光可靠性之評價。表12中顯示評價結果。
(實施例2~26、比較例1~31)
除了代替負型感光性組成物1，分別使用負型感光性組成物2~57以外，以與實施例1同樣之方法進行硬化膜之形成及製作有機EL顯示裝置，以前述之方法進行光學特性、介電常數及發光可靠性之評價。彙總所用的負型感光性組成物與其評價結果，顯示於表11~24中。再者，於實施例2~26及比較例1~31中，與實施例1同樣地，使用相同的感光性組成物，分別形成有機EL顯示裝置的畫素分割層及平坦化層。
Figure 106144721-A0305-02-0093-16
Figure 106144721-A0305-02-0094-18
Figure 106144721-A0305-02-0095-20
Figure 106144721-A0305-02-0096-21
Figure 106144721-A0305-02-0097-48
Figure 106144721-A0305-02-0098-24
Figure 106144721-A0305-02-0099-25
Figure 106144721-A0305-02-0100-26
Figure 106144721-A0305-02-0101-27
Figure 106144721-A0305-02-0102-28
Figure 106144721-A0305-02-0103-29
Figure 106144721-A0305-02-0104-49
圖2中顯示透光率T(%)對於波長W(nm)的光譜。以實線表示實施例12中的硬化膜之透光率光譜，以虛線表示比較例29中的硬化膜之透光率光譜。可知與比較例29中的硬化膜比較下，實施例12中的硬化膜雖然具備同等的光學濃度，但是波長380~450nm之區域中的最大透光率與在波長550nm的透光率之差較小，具有優異的光學特性。
(實施例27~28、比較例32~33)
除了代替負型感光性組成物1，分別使用正型感光性組成物1~4，相對於負型曝光遮罩，使用開口部與遮光部反轉的正型曝光遮罩以外，以與實施例1同樣之方法製作硬化膜及有機EL顯示裝置，以前述之方法進行光學特性、介電常數及發光可靠性之評價。將所用的正型感光性組成物與其評價結果，顯示於表25~26中。再者，於實施例27~28及比較例32~33中，與實施例1同樣地，使用相同的感光性組成物，分別形成有機EL顯示裝置的畫素分割層及平坦化層。
Figure 106144721-A0305-02-0106-31
Figure 106144721-A0305-02-0107-32
(調製例100)
於850.00g的PGMEA中混合37.50g的SOLSPERSE 20000，攪拌10分鐘後，投入作為具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料之32.63g的C.I.顏料黃192、1.13g的結構式(14)所示之C.I.顏料黃192的單磺化物、45.00g的C.I.顏料藍60與33.75g的C.I.顏料紅179，攪拌30分鐘，以填充有0.4mm
Figure 106144721-A0202-12-0106-90
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用30分鐘循環方式一併進行濕式介質分散處理，再者，以填充有0.05mm
Figure 106144721-A0202-12-0106-91
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用1小時循環方式進行濕式介質分散處理，調製固體成分15重量%的顏料分散液38。表27中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0109-33
(調製例101)
除了將C.I.顏料黃192換成C.I.顏料黃194，將結構式(14)所示之C.I.顏料黃192的單磺化物換成結構式(13)所示之C.I.顏料黃194的單磺化物以外，以與調製例100同樣之程序，調製固體成分15重量%的顏料分散液39。表27中顯示各原料之摻合量(g)。
(調製例102)
於850.00g的PGMEA中混合37.50g的SOLSPERSE 20000，攪拌10分鐘後，投入33.75g的下述結構式(30)所示之C.I.顏料黃154、45.00g的C.I.顏料藍60與33.75g的C.I.顏料紅179，攪拌30分鐘，以填充有0.4mm
Figure 106144721-A0202-12-0108-92
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用30分鐘循環方式一併進行濕式介質分散處理，再者，以填充有0.05mm
Figure 106144721-A0202-12-0108-93
的氧化鋯珠之橫型珠磨機，用1小時循環方式進行濕式介質分散處理，調製固體成分15重量%的顏料分散液40。表27中顯示各原料之摻合量(g)。再者，C.I.顏料黃154係具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構且在分子內具有氟原子作為鹵素之黃色顏料。
Figure 106144721-A0202-12-0109-65
(調製例103)
除了代替C.I.顏料黃154，作為不具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的含有鎳之有機金屬錯合物系黃色顏料，使用下述結構式(31)所示之C.I.顏料黃150以外，以與調製例102同樣之程序，調製固體成分15重量%的顏料分散液41。表27中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0202-12-0109-66
(調製例104)
混合22.00g的顏料分散液38、5.63g的聚醯亞胺樹脂 溶液A、1.69g的DPCA-60、0.45g的NCI-831、0.38g的VG-3101L、11.36g的PGMEA及8.50g的MBA，栓緊後在搖動器上攪拌30分鐘，調製固體成分15重量%的負型感光性組成物58。表28中顯示各原料之摻合量(g)。
Figure 106144721-A0305-02-0113-34
(調製例105~107)
除了代替顏料分散液38，分別使用顏料分散液39~41以外，以與調製例104同樣之程序，調製固體成分15重量%的負型感光性組成物59~61。表28中顯示各原料之摻合量(g)。
(實施例29)
除了代替負型感光性組成物1，使用負型感光性組成物58以外，以與實施例1同樣之方法形成硬化膜及有機EL顯示裝置，以前述方法進行光學特性、介電常數及發光可靠性之評價。表29~30中顯示評價結果。
Figure 106144721-A0305-02-0115-35
Figure 106144721-A0305-02-0116-36
(實施例30~31、比較例34)
除了代替負型感光性組成物1，分別使用負型感光性組成物59~61以外，以與實施例1同樣之方法製作硬化膜及有機EL顯示裝置，以前述方法進行光學特性、介電常數及發光可靠性之評價。表29~30中顯示評價結果。
由實施例1~31之結果可知，藉由使用具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料而提高波長380~450nm之區域中的遮光性，可兼具優異的光學特性與高的發光可靠性。其中，於使用C.I.顏料黃192的實施例1、8、9中，可知得到特別高的發光可靠性。
與使用C.I.顏料紅254之實施例17比較下，於使用苝系紅色顏料的C.I.顏料紅179、123、149、190之實施例12、14~16中，可知得到更優異的發光可靠性。
與使用在分子內含有氯原子作為鹵素的C.I.顏料紫23之實施例23比較下，於使用C.I.顏料紫19、29、37等之在分子內不具有鹵素的紫色顏料之實施例20~22中，可知得到更優異的發光可靠性。
由實施例1、18、19、20、24、25之結果可知，與卡多樹脂比較下，因使用具有通式(28)所示之結構單元的聚醯亞胺樹脂，而得到更優異的發光可靠性。
由比較例1~8之結果可知，因使用不具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料來提高波長380~450nm之區域中的遮光性，而與比較例27~31比較下，發光可靠性降低。
由比較例9~11之結果可知，無關於有無上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構，因使用橙色顏料來提高波長380~450nm之區域中的遮光性，而發光可靠性降低。再者，藉由與實施例之比較，可知具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的顏料若不是黃色顏料，則無法解決本課題。
由比較例12、26之結果可知，因使用碳黑賦予波長380~450nm之區域中的遮光性，而介電常數過度地變高，對於初期發光特性產生不良影響。
由比較例13~22之結果可知，即使將與不具有苯并咪唑酮結構的黃色顏料或橙色顏料混合使用的顏料換成紫色顏料，也在發光特性之點沒有看到任何改善。
由比較例24之結果可知，因使用聚氯化銅酞青的C.I.顏料綠7來提高波長380~450nm之區域中的遮光性，而與比較例27~31比較下，發光可靠性降低。
由比較例27~31之結果可知，若僅混合有機藍色顏料與有機紅色顏料，雖然在發光可靠性沒有看到問題，但是未充分得到波長380~450nm之區域中的遮光性，光學特性差。
由以上可知，於具備第一電極、畫素分割層、發光畫素、第二電極、平坦化層及基材之有機EL顯示裝置中，藉由以畫素分割層及/或平坦化層含有具有上述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料作為特徵之有機EL顯示裝置，可達成優異的光學特性與優異發光特性之兼備，而解決本課題。
[產業上之可利用性]
本發明之有機EL顯示裝置係可利用於需要高的視覺辨認性與高的發光可靠性之用途，例如智慧型手機、電視、個人電腦等之電子機器。
Figure 106144721-A0305-02-0002-1
1:TFT
2:配線
3:TFT絕緣層
4:平坦化層
5:第二電極
6:基材
7:接觸孔
8:畫素分割層
9:發光畫素(有機EL層)
10:第一電極

Claims (11)

  1. 一種有機EL顯示裝置，其係依序具備第一電極、發光畫素、畫素分割層、第二電極、平坦化層及基材之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層及/或該平坦化層含有具有下述結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料；
    Figure 106144721-A0305-02-0121-37
  2. 如請求項1之有機EL顯示裝置，其中該具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料係含有下述結構式(7)所示之C.I.顏料黃192；
    Figure 106144721-A0305-02-0121-38
  3. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層及/或該平坦化層在頻率1kHz的介電常數為4.0以下，且膜厚每1.0μm的光學濃度為0.5以上。
  4. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層及/或該平坦化層進一步含有藍色顏料與紅色顏料，該藍色顏料係選自包含C.I.顏料藍15：3、C.I.顏料藍15：4、C.I.顏料藍15：6及C.I.顏料藍60之群組的至少1種，該紅色顏料係選自包含C.I.顏料紅123、C.I.顏料紅149、C.I.顏料紅177、C.I.顏料紅179及C.I.顏料紅190之群組的至少1種。
  5. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層及/或該平坦化層進一步含有紫色顏料，該紫色顏料係選自包含C.I.顏料紫19、C.I.顏料紫29及C.I.顏料紫37之群組的至少1種。
  6. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層之顯示區域中的開口率為20%以下。
  7. 如請求項1或2之有機EL顯示裝置，其中該畫素分割層及/或該平坦化層包含具有負型感光性或正型感光性的感光性組成物之硬化物，該感光性組成物含有感光劑與具有下述通式(28)所示之結構單元的聚醯亞胺樹脂；
    Figure 106144721-A0305-02-0123-39
     (上述通式(28)中，R1表示具有芳香族環或環狀脂肪族基之碳原子數5~40的4~10價的有機基；R2表示具有芳香族環或環狀脂肪族基之碳原子數5~40的2~8價的有機基；R3及R4各自獨立地表示酚性羥基、磺酸基或硫醇基；p及q各自獨立地表示0~6之範圍)。
  8. 如請求項7之有機EL顯示裝置，其中該感光劑含有光聚合起始劑，且具有負型感光性。
  9. 如請求項7之有機EL顯示裝置，其中該感光性組成物係在全部顏料中含有10重量%~40重量%的黃色顏料，而且在全部黃色顏料中含有50重量%以上的該具有結構式(1)所示之苯并咪唑酮結構的黃色顏料。
  10. 如請求項8之有機EL顯示裝置，其中該感光性組成物進一步含有卡多(cardo)樹脂。
  11. 如請求項7之有機EL顯示裝置，其中該感光劑含有光酸產生劑，且具有正型感光性。
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