JP7375773B2 - 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置 - Google Patents

感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置 Download PDF

Info

Publication number
JP7375773B2
JP7375773B2 JP2020561357A JP2020561357A JP7375773B2 JP 7375773 B2 JP7375773 B2 JP 7375773B2 JP 2020561357 A JP2020561357 A JP 2020561357A JP 2020561357 A JP2020561357 A JP 2020561357A JP 7375773 B2 JP7375773 B2 JP 7375773B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
ring
less
mass
acid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2020561357A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2020129807A1 (ja
Inventor
和裕 中谷
善秀 小川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Chemical Corp filed Critical Mitsubishi Chemical Corp
Publication of JPWO2020129807A1 publication Critical patent/JPWO2020129807A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7375773B2 publication Critical patent/JP7375773B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/20—Filters
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • G03F7/029—Inorganic compounds; Onium compounds; Organic compounds having hetero atoms other than oxygen, nitrogen or sulfur
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Description

本発明は、感光性着色組成物等に関する。詳しくは、例えば液晶ディスプレイ等のカラーフィルターにおいて着色スペーサー等の形成に好ましく用いられる感光性着色組成物、この感光性着色組成物を硬化して得られる硬化物及び着色スペーサー、この着色スペーサーを備える画像表示装置に関する。
２０１８年１２月１８日に日本国特許庁に出願された日本国特願２０１８－２３６１２１の明細書、特許請求の範囲、図面及び要約書の全内容、並びに、本明細書で引用された文献等に開示された内容の一部又は全部をここに引用し、本明細書の開示内容として取り入れる。
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）は液晶への電圧のオン・オフにより液晶分子の並び方が切り替わる性質を利用している。液晶パネルを構成する各部材は、フォトリソグラフィーに代表される、感光性組成物を利用した方法によって形成されるものが多い。一例として、液晶パネルにおける２枚の基板の間隔を一定に保つために使用されているもの、所謂、スペーサーが挙げられる。
従来、透明スペーサーをＴＦＴ型ＬＣＤに使用する場合、スペーサーを透過してくる光によりスイッチング素子としてのＴＦＴが誤作動を起こすことがあった。これを防止するため、例えば、特許文献１には、遮光性を有するスペーサー（着色スペーサー）を用いる方法が記載されている。また、特許文献２には、遮光性と液晶の電圧保持率を確保した上で、形状や段差のコントロールが可能で、基板との密着性に優れた着色スペーサーを得るために、特定の組み合わせの顔料を含む着色感光性組成物を使用することが提案されている。
また、液晶パネル製造時には、２枚の基板間を高温高圧下で圧着する工程を経るため、スペーサーにはこの圧着時の高温高圧条件によっても変形せず、スペーサー機能が維持されることが要求される。即ち、外部圧力により変形しても、外部圧力が除かれた場合に元の形状に戻るための、回復率や弾性復元率等の機械的特性が必要とされる。例えば特許文献３には、特定の光重合開始剤を用いることで高膜厚における機械的特性が高められることが記載されており、また特許文献４には、特定の不飽和基含有化合物を用いることで機械的特性が高められることが記載されている。
一方で特許文献５には、紫色着色剤及び／又は茶色着色剤と、特定の青色着色剤を含む着色組成物を用いることで、着色剤による液晶層の汚染が低減されることが記載されている。
日本国特開平８－２３４２１２号公報 国際公開第２０１３／１１５２６８号 日本国特開２０１５－３８６０７号公報 日本国特開２００５－１６５２９４号公報 日本国特開２０１８－９１３２号公報
液晶ディスプレイの表示不良を抑制するために、着色スペーサーの表面粗度が低く、平滑性が優れている必要がある。
本発明者らが検討したところ、特許文献２や５に記載の感光性着色組成物では、表面粗度と機械的特性を両立した着色スペーサーを得ることが困難であることが判明した。
特許文献３及び４には、着色スペーサーに関する記載がなく、スペーサーに着色剤を含有させた際の影響が不明であった。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、表面粗度及び機械的特性に優れた着色スペーサーを形成可能な感光性着色組成物を提供することを目的とする。
本発明者らが、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、全固形分中の、着色剤の含有割合を特定の範囲内とし、また着色剤として特定の顔料を用い、その含有割合を特定範囲とすることで、上記課題を解決することができることを見出し、本発明に至った。
すなわち、本発明は以下の［１］～［９］の構成を有する。
［１］ （ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）エチレン性不飽和化合物を含有する感光性着色組成物であって、
前記（ａ）着色剤の含有割合が、感光性着色組成物の全固形分中に２～２０質量％であり、
前記（ａ）着色剤が紫色顔料を含み、かつ、
前記（ａ）着色剤中の前記紫色顔料の含有割合が５０質量％以上であることを特徴とする感光性着色組成物。
［２］ 前記紫色顔料が、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９及びＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む、［１］に記載の感光性着色組成物。
［３］ 前記（ａ）着色剤が、さらに橙色顔料を含む、［１］又は［２］に記載の感光性着色組成物。
［４］ 前記（ｄ）エチレン性不飽和化合物１００質量部に対する前記（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合が１５０質量部以下である、［１］～［３］のいずれかに記載の感光性着色組成物。
［５］ 前記（ｃ）光重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有する、［１］～［４］のいずれかに記載の感光性着色組成物。
［６］ 着色スペーサー形成用である、［１］～［５］のいずれかに記載の感光性着色組成物。
［７］ ［１］～［６］のいずれかに記載の感光性着色組成物を硬化して得られる硬化物。
［８］ ［７］に記載の硬化物から構成される着色スペーサー。
［９］ ［８］に記載の着色スペーサーを備える画像表示装置。
本発明によれば、表面粗度及び機械的特性に優れた着色スペーサーを形成可能な感光性着色組成物、硬化物、それから構成される着色スペーサー、さらにこのような着色スペーサーを備える画像表示装置を提供することができる。
以下、本発明の実施の形態を具体的に説明するが、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨の範囲内で種々に変更して実施することができる。
なお、本発明において、「（メタ）アクリル」とは「アクリル及び／又はメタクリル」を意味し、「（メタ）アクリレート」、「（メタ）アクリロイル」についても同様である。
「（共）重合体」とは、単一重合体（ホモポリマー）と共重合体（コポリマー）の双方を含むことを意味し、「酸（無水物）」、「（無水）…酸」とは、酸とその無水物の双方を含むことを意味する。また、本発明において「アクリル系樹脂」とは、（メタ）アクリル酸を含む（共）重合体、カルボキシル基を有する（メタ）アクリル酸エステルを含む（共）重合体を意味する。
また、本発明において「モノマー」とは、いわゆる高分子物質（ポリマー）に相対する用語であり、狭義の単量体（モノマー）の外に、二量体、三量体、オリゴマー等も含む意味である。
本発明において「全固形分」とは、感光性着色組成物中又は後述するインク中に含まれる、溶剤以外の全成分を意味するものとする。
本発明において、「重量平均分子量」とは、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）によるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）をさす。
また、本発明において、「アミン価」とは、特に断りのない限り、有効固形分換算のアミン価を表し、分散剤の固形分１ｇあたりの塩基量と当量のＫＯＨの質量で表される値である。なお、測定方法については後述する。一方、「酸価」とは、特に断りのない限り有効固形分換算の酸価を表し、中和滴定により算出される。
また、本明細書において、「質量」で表される百分率や部は「重量」で表される百分率や部と同義である。
また、本明細書において、顔料の具体例をピグメントナンバーで示すことがあるが、「Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド２」等の用語は、カラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）を意味する。
［感光性着色組成物］
本発明の感光性着色組成物は、
（ａ）着色剤
（ｂ）アルカリ可溶性樹脂
（ｃ）光重合開始剤
（ｄ）エチレン性不飽和化合物
を必須成分として含有し、必要に応じて、さらにシランカップリング剤等の密着向上剤、界面活性剤（塗布性向上剤）、顔料誘導体、光酸発生剤、架橋剤、メルカプト化合物、重合禁止剤、現像改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等のその他の配合成分を含むものであり、通常、各配合成分が、溶剤に溶解又は分散した状態で使用される。
＜（ａ）着色剤＞
本発明の感光性着色組成物は、（ａ）着色剤を含有する。（ａ）着色剤を含有することで、適度な光吸収性、特に着色スペーサーなどの遮光部材を形成する用途に用いる場合には適度な遮光性を得ることができる。
また、本発明の感光性着色組成物は、（ａ）着色剤の含有割合が、全固形分中２～２０質量％である。このように（ａ）着色剤を特定量含有することにより、得られる硬化物、特に着色スペーサーにおいて、遮光性と高い機械的特性とを両立することが可能となる。
（ａ）着色剤の含有割合は、全固形分中に２～２０質量％であれば特に限定されないが、遮光性の観点からは、３質量％以上が好ましく、４質量％以上がより好ましく、５質量％以上がさらに好ましい。一方で、機械的特性の観点からは、１８質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１２質量％以下がさらに好ましく、１０質量％以下がよりさらに好ましく、８質量％以下が特に好ましい。例えば、３～１８質量％が好ましく、３～１５質量％がより好ましく、４～１２質量％がさらに好ましく、４～１０質量％がよりさらに好ましく、５～８質量％が特に好ましい。
（ａ）着色剤としては、顔料を用いてもよいし、染料を用いてもよい。これらの中でも、耐久性の観点から、顔料を用いることが好ましい。
本発明の感光性着色組成物において、（ａ）着色剤は紫色顔料を含み、かつ、（ａ）着色剤中の前記紫色顔料の含有割合が５０質量％以上である。紫色顔料を（ａ）着色剤中に５０質量％以上含むことで塗膜中の顔料の分散が均一になることにより、現像時の現像液への溶解性が均一となり、表面粗度が良好になると考えられる。また、紫色顔料は吸収スペクトルにおいて波長５００～６００ｎｍ付近に吸収ピークの極大吸収波長を有することから、紫色顔料を含むことで光学濃度（ＯＤ）を高くしやすい点からも有効である。一方で、波長４００ｎｍ未満の吸収が少ないことから、（ｃ）光重合開始剤の吸収波長との重なりが少なく、光硬化性、感度の観点からも有効である。また、波長４５０ｎｍの吸収が少ないことから、液晶ディスプレイのバックライトから強く照射される青色光に対する耐光性の観点からも有効である。
紫色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット１、１：１、２、２：２、３、３：１、３：３、５、５：１、１４、１５、１６、１９、２３、２５、２７、２９、３１、３２、３７、３９、４２、４４、４７、４９、５０を挙げることができる。この中でも、遮光性の観点から、好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット１９、２３、２９、より好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３、２９を挙げることができる。一方で分散性や耐光性の点から、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９を用いることが好ましい。
（ａ）着色剤中の紫色顔料の含有割合は５０質量％以上であれば特に限定されないが、表面粗度向上の観点からは、５５質量％以上が好ましく、５８質量％以上がより好ましく、６０質量％以上がさらに好ましく、６２質量％以上がよりさらに好ましく、６５質量％以上が特に好ましい。一方で、紫色顔料以外の着色剤の光学特性を利用し、吸収波長帯を幅広くするとの観点からは、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７５質量％以下がさらに好ましい。例えば、５０～９０質量％が好ましく、５５～９０質量％がより好ましく、５８～８０質量％がさらに好ましく、６０～８０質量％がよりさらに好ましく、６２～７５質量％が特に好ましく、６５～７５質量％がとりわけ好ましい。
（ａ）着色剤中のＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９の含有割合は特に限定されないが、表面粗度及び耐光性工場の観点からは、５０質量％以上が好ましく、５５質量％以上がより好ましく、６０質量％以上がさらに好ましく、６２質量％以上がよりさらに好ましく、６５質量％以上が特に好ましい。一方で、Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９以外の着色剤の光学特性を利用し、吸収波長帯を幅広くするとの観点からは、９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７５質量％以下がさらに好ましい。例えば、５０～９０質量％が好ましく、５５～９０質量％がより好ましく、５８～８０質量％がさらに好ましく、６０～８０質量％がよりさらに好ましく、６２～７５質量％が特に好ましく、６５～７５質量％がとりわけ好ましい。
（ａ）着色剤は紫色顔料以外の着色剤（以下、「その他の着色剤」と略記する。）を含んでいてもよい。その他の着色剤としては、顔料や染料が挙げられ、耐熱性の観点から顔料が好ましく、色調、光硬化性、感度の観点から有機顔料が好ましい。
顔料としては、黄色顔料、橙色顔料、赤色顔料、青色顔料、緑色顔料、茶色顔料などの有機着色顔料が挙げられる。
黄色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１、１：１、２、３、４、５、６、９、１０、１２、１３、１４、１６、１７、２４、３１、３２、３４、３５、３５：１、３６、３６：１、３７、３７：１、４０、４１、４２、４３、４８、５３、５５、６１、６２、６２：１、６３、６５、７３、７４、７５、８１、８３、８７、９３、９４、９５、９７、１００、１０１、１０４、１０５、１０８、１０９、１１０、１１１、１１６、１１７、１１９、１２０、１２６、１２７、１２７：１、１２８、１２９、１３３、１３４、１３６、１３８、１３９、１４２、１４７、１４８、１５０、１５１、１５３、１５４、１５５、１５７、１５８、１５９、１６０、１６１、１６２、１６３、１６４、１６５、１６６、１６７、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１８０、１８１、１８２、１８３、１８４、１８５、１８８、１８９、１９０、１９１、１９１：１、１９２、１９３、１９４、１９５、１９６、１９７、１９８、１９９、２００、２０２、２０３、２０４、２０５、２０６、２０７、２０８を挙げることができる。この中でも、分散性、信頼性の観点からＣ．Ｉ．ピグメントイエロー８３、１１７、１２９、１３８、１３９、１５０、１５４、１５５、１８０、１８５が好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントイエロー１３８、１３９、１５０がさらに好ましく、遮光性の観点からＣ．Ｉ．ピグメントイエロー１３９が特に好ましい。
橙色顔料（オレンジ顔料）としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１、２、５、１３、１６、１７、１９、２０、２１、２２、２３、２４、３４、３６、３８、３９、４３、４６、４８、４９、６１、６２、６４、６５、６７、６８、６９、７０、７１、７２、７３、７４、７５、７７、７８、７９を挙げることができる。この中でも、分散性や遮光性の点で、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ１３、４３、６４、７２を用いることが好ましく、感光性着色組成物を紫外線で硬化させる場合には、橙色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、係る観点からはＣ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４、７２を用いることがより好ましく、Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ６４が特に好ましい。
赤色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１、２、３、４、５、６、７、８、９、１２、１４、１５、１６、１７、２１、２２、２３、３１、３２、３７、３８、４１、４７、４８、４８：１、４８：２、４８：３、４８：４、４９、４９：１、４９：２、５０：１、５２：１、５２：２、５３、５３：１、５３：２、５３：３、５７、５７：１、５７：２、５８：４、６０、６３、６３：１、６３：２、６４、６４：１、６８、６９、８１、８１：１、８１：２、８１：３、８１：４、８３、８８、９０：１、１０１、１０１：１、１０４、１０８、１０８：１、１０９、１１２、１１３、１１４、１２２、１２３、１４４、１４６、１４７、１４９、１５１、１６６、１６８、１６９、１７０、１７２、１７３、１７４、１７５、１７６、１７７、１７８、１７９、１８１、１８４、１８５、１８７、１８８、１９０、１９３、１９４、２００、２０２、２０６、２０７、２０８、２０９、２１０、２１４、２１６、２２０、２２１、２２４、２３０、２３１、２３２、２３３、２３５、２３６、２３７、２３８、２３９、２４２、２４３、２４５、２４７、２４９、２５０、２５１、２５３、２５４、２５５、２５６、２５７、２５８、２５９、２６０、２６２、２６３、２６４、２６５、２６６、２６７、２６８、２６９、２７０、２７１、２７２、２７３、２７４、２７５、２７６を挙げることができる。この中でも、遮光性、分散性の観点から好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド４８：１、１２２、１４９、１６８、１７７、１７９、１９４、２０２、２０６、２０７、２０９、２２４、２４２、２５４、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２０９、２２４、２５４を挙げることができる。なお、分散性や遮光性の点で、Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７、２５４、２７２を用いることが好ましく、感光性着色組成物を紫外線で硬化させる場合には、赤色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、係る観点からはＣ．Ｉ．ピグメントレッド２５４、２７２を用いることがより好ましい。
青色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１、１：２、９、１４、１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、１７、１９、２５、２７、２８、２９、３３、３５、３６、５６、５６：１、６０、６１、６１：１、６２、６３、６６、６７、６８、７１、７２、７３、７４、７５、７６、７８、７９を挙げることができる。この中でも、遮光性の観点から好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５、１５：１、１５：２、１５：３、１５：４、１５：６、１６、６０、さらに好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、１６を挙げることができる。
なお、分散性や遮光性の点で、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６、１６、６０を用いることが好ましく、感光性着色組成物を紫外線で硬化させる場合には、青色顔料としては紫外線吸収率の低いものを使用することが好ましく、かかる観点からはＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０を用いることがより好ましい。一方で、韓国登録特許第１０－１８４０９８４号公報に記載のように、信頼性、遮光性、弾性復元率の観点からは、Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１６を用いることが好ましい。
緑色顔料としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン１、２、４、７、８、１０、１３、１４、１５、１７、１８、１９、２６、３６、４５、４８、５０、５１、５４、５５、５８を挙げることができる。この中でも、分散性の観点から好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントグリーン７、３６を挙げることができる。
茶色顔料（ブラウン顔料）としては、Ｃ．Ｉ．ピグメントブラウン２３、２５、２６、２８、３８、４１、８３、９３を挙げることができる。この中でも、近赤外線透過性と遮光性とを両立するとの観点から好ましくはＣ．Ｉ．ピグメントブラウン２６、２８、８３、９３を挙げることができる。
これらの有機着色顔料の中でも、紫色顔料の吸収帯とは異なる波長４００～５００ｎｍ付近に吸収帯を有することから、橙色顔料が好ましい。
橙色顔料を含む場合、（ａ）着色剤中の橙色顔料の含有割合は特に限定されないが、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましく、２０質量％以上がさらに好ましく、３０質量％以上が特に好ましく、また、５０質量％以下が好ましく、４５質量％以下がより好ましく、４０質量％以下がさらに好ましく、３５質量％以下が特に好ましい。例えば、５～５０質量％が好ましく、１０～４５質量％がより好ましく、２０～４０質量％がさらに好ましく、３０～３５質量％が特に好ましい。前記下限値以上とすることで光学濃度（ＯＤ）が高くなる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで表面粗度が良好となる傾向がある。
一方で、橙色顔料を含む場合には耐光性が悪化する傾向があるため、耐光性向上の観点からは（ａ）着色剤中の橙色顔料の含有割合は５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がよりさらに好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、０質量％が最も好ましい。
また、青色顔料を含む場合には表面粗度が悪化する傾向があるため、（ａ）着色剤中の青色顔料の含有割合は５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がよりさらに好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、０質量％が最も好ましい。
青色顔料の中でもＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０を含む場合には表面粗度が悪化する傾向があるため、（ａ）着色剤中のＣ．Ｉ．ピグメントブルー６０の含有割合は５０質量％以下が好ましく、４０質量％以下がより好ましく、３０質量％以下がさらに好ましく、２０質量％以下がよりさらに好ましく、１０質量％以下が特に好ましく、０質量％が最も好ましい。
また、その他の着色剤として黒色顔料を含んでいてもよい。黒色顔料としては、有機黒色顔料や無機黒色顔料が挙げられる。
有機黒色顔料として例えば、下記式（１）で表される化合物、該化合物の幾何異性体、該化合物の塩、及び該化合物の幾何異性体の塩からなる群から選ばれる少なくとも１種を含む有機黒色顔料が挙げられる。
Figure 0007375773000001
式（１）中、Ｒ1及びＲ6は各々独立に水素原子、ＣＨ3、ＣＦ3、フッ素原子又は塩素原子である；
Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、Ｒ11、ＣＯＯＨ、ＣＯＯＲ11、ＣＯＯ-、ＣＯＮＨ2、ＣＯＮＨＲ11、ＣＯＮＲ11Ｒ12、ＣＮ、ＯＨ、ＯＲ11、ＣＯＣＲ11、ＯＯＣＮＨ2、ＯＯＣＮＨＲ11、ＯＯＣＮＲ11Ｒ12、ＮＯ2、ＮＨ2、ＮＨＲ11、ＮＲ11Ｒ12、ＮＨＣＯＲ12、ＮＲ11ＣＯＲ12、Ｎ＝ＣＨ2、Ｎ＝ＣＨＲ11、Ｎ＝ＣＲ11Ｒ12、ＳＨ、ＳＲ11、ＳＯＲ11、ＳＯ2Ｒ11、ＳＯ3Ｒ11、ＳＯ3Ｈ、ＳＯ3 -、ＳＯ2ＮＨ2、ＳＯ2ＮＨＲ11又はＳＯ2ＮＲ11Ｒ12である；
且つ、Ｒ2とＲ3、Ｒ3とＲ4、Ｒ4とＲ5、Ｒ7とＲ8、Ｒ8とＲ9、及びＲ9とＲ10からなる群から選ばれる少なくとも１つの組み合わせは、互いに直接結合することもでき、又は酸素原子、硫黄原子、ＮＨ若しくはＮＲ11ブリッジによって互いに結合することもできる；
Ｒ11及びＲ12は各々独立に、炭素数１～１２のアルキル基、炭素数３～１２のシクロアルキル基、炭素数２～１２のアルケニル基、炭素数３～１２のシクロアルケニル基又は炭素数２～１２のアルキニル基である。
一般式（１）で表される化合物の幾何異性体は、以下のコア構造を有し（ただし、構造式中の置換基は省略している）、トランス－トランス異性体が恐らく最も安定である。
Figure 0007375773000002
一般式（１）で表される化合物がアニオン性である場合、その電荷を任意の公知の適したカチオン、例えば金属、有機、無機又は金属有機カチオン、具体的にはアルカリ金属、アルカリ土類金属、遷移金属、一級アンモニウム、二級アンモニウム、トリアルキルアンモニウムなどの三級アンモニウム、テトラアルキルアンモニウムなどの四級アンモニウム又は有機金属錯体によって補償した塩であることが好ましい。また、一般式（１）で表される化合物の幾何異性体がアニオン性である場合、同様の塩であることが好ましい。
一般式（１）の置換基及びそれらの定義においては、遮蔽率が高くなる傾向があることから、以下が好ましい。これは、以下の置換基は吸収がなく、顔料の色相に影響しないと考えられるからである。
Ｒ2、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ7、Ｒ9及びＲ10は各々独立に好ましくは水素原子、フッ素原子、又は塩素原子であり、さらに好ましくは水素原子である。
Ｒ3及びＲ8は各々独立に好ましくは水素原子、ＮＯ2、ＯＣＨ3、ＯＣ2Ｈ5、臭素原子、塩素原子、ＣＨ3、Ｃ2Ｈ5、Ｎ（ＣＨ3）2、Ｎ（ＣＨ3）（Ｃ2Ｈ5）、Ｎ（Ｃ2Ｈ5）2、α－ナフチル、β－ナフチル、ＳＯ3Ｈ又はＳＯ3 -であり、さらに好ましくは水素原子又はＳＯ3Ｈである。
Ｒ1及びＲ6は各々独立に好ましくは水素原子、ＣＨ3又はＣＦ3であり、さらに好ましくは水素原子である。
好ましくは、Ｒ1とＲ6、Ｒ2とＲ7、Ｒ3とＲ8、Ｒ4とＲ9、およびＲ5とＲ10からなる群から選ばれる少なくとも１つの組み合わせが同一であり、より好ましくは、Ｒ1はＲ6と同一であり、Ｒ2はＲ7と同一であり、Ｒ3はＲ8と同一であり、Ｒ4はＲ9と同一であり、かつ、Ｒ5はＲ10と同一である。
炭素数１～１２のアルキル基は、例えばメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、イソブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、２－メチルブチル基、ｎ－ペンチル基、２－ペンチル基、３－ペンチル基、２，２－ジメチルプロピル基、ｎ－ヘキシル基、ヘプチル基、ｎ－オクチル基、１，１，３，３－テトラメチルブチル基、２－エチルヘキシル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基又はドデシル基である。
炭素数３～１２のシクロアルキル基は、例えば、シクロプロピル基、シクロプロピルメチル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基、トリメチルシクロヘキシル基、ツジル基、ノルボルニル基、ボルニル基、ノルカリル基、カリル基、メンチル基、ノルピニル基、ピニル基、１－アダマンチル基又は２－アダマンチル基である。
炭素数２～１２のアルケニル基は、例えば、ビニル基、アリル基、２－プロペン－２－イル基、２－ブテン－１－イル基、３－ブテン－１－イル基、１，３－ブタジエン－２－イル基、２－ペンテン－１－イル基、３－ペンテン－２－イル基、２－メンチル－１－ブテン－３－イル基、２－メチル－３－ブテン－２－イル基、３－メチル－２－ブテン－１－イル基、１，４－ペンタジエン－３－イル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ノネニル基、デセニル基又はドデセニル基である。
炭素数３～１２のシクロアルケニル基は、例えば、２－シクロブテン－１－イル基、２－シクロペンテン－１－イル基、２－シクロヘキセン－１－イル基、３－シクロヘキセン－１－イル基、２，４－シクロヘキサジエン－１－イル基、１－ｐ－メンテン－８－イル基、４（１０）－ツジェン－１０－イル基、２－ノルボルネン－１－イル基、２，５－ノルボルナジエン－１－イル基、７，７－ジメチル－２，４－ノルカラジエン－３－イル基又はカンフェニル基である。
炭素数２～１２のアルキニル基は、例えば、１－プロピン－３－イル基、１－ブチン－４－イル基、１－ペンチン－５－イル基、２－メチル－３－ブチン－２－イル基、１，４－ペンタジイン－３－イル基、１，３－ペンタジイン－５－イル基、１－ヘキシン－６－イル基、シス－３－メチル－２－ペンテン－４－イン－１－イル基、トランス－３－メチル－２－ペンテン－４－イン－１－イル基、１，３－ヘキサジイン－５－イル基、１－オクチン－８－イル基、１－ノニン－９－イル基、１－デシン－１０－イル基又は１－ドデシン－１２－イル基である。
ハロゲン原子は、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子又はヨウ素原子である。
前記一般式（１）で表される有機黒色顔料は、好ましくは下記一般式（２）で表される化合物及び／又は該化合物の幾何異性体である。
Figure 0007375773000003
このような有機黒色顔料の具体例としては、商品名で、Ｉｒｇａｐｈｏｒ（登録商標） Ｂｌａｃｋ Ｓ ０１００ ＣＦ（ＢＡＳＦ社製）が挙げられる。
この有機黒色顔料は、好ましくは後述される分散剤、溶剤、方法によって分散して使用される。また、分散の際に前記一般式（２）で表される化合物又は該化合物の幾何異性体のスルホン酸誘導体が存在すると、分散性や保存性が向上する場合がある。
また、有機黒色顔料として、光学特性と信頼性の観点から、韓国公開特許第１０－２０１８－００５２５０２号公報に記載されている有機黒色顔料や、韓国公開特許第１０－２０１８－００５２８６４号公報に記載されている有機黒色顔料を用いることが好ましい。
また、その他の有機黒色顔料として、アニリンブラック、シアニンブラック、ペリレンブラック等も挙げられる。
また、無機黒色顔料であるカーボンブラックを用いてもよい。カーボンブラックの例としては、以下のようなカーボンブラックが挙げられる。
三菱ケミカル社製：ＭＡ７、ＭＡ８、ＭＡ１１、ＭＡ７７、ＭＡ１００、ＭＡ１００Ｒ、ＭＡ１００Ｓ、ＭＡ２２０、ＭＡ２３０、ＭＡ６００、ＭＣＦ８８、＃５、＃１０、＃２０、＃２５、＃３０、＃３２、＃３３、＃４０、＃４４、＃４５、＃４７、＃５０、＃５２、＃５５、＃６５０、＃７５０、＃８５０、＃９００、＃９５０、＃９６０、＃９７０、＃９８０、＃９９０、＃１０００、＃２２００、＃２３００、＃２３５０、＃２４００、＃２６００、＃２６５０、＃３０３０、＃３０５０、＃３１５０、＃３２５０、＃３４００、＃３６００、＃３７５０、＃３９５０、＃４０００、＃４０１０、ＯＩＬ７Ｂ、ＯＩＬ９Ｂ、ＯＩＬ１１Ｂ、ＯＩＬ３０Ｂ、ＯＩＬ３１Ｂ
デグサ社製：Ｐｒｉｎｔｅｘ（登録商標、以下同じ。）３、Ｐｒｉｎｔｅｘ３ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０、Ｐｒｉｎｔｅｘ３０ＯＰ、Ｐｒｉｎｔｅｘ４０、Ｐｒｉｎｔｅｘ４５、Ｐｒｉｎｔｅｘ５５、Ｐｒｉｎｔｅｘ６０、Ｐｒｉｎｔｅｘ７５、Ｐｒｉｎｔｅｘ８０、Ｐｒｉｎｔｅｘ８５、Ｐｒｉｎｔｅｘ９０、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ａ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｌ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｇ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｐ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｕ、Ｐｒｉｎｔｅｘ Ｖ、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ３５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ２５０、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ１００、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ６、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ５、ＳｐｅｃｉａｌＢｌａｃｋ４、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２Ｖ、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ１８、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ ＦＷ２００、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ Ｓ１６０、Ｃｏｌｏｒ Ｂｌａｃｋ Ｓ１７０
キャボット社製：Ｍｏｎａｒｃｈ（登録商標、以下同じ。）１２０、Ｍｏｎａｒｃｈ２８０、Ｍｏｎａｒｃｈ４６０、Ｍｏｎａｒｃｈ８００、Ｍｏｎａｒｃｈ８８０、Ｍｏｎａｒｃｈ９００、Ｍｏｎａｒｃｈ１０００、Ｍｏｎａｒｃｈ１１００、Ｍｏｎａｒｃｈ１３００、Ｍｏｎａｒｃｈ１４００、Ｍｏｎａｒｃｈ４６３０、ＲＥＧＡＬ（登録商標、以下同じ。）９９、ＲＥＧＡＬ９９Ｒ、ＲＥＧＡＬ４１５、ＲＥＧＡＬ４１５Ｒ、ＲＥＧＡＬ２５０、ＲＥＧＡＬ２５０Ｒ、ＲＥＧＡＬ３３０、ＲＥＧＡＬ４００Ｒ、ＲＥＧＡＬ５５Ｒ０、ＲＥＧＡＬ６６０Ｒ、ＢＬＡＣＫ ＰＥＡＲＬＳ４８０、ＰＥＡＲＬＳ１３０、ＶＵＬＣＡＮ（登録商標） ＸＣ７２Ｒ、ＥＬＦＴＥＸ（登録商標）－８
ビルラー社製：ＲＡＶＥＮ（登録商標、以下同じ。）１１、ＲＡＶＥＮ１４、ＲＡＶＥＮ１５、ＲＡＶＥＮ１６、ＲＡＶＥＮ２２、ＲＡＶＥＮ３０、ＲＡＶＥＮ３５、ＲＡＶＥＮ４０、ＲＡＶＥＮ４１０、ＲＡＶＥＮ４２０、ＲＡＶＥＮ４５０、ＲＡＶＥＮ５００、ＲＡＶＥＮ７８０、ＲＡＶＥＮ８５０、ＲＡＶＥＮ８９０Ｈ、ＲＡＶＥＮ１０００、ＲＡＶＥＮ１０２０、ＲＡＶＥＮ１０４０、ＲＡＶＥＮ１０６０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１０８０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１１７０、ＲＡＶＥＮ１１９０Ｕ、ＲＡＶＥＮ１２５０、ＲＡＶＥＮ１５００、ＲＡＶＥＮ２０００、ＲＡＶＥＮ２５００Ｕ、ＲＡＶＥＮ３５００、ＲＡＶＥＮ５０００、ＲＡＶＥＮ５２５０、ＲＡＶＥＮ５７５０、ＲＡＶＥＮ７０００
カーボンブラックは、樹脂で被覆されたものを使用しても構わない。樹脂で被覆されたカーボンブラックを使用すると、ガラス基板への密着性や体積抵抗値を向上させる効果がある。樹脂で被覆されたカーボンブラックとしては、例えば日本国特開平０９－７１７３３号公報に記載されているカーボンブラック等が好適に使用できる。体積抵抗や誘電率の点で、樹脂被覆カーボンブラックが好適に用いられる。
これらの顔料は、平均粒子径が通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以下、さらに好ましくは０．２５μｍ以下となるよう、分散して用いることが好ましい。ここで平均粒子径の基準は顔料粒子の数である。
なお、感光性着色組成物において、顔料の平均粒子径は、動的光散乱（ＤＬＳ）により測定された顔料粒子径から求めた値である。粒子径測定は、十分に希釈された感光性着色組成物（通常は希釈して、顔料濃度０．００５～０．２質量％程度に調製。但し測定機器により推奨された濃度があれば、その濃度に従う）に対して行い、２５℃にて測定する。
また、上述の顔料の他に、染料を使用してもよい。染料としては、アゾ系染料、アントラキノン系染料、フタロシアニン系染料、キノンイミン系染料、キノリン系染料、ニトロ系染料、カルボニル系染料、メチン系染料等が挙げられる。
アゾ系染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド３７、Ｃ．Ｉ．アシッドレッド１８０、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー２９、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトレッド８３、Ｃ．Ｉ．ダイレクトイエロー１２、Ｃ．Ｉ．ダイレクトオレンジ２６、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン２８、Ｃ．Ｉ．ダイレクトグリーン５９、Ｃ．Ｉ．リアクティブイエロー２、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１７、Ｃ．Ｉ．リアクティブレッド１２０、Ｃ．Ｉ．リアクティブブラック５、Ｃ．Ｉ．ディスパースオレンジ５、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド５８、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー１６５、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー４１、Ｃ．Ｉ．ベーシックレッド１８、Ｃ．Ｉ．モルダントレッド７、Ｃ．Ｉ．モルダントイエロー５、Ｃ．Ｉ．モルダントブラック７等が挙げられる。
アントラキノン系染料としては、例えば、Ｃ．Ｉ．バットブルー４、Ｃ．Ｉ．アシッドブルー４０、Ｃ．Ｉ．アシッドグリーン２５、Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー１９、Ｃ．Ｉ．リアクティブブルー４９、Ｃ．Ｉ．ディスパースレッド６０、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー５６、Ｃ．Ｉ．ディスパースブルー６０等が挙げられる。
この他、フタロシアニン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．パッドブルー５等が、キノンイミン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー３、Ｃ．Ｉ．ベーシックブルー９等が、キノリン系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．ソルベントイエロー３３、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー６４等が、ニトロ系染料として、例えば、Ｃ．Ｉ．アシッドイエロー１、Ｃ．Ｉ．アシッドオレンジ３、Ｃ．Ｉ．ディスパースイエロー４２等が挙げられる。
＜（ｂ）アルカリ可溶性樹脂＞
本発明で用いる（ｂ）アルカリ可溶性樹脂としては、カルボキシル基又は水酸基を含む樹脂であれば特に限定はなく、例えばエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂、アクリル系樹脂、カルボキシル基含有エポキシ樹脂、カルボキシル基含有ウレタン樹脂、ノボラック系樹脂、ポリビニルフェノール系樹脂等が挙げられるが、中でも
（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂
（ｂ２）アクリル共重合樹脂
が優れた製版性の観点から好適に用いられる。これらは１種を単独で、或いは複数種を混合して使用することができる。
＜（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂＞
（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂は、エポキシ樹脂（エポキシ化合物）とα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとの反応物の、反応で生成した水酸基にさらに多塩基酸、及び／又はその無水物を反応させて得られる樹脂である。
また上記、多塩基酸及び／又はその無水物を水酸基と反応させる前に、該水酸基と反応し得る置換基を２個以上有する化合物を反応させた後、多塩基酸、及び／又はその無水物を反応させて得られる樹脂も、上記（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂に含まれる。
また上記反応で得られた樹脂のカルボキシル基に、さらに反応し得る官能基を有する化合物を反応させて得られる樹脂も、上記（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂に含まれる。
このように、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂は化学構造上、実質的にエポキシ基を有さず、かつ「（メタ）アクリレート」に限定されるものではないが、エポキシ化合物（エポキシ樹脂）が原料であり、かつ、「（メタ）アクリレート」が代表例であるので慣用に従いこのように命名されている。
本発明で用いる（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂としては、具体的には、下記エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－１）及び／又はエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－２）（以下「カルボキシル基含有エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂」と称す場合がある。）が現像性、信頼性の観点から好適に用いられる。
＜エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－１）＞
エポキシ樹脂にα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多塩基酸及び／又はその無水物を反応させることによって得られたアルカリ可溶性樹脂。
＜エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－２）＞
エポキシ樹脂にα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルを付加させ、さらに、多価アルコール、並びに多塩基酸及び／又はその無水物と反応させることによって得られたアルカリ可溶性樹脂。
ここで、エポキシ樹脂とは、熱硬化により樹脂を形成する以前の原料化合物をも含めて言うこととし、そのエポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂の中から適宜選択して用いることができる。また、エポキシ樹脂は、フェノール性化合物とエピハロヒドリンとを反応させて得られる化合物を用いることができる。フェノール性化合物としては、２価以上のフェノール性水酸基を有する化合物が好ましく、単量体でも重合体でもよい。
原料となるエポキシ樹脂の種類としては、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂、ビフェニルノボラック型エポキシ樹脂、ナフタレンノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエンとフェノール又はクレゾールとの重付加反応物とエピハロヒドリンとの反応生成物であるエポキシ樹脂、アダマンチル基含有エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等を好適に用いることができ、このように主鎖に芳香族環を有するものを好適に用いることができる。
また、エポキシ樹脂の具体例としては、例えば、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（例えば、三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ（登録商標、以下同じ。）－８２８」、「ｊＥＲ－１００１」、「ｊＥＲ－１００２」、「ｊＥＲ－１００４」、日本化薬社製の「ＮＥＲ－１３０２」（エポキシ当量３２３，軟化点７６℃）等）、ビスフェノールＦ型樹脂（例えば、三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ－８０７」、「ｊＥＲ－４００４Ｐ」、「ｊＥＲ－４００５Ｐ」、「ｊＥＲ－４００７Ｐ」、日本化薬社製の「ＮＥＲ－７４０６」（エポキシ当量３５０，軟化点６６℃）等）、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビフェニルグリシジルエーテル（例えば、三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ－ＹＸ４０００」）、フェノールノボラック型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＰＰＮ－２０１」、三菱ケミカル社製の「ｊＥＲ－１５２」、「ｊＥＲ－１５４」、ダウケミカル社製の「ＤＥＮ－４３８」）、（ｏ，ｍ，ｐ－）クレゾールノボラック型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＯＣＮ（登録商標、以下同じ。）－１０２Ｓ」、「ＥＯＣＮ－１０２０」、「ＥＯＣＮ－１０４Ｓ」）、トリグリシジルイソシアヌレート（例えば、日産化学社製の「ＴＥＰＩＣ（登録商標）」）、トリスフェノールメタン型エポキシ樹脂（例えば、日本化薬社製の「ＥＰＰＮ（登録商標、以下同じ。）－５０１」、「ＥＰＰＮ－５０２」、「ＥＰＰＮ－５０３」）、脂環式エポキシ樹脂（ダイセル社製の「セロキサイド（登録商標、以下同じ。）２０２１Ｐ」、「セロキサイドＥＨＰＥ」）、ジシクロペンタジエンとフェノールの反応によるフェノール樹脂をグリシジル化したエポキシ樹脂（例えば、ＤＩＣ社製の「ＥＸＡ－７２００」、日本化薬社製の「ＮＣ－７３００」）、下記一般式（Ｂ１）～（Ｂ４）で表されるエポキシ樹脂、等を好適に用いることができる。具体的には、下記一般式（Ｂ１）で表されるエポキシ樹脂として日本化薬社製の「ＸＤ－１０００」、下記一般式（Ｂ２）で表されるエポキシ樹脂として日本化薬社製の「ＮＣ－３０００」、下記一般式（Ｂ４）で表されるエポキシ樹脂として新日鉄住金化学社製の「ＥＳＦ－３００」等が挙げられる。
Figure 0007375773000004
上記一般式（Ｂ１）において、ａは平均値であって０～１０の数を表す。Ｒ111は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基を表す。なお、１分子中に存在する複数のＲ111は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Figure 0007375773000005
上記一般式（Ｂ２）において、ｂは平均値であって０～１０の数を表す。Ｒ121は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～８のアルキル基、炭素数３～１０のシクロアルキル基、フェニル基、ナフチル基、又はビフェニル基のいずれかを表す。なお、１分子中に存在する複数のＲ121は、それぞれ同じであっても異なっていてもよい。
Figure 0007375773000006
上記一般式（Ｂ３）において、Ｘは下記一般式（Ｂ３－１）又は（Ｂ３－２）で示される連結基を表す。但し、分子構造中に１つ以上のアダマンタン構造を含む。ｃは２又は３を表す。
Figure 0007375773000007
上記一般式（Ｂ３－１）及び（Ｂ３－２）において、Ｒ131～Ｒ134及びＲ135～Ｒ137は各々独立に、置換基を有していてもよいアダマンチル基、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１～１２のアルキル基、又は置換基を有していてもよいフェニル基を表す。＊は結合手を表す。
Figure 0007375773000008
上記一般式（Ｂ４）において、ｐ及びｑは各々独立に０～４の整数を表し、Ｒ141及びＲ142は各々独立に炭素数１～４のアルキル基又はハロゲン原子を表す。Ｒ143及びＲ144は各々独立に炭素数１～４のアルキレン基を表す。ｘ及びｙは各々独立に０以上の整数を表す。
これらの中で、一般式（Ｂ１）～（Ｂ４）のいずれかで表されるエポキシ樹脂を用いることが好ましい。
α，β－不飽和モノカルボン酸又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとしては、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ｏ－、ｍ－又はｐ－ビニル安息香酸、（メタ）アクリル酸のα位ハロアルキル、アルコキシル、ハロゲン、ニトロ、シアノ置換体などのモノカルボン酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルアジピン酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルマレイン酸、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルアジピン酸、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルテトラヒドロフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシプロピルマレイン酸、２－（メタ）アクリロイロキシブチルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシブチルアジピン酸、２－（メタ）アクリロイロキシブチルヒドロフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシブチルフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシブチルマレイン酸、（メタ）アクリル酸にε－カプロラクトン、β－プロピオラクトン、γ－ブチロラクトン、δ－バレロラクトン等のラクトン類を付加させたものである単量体、或いはヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートに（無水）コハク酸、（無水）フタル酸、（無水）マレイン酸などの酸（無水物）を付加させた単量体、（メタ）アクリル酸ダイマーなどが挙げられる。
これらのうち、表面粗度の点から、特に好ましいものは（メタ）アクリル酸である。
エポキシ樹脂にα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルを付加させる方法としては、公知の手法を用いることができる。例えば、エステル化触媒の存在下、５０～１５０℃の温度で、α，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとエポキシ樹脂とを反応させることができる。ここで用いるエステル化触媒としては、トリエチルアミン、トリメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、ベンジルジエチルアミン等の３級アミン、テトラメチルアンモニウムクロリド、テトラエチルアンモニウムクロリド、ドデシルトリメチルアンモニウムクロリド等の４級アンモニウム塩等を用いることができる。
なお、エポキシ樹脂、α，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステル、及びエステル化触媒は、いずれも１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
α，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルの使用量は、エポキシ樹脂のエポキシ基１当量に対し０．５～１．２当量の範囲が好ましく、さらに好ましくは０．７～１．１当量の範囲である。α，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルの使用量を前記下限値以上とすることで不飽和基の導入量の不足が抑制でき、引き続く多塩基酸及び／又はその無水物との反応も十分なものとしやすい傾向がある。一方、前記上限値以下とすることでα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルの未反応物の残存を抑制でき、硬化特性を良好なものとしやすい傾向が認められる。
多塩基酸及び／又はその無水物としては、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸、及びこれらの無水物等から選ばれる、１種以上が挙げられる。
好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸、又はこれらの無水物である。特に好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸、無水テトラヒドロフタル酸、又はビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。
多塩基酸及び／又はその無水物の付加反応に関しても公知の方法を用いることができ、エポキシ樹脂へのα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルの付加反応と同様な条件下で、継続反応させて目的物を得ることができる。多塩基酸及び／又はその無水物成分の付加量は、生成するカルボキシル基含有エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂の酸価が１０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲となるような程度であることが好ましく、２０～１４０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲となるような程度であることがより好ましい。前記下限値以上とすることでアルカリ現像性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性能が良好となる傾向がある。
なお、この多塩基酸及び／又はその無水物の付加反応時に、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトールなどの多価アルコールを添加し、多分岐構造を導入したものとしてもよい。
カルボキシル基含有エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂は、通常、エポキシ樹脂とα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとの反応物に、多塩基酸及び／又はその無水物を混合した後、もしくは、エポキシ樹脂とα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとの反応物に、多塩基酸及び／又はその無水物及び多価アルコールを混合した後に、加温することにより得られる。この場合、多塩基酸及び／又はその無水物と多価アルコールの混合順序に、特に制限はない。加温により、エポキシ樹脂とα，β－不飽和モノカルボン酸及び／又はカルボキシル基を有するα，β－不飽和モノカルボン酸エステルとの反応物と多価アルコールとの混合物中に存在するいずれかの水酸基に対して多塩基酸及び／又はその無水物が付加反応する。
カルボキシル基含有エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂としては、前述のもの以外に、韓国公開特許第１０－２０１３－００２２９５５号公報、韓国登録特許第１０－０９６５１８９号公報、日本国特開２００５－１６５２９４号公報、日本国特開２００６－３１２７０４号公報に記載のもの等が挙げられる。
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂の、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）は通常１０００以上、好ましくは１５００以上、より好ましくは２０００以上、より好ましくは２５００以上であり、通常１００００以下、好ましくは８０００以下、より好ましくは６０００以下、さらに好ましくは５０００以下、特に好ましくは４０００以下である。例えば、１０００～１００００が好ましく、１０００～８０００がより好ましく、１５００～６０００がさらに好ましく、２０００～５０００がよりさらに好ましく、２５００～４０００が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像液に対する溶解性が高くなりすぎるのを抑制できる傾向があり、前記上限値以下とすることで現像液に対する溶解性が良好なものとしやすい傾向がある。
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂の酸価は特に限定されないが、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、また、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が特に好ましい。例えば、１０～２００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、１０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、２０～１００ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましく、２０～５０ｍｇＫＯＨ／ｇが特に好ましい。前記下限値以上とすることで適度な現像溶解性が得られる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像が進みすぎ膜溶解するのを抑制できる傾向がある。
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂の二重結合当量は特に限定されないが、８００以下が好ましく、７００以下がより好ましく、６００以下がさらに好ましく、５００以下がよりさらに好ましく、４００以下が特に好ましく、３００以下が最も好ましく、また、１００以上が好ましく、１５０以上がより好ましく、２００以上がさらに好ましく、２５０以上が特に好ましい。例えば、１００～８００が好ましく、１００～７００がより好ましく、１５０～６００がさらに好ましく、１５０～５００がよりさらに好ましく、２００～４００が特に好ましく、２５０～３００がとりわけ好ましい。前記上限値以下とすることで機械的特性と表面粗度が向上する傾向があり、また、前記下限値以上とすることで保存安定性が向上する傾向がある。
なお、樹脂の二重結合当量は下記式（ｘ）から算出することができる。
（樹脂の二重結合当量） ＝
（樹脂の分子量）／（樹脂１分子あたりのエチレン性不飽和二重結合の数）・・・（ｘ）
（ｂ１）エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂の化学構造は特に限定されないが、硬化性の観点から、下記一般式（ｉ）で表される部分構造を有するエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ａ）（以下、「エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ａ）」と略記する場合がある。）や、下記一般式（ｉｉ）で表される部分構造を有するエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ｂ）（以下、「エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ｂ）」と略記する場合がある。）が好ましい。また、信頼性の観点からは、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ｂ）がより好ましい。
Figure 0007375773000009
式（ｉ）中、Ｒaは水素原子又はメチル基を表し、Ｒbは置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を表す。式（ｉ）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。＊は結合手を表す。
Figure 0007375773000010
式（ｉｉ）中、Ｒcは各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。Ｒdは、環状炭化水素基を側鎖として有する２価の炭化水素基を表す。＊は結合手を表す。
（Ｒb）
前記式（ｉ）において、Ｒbは置換基を有していてもよい２価の炭化水素基を表す。
２価の炭化水素基としては、２価の脂肪族基、２価の芳香族環基、１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基が挙げられる。
２価の脂肪族基は、直鎖状、分岐鎖状、環状、これらを組み合わせたものが挙げられる。これらの中でも現像溶解性の観点からは直鎖状のものが好ましく、一方で現像密着性の観点からは環状のものが好ましい。その炭素数は通常１以上であり、３以上が好ましく、６以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。例えば、１～２０が好ましく、３～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の直鎖状脂肪族基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基等が挙げられる。これらの中でも硬化性の観点から、メチレン基が好ましい。
２価の分岐鎖状脂肪族基の具体例としては、前述の２価の直鎖状脂肪族基に、側鎖としてメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等を有する構造が挙げられる。
２価の環状の脂肪族基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２～５がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。２価の環状の脂肪族基の具体例としては、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環等の環から水素原子を２つ除した基が挙げられる。これらの中でも骨格の剛直性の観点から、アダマンタン環から水素原子を２つ除した基が好ましい。
２価の脂肪族基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基等が挙げられる。合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
また、２価の芳香族環基としては、２価の芳香族炭化水素環基及び２価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。例えば、４～２０が好ましく、５～１５がより好ましく、６～１０がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。２価の芳香族炭化水素環基としては、例えば、２個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。
また、２価の芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。２価の芳香族複素環基としては、例えば、２個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。これらの中でも光硬化性の観点から、２個の遊離原子価を有するベンゼン環又はナフタレン環が好ましく、２個の遊離原子価を有するベンゼン環がより好ましい。
２価の芳香族環基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基等が挙げられる。硬化性の観点からは、無置換が好ましい。
また、１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基としては、前述の２価の脂肪族基を１以上と、前述の２価の芳香族環基を１以上とを連結した基が挙げられる。
２価の脂肪族基の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、通常１０以下、５以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の芳香族環基の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、通常１０以下、５以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで硬化性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基の具体例としては、下記式（ｉ－Ａ）～（ｉ－Ｅ）で表される基等が挙げられる。これらの中でも現像溶解性の観点から、下記式（ｉ－Ａ）で表される基が好ましい。化学式中の＊は結合手を表す。
Figure 0007375773000011
前記のとおり、式（ｉ）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基等が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、１つでもよいし、２つ以上でもよい。
硬化性の観点からは、無置換であることが好ましい。
また、前記一般式（ｉ）で表される部分構造は、硬化性の観点から、下記式一般（ｉ－１）で表される部分構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000012
式（ｉ－１）中、Ｒa及びＲbは、前記式（ｉ）のものと同義である。ＲXは水素原子又は多塩基酸残基を表す。＊は結合手を表す。式（ｉ－１）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からＯＨ基を１つ除した１価の基を意味する。多塩基酸としては、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた１種又は２種以上が挙げられる。
これらの中でもパターニング特性の観点から、多塩基酸としては、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ａ）１分子中に含まれる、前記式（ｉ－１）で表される部分構造は、１種でも２種以上でもよく、例えば、ＲXが水素原子のものと、ＲXが多塩基酸残基のものが混在していてもよい。
また、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ａ）１分子中に含まれる、前記式（ｉ）で表される部分構造の数は特に限定されないが、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましい。例えば、１～２０が好ましく、３～１５がより好ましい。前記下限値以上とすることで硬化性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像溶解性が良好となる傾向がある。
以下にエポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ａ）の具体例を挙げる。
Figure 0007375773000013
Figure 0007375773000014
Figure 0007375773000015
Figure 0007375773000016
（Ｒd）
前記式（ｉｉ）において、Ｒdは、環状炭化水素基を側鎖として有する２価の炭化水素基を表す。
環状炭化水素基としては、脂肪族環基又は芳香族環基が挙げられる。
脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
また、脂肪族環基の炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、また、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１５以下が特に好ましい。例えば、４～４０が好ましく、４～３０がより好ましく、６～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましく、８～１５がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
脂肪族環基における脂肪族環の具体例としてはシクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環等が挙げられる。これらの中でも信頼性の観点から、アダマンタン環が好ましい。
一方で、芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましく、４以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～４がさらに好ましく、２～４がよりさらに好ましく、３～４が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられる。また、芳香族環基の炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、１０以上がよりさらに好ましく、１２以上が特に好ましく、また、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１５以下が特に好ましい。例えば、４～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、８～２０がさらに好ましく、１０～１５がよりさらに好ましく、１２～１５が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基における芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環等が挙げられる。これらの中でもパターニング特性の観点から、フルオレン環が好ましい。
また、環状炭化水素基を側鎖として有する２価の炭化水素基における、２価の炭化水素基は特に限定されないが、例えば、２価の脂肪族基、２価の芳香族環基、１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基が挙げられる。
２価の脂肪族基は、直鎖状、分岐鎖状、環状、これらを組み合わせたものが挙げられる。これらの中でも相溶性の観点からは直鎖状のものが好ましく、一方で信頼性の観点からは環状のものが好ましい。その炭素数は通常１以上であり、３以上が好ましく、６以上がより好ましく、また、２５以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１５以下がさらに好ましい。例えば、１～２５が好ましく、３～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の直鎖状脂肪族基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、ｎ－プロピレン基、ｎ－ブチレン基、ｎ－ヘキシレン基、ｎ－ヘプチレン基等が挙げられる。これらの中でも硬化性の観点から、メチレン基が好ましい。
２価の分岐鎖状脂肪族基の具体例としては、前述の２価の直鎖状脂肪族基に、側鎖としてメチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｉｓｏ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基等を有する構造が挙げられる。
２価の環状の脂肪族基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、また、通常１０以下、５以下、さらに好ましくは３以下が好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。２価の環状の脂肪族基の具体例としては、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環等の環から水素原子を２つ除した基が挙げられる。これらの中でも信頼性の観点から、アダマンタン環から水素原子を２つ除した基が好ましい。
２価の脂肪族基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基等が挙げられる。合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
また、２価の芳香族環基としては、２価の芳香族炭化水素環基及び２価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は通常４以上であり、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また、３０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１５以下がさらに好ましい。例えば、４～３０が好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。２価の芳香族炭化水素環基としては、例えば、２個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などの基が挙げられる。
また、芳香族複素環基における芳香族複素環としては、単環であっても縮合環であってもよい。２価の芳香族複素環基としては、例えば、２個の遊離原子価を有する、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などの基が挙げられる。２価の芳香族環基の中でもパターニング特性の観点から、２個の遊離原子価を有する、ベンゼン環、ナフタレン環又はフルオレン環が好ましく、２個の遊離原子価を有するフルオレン環がより好ましい。
２価の芳香族環基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基等が挙げられる。現像溶解性、耐吸湿性の観点からは、無置換が好ましい。
また、１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基としては、前述の２価の脂肪族基を１以上と、前述の２価の芳香族環基を１以上とを連結した基が挙げられる。
２価の脂肪族基の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、通常１０以下、５以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
２価の芳香族環基の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、通常１０以下、５以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
１以上の２価の脂肪族基と１以上の２価の芳香族環基とを連結した基の具体例としては、前記式（ｉ－Ａ）～（ｉ－Ｅ）で表される基等が挙げられる。これらの中でも信頼性の観点から、前記式（ｉ－Ｃ）で表される基が好ましい。
これらの２価の炭化水素基に対して、側鎖である環状炭化水素基の結合態様は特に限定されないが、例えば、脂肪族基や芳香族環基の水素原子１つを該側鎖で置換した態様や、脂肪族基の炭素原子の１つを含めて側鎖である環状炭化水素基を構成した態様が挙げられる。
また、前記式（ｉｉ）で表される部分構造は、相溶性の観点から、下記式（ｉｉ－１）で表される部分構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000017
式（ｉｉ－１）中、Ｒcは前記式（ｉｉ）と同義である。Ｒαは、置換基を有していてもよい１価の環状炭化水素基を表す。ｎは１以上の整数である。＊は結合手を表す。式（ｉｉ－１）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
（Ｒα）
前記式（ｉｉ－１）において、Ｒαは、置換基を有していてもよい１価の環状炭化水素基を表す。
環状炭化水素基としては、脂肪族環基又は芳香族環基が挙げられる。
脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、また、通常６以下、４以下が好ましく、３以下がより好ましい。例えば、１～６が好ましく、１～４がより好ましく、１～３がさらに好ましく、２～３がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
また、脂肪族環基の炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、また、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１５以下が特に好ましい。例えば、４～４０が好ましく、４～３０がより好ましく、６～２０がさらに好ましく、８～１５が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
脂肪族環基における脂肪族環の具体例としてはシクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環等が挙げられる。これらの中でも相溶性の観点から、アダマンタン環が好ましい。
一方で、芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２～５がさらに好ましく、３～５がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられるまた、芳香族環基の炭素数は通常４以上であり、５以上が好ましく、６以上がより好ましく、また、３０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１５以下がさらに好ましい。例えば、４～３０が好ましく、５～２０がより好ましく、６～１５がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基における芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環等が挙げられる。これらの中でも信頼性の観点から、フルオレン環が好ましい。
環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、アミル基、ｉｓｏ－アミル基等の炭素数１～５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基等が挙げられる。合成容易性の観点からは、無置換が好ましい。
ｎは１以上の整数を表すが、２以上が好ましく、また、３以下が好ましい。例えば、１～が好ましく、２～３がより好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
これらの中でも、相溶性の観点から、Ｒαが１価の脂肪族環基であることが好ましく、アダマンチル基であることがより好ましい。
前記のとおり、式（ｉｉ－１）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基等が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、１つでもよいし、２つ以上でもよい。
パターニング特性の観点からは、無置換であることが好ましい。
以下に前記式（ｉｉ－１）で表される部分構造の具体例を挙げる。
Figure 0007375773000018
Figure 0007375773000019
Figure 0007375773000020
Figure 0007375773000021
Figure 0007375773000022
また、前記式（ｉｉ）で表される部分構造は、信頼性の観点から、下記式（ｉｉ－２）で表される部分構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000023
式（ｉｉ－２）中、Ｒcは前記式（ｉｉ）と同義である。Ｒβは、置換基を有していてもよい２価の環状炭化水素基を表す。＊は結合手を表す。式（ｉｉ－２）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。
（Ｒβ）
前記式（ｉｉ－２）において、Ｒβは、置換基を有していてもよい２価の環状炭化水素基を表す。
環状炭化水素基としては、脂肪族環基又は芳香族環基が挙げられる。
脂肪族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２～５がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
また、脂肪族環基の炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、また、４０以下が好ましく、３５以下がより好ましく、３０以下がさらに好ましい。例えば、４～４０が好ましく、６～３５がより好ましく、８～３０がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
脂肪族環基における脂肪族環の具体例としては、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロデカン環、シクロドデカン環、ノルボルナン環、イソボルナン環、アダマンタン環等が挙げられる。これらの中でも相溶性の観点から、アダマンタン環が好ましい。
一方で、芳香族環基が有する環の数は特に限定されないが、通常１以上、２以上が好ましく、３以上がより好ましく、また、通常１０以下、５以下が好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２～５がさらに好ましく、３～５がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基、芳香族複素環基が挙げられるまた、芳香族環基の炭素数は通常４以上であり、６以上が好ましく、８以上がより好ましく、１０以上がさらに好ましく、また、４０以下が好ましく、３０以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１５以下が特に好ましい。例えば、４～４０が好ましく、６～３０がより好ましく、８～２０がさらに好ましく、１０～１５が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで硬化性が良好となる傾向がある。
芳香族環基における芳香族環の具体例としては、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、フルオレン環等が挙げられる。これらの中でも信頼性の観点から、フルオレン環が好ましい。
環状炭化水素基が有していてもよい置換基としては、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、ｉｓｏ－プロピル基、ｎ－ブチル基、ｓｅｃ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、アミル基、ｉｓｏ－アミル基等の炭素数１～５のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基等の炭素数１～５のアルコキシ基；ニトロ基；シアノ基；カルボキシル基等が挙げられる。合成容易性の観点からは、無置換が好ましい。
これらの中でも、相溶性の観点から、Ｒβが２価の脂肪族環基であることが好ましく、２価のアダマンタン環基であることがより好ましい。
一方で、信頼性の観点から、Ｒβが２価の芳香族環基であることが好ましく、２価のフルオレン環基であることがより好ましい。
前記のとおり、式（ｉｉ－２）中のベンゼン環は、さらに任意の置換基により置換されていてもよい。該置換基としては、例えば、ヒドロキシル基、メチル基、メトキシ基、エチル基、エトキシ基、プロピル基、プロポキシ基等が挙げられる。置換基の数も特に限定されず、１つでもよいし、２つ以上でもよい。また、これらの置換基を介して、式（ｉｉ－２）中の２つのベンゼン環が連結されていてもよい。
パターニング特性の観点からは、無置換であることが好ましい。
以下に前記式（ｉｉ－２）で表される部分構造の具体例を挙げる。
Figure 0007375773000024
Figure 0007375773000025
Figure 0007375773000026
Figure 0007375773000027
一方で、前記式（ｉｉ）で表される部分構造は、相溶性の観点から、下記式（ｉｉ－３）で表される部分構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000028
式（ｉｉ－３）中、Ｒc及びＲdは前記式（ｉｉ）と同義である。ＲZは水素原子又は多塩基酸残基を表す。）
多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からＯＨ基を１つ除した１価の基を意味する。なお、さらにもう１つのＯＨ基が除され、式（ｉｉ－３）で表される他の分子におけるＲZと共用されていてもよく、つまり、ＲZを介して複数の式（ｉｉ－３）が連結していてもよい。
多塩基酸としては、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた１種又は２種以上が挙げられる。
これらの中でもパターニング特性の観点から、多塩基酸としては、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ｂ）１分子中に含まれる、前記式（ｉｉ－３）で表される部分構造は、１種でも２種以上でもよく、例えば、ＲXが水素原子のものと、ＲZが多塩基酸残基のものが混在していてもよい。
また、エポキシ（メタ）アクリレート系樹脂（ｂ１－Ｂ）１分子中に含まれる、前記式（ｉｉ）で表される部分構造の数は特に限定されないが、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１５以下がより好ましく、１０以下がさらに好ましい。例えば、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、３～１５がより好ましく、３～１０がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで硬化性が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像溶解性が良好となる傾向がある。
一方で、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂として、着色剤や分散剤等との相溶性の観点から、（ｂ２）アクリル共重合樹脂を用いることが好ましい。
＜（ｂ２）アクリル共重合樹脂＞
（ｂ２）アクリル共重合樹脂は、カルボキシル基又は水酸基を含むアクリル共重合樹脂であれば特に限定されないが、側鎖にエチレン性不飽和基を有するものであることが好ましい。エチレン性不飽和基を有するものとすることで、露光による光硬化により、現像時にアルカリ現像液による膜減りが起こりにくくなり、表面粗度が良好となる傾向がある。
（一般式（Ｉ）で表される部分構造）
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が、側鎖にエチレン性不飽和基を有する場合、エチレン性不飽和基を有する側鎖を含む部分構造は特に限定されないが、膜の柔軟性に伴うラジカルの発散しやすさの観点から、例えば、下記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有することが好ましい。
Figure 0007375773000029
式（Ｉ）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。＊は結合手を表す。）
また、前記式（Ｉ）で表される部分構造の中でも、感度やアルカリ現像性の観点から、下記一般式（Ｉ’）で表される部分構造が好ましい。
Figure 0007375773000030
式（Ｉ’）中、Ｒ1及びＲ2は各々独立に、水素原子又はメチル基を表す。ＲXは水素原子又は多塩基酸残基を表す。
多塩基酸残基とは、多塩基酸又はその無水物からＯＨ基を１つ除した１価の基を意味する。多塩基酸としては、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、メチルヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸から選ばれた１種又は２種以上が挙げられる。
これらの中でもパターニング特性の観点から、好ましくは、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、ピロメリット酸、トリメリット酸、ビフェニルテトラカルボン酸であり、より好ましくは、テトラヒドロフタル酸、ビフェニルテトラカルボン酸である。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で表される部分構造を含む場合、その含有割合は特に限定されないが１０モル％以上が好ましく、３０モル％以上がより好ましく、５０モル％以上がさらに好ましく、７０モル％以上がよりさらに好ましく、８０モル％以上が特に好ましく、また、９８モル％以下が好ましく、９５モル％以下がより好ましい。例えば、１０～９８モル％が好ましく、３０～９８モル％がより好ましく、５０～９８モル％がさらに好ましく、７０～９８モル％がよりさらに好ましく、８０～９５モル％が特に好ましい。前記下限値以上とすることで機械的特性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ’）で表される部分構造を含む場合、その含有割合は特に限定されないが、１０モル％以上が好ましく、３０モル％以上がより好ましく、５０モル％以上がさらに好ましく、７０モル％以上がよりさらに好ましく、８０モル％以上が特に好ましく、また、９８モル％以下が好ましく、９５モル％以下がより好ましい。例えば、１０～９８モル％が好ましく、３０～９８モル％がより好ましく、５０～９８モル％がさらに好ましく、７０～９８モル％がよりさらに好ましく、８０～９５モル％が特に好ましい。前記下限値以上とすることでアルカリ現像性や機械特性が良好になりやすい傾向があり、また、前記上限値以下とすることで表面粗度が向上し、残渣が低減する傾向がある。
（一般式（ＩＩ）で表される部分構造）
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で表される部分構造を含む場合、他に含まれる部分構造は特に限定されないが、現像密着性の観点から、例えば、下記一般式（ＩＩ）で表される部分構造を有することも好ましい。
Figure 0007375773000031
上記式（ＩＩ）中、Ｒ3は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族環基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
（Ｒ4）
前記式（ＩＩ）において、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよい芳香族環基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表す。
Ｒ4におけるアルキル基としては直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上がさらに好ましく、８以上が特に好ましく、また、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１６以下がさらに好ましく、１４以下がよりさらに好ましく、１２以下が特に好ましい。例えば、１～２０が好ましく、１～１８がより好ましく、３～１６がさらに好ましく、５～１４がよりさらに好ましく、８～１２が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ジシクロペンタニル基又はドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ4における芳香族環基としては、１価の芳香族炭化水素環基及び１価の芳香族複素環基が挙げられる。その炭素数は６以上が好ましく、また、２４以下が好ましく、２２以下がより好ましく、２０以下がさらに好ましく、１８以下が特に好ましい。例えば、６～２４が好ましく、６～２２がより好ましく、６～２０がさらに好ましく、６～１８が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像密着性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
芳香族炭化水素環基における芳香族炭化水素環としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フェナントレン環、ペリレン環、テトラセン環、ピレン環、ベンズピレン環、クリセン環、トリフェニレン環、アセナフテン環、フルオランテン環、フルオレン環などが挙げられる。
また、芳香族複素環基における芳香族複素環基としては、単環であっても縮合環であってもよく、例えば、フラン環、ベンゾフラン環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサジアゾール環、インドール環、カルバゾール環、ピロロイミダゾール環、ピロロピラゾール環、ピロロピロール環、チエノピロール環、チエノチオフェン環、フロピロール環、フロフラン環、チエノフラン環、ベンゾイソオキサゾール環、ベンゾイソチアゾール環、ベンゾイミダゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、イソキノリン環、シノリン環、キノキサリン環、フェナントリジン環、ペリミジン環、キナゾリン環、キナゾリノン環、アズレン環などが挙げられる。これらの中でも現像性の観点から、ベンゼン環、又はナフタレン環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。
また、芳香族環基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ4におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上が好ましく、また、２２以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１８以下がさらに好ましく、１６以下がよりさらに好ましく、１４以下が特に好ましい。例えば、２～２２が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１８がさらに好ましく、２～１６がよりさらに好ましく、２～１４が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
このように、Ｒ4は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアルケニル基を表すが、これらの中でも現像性と膜強度の観点から、アルキル基又はアルケニルが好ましく、アルキル基がより好ましい。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（ＩＩ）で表される部分構造を含む場合、その含有割合は特に限定されないが、０．１モル％以上が好ましく、０．５モル％以上がより好ましく、１モル％以上がさらに好ましく、また、７０モル％以下が好ましく、５０モル％以下がより好ましく、３０モル％以下がさらに好ましく、１０モル％以下が特に好ましい。例えば、０．１～７０モル％が好ましく、０．１～５０モル％がより好ましく、０．５～３０モル％がさらに好ましく、１～１０モル％が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
（一般式（ＩＩＩ）で表される部分構造）
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で表される部分構造を含む場合、他に含まれる部分構造として、耐熱性、膜強度の観点から下記一般式（ＩＩＩ）で表される部分構造が含まれることが好ましい。
Figure 0007375773000032
上記式（ＩＩＩ）中、Ｒ5は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表す。ｔは０～５の整数を表す。
（Ｒ6）
前記式（ＩＩＩ）においてＲ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、置換基を有していてもよいアルコキシ基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表す。
Ｒ6におけるアルキル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキル基が挙げられる。その炭素数は、１以上が好ましく、３以上がより好ましく、５以上がさらに好ましく、また、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１６以下がさらに好ましく、１４以下がよりさらに好ましく、１２以下が特に好ましい。例えば、１～２０が好ましく、３～１８がより好ましく、３～１６がさらに好ましく、５～１４がよりさらに好ましく、５～１２が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、シクロヘキシル基、ジシクロペンタニル基、ドデカニル基等が挙げられる。これらの中でも現像性と表面粗度の観点から、ジシクロペンタニル基又はドデカニル基が好ましく、ジシクロペンタニル基がより好ましい。
また、アルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ6におけるアルケニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルケニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上が好ましく、また、２２以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１８以下がさらに好ましく、１６以下がよりさらに好ましく、１４以下が特に好ましい。例えば、２～２２が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１８がさらに好ましく、２～１６がよりさらに好ましく、２～１４が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、アルケニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ6におけるアルキニル基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキニル基が挙げられる。その炭素数は、２以上が好ましく、また、２２以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１８以下がさらに好ましく、１６以下がよりさらに好ましく、１４以下が特に好ましい。例えば、２～２２が好ましく、２～２０がより好ましく、２～１８がさらに好ましく、２～１６がよりさらに好ましく、２～１４が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、アルキニル基が有していてもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ6におけるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、これらの中でも撥インク性の観点からはフッ素原子が好ましい。
Ｒ6におけるアルコキシ基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルコキシ基が挙げられる。その炭素数は、１以上が好ましく、また、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１６以下がさらに好ましく、１４以下がよりさらに好ましく、１２以下が特に好ましい。例えば、１～２０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１６がさらに好ましく、１～１４がよりさらに好ましく、１～１２が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、アルコシ基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
Ｒ6におけるアルキルスルフィド基としては、直鎖状、分岐鎖状又は環状のアルキルスルフィド基が挙げられる。その炭素数は、１以上が好ましく、また、２０以下が好ましく、１８以下がより好ましく、１６以下がさらに好ましく、１４以下がよりさらに好ましく、１２以下が特に好ましい。例えば、１～２０が好ましく、１～１８がより好ましく、１～１６がさらに好ましく、１～１４がよりさらに好ましく、１～１２が特に好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、アルキルスルフィド基におけるアルキル基が有していてもよい置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、クロロ基、ブロモ基、フルオロ基、ヒドロキシ基、アミノ基、エポキシ基、オリゴエチレングリコール基、フェニル基、カルボキシル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられ、現像性の観点から、ヒドロキシ基、オリゴエチレングリコール基が好ましい。
このように、Ｒ6は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルケニル基、置換基を有していてもよいアルキニル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシアルキル基、チオール基、又は置換基を有していてもよいアルキルスルフィド基を表すが、これらの中でも現像性の観点から、ヒドロキシル基又はカルボキシル基が好ましく、カルボキシル基がより好ましい。
前記式（ＩＩＩ）においてｔは０～５の整数を表すが、合成容易性の観点からはｔが０であることが好ましい。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（ＩＩＩ）で表される部分構造を含む場合、その含有割合は特に限定されないが、０．５モル％以上が好ましく、１モル％以上がより好ましく、２モル％以上がさらに好ましい。また、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、２０モル％以下がさらに好ましく、１０モル％以下がより好ましい。例えば、０．５～５０モル％が好ましく、１～３０モル％がより好ましく、１～２０モル％がさらに好ましく、２～１０モル％がより好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
（一般式（ＩＶ）で表される部分構造）
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（Ｉ）で表される部分構造を有する場合、他に含まれる部分構造として、現像性の観点から下記一般式（ＩＶ）で表される部分構造を有することも好ましい。
Figure 0007375773000033
上記式（ＩＶ）中、Ｒ7は水素原子又はメチル基を表す。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂が前記一般式（ＩＶ）で表される部分構造を含む場合、その含有割合は特に限定されないが、５モル％以上が好ましく、１０モル％以上がより好ましく、２０モル％以上がさらに好ましく、また、８０モル％以下が好ましく、７０モル％以下がより好ましく、６０％モル以下がさらに好ましい。例えば、５～８０モル％が好ましく、１０～７０モル％がより好ましく、２０～６０％モルがさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで表面粗度が向上する傾向がある。
一方で、（ｂ２）アクリル共重合樹脂の酸価は特に限定されないが、１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がさらに好ましく、また、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がより好ましく、１００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がさらに好ましく、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下がよりさらに好ましい。例えば、１０～１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、１０～１２０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、１５～１００ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましく、２０～５０ｍｇＫＯＨ／ｇがよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで現像性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで表面粗度が向上する傾向がある。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は特に限定されないが、通常１０００以上、好ましくは２０００以上、より好ましくは４０００以上、さらに好ましくは６０００以上、よりさらに好ましくは７０００以上、特に好ましくは８０００以上であり、また、通常３００００以下、好ましくは２００００以下、より好ましくは１５０００以下、さらに好ましくは１００００以下である。例えば、１０００～２００００が好ましく、２０００～２００００がより好ましく、４０００～１５０００がさらに好ましく、６０００～１５０００がよりさらに好ましく、７０００～１００００が特に好ましく、８０００～１００００がとりわけ好ましい。前記下限値以上とすることで表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像性が良好となる傾向がある。
（ｂ２）アクリル共重合樹脂の二重結合当量は特に限定されないが、５００以下が好ましく、４００以下がより好ましく、３５０以下がさらに好ましく、３００以下が特に好ましく、また、１００以上が好ましく、１５０以上がより好ましく、１８０以上がさらに好ましく、２００以上が特に好ましい。例えば、１００～５００が好ましく、１５０～４００がより好ましく、１８０～３５０がさらに好ましく、２００～３００が特に好ましい。前記上限値以下とすることで機械的特性や表面粗度が向上する傾向があり、また、前記下限値以上とすることで保存安定性が向上する傾向がある。
なお、（ｂ２）アクリル共重合樹脂の具体例としては、例えば、日本国特開平８－２９７３６６号公報や日本国特開２００１－８９５３３号公報に記載の樹脂が挙げられる。
＜（ｃ）光重合開始剤＞
（ｃ）光重合開始剤は、光を直接吸収し、分解反応又は水素引き抜き反応を起こし、重合活性ラジカルを発生する機能を有する成分である。必要に応じて重合促進剤（連鎖移動剤）、増感色素等の付加剤を添加して使用してもよい。
光重合開始剤としては、例えば、日本国特開昭５９－１５２３９６号公報、日本国特開昭６１－１５１１９７号公報に記載のチタノセン化合物を含むメタロセン化合物；日本国特開２０００－５６１１８号公報に記載のヘキサアリールビイミダゾール誘導体；日本国特開平１０－３９５０３号公報記載のハロメチル化オキサジアゾール誘導体、ハロメチル－ｓ－トリアジン誘導体、Ｎ－フェニルグリシン等のＮ－アリール－α－アミノ酸類、Ｎ－アリール－α－アミノ酸塩類、Ｎ－アリール－α－アミノ酸エステル類等のラジカル活性剤、α－アミノアルキルフェノン誘導体；日本国特開２０００－８００６８号公報、日本国特開２００６－３６７５０号公報等に記載されているオキシムエステル系化合物等が挙げられる。
光重合開始剤としては、機械的特性と表面粗度向上の観点から、特にヘキサアリールビイミダゾール化合物が好ましい。
ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、機械的特性の観点から、下記一般式（１－１）及び／又は下記一般式（１－２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール系光ラジカル開始剤が好ましい。
Figure 0007375773000034
上記式中、Ｒ1～Ｒ3は、各々独立に置換基を有してもよい炭素数１～４のアルキル基、置換基を有してもよい炭素数１～４のアルコキシ基、又はハロゲン原子を表し、ｌ、ｍ及びｎは、各々独立に０～５の整数を表す。
Ｒ1～Ｒ3のアルキル基の炭素数は１～４の範囲内であれば特に限定されないが、機械的特性の観点から、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。アルキル基は鎖状のものでも、環状のものでもよい。アルキル基の具体例としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基が挙げられ、中でもメチル基、エチル基が好ましい。Ｒ1～Ｒ3の炭素数１～４のアルキル基が有してもよい置換基としては、水素を除く１価の非金属原子団の基が用いられ、好ましい例としては、ハロゲン原子（－Ｆ、－Ｂｒ、－Ｃｌ、－Ｉ）、ヒドロキシル基、アルコキシ基が挙げられる。
また、Ｒ1～Ｒ3のアルコキシ基の炭素数は１～４の範囲内であれば特に限定されないが、テーパー角度増大の観点から、好ましくは３以下、より好ましくは２以下である。アルコキシ基のアルキル基部分は鎖状のものでも、環状のものでもよい。アルコキシ基の具体例とは、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基が挙げられ、中でもメトキシ基、エトキシ基が好ましい。Ｒ1～Ｒ3の炭素数１～４のアルコキシ基が有してもよい置換基としてはアルキル基、アルコキシ基が挙げられるが、好ましくはアルキル基である。
また、Ｒ1～Ｒ3のハロゲン原子とは、例えば、塩素原子、ヨウ素原子、臭素原子、フッ素原子が挙げられ、中でも合成容易性の観点から、塩素原子又はフッ素原子が好ましく、塩素原子がより好ましい。
これらの中でも、感度や合成容易性の観点から、Ｒ1～Ｒ3は各々独立にハロゲン原子であることが好ましく、塩素原子であることがより好ましい。
ｍ、ｎ及びｌは、各々独立に０～５の整数を表すが、合成容易性の観点から、ｍ、ｎ及びｌの少なくとも２つが１以上の整数であることが好ましく、ｍ、ｎ及びｌのうちいずれか２つが１であり、かつ、残りの１つが０であることがより好ましい。
一般式（１－１）及び／又は一般式（１－２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，５，４’，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－メチルフェニル）－４，５，４’，５’－テトラフェニルビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｐ－フルオロフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｏ，ｐ－ジブロモフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－ブロモフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｏ，ｐ－ジクロロフェニル）ビイミダゾール、２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラ（ｐ－クロロナフチル）ビイミダゾール等が挙げられる。中でも、ヘキサフェニルビイミダゾール化合物が好ましく、そのイミダゾール環上の２，２’－位に結合したベンゼン環のｏ－位がメチル基、メトキシ基、又はハロゲン原子で置換されたものがさらに好ましく、そのイミダゾール環上の４，４’，５，５’－位に結合したベンゼン環が無置換、又は、ハロゲン原子若しくはメトキシ基で置換されたもの等が好ましい。
（ｃ）光重合開始剤として、一般式（１－１）で表されるヘキサアリールビイミダゾール化合物と一般式（１－２）で表されるヘキサアリールビイミダゾール化合物のいずれかを用いてもよく、両者を併用してもよい。併用する場合には、その比率については特に限定されない。
またチタノセン誘導体類としては、ジシクロペンタジエニルチタニウムジクロリド、ジシクロペンタジエニルチタニウムビスフェニル、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，３，５，６－テトラフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムビス（２，４，６－トリフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ（２，６－ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウムジ（２，４－ジフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，３，４，５，６－ペンタフルオロフェニル）、ジ（メチルシクロペンタジエニル）チタニウムビス（２，６－ジフルオロフェニル）、ジシクロペンタジエニルチタニウム〔２，６－ジフルオロ－３－（ピロール－１－イル）フェニル〕等が挙げられる。
また、ハロメチル化オキサジアゾール誘導体類としては、２－トリクロロメチル－５－（２’－ベンゾフリル）－１，３，４－オキサジアゾール、２－トリクロロメチル－５－〔β－（２’－ベンゾフリル）ビニル〕－１，３，４－オキサジアゾール、２－トリクロロメチル－５－〔β－（２’－（６’’－ベンゾフリル）ビニル）〕－１，３，４－オキサジアゾール、２－トリクロロメチル－５－フリル－１，３，４－オキサジアゾール等が挙げられる。
また、ハロメチル－ｓ－トリアジン誘導体類としては、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－メトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン、２－（４－エトキシカルボニルナフチル）－４，６－ビス（トリクロロメチル）－ｓ－トリアジン等が挙げられる。
また、α－アミノアルキルフェノン誘導体類としては、２－メチル－１－〔４－（メチルチオ）フェニル〕－２－モルフォリノプロパン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタン－１－オン、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタン－１－オン、４－ジメチルアミノエチルベンゾエ－ト、４－ジメチルアミノイソアミルベンゾエ－ト、４－ジエチルアミノアセトフェノン、４－ジメチルアミノプロピオフェノン、２－エチルヘキシル－１，４－ジメチルアミノベンゾエート、２，５－ビス（４－ジエチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、７－ジエチルアミノ－３－（４－ジエチルアミノベンゾイル）クマリン、４－（ジエチルアミノ）カルコン等が挙げられる。
オキシムエステル系化合物としては、例えば、下記一般式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。
Figure 0007375773000035
上記式（ＩＶ）中、Ｒ21aは、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、又は、置換基を有していてもよい芳香族環基を示す。
Ｒ21bは芳香環を含む任意の置換基を示す。
Ｒ22aは、置換基を有していてもよいアルカノイル基、又は、置換基を有していてもよいアリーロイル基を示す。
ｎは０又は１の整数を示す。
Ｒ21aにおけるアルキル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、通常１以上、好ましくは２以上、また、通常２０以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１０以下である。例えば、１～２０が好ましく、１～１５がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、２～１０がよりさらに好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、シクロペンチルエチル基、プロピル基等が挙げられる。
アルキル基が有していてもよい置換基としては、芳香族環基、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、４－（２－メトキシ－１－メチル）エトキシ－２－メチルフェニル基又はＮ－アセチル－Ｎ－アセトキシアミノ基などが挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
Ｒ21aにおける芳香族環基としては、芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基が挙げられる。芳香族環基の炭素数は特に限定されないが、感光性着色組成物への溶解性の観点から５以上が好ましい。また、現像性の観点から３０以下が好ましく、２０以下がより好ましく、１２以下がさらに好ましい。例えば、５～３０が好ましく、５～２０がより好ましく、５～１２がさらに好ましい。
芳香族環基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、ピリジル基、フリル基などが挙げられ、これらの中でも現像性の観点から、フェニル基又はナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
芳香族環基が有していてもよい置換基としては、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、アルキル基、アルコキシ基、これらの置換基が連結した基などが挙げられ、現像性の観点からアルキル基、アルコキシ基、これらを連結した基が好ましく、連結したアルコキシ基がより好ましい。
これらの中でも、現像性の観点から、Ｒ21aが置換基を有していてもよい芳香族環基であることが好ましく、連結したアルコキシ基を置換基に有する芳香族環基であることがさらに好ましい。
また、Ｒ21bとしては、好ましくは置換されていてもよいカルバゾリル基、置換されていてもよいチオキサントニル基又は置換されていてもよいジフェニルスルフィド基が挙げられる。これらの中でも、感度の観点から、置換されていてもよいカルバゾリル基が好ましい。
また、Ｒ22aにおけるアルカノイル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、通常２以上、好ましくは３以上、また、通常２０以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１０以下、さらに好ましくは５以下である。例えば、２～２０が好ましく、２～１５がより好ましく、２～１０がさらに好ましく、２～５がよりさらに好ましく、３～５が特に好ましい。アルカノイル基の具体例としては、アセチル基、プロパノイル基、ブタノイル基等が挙げられる。
アルカノイル基が有していてもよい置換基としては、芳香族環基、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基などが挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
また、Ｒ22aにおけるアリーロイル基の炭素数は特に限定されないが、溶媒への溶解性や感度の観点から、通常７以上、好ましくは８以上、また、通常２０以下、好ましくは１５以下、より好ましくは１２以下、さらに好ましくは１０以下である。例えば、７～２０が好ましく、７～１５がより好ましく、７～１２がさらに好ましく、８～１２がよりさらに好ましい。アリーロイル基の具体例としては、ベンゾイル基、ナフトイル基等が挙げられる。
アリーロイル基が有していてもよい置換基としては、水酸基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アミノ基、アミド基、アルキル基などが挙げられ、合成容易性の観点からは、無置換であることが好ましい。
これらの中でも、感度の観点から、Ｒ22aが置換基を有していてもよいアルカノイル基であることが好ましく、無置換のアルカノイル基であることがより好ましく、アセチル基であることがさらに好ましい。
また日本国特開２０１６－１３３５７４号公報に記載される開始剤も、着色剤による液晶層の汚染が低減されるという点からも好適も用いられる。
光重合開始剤は、１種類を単独で用いても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
光重合開始剤には、必要に応じて、感応感度を高める目的で、画像露光光源の波長に応じた増感色素、重合促進剤を配合させることができる。増感色素としては、日本国特開平４－２２１９５８号公報、日本国特開平４－２１９７５６号公報に記載のキサンテン色素、日本国特開平３－２３９７０３号公報、日本国特開平５－２８９３３５号公報に記載の複素環を有するクマリン色素、日本国特開平３－２３９７０３号公報、日本国特開平５－２８９３３５号公報に記載の３－ケトクマリン化合物、日本国特開平６－１９２４０号公報に記載のピロメテン色素、その他、日本国特開昭４７－２５２８号公報、日本国特開昭５４－１５５２９２号公報、日本国特公昭４５－３７３７７号公報、日本国特開昭４８－８４１８３号公報、日本国特開昭５２－１１２６８１号公報、日本国特開昭５８－１５５０３号公報、日本国特開昭６０－８８００５号公報、日本国特開昭５９－５６４０３号公報、日本国特開平２－６９号公報、日本国特開昭５７－１６８０８８号公報、日本国特開平５－１０７７６１号公報、日本国特開平５－２１０２４０号公報、日本国特開平４－２８８８１８号公報に記載のジアルキルアミノベンゼン骨格を有する色素等を挙げることができる。
これらの増感色素のうち好ましいものは、アミノ基含有増感色素であり、さらに好ましいものは、アミノ基及びフェニル基を同一分子内に有する化合物である。特に、好ましいのは、例えば、４，４’－ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’－ジエチルアミノベンゾフェノン、２－アミノベンゾフェノン、４－アミノベンゾフェノン、４，４’－ジアミノベンゾフェノン、３，３’－ジアミノベンゾフェノン、３，４－ジアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２－（ｐ－ジエチルアミノフェニル）ベンゾオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ベンゾ［４，５］ベンゾオキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ベンゾ［６，７］ベンゾオキサゾール、２，５－ビス（ｐ－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４－オキサゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２－（ｐ－ジエチルアミノフェニル）ベンゾチアゾール、２－（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２－（ｐ－ジエチルアミノフェニル）ベンズイミダゾール、２，５－ビス（ｐ－ジエチルアミノフェニル）－１，３，４－チアジアゾール、（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ピリジン、（ｐ－ジエチルアミノフェニル）ピリジン、（ｐ－ジメチルアミノフェニル）キノリン、（ｐ－ジエチルアミノフェニル）キノリン、（ｐ－ジメチルアミノフェニル）ピリミジン、（ｐ－ジエチルアミノフェニル）ピリミジン等のｐ－ジアルキルアミノフェニル基含有化合物等である。このうち最も好ましいものは、４，４’－ジアルキルアミノベンゾフェノンである。
増感色素もまた１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
重合促進剤としては、例えば、ｐ－ジメチルアミノ安息香酸エチル、安息香酸２－ジメチルアミノエチル等の芳香族アミン、ｎ－ブチルアミン、Ｎ－メチルジエタノールアミン等の脂肪族アミン、後述するメルカプト化合物等が用いられる。重合促進剤は、１種類を単独で用いても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
＜（ｄ）エチレン性不飽和化合物＞
本発明の感光性着色組成物は、（ｄ）エチレン性不飽和化合物を含む。（ｄ）エチレン性不飽和化合物を含むことで、感度が向上する。
本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物は、分子内にエチレン性不飽和基を少なくとも１個有する化合物である。具体的には、例えば（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステル、アクリロニトリル、スチレン、及びエチレン性不飽和結合を１個有するカルボン酸と、多価又は１価アルコールのモノエステル、等が挙げられる。
本発明においては、特に、１分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する多官能エチレン性単量体を使用することが望ましい。多官能エチレン性単量体が有するエチレン性不飽和基の数は特に限定されないが、通常２個以上であり、好ましくは４個以上であり、より好ましくは５個以上であり、また、好ましくは８個以下であり、より好ましくは７個以下である。例えば、２～８個が好ましく、４～８個がより好ましく、４～７個がさらに好ましく、５～７個がよりさらに好ましい。前記下限値以上とすることで高感度となる傾向があり、前記上限値以下とすることで溶媒への溶解性が向上する傾向がある。
多官能エチレン性単量体の例としては、例えば脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル；脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物と、不飽和カルボン酸及び多塩基性カルボン酸とのエステル化反応により得られるエステルなどが挙げられる。
前記脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールエタントリアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、グリセロールアクリレート等の脂肪族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル、これら例示化合物のアクリレートをメタクリレートに代えたメタクリル酸エステル、同様にイタコネートに代えたイタコン酸エステル、クロネートに代えたクロトン酸エステルもしくはマレエートに代えたマレイン酸エステル等が挙げられる。
芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステルとしては、ハイドロキノンジアクリレート、ハイドロキノンジメタクリレート、レゾルシンジアクリレート、レゾルシンジメタクリレート、ピロガロールトリアクリレート等の芳香族ポリヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル及びメタクリル酸エステル等が挙げられる。
多塩基性カルボン酸及び不飽和カルボン酸と、多価ヒドロキシ化合物のエステル化反応により得られるエステルとしては必ずしも単一物ではないが、代表的な具体例を挙げれば、アクリル酸、フタル酸、及びエチレングリコールの縮合物、アクリル酸、マレイン酸、及びジエチレングリコールの縮合物、メタクリル酸、テレフタル酸及びペンタエリスリトールの縮合物、アクリル酸、アジピン酸、ブタンジオール及びグリセリンの縮合物等が挙げられる。
その他、本発明に用いられる多官能エチレン性単量体の例としては、ポリイソシアネート化合物と水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル又はポリイソシアネート化合物とポリオール及び水酸基含有（メタ）アクリル酸エステルを反応させて得られるようなウレタン（メタ）アクリレート類；多価エポキシ化合物とヒドロキシ（メタ）アクリレート又は（メタ）アクリル酸との付加反応物のようなエポキシアクリレート類；エチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；フタル酸ジアリル等のアリルエステル類；ジビニルフタレート等のビニル基含有化合物等が有用である。
上記ウレタン（メタ）アクリレート類としては、例えば、ＤＰＨＡ－４０Ｈ、ＵＸ－５０００、ＵＸ－５００２Ｄ－Ｐ２０、ＵＸ－５００３Ｄ、ＵＸ－５００５（日本化薬社製）、Ｕ－２ＰＰＡ、Ｕ－６ＬＰＡ、Ｕ－１０ＰＡ、Ｕ－３３Ｈ、ＵＡ－５３Ｈ、ＵＡ－３２Ｐ、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業社製）、ＵＡ－３０６Ｈ、ＵＡ－５１０Ｈ、ＵＦ－８００１Ｇ（共栄社化学社製）、ＵＶ－１７００Ｂ、ＵＶ－７６００Ｂ、ＵＶ－７６０５Ｂ、ＵＶ－７６３０Ｂ、ＵＶ７６４０Ｂ（日本合成化学工業社製）等が挙げられる。
これらの中でも、硬化性の観点から（ｄ）エチレン性不飽和化合物として、（メタ）アクリル酸アルキルエステルを用いることが好ましく、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを用いることがより好ましい。
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
＜（ｅ）溶剤＞
本発明の感光性着色組成物は、（ｅ）溶剤を含んでいてもよい。（ｅ）溶剤を含むことで、顔料を溶剤中に分散でき、また、塗布が容易となる傾向がある。
本発明の感光性着色組成物は、通常、（ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）エチレン性不飽和化合物、並びに必要に応じて使用されるその他の配合成分が、溶剤に溶解又は分散した状態で使用される。溶剤の中でも、分散性や塗布性の観点から有機溶剤が好ましい。
有機溶剤の中でも、塗布性の観点から沸点が１００～３００℃の範囲にある有機溶剤が好ましく、沸点が１２０～２８０℃の範囲にある有機溶剤がより好ましい。なお、ここでいう沸点は、圧力１０１３．２５ｈＰａにおける沸点を意味し、以下沸点に関してはすべて同様である。
このような有機溶剤としては、例えば、次のようなものが挙げられる。
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、プロピレングリコール－ｔ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、メトキシメチルペンタノール、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、３－メトキシブタノール、３－メチル－３－メトキシブタノール、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチルエーテルのようなグリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルのようなグリコールジアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、メトキシブチルアセテート、３－メトキシブチルアセテート、メトキシペンチルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３－メチル－３－メトキシブチルアセテートのようなグリコールアルキルエーテルアセテート類；
エチレングリコールジアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサノールジアセテートなどのグリコールジアセテート類；
シクロヘキサノールアセテートなどのアルキルアセテート類；
アミルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル、エチルイソブチルエーテル、ジヘキシルエーテルのようなエーテル類；
アセトン、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソアミルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、エチルアミルケトン、メチルブチルケトン、メチルヘキシルケトン、メチルノニルケトン、メトキシメチルペンタノンのようなケトン類；
エタノール、プロパノール、ブタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、メトキシメチルペンタノール、グリセリン、ベンジルアルコールのような１価又は多価アルコール類；
ｎ－ペンタン、ｎ－オクタン、ジイソブチレン、ｎ－ヘキサン、ヘキセン、イソプレン、ジペンテン、ドデカンのような脂肪族炭化水素類；
シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、メチルシクロヘキセン、ビシクロヘキシルのような脂環式炭化水素類；
ベンゼン、トルエン、キシレン、クメンのような芳香族炭化水素類；
アミルホルメート、エチルホルメート、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸プロピル、酢酸アミル、メチルイソブチレート、エチレングリコールアセテート、エチルプロピオネート、プロピルプロピオネート、酪酸ブチル、酪酸イソブチル、イソ酪酸メチル、エチルカプリレート、ブチルステアレート、エチルベンゾエート、３－エトキシプロピオン酸メチル、３－エトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸メチル、３－メトキシプロピオン酸エチル、３－メトキシプロピオン酸プロピル、３－メトキシプロピオン酸ブチル、γ－ブチロラクトンのような鎖状又は環状エステル類；
３－メトキシプロピオン酸、３－エトキシプロピオン酸のようなアルコキシカルボン酸類；
ブチルクロリド、アミルクロリドのようなハロゲン化炭化水素類；
メトキシメチルペンタノンのようなエーテルケトン類；
アセトニトリル、ベンゾニトリルのようなニトリル類等。
上記に該当する市販の有機溶剤としては、ミネラルスピリット、バルソル＃２、アプコ＃１８ソルベント、アプコシンナー、ソーカルソルベントＮｏ．１及びＮｏ．２、ソルベッソ＃１５０、シェルＴＳ２８ ソルベント、カルビトール、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、メチルセロソルブ（「セロソルブ」は登録商標。以下同じ。）、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート、ジグライム（いずれも商品名）などが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
フォトリソグラフィー法にて着色スペーサーを形成する場合、有機溶剤としては沸点が１００～２００℃の範囲にある有機溶剤が好ましく、１２０～１７０℃の範囲にある有機溶剤がより好ましい。
上記有機溶剤のうち、塗布性、表面張力などのバランスが良く、組成物中の構成成分の溶解度が比較的高い点からは、グリコールアルキルエーテルアセテート類が好ましい。
また、グリコールアルキルエーテルアセテート類は、単独で使用してもよいが、他の有機溶剤を併用してもよい。併用する有機溶剤として、特に好ましいのはグリコールモノアルキルエーテル類である。中でも、特に組成物中の構成成分の溶解性からプロピレングリコールモノメチルエーテルが好ましい。なお、グリコールモノアルキルエーテル類は極性が高く、添加量が多すぎると顔料が凝集しやすく、後に得られる感光性着色組成物の粘度が上がっていくなどの保存安定性が低下する傾向があるので、溶剤中のグリコールモノアルキルエーテル類の割合は５質量％～３０質量％が好ましく、５質量％～２０質量％がより好ましい。
また、１５０℃以上の沸点をもつ有機溶剤（以下「高沸点溶剤」と称す場合がある。）を併用することも好ましい。このような高沸点溶剤を併用することにより、感光性着色組成物は乾きにくくなるが、組成物中における顔料の均一な分散状態が、急激な乾燥により破壊されることを防止する効果がある。すなわち、例えばスリットノズル先端における、着色剤などの析出・固化による異物欠陥の発生を防止する効果がある。このような効果が高い点から、上述の各種溶剤の中でも、特にジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、及びジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートが好ましい。
有機溶剤中の高沸点溶剤の含有割合は、３質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～４０質量％がより好ましく、５質量％～３０質量％が特に好ましい。前記下限値以上とすることで、例えばスリットノズル先端で着色剤などが析出・固化して異物欠陥を惹き起こすのを抑制できる傾向があり、また前記上限値以下とすることで組成物の乾燥温度が遅くなるのを抑制し、減圧乾燥プロセスのタクト不良や、プリベークのピン跡といった問題を抑制できる傾向がある。
なお、沸点１５０℃以上の高沸点溶剤が、グリコールアルキルエーテルアセテート類であってもよく、またグリコールアルキルエーテル類であってもよく、この場合は、沸点１５０℃以上の高沸点溶剤を別途含有させなくてもかまわない。
好ましい高沸点溶剤として、例えば前述の各種溶剤の中ではジエチレングリコールモノ－ｎ－ブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールメチルエーテルアセテート、１，３－ブチレングリコールジアセテート、１，６－ヘキサノールジアセテート、トリアセチンなどが挙げられる。
＜（ｆ）分散剤＞
本発明の感光性着色組成物においては、（ａ）着色剤を微細に分散させてその分散状態を安定化させる目的で（ｆ）分散剤を含んでいてもよい。
（ｆ）分散剤としては、官能基を有する高分子分散剤が好ましく、さらに、分散安定性の面からカルボキシル基；リン酸基；スルホン酸基；又はこれらの塩基；一級、二級又は三級アミノ基；四級アンモニウム塩基；ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の官能基を有する高分子分散剤が好ましい。中でも特に、一級、二級又は三級アミノ基；四級アンモニウム塩基；ピリジン、ピリミジン、ピラジン等の含窒素ヘテロ環由来の基、等の塩基性官能基を有する高分子分散剤が顔料を分散する際に少量の分散剤で分散することができるとの観点から特に好ましい。
また、高分子分散剤としては、例えばウレタン系分散剤、アクリル系分散剤、ポリエチレンイミン系分散剤、ポリアリルアミン系分散剤、アミノ基を持つモノマーとマクロモノマーからなる分散剤、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系分散剤、ポリオキシエチレンジエステル系分散剤、ポリエーテルリン酸系分散剤、ポリエステルリン酸系分散剤、ソルビタン脂肪族エステル系分散剤、脂肪族変性ポリエステル系分散剤等を挙げることができる。
このような分散剤の具体例としては、商品名で、ＥＦＫＡ（登録商標。ＢＡＳＦ社製。）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ（登録商標。ビックケミー社製。）、ディスパロン（登録商標。楠本化成社製。）、ＳＯＬＳＰＥＲＳＥ（登録商標。ルーブリゾール社製。）、ＫＰ（信越化学工業社製）、ポリフロー（共栄社化学社製）、アジスパー（登録商標。味の素社製。）等を挙げることができる。
これらの高分子分散剤は１種を単独で使用してもよく、又は２種以上を併用してもよい。
高分子分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は通常７００以上、好ましくは１０００以上であり、また通常１０００００以下、好ましくは５００００以下である。例えば、７００～１０００００が好ましく、７００～５００００がより好ましく、１０００～５００００がさらに好ましい。
これらのうち、顔料の分散性の観点から、（ｆ）分散剤は官能基を有するウレタン系高分子分散剤及び／又はアクリル系高分子分散剤を含むことが好ましく、アクリル系高分子分散剤を含むことが特に好ましい。
また分散性、保存性の面から、塩基性官能基を有し、ポリエステル結合及び／又はポリエーテル結合を有する高分子分散剤が好ましい。
ウレタン系及びアクリル系高分子分散剤としては、例えばＤＩＳＰＥＲＢＹＫ１６０～１６６、１８２シリーズ（いずれもウレタン系）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００、２００１、ＢＹＫ－ＬＰＮ２１１１６等（いずれもアクリル系）（以上すべてビックケミー社製）が挙げられる。
ウレタン系高分子分散剤として好ましい化学構造を具体的に例示するならば、例えば、ポリイソシアネート化合物と、分子内に水酸基を１個又は２個有する数平均分子量３００～１００００の化合物と、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物とを反応させることによって得られる、重量平均分子量１０００～２０００００の分散樹脂等が挙げられる。これらをベンジルクロリド等の四級化剤で処理することで、３級アミノ基の全部又は一部を４級アンモニウム塩基にすることができる。
上記のポリイソシアネート化合物の例としては、パラフェニレンジイソシアネート、２，４－トリレンジイソシアネート、２，６－トリレンジイソシアネート、４，４’－ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレン－１，５－ジイソシアネート、トリジンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンメチルエステルジイソシアネート、２，４，４－トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、４，４’－メチレンビス（シクロヘキシルイソシアネート）、ω，ω’－ジイソシアネートジメチルシクロヘキサン等の脂環族ジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、α，α，α’，α’－テトラメチルキシリレンジイソシアネート等の芳香環を有する脂肪族ジイソシアネート、リジンエステルトリイソシアネート、１，６，１１－ウンデカントリイソシアネート、１，８－ジイソシアネート－４－イソシアネートメチルオクタン、１，３，６－ヘキサメチレントリイソシアネート、ビシクロヘプタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニルメタン）、トリス（イソシアネートフェニル）チオホスフェート等のトリイソシアネート、及びこれらの三量体、水付加物、及びこれらのポリオール付加物等が挙げられる。ポリイソシアネートとして好ましいのは有機ジイソシアネートの三量体で、最も好ましいのはトリレンジイソシアネートの三量体とイソホロンジイソシアネートの三量体である。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
イソシアネートの三量体の製造方法としては、前記ポリイソシアネート類を適当な三量化触媒、例えば第３級アミン類、ホスフィン類、アルコキシド類、金属酸化物、カルボン酸塩類等を用いてイソシアネート基の部分的な三量化を行い、触媒毒の添加により三量化を停止させた後、未反応のポリイソシアネートを溶剤抽出、薄膜蒸留により除去して目的のイソシアヌレート基含有ポリイソシアネートを得る方法が挙げられる。
同一分子内に水酸基を１個又は２個有する数平均分子量３００～１００００の化合物としては、ポリエーテルグリコール、ポリエステルグリコール、ポリカーボネートグリコール、ポリオレフィングリコール等、及びこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１～２５のアルキル基でアルコキシ化されたもの及びこれら２種類以上の混合物が挙げられる。
ポリエーテルグリコールとしては、ポリエーテルジオール、ポリエーテルエステルジオール、及びこれら２種類以上の混合物が挙げられる。ポリエーテルジオールとしては、アルキレンオキシドを単独又は共重合させて得られるもの、例えばポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレン－プロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール、ポリオキシヘキサメチレングリコール、ポリオキシオクタメチレングリコール及びそれらの２種以上の混合物が挙げられる。
ポリエーテルエステルジオールとしては、エーテル基含有ジオールもしくは他のグリコールとの混合物をジカルボン酸又はそれらの無水物と反応させるか、又はポリエステルグリコールにアルキレンオキシドを反応させることによって得られるもの、例えばポリ（ポリオキシテトラメチレン）アジペート等が挙げられる。ポリエーテルグリコールとして最も好ましいのはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリオキシテトラメチレングリコール又はこれらの化合物の片末端水酸基が炭素数１～２５のアルキル基でアルコキシ化された化合物である。
ポリエステルグリコールとしては、ジカルボン酸（コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マレイン酸、フタル酸等）又はそれらの無水物とグリコール（エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２－ブタンジオール、１，３－ブタンジオール、１，４－ブタンジオール、２，３－ブタンジオール、３－メチル－１，５－ペンタンジオール、ネオペンチルグリコール、２－メチル－１，３－プロパンジオール、２－メチル－２－プロピル－１，３－プロパンジオール、２－ブチル－２－エチル－１，３－プロパンジオール、１，５－ペンタンジオール、１，６－ヘキサンジオール、２－メチル－２，４－ペンタンジオール、２，２，４－トリメチル－１，３－ペンタンジオール、２－エチル－１，３－ヘキサンジオール、２，５－ジメチル－２，５－ヘキサンジオール、１，８－オクタメチレングリコール、２－メチル－１，８－オクタメチレングリコール、１，９－ノナンジオール等の脂肪族グリコール、ビスヒドロキシメチルシクロヘキサン等の脂環族グリコール、キシリレングリコール、ビスヒドロキシエトキシベンゼン等の芳香族グリコール、Ｎ－メチルジエタノールアミン等のＮ－アルキルジアルカノールアミン等）とを重縮合させて得られたもの、例えばポリエチレンアジペート、ポリブチレンアジペート、ポリヘキサメチレンアジペート、ポリエチレン／プロピレンアジペート等、又は前記ジオール類又は炭素数１～２５の１価アルコールを開始剤として用いて得られるポリラクトンジオール又はポリラクトンモノオール、例えばポリカプロラクトングリコール、ポリメチルバレロラクトン及びこれらの２種以上の混合物が挙げられる。ポリエステルグリコールとして最も好ましいのはポリカプロラクトングリコール又は炭素数１～２５のアルコールを開始剤としたポリカプロラクトンである。
ポリカーボネートグリコールとしては、ポリ（１，６－ヘキシレン）カーボネート、ポリ（３－メチル－１，５－ペンチレン）カーボネート等、ポリオレフィングリコールとしてはポリブタジエングリコール、水素添加型ポリブタジエングリコール、水素添加型ポリイソプレングリコール等が挙げられる。
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
同一分子内に水酸基を１個又は２個有する化合物の数平均分子量は、通常３００～１００００、好ましくは５００～６０００、さらに好ましくは１０００～４０００である。
本発明に用いられる同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物を説明する。
活性水素、即ち、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子に直接結合している水素原子としては、水酸基、アミノ基、チオール基等の官能基中の水素原子が挙げられ、中でもアミノ基、特に１級のアミノ基の水素原子が好ましい。
３級アミノ基は、特に限定されないが、例えば炭素数１～４のアルキル基を有するアミノ基、又はヘテロ環構造、より具体的にはイミダゾール環又はトリアゾール環、などが挙げられる。
このような同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物を例示するならば、Ｎ，Ｎ－ジメチル－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピル－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチル－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジメチル－１，４－ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－１，４－ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジプロピル－１，４－ブタンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジブチル－１，４－ブタンジアミン等が挙げられる。
また、３級アミノ基が含窒素ヘテロ環構造である場合の該含窒素ヘテロ環としては、ピラゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、インドール環、カルバゾール環、インダゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンゾチアジアゾール環等の含窒素ヘテロ５員環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、トリアジン環、キノリン環、アクリジン環、イソキノリン環等の含窒素ヘテロ６員環が挙げられる。これらの含窒素ヘテロ環のうち好ましいものはイミダゾール環又はトリアゾール環である。
これらのイミダゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、１－（３－アミノプロピル）イミダゾール、ヒスチジン、２－アミノイミダゾール、１－（２－アミノエチル）イミダゾール等が挙げられる。また、トリアゾール環とアミノ基を有する化合物を具体的に例示するならば、３－アミノ－１，２，４－トリアゾール、５－（２－アミノ－５－クロロフェニル）－３－フェニル－１Ｈ－１，２，４－トリアゾール、４－アミノ－４Ｈ－１，２，４－トリアゾール－３，５－ジオール、３－アミノ－５－フェニル－１Ｈ－１，３，４－トリアゾール、５－アミノ－１，４－ジフェニル－１，２，３－トリアゾール、３－アミノ－１－ベンジル－１Ｈ－２，４－トリアゾール等が挙げられる。中でも、Ｎ，Ｎ－ジメチル－１，３－プロパンジアミン、Ｎ，Ｎ－ジエチル－１，３－プロパンジアミン、１－（３－アミノプロピル）イミダゾール、３－アミノ－１，２，４－トリアゾールが好ましい。
これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
ウレタン系高分子分散剤を製造する際の原料の好ましい配合比率はポリイソシアネート化合物１００質量部に対し、同一分子内に水酸基を１個又は２個有する数平均分子量３００～１００００の化合物が１０～２００質量部、好ましくは２０～１９０質量部、さらに好ましくは３０～１８０質量部、同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物が０．２～２５質量部、好ましくは０．３～２４質量部である。
ウレタン系高分子分散剤の製造はポリウレタン樹脂製造の公知の方法に従って行われる。製造する際の溶媒としては、通常、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸セロソルブ等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレン、ヘキサン等の炭化水素類、ダイアセトンアルコール、イソプロパノール、第二ブタノール、第三ブタノール等一部のアルコール類、塩化メチレン、クロロホルム等の塩化物、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル等のエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ－メチルピロリドン、ジメチルスルホキサイド等の非プロトン性極性溶媒等が用いられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
上記製造に際して、通常、ウレタン化反応触媒が用いられる。この触媒としては、例えば、ジブチルチンジラウレート、ジオクチルチンジラウレート、ジブチルチンジオクトエート、スタナスオクトエート等の錫系、鉄アセチルアセトナート、塩化第二鉄等の鉄系、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン等の３級アミン系等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用して用いてもよい。
同一分子内に活性水素と３級アミノ基を有する化合物の導入量は反応後のアミン価で１～１００ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲に制御することが好ましい。より好ましくは５～９５ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲である。アミン価は、塩基性アミノ基を酸により中和滴定し、酸価に対応させてＫＯＨのｍｇ数で表した値である。前記下限値以上とすることで分散能力が良好となる傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像性の低下が抑制しやすい傾向がある。
なお、以上の反応で高分子分散剤にイソシアネート基が残存する場合にはさらに、アルコールやアミノ化合物でイソシアネート基を他の官能基に変換すると生成物の経時安定性が高くなるので好ましい。
ウレタン系高分子分散剤の重量平均分子量（Ｍｗ）は通常１０００～２０００００、好ましくは２０００～１０００００、より好ましくは３０００～５００００である。前記下限値以上とすることで分散性及び分散安定性が良好となる傾向があり、前記上限値以下とすることで溶解性や分散性の低下を抑制しやすい傾向がある。
アクリル系高分子分散剤としては、官能基（ここでいう官能基とは、高分子分散剤に含有される官能基として前述した官能基である。）を有する不飽和基含有単量体と、官能基を有さない不飽和基含有単量体とのランダム共重合体、グラフト共重合体、ブロック共重合体を使用することが好ましい。これらの共重合体は公知の方法で製造することができる。
官能基を有する不飽和基含有単量体としては、（メタ）アクリル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルコハク酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルフタル酸、２－（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタル酸、アクリル酸ダイマー等のカルボキシル基を有する不飽和単量体、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート及びこれらの４級化物などの３級アミノ基、４級アンモニウム塩基を有する不飽和単量体が具体例として挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
官能基を有さない不飽和基含有単量体としては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔ－ブチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシメチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカン（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ－ビニルピロリドン、スチレン及びその誘導体、α－メチルスチレン、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド、Ｎ－フェニルマレイミド、Ｎ－ベンジルマレイミドなどのＮ－置換マレイミド、アクリロニトリル、酢酸ビニル及びポリメチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、ポリスチレンマクロモノマー、ポリ２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートマクロモノマー、ポリエチレングリコールマクロモノマー、ポリプロピレングリコールマクロモノマー、ポリカプロラクトンマクロモノマーなどのマクロモノマー等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
アクリル系高分子分散剤は、特に好ましくは、官能基を有するＡブロックと官能基を有さないＢブロックからなるＡ－Ｂ又はＢ－Ａ－Ｂブロック共重合体であるが、この場合、Ａブロック中には上記官能基を含む不飽和基含有単量体由来の部分構造の他に、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体由来の部分構造が含まれていてもよく、これらが該Ａブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、官能基を含まない部分構造の、Ａブロック中の含有割合は、通常８０質量％以下であり、好ましくは５０質量％以下、さらに好ましくは３０質量％以下である。
Ｂブロックは、上記官能基を含まない不飽和基含有単量体由来の部分構造からなるものであるが、１つのＢブロック中に２種以上の単量体由来の部分構造が含有されていてもよく、これらは、該Ｂブロック中においてランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
該Ａ－Ｂ又はＢ－Ａ－Ｂブロック共重合体は、例えば、以下に示すリビング重合法にて調製される。
リビング重合法には、アニオンリビング重合法、カチオンリビング重合法、ラジカルリビング重合法があり、このうち、アニオンリビング重合法は、重合活性種がアニオンであり、例えば下記スキームで表される。
Figure 0007375773000036
上記スキーム中、Ａｒ1は１価の有機基であり、Ａｒ2はＡｒ1とは異なる１価の有機基であり、Ｍは金属原子であり、ｓ及びｔはそれぞれ１以上の整数である。
ラジカルリビング重合法は重合活性種がラジカルであり、例えば下記スキームで示される。
Figure 0007375773000037
上記スキーム中、Ａｒ1は１価の有機基であり、Ａｒ2はＡｒ1とは異なる１価の有機基であり、ｊ及びｋはそれぞれ１以上の整数であり、Ｒaは水素原子又は１価の有機基であり、ＲbはＲaとは異なる水素原子又は１価の有機基である。
このアクリル系高分子分散剤を合成するに際しては、日本国特開平９－６２００２号公報や、Ｐ．Ｌｕｔｚ， Ｐ．Ｍａｓｓｏｎ ｅｔ ａｌ， Ｐｏｌｙｍ． Ｂｕｌｌ． １２， ７９ （１９８４）， Ｂ．Ｃ．Ａｎｄｅｒｓｏｎ， Ｇ．Ｄ．Ａｎｄｒｅｗｓ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， １４， １６０１（１９８１）， Ｋ．Ｈａｔａｄａ， Ｋ．Ｕｔｅ，ｅｔ ａｌ， Ｐｏｌｙｍ． Ｊ． １７， ９７７（１９８５）， １８， １０３７（１９８６）， 右手浩一、畑田耕一、高分子加工、３６， ３６６（１９８７），東村敏延、沢本光男、高分子論文集、４６， １８９（１９８９）， Ｍ．Ｋｕｒｏｋｉ， Ｔ．Ａｉｄａ， Ｊ． Ａｍ． Ｃｈｅｍ． Ｓｉｃ， １０９， ４７３７（１９８７）、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、４３， ３００（１９８５）， Ｄ．Ｙ．Ｓｏｇｏｈ， Ｗ．Ｒ．Ｈｅｒｔｌｅｒ ｅｔ ａｌ， Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ， ２０， １４７３（１９８７）などに記載の公知の方法を採用することができる。
本発明で用いることができるアクリル系高分子分散剤はＡ－Ｂブロック共重合体であっても、Ｂ－Ａ－Ｂブロック共重合体であってもよく、その共重合体を構成するＡブロック／Ｂブロック比は１／９９～８０／２０、特に５／９５～６０／４０（質量比）であることが好ましく、この範囲内にすることで分散性と保存安定性のバランスの確保ができる傾向がある。
また、本発明で用いることができるＡ－Ｂブロック共重合体、Ｂ－Ａ－Ｂブロック共重合体１ｇ中の４級アンモニウム塩基の量は、通常０．１～１０ｍｍｏｌであることが好ましく、この範囲内にすることで良好な分散性を確保できる傾向がある。
なお、このようなブロック共重合体中には、通常、製造過程で生じたアミノ基が含有される場合があるが、そのアミン価は１～１００ｍｇＫＯＨ／ｇ程度であり、分散性の観点から、好ましくは１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、より好ましくは３０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、さらに好ましくは５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上、また、好ましくは９０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは８０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、さらに好ましくは７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下である。例えば、１０～９０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、３０～８０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましく、５０～７５ｍｇＫＯＨ／ｇがさらに好ましい。
ここで、これらのブロック共重合体等の分散剤のアミン価は、分散剤試料中の溶剤を除いた固形分１ｇあたりの塩基量と当量のＫＯＨの質量で表し、次の方法により測定する。
１００ｍＬのビーカーに分散剤試料の０．５～１．５ｇを精秤し、５０ｍＬの酢酸で溶解する。ｐＨ電極を備えた自動滴定装置を使って、この溶液を０．１ｍｏｌ／ＬのＨＣｌＯ4酢酸溶液にて中和滴定する。滴定ｐＨ曲線の変曲点を滴定終点とし次式によりアミン価を求める。
アミン価［ｍｇＫＯＨ／ｇ］＝（５６１×Ｖ）／（Ｗ×Ｓ）
〔但し、Ｗ：分散剤試料秤取量［ｇ］、Ｖ：滴定終点での滴定量［ｍＬ］、Ｓ：分散剤試料の固形分濃度［質量％］を表す。〕
また、このブロック共重合体の酸価は、該酸価の元となる酸性基の有無及び種類にもよるが、一般に低い方が好ましく、通常１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であり、その重量平均分子量（Ｍｗ）は、１０００～１０００００の範囲が好ましい。前記範囲内とすることで良好な分散性を確保できる傾向がある。
アクリル系高分子分散剤が４級アンモニウム塩基を官能基として有する場合、アクリル系高分子分散剤の具体的な構造については特に限定されないが、分散性の観点からは、下記式（ｉ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ｉ）」ということがある。）を有することが好ましい。
Figure 0007375773000038
上記式（ｉ）中、Ｒ31～Ｒ33は各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基であり、Ｒ31～Ｒ33のうち２つ以上が互いに結合して環状構造を形成してもよい。Ｒ34は水素原子又はメチル基である。Ｘは２価の連結基であり、Ｙ-は対アニオンである。
上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33における、置換基を有していてもよいアルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常１以上であり、また、１０以下であることが好ましく、６以下であることがより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～６がより好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基であることがより好ましい。また、直鎖状、分岐鎖状のいずれであってもよい。また、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基などの環状構造を含んでもよい。
上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33における、置換基を有していてもよいアリール基の炭素数は特に限定されないが、通常６以上であり、また、１６以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましい。例えば、６～１６が好ましく、６～１２がより好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、又はジエチルフェニル基であることが好ましく、フェニル基、メチルフェニル基、又はエチルフェニル基であることがより好ましい。
上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33における、置換基を有していてもよいアラルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常７以上であり、また、１６以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましい。例えば、７～１６が好ましく、７～１２がより好ましい。アラルキル基の具体例としては、フェニルメチル基（ベンジル基）、フェニルエチル基（フェネチル基）、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルイソプロピル基などが挙げられ、これらの中でも、フェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、又はフェニルブチル基であることが好ましく、フェニルメチル基、又はフェニルエチル基であることがより好ましい。
これらの中でも、分散性の観点から、Ｒ31～Ｒ33が各々独立にアルキル基、又はアラルキル基であることが好ましく、具体的には、Ｒ31及びＲ33が各々独立にメチル基、又はエチル基であり、かつ、Ｒ32がフェニルメチル基、又はフェニルエチル基であることが好ましく、Ｒ31及びＲ33がメチル基であり、かつ、Ｒ32がフェニルメチル基であることがさらに好ましい。
また、前記アクリル系高分子分散剤が官能基として３級アミンを有する場合、分散性の観点からは、下記式（ｉｉ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ｉｉ）」ということがある。）を有することが好ましい。
Figure 0007375773000039
上記式（ｉｉ）中、Ｒ35及びＲ36は各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基であり、Ｒ35及びＲ36が互いに結合して環状構造を形成してもよい。Ｒ37は水素原子又はメチル基である。Ｚは２価の連結基である。
また、上記式（ｉｉ）のＲ35及びＲ36における、置換基を有していてもよいアルキル基としては、上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33として例示したものを好ましく採用することができる。
同様に、上記式（ｉｉ）のＲ35及びＲ36における、置換基を有していてもよいアリール基としては、上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33として例示したものを好ましく採用することができる。また、上記式（ｉｉ）のＲ35及びＲ36における、置換基を有していてもよいアラルキル基としては、上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33として例示したものを好ましく採用することができる。
これらの中でも、Ｒ35及びＲ36が各々独立に、置換基を有していてもよいアルキル基であることが好ましく、メチル基、又はエチル基であることがより好ましい。
上記式（ｉ）のＲ31～Ｒ33及び上記式（ｉｉ）のＲ35及びＲ36におけるアルキル基、アラルキル基又はアリール基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基、ベンゾイル基、水酸基などが挙げられる。
上記式（ｉ）及び（ｉｉ）において、２価の連結基Ｘ及びＺとしては、例えば、炭素数１～１０のアルキレン基、炭素数６～１２のアリーレン基、－ＣＯＮＨ－Ｒ43－基、－ＣＯＯＲ44－基〔但し、Ｒ43及びＲ44は単結合、炭素数１～１０のアルキレン基、又は炭素数２～１０のエーテル基（アルキルオキシアルキル基）である〕等が挙げられ、好ましくは－ＣＯＯ－Ｒ44－基である。
また、上記式（ｉ）において、対アニオンのＹ-としては、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＣｌＯ4 -、ＢＦ4 -、ＣＨ3ＣＯＯ-、ＰＦ6 -等が挙げられる。
前記式（ｉ）で表される繰り返し単位の含有割合は特に限定されないが、分散性の観点から、前記式（ｉ）で表される繰り返し単位の含有割合と前記式（ｉｉ）で表される繰り返し単位の含有割合の合計に対して好ましくは６０モル％以下であり、より好ましくは５０モル％以下であり、さらに好ましくは４０モル％以下であり、特に好ましくは３５モル％以下であり、また、好ましくは５モル％以上であり、より好ましくは１０モル％以上であり、さらに好ましくは２０モル％以上であり、特に好ましくは３０モル％以上である。
また、高分子分散剤の全繰り返し単位に占める前記式（ｉ）で表される繰り返し単位の含有割合は特に限定されないが、分散性の観点から、１モル％以上が好ましく、５モル％以上がより好ましく、１０モル％以上がさらに好ましく、また、５０モル％以下が好ましく、３０モル％以下がより好ましく、２０モル％以下がさらに好ましく、１５モル％以下が特に好ましい。例えば、１～５０モル％が好ましく、５～３０モル％がより好ましく、５～２０モル％がさらに好ましく、１０～１５モル％が特に好ましい。
また、高分子分散剤の全繰り返し単位に占める前記式（ｉｉ）で表される繰り返し単位の含有割合は特に限定されないが、分散性の観点から、５モル％以上が好ましく、１０モル％以上がより好ましく、１５モル％以上がさらに好ましく、２０モル％以上が特に好ましく、また、６０モル％以下が好ましく、４０モル％以下がより好ましく、３０モル％以下がさらに好ましく、２５モル％以下が特に好ましい。例えば、５～６０モル％が好ましく、１０～４０モル％がより好ましく、１５～３０モル％がさらに好ましく、２０～２５モル％が特に好ましい。
また、高分子分散剤は、溶媒等のバインダー成分に対する相溶性を高め、分散安定性を向上させるとの観点から、下記式（ｉｉｉ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ｉｉｉ）」ということがある。）を有することが好ましい。
Figure 0007375773000040
上記式（ｉｉｉ）中、Ｒ40はエチレン基又はプロピレン基であり、Ｒ41は置換基を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ42は水素原子又はメチル基である。ｎは１～２０の整数である。
上記式（ｉｉｉ）のＲ41における、置換基を有していてもよいアルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常１以上であり、２以上が好ましく、また、１０以下が好ましく、６以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～６がより好ましく、２～６がさらに好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基であることがより好ましい。また、直鎖状、分岐鎖状のいずれであってもよい。また、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基などの環状構造を含んでもよい。
また、上記式（ｉｉｉ）におけるｎは溶媒等バインダー成分に対する相溶性と分散性の観点から、１以上が好ましく、２以上がより好ましく、また、１０以下が好ましく、５以下がより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～５がより好ましく、２～５がさらに好ましい。
また、高分子分散剤の全繰り返し単位に占める前記式（ｉｉｉ）で表される繰り返し単位の含有割合は特に限定されないが、１モル％以上が好ましく、２モル％以上がより好ましく、４モル％以上がさらに好ましく、また、３０モル％以下が好ましく、２０モル％以下がより好ましく、１０モル％以下がさらに好ましい。例えば、１～３０モル％が好ましく、２～２０モル％がより好ましく、４～１０モル％がさらに好ましい。前記範囲内の場合には溶媒等バインダー成分に対する相溶性と分散安定性の両立が可能となる傾向がある。
また、高分子分散剤は、分散剤の溶媒等バインダー成分に対する相溶性を高め、分散安定性を向上させるという観点から、下記式（ｉｖ）で表される繰り返し単位（以下、「繰り返し単位（ｉｖ）」ということがある。）を有することが好ましい。
Figure 0007375773000041
上記式（ｉｖ）中、Ｒ38は置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、又は置換基を有していてもよいアラルキル基である。Ｒ39は水素原子又はメチル基である。
上記式（ｉｖ）のＲ38における、置換基を有していてもよいアルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常１以上であり、２以上であることが好ましく、４以上であることがより好ましく、また、１０以下であることが好ましく、８以下であることがより好ましい。例えば、１～１０が好ましく、１～８がより好ましく、２～８がさらに好ましく、４～８がよりさらに好ましい。アルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基などが挙げられ、これらの中でも、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、又はヘキシル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、又はブチル基であることがより好ましい。また、直鎖状、分岐鎖状のいずれであってもよい。また、シクロヘキシル基、シクロヘキシルメチル基などの環状構造を含んでもよい。
上記式（ｉｖ）のＲ38における、置換基を有していてもよいアリール基の炭素数は特に限定されないが、通常６以上であり、また、１６以下が好ましく、１２以下がより好ましく、８以下がさらに好ましい。例えば、６～１６が好ましく、６～１２がより好ましく、６～８がさらに好ましい。アリール基の具体例としては、フェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、ジエチルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、メチルフェニル基、エチルフェニル基、ジメチルフェニル基、又はジエチルフェニル基であることが好ましく、フェニル基、メチルフェニル基、又はエチルフェニル基であることがより好ましい。
上記式（ｉｖ）のＲ38における、置換基を有していてもよいアラルキル基の炭素数は特に限定されないが、通常７以上であり、また、１６以下であることが好ましく、１２以下であることがより好ましく、１０以下であることがさらに好ましい。例えば、７～１６が好ましく、７～１２がより好ましく、７～１０がさらに好ましい。アラルキル基の具体例としては、フェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基、フェニルイソプロピル基などが挙げられ、これらの中でも、フェニルメチル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基、又はフェニルブチル基であることが好ましく、フェニルメチル基、又はフェニルエチル基であることがより好ましい。
これらの中でも、溶剤相溶性と分散安定性の観点から、Ｒ38がアルキル基、又はアラルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、又はフェニルメチル基であることがより好ましい。
Ｒ38における、アルキル基が有していてもよい置換基としては、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。また、アリール基又はアラルキル基が有していてもよい置換基としては、鎖状のアルキル基、ハロゲン原子、アルコキシ基等が挙げられる。また、Ｒ38で示される鎖状のアルキル基には、直鎖状及び分岐鎖状のいずれも含まれる。
また、高分子分散剤の全繰り返し単位に占める前記式（ｉｖ）で表される繰り返し単位の含有割合は、分散性の観点から、３０モル％以上が好ましく、４０モル％以上がより好ましく、５０モル％以上がさらに好ましく、また、８０モル％以下が好ましく、７０モル％以下がより好ましい。例えば、３０～８０モル％が好ましく、４０～８０モル％がより好ましく、５０～７０モル％以上がさらに好ましい。
高分子分散剤は、繰り返し単位（ｉ）、繰り返し単位（ｉｉ）、繰り返し単位（ｉｉｉ）及び繰り返し単位（ｉｖ）以外の繰り返し単位を有していてもよい。そのような繰り返し単位の例としては、スチレン、α－メチルスチレンなどのスチレン系単量体；（メタ）アクリル酸クロリドなどの（メタ）アクリル酸塩系単量体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド系単量体；酢酸ビニル；アクリロニトリル；アリルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル；Ｎ－メタクリロイルモルホリン等の単量体に由来する繰り返し単位が挙げられる。
高分子分散剤は、分散性をより高めるとの観点から、繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）を有するＡブロックと、繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）を有さないＢブロックとを有する、ブロック共重合体であることが好ましい。該ブロック共重合体は、Ａ－Ｂブロック共重合体又はＢ－Ａ－Ｂブロック共重合体であることが好ましい。Ａブロックに４級アンモニウム塩基だけでなく３級アミノ基も導入することにより、意外にも、分散剤の分散能力が著しく向上する傾向がある。また、Ｂブロックが繰り返し単位（ｉｉｉ）を有することが好ましく、さらに繰り返し単位（ｉｖ）を有することがより好ましい。
Ａブロック中において、繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）は、ランダム共重合、ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。また、繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）は、１つのＡブロック中に各々２種以上含有されていてもよく、その場合、各々の繰り返し単位は、該Ａブロック中においてランダム共重合、ブロック共重合のいずれの態様で含有されていてもよい。
また、繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）以外の繰り返し単位が、Ａブロック中に含有されていてもよく、そのような繰り返し単位の例としては、前述の（メタ）アクリル酸エステル系単量体由来の繰り返し単位等が挙げられる。繰り返し単位（ｉ）及び繰り返し単位（ｉｉ）以外の繰り返し単位の、Ａブロック中の含有割合は、好ましくは０～５０モル％、より好ましくは０～２０モル％であるが、かかる繰り返し単位はＡブロック中に含有されないことが最も好ましい。
繰り返し単位（ｉｉｉ）及び（ｉｖ）以外の繰り返し単位がＢブロック中に含有されていてもよく、そのような繰り返し単位の例としては、スチレン、α－メチルスチレンなどのスチレン系単量体；（メタ）アクリル酸クロリドなどの（メタ）アクリル酸塩系単量体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ－メチロールアクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド系単量体；酢酸ビニル；アクリロニトリル；アリルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル；Ｎ－メタクリロイルモルホリン等の単量体に由来する繰り返し単位が挙げられる。繰り返し単位（ｉｉｉ）及び繰り返し単位（ｉｖ）以外の繰り返し単位の、Ｂブロック中の含有量は、好ましくは０～５０モル％、より好ましくは０～２０モル％であるが、かかる繰り返し単位はＢブロック中に含有されないことが最も好ましい。
また分散安定性向上の点から、（ｆ）分散剤は、後述する顔料誘導体と併用することが好ましい。
＜感光性着色組成物のその他の配合成分＞
本発明の感光性着色組成物には、上述の成分の他、シランカップリング剤等の密着向上剤、界面活性剤（塗布性向上剤）、顔料誘導体、光酸発生剤、架橋剤、メルカプト化合物、重合禁止剤、現像改良剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤等の添加剤を適宜配合することができる。
（１）密着向上剤
本発明の感光性着色組成物には、基板との密着性を改善するため、密着向上剤を含有させてもよい。密着向上剤としては、シランカップリング剤、燐酸基含有化合物等が好ましい。
シランカップリング剤の種類としては、エポキシ系、（メタ）アクリル系、アミノ系等種々のものを、１種を単独で、或いは２種以上を混合して使用できる。
好ましいシランカップリング剤として、例えば、３－メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３－メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等の（メタ）アクリロキシシラン類、２－（３，４－エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３－グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３－グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等のエポキシシラン類、３－ウレイドプロピルトリエトキシシラン等のウレイドシラン類、３－イソシアネートプロピルトリエトキシシラン等のイソシアネートシラン類が挙げられるが、特に好ましくは、エポキシシラン類のシランカップリング剤である。
燐酸基含有化合物としては、（メタ）アクリロイル基含有ホスフェート類が好ましく、下記一般式（ｇ１）、（ｇ２）又は（ｇ３）で表されるものが好ましい。
Figure 0007375773000042
上記一般式（ｇ１）、（ｇ２）及び（ｇ３）において、Ｒ51は水素原子又はメチル基を示し、ｌ及びｌ’は１～１０の整数、ｍは１、２又は３である。
これらの燐酸基含有化合物は、１種類を単独で用いても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。
（２）界面活性剤
本発明の感光性着色組成物には、塗布性向上ため、界面活性剤を含有させてもよい。
界面活性剤としては、例えば、アニオン系、カチオン系、非イオン系、両性界面活性剤等各種のものを用いることができる。中でも、諸特性に悪影響を及ぼす可能性が低い点で、非イオン系界面活性剤を用いることが好ましく、中でもフッ素系やシリコン系の界面活性剤が塗布性の面で効果的である。
このような界面活性剤としては、例えば、ＴＳＦ４４６０（モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＤＦＸ－１８（ネオス社製）、ＢＹＫ－３００、ＢＹＫ－３２５、ＢＹＫ－３３０（ビックケミー社製）、ＫＰ３４０（信越シリコーン社製）、メガファック（登録商標、以下同じ。）Ｆ－４７０、メガファックＦ－４７５、メガファックＦ－４７８、メガファックＦ－５５４、メガファックＦ－５５９（ＤＩＣ社製）、ＳＨ７ＰＡ（東レ・ダウコーニング社製）、ＤＳ－４０１（ダイキン社製）、Ｌ－７７（日本ユニカー社製）、ＦＣ４４３０（３Ｍ社製）等が挙げられる。
なお、界面活性剤は、１種を用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用してもよい。
（３）顔料誘導体
本発明の感光性着色組成物には、分散性、保存性向上のため、分散助剤として顔料誘導体を含有させてもよい。
顔料誘導体としてはアゾ系、フタロシアニン系、キナクリドン系、ベンズイミダゾロン系、キノフタロン系、イソインドリノン系、ジオキサジン系、アントラキノン系、インダンスレン系、ペリレン系、ペリノン系、ジケトピロロピロール系、ジオキサジン系等の誘導体が挙げられるが、中でもフタロシアニン系、キノフタロン系が好ましい。
顔料誘導体の置換基としてはスルホン酸基、スルホンアミド基及びその４級塩、フタルイミドメチル基、ジアルキルアミノアルキル基、水酸基、カルボキシル基、アミド基等が顔料骨格に直接又はアルキル基、アリール基、複素環基等を介して結合したものが挙げられ、好ましくはスルホン酸基である。またこれら置換基は一つの顔料骨格に複数置換していてもよい。
顔料誘導体の具体例としてはフタロシアニンのスルホン酸誘導体、キノフタロンのスルホン酸誘導体、アントラキノンのスルホン酸誘導体、キナクリドンのスルホン酸誘導体、ジケトピロロピロールのスルホン酸誘導体、ジオキサジンのスルホン酸誘導体等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
（４）光酸発生剤
光酸発生剤とは、紫外線により酸を発生することができる化合物であり、露光を行った際に発生する酸の作用により、例えばメラミン化合物等の架橋剤があることで架橋反応を進行させることとなる。係る光酸発生剤の中でも、溶剤に対する溶解性、特に感光性着色組成物に使われる溶剤に対する溶解性が大きいものが好ましいものであり、例えば、ジフェニルヨードニウム、ジトリルヨードニウム、フェニル（ｐ－アニシル）ヨードニウム、ビス（ｍ－ニトロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルフェニル）ヨードニウム、ビス（ｐ－クロロフェニル）ヨードニウム、ビス（ｎ－ドデシル）ヨードニウム、ｐ－イソブチルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウム、ｐ－イソプロピルフェニル（ｐ－トリル）ヨードニウムなどのジアリールヨードニウム、或いはトリフェニルスルホニウムなどのトリアリールスルホニウムのクロリド、ブロミド、或いはホウフッ化塩、ヘキサフルオロフォスフェート塩、ヘキサフルオロアルセネート塩、芳香族スルホン酸塩、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート塩等や、ジフェニルフェナシルスルホニウム（ｎ－ブチル）トリフェニルボレート等のスルホニウム有機ホウ素錯体類、或いは、２－メチル－４，６－ビストリクロロメチルトリアジン、２－（４－メトキシフェニル）－４，６－ビストリクロロメチルトリアジンなどのトリアジン化合物等を挙げることができるがこの限りではない。
（５）架橋剤
本発明の感光性着色組成物には、さらに架橋剤を加えることができ、例えばメラミン又はグアナミン系の化合物を用いることができる。これら架橋剤としては、例えば、下記一般式（６）で示されるメラミン又はグアナミン系の化合物を挙げることができる。
Figure 0007375773000043
式（６）中、Ｒ61は－ＮＲ66Ｒ67基又は炭素数６～１２のアリール基を表し、Ｒ61が－ＮＲ66Ｒ67基の場合はＲ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66及びＲ67の一つがＣＨ2ＯＲ68基を表し、Ｒ61が炭素数６～１２のアリール基の場合はＲ62、Ｒ63、Ｒ64及びＲ65の一つが－ＣＨ2ＯＲ68基を表し、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66及びＲ67の残りは互いに独立に、水素又は－ＣＨ2ＯＲ68基を表し、Ｒ68は水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。
ここで、炭素数６～１２のアリール基は典型的にはフェニル基、１－ナフチル基又は２－ナフチル基であり、これらのフェニル基やナフチル基には、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子などの置換基が結合していてもよい。アルキル基及びアルコキシ基は、それぞれ炭素数１～６程度であることができる。Ｒ68で表されるアルキル基は、上記の中でも、メチル基又はエチル基、とりわけメチル基であることが好ましい。
一般式（６）に相当するメラミン系化合物、すなわち下記一般式（６－１）の化合物には、ヘキサメチロールメラミン、ペンタメチロールメラミン、テトラメチロールメラミン、ヘキサメトキシメチルメラミン、ペンタメトキシメチルメラミン、テトラメトキシメチルメラミン、ヘキサエトキシメチルメラミンなどが包含される。
Figure 0007375773000044
式（６－１）中、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66及びＲ67の一つがアリール基の場合はＲ62、Ｒ63、Ｒ64及びＲ65の一つが－ＣＨ2ＯＲ68基を表し、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ65、Ｒ66及びＲ67の残りは互いに独立に、水素原子又は－ＣＨ2ＯＲ68基を表し、ここにＲ68は水素原子又はアルキル基を表す。
また、一般式（６）に相当するグアナミン系化合物、すなわち一般式（６）中のＲ61がアリールである化合物には、テトラメチロールベンゾグアナミン、テトラメトキシメチルベンゾグアナミン、トリメトキシメチルベンゾグアナミン、テトラエトキシメチルベンゾグアナミンなどが包含される。
さらに、メチロール基又はメチロールアルキルエーテル基を有する架橋剤を用いることもできる。以下にその例を挙げる。
２，６－ビス（ヒドロキシメチル）－４－メチルフェノール、４－ｔｅｒｔ－ブチル－２，６－ビス（ヒドロキシメチル）フェノール、５－エチル－１，３－ビス（ヒドロキシメチル）ペルヒドロ－１，３，５－トリアジン－２－オン（通称Ｎ－エチルジメチロールトリアゾン）又はそのジメチルエーテル体、ジメチロールトリメチレン尿素又はそのジメチルエーテル体、３，５－ビス（ヒドロキシメチル）ペルヒドロ－１，３，５－オキサジアジン－４－オン（通称ジメチロールウロン）又はそのジメチルエーテル体、テトラメチロールグリオキザールジウレイン又はそのテトラメチルエーテル体。
なお、これら架橋剤は１種を単独で用いても、２種以上を組み合わせて使用してもよい。架橋剤を用いる際の量は、感光性着色組成物の全固形分中に０．１～１５質量％が好ましく、特に好ましくは０．５～１０質量％である。
（６）メルカプト化合物
重合促進剤として、また、硬化物表面の硬化性向上、表面粗度向上のため、メルカプト化合物を添加することも可能である。
メルカプト化合物としては、芳香族環を有するメルカプト基含有化合物と脂肪族系のメルカプト基含有化合物が挙げられる。
芳香族環を有するメルカプト基含有化合物としては、光硬化性の観点から、下記一般式（１－３）で表される化合物が好適に用いられる。
Figure 0007375773000045
式（１－３）中、Ｚは－Ｏ－、－Ｓ－又は－ＮＨ－を表し、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、及びＲ64は各々独立に、水素原子又は１価の置換基を表す。
これらのうち、光硬化性の観点から、Ｚは－Ｓ－又は－ＮＨ－が好ましく、－ＮＨ－がより好ましい。
また、光硬化性の観点から、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、及びＲ64は各々独立に、水素原子、炭素数１～４アルキル基又は炭素数１～４のアルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。
具体的には、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、２－メルカプトベンゾオキサゾール、３－メルカプト－１，２，４－トリアゾール、２－メルカプト－４（３Ｈ）－キナゾリン、β－メルカプトナフタレン、１，４－ジメチルメルカプトベンゼン等の芳香族環を有するメルカプト基含有化合物が挙げられ、テーパー角の観点から、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾールが好ましい。
一方で脂肪族系のメルカプト基含有化合物としては、光硬化性の観点から、へキサンジチオール、デカンジチオール、又は下記一般式（１－４）で表される化合物が好適に用いられる。
Figure 0007375773000046
式（１－４）中、ｍは０～４の整数、ｎは２～４の整数を表す。Ｒ71及びＲ72は各々独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。Ｘはｎ価の基を表す。
前記一般式（１－４）において、光硬化性の観点から、ｍは１又は２であることが好ましい。また、光硬化性の観点から、ｎは３又は４であることが好ましく、４がより好ましい。
また、Ｒ71及びＲ72のアルキル基としては、光硬化性の観点から、炭素数１～３のものが好ましい。光硬化性の観点から、Ｒ71及びＲ72のうちの少なくとも一方、例えば、Ｒ72は水素原子であることが好ましく、この場合において、Ｒ71は水素原子又は炭素数１～３のアルキル基であることが好ましい。
ｎが２である場合、光硬化性の観点から、Ｘはエーテル結合及び／又は枝分かれ部を有してもよい炭素数１～６のアルキレン基が好ましい。光硬化性の観点から、中でも炭素数１～６のアルキレン基がより好ましく、炭素数４のアルキレン基がさらに好ましい。
ｎが３である場合、光硬化性の観点から、Ｘは下記一般式（１－５）又は（１－６）で表される構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000047
式（１－５）中、Ｒ73は水素原子、炭素数１～６のアルキル基、又はメチロール基を表す。Ｒ73の中でも、光硬化性の観点から、エチル基が好ましい。
Figure 0007375773000048
式（１－６）中、Ｒ74は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｒ74の中でも、光硬化性の観点から、エチレン基が好ましい。
一方で、ｎが４である場合、Ｘは下記一般式（１－７）で表される構造であることが好ましい。
Figure 0007375773000049
具体的には、ブタンジオールビス（３－メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビスチオグリコレート、エチレングリコールビス（３－メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビスチオグリコレート、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリスチオグリコレート、トリスヒドロキシエチルトリスチオプロピオネート、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３－メルカプトプロピオネート）、ブタンジオールビス（３－メルカプトブチレート）、エチレングリコールビス（３－メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールトリス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオン等が挙げられる。
このうち、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３－メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールトリス（３－メルカプトブチレート）、１，３，５－トリス（３－メルカプトブチルオキシエチル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）－トリオンが好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）がより好ましい。
これらは種々のものを、１種を単独で、或いは２種以上を混合して使用できる。
これらの中でも、光硬化性の観点から、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、及び２－メルカプトベンゾオキサゾールからなる群から選択された１以上と、光重合開始剤とを組み合わせて、光重合開始剤系として使用することが好適である。例えば、２－メルカプトベンゾチアゾールを用いてもよく、２－メルカプトベンゾイミダゾールを用いてもよく、２－メルカプトベンゾチアゾールと２－メルカプトベンゾイミダゾールとを併用して用いてもよい。
また、光硬化性の観点から、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、及びペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）からなる群から選択された１以上を用いることが好ましい。
さらに、特に光硬化性の観点から、芳香族環を有するメルカプト基含有化合物と脂肪族系のメルカプト基含有化合物を併用して使用することが好適である。これは、開口部の幅が狭いマスクを用いることで露光時の回折によって単位面積あたりの照度が低くなり、線幅が太い場合に比べて酸素阻害の影響を受けやすく、表面硬化性が低くなる傾向があるからである。
特に、（ｃ）光重合開始剤としてヘキサアリールビイミダゾール系光重合開始剤を用いた場合には、芳香族環を有するメルカプト基含有化合物と脂肪族系のメルカプト基含有化合物を併用して使用することが好適である。一方で、アセトフェノン系光重合開始剤を用いた場合には、脂肪族系のメルカプト基含有化合物の単独使用でも十分に効果が得られる傾向がある。
例えば、２－メルカプトベンゾチアゾール、２－メルカプトベンゾイミダゾール、及び２－メルカプトベンゾオキサゾールよりなる群から選択された１以上と、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３－メルカプトブチレート）よりなる群から選択された１以上と、光重合開始剤とを組み合わせて用いることが好ましい。
（７）重合禁止剤
形状制御の観点から、重合禁止剤を含有させてもよい。
重合禁止剤としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルヒドロキノン、メトキシフェノール、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－クレゾール（ＢＨＴ）などが挙げられる。これらの中でも形状制御の観点から、２，６－ジ－ｔｅｒｔ－ブチル－４－クレゾールが好ましい。また人体への安全性の観点から、ハイドロキノンモノメチルエーテル、メチルヒドロキノンが好ましい。
重合禁止剤は、１種又は２種以上を含有させてもよい。（ｂ）アルカリ可溶性樹脂を製造する際に、当該樹脂中に重合禁止剤が含まれることがあり、それを本発明の重合禁止剤として用いてもよいし、樹脂中に重合禁止剤の他に、それと同一、又は異なる重合禁止剤を感光性着色組成物製造時に添加してもよい。
＜感光性着色組成物中の成分配合量＞
本発明の感光性着色組成物において、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合は特に限定されないが、全固形分中に通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは１５質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、特に好ましくは２５質量％以上であり、通常８０質量％以下、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６０質量％以下、さらに好ましくは５０質量％以下、よりさらに好ましくは４０質量％以下、特に好ましくは３５質量％以下である。例えば、５～８０質量％が好ましく、５～７０質量％がより好ましく、１０～６０質量％がさらに好ましく、１５～５０質量％がよりさらに好ましく、２０～４０質量％が特に好ましく、２５～３５質量％がとりわけ好ましい。（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合を前記下限値以上とすることで、現像溶解性が向上する傾向がある。また前記上限値以下とすることで、機械的特性が向上する傾向がある。
（ｃ）光重合開始剤の含有割合は特に限定されないが、全固形分中に通常０．１質量％以上、好ましくは０．５質量％以上、より好ましくは１質量％以上、さらに好ましくは１．５質量％以上、通常１５質量％以下、好ましくは１０質量％以下、より好ましくは８質量％以下、さらに好ましくは６質量％以下、特に好ましくは４質量％以下である。例えば、０．１～１５質量％が好ましく、０．１～１０質量％がより好ましく、０．５～８質量％がさらに好ましく、１～６質量％が特に好ましく、１．５～４質量％がとりわけ好ましい。（ｃ）光重合開始剤の含有割合を前記下限値以上とすることで光硬化性が高まり、表面粗度が向上する傾向があり、前記上限値以下とすることで現像溶解性が向上する傾向がある。
（ｃ）光重合開始剤と共に重合促進剤を用いる場合、重合促進剤の含有割合は、本発明の感光性着色組成物の全固形分中に、好ましくは０．０５質量％以上、通常１０質量％以下、好ましくは５質量％以下、例えば、０．０５～１０質量％、好ましくは０．０５～５質量％である。また、重合促進剤は、（ｃ）光重合開始剤１００質量部に対して通常０．１～５０質量部、好ましくは０．１～２０質量部の割合で用いる。重合促進剤の含有割合を前記下限値以上とすることで、露光光線に対する感度の低下を抑制できる傾向があり、前記上限値以下とすることで未露光部分の現像液に対する溶解性の低下を抑制し、現像不良を抑制できる傾向がある。
また、（ｃ）光重合開始剤と共に増感色素を用いる場合、増感色素の含有割合は、本発明の感光性着色組成物の全固形分中に、好ましくは０．１質量％以上、より好ましくは０．２質量％以上、さらに好ましくは０．３質量％以上、また、好ましくは５質量％以下、より好ましくは４質量％以下、さらに好ましくは３質量％以下である。例えば、０．１～５質量％が好ましく、０．２～４質量％がより好ましく、０．３～３質量％がさらに好ましい。前記下限値以上とすることで光硬化性が高まり、表面粗度が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで現像溶解性が向上する傾向がある。
（ｄ）エチレン性不飽和化合物の含有割合は、本発明の感光性着色組成物の全固形分中に、通常１質量％以上、好ましくは５質量％以上、より好ましくは１０質量％以上、さらに好ましくは２０質量％以上、よりさらに好ましくは３０質量％以上、特に好ましくは４０質量％以上、最も好ましくは５０質量％以上であり、また、通常８０質量％以下、好ましくは７０質量％以下、より好ましくは６５質量％以下である。例えば、１～８０質量％が好ましく、５～８０質量％がより好ましく、１０～７０質量％がさらに好ましく、２０～７０質量％がよりさらに好ましく、３０～７０質量％が特に好ましく、４０～６５質量％がとりわけ好ましく、５０～６５質量％以上が最も好ましい。（ｄ）エチレン性不飽和化合物の含有割合を前記下限値以上とすることで機械的特性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで、現像溶解性が向上する傾向がある。
一方で、（ｄ）エチレン性不飽和化合物１００質量部に対する（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合は特に限定されないが、１０質量部以上が好ましく、２０質量部以上がより好ましく、３０質量部以上がさらに好ましく、４０質量部以上が特に好ましく、また、通常１５０質量部以下、１２０質量部以下が好ましく、１００質量部以下がより好ましく、７０質量部以下がさらに好ましい。例えば、１０～１５０質量部が好ましく、２０～１２０質量部がより好ましく、３０～１００質量部がさらに好ましく、４０～７０質量部が特に好ましい。前記下限値以上とすることで現像溶解性が向上する傾向があり、また、前記上限値以下とすることで機械的特性が良好となる傾向がある。
なお、本発明の感光性着色組成物は、（ｅ）溶剤を使用することで、その全固形分の含有割合が通常５質量％以上、好ましくは１０質量％以上、より好ましくは１５質量％以上、また通常５０質量％以下、好ましくは３０質量％以下、より好ましくは２５質量％以下となるように調液される。例えば、５～５０質量％が好ましく、１０～３０質量％がより好ましく、１５～２５質量％がさらに好ましい。
本発明の感光性着色組成物が（ｆ）分散剤を含む場合、（ｆ）分散剤の含有割合は感光性着色組成物の全固形分中に通常０．５質量％以上であり、１質量％以上が好ましく、１．５質量％以上がより好ましく、また通常３０質量％以下、２０質量％以下が好ましく、１５質量％以下がより好ましく、１０質量％以下がさらに好ましく、５質量％以下が特に好ましい。例えば、０．５～３０質量％が好ましく、０．５～２０質量％がより好ましく、１～１５質量％がさらに好ましく、１～１０質量％がよりさらに好ましく、１．５～５質量％が特に好ましい。（ｆ）分散剤の含有割合を前記下限値以上とすることで、保存安定性が向上する傾向があり、前記上限値以下とすることで表示信頼性が向上する傾向がある。
また、（ａ）着色剤１００質量部に対する（ｆ）分散剤の含有割合は、通常５質量部以上、１０質量部以上がより好ましく、２０質量部以上がさらに好ましく、通常５０質量部以下、特に４０質量部以下であることが好ましい。例えば、５～５０質量部が好ましく、１０～５０質量部がより好ましく、２０～４０質量部がさらに好ましい。（ｆ）分散剤の含有割合を前記下限値以上とすることで、保存安定性が向上する傾向があり、前記上限値以下とすることで表示信頼性が向上する傾向がある。
密着向上剤を用いる場合、その含有割合は、感光性着色組成物の全固形分中に通常０．１質量％以上であり、０．２質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、また通常３０質量％以下、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。例えば、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．２～１０質量％がさらに好ましく、０．５～５質量％がよりさらに好ましく、０．５～３質量％が特に好ましい。密着向上剤の含有割合を前記下限値以上とすることで、密着性が向上する傾向があり、前記上限値以下とすることで残渣が低減する傾向がある。
また、界面活性剤を用いる場合、その含有割合は、感光性着色組成物の全固形分中に通常０．００１～１０質量％、好ましくは０．００５～１質量％、さらに好ましくは０．０１～０．５質量％、最も好ましくは０．０３～０．３質量％である。界面活性剤の含有割合を前記下限値以上とすることで塗布膜の平滑性、均一性が発現しやすい傾向があり、前記上限値以下とすることで塗布膜の平滑性、均一性が発現しやすく、他の特性の悪化も抑制できる傾向がある。
メルカプト化合物を用いる場合、その含有割合は、感光性着色組成物の全固形分中に、通常０．１質量％以上であり、０．２質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、また通常３０質量％以下、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましく、５質量％以下がさらに好ましく、３質量％以下が特に好ましい。例えば、０．１～３０質量％が好ましく、０．２～２０質量％がより好ましく、０．２～１０質量％がさらに好ましく、０．５～５質量％がよりさらに好ましく、０．５～３質量％が特に好ましい。メルカプト化合物の含有割合を前記下限値以上とすることで、光硬化性が高まり、表面粗度が向上する傾向があり、前記上限値以下とすることで保存安定性が向上する傾向がある。
重合禁止剤を用いる場合、その含有割合は、感光性着色組成物の全固形分中に、通常０．０５質量％以上であり、０．１質量％以上が好ましく、０．２質量％以上がより好ましく、また通常２質量％以下、１質量％以下が好ましく、０．８質量％以下がより好ましく、０．７質量％以下がさらに好ましく、０．５質量％以下が特に好ましい。例えば、０．０５～２質量％が好ましく、０．０５～１質量％がより好ましく、０．１～０．８質量％がさらに好ましく、０．１～０．７質量％がよりさらに好ましく、０．２～０．５質量％が特に好ましい。重合禁止剤の含有割合を前記下限値以上とすることで、解像度が高くなる傾向があり、前記上限値以下とすることで硬化性が高くなる傾向がある。
＜感光性着色組成物の物性＞
本発明の感光性着色組成物は、着色スペーサー形成用に好適に使用することができ、着色スペーサーとして用いるとの観点からは、その塗膜の膜厚１μｍ当たりの光学濃度（ＯＤ）が高い方が好ましい。本発明の感光性着色組成物を硬化して得られる着色スペーサー単独では、０．１以上であることが好ましく、０．１５以上であることがより好ましく、０．２以上であることがさらに好ましく、０．２５以上であることがよりさらに好ましい。ここで光学濃度（ＯＤ）は後述する方法にて測定した値である。
＜感光性着色組成物の製造方法＞
本発明の感光性着色組成物は、常法に従って製造される。
通常、（ａ）着色剤は、予めペイントコンディショナー、サンドグラインダー、ボールミル、ロールミル、ストーンミル、ジェットミル、ホモジナイザー等を用いて分散処理することが好ましい。分散処理により（ａ）着色剤が微粒子化されるため、感光性着色組成物の塗布特性が向上する。
分散処理は、通常、（ａ）着色剤、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤、必要に応じて（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の一部又は全部を併用した系にて行うことが好ましい（以下、分散処理に供する混合物、及び該処理にて得られた組成物を「インク」又は「顔料分散液」と称することがある）。特に（ｆ）分散剤として高分子分散剤を用いると、得られたインク及び感光性着色組成物の経時の増粘が抑制される（分散安定性に優れる）ので好ましい。
このように、感光性着色組成物を製造する工程において、（ａ）着色剤、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤を少なくとも含有する顔料分散液を製造することが好ましい。顔料分散液に用いることができる（ａ）着色剤、（ｅ）溶剤、及び（ｆ）分散剤としては、それぞれ感光性着色組成物に用いることができるものとして記載したものを好ましく採用することができる。
なお、感光性着色組成物に配合する全成分を含有する液に対して分散処理を行った場合、分散処理時に生じる発熱のため、高反応性の成分が変性する可能性がある。従って、（ｃ）光重合開始剤や（ｄ）エチレン性不飽和化合物を含まない系にて分散処理を行うことが好ましい。
サンドグラインダーで（ａ）着色剤を分散させる場合には、０．１～８ｍｍ程度の粒子径のガラスビーズ又はジルコニアビーズが好ましく用いられる。分散処理条件は、温度は通常０℃から１００℃であり、好ましくは室温から８０℃の範囲である。分散時間は液の組成及び分散処理装置のサイズ等により適正時間が異なる傾向があり、適宜調節すればよい。顔料分散液又は感光性着色組成物を基板に塗布した際の２０度鏡面光沢度（ＪＩＳ Ｚ８７４１）が５０～３００の範囲となるように、インクの光沢を制御することが分散の目安である。前記下限値以上とすることで、分散処理が十分でなく荒い顔料（（ａ）着色剤）粒子の残存を抑制でき、現像性、密着性、解像性等を十分なものとしやすい傾向がある。また、前記上限値以下とすることで、顔料が破砕して超微粒子が多数生じるのを抑制でき、分散安定性を良好なものとすることができる傾向がある。
また、インク中に分散した顔料の分散粒径は通常０．０３～０．３μｍであり、動的光散乱法等により測定される。
次に、上記分散処理により得られたインクと、感光性着色組成物中に含まれる、上記の他の成分を混合し、均一な溶液とする。感光性着色組成物の製造工程においては、微細なゴミが液中に混じることが多いため、得られた感光性着色組成物はフィルター等により濾過処理することが望ましい。
［硬化物］
本発明の硬化物は、本発明の感光性着色組成物を硬化させることで得られる。感光性着色組成物を硬化してなる硬化物は、着色スペーサーとして好適に用いることができる。
［着色スペーサー］
次に、本発明の硬化物から構成される、本発明の着色スペーサーについて、その製造方法に従って説明する。
（１）支持体
着色スペーサーを形成するための支持体としては、適度の強度があれば、その材質は特に限定されるものではない。主に透明基板が使用されるが、材質としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリプロピレン、ポリエチレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリスルフォンなどの熱可塑性樹脂製シート、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリ（メタ）アクリル系樹脂などの熱硬化性樹脂シート、又は各種ガラスなどが挙げられる。この中でも、耐熱性の観点からガラス、耐熱性樹脂が好ましい。また、基板の表面にＩＴＯ、ＩＺＯ等の透明電極が成膜されている場合もある。透明基板以外では、ＴＦＴアレイ上に形成することも可能である。
支持体には、接着性などの表面物性の改良のため、必要に応じ、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤や、ウレタン系樹脂などの各種樹脂の薄膜形成処理などを行ってもよい。
透明基板の厚さは、通常０．０５～１０ｍｍ、好ましくは０．１～７ｍｍの範囲とされる。また各種樹脂の薄膜形成処理を行う場合、その膜厚は、通常０．０１～１０μｍ、好ましくは０．０５～５μｍの範囲である。
（２）着色スペーサー
本発明の感光性着色組成物は、公知のカラーフィルター用感光性着色組成物と同様の用途に使用することができるが、以下、着色スペーサーとして使用される場合について、その形成方法を説明する。
通常、着色スペーサーが設けられるべき支持体上に、感光性着色組成物を、塗布等の方法により膜状或いはパターン状に供給し、溶剤を乾燥させる。続いて、露光－現像を行うフォトリソグラフィー法などの方法によりパターン形成を行う。その後、必要により追露光や熱硬化処理を行うことにより、該支持体上に着色スペーサーが形成される。
（３）着色スペーサーの形成
［１］基板への供給方法
本発明の感光性着色組成物は、通常、溶剤に溶解或いは分散された状態で、支持体上へ供給される。その供給方法としては、従来公知の方法、例えば、スピナー法、ワイヤーバー法、フローコート法、ダイコート法、ロールコート法、スプレーコート法などによって行うことができる。また、インクジェット法や印刷法などにより、パターン状に供給されてもよい。中でも、ダイコート法によれば、塗布液の使用量が大幅に削減され、かつ、スピンコート法によった際に付着するミストなどの影響がない、異物発生が抑制されるなど、総合的な観点から好ましい。
塗布量は用途により異なるが、例えば着色スペーサーの場合には、乾燥膜厚として、通常０．５μｍ～１０μｍ、好ましくは１μｍ～９μｍ、特に好ましくは１μｍ～７μｍの範囲である。また、乾燥膜厚或いは最終的に形成されたスペーサーの高さが、基板全域に渡って均一であることが重要である。ばらつきが大きい場合には、液晶パネルに表示斑等の欠陥が生ずる場合がある。
ただし、本発明の感光性着色組成物を用いて、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサーを一括形成する場合は、最終的に形成された着色スペーサーの高さは異なるものとなる。
尚、基板としてはガラス基板など、公知の基板を使用することができる。また、基板表面は平面であることが好適である。
［２］乾燥方法
基板上に感光性着色組成物を供給した後の乾燥は、ホットプレート、ＩＲオーブン、コンベクションオーブンを使用した乾燥方法によることが好ましい。また、温度を高めず、減圧チャンバー内で乾燥を行う、減圧乾燥法を組み合わせてもよい。
乾燥温度及び乾燥時間等の乾燥条件は、溶剤成分の種類、使用する乾燥機の性能などに応じて適宜選択することができる。通常は、４０℃～１３０℃の温度で１５秒～５分間の範囲で選ばれ、好ましくは５０℃～１１０℃の温度で３０秒～３分間の範囲で選ばれる。
［３］露光方法
露光は、感光性着色組成物の塗布膜上に、ネガのマスクパターンを重ね、このマスクパターンを介し、紫外線又は可視光線の光源を照射して行う。露光マスクを用いて露光を行う場合には、露光マスクを感光性着色組成物の塗布膜に近接させる方法や、露光マスクを感光性着色組成物の塗布膜から離れた位置に配置し、該露光マスクを介した露光光を投影する方法によってもよい。また、マスクパターンを用いないレーザー光による走査露光方式によってもよい。この際、必要に応じ、酸素による光重合性層の感度の低下を防ぐため、脱酸素雰囲気下で行ったり、光重合性層上にポリビニルアルコール層などの酸素遮断層を形成した後に露光を行ったりしてもよい。
本発明の好ましい態様として、フォトリソグラフィー法により高さの異なる着色スペーサーを同時に形成する場合は、例えば、遮光部（光透過率０％）と、複数の開口部として、平均光透過率の最も高い開口部（完全透過開口部）及び平均光透過率の低い開口部（中間透過開口部）を有する露光マスクを用いる。この方法により、中間透過開口部と完全透過開口部の平均光透過率の差、即ち露光量の差により、残膜率の差異を生じさせる。
中間透過開口部は、例えば、微小な多角形の遮光ユニットを有するマトリックス状遮光パターンによって作成する方法等が知られている。また吸収体として、クロム系、モリブデン系、タングステン系、シリコン系などの材料の膜によって、光透過率を制御し作成する方法等が知られている。
上記の露光に使用される光源は、特に限定されるものではない。光源としては、例えば、キセノンランプ、ハロゲンランプ、タングステンランプ、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、中圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、蛍光ランプなどのランプ光源や、アルゴンイオンレーザー、ＹＡＧレーザー、エキシマレーザー、窒素レーザー、ヘリウムカドミニウムレーザー、青紫色半導体レーザー、近赤外半導体レーザーなどのレーザー光源などが挙げられる。特定の波長の光を照射して使用する場合には、光学フィルターを利用することもできる。
光学フィルターとしては、例えば薄膜で露光波長における光透過率を制御可能なタイプでもよく、その場合の材質としては、例えばＣｒ化合物（Ｃｒの酸化物、窒化物、酸窒化物、フッ化物など）、ＭｏＳｉ、Ｓｉ、Ｗ、Ａｌ等が挙げられる。
露光量としては、通常、１ｍＪ／ｃｍ2以上、好ましくは５ｍＪ／ｃｍ2以上、より好ましくは１０ｍＪ／ｃｍ2以上であり、通常３００ｍＪ／ｃｍ2以下、好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ2以下、より好ましくは１５０ｍＪ／ｃｍ2以下である。
また、近接露光方式の場合には、露光対象とマスクパターンとの距離としては、通常１０μｍ以上、好ましくは５０μｍ以上、より好ましくは７５μｍ以上であり、通常５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下である。
［４］現像方法
上記の露光を行った後、アルカリ性化合物の水溶液、又は有機溶剤を用いる現像によって、基板上に画像パターンを形成することができる。この水溶液には、さらに界面活性剤、有機溶剤、緩衝剤、錯化剤、染料又は顔料を含ませることができる。
アルカリ性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、リン酸ナトリウム、リン酸カリウム、リン酸水素ナトリウム、リン酸水素カリウム、リン酸二水素ナトリウム、リン酸二水素カリウム、水酸化アンモニウムなどの無機アルカリ性化合物や、モノ－、ジ－又はトリエタノールアミン、モノ－、ジ－又はトリメチルアミン、モノ－、ジ－又はトリエチルアミン、モノ－又はジイソプロピルアミン、ｎ－ブチルアミン、モノ－、ジ－又はトリイソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジイミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（ＴＭＡＨ）、コリンなどの有機アルカリ性化合物が挙げられる。これらのアルカリ性化合物は、２種以上の混合物であってもよい。
上記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、モノグリセリドアルキルエステル類などのノニオン系界面活性剤；アルキルベンゼンスルホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、アルキル硫酸塩類、アルキルスルホン酸塩類、スルホコハク酸エステル塩類などのアニオン性界面活性剤；アルキルベタイン類、アミノ酸類などの両性界面活性剤、が挙げられる。
有機溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、フェニルセロソルブ、プロピレングリコール、ジアセトンアルコールなどが挙げられる。有機溶剤は、単独でも水溶液と併用して使用できる。
現像処理の条件は特に制限はなく、通常、現像温度は１０～５０℃の範囲、中でも１５～４５℃、特に好ましくは２０～４０℃で、現像方法は、浸漬現像法、スプレー現像法、ブラシ現像法、超音波現像法などのいずれかの方法によることができる。
［５］追露光及び熱硬化処理
現像の後の基板には、必要により上記の露光方法と同様な方法により追露光を行ってもよく、また熱硬化処理を行ってもよい。この際の熱硬化処理条件は、温度は１００℃～２８０℃の範囲、好ましくは１５０℃～２５０℃の範囲で選ばれ、時間は５分間～６０分間の範囲で選ばれる。
本発明の着色スペーサーの大きさや形状等は、これを適用するカラーフィルターの仕様等によって適宜調整されるが、本発明の感光性着色組成物は、特に、フォトリソグラフィー法によりスペーサーとサブスペーサーの高さの異なる着色スペーサーを同時に形成するのに有用であり、その場合、スペーサーの高さは通常１～７μｍ程度であり、サブスペーサーは、スペーサーよりも通常０．２～１．５μｍ程度低い高さを有する。
［画像表示装置］
本発明の画像表示装置は、本発明の着色スペーサーを備える。
例えば、上述した本発明の着色スペーサーを有するカラーフィルターと、液晶駆動側基板とを貼り合わせて液晶セルを形成し、形成した液晶セルに液晶を注入することで、本発明の着色スペーサーを備えた、液晶表示装置等の本発明の画像表示装置を製造することができる。
次に、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例で用いた感光性着色組成物の構成成分は次の通りである。
＜アルカリ可溶性樹脂－Ｉ＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１４５質量部を窒素置換しながら攪拌し、１２０℃に昇温した。ここにスチレン１０質量部、グリシジルメタクリレート８５質量部およびトリシクロデカン骨格を有するモノメタクリレート（日立化成社製ＦＡ－５１３Ｍ）６６質量部を滴下し、２，２’－アゾビス－２－メチルブチロニトリル８．５質量部を３時間かけて滴下し、さらに９０℃で２時間攪拌し続けた。次に反応容器内を空気に変え、アクリル酸４３質量部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．７質量部及びハイドロキノン０．１２質量部を投入し、１００℃で１２時間反応を続けた。その後、テトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）５６質量部、トリエチルアミン０．７質量部を加え、１００℃で３．５時間反応させた。こうして得られたアルカリ可溶性樹脂－ＩのＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗは８４００、酸価は８０ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
＜アルカリ可溶性樹脂－ＩＩ＞
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート１２４質量部を窒素置換しながら攪拌し、１２０℃に昇温した。ここにスチレン４質量部、グリシジルメタクリレート１３２質量部およびトリシクロデカン骨格を有するモノメタクリレート（日立化成社製ＦＡ－５１３Ｍ）４質量部を滴下し、２，２’－アゾビス－２－メチルブチロニトリル７．２質量部を３時間かけて滴下し、さらに９０℃で２時間攪拌し続けた。次に反応容器内を空気に変え、アクリル酸６７質量部にトリスジメチルアミノメチルフェノール０．６質量部及びハイドロキノン０．１２質量部を投入し、１００℃で１２時間反応を続けた。その後、テトラヒドロ無水フタル酸（ＴＨＰＡ）１５質量部、トリエチルアミン０．６質量部を加え、１００℃で３．５時間反応させた。こうして得られたアルカリ可溶性樹脂－ＩＩのＧＰＣにより測定したポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗは９０００、酸価は２４ｍｇＫＯＨ／ｇ、二重結合当量は２６０ｇ／ｍｏｌであった。
＜分散剤－Ｉ＞
ビックケミー社製「ＢＹＫ－ＬＰＮ２１１１６」（側鎖に４級アンモニウム塩基及び３級アミノ基を有するＡブロックと、４級アンモニウム塩基及び３級アミノ基を有さないＢブロックからなる、アクリル系Ａ－Ｂブロック共重合体。アミン価は７０ｍｇＫＯＨ／ｇ。酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下。）
分散剤－ＩのＡブロック中には、下記式（１ａ）及び（２ａ）の繰り返し単位が含まれ、Ｂブロック中には下記式（３ａ）の繰り返し単位が含まれる。分散剤－Ｉの全繰り返し単位に占める下記式（１ａ）、（２ａ）、及び（３ａ）の繰り返し単位の含有割合はそれぞれ１１．１モル％、２２．２モル％、６．７モル％である。
Figure 0007375773000050
＜溶剤－Ｉ＞
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
＜溶剤－ＩＩ＞
ＭＢ：３－メトキシブタノール
＜光重合開始剤－Ｉ＞
黒金化成社製 ２，２’－ビス（ｏ－クロロフェニル）－４，５，４’，５’－テトラフェニル－１，２－ビイミダゾール
＜光重合開始剤－ＩＩ＞
ＢＡＳＦ社製 Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）３６９
＜メルカプト化合物＞
東京化成社製 ２－メルカプトベンゾチアゾール
＜光重合性モノマー＞
日本化薬社製 ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート）
＜界面活性剤＞
ＤＩＣ社製 メガファック Ｆ－５５４
＜添加剤－Ｉ＞
日本化薬社製 ＫＡＹＡＭＥＲ（登録商標） ＰＭ－２１（メタクリロイル基含有ホスフェート）
＜添加剤－ＩＩ＞
精工化学社製 メチルヒドロキノン
＜顔料分散液１～７の調製＞
表１に記載の顔料、分散剤、アルカリ可溶性樹脂、及び溶剤を、表１に記載の質量比となるように混合して混合液を得た。なお表１中の溶剤の配合割合には、分散剤及びアルカリ可溶性樹脂由来の溶剤の量も含まれる。
この混合液をペイントシェーカーにより２５～４５℃の範囲で３時間分散処理を行った。ビーズとしては、０．５ｍｍφのジルコニアビーズを用い、分散液の２．５倍の質量を加えた。分散終了後、フィルターによりビーズと分散液を分離して、顔料分散液１～７を調製した。
Figure 0007375773000051
＜感光性着色組成物１～１３の調製＞
［実施例１～８及び比較例１～５］
上記調製した顔料分散液１～７を用いて、全固形分中の各成分の固形分の比率が表２又は表３の配合割合となるように各成分を加え、さらに全固形分の含有割合が１９質量％となるようにＰＧＭＥＡを加え、攪拌、溶解させて、感光性着色組成物１～１３を調製した。得られた各感光性着色組成物を用いて、後述する方法で評価を行った。
Figure 0007375773000052
Figure 0007375773000053
＜単位膜厚当たりの光学濃度（単位ＯＤ値）の測定＞
ガラス基板上に感光性着色組成物を加熱硬化後の膜厚が１．５μｍとなるようにスピンコーターにて塗布し、１分間減圧乾燥した後に、ホットプレートで９０℃にて１００秒間乾燥した。得られた塗膜に、マスクを使用せず、３６５ｎｍでの強度が４０ｍＷ／ｃｍ2である紫外線を用いて、露光量が６０ｍＪ／ｃｍ2となるよう全面露光処理を施した。
続いて、０．０５質量％の水酸化カリウムと０．０８質量％のノニオン性界面活性剤（花王社製「Ａ－６０」）を含有する水溶液からなる現像液を用い、２５℃において水圧０．１５ＭＰａのシャワー現像を１００秒間施した後、純水にて現像を停止し、水洗スプレーにて洗浄した。当該基板をオーブン中、２３０℃で２０分間加熱硬化させることで、レジスト硬化膜基板を得た。
得られたレジスト硬化膜基板の光学濃度（ＯＤ）を透過濃度計Ｘ－Ｒｉｔｅ社製 ３６１Ｔ（Ｖ）により測定し、膜厚を日立ハイテクノロジー社製走査型白色干渉顕微鏡 ＶＳ１５３０により測定した。光学濃度（ＯＤ）及び膜厚から、単位膜厚当たりの光学濃度（単位ＯＤ値、ＯＤ／μｍ）を算出し、表４に示した。なお、ＯＤ値は遮光能力を示す数値であり、数値が大きいほど高遮光性であることを示す。
＜粗度の評価＞
露光量を１０ｍＪ／ｃｍ2とした以外は、前記レジスト硬化膜基板と同様にして、粗度評価用基板を得た。
得られた基板の１０μｍ×１０μｍの範囲の表面の算術平均表面粗さ（Ｓａ）を日立ハイテクノロジー社製走査型白色干渉顕微鏡 ＶＳ１５３０により測定し、以下の基準で粗度の評価を行った。測定結果と評価結果を表４に示した。なお、測定モードはＦｏｃｕｓモードとし、対物レンズの倍率は５０倍、測定光の中心波長は５２０ｎｍとした。
Ｓａは、表面形状曲面と平均面で囲まれた部分の体積を測定面積で割ったものであり、数値が小さいほど平滑性が高いことを示す。
（粗度の評価基準）
Ａ：２ｎｍ以下
Ｂ：２ｎｍ超過
＜弾性復元率の評価＞
基板として表面にＩＴＯ膜を形成したガラス基板を用い、露光時に２０μｍ開口（直径２０μｍの円形開口）を有するマスクを用い、露光ギャップ１５０μｍとした以外は前記レジスト硬化膜基板と同様にして、着色スペーサーを得た。
得られた着色スペーサーの弾性復元率を以下の手順で測定した。フィッシャースコープＨ－１００（フィッシャーインストルメンツ社製）を用いて、測定温度２３℃、直径５０μｍの平面圧子を使用し、一定速度（５ｍＮ／ｓｅｃ）で着色スペーサーに荷重を加え、荷重が３００ｍＮに達したところで５秒間保持し、続いて同速度にて除荷を行い、荷重－変位曲線を得た。この荷重－変位曲線より、最大変位Ｈ［ｍａｘ］、最終変位Ｈ［Ｌａｓｔ］（荷重が０ｍＮになり５秒間保持した後の変位）を測定した。次いで、下記式により弾性復元率を算出し、以下の基準で評価した。その結果を表４に示した。
弾性復元率（％）＝｛（最大変位Ｈ［ｍａｘ］－最終変位Ｈ［Ｌａｓｔ］）／最大変位Ｈ［ｍａｘ］｝×１００
（弾性復元率の評価基準）
Ａ：９５％以上
Ｂ：９５％未満
Figure 0007375773000054
＜耐光性の評価＞
前記レジスト硬化膜基板と同様にして、耐光性評価用基板を得た。
得られた基板の波長４５０ｎｍにおける吸光度を、日立ハイテクノロジー社製分光光度計Ｕ－３５００を用いて測定した。
次に、前記基板を気温２５℃、相対湿度５０％ＲＨの環境下で、波長４５０ｎｍでの強度が１９ｍＷ／ｃｍ2の光を、膜面側から５００時間照射した。その基板の波長４５０ｎｍにおける吸光度を同様に測定した。下記式により波長４５０ｎｍの吸光度の変化率を算出し、以下の基準で評価し、結果を表５に示した。
吸光度の変化率（％）＝｛（照射前の４５０ｎｍの吸光度－照射後の４５０ｎｍの吸光度）／照射前の４５０ｎｍの吸光度｝×１００
（評価の基準）
Ａ：２０％未満
Ｂ：２０％以上
Figure 0007375773000055
表４に示した実施例１～８から明らかなように、着色剤の含有割合が全固形分中に２～２０質量％であり、紫色顔料を含み、着色剤中の紫色顔料の含有割合が５０質量％以上である感光性着色組成物を用いることで、表面粗度及び機械的特性に優れた着色スペーサーを形成可能であることがわかる。
実施例１と比較例１との比較から、着色剤中の紫色顔料の含有割合を５０質量％以上とすることで、表面粗度が優れることがわかる。紫色顔料は分散性が高く、硬化膜中に均一に分散することから、紫色顔料を多く含有することで、現像時の溶解性が均一になるからであると考えられる。
また、実施例１と比較例２との比較から、着色剤の含有割合が、感光性着色組成物の全固形分中２０質量％以下であれば、機械的特性が良好となることがわかる。これは、着色剤の含有割合が高くなりすぎなくすることで、アルカリ可溶性樹脂やエチレン性不飽和化合物の含有割合を相対的に高く設定することができ、得られる着色スペーサーの架橋密度が高くなったからであると考えられる。
なお、比較例３及び４との比較から明らかなように、着色剤の含有割合が、感光性着色組成物の全固形分中に２質量％未満の場合には、光学濃度が不十分であり、さらに、着色剤中の紫色顔料の含有割合に関わらず表面粗度が良好となっている。従って、着色剤の含有割合が、感光性着色組成物の全固形分中に２質量％以上とすることで光学濃度が良好になり、そして着色剤中の顔料の種類及び比率によっては表面粗度が不十分となる場合があることがわかる。
表５に示した実施例１及び５と比較例５の比較から、着色剤中の紫色顔料の含有割合を５０質量％以上とすることで、耐光性が優れることがわかる。紫色顔料は、波長４５０ｎｍ付近の吸光度が低く、紫色顔料を多く含有することで、波長４５０ｎｍの照射光に対する影響を受けにくいためと考えられる。

Claims (8)

  1. （ａ）着色剤、（ｂ）アルカリ可溶性樹脂、（ｃ）光重合開始剤、及び（ｄ）エチレン性不飽和化合物を含有する感光性着色組成物であって、
    前記（ａ）着色剤の含有割合が、感光性着色組成物の全固形分中に２～２０質量％であり、
    前記（ａ）着色剤が紫色顔料を含み、かつ、
    前記（ａ）着色剤中のＣ．Ｉ．ピグメントバイオレット２９の含有割合が５０質量％以上であることを特徴とする感光性着色組成物。
  2. 前記（ａ）着色剤が、さらに橙色顔料を含む、請求項１に記載の感光性着色組成物。
  3. 前記（ｄ）エチレン性不飽和化合物１００質量部に対する前記（ｂ）アルカリ可溶性樹脂の含有割合が１５０質量部以下である、請求項１又は２に記載の感光性着色組成物。
  4. 前記（ｃ）光重合開始剤が、ヘキサアリールビイミダゾール化合物を含有する、請求項１～３のいずれか１項に記載の感光性着色組成物。
  5. 着色スペーサー形成用である、請求項１～４のいずれか１項に記載の感光性着色組成物。
  6. 請求項１～５のいずれか１項に記載の感光性着色組成物を硬化して得られる硬化物。
  7. 請求項６に記載の硬化物から構成される着色スペーサー。
  8. 請求項７に記載の着色スペーサーを備える画像表示装置。
JP2020561357A 2018-12-18 2019-12-12 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置 Active JP7375773B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018236121 2018-12-18
JP2018236121 2018-12-18
PCT/JP2019/048708 WO2020129807A1 (ja) 2018-12-18 2019-12-12 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2020129807A1 JPWO2020129807A1 (ja) 2021-10-28
JP7375773B2 true JP7375773B2 (ja) 2023-11-08

Family

ID=71100446

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2020561357A Active JP7375773B2 (ja) 2018-12-18 2019-12-12 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP7375773B2 (ja)
KR (1) KR20210105876A (ja)
CN (1) CN113168094B (ja)
TW (1) TWI829830B (ja)
WO (1) WO2020129807A1 (ja)

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003294935A (ja) 2002-01-29 2003-10-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2011215186A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ用紫色顔料分散液、カラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物及びその製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
WO2015046332A1 (ja) 2013-09-25 2015-04-02 東京応化工業株式会社 感放射線性組成物及びパターン製造方法
WO2017056831A1 (ja) 2015-09-29 2017-04-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、硬化膜の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、固体撮像素子の製造方法および赤外線センサの製造方法
JP2018025681A (ja) 2016-08-10 2018-02-15 Jsr株式会社 カラーフィルタ及び表示素子

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08234212A (ja) 1995-02-28 1996-09-13 Casio Comput Co Ltd 液晶表示素子
JP3912405B2 (ja) 2003-11-11 2007-05-09 三菱化学株式会社 硬化性組成物、硬化物、カラーフィルタ及び液晶表示装置
CN104081280B (zh) 2012-01-31 2019-05-31 三菱化学株式会社 着色感光性组合物、黑色光间隔物及滤色片
JP2015038607A (ja) 2013-07-16 2015-02-26 三菱化学株式会社 感光性組成物、硬化物、スペーサー及び画像表示装置
JP2015143797A (ja) * 2014-01-31 2015-08-06 東洋インキＳｃホールディングス株式会社 有機ｅｌ表示装置用着色組成物、カラーフィルタ、および有機ｅｌ表示装置
JP2018183878A (ja) * 2015-09-24 2018-11-22 日立化成株式会社 積層体及びその製造方法、フィルムセット、並びに、感光性導電フィルム
JP2018009132A (ja) 2016-07-15 2018-01-18 Jsr株式会社 着色組成物、着色硬化膜及びその形成方法、並びに表示素子
JP7031598B2 (ja) * 2016-10-14 2022-03-08 三菱ケミカル株式会社 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
CN110036340B (zh) * 2016-12-22 2023-05-02 东丽株式会社 有机el显示装置

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003294935A (ja) 2002-01-29 2003-10-15 Toyo Ink Mfg Co Ltd カラーフィルタ用着色組成物およびカラーフィルタ
JP2011215186A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Dainippon Printing Co Ltd カラーフィルタ用紫色顔料分散液、カラーフィルタ用青色感光性樹脂組成物及びその製造方法、カラーフィルタ、及び液晶表示装置
WO2015046332A1 (ja) 2013-09-25 2015-04-02 東京応化工業株式会社 感放射線性組成物及びパターン製造方法
WO2017056831A1 (ja) 2015-09-29 2017-04-06 富士フイルム株式会社 感光性組成物、硬化膜、赤外線カットフィルタ、赤外線透過フィルタ、硬化膜の製造方法、固体撮像素子、画像表示装置、固体撮像素子の製造方法および赤外線センサの製造方法
JP2018025681A (ja) 2016-08-10 2018-02-15 Jsr株式会社 カラーフィルタ及び表示素子

Also Published As

Publication number Publication date
CN113168094A (zh) 2021-07-23
KR20210105876A (ko) 2021-08-27
JPWO2020129807A1 (ja) 2021-10-28
WO2020129807A1 (ja) 2020-06-25
CN113168094B (zh) 2024-06-11
TW202035467A (zh) 2020-10-01
TWI829830B (zh) 2024-01-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7268700B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP6268508B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
WO2015046178A1 (ja) 感光性着色組成物、ブラックマトリクス、着色スペーサー、画像表示装置及び顔料分散液
JP6380723B1 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP7184518B2 (ja) 着色スペーサー形成用感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP6543968B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP2016177190A (ja) 着色スペーサー形成用感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP2022078139A (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP2016186591A (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、画像表示装置
JP7183593B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP7375773B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP7351221B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP7302262B2 (ja) 感光性着色樹脂組成物、硬化物、及び画像表示装置
JP7230559B2 (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置
JP7167851B2 (ja) 感光性樹脂組成物、硬化物、スペーサー、及び画像表示装置
JP2019144407A (ja) 感光性着色組成物、硬化物、着色スペーサー、及び画像表示装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20220705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20230627

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20230824

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20230926

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20231009

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 7375773

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151