TWI740900B - 積層光學膜的製造方法、及積層光學膜的製造裝置 - Google Patents

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Abstract

本發明之課題在於提供一種於膜彼此的貼合後可抑制膜的剝離之積層光學膜的製造方法。

本發明之解決手段為一種積層光學膜(26b)的製造方法，係具備：貼合步驟，以一對輥(7a、7b)來夾持經由活性能量射線硬化性樹脂(32a)所重疊之複數片膜(22a、24)，而將複數片膜(22a、24)貼合；以及照射步驟，朝向送出貼合後的複數片膜(26a)之一對輥(7a、7b)之間照射活性能量射線L。

Description

積層光學膜的製造方法、及積層光學膜的製造裝置
本發明係關於積層光學膜的製造方法、及積層光學膜的製造裝置。
作為積層光學膜的一種之偏光板，係構成液晶顯示裝置。偏光板，例如具備：作為光學膜的一種之偏光片、以及重疊於偏光片之其他光學膜(例如保護膜)。如下述專利文獻1所記載般，習知技術之偏光板的製造方法，係具備：藉由一對輥來夾持經由活性能量射線硬化性樹脂(接著劑)所重疊之2片光學膜而貼合之步驟；以及於貼合步驟後，將活性能量射線照射至中介存在於2片光學膜間之樹脂之照射步驟。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2013-92766號公報
貼合後之複數片光學膜於貼合步驟與照射步驟之間被運送時，光學膜的端部有時會變形為波浪狀(波狀)。此外，運送中的光學膜，有時亦會鬆弛。再者，運送中的光學膜，有時亦會於其寬度方向(與運送方向大致垂直之方向)上彎曲。照射步驟前的樹脂，由於尚未硬化，故經由樹脂而重疊之光學膜，會因上述變形、鬆弛或彎曲而產生剝離或浮起。此種光學膜的剝離，乃成為偏光板等之積層光學膜之缺陷的原因。
本發明係鑑於上述情形而創作出者，其目的在於提供一種於膜彼此的貼合後可抑制膜的剝離之積層光學膜的製造方法、及積層光學膜的製造裝置。
本發明之一個態樣之積層光學膜的製造方法，係具備：貼合步驟，以一對輥來夾持經由活性能量射線硬化性樹脂所重疊之複數片膜，而將複數片膜貼合；以及照射步驟，朝向送出貼合後的複數片膜之一對輥之間照射活性能量射線。再者，提供至貼合步驟之各個膜可為一片的光學膜，亦可為在其他步驟中已貼合後之複數片光學膜(光學膜的積層體)。光學膜，亦可另稱為光學層。
本發明之一個態樣之積層光學膜的製造裝置，係具備：一對輥，夾持經由活性能量射線硬化性樹脂所重疊之複數片膜，而將複數片膜貼合；以及照射裝置，朝向送出貼合後的複數片膜之一對輥之間，照射活性能量 射線。
根據本發明，係提供一種於膜彼此的貼合後可抑制膜的剝離之積層光學膜的製造方法、及積層光學膜的製造裝置。
1、1a、1b‧‧‧塗布裝置
3、3a、3b、3c、3d‧‧‧照射裝置
5a、5b、5c、5d、5f‧‧‧導輥
7a‧‧‧第一輥
7b‧‧‧第二輥
9‧‧‧冷卻輥
22a、42a、44a‧‧‧基材(膜)
22b‧‧‧第二積層體
24‧‧‧第一積層體(膜)
26a‧‧‧第三積層體
26b‧‧‧第四積層體(偏光板、或積層光學膜)
32a、52a、54a‧‧‧塗膜(活性能量射線硬化性樹脂)
34‧‧‧保護膜
36‧‧‧接著劑層
38‧‧‧偏光片(膜)
42b、44b‧‧‧積層體
46‧‧‧積層體(偏光板、或積層光學膜)
100、200‧‧‧積層光學膜的製造裝置
A1、A2‧‧‧旋轉軸線
d22、d24、d26、d42、d44、d46‧‧‧方向
I‧‧‧交線
IS‧‧‧照射空間
IS'‧‧‧照射區域
L‧‧‧活性能量射線
Pa‧‧‧平面
Pt‧‧‧切平面
R‧‧‧半徑
第1圖係顯示本發明的第一實施形態之積層光學膜(偏光板)的製造方法、以及該製造方法所使用之製造裝置之示意圖。
第2圖係第1圖所示之製造裝置所具備之一對輥的附近之擴大圖。
第3圖係第2圖所示之一對輥的變形例。
第4圖中的(a)、第4圖中的(b)、及第4圖中的(c)係顯示本發明的第一實施形態之積層光學膜的製造方法之示意圖。
第5圖係顯示本發明的第二實施形態之積層光學膜的製造方法、以及該製造方法所使用之製造裝置之示意圖。
第6圖中的(a)、及第6圖中的(b)係顯示本發明的第二實施形態之積層光學膜的製造方法之示意圖。
以下係參考圖式來說明本發明的較佳實施形態。本發明並不限定於下述實施形態。圖式中，係對同等的構成要素附加同等的符號。第1圖至第6圖之任一者皆 顯示垂直於第一輥7a的旋轉軸、及第二輥7b的旋轉軸之平面。第一輥7a及第二輥7b之任一者皆為大致圓柱狀。第1圖至第6圖之任一者皆顯示垂直於各膜的表面之平面，並以線來顯示膜及積層體各者。第1圖至第3圖及第5圖所示之X、Y及Z，意指相互正交之3個座標軸。Z軸是指鉛直方向。X軸及Y軸為水平。
(第一實施形態)
第一實施形態，係關於作為積層光學膜的一種之偏光板的製造方法。第一實施形態之偏光板的製造方法，係具備塗布步驟、貼合步驟與照射步驟。塗布步驟中，係將含有活性能量射線硬化性樹脂之塗膜形成於膜狀之基材的表面。貼合步驟中，係經由塗膜將基材貼合於膜狀之偏光片的表面。照射步驟中，係將活性能量射線照射至被基材及偏光片所夾持之塗膜。以下詳細說明各步驟。
如第1圖所示，第一實施形態之積層光學膜(偏光板)的製造裝置100具備：一對輥(第一輥7a及第二輥7b)、以及將活性能量射線L朝向一對輥之間照射之照射裝置3。第一輥7a及第二輥7b係相互平行地排列。
如第1圖至第4圖所示，貼合步驟中，係使用第一積層體24及第二積層體22b。第一積層體24具備：膜狀的偏光片38、重疊於偏光片38之接著劑層36、以及經由接著劑層36貼合於偏光片38之保護膜34。第二積層體22b具備：膜狀的基材22a、以及形成於基材22a的表面 之塗膜32a。
第一積層體24所具備之膜狀的偏光片38，例如可藉由以下步驟來製作。
首先將膜狀的聚乙烯醇系樹脂往單軸方向或雙軸方向延伸。接著藉由碘或雙色性色素將聚乙烯醇系樹脂染色。然後為了進行交聯，藉由交聯劑的溶液(例如硼酸的水溶液)來處理染色後的聚乙烯醇系樹脂。以交聯劑進行處理後，將聚乙烯醇系樹脂水洗後乾燥。經由以上步驟，可得到偏光片38。聚乙烯醇系樹脂，可藉由將聚乙酸乙烯酯系樹脂皂化而得到。聚乙酸乙烯酯系樹脂，例如可為乙酸乙烯酯的均聚物之聚乙酸乙烯酯，或是乙酸乙烯酯與其他單體之共聚物(例如乙烯-乙酸乙烯酯共聚物)。與乙酸乙烯酯共聚合之其他單體，除了乙烯之外，可為不飽和羧酸類、烯烴類、乙烯基醚類、不飽和磺酸類、或是具有銨基之丙烯醯胺類。聚乙烯醇系樹脂可經改質。經改質的聚乙烯醇系樹脂，例如可為經醛類改質之聚乙烯基甲醛、聚乙烯基縮醛、或聚乙烯基丁醛。
偏光片38的厚度，例如為30μm以下、20μm以下、10μm以下、或是8μm以下。偏光片38愈薄，偏光板全體的薄型化愈容易達成。偏光片38的厚度，例如為2μm以上。偏光片38愈厚，偏光片38的機械強度愈容易提升。
保護膜34，具有保護偏光片38之機能。保護膜34，只要是具有透光性之熱塑性樹脂即可，可為光學上 為透明之熱塑性樹脂。構成保護膜34之樹脂，例如可為鏈狀聚烯烴系樹脂、環狀聚烯烴系樹脂、纖維素酯系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、(甲基)丙烯酸系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、或是此等之混合物或共聚物。
鏈狀聚烯烴系樹脂，例如可為聚乙烯樹脂或聚丙烯樹脂般之鏈狀烯烴的均聚物。鏈狀聚烯烴系樹脂，可為包含兩種以上的鏈狀烯烴之共聚物。
環狀聚烯烴系樹脂，例如可為環狀烯烴的開環(共)聚合物或環狀烯烴的加成聚合物。環狀聚烯烴系樹脂，例如可為環狀烯烴與鏈狀烯烴之共聚物(例如無規共聚物)。構成共聚物之鏈狀烯烴，例如可為乙烯或丙烯。環狀聚烯烴系樹脂，可為以不飽和羧酸或其衍生物將上述聚合物改質之接枝聚合物、或是此等之氫化物。環狀聚烯烴系樹脂，例如可為使用降莰烯或多環降莰烯系單體等降莰烯系單體之降莰烯系樹脂。
纖維素酯系樹脂，例如可為纖維素三乙酸酯(三乙酸纖維素)、纖維素二乙酸酯、纖維素三丙酸酯或纖維素二丙酸酯。可使用此等之共聚物。亦可使用羥基的一部分經其他取代基修飾之纖維素酯系樹脂。
可使用纖維素酯系樹脂以外的聚酯系樹脂。聚酯系樹脂，例如可為多元羧酸或其衍生物與多元醇之聚縮合物。多元羧酸或其衍生物，可為二羧酸或其衍生物。多元羧酸或其衍生物，例如可為：對苯二甲酸、間苯二甲酸、對苯二甲酸二甲酯或萘二羧酸二甲酯。多元醇，例如 可為二醇。多元醇，例如可為：乙二醇、丙二醇、丁二醇、新戊二醇或環己烷二甲醇。
聚酯系樹脂，例如可為聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯、聚萘二甲酸丁二酯、聚對苯二甲酸丙二酯、聚萘二甲酸丙二酯、聚對苯二甲酸環己烷二甲酯或聚萘二甲酸環己烷二甲酯。
聚碳酸酯系樹脂，為聚合單元(單體)經由碳酸酯基鍵結之聚合物。聚碳酸酯系樹脂，可為具有經修飾後的聚合物骨架之改質聚碳酸酯，亦可為共聚合聚碳酸酯。
(甲基)丙烯酸系樹脂，例如可為：聚(甲基)丙烯酸酯(例如聚甲基丙烯酸甲酯)；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸共聚物；甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸酯共聚物；甲基丙烯酸甲酯-丙烯酸酯-(甲基)丙烯酸共聚物；(甲基)丙烯酸甲酯-苯乙烯共聚物(例如MS樹脂)；甲基丙烯酸甲酯與具有脂環族烴基的化合物之共聚物(例如甲基丙烯酸甲酯-甲基丙烯酸環己酯共聚物、甲基丙烯酸甲酯-(甲基)丙烯酸降莰酯共聚物等)。
保護膜34，可含有選自由潤滑劑、塑化劑、分散劑、熱穩定劑、紫外線吸收劑、紅外線吸收劑、抗靜電劑及抗氧化劑所組成群組之至少一種添加劑。
保護膜34的厚度，例如可為90μm以下，50μm以下，或是30μm以下。保護膜34愈薄，偏光板全體的薄型化愈容易達成。保護膜34的厚度，例如可為5μm以上。保護膜34愈厚，保護膜34的機械強度及處理性 愈容易提升。
保護膜34，可為如相位差膜或亮度提升膜般之具有光學機能之膜。例如，可藉由將由上述熱塑性樹脂所構成之膜延伸，或是於該膜上形成液晶層等，而得到被賦予任意的相位差值之相位差膜。
接著劑層36，可含有聚乙烯醇等水系接著劑，亦可含有後述活性能量射線硬化性樹脂。經硬化之接著劑層36的厚度，例如可為0.05μm以上10μm以下。接著劑層36愈厚，於偏光片38與保護膜34之間愈不易形成氣泡，且偏光片38及保護膜34愈容易堅固地接著。接著劑層36愈薄，偏光板全體的薄型化愈容易達成。
如第1圖所示，將第一積層體24沿著方向d24運送，並供給至一對貼合輥(第一輥7a及第二輥7b)之間。導輥5a係接觸於第一積層體24所具有之保護膜34的表面。
如第1圖及第4圖中的(a)所示，塗布步驟中，使用塗布裝置1，將含有活性能量射線硬化性樹脂之塗膜32a形成於膜狀之基材22a的表面。結果，可得到具備基材22a與形成於基材22a的表面之塗膜32a之第二積層體22b。塗布裝置1，例如可為微密閉式刮刀(Micro Chamber Doctor)等之凹版塗布機。塗膜32a，例如可含有活性能量射線硬化性樹脂。
活性能量射線硬化性樹脂為藉由照射活性能量射線而硬化之樹脂。活性能量射線例如可為紫外線、可 見光、電子束、或X射線。活性能量射線硬化性樹脂可為紫外線硬化性樹脂。紫外線硬化性樹脂可調製作為無溶劑型的接著劑。因此，當活性能量射線硬化性樹脂為紫外線硬化性樹脂時，於塗布步驟或照射步驟後，可不實施用以去除溶劑之乾燥步驟。此外，紫外線硬化性樹脂與水系接著劑相比，係容易與透濕度低的保護膜併用。
活性能量射線硬化性樹脂，可為單種的樹脂，亦可包含複數種樹脂。例如，活性能量射線硬化性樹脂，可含有陽離子聚合性的硬化性化合物或自由基聚合性的硬化性化合物。活性能量射線硬化性樹脂，可含有用以使上述硬化性化合物的硬化反應開始進行之陽離子聚合起始劑或自由基聚合起始劑。
陽離子聚合性的硬化性化合物，例如可為環氧系化合物(於分子內具有至少1個環氧基之化合物)或氧雜環丁烷系化合物(於分子內具有至少1個氧雜環丁烷環之化合物)。自由基聚合性的硬化性化合物，例如可為(甲基)丙烯酸系化合物(於分子內具有至少1個(甲基)丙烯醯氧基之化合物)。自由基聚合性的硬化性化合物，可為具有自由基聚合性的雙鍵之乙烯基系化合物。
活性能量射線硬化性樹脂，可視需要含有陽離子聚合促進劑、離子捕集劑、抗氧化劑、鏈轉移劑、賦黏劑、熱塑性樹脂、填充劑、流動調整劑、塑化劑、消泡劑、抗靜電劑、調平劑或溶劑等。
基材22a，可為與保護膜34相同之膜。
如第1圖所示，將第二積層體22b沿著方向d22運送，並供給至一對貼合輥(第一輥7a及第二輥7b)之間。導輥5b係接觸於第二積層體22b所具有之基材22a的表面。
如第1圖至第4圖所示，貼合步驟中，係使第二積層體22b的塗膜32a與第一積層體24的偏光片38相對向，而重疊第一積層體24及第二積層體22b。以一對輥(7a、7b)來夾持經由塗膜32a(活性能量射線硬化性樹脂)所重疊之第一積層體24及第二積層體22b，而貼合第一積層體24及第二積層體22b。換言之，使用一對輥(7a、7b)，經由塗膜32a將基材22a貼合於偏光片38的表面。
第一輥7a例如可由金屬所構成，第二輥7b例如可由彈性體所構成。構成第一輥7a之金屬(第一輥7a的母料)，例如可為鐵或不鏽鋼(SUS304等)。構成第二輥7b之彈性體(第二輥7b的母料)，例如可為腈橡膠(NBR)、胺甲酸乙酯橡膠、聚矽氧橡膠或乙烯-丙烯-二烯橡膠(EPDM)。第一輥7a及第二輥7b中之任一者皆可係由金屬所構成。第一輥7a及第二輥7b中之任一者皆可係由彈性體所構成。
垂直於旋轉軸之第一輥7a之剖面(圓)的直徑，例如可為40至400mm，或80至250mm。垂直於旋轉軸之第二輥7b之剖面(圓)的直徑，亦例如可為40至400mm，或80至250mm。如第1圖及第2圖所示，第一輥7a的直徑可與第二輥7b的直徑相同。如第3圖所示，第 一輥7a的直徑可與第二輥7b的直徑相異。第3圖所示之第一輥7a的直徑與第二輥7b的直徑之大小關係可為相反。旋轉軸的方向上之第一輥7a的寬度，例如可為300至3000mm。旋轉軸的方向上之第二輥7b的寬度，亦例如可為300至3000mm。
第一輥7a的粗度較佳係呈大致均一，第二輥7b的粗度較佳亦呈大致均一。兩輥的粗度為均一時，係容易將均一的壓力作用於被兩輥所夾持之複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)。結果，不易在膜形成皺褶。第一輥7a的直徑可從第一輥7a的中央部朝向端部而減少。亦即，第一輥7a可為具有錐狀的外周形狀之輥(冠形輥，crownroll)。第二輥7b亦可為冠形輥。
第一輥7a及第二輥7b對第一積層體24及第二積層體22b所施加之壓力，例如可為0.3至3.0MPa，或是0.7至2.3MPa。
藉由以上的貼合步驟，可得到第4圖中的(b)所示之第三積層體26a。第三積層體26a具備：基材22a、重疊於基材22a之塗膜32a、重疊於塗膜32a之偏光片38、重疊於偏光片38之接著劑層36、以及重疊於接著劑層36之保護膜34。
如第1圖所示，照射步驟中，將第三積層體26a(貼合後的第一積層體24及第二積層體22b)從一對輥(7a及7b)之間往方向d26送出。然後，使用照射裝置3，將活性能量射線L朝向送出第三積層體26a之一對輥(7a 及7b)之間照射。照射步驟中，可在以一對輥(7a及7b)將複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)貼合之瞬間後，朝向一對輥(7a及7b)之間照射活性能量射線L。照射步驟中，可在與以一對輥(7a及7b)將複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)貼合的同時，朝向一對輥(7a及7b)之間照射活性能量射線L。
照射步驟中，藉由活性能量射線L的照射，使第三積層體26a所具有之塗膜32a中的活性能量射線硬化性樹脂硬化，而成為樹脂層32b(參考第4圖中的(b))。樹脂層32b，可為保護偏光片38之保護層。樹脂層32b，亦可為光學補償層。
在與貼合步驟同時或在貼合步驟的瞬間後，藉由使中介存在於複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)之間之活性能量射線硬化性樹脂硬化，使複數片膜容易經由樹脂而相互固定。結果，可抑制照射步驟以後之複數片膜(第三積層體26a)中之膜的剝離。即使假設於照射步驟後的運送時引起膜的變形、鬆弛或彎曲，亦可抑制膜彼此的剝離。為了抑制照射步驟以後之膜的剝離，照射步驟中，活性能量射線硬化性樹脂未必非得要完全硬化。藉由照射步驟中之活性能量射線硬化性樹脂的不完全硬化、半硬化或暫硬化，可充分地抑制照射步驟以後之膜的剝離。亦即，照射步驟中，塗膜32a可不完全硬化，亦可完全硬化。換言之，樹脂層32b可為半硬化樹脂層，亦可為完全硬化樹脂層。第三積層體26a(貼合後的複數片膜)的運送速 度並無特別限定，例如可為1至100m/分，或是10至30m/分。運送速度位於上述數字範圍內時，在與貼合步驟同時或在貼合步驟的瞬間後，會使中介存在於複數片膜(第一積層體24及基材22a)之間之活性能量射線硬化性樹脂容易硬化。
如以上所述，第一實施形態中，係在較習知技術更早之時機進行照射步驟。亦即，第一實施形態中，係較習知技術更早地開始活性能量射線硬化性樹脂的硬化。結果，複數片膜係較習知技術更早地經由樹脂而相互固定，而抑制膜的剝離。
所謂「送出貼合後的複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)之一對輥(7a及7b)之間」，可另稱為以下所說明之「照射空間IS」。如第2圖及第3圖所示，切平面Pt，係定義為與貼合後的複數片膜(第一積層體24及第二積層體22b)交叉，且接觸於一對輥(7a及7b)各者的表面兩者之平面。亦即，切平面Pt係接觸於第一輥7a的表面(圓柱的側面)，且亦接觸於第二輥7b的表面(圓柱的側面)。切平面Pt為虛擬的平面。交線I，係定義為切平面Pt與貼合後的複數片膜之交線。旋轉軸線A1係定義為第一輥7a的旋轉軸線。旋轉軸線A2係定義為第二輥7b的旋轉軸線。平面Pa，係定義為包含一對輥各者的旋轉軸線(A1、A2)兩者之平面。平面Pa為虛擬的平面。距離R係定義為交線I與平面Pa之距離。根據上述Pt、I、A1、A2、Pa及R，「照射空間IS」係定義成交線I為中心軸且半徑 為R之圓柱狀的空間。照射空間IS為虛擬的空間。照射步驟，可另稱為將活性能量射線照射至位於照射空間IS內之複數片膜的一部分或全部之步驟。照射空間IS中，可將活性能量射線照射至由一對輥(7a及7b)與切平面Pt所包圍之區域(照射區域IS')。亦即，照射步驟中，可將活性能量射線照射至位於照射區域IS'內之複數片膜的一部分或全部。將活性能量射線照射至照射區域IS'時，在與貼合步驟同時或在貼合步驟的瞬間後，可使中介存在於複數片膜(第一積層體24及基材22a)之間之活性能量射線硬化性樹脂更容易硬化。可將活性能量射線L的一部分照射至通過照射空間IS後之複數片膜(第一積層體24及基材22a)。亦可藉由照射至通過照射空間IS後之複數片膜(第一積層體24及基材22a)之活性能量射線L，而進一步促進活性能量射線硬化性樹脂(塗膜32a或樹脂層32b)的硬化。
照射步驟中，較佳係將活性能量射線L均一地照射至複數片膜(第三積層體26a)的全體。因此，照射裝置3所具有之活性能量射線L的光源，較佳係朝所貼合的複數片膜(第一積層體24及基材22a)之寬度方向(Y軸方向)延伸而存在。換言之，照射裝置3所具有之活性能量射線L的光源，較佳係沿著一對輥(7a及7b)的旋轉軸方向(Y軸方向)延伸而存在。製造裝置100可具有能夠自由地調整從照射裝置3所照射之活性能量射線L的方向之機構(照射角調整手段)。製造裝置100，亦可具有使照射裝置3在鉛直方向(Z軸方向)或水平方向(X軸方向或Y軸方向)自由地移 動之機構(照射位置調整手段)。
照射裝置3，例如可為低壓汞燈、中壓汞燈、高壓汞燈、超高壓汞燈、化學燈、黑光燈、微波激發汞燈、或金屬鹵化物燈。活性能量射線L的照射強度，例如為30至100mJ/cm2即可。
如第1圖所示，照射步驟中，可將活性能量射線L從基材22a側照射至塗膜32a。亦即，可使活性能量射線L經由基材22a而照射至塗膜32a。亦可使活性能量射線L從保護膜34之側照射至塗膜32a。亦即，可將照射裝置3配置在保護膜34側，並使活性能量射線L經由保護膜34及偏光片38而照射至塗膜32a。亦可將活性能量射線L從基材22a側及保護膜34側照射至塗膜32a。亦即，可將活性能量射線L朝向塗膜32a的兩面(表裏)照射。使用照射裝置3之照射步驟中，在使塗膜32a不完全硬化時，可於使用照射裝置3之照射步驟後實施使用其他照射裝置之第二次照射步驟。第二次照射步驟後，亦可實施使用其他照射裝置之第三次照射步驟。亦即，亦可在使用照射裝置3之最初的照射步驟中使塗膜32a不完全硬化，而於使用其他照射裝置之第二次以後的照射步驟中使塗膜32a完全硬化。
於照射步驟後，可實施剝離步驟。如第1圖以及第4圖中的(b)及第4圖中的(c)所示，剝離步驟中，係將基材22a從第三積層體26a的樹脂層32b剝離。剝離步驟中，導輥5c接觸於第三積層體26a所具有之基材22a。 已剝離基材22a之第四積層體26b係往方向d26運送。
實施剝離步驟時，完成後的偏光板不具有基材22a。換言之，如第4圖中的(c)所示，經由剝離步驟所完成之偏光板(第四積層體26b)具備：樹脂層32b、直接重疊於樹脂層32b之偏光片38、以及經由接著劑層36貼合於偏光片38之保護膜34。
實施剝離步驟時，於塗布步驟中，可將塗膜32a形成於未施以粗糙面化處理之基材22a的表面。對基材22a施以粗糙面化處理時，塗膜32a會容易密著於基材22a的表面，使基材22a難以從硬化後的塗膜32a(樹脂層32b)剝離。實施剝離步驟時，藉由將塗膜32a形成於未施以粗糙面化處理之基材22a的表面，可於剝離步驟中容易將基材22a從樹脂層32b剝離。粗糙面化處理，例如可為電漿處理、電暈處理、紫外線照射處理、或火焰處理(火炎處理)。
亦可不實施剝離步驟。不實施剝離步驟時，可在塗布步驟前對基材22a的表面施以粗糙面化處理。接續的塗布步驟中，可將塗膜32a形成於粗糙面化後之基材22a的表面。結果，使基材22a難以從樹脂層32b剝離。不實施剝離步驟時，如第4圖中的(b)所示，完成後的偏光板具備：基材22a、重疊於基材22a之樹脂層32b(硬化後的塗膜32a)與重疊於樹脂層32b之偏光片38、重疊於偏光片38之接著劑層36、以及重疊於接著劑層36之保護膜34。基材22a亦可作為保護偏光片38之膜而發揮功能。具備基 材22a之偏光板可具備積層於基材22a之其他光學層。
偏光板可具備積層於保護膜34、基材22a或樹脂層32b之其他光學膜(光學層)。其他光學膜(光學層)，例如可為反射型偏光膜、附防眩機能之膜、附抗表面反射機能之膜、反射膜、半穿透反射膜、視角補償膜、硬塗(hard coat)層、黏著劑(pressure-sensitive adhesive)層、觸控感測器層、抗靜電層或防汙層。
(第二實施形態)
本發明之第二實施形態之積層光學膜的製造方法，係除了以下所記載之事項之外與第一實施形態相同。以下內容中，係省略第一實施形態及第二實施形態所共通之事項的說明。
第二實施形態之積層光學膜的製造方法係與第一實施形態同樣具備塗布步驟、貼合步驟與照射步驟。惟在第二實施形態的塗布步驟中，係於一對基材各者的表面形成塗膜。第二實施形態的貼合步驟中，係將膜狀的偏光片配置在一對基材間。然後，將一對基材經由塗膜貼合於偏光片的兩面。第二實施形態的照射步驟中，係於將一對基材貼合於偏光片的兩面後，將活性能量射線照射至塗膜。以下詳細說明此等之步驟。
如第5圖所示，第二實施形態之積層光學膜(偏光板)的製造裝置200具備：一對輥(第一輥7a及第二輥7b)、以及將活性能量射線L朝向一對輥之間照射之照射裝 置3a及3b。照射裝置3a及3b可與第一實施形態所使用之照射裝置3相同。
如第5圖及第6圖中的(a)所示，第二實施形態的塗布步驟中，係使用塗布裝置1a，將含有活性能量射線硬化性樹脂之塗膜54a形成於膜狀之基材44a的表面，而製作積層體44b。第二實施形態的積層體44b可與第一實施形態的第二積層體22b相同。此外，塗布步驟中，係使用塗布裝置1b，將含有活性能量射線硬化性樹脂之塗膜52a形成於膜狀之基材42a的表面，而製作積層體42b。第二實施形態的積層體42b可與第一實施形態的第二積層體22b相同。積層體44b之塗膜54a的組成可與積層體42b的塗膜52a相同。積層體44b之塗膜54a的組成亦可與積層體42b的塗膜52a相異。積層體44b之基材44a的組成可與積層體42b的基材42a相同。積層體44b之基材44a的組成亦可與積層體42b的基材42a相異。塗布裝置1a及1b可與第一實施形態的塗布裝置1相同。
如第5圖所示，第二實施形態中，將積層體44b沿著方向d44運送，並供給至一對輥(7a及7b)之間。導輥5d係接觸於積層體44b所具有之基材44a的表面。此外，將積層體42b沿著方向d42運送，並供給至一對輥(7a及7b)之間。導輥5e係接觸於積層體42b所具有之基材42a的表面。此外，將膜狀的偏光片38供給至一對輥(7a及7b)之間。
如第5圖及第6圖所示，第二實施形態的貼 合步驟中，係將偏光片38夾持於一對積層體42b及44b之間。積層體44b的塗膜54a與偏光片38之一方的表面相對向。積層體42b的塗膜52a與偏光片38之另一方的表面相對向。然後，重疊積層體44b、偏光片38及積層體42b，並以一對輥(7a及7b)夾持。結果，如第6圖中的(b)所示，基材44a經由塗膜54a而貼合於偏光片38之一方的表面。此外，基材42a經由塗膜52a而貼合於偏光片38之另一方的表面。亦即，貼合步驟中，可得到具備基材42a、重疊於基材42a之塗膜52a、重疊於塗膜52a之偏光片38、重疊於偏光片38之塗膜54a、以及重疊於塗膜54a之基材44a之積層體46。
如第5圖所示，照射步驟中，將積層體46(貼合後的偏光片38、積層體42b及44b)從一對輥(7a及7b)之間往方向d46送出。然後，使用一對照射裝置3a及3b，將活性能量射線L朝向送出積層體46之一對輥(7a及7b)之間照射。亦即，照射步驟中，係將活性能量射線照射至位於照射空間IS內之複數片膜(積層體46)的一部分或全部。照射步驟中，亦可將活性能量射線照射至位於照射區域IS'內之複數片膜(積層體46)的一部分或全部。如下所述，第二實施形態之照射空間IS的定義，係與第一實施形態之照射空間IS的定義幾乎相同。第二實施形態之照射區域IS'的定義亦與第一實施形態之照射區域IS'的定義幾乎相同。切平面Pt，係定義為與貼合後的複數片膜(積層體46)交叉，且接觸於一對輥(7a、7b)各者的表面兩者之平面。 交線I，係定義為切平面Pt與貼合後的複數片膜(積層體46)之交線。旋轉軸線A1係定義為第一輥7a的旋轉軸線。旋轉軸線A2係定義為第二輥7b的旋轉軸線。平面Pa，係定義為包含一對輥各者的旋轉軸線(A1、A2)兩者之平面。距離R係定義為交線I與平面Pa之距離。「照射空間IS」係定義成交線I為中心軸且半徑為R之圓柱狀的空間。所謂照射區域IS'，意指於照射空間IS中，由一對輥(7a及7b)與切平面Pt所包圍之區域。照射步驟中，可在藉由一對輥(7a及7b)將偏光片38、積層體42b及44b貼合瞬間後，將活性能量射線L朝向一對輥(7a及7b)之間照射。照射步驟中，亦可在與藉由一對輥(7a及7b)將偏光片38、積層體42b及44b貼合的同時，將活性能量射線L朝向一對輥(7a及7b)之間照射。
照射步驟中，使用照射裝置3a，從基材44a側將活性能量射線L朝向塗膜54a間接地照射，使塗膜54a硬化。同時，使用照射裝置3b，從基材42a側將活性能量射線L朝向塗膜52a間接地照射，使塗膜52a硬化。藉由以上照射步驟，從塗膜52a來形成樹脂層52b，從塗膜54a來形成樹脂層54b。塗膜52a可不完全硬化，亦可完全硬化。換言之，樹脂層52b可為半硬化樹脂層，亦可為完全硬化樹脂層。塗膜54a可不完全硬化，亦可完全硬化。換言之，樹脂層54b可為半硬化樹脂層，亦可為完全硬化樹脂層。照射裝置3a及3b中，亦可不具有一方的照射裝置。亦即，可僅藉由從照射裝置3a及3b中之一方的照射裝置 所照射之活性能量射線L，使塗膜52a及塗膜54a兩者硬化。
如以上所述，第二實施形態中，亦在較習知技術更早之時機進行照射步驟。亦即，第二實施形態中，亦較習知技術更早地開始活性能量射線硬化性樹脂的硬化。結果，複數片膜係較習知技術更早地經由樹脂而相互固定，而抑制膜的剝離。
第二實施形態中，可將活性能量射線L的一部分照射至通過一對輥(7a及7b)之間後之積層體46。亦即，可將活性能量射線L的一部分照射至通過照射空間IS後之積層體46。
當藉由朝向一對輥(7a及7b)之間之活性能量射線L的照射，使活性能量射線硬化性樹脂(塗膜52a或塗膜54a)不完全硬化時，可更進行其他的照射步驟(第二次照射步驟)。例如，將積層體46從一對輥(7a及7b)之間沿著方向d46運送。將積層體46之基材42a側的表面抵接於冷卻輥9。從照射裝置3c將活性能量射線L照射至朝向與冷卻輥9為相反側之積層體46之基材44a側的表面。活性能量射線L係穿透基材44a而到達塗膜52a及塗膜54a。藉由此第二次活性能量射線L的照射，以促進塗膜52a及塗膜54a的硬化。可藉由第二次照射步驟，而使塗膜52a及塗膜54a完全硬化。照射裝置3c可與第一實施形態所使用之照射裝置3相同。
第二次照射步驟的變形例中，亦可從積層體 46的基材42a側將活性能量射線L照射至塗膜32a。亦即，可將照射裝置3c配置在積層體46的基材42a側，並使活性能量射線L經由基材42a而照射至塗膜52a及塗膜54a。第二次照射步驟中，亦可使用一對照射裝置，將活性能量射線L從積層體46的兩面側照射至塗膜52a及塗膜54a。
亦可藉由使用照射裝置3c之第二次照射步驟，使塗膜52a及塗膜54a不完全硬化。此時，可更進行其他的照射步驟(第三次照射步驟)。例如，使積層體46經由導輥5f而從照射裝置3c運送至照射裝置3d。然後，使用照射裝置3d，再次將活性能量射線L照射至塗膜52a及塗膜54a。藉由此第三次活性能量射線L的照射，以促進塗膜52a及塗膜54a的硬化。照射裝置3d可與第一實施形態所使用之照射裝置3相同。
第二實施形態中，可在照射步驟後實施剝離步驟。例如，剝離步驟中，可將基材42a從積層體46的樹脂層52b剝離。亦可將基材44a從積層體46的樹脂層54b剝離。
於實施剝離步驟時，第二實施形態中所完成之偏光板不具備基材42a或44a。例如，經由剝離步驟所完成之偏光板，只要至少具備樹脂層52b、直接重疊於樹脂層52b之偏光片38、以及直接重疊於偏光片38之其他的樹脂層54b即可。偏光板可具備積層於樹脂層52b或54b之其他光學膜(光學層)。其他光學膜(光學層)，例如可為反射型偏光膜、附防眩機能之膜、附抗表面反射機能之膜、 反射膜、半穿透反射膜、視角補償膜、硬塗層、黏著劑層、觸控感測器層、抗靜電層或防汙層。
於實施剝離步驟時，只需將未施以粗糙面化處理之基材42a及44a使用在塗布步驟即可。
第二實施形態中，可於剝離步驟中僅將基材42a及44a中之任一方剝離。在僅將基材42a及44a中之任一方剝離時，只要將施以粗糙面化處理後之基材作為未剝離之側的基材而使用在塗布步驟即可。第二實施形態中，亦可不實施剝離步驟。在不實施剝離步驟時，只要將施以粗糙面化處理後之基材使用在塗布步驟即可。在不實施剝離步驟時，第二實施形態中所完成之偏光板可為第6圖中的(b)所示之積層體46本身。此偏光板可具備積層於基材42a或44a之其他光學膜(光學層)。其他光學膜(光學層)，例如可為反射型偏光膜、附防眩機能之膜、附抗表面反射機能之膜、反射膜、半穿透反射膜、視角補償膜、硬塗層、黏著劑層、觸控感測器層、抗靜電層或防汙層。
以上係說明本發明之第一實施形態及第二實施形態，但本發明並不受上述實施形態之任何限定。
例如，相互貼合之膜，可為偏光片以外的光學膜(光學層)或該等之積層體。例如，膜可為反射型偏光膜、附防眩機能之膜、附抗表面反射機能之膜、反射膜、半穿透反射膜、視角補償膜、觸控感測器層、抗靜電層、防汙層或液晶層等。
(產業上之可應用性)
根據本發明，例如於偏光板的製造中，可於光學膜彼此的貼合後抑制膜的剝離。
1‧‧‧塗布裝置
3‧‧‧照射裝置
5a、5b、5c‧‧‧導輥
7a‧‧‧第一輥
7b‧‧‧第二輥
22a‧‧‧基材(膜)
22b‧‧‧第二積層體
24‧‧‧第一積層體(膜)
26a‧‧‧第三積層體
26b‧‧‧第四積層體(偏光板、或積層光學膜)
100‧‧‧積層光學膜的製造裝置
d22、d24、d26‧‧‧方向
L‧‧‧活性能量射線

Claims (2)

  1. 一種積層光學膜的製造方法，係具備：貼合步驟，以一對輥來夾持經由活性能量射線硬化性樹脂所重疊之複數片膜，而將前述複數片膜貼合；以及照射步驟，朝向送出貼合後的前述複數片膜之前述一對輥之間將活性能量射線照射至位於照射空間內之前述複數片膜；其中，前述照射空間為以接觸於前述一對輥各自的表面之兩者之切平面與前述複數片膜的交線作為中心軸，且以包含前述一對輥各自的旋轉軸線之兩者之平面與前述交線的距離作為半徑之圓柱狀的空間。
  2. 一種積層光學膜的製造裝置，係具備：一對輥，夾持經由活性能量射線硬化性樹脂所重疊之複數片膜，而將前述複數片膜貼合；以及照射裝置，朝向送出貼合後的前述複數片膜之前述一對輥之間將活性能量射線照射至位於照射空間內之前述複數片膜；其中，前述照射空間為以接觸於前述一對輥各自的表面之兩者之切平面與前述複數片膜的交線作為中心軸，且以包含前述一對輥各自的旋轉軸線之兩者之平面與前述交線的距離作為半徑之圓柱狀的空間。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019035639A (ja) 2017-08-14 2019-03-07 株式会社ミツトヨ ねじ軸測定装置、ねじ軸測定方法および調整用治具

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5512126A (en) * 1994-03-11 1996-04-30 Polaroid Corporation Optical laminator

Family Cites Families (25)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB888367A (en) * 1956-09-28 1962-01-31 Reeves Bros Inc Methods of bonding polyurethane
JPS5490273A (en) * 1977-12-28 1979-07-17 Showa Denko Kk Method of laminating heat-sensitive type of protecting film
US5281371A (en) * 1990-11-16 1994-01-25 Canon Kabushiki Kaisha Method and apparatus for forming substrate sheet for optical recording medium
JPH06166170A (ja) * 1992-11-24 1994-06-14 Hamamatsu Seisakusho:Kk 枚葉印刷物加工方法及びその装置
US5714305A (en) * 1995-05-24 1998-02-03 Polaroid Corporation Overcoat-releasing laminate and method for the manufacture thereof
JP3982638B2 (ja) * 1996-05-17 2007-09-26 データカード コーポレーション 硬化形トップコート組成およびその使用方法
JPH11186724A (ja) * 1997-12-25 1999-07-09 Sumitomo Bakelite Co Ltd 多層プリント配線板の製造方法
JP3710368B2 (ja) * 2000-09-25 2005-10-26 シャープ株式会社 積層フィルムの製造方法
EP1237017A1 (en) * 2001-02-20 2002-09-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Polarizing plate protection film
CN1332800C (zh) * 2001-03-14 2007-08-22 富士胶片株式会社 流延模具、溶液制膜方法及装置
EP1362682A1 (en) * 2002-05-13 2003-11-19 ZBD Displays Ltd, Method and apparatus for liquid crystal alignment
JP4137550B2 (ja) * 2002-08-08 2008-08-20 日東電工株式会社 偏光子の製造方法およびそれに用いる湿式延伸装置
US7070406B2 (en) * 2003-04-29 2006-07-04 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Apparatus for embossing a flexible substrate with a pattern carried by an optically transparent compliant media
JP2010102046A (ja) * 2008-10-22 2010-05-06 Seiko Epson Corp 光学素子および光学素子の製造方法
JP5335483B2 (ja) * 2009-02-27 2013-11-06 リンテック株式会社 粘着剤層付き偏光板の製造方法
TWI476223B (zh) * 2009-06-16 2015-03-11 Mitsubishi Rayon Co 防污組成物、防污膜、防污積層膜、轉印薄膜及樹脂積層體以及樹脂積層體的製造方法
JP5446732B2 (ja) * 2009-10-30 2014-03-19 住友化学株式会社 偏光板の製造方法
KR20120074992A (ko) * 2010-12-28 2012-07-06 정상훈 내구 및 내후성과 반사효율이 우수한 재귀반사시트의 합지공정 및 합지를 위한 그 조성물
JP5860240B2 (ja) * 2011-08-02 2016-02-16 日東電工株式会社 樹脂部材の接合方法
JP2013092762A (ja) * 2011-10-07 2013-05-16 Sumitomo Chemical Co Ltd 偏光板の製造方法
KR20140088540A (ko) * 2011-10-07 2014-07-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법
JP6195196B2 (ja) * 2011-10-14 2017-09-13 エルジー・ケム・リミテッド 両面型偏光板及びこれを含む光学装置
US9199412B2 (en) * 2012-12-28 2015-12-01 Albany International Corp. Industrial fabric and method of welding seam area using ultrasonic welding
JP2014199284A (ja) * 2013-03-29 2014-10-23 日東電工株式会社 偏光板の製造方法、偏光板、光学フィルム、及び、画像表示装置
JP6117758B2 (ja) * 2014-09-30 2017-04-19 富士フイルム株式会社 積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5512126A (en) * 1994-03-11 1996-04-30 Polaroid Corporation Optical laminator

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