TWI688384B - 放射性同位素成分分離裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供一種放射性同位素成分分離裝置,其能夠從含有放射性同位素的液體中適當地分離含有放射性同位素的成分,且能夠抑制雜質混入到分離後的成分中。放射性同位素成分分離裝置(1)具有:固相萃取管柱(11),能夠吸附溶液中的放射性同位素成分;處理液儲存部(16),作為萃取液儲存部;用後即棄式萃取液供給流路,向固相萃取管柱供給萃取液;第1儲存部(12)及第2儲存部(13),儲存來自固相萃取管柱(11)的液體;用後即棄式第1排出流路,連接固相萃取管柱(11)和第1儲存部(12);用後即棄式第2排出流路,連接固相萃取管柱(11)和第2儲存部(13);感測器(18),作為測定從固相萃取管柱(11)排出之液體的放射線量的測定部;及流路切換部(19),根據測定結果切換從固相萃取管柱(11)排出之液體的流路。
Description
本申請主張根據2017年5月30日申請之日本專利申請第2017-107005號的優先權。該申請的所有內容藉由參閱被援用於本說明書中。 本發明係關於一種放射性同位素成分分離裝置。
作為從放射性藥劑合成裝置等獲得之反應液中分離含有放射性同位素的特定成分的方法,在專利文獻1中示出使用了固相萃取管柱(SPE)的裝置。又,在專利文獻2中示出使用了高效液相層析法(HPLC)的裝置。 (先前技術文獻) (專利文獻) 專利文獻1:日本特開2012-181146號公報 專利文獻2:日本特開2006-38644號公報
(發明所欲解決之問題) 然而,專利文獻1之裝置,有時難以將含有放射性同位素的成分與其他的成分分離。另一方面,專利文獻2之裝置,雖然能夠適當地進行含有放射性同位素的成分的分離,但從裝置的結構上考慮,存在雜質混入到分離後的成分中的風險。 本發明係鑑於上述問題而開發完成者,其目的為提供一種放射性同位素成分分離裝置,能夠從含有放射性同位素的液體中適當地分離含有放射性同位素的成分,且能夠抑制雜質混入到分離後的成分中。 (解決問題之技術手段) 為了實現上述目的,有關本發明的一形態之放射性同位素成分分離裝置,係溶液中的放射性同位素成分的分離裝置,其具有:固相萃取管柱,能夠吸附前述溶液中的放射性同位素成分;萃取液儲存部,儲存萃取液,該萃取液能夠使被吸附於前述固相萃取管柱之前述放射性同位素成分脫離;用後即棄式萃取液供給流路,向固相萃取管柱供給儲存於前述萃取液儲存部的前述萃取液;第1儲存部,儲存來自前述固相萃取管柱的液體;第2儲存部,儲存來自前述固相萃取管柱的液體;用後即棄式第1排出流路,連接前述固相萃取管柱和前述第1儲存部;用後即棄式第2排出流路,連接前述固相萃取管柱和前述第2儲存部;測定部,在前述固相萃取管柱的下游側,測定從前述固相萃取管柱排出之液體的放射線量;及流路切換部,根據前述測定部的測定結果,將從前述固相萃取管柱排出之液體的流路在前述第1排出流路和前述第2排出流路之間切換。 依據上述放射性同位素成分分離裝置,根據測定部的測定結果,在第1排出流路和第2排出流路之間切換流路,藉此能夠在其中一方的儲存部中適當地回收放射性同位素成分。又,由於將有可能流向回收放射性同位素成分的儲存部的流路設為用後即棄式,能夠抑制雜質混入到所回收之放射性同位素成分中。 在此,能夠設為如下態樣:前述固相萃取管柱由能夠吸附相異成分的複數個管柱構成,前述第2儲存部包含複數個容器,前述流路切換部,係根據前述測定部的測定結果,將從前述固相萃取管柱排出之液體的流路在前述第1排出流路和前述第2排出流路之間切換,並且從前述複數個容器中選擇儲存從前述固相萃取管柱排出之液體的容器。 上述態樣中,固相萃取管柱由能夠吸附相異成分的複數個管柱構成,根據測定部的測定結果,流路切換部從第2儲存部中所包含之複數個容器中選擇儲存從固相萃取管柱排出之液體的容器。藉由設為這種結構,能夠將溶液中的複數種RI化合物個別回收。 (發明之效果) 依據本發明,提供一種放射性同位素成分分離裝置,能夠從含有放射性同位素的液體中適當地分離含有放射性同位素的成分,且能夠抑制雜質混入到分離後的成分中。
以下,參閱附圖對本實施方式進行詳細說明。此外,在附圖的說明中,對相同的要件標註相同的符號,並省略重複說明。 圖1係有關本發明的一實施形態之放射性同位素成分分離裝置的概略結構圖。圖1所示之放射性同位素成分分離裝置1係從反應液分離放射性同位素標誌化合物(RI化合物)的裝置,該反應液含有讓放射性元素同位素(RI)與既定的原料試劑進行化學反應而得之RI化合物。本實施形態中,將放射性同位素標誌化合物稱為“放射性同位素成分”。 反應液係在RI化合物合成裝置中製造之溶液。又,RI化合物用於例如在醫院等的PET檢查(正子發射斷層攝影檢查)等所使用之放射性藥劑(包括放射性藥物)的製造中。 如圖1所示,放射性同位素成分分離裝置1具有:固相萃取管柱11,能夠捕集RI;第1儲存部12及第2儲存部13,儲存從固相萃取管柱11排出之液體;反應液儲存部14,向固相萃取管柱11供給反應液;處理液儲存部15及處理液儲存部16,向固相萃取管柱11供給複數種處理液;送液用注射器17;感測器18;及流路切換部19。 固相萃取管柱11係具有利用固相萃取(Solid Phase Extraction:SPE)來分離RI化合物的功能之管柱。具體而言,固相萃取管柱11係填充有能夠吸附RI化合物的粒子(樹脂粒子等)的管柱。粒子並無特別限定,只要能夠特異性吸附作為對象的RI化合物即可。又,亦可以根據反應液的特性等來選擇填充於固相萃取管柱11的粒子。本實施形態中,針對固相萃取管柱11為1段結構,且只分離回收既定的RI化合物之情況進行了說明,但亦可以將固相萃取管柱11設為由能夠吸附相異成分的複數個管柱構成之複數段結構。此外,固相萃取管柱11係預想限單次使用的用後即棄式管柱。 處理液係指在向固相萃取管柱11導入反應液之前,向固相萃取管柱11導入的液體,或指在向固相萃取管柱11導入反應液之後,向固相萃取管柱11導入的液體。作為處理液,例如可以舉出:從固相萃取管柱11內的樹脂中將RI化合物脫離(分離)後向固相萃取管柱11的下游排出之萃取液。除此以外,用於清洗固相萃取管柱11內的樹脂的清洗液等也包括在處理液內。本實施形態中,針對如下情況進行說明:作為處理液儲存部具有處理液儲存部15、處理液儲存部16這兩者,在處理液儲存部15中儲存有清洗液,並且在處理液儲存部16中儲存有萃取液。亦即,處理液儲存部16發揮萃取液儲存部的功能。但是,依RI化合物的分離回收步驟中所需之處理液的種類,適當地變更其數量。 第1儲存部12及第2儲存部13具有儲存從固相萃取管柱11排出之液體的功能。本實施形態中,針對如下情況進行說明:第1儲存部12發揮所謂廢液容器的功能,第2儲存部13發揮回收RI化合物的回收容器的功能。有關本實施形態之放射性同位素成分分離裝置1,回收對象係含有RI化合物的成分,因此,含有RI化合物的液體從固相萃取管柱11排出時,在第2儲存部13回收該液體。另一方面,在第1儲存部12回收不含有RI化合物的液體。此外,本實施形態中示出儲存部為2個之情況,但在回收複數個成分之情況下,亦能夠將回收用第2儲存部13設為複數個(複數個容器)。 在固相萃取管柱11的上游側,在反應液儲存部14和固相萃取管柱11之間依序連接有管路L1、閥V1及管路L2。管路L1、閥V1及管路L2發揮本實施形態之溶液供給流路的功能。溶液供給流路係用後即棄式流路。又,管路L1等的流路例如由矽管等構成。 又,來自處理液儲存部15、處理液儲存部16的管路L3、管路L4在閥V2匯合,匯合後之管路L5與閥V1連接。在管路L5上,透過閥V3設置有送液用注射器17。送液用注射器17具有控制流過處理液側的管路L5的液體的流速的功能,但亦可以使用蠕動泵(Peristaltic pump)等來代替送液用注射器17。管路L3、管路L4、閥V2、管路L5及閥V3發揮本實施形態之處理液供給流路的功能。本實施形態中,萃取液被儲存於處理液儲存部16,因此,從處理液儲存部16至固相萃取管柱11的管路L4、閥V2、管路L5及閥V3發揮本實施形態之萃取液供給流路的功能。包括萃取液供給流路的處理液供給流路係用後即棄式流路。 在固相萃取管柱11的上游側,藉由切換閥V1及閥V2來選擇向固相萃取管柱11供給的液體。又,藉由控制閥V3來控制從處理液儲存部15、處理液儲存部16向固相萃取管柱11供給的處理液的流速。 在固相萃取管柱11的下游側,在固相萃取管柱11和第1儲存部12之間依序連接有管路L6、閥V4及管路L7。管路L6、閥V4及管路L7發揮本實施形態之第1排出流路的功能。第1排出流路係用後即棄式流路。 又,在閥V4連接著管路L8,在管路L8的下游側設置有第2儲存部13。管路L6、閥V4及該管路L8發揮本實施形態之第2排出流路的功能。第2排出流路係用後即棄式流路。此外,管路L6及閥V4具有作為第1排出流路及第2排出流路的功能。 在放射性同位素成分分離裝置1,由流路切換部19進行閥V4的控制。流路切換部19藉由感測器18來檢測流過管路L6內的從固相萃取管柱11排出之液體的放射線,並且根據該結果,進行閥V4的控制所致之流路的變更。感測器18發揮測定流過流路的液體的放射線強度的放射線測定部的功能。此外,作為感測器18,例如能夠使用放射線檢測器。 具體而言,感測器18所檢測之放射線的強度在既定的閾值以上之情況下,將閥V4控制成使從固相萃取管柱11排出之液體經由第2排出流路儲存於第2儲存部13。另一方面,感測器18所檢測之放射線的強度比既定的閾值小之情況下,將閥V4控制成使從固相萃取管柱11排出之液體經由第1排出流路儲存於第1儲存部12。藉由流路切換部19進行上述的控制,放射線強度成為既定閾值以上,亦即,能夠在第2儲存部13選擇性地回收含有RI化合物之液體。 接著,參閱圖2針對使用有關本實施形態之放射性同位素成分分離裝置1之放射性同位素的分離方法進行說明。 首先,將在RI化合物合成裝置等獲得之反應液經由作為溶液供給流路的管路L1及管路L2供給至固相萃取管柱11,藉由固相萃取管柱11的樹脂捕集RI化合物(S01)。 接著,藉由使送液用注射器17動作,將儲存於處理液儲存部15的清洗液經由管路L3、L5及L2供給至固相萃取管柱11。然後,藉由清洗液清洗固相萃取管柱11的樹脂(S02)。 接著,藉由使送液用注射器17動作,將儲存於處理液儲存部16的萃取液經由管路L4、L5及L2供給(導入)至固相萃取管柱11。又,在導入萃取液的同時,開始利用發揮測定部的功能之感測器18測定從固相萃取管柱排出之液體的放射線強度(S03)。同時,在流路切換部19取得感測器18的測定結果,開始有關流路切換的控制。 在流路切換部19,判定感測器18的測定值(感測器值)是否為閾值以上(S04)。而且,測定值為小於閾值之情況(S04-NO)下,不進行流路的變更,繼續進行利用感測器18的測定。另一方面,測定值為閾值以上之情況(S04-YES)下,流路切換部19將流路切換為第2排出流路。亦即,將來自固相萃取管柱11的流路的連接對象變更為第2儲存部13(S05)。 將來自固相萃取管柱11的流路的連接對象變更為第2儲存部13之後,繼續進行利用感測器18的測定及利用流路切換部19的有關流路切換的控制。亦即,在流路切換部19,判定感測器18的測定值(感測器值)是否小於閾值(S06)。而且,測定值為閾值以上之情況(S06-NO)下,不進行流路的變更,繼續進行利用感測器18的測定。另一方面,測定值小於閾值之情況(S06-YES)下,流路切換部19將流路切換為第1排出流路。亦即,將來自固相萃取管柱11的流路的連接對象變更為第1儲存部12(S07)。藉此,只有感測器值為閾值以上的液體被回收至第2儲存部13。 如上所述,有關本實施形態之放射性同位素成分分離裝置中,能夠在第2儲存部13中適當地回收含有放射性同位素的成分。又,將有可能流向回收含有放射性同位素的成分的第2儲存部13的管路及閥設為用後即棄式,能夠抑制雜質的混入等。 以往的放射性藥劑的製造步驟中,作為回收在合成裝置等所合成之放射性同位素的方法,探討了使用固相萃取管柱的方法和使用HPLC的方法。然而,無論哪種方法,在放射性藥劑的製造步驟中的RI化合物的分離回收方面仍有改善的空間。首先,在使用一般的固相萃取管柱的方法中,對於吸附於管柱內的樹脂之RI化合物,係使用萃取液使RI化合物從樹脂中脫離並回收。然而,以往的使用了固相萃取管柱的方法中,未進行分離回收含有特定的成分之液體的操作。因此,並未進行只分離並回收含有特定的成分之液體。 另一方面,相較於固相萃取管柱,使用HPLC的方法在分離回收含有特定成分的液體時分離性能提高是已知的。然而,HPLC具有向成分分離用的管柱以高壓導入液體的特徵,裝置結構等亦複雜。又,對於成分分離用的管柱,亦以使用複數次為前提。因此,存在如下問題:難以將在放射性藥劑中使用之放射性同位素的流路設為用後即棄式,難以確保分離回收之RI化合物的清淨性。 相對於此,依據有關本實施形態之放射性同位素成分分離裝置1,利用感測器18監測從固相萃取管柱11排出之液體的放射線量,若偵測到放射線量高的液體排出,則藉由流路切換部19將流路切換成使回收液體的對象成為第2儲存部13。藉由設為這樣的結構,即使在使用固相萃取管柱11之情況下,仍能夠只分離並回收放射線量高的含有特定的成分的液體。又,在放射性同位素成分分離裝置1,將在放射性藥劑中使用之放射性同位素的流路,亦即反應液供給流路、處理液供給流路(包括萃取液供給流路)、第1排出流路及第2排出流路設為由用後即棄式材料構成之流路。因此,能夠防止雜質混入到包含放射性同位素的液體中。如此,依據有關本實施形態之放射性同位素成分分離裝置1,能夠從含有放射性同位素的液體中適當地分離含有放射性同位素的成分,且能夠抑制雜質混入到分離後的成分中。 接著,針對上述實施形態的變形例進行說明。如上所述,能夠將固相萃取管柱11設為:將吸附相異成分的管柱串列連接成複數段而構成之所謂複數段結構。在設為這種結構之情況下,能夠適當地使用用於將被各管柱吸附之成分個別回收的方法。 具體而言,準備複數個用於將被各管柱吸附之含有RI化合物之成分個別回收的儲存部(相當於第2儲存部13的容器)。而且,在感測器18所測定之感測器值成為閾值以上之情況(S04-YES)下,流路切換部19進行如下控制:將來自固相萃取管柱11的流路的連接對象變更為複數個儲存部當中之既定的儲存部(相當於S05)。然後,在感測器值成為小於閾值之情況(S06-YES)下,進行再次變更流路的控制(相當於S07)。如此,根據由感測器18測定之感測器值,反覆進行流路切換部19所致的流路的變更,從而能夠將被各管柱吸附之相異的RI化合物個別回收。在設為這種結構之情況下可構成為,在流路切換部19,根據感測器值超出閾值之時點(自萃取液開始流動所經過之時間)等事先確定作為流路的變更對象的第2儲存部(回收RI化合物的容器),而將特定的RI化合物回收至所希望的儲存部。 此外,將固相萃取管柱11設為複數段結構之情況下,必須以能夠使被各管柱吸附之成分的脫離時點相異的方式選擇萃取液。又,亦可以設成如下結構:藉由使由相異成分組成的複數種的萃取液流過,使被各管柱吸附之RI化合物在相異的時點脫離。 如上述,能夠構成為:固相萃取管柱11由能夠吸附相異成分的複數個管柱構成,根據測定部的測定結果,在流路切換部19從第2儲存部13所包含之複數個容器中選擇儲存從固相萃取管柱排出之液體的容器。藉由設為這種結構,能夠將複數種的RI化合物個別回收。 以上,針對本發明的實施形態進行了說明,但本發明並不限定於上述實施形態。 例如,在上述實施形態,針對藉由用後即棄式配管等形成之溶液供給流路、固相萃取管柱11、第1排出流路、第2排出流路進行了個別說明,但該等的用後即棄式部分亦可以設為,例如作為安裝於放射性藥劑裝置等中的匣(cassette)內所收容的用後即棄式匣而成為一體化。 又,能夠適當地變更放射性同位素成分分離裝置1中所包含之管路L1~L8、閥V1~V4等的結構。又,如上述實施形態所示,處理液儲存部為複數個之情況下,連接處理液儲存部和固相萃取管柱11的所有流路被設為用後即棄式。亦即,對於萃取液所流過之流路以外的處理液的流路,該處理液有可能向第2儲存部(回收放射性同位素成分的容器)導入之情況下,較佳為將該流路設為用後即棄式。
1‧‧‧放射性同位素成分分離裝置11‧‧‧固相萃取管柱12‧‧‧第1儲存部13‧‧‧第2儲存部14‧‧‧反應液儲存部15、16‧‧‧處理液儲存部17‧‧‧送液用注射器18‧‧‧感測器19‧‧‧流路切換部
圖1係放射性同位素成分分離裝置的概略結構圖。 圖2係說明放射性同位素成分分離方法的流程圖。
1‧‧‧放射性同位素成分分離裝置
11‧‧‧固相萃取管柱
12‧‧‧第1儲存部
13‧‧‧第2儲存部
14‧‧‧反應液儲存部
15‧‧‧處理液儲存部
16‧‧‧處理液儲存部
17‧‧‧送液用注射器
18‧‧‧感測器
19‧‧‧流路切換部
V1‧‧‧閥
V2‧‧‧閥
V3‧‧‧閥
V4‧‧‧閥
L1‧‧‧管路
L2‧‧‧管路
L3‧‧‧管路
L4‧‧‧管路
L5‧‧‧管路
L6‧‧‧管路
L7‧‧‧管路
L8‧‧‧管路
Claims (2)
- 一種放射性同位素成分分離裝置,係溶液中的放射性同位素成分的分離裝置,其具有: 固相萃取管柱,能夠吸附前述溶液中的放射性同位素成分; 萃取液儲存部,儲存萃取液,該萃取液能夠使被吸附於前述固相萃取管柱之前述放射性同位素成分脫離; 用後即棄式萃取液供給流路,向固相萃取管柱供給儲存於前述萃取液儲存部的前述萃取液; 第1儲存部,儲存來自前述固相萃取管柱的液體; 第2儲存部,儲存來自前述固相萃取管柱的液體; 用後即棄式第1排出流路,連接前述固相萃取管柱和前述第1儲存部; 用後即棄式第2排出流路,連接前述固相萃取管柱和前述第2儲存部; 測定部,在前述固相萃取管柱的下游側,測定從前述固相萃取管柱排出之液體的放射線量;及 流路切換部,根據前述測定部的測定結果,將從前述固相萃取管柱排出之液體的流路在前述第1排出流路和前述第2排出流路之間切換。
- 如申請專利範圍第1項所述之放射性同位素成分分離裝置,其中, 前述固相萃取管柱由能夠吸附相異成分的複數個管柱構成, 前述第2儲存部包含複數個容器, 前述流路切換部,係根據前述測定部的測定結果,將從前述固相萃取管柱排出之液體的流路在前述第1排出流路和前述第2排出流路之間切換,並且從前述複數個容器中選擇儲存從前述固相萃取管柱排出之液體的容器。
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