TWI683375B

TWI683375B - 發光元件

Info

Publication number: TWI683375B
Application number: TW108102272A
Authority: TW
Inventors: 李庚益; 陳文斌; 陳文泰; 張國瑞; 陳祖偉; 陳國光; 洪仕馨
Original assignee: 友達光電股份有限公司
Priority date: 2018-06-22
Filing date: 2019-01-21
Publication date: 2020-01-21
Also published as: TW202018386A; TW202001389A; TWI684815B; TW202002276A; TW202002329A; TW202001386A; TW202001853A; TW202001363A; TW202002353A; TWI684810B; TWI694626B; TW202002352A; TWI714115B; TWI710832B; TWI680589B; TWI696870B; TW202002275A; TWI679765B; TW202001374A; TWI678802B

Abstract

一種發光元件包括基底、第一電極、隔離結構層、發光結構層與第二電極。隔離結構層圍繞第一電極的周邊。隔離結構層包括第一隔離層、第二隔離層與第三隔離層。第一隔離層接觸第一電極。第二隔離層堆疊於第一隔離層上方。第三隔離層堆疊於第二隔離層上方。第一隔離層與第三隔離層的材質包括介電材料。第二隔離層的材質為金屬材料。第三隔離層與第二隔離層之間的交界至第一電極相隔垂直距離。發光結構層配置於第一電極上，且由隔離結構層包圍。發光結構層的厚度不大於垂直距離。發光結構層夾於第一電極與第二電極之間。

Description

發光元件

本發明是有關於一種電子元件且特別是有關於一種發光元件。

有機發光元件在顯示面板、發光元件等領域的應用越來越普及。為了尋求較低成本的製造方法、生產設備及相關材料的開發，已導入噴墨印刷（Inkjet printing，IJP）技術來製作有機發光元件。噴墨印刷的技術所需製造成本較低，但藉由噴墨印刷技術製作的發光結構可能有膜層厚度不均的問題，這將導致有機發光元件無法具備均勻的發光效果。

本發明提供一種發光元件，可以具有均勻的發光效果。

本發明提供一種發光元件，在材料的選擇上較具彈性。

本發明的發光元件包括基底、第一電極、隔離結構層、發光結構層與第二電極。第一電極配置於基底上。隔離結構層配置於基底上，且隔離結構層圍繞第一電極的周邊。隔離結構層包括第一隔離層、第二隔離層與第三隔離層。第一隔離層配置於基底上且接觸第一電極。第二隔離層堆疊於第一隔離層上方。第三隔離層堆疊於第二隔離層上方。第一隔離層與第三隔離層的材質包括介電材料。第二隔離層的材質為金屬材料。第三隔離層與第二隔離層之間的交界至第一電極相隔垂直距離。發光結構層配置於第一電極上，且由隔離結構層包圍。發光結構層的厚度不大於垂直距離。第二電極配置於基底上，且發光結構層夾於第一電極與第二電極之間。

在本發明的一實施例中，上述的發光結構層的厚度包括位於發光結構層中央區域的第一厚度以及位於發光結構層邊緣的第二厚度，且第一厚度小於第二厚度。

在本發明的一實施例中，上述的第一厚度由1000Å至2500Å。

在本發明的一實施例中，上述的第二厚度由4500Å至6500Å。

在本發明的一實施例中，上述的第三隔離層的材質包括含氟光阻材料。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層的材質包括有機介電材料或無機介電材料。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層的水接觸角小於第三隔離層的水接觸角。

在本發明的一實施例中，上述的第三隔離層具有接觸孔，且第二電極通過接觸孔電接觸第二隔離層。

在本發明的一實施例中，上述的第二隔離層包括內隔離圖案與外隔離圖案。內隔離圖案與外隔離圖案相隔一間隙。內隔離圖案位於發光結構層與外隔離圖案之間，且第一隔離層具有接觸孔，而外隔離圖案通過接觸孔電接觸第一電極。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層具有圍繞出第一底開口的第一底邊緣。第二隔離層具有圍繞出第二底開口的第二底邊緣。第三隔離層具有圍繞出第三底開口的第三底邊緣。第二底開口大於第一底開口且第三底開口大於第二底開口。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層具有第一頂邊緣，且第一頂邊緣與第二底邊緣相隔一橫向距離。

在本發明的一實施例中，上述的第二介電隔離層具有第二頂邊緣，且第二頂邊緣與第三底邊緣相隔一橫向距離。

在本發明的一實施例中，上述的第二隔離層的側壁相對於第三隔離層的側壁內縮，而在第二隔離層的側壁與第三隔離層的側壁之間形成底切結構。

在本發明的發光元件包括基底、第一電極、隔離結構層、發光結構層與第二電極。第一電極配置於基底上。隔離結構層配置於基底上，且隔離結構層圍繞第一電極的周邊。隔離結構層包括第一隔離層、第二隔離層與第三隔離層。第一隔離層配置於基底上且接觸第一電極。第二隔離層堆疊於第一隔離層上方。第三隔離層堆疊於第二隔離層上方。第一隔離層具有圍繞出第一底開口的第一底邊緣。第二隔離層具有圍繞出第二底開口的第二底邊緣。第三隔離層具有圍繞出第三底開口的第三底邊緣。第二底開口大於第一底開口且第三底開口大於第二底開口。第三隔離層與第二隔離層之間的交界至該第一電極相隔垂直距離。發光結構層配置於第一電極上，且由隔離結構層包圍。發光結構層的厚度不大於垂直距離。第二電極配置於基底上，且發光結構層夾於第一電極與第二電極之間。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層的材質為無機介電材料或有機介電材料。

在本發明的一實施例中，上述的第一隔離層的材質為氧化矽而第二隔離層的材質為氮化矽。

在本發明的一實施例中，上述的第二隔離層的材質為無機介電材料或金屬。

基於上述，本發明實施例的發光元件採用多層結構的隔離結構層，其中夾於中間的隔離層為金屬材質或是無機介電材質。如此一來，使用本發明實施例所述的隔離結構層製作的發光結構層具有理想的厚度，且隔離結構層中的金屬或無機的中間隔離層也有助於阻擋其他有機層的脫逸氣體入侵發光結構層而有助於確保發光元件的品質。

為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

圖1為本發明一實施例的發光元件的局部上視示意圖，而圖2為圖1的發光元件沿剖線I-I的剖面示意圖。請參照圖1與圖2，發光元件100包括基底110、第一電極120、隔離結構層130、發光結構層140以及第二電極150。第一電極120與隔離結構層130都配置於基底110上。另外，發光結構層140配置於第一電極120上，且由隔離結構層130包圍。第二電極150則配置於基底110上，使得發光結構層140夾於第一電極120與第二電極150之間。

在本實施例中，基底110可以是主動元件陣列基板，也可以是不具有主動元件陣列的線路基板。以主動元件陣列基板而言，基底110可包括有基板及配置於基板上的主動元件結構。舉例而言，主動元件結構可以包括薄膜電晶體、電容等構件，更可包括訊號線。以線路基板而言，基底110可包括有基板及配置於基板上的訊號線。無論是主動元件陣列基板或是線路基板，基底100都可以提供訊號傳遞路徑以將需要的訊號傳遞給第一電極120與第二電極150，使得夾於第一電極120與第二電極150之間的發光結構層140在電訊號的驅動之下發出光線。

由圖1可知，第一電極120是經過圖案化的電極層，且隔離結構層130圍繞第一電極120的周邊。在一些實施例中，整個發光元件100可包括有多個第一電極120且第一電極120排列成陣列。同時，隔離結構層130可以在整個發光元件100上沿著相鄰第一電極120之間的間隔區域分布而定義出網格狀的圖案。此外，隔離結構層130所定義的網格的開口中可分別形成有發光結構層140。圖1表示出其中一個第一電極120與對應的其中一個網格開口以作為說明，但整個發光元件100可以理解為由圖1所呈現的結構陣列排列而成。第一電極120可以是由單層導電材料或是多層導電材料製作而成，其中導電材料可包括導電氧化物、有機導電材料、金屬等。在一些實施例中，第一電極120可包括銦錫氧化物層-銀層-銦錫氧化物層的堆疊，但不以此為限。

由圖1與圖2可知，隔離結構層130在本實施例中是由多個膜層堆疊而成的結構，具體而言，隔離結構層130可包括第一隔離層132、第二隔離層134與第三隔離層136。第一隔離層132配置於基底110上且接觸第一電極120，第二隔離層134堆疊於第一隔離層132上方，而第三隔離層136堆疊於第二隔離層134上方。

在本實施例中，第一隔離層132具有圍繞出第一底開口O1的第一底邊緣E1，第二隔離層134具有圍繞出第二底開口O2的第二底邊緣E2而第三隔離層136具有圍繞出第三底開口O3的第三底邊緣E3。第二底開口O2大於第一底開口O1且第三底開口O3大於第二底開口O2。此外，由圖2可知，第一隔離層132、第二隔離層134與第三隔離層136例如都具有傾斜的側壁，因此隔離結構層130可定義出一個底部面積小頂部面積大的凹槽結構。

在部分實施例中，第一隔離層132的第一頂邊緣E1T可選擇性地與第二隔離層134的第二底邊緣E2切齊，而第二隔離層134的第二頂邊緣E2T可選擇性地與第三隔離層136的第三底邊緣E3切齊，因此第一隔離層132、第二隔離層134與第三隔離層136的側壁可以連接成連續無轉折或是平滑的斜面，但不以此為限。在部分的實施例中，第一隔離層132的第一頂邊緣E1T可選擇性地與第二隔離層134的第二底邊緣E2間隔一橫向距離，及/或第二隔離層134的第二頂邊緣E2T可選擇性地與第三隔離層136的第三底邊緣E3間隔一橫向距離。在此，所謂的頂邊緣與底邊緣分別意指為單一膜層中遠離基底110的頂面的輪廓線以及接近基底110的底面的輪廓線。

在一些實施例中，第一隔離層132的材質可以為有機介電材料，第二隔離層132的材質為金屬材料，而第三隔離層136的材質也可以為有機介電材料。同時，第一隔離層132與第三隔離層136雖然都是有機介電材料，但第三隔離層136可相較於第一隔離層132更為疏水。舉例來說，第三隔離層136的材質可包括含氟的光阻材料，而第一隔離層132的材質可以是不含氟的光阻材料。第一隔離層132的水接觸角可以小於第三隔離層136的水接觸角，舉例來說，第一隔離層132的水接觸角可以小於40度，而第三隔離層136的水接觸角可大70度，但不以此為限。

在另外一些實施例中，第一隔離層132的材質可以為無機介電材料，第二隔離層132的材質也可以為無機介電材料，而第三隔離層136的材質可以為有機介電材料。此時，第三隔離層136的材質可包括含氟光阻材料，而第一隔離層132與第二隔離層134則採用不同的無機介電材料製作。例如，第一隔離層132的材質為氧化矽而第二隔離層134的材質為氮化矽。在製作隔離結構層130時，第二隔離層134可以先採用乾式蝕刻的方式圖案化，之後再以濕式蝕刻方式圖案化第一隔離層132，藉此可減輕第一電極120在第一隔離層132與第二隔離層134的圖案化過程中被損壞的情形。

整體來說，第一隔離層132可以是有機介電材料或無機介電材料，第二隔離層134可以是金屬材料或無機介電材料，而第三隔離層136可以是有機介電材料。同時，第一隔離層132、第二隔離層134與第三隔離層136可採用三種不同的材質製作。舉例而言，第一隔離層132、第二隔離層134與第三隔離層136的材質可由以下組合來選擇：無氟光阻材料-金屬-含氟光阻材料、無氟光阻材料-無機介電材料-含氟光阻材料、無機介電材料-金屬-含氟光阻材料或無機介電材料-無機介電材料-含氟光阻材料，但不以此為限。

發光結構層140配置於隔離結構層130所構成的凹槽內，且接觸第一電極120。在本實施例中，發光結構層140的厚度T140不大於第一隔離層132與第二隔離層134的厚度總和。換言之，第三隔離層136與第二隔離層134之間的交界至第一電極120相隔垂直距離H1時，發光結構層140的厚度T140不大於垂直距離H1。

在圖2中，發光結構層140雖繪製為單層，但不以此為限。舉例而言，發光結構層140可包括電洞注入層、電洞傳輸層與發光層。在發光元件100的製作過程中，於基底110上製作完隔離結構層130之後可採用噴墨印刷製程於隔離結構層130所定義的凹槽內滴注需要的材料液滴以製作電洞注入層、電洞傳輸層與發光層的至少一層。在此，形成電洞注入層、電洞傳輸層與發光層的材料液滴可以是有機材料的溶液。也就是說，發光結構層140是有機材質的發光結構層。

隔離結構層130中的第三隔離層136相較於第一隔離層132與第二隔離層134具有疏水性。因此，材料液滴可以被侷限在隔離結構層130所定義的凹槽內而不向外溢出。甚至，材料液滴可以幾乎不附著也不接觸於第三隔離層136。另外，第一隔離層132可以相較第二隔離層134更具親水性，這使得材料液滴可連續地附著且接觸第一電極120的表面與第一隔離層132的側壁。後續，可進行乾燥步驟，將材料液滴乾固而形成發光結構層140的至少一部分。

經由上述步驟所得的發光結構層140具有中央薄、邊緣後的厚度T140，也就是說，發光結構層140的厚度T140包括位於發光結構層140中央區域的第一厚度TC以及位於發光結構層140邊緣的第二厚度TE，且第一厚度TC小於第二厚度TE。在一些實施例中，第一厚度TC例如由1000Å至2500Å，而第二厚度例如由4500Å至6500Å。

由於第一隔離層132具有相對好的親水性，材料液滴與第一隔離層132的親和力可能優於材料液滴與第二隔離層134的親和力。如此一來，第一隔離層132的厚度T132可能侷限材料液滴的分布而影響發光結構層140的厚度T140。舉例而言，第一隔離層132的厚度T132越大，材料液滴附著於第一隔離層132的部分可能延伸到較高(距離基底110較遠)處，這可能導致材料液滴乾固後所得發光結構層140的第二厚度TE明顯增大，造成發光結構層140的膜厚明顯不均勻。因此，第一隔離層132的厚度T132可選擇地設置為由2000Å至1μm的範圍中，也可以設置為由2000Å至5000Å的範圍中或是5000Å至1μm的範圍中。

另外，第二隔離層134夾於疏水性差異較大的第一隔離層132與第三隔離層136之間。第二隔離層134的厚度T134如果太厚，則第三隔離層136雖具有疏水性質仍可能無法有效限制材料液滴的分布。因此，第二隔離層134的厚度T134可選擇地由500Å至5000Å，或是選擇地由1500Å至2000Å。第三隔離層136的厚度T136則可以由1.5μm至2μm。如此一來，隔離結構層130可具有足夠的厚度以避免發光材料液滴在製作過程中混染或溢流到其他區域。

第二電極150在發光元件100中可以覆蓋基底110的大部分面積，因此圖1中基底110與第二電極150都標示於整體元件的邊緣。具體而言，第二電極150連續地由隔離結構層130的頂面延伸到隔離結構層130的側壁且覆蓋住發光結構層140的頂面。在發光元件100中，第二電極150可以作為陰極，而第一電極120作為陽極，且發光結構層140夾於陰極與陽極之間以構成有機發光二極體結構。另外，第二電極150與發光結構層140之間可進一步設置有電子傳輸層、電子注入層等其他膜層，以使有機發光二極體結構具備理想的發光效率。在部分的實施例中，電子傳輸層、電子注入層與第二電極150可以採用沉積成膜，例如蒸鍍、濺鍍等，的方式製作。不過，在另一部分實施例中，第二電極150可以採用沉積成膜的方式製作，而電子傳輸層與電子注入層可選擇性採用噴墨印刷的方式製作。

在本實施例中，發光元件100具有多層結構的隔離結構層130。在部分實施例中，第三隔離層136採用有機介電材料，例如光阻材料，來製作，這樣的材料可能產生脫逸氣體。不過，隔離結構層130中的第二隔離層134是採用金屬材料或是無機介電材料製作。因此，第二隔離層134可用以阻擋來自第三隔離層136的脫逸氣體，避免發光結構層140受到第三隔離層136的脫逸氣體的作用而變質。在第一隔離層132是無機介電材料時，也有助於隔絕第三隔離層136的脫逸氣體入侵發光結構層140。另外，第二隔離層134為金屬材質時，第二電極150接觸於第二隔離層134的側壁，可有助於提升第二電極150的導電性質。換言之，第二隔離層134的設置有助於提升發光元件100的品質。

圖3為本發明另一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。在圖3中，發光元件200包括基底110、第一電極120、隔離結構層230、發光結構層140以及第二電極150，其中基底110、第一電極120、發光結構層140以及第二電極150大致與圖2的實施例相似，在此不再詳述。本實施例不同於圖2的實施例之處在於，隔離結構層230的設計。具體而言，隔離結構層230類似於前述的隔離結構層130，具有三層結構，包括第一隔離層232、第二隔離層234與第三隔離層236。不過，第一隔離層232、第二隔離層234與第三隔離層236的側壁並未連接成連續無轉折或是平滑的斜面。

在本實施例中，第一隔離層232的第一頂邊緣E1T’可選擇性地與第二隔離層234的第二底邊緣E2’間隔一橫向距離D1，其中橫向距離D1可由0.1μm至0.25μm。另外，第二隔離層234的第二頂邊緣E2T’可選擇性地與第三隔離層236的第三底邊緣E3’間隔一橫向距離D2，其中橫向距離D2可由0.1μm至0.25μm。也就是說，第一隔離層232、第二隔離層234與第三隔離層236構成階梯狀的側壁結構，且第一隔離層232、第二隔離層234與第三隔離層236的寬度越遠離基底110越小。

圖4為本發明又一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。在圖4中，發光元件300包括基底110、第一電極120、隔離結構層330、發光結構層140以及第二電極150，其中基底110、第一電極120、發光結構層140以及第二電極150大致與圖2的實施例相似，在此不再詳述。本實施例不同於圖2的實施例之處在於，隔離結構層330的設計。具體而言，隔離結構層330類似於前述的隔離結構層130，具有三層結構，包括第一隔離層332、第二隔離層334與第三隔離層336。不過，第一隔離層332、第二隔離層334與第三隔離層336的側壁並未連接成連續無轉折或是平滑的斜面。

在本實施例中，第二隔離層334的側壁S334相對於第三隔離層336的側壁S336內縮，而在第二隔離層334的側壁S334與第三隔離層336的側壁S336之間形成底切結構U。也就是說，在部分的實施例中，第三隔離層336可由光阻材料製作。同時，隔離結構層330時，可利用已透過黃光製程而圖案化的第三隔離層336作為罩幕來圖案化第二隔離層334與其下方的第一隔離層332。具體而言，可以先利用第三隔離層336作為罩幕以乾蝕刻方式圖案化第二隔離層334，後續再繼續利用第三隔離層336作為罩幕以濕蝕刻方式圖案化第一隔離層332。因此第二隔離層334可能基於濕蝕刻導致的側向蝕刻現象而相對於第三隔離層336內縮。不過，在其他的實施例中，第二隔離層334的內縮結構可不限定由式上述製作方時達成。

圖5為本發明又另一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。在圖5中，發光元件400包括基底110、第一電極120、隔離結構層430、發光結構層140以及第二電極150，其中基底110、第一電極120、發光結構層140以及第二電極150大致與圖2的實施例相似，在此不再詳述。本實施例不同於圖2的實施例之處在於，隔離結構層430的設計。具體而言，隔離結構層430類似於前述的隔離結構層130，具有三層結構，包括第一隔離層432、第二隔離層434與第三隔離層436，其中第一隔離層432的材質、結構與配置都與圖2的第一隔離層132相同，而第二隔離層434在本實施例為金屬材質，且第三隔離層436具有接觸孔436A。在本實施例中，第二電極150可以填入接觸孔436A而通過接觸孔436A與金屬材質的第二隔離層434電接觸。如此，有助於提升第二電極150的導電性。

圖6為本發明再一實施例的發光元件的局部上視示意圖，而圖7為圖6的發光元件沿剖線II-II的剖面示意圖。在圖6與圖7中，發光元件500包括基底110、第一電極120、隔離結構層530、發光結構層140以及第二電極150，其中基底110、第一電極120、發光結構層140以及第二電極150大致與圖2的實施例相似，在此不再詳述。本實施例不同於圖2的實施例之處在於，隔離結構層530的設計。在本實施例中，隔離結構層530具有三層結構，且包括第一隔離層532、第二隔離層534與第三隔離層536。第一隔離層532配置於基底110上且接觸第一電極120，第二隔離層534堆疊於第一隔離層532上方，而第三隔離層536堆疊於第二隔離層534上方。

具體而言，第二隔離層534例如為金屬材質，且包括內隔離圖案534a與外隔離圖案534b，其中內隔離圖案534a與外隔離圖案534b相隔一間隙534G，且內隔離圖案534a位於發光結構層140與外隔離圖案534b之間。由圖6可知，內隔離圖案534a圍繞發光結構層140，間隙534G圍繞內隔離圖案534a，而外隔離圖案534b圍繞間隙534G。另外，在部分實施例中，外隔離圖案534b遠離於發光結構層140的輪廓534R可以大致對應於第一電極120的輪廓。因此，隔離結構層530雖可定義出多個網格，但第二隔離層534經圖案化成多個獨立的框形圖案而非連續延伸於不同第一電極120之間。第三隔離層536則填充於間隙534G以及相鄰的外隔離圖案534b之間。

在本實施例中，第二隔離層534的內隔離圖案534a與外隔離圖案534b彼此獨立而無連接。內隔離圖案534a的圍繞發光結構層140的側壁S534被第二電極150覆蓋而電接觸第二電極150。另外，第一隔離層532可具有接觸孔532A，使得外隔離圖案534b通過接觸孔532A電接觸第一電極120。因此，內隔離圖案534a與外隔離圖案534b可個別電接觸第二電極150與第一電極120。如此一來，第二隔離層534除了有助於降低第二電極150的阻抗外，也有助於降低第一電極120的阻抗，而提升發光元件500的品質。

綜上所述，本發明實施例的發光元件採用多層結構的隔離結構層，例如依序堆疊的第一隔離層、第二隔離層與第三隔離層。夾於中間的第二隔離層選用金屬材料或是無機介電材料。第三隔離層相較於第一隔離層與第二隔離層更為疏水。如此一來，本發明實施例的隔離結構層可有效限制噴墨製程中材料液滴的分布而製作出理想的發光結構層。此外，第一隔離層選用有機材料製作時，來自第一隔離層的脫逸氣體可受第二隔離層阻隔而不入侵發光結構層。

雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。

100、200、300、400、500：發光元件 110：基底 120：第一電極 130、230、330、430、530：隔離結構層 132、232、332、432、532：第一隔離層 134、234、334、434、534：第二隔離層 136、236、336、436、536：第三隔離層 140：發光結構層 150：第二電極 436A、532A：接觸孔 534a：內隔離圖案 534b：外隔離圖案 534G：間隙 534R：輪廓 D1、D2：橫向距離 E1：第一底邊緣 E1T、E1T’：第一頂邊緣 E2、E2’：第二底邊緣 E2T、E2T’：第二頂邊緣 E3、E3’：第三底邊緣 H1：垂直距離 I-I、II-II：剖線 O1：第一底開口 O2：第二底開口 O3：第三底開口 S334、S334、S534：側壁 TC：第一厚度 TE：第二厚度 T132、T134、T136、T140：厚度 U：底切結構

圖1為本發明一實施例的發光元件的局部上視示意圖。圖2為圖1的發光元件沿剖線I-I的剖面示意圖。圖3為本發明另一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。圖4為本發明又一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。圖5為本發明又另一實施例的發光元件的局部剖面示意圖。圖6為本發明再一實施例的發光元件的局部上視示意圖。圖7為圖6的發光元件沿剖線II-II的剖面示意圖。。

100：發光元件 110：基底 120：第一電極 130：隔離結構層 132：第一隔離層 134：第二隔離層 136：第三隔離層 140：發光結構層 150：第二電極 E1：第一底邊緣 E1T：第一頂邊緣 E2：第二底邊緣 E2T：第二頂邊緣 E3：第三底邊緣 H1：垂直距離 O1：第一底開口 O2：第二底開口 O3：第三底開口 TC：第一厚度 TE：第二厚度 T132、T134、T136、T140：厚度

Claims

一種發光元件，包括：基底；第一電極，配置於該基底上；隔離結構層，配置於該基底上，且該隔離結構層圍繞該第一電極的周邊，其中該隔離結構層包括：第一隔離層，配置於該基底上且接觸該第一電極；第二隔離層，堆疊於該第一隔離層上方；以及第三隔離層，堆疊於該第二隔離層上方，其中該第一隔離層與該第三隔離層的材質包括介電材料，該第二隔離層的材質為金屬材料，且該第三隔離層與該第二隔離層之間的交界至該第一電極相隔垂直距離；發光結構層，配置於該第一電極上，由該隔離結構層包圍，且該發光結構層的厚度不大於該垂直距離；以及第二電極，配置於該基底上，且該發光結構層夾於該第一電極與該第二電極之間。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該發光結構層的該厚度包括位於該發光結構層中央區域的第一厚度以及位於該發光結構層邊緣的第二厚度，且該第一厚度小於該第二厚度。
如申請專利範圍第2項所述的發光元件，其中該第一厚度由1000Å至2500Å。
如申請專利範圍第2項所述的發光元件，其中該第二厚度由4500Å至6500Å。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第一隔離層的厚度由2000Å至1μm。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第三隔離層的材質包括含氟光阻材料。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第一隔離層的材質包括有機介電材料或無機介電材料。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第一隔離層的水接觸角小於該第三隔離層的水接觸角。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第三隔離層具有接觸孔，且該第二電極通過該接觸孔電接觸該第二隔離層。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第二隔離層包括內隔離圖案與外隔離圖案，該內隔離圖案與該外隔離圖案相隔一間隙，該內隔離圖案位於該發光結構層與該外隔離圖案之間，且該第一隔離層具有接觸孔，而該外隔離圖案通過該接觸孔電接觸該第一電極。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第一隔離層具有圍繞出第一底開口的第一底邊緣，該第二隔離層具有圍繞出第二底開口的第二底邊緣而該第三隔離層具有圍繞出第三底開口的第三底邊緣，該第二底開口大於該第一底開口且該第三底開口大於該第二底開口。
如申請專利範圍第11項所述的發光元件，其中該第一隔離層具有第一頂邊緣，且該第一頂邊緣與該第二底邊緣相隔一橫向距離。
如申請專利範圍第11項所述的發光元件，其中該第二介電隔離層具有第二頂邊緣，且該第二頂邊緣與該第三底邊緣相隔一橫向距離。
如申請專利範圍第1項所述的發光元件，其中該第二隔離層的側壁相對於該第三隔離層的側壁內縮，而在該第二隔離層的該側壁與該第三隔離層的該側壁之間形成底切結構。
一種發光元件，包括：基底；第一電極，配置於該基底上；隔離結構層，配置於該基底上，且該隔離結構層圍繞該第一電極的周邊，其中該隔離結構層包括：第一隔離層，配置於該基底上且接觸該第一電極；第二隔離層，堆疊於該第一隔離層上方；以及第三隔離層，堆疊於該第二隔離層上方，其中該第一隔離層具有圍繞出第一底開口的第一底邊緣，該第二隔離層具有圍繞出第二底開口的第二底邊緣，該第三隔離層具有圍繞出第三底開口的第三底邊緣，該第二底開口大於該第一底開口且該第三底開口大於該第二底開口，且第三隔離層與該第二隔離層之間的交界至該第一電極相隔垂直距離；發光結構層，配置於該第一電極上，由該隔離結構層包圍，且該發光結構層的厚度不大於該垂直距離；以及第二電極，配置於該基底上，且該發光結構層夾於該第一電極與該第二電極之間。
如申請專利範圍第15項所述的發光元件，其中該第三隔離層的材質為含氟光阻材料。
如申請專利範圍第15項所述的發光元件，其中該第一隔離層的材質為無機介電材料或有機介電材料。
如申請專利範圍第15項所述的發光元件，其中該第一隔離層的材質為氧化矽而該第二隔離層的材質為氮化矽。
如申請專利範圍第15項所述的發光元件，其中該第二隔離層的材質為無機介電材料或金屬。
如申請專利範圍第15項所述的發光元件，其中該第一隔離層的水接觸角小於該第三隔離層的水接觸角。