TWI664694B - Holding device - Google Patents

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福本英範
日高康祐
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日商愛發科低溫泵股份有限公司
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Abstract

提供一種在真空腔內一面將被處理物冷卻至極低溫一面可自由旋轉地作保持之保持裝置。
在真空腔(1)內而一面冷卻被處理物(W)一面可自由旋轉地作保持之保持裝置(HS)，係具備有被設置有被處理物之平台(1)、和將平台可自由旋轉地作支持之旋轉驅動手段(2)、以及冷卻平台之冷卻手段(3)。以被設置有被處理物之平台面側作為上方，旋轉驅動手段，係具備有在真空腔之壁面處隔著真空密封構件(22)而被作貫通裝設之筒狀之旋轉軸體(21)、和以在平台下方區劃出空間(24)的方式而將旋轉軸體之上端部和平台之下面作連結之連結構件(23)、以及將旋轉軸體作旋轉驅動之驅動馬達(25)，冷卻手段，係具備有在平台下方之空間中而與平台下面間存在有空隙地來作對向配置之冷卻面板(31)、和被內插於旋轉軸體中並與冷卻面板之下面作抵接之導熱軸體(32)、以及將導熱軸體冷卻之冷凍機(33)。

Description

保持裝置
本發明，係有關於在真空氛圍之真空腔內一面將被處理物冷卻一面可自由旋轉地作保持之保持裝置。
從先前技術起，於在真空氛圍之真空腔內對於矽晶圓或玻璃基板等之被處理物而進行成膜處理或蝕刻處理等之各種的處理之情況中，係在藉由靜電吸盤來將被處理物作了靜電吸附的狀態下而進行，此事係為周知。於此，在進行對於被處理物之處理時，係會有在將被處理物維持於特定之溫度的狀態或者是將被處理物保持在較室溫而更低之特定溫度的狀態下來進行的情形。因此，係周知有：在構成靜電吸盤之吸盤平板支持用的基台處，設置通水管，並在處理中，藉由冷卻水循環裝置來在此通水管中使冷卻水作循環，藉由此，來將基台冷卻，並將吸盤平板乃至於被處理物作冷卻(例如，參照專利文獻1)。
另一方面，作為特定之處理，例如當對於濺鍍用靶材進行濺鍍而進行成膜處理的情況時，例如為了將膜厚分布之面內均一性提高或者是為了在具有凹凸形狀的基板上成膜的目的，係會有將驅動馬達之旋轉軸連結於被 處理物所被作設置的平台處並在處理中一面使平台乃至於被處理物以特定之速度來旋轉一面進行處理的情形，此事亦為周知(例如，參考專利文獻2)。另外，在專利文獻2中所記載的發明，亦同樣的，在平台處，係設置有被處理物之靜電吸盤用之電極和循環用之襯套，而構成為能夠將被處理物可旋轉地並且可冷卻至特定溫度地來作保持。
然而，在如同上述各先前技術例一般之於平台的內部作為冷媒而使冷卻水等之液體作循環的方法中，就算是想要將被處理物冷卻至較室溫而更低的溫度，其極限也頂多只能夠將被處理物冷卻至-30℃程度之溫度。並且，在處理中，若是冷媒從被作旋轉驅動之平台而漏出至真空氛圍之真空腔內，則不僅是會對於正常的處理有所損害，也會有導致處理裝置自身的破損之虞，因此，係有必要採用完全的水密構造，並導致裝置之複雜化和高成本化。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本特開2002-368070號公報
[專利文獻2]日本特開2011-246759號公報
本發明，係有鑑於以上之事態，而以提供一種在真空腔內一面將被處理物冷卻至極低溫一面可自由旋轉地作保持之保持裝置一事，作為課題。
為了解決上述課題，在真空腔1內而一面冷卻身為被處理物之基板W一面可自由旋轉地作保持之保持裝置HS，係具備有被設置有被處理物之平台1、和將平台可自由旋轉地作支持之旋轉驅動手段2、以及冷卻平台之冷卻手段3。以被設置有被處理物之平台面側作為上方，旋轉驅動手段，係具備有在真空腔之壁面處隔著第1真空密封構件22而被作貫通裝設之筒狀之旋轉軸體21、和以在平台下方區劃出空間24的方式而將旋轉軸體之上端部和平台之下面作連結之連結構件23、以及將旋轉軸體作旋轉驅動之驅動馬達25。冷卻手段，係具備有在平台下方之空間中而與該平台下面間存在有空隙地來作對向配置之冷卻面板31、和被內插於旋轉軸體中並與冷卻面板之下面作抵接之導熱軸體32、以及將導熱軸體冷卻之冷凍機33。
若依據本發明，則若是藉由被設置在真空腔外之驅動馬達來將旋轉軸體作旋轉驅動，則由於經由連結構件而被作了連結的平台係被作旋轉驅動，因此係能夠藉由平台來將被處理物可自由旋轉地作保持。於此情況，若是在平台處預先設置所謂的靜電吸盤或機械夾具，則係不 會發生在平台之旋轉中而被處理物脫離的問題。又，在平台下方之空間中，由於係與平台之下面相對向地而配置有固定之冷卻面板，因此，平台係藉由從與其相對向之冷卻面板而來的輻射而被冷卻。於此情況，由於係並非為在導熱軸體或冷卻面板處而使冷卻水循環者，因此係不會發生起因於漏出的冷卻水而對正常的處理造成損害或者是導致處理裝置自身之破損的問題。另外，在平台與冷卻面板之間之上下方向處的空隙，係因應於想要冷卻的被處理物之溫度、在處理時之對於被處理物之入熱的有無等，而適宜被作設定，又，在如同後述一般之對於被設為真空氛圍(真空隔熱)之上述空間而供給惰性氣體的情況時，係亦對於該空間之真空度(壓力)或惰性氣體(原子或分子)之平均自由行程等作考慮地而被適宜作設定。
在本發明中，較理想，係更進而具備有：第2真空密封構件，係將前述平台下方之空間從前述旋轉軸體之內部空間隔絕並能夠將該空間維持於真空氛圍；和氣體供給手段，係對於前述平台和前述冷卻面板之間的空隙供給惰性氣體，氣體供給手段係具備有使前述導熱軸體和前述冷卻面板相互通連所設置的氣體通路，氣體通路之氣體供給口係被開設在與前述平台相對向之冷卻面板的對向面上。若依據此，則除了上述由冷卻面板之輻射所致之冷卻以外，藉由起因於被供給至上述空隙處之惰性氣體與平台相碰撞一事所導致的熱交換，平台係成為更進一步被冷卻，而為有利。此時，由於惰性氣體在通過極低溫狀態之 導熱軸體和冷卻面板的期間中係被作冷卻，因此係能夠將起因於惰性氣體之衝突所導致的平台之冷卻效率作更進一步的提高。另外，為了將導熱軸體所插通之旋轉軸體之內部空間設為真空氛圍(亦即是，真空隔熱)，例如係以在旋轉軸體和冷凍機之間預先設置第3真空密封構件為理想。
於此，在通過導熱軸體與冷卻面板之間之氣體通路而將被作了冷卻的惰性氣體供給至上述空間中的情況時，氣體供給口係成為位置在平台之下面的中央區域處。另一方面，被作了冷卻的惰性氣體，係會有立即朝向下方流動的傾向，如此一來，隨著朝向平台之外緣方向，係會有惰性氣體成為並不會與平台下面相碰撞之虞。因此，在本發明中，較理想，前述平台之下面，係具備有於上下方向而反覆出現有凹凸之第1凹凸形狀，前述冷卻面板之上面，係具備有與第1凹凸形狀相對應而將前述空隙涵蓋其之全面地設為同等之第2凹凸形狀。若依據此，則若是從位於平台之下面中央區域處的氣體供給口來供給惰性氣體，則該惰性氣體係會朝向平台之外緣方向而流動，但是，此時，藉由使其跨越由冷卻面板之凹凸形狀所致之階差，係能夠直到平台之外緣為止地來確實地使惰性氣體作碰撞。
另外，當將冷卻面板和冷凍機經由特定長度之導熱軸體來作連接並設為藉由導熱來將冷卻面板冷卻的情況時，依存於導熱軸體之材質或長度，係會有起因於在 冷卻時之導熱軸體的熱收縮而導致上述間隙過度擴張並造成無法將平台藉由從冷卻面板而來之輻射而有效率地作冷卻之虞。因此，在本發明中，較理想，係更進而具備有：驅動手段，係相對於前述旋轉軸體而使前述導熱軸體和前述冷卻面板一體性地作上下移動。若依據此，則例如係可因應於導熱軸體之熱收縮來將上述空隙調節為最適當的空隙，而為有利。並且，在並不使平台作旋轉的情況時，係能夠使冷卻面板與平台下面作抵接，並有效地進行冷卻。
又，在本發明中，較理想，係在前述第1真空密封構件和前述連結構件之間中介存在有隔熱材。若依據此，則當作為第1真空密封構件而使用有兼用為旋轉軸體之軸承之磁性流體密封構件的情況時，係能夠防止該磁性流體密封構件被冷卻並破損之問題的發生。
HS‧‧‧保持裝置
W‧‧‧基板(被處理物)
Vc‧‧‧真空腔
1‧‧‧平台
11‧‧‧基台(平台之構成要素)
11a‧‧‧第
1‧‧‧凹凸形狀
12‧‧‧吸盤平板
13‧‧‧靜電吸盤用電極
2‧‧‧旋轉驅動手段
21‧‧‧旋轉軸體
21a‧‧‧內管部
21b‧‧‧外管部
21c‧‧‧隔熱材
21d‧‧‧旋轉軸體之內部空間
22‧‧‧磁性流體密封構件(第1真空密封構件)
23‧‧‧連結構件
24‧‧‧空間
25‧‧‧中空伺服馬達(驅動馬達)
3‧‧‧冷卻手段
31‧‧‧冷卻面板
31a‧‧‧第2凹凸形狀
32‧‧‧導熱軸體
33‧‧‧冷凍機
4‧‧‧蛇腹管(第2真空密封構件)
41‧‧‧外筒部
42‧‧‧內筒部
5a‧‧‧軸密封構件
5b‧‧‧軸承
6‧‧‧區隔板
61‧‧‧O形環
62‧‧‧排氣口
63‧‧‧滑動構件
7‧‧‧蛇腹管(第3真空密封構件)
81a‧‧‧氣體供給管
81b‧‧‧氣體排氣管
82a、82b‧‧‧連接口
83a、83b‧‧‧氣體通路(氣體供給手段之構成要素)
84a‧‧‧氣體供給口(氣體供給手段之構成要素)
84b‧‧‧氣體排氣口
9‧‧‧驅動手段
91、92、93、D‧‧‧空隙
[圖1]係為對於具備有本發明之實施形態的保持裝置之真空腔作部分性展示之示意性剖面圖。
[圖2]係為對於平台和冷卻面板之表面形狀作說明之立體圖。
[圖3](a)~(d)，係為對於平台和冷卻面板之間之空隙的調整手法作說明之與圖1相對應之剖面圖。
以下，參考圖面，將被處理物設為矽晶圓(以下，稱作「基板W」)，並針對在真空腔內而一面冷卻基板W一面可自由旋轉地作保持之本發明之保持裝置的實施形態作說明。於以下，係採用以圖1中所示之姿勢而使保持裝置被設置在真空腔之底面側者，上、下之類的代表方向之用語，係以圖1作為基準來作說明。
參考圖1，Vc，係為具備有本實施形態之保持裝置HS的真空腔。在真空腔Vc處，雖並未特別作圖示說明，但是，係經由排氣管而被連接有真空幫浦，並成為能夠真空抽氣至特定壓力(真空度)且作保持。又，在真空腔Vc內，係被設置有濺鍍用陰極等之進行特定之處理的圖外之處理手段，並在真空氛圍之真空腔Vc處而對於基板W進行特定之處理。而，在處理中，為了在真空腔Vc內將基板W可自由旋轉地作保持，係設置有保持裝置HS。
保持裝置HS，係具備有被設置有基板W之平台1、和將平台1可自由旋轉地作支持之旋轉驅動手段2、以及冷卻平台1之冷卻手段3。平台1，係具備有：具有與基板W相對應之輪廓，並藉由熱傳導為佳之材質(例如鋁)所構成之基台11、和在基台11之上面處隔著省略圖示之銦薄片所設置的作為介電質之吸盤平板12，並且被組裝有靜電吸盤用電極13。藉由此，係成為能夠藉由圖外之吸盤電源來進行供電並將基板W靜電吸附在平台1之上面。
旋轉驅動手段2，係具備有筒狀之旋轉軸體21。旋轉軸體21，係藉由固定之內管部21a和被同心地外插於此內管部21a處之外管部21b所構成，並以藉由後述之驅動馬達來使外管部21b成為可自由旋轉的方式，而藉由被設置在真空腔Vc之底壁開口處的作為第1真空密封構件之磁性流體密封構件22來被作支撐。在外管部21b之上端處，係被設置有筒狀之隔熱材21c，在隔熱材21c和基台11之下面外周緣部之間，係被設置有皿狀之連結構件23。藉由此，在平台1下方處，係成為藉由基台11之背面和連結構件23而被區劃出有特定之空間24。作為隔熱材21c，係可利用聚醯亞胺或FRP(Fiber-Reinforced Plastics)等之樹脂製之物、或者是使用陶瓷材。又，在位置於真空腔Vc外之旋轉軸體21的部份處，係被外插有作為驅動馬達之所謂的中空伺服馬達25，藉由中空伺服馬達25來使旋轉軸體21之外管部21b乃至於經由連結構件23而作了連結的平台1以特定之旋轉數而被作旋轉驅動。另外，驅動馬達之種類和旋轉軸體21之旋轉驅動方法，係並不被限定於此，亦可對於使用有DC馬達或齒輪等之其他的公知之方法。
冷卻手段3，係具備有在空間24內而與基台11之下面相對向並且存在有空隙D地而被作固定配置之冷卻面板31，冷卻面板31，係藉由於上下方向具有長邊的導熱軸體32而被作支持，該導熱軸體32，係被內插於旋轉軸體21之較外管部21b而更朝向下方延伸的內管部 21a中，並與該冷卻面板31之下面作抵接。冷卻面板31和導熱軸體32，係藉由熱傳導為佳之材質、例如從銅或鋁所選擇的金屬、或者是以此些之金屬作為主成分的合金等所構成，作為冷卻面板31，例如，係使用具備有與想要將基板W冷卻至的溫度相對應之面積之板狀物，作為導熱軸體32，係使用中心實心之圓棒狀之物。於此情況，係亦可將冷卻面板31之與基台11間之對向面作黑色化加工，並將冷卻面板31之與基台11相背向之面和導熱軸體32作鏡面加工。
基台11之下面，係如同圖2中所示一般，被加工為於上下方向而反覆出現有凹凸之第1凹凸形狀11a，冷卻面板31之上面，係被加工為與第1凹凸形狀11a相對應而將上述空隙D涵蓋其之全面地設為同等之第2凹凸形狀31a。又，導熱軸體32之下部，係被與將該導熱軸體32作冷卻之冷凍機33作連接。作為冷凍機33，雖並未特別作圖示說明，但是，係具備有壓縮機、冷凝機以及膨脹閥，並從圖外之熱交換機來將冷媒供給、循環至冷凍機33處而被作冷卻。另外，冷凍機33本身，由於係可利用公知之物，因此，係將更進一步之詳細的說明作省略。藉由此，係能夠將冷卻面板31藉由冷凍機33而經由導熱軸體32來冷卻至特定溫度(例如，-200℃)。
又，在存在於真空腔1內之導熱軸體32的上端部處，係被設置有將空間24和旋轉軸體21之內部空間21d作隔絕的作為第2真空密封構件之蛇腹管4。於此情 況，蛇腹管4，係以藉由吊設於連結構件23之下面處的外筒部41和在導熱軸體32處經由軸密封構件5a以及軸承5b而被作了外插的內筒部42而被作保持的方式，來作設置，當藉由中空伺服馬達25來將旋轉軸體21作了旋轉驅動時，蛇腹管4係成為與內筒部42和外筒部41一同地而亦相對於導熱軸體32作相對性旋轉。又，在位置於較旋轉軸體21之內管部21a的下端而更下方處之冷凍機33之框體部分處，朝向直徑方向外側而延伸之圓盤狀之區隔板6，係以藉由O形環61來作了氣密保持的狀態下而被作安裝，在區隔板6之上面和旋轉軸體21之內管部21a之下端面之間，係被設置有其他的蛇腹管(第3真空密封構件)7，旋轉軸體21之內部空間21d係成為被作氣密保持。於此情況，在區隔板6處係被開設有排氣口62，並成為能夠藉由圖外之真空幫浦來將內部空間21d真空抽氣至特定之壓力(真空度)而作保持。
在導熱軸體32之下端部處，係被設置有貫通區隔板6而延伸的和氣體供給管81a與氣體排氣管81b之間之連接口82a、82b，各連接口82a、82b，係分別與將導熱軸體32和冷卻面板31相互通連而設置的氣體通路83a、83b相通。又，兩氣體通路83a、83b係分別與在和基台11相對向之冷卻面板的對向面上而分別開設之氣體供給口84a與氣體排氣口84b相通。又，氣體供給管81a係經由圖外之質量流控制器而被與氣體源作連接，並成為能夠將調節為特定之流量的惰性氣體供給至空間24中。 作為惰性氣體，係使用氦氣或氬氣等之稀有氣體或氮氣。另一方面，氣體排氣管81b係被與圖外之真空幫浦作連接，而能夠在惰性氣體的導熱之前先將空間24真空抽氣至特定之壓力而將該空間24作真空隔熱，或是一面將惰性氣體導入至真空氛圍之空間24中一面進行真空排氣來使該惰性氣體作循環。又，係亦可在氣體排氣管81b，中介設置圖外之開閉閥，並在將空間24真空抽氣至特定之壓力之後，將該開閉閥作開閥，而能夠在此狀態下從氣體供給管81a來對於空間24導入惰性氣體並作封入。進而，係亦可構成為除了氣體供給管81a以外，而亦從氣體排氣管81b來導入惰性氣體。
於此，在對於真空氛圍之空間24供給惰性氣體而將平台1冷卻的情況時，基台11與冷卻面板31之間之上下方向處的空隙D，係因應於基板W的想要冷卻至之溫度、在處理時之對於被處理物之入熱的有無、並進而對於空間24內之壓力(真空度)或惰性氣體(原子或分子)之平均自由行程等作考慮，而適宜作設定。亦即是，因應於惰性氣體之種類、空間24內之壓力，空間24之熱傳導係數係被決定，因應於此，間隔D係被決定。
另外，當將冷卻面板31和冷凍機33經由於上下方向具有長邊之導熱軸體32來作連接並想要藉由導熱來將冷卻面板31冷卻的情況時，依存於導熱軸體32之材質或長度，係會有起因於在冷卻時之導熱軸體32的熱收縮而導致上述間隙D過度擴張並造成無法將平台1藉由 從冷卻面板31而來之輻射而有效率地作冷卻之虞。在本實施形態中，係設置有相對於旋轉軸體21而使冷卻手段3一體性地作上下移動之驅動手段9。驅動手段9，係在區隔板6之外周側處，於周方向上以120度之間隔而被設置有3個。各驅動手段9，係具備有相同之構成，並具備有被設置在吊設於真空腔Vc之底壁處的框架91處之驅動馬達92、和被安裝於驅動馬達92之旋轉軸處的進送螺桿93，進送螺桿93，係被與設置在區隔板6處之滑動構件63相螺合。以下，參考圖3，針對使用有驅動手段9之間隔D之調整方法作具體性說明。
首先，使各驅動手段9之驅動馬達92朝向一方向而分別旋轉，並使冷卻手段3向下一直移動至從基台11而使冷卻面板31作了分離的特定位置處(參考圖3(a))。於此情況，蛇腹管7係將相對於旋轉軸體21之冷卻手段3的相對移動量作吸收，旋轉軸體21之內部空間21d係被保持於氣密狀態。之後，僅使任意1個(圖中左側)之驅動手段9的驅動馬達92朝向另一方向旋轉，而使冷卻面板31之上面與基台11之下面作片面抵接。此時，例如係根據驅動馬達之轉矩變動，而將冷卻面板31之上面與基台11之下面作了片面抵接一事檢測出來，並在此狀態下，將任意1個的驅動手段9之驅動馬達92停止(參考圖3(b))。之後，若是將此操作針對其他之2個的驅動手段9而進行，則冷卻面板31之上面係成為與基台11之下面而涵蓋其之全面地來作了抵接的狀態(參 考圖3(c))。最後，以與所欲設定的空隙D相對應之旋轉角，來使各驅動手段9之驅動馬達92同步地朝向一方向分別作旋轉。藉由此，冷卻面板31之上面與基台11之下面之間的空隙D係涵蓋其之全面地而成為同等(參考圖3(d))。
若依據以上之實施形態，則若是藉由被設置在真空腔V外之中空伺服馬達25來將旋轉軸體21作旋轉驅動，則由於經由連結構件23而被作了連結的平台1係被作旋轉驅動，因此係能夠藉由平台1來將基板W可自由旋轉地作保持。又，在基台11下方之空間24中，由於係與基台11之下面相對向地而固定配置有冷卻面板31，因此，平台1係藉由從與其相對向之冷卻面板31而來的輻射而被冷卻。此時，冷卻面板31，係藉由從被內插於旋轉軸體21中的藉由冷凍機33來作了冷卻之導熱軸體32而來的導熱而被作冷卻，並且，藉由被供給至空隙D處之惰性氣體與平台1相碰撞一事所導致的熱交換，平台1係被作冷卻，藉由此兩者之相輔相成的效果，係成為能夠將基板W冷卻至相較於上述先前技術例中之冷卻溫度(-30℃)而更低的極低溫(例如，-200℃)。並且，由於惰性氣體在通過極低溫狀態之導熱軸體32與冷卻面板31的期間中係會被冷卻，因此，係能夠將起因於惰性氣體之碰撞所致的平台1之冷卻效率作更進一步的提高。於此情況，由於係並非為使冷卻水在導熱軸體32或冷卻面板31中而作循環者，因此，係並不會發生起因於漏出的 冷卻水而導致對於正常的處理有所損害或者是導致處理裝置自身之破損的問題。
又，由於基台11之下面係具備有於上下方向而反覆出現有凹凸之第1凹凸形狀11a，並且冷卻面板31之上面係與第1凹凸形狀11a相對應地而具備有使前述空隙D涵蓋其之全面而成為同等的第2凹凸形狀31a，因此，若是從冷卻面板31之氣體供給口84a來供給惰性氣體，則該惰性氣體係會朝向基台11之徑方向外緣方向而流動，但是，此時，藉由使其跨越由冷卻面板31之上面之凹凸形狀所致之階差，係能夠直到基台11之外緣為止地來確實地使惰性氣體作碰撞。進而，由於係設置有相對於旋轉軸體31而使冷卻手段3一體性地進行上下移動的驅動手段9，因此，例如係能夠因應於導熱軸體32之熱收縮來將空隙D調節為最適當的空隙，而為有利。並且，在並不使平台1作旋轉一般之情況時，係能夠使冷卻面板31與基台11之下面作抵接，而有效地進行冷卻。又，由於在磁性流體密封構件22和連結構件23之間係中介存在有隔熱材21c，因此，係能夠對於磁性流體密封構件22被冷卻並發生破損的問題之發生作防止。
以上，雖係針對本發明之實施形態作了說明，但是，本發明，係並不被限定於上述形態，在不脫離本發明之思想的範圍內，係可適宜作變形。在上述實施形態中，雖係將平台1以附加有靜電吸盤之功能所構成者為例來作了說明，但是，平台之構成係並不被限定於上述之 構成，而可使用其他之公知之構成，又，亦可在基台11處設置所謂的機械夾具而構成平台。又，在上述實施形態中，雖係針對在冷卻面板31和導熱軸體32處設置有用以將空間24作真空排氣之氣體通路83b或氣體排氣口84b者為例，來作了說明，但是，係並不被限定於此，例如亦可穿設連結構件23之貫通孔，並構成通過該貫通孔來將空間24內伴隨著真空腔Vc之排氣而進行真空抽氣或者是將被供給至空間24中之惰性氣體作排氣。

Claims (5)

  1. 一種保持裝置，係為在真空腔內將被處理物一面冷卻一面可自由旋轉地作保持之保持裝置，其特徵為，係具備有：平台，係被設置有被處理物；和旋轉驅動手段，係將平台可自由旋轉地作支持；和冷卻手段，係將平台冷卻，以被設置有被處理物之平台面側作為上方，旋轉驅動手段，係具備有在真空腔之壁面處隔著第1真空密封構件而被作貫通裝設之筒狀之旋轉軸體、和以在平台下方區劃出空間的方式而將旋轉軸體之上端部和平台之下面作連結之連結構件、以及將旋轉軸體作旋轉驅動之驅動馬達，冷卻手段，係具備有在平台下方之空間中而與該平台之下面間存在有空隙地來作對向配置之冷卻面板、和被內插於旋轉軸體中並與冷卻面板之下面作抵接之導熱軸體、以及將導熱軸體冷卻之冷凍機。
  2. 如申請專利範圍第1項所記載之保持裝置，其中，係更進而具備有：第2真空密封構件，係將前述平台下方之空間從前述旋轉軸體之內部空間隔絕並能夠將該空間維持於真空氛圍；和氣體供給手段，係對於前述平台和前述冷卻面板之間的空隙供給惰性氣體，氣體供給手段係具備有使前述導熱軸體和前述冷卻面板相互通連所設置的氣體通路，氣體通路之氣體供給口係被開設在與前述平台相對向之冷卻面板的對向面上。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之保持裝置，其中，前述平台之下面，係具備有於上下方向而反覆出現有凹凸之第1凹凸形狀，前述冷卻面板之上面，係具備有與第1凹凸形狀相對應而將前述空隙涵蓋其之全面地設為同等之第2凹凸形狀。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之保持裝置，其中，係更進而具備有：驅動手段，係相對於前述旋轉軸體而使前述導熱軸體和前述冷卻面板一體性地作上下移動。
  5. 如申請專利範圍第1項或第2項所記載之保持裝置，其中，係在前述第1真空密封構件和前述連結構件之間中介存在有隔熱材。
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