TWI649603B - 畫素結構、顯示面板及曲面顯示裝置 - Google Patents

畫素結構、顯示面板及曲面顯示裝置 Download PDF

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Abstract

本發明提供一種畫素結構，其包括第一基板、掃描線、資料線、主動元件、畫素電極以及導電條狀圖案。掃描線與資料線位於第一基板上。主動元件與掃描線以及資料線電性連接。畫素電極與主動元件電性連接。導電條狀圖案對應設置在資料線的上方，其中導電條狀圖案具有開口，且開口垂直投影於第一基板上與資料線至少部份重疊。

Description

畫素結構、顯示面板及曲面顯示裝置
本發明是有關於一種畫素結構，且特別是有關於一種具有上述畫素結構的顯示面板及一種曲面顯示裝置。
隨著科技的進步，顯示器的技術也不斷地發展。輕、薄、短、小的平面顯示器（Flat Panel Display, FPD）逐漸取代傳統厚重的陰極映像管顯示器（Cathode Ray Tube, CRT）。如今，由於平面顯示器的輕薄特性，平面顯示器更被配置到許多建築物或電子設備的非平面的表面上。為了要配合非平面的表面，顯示面板亦要跟著具有些許弧度，故曲面顯示面板亦被提出。其中，可達到平面與彎曲共用的顯示面板逐漸受到注目。
然而，在液晶顯示面板之上下二基板於對位及/或彎曲後，由於上下二基板彎曲時受到的應力不同，使上下二基板之間彼此相對錯位，會使得黑色矩陣(black matrix)皆會遮住原本設計的開口區，即黑色矩陣皆會遮住掃描線、資料線與至少一部份的畫素電極，而讓開口率下降，更導致位於資料線周邊的液晶因為電場竄出、導向不好而造成漏光(light leakage)。除此之外，由於液晶顯示面板彎曲後的每個位置所受到的應力不同，上下二基板錯位的程度也不一致，亦會造成面板亮度不均(Mura)以及對比下降(Low contract)的問題。
本發明提供一種畫素結構、一種顯示面板以及一種曲面顯示裝置，除了避免因上下基板錯位所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題外，可降低電阻電容負載，提升顯示品質。
本發明提供一種畫素結構，其包括第一基板、掃描線、資料線、主動元件、畫素電極以及導電條狀圖案。掃描線與資料線位於第一基板上。主動元件與掃描線以及資料線電性連接。畫素電極與主動元件電性連接。導電條狀圖案對應設置在資料線的上方，其中導電條狀圖案具有開口且其垂直投影於該第一基板上與該資料線至少部份重疊。
本發明另提供一種顯示面板，其包括第一基板、畫素陣列、第二基板、電極膜以及液晶層。畫素陣列位於第一基板上，且畫素陣列包括多個畫素結構，且每一畫素結構包括掃描線、資料線、主動元件、畫素電極以及導電條狀圖案。其中，主動元件與掃描線以及資料線電性連接，畫素電極與主動元件電性連接，導電條狀圖案對應設置在資料線的上方，且導電條狀圖案具有開口，且其垂直投影於該第一基板上與該資料線至少部份重疊。第二基板位於第一基板的對向側。電極膜位於第二基板上，其中電極膜被施予的電壓與每一畫素結構之導電條狀圖案被施予的電壓相同。液晶層位於第一基板與第二基板之間。
本發明再提供一種曲面顯示裝置，其包括前述之顯示面板、背光模組以及彎曲裝置。背光模組位於顯示面板的一側。彎曲裝置固定顯示面板以及背光模組，以使得顯示面板以及背光模組具有彎曲曲度。
基於上述，本發明的畫素結構與顯示面板藉由將導電條狀圖案對應設置在資料線的上方並具有開口，且其垂直投影於第一基板上與資料線至少部份重疊，除了避免因上下基板錯位所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題外，同時可減少導電條狀圖案與資料線之間的重疊區域，使得導電條狀圖案與資料線之間的寄生電容降低，進而減少電阻電容負載，以確保顯示品質與穿透率。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1為本發明一實施例之顯示面板的剖面示意圖。請先參照圖1，顯示面板10包括第一基板100、畫素陣列200、第二基板300、電極膜400以及液晶層500。
第一基板100之材質可為玻璃、石英、有機聚合物、或是不透光/反射材料(例如：導電材料、金屬、晶圓、陶瓷、或上述材料的組合)、或是其它可適用的材料，本發明不以此為限。若使用導電材料或金屬時，則在第一基板100上覆蓋一層絕緣層(未繪示)，以避免短路問題。第一基板100上包括設置有畫素陣列200，畫素陣列200包括多個畫素結構(未繪示)，詳細的畫素陣列200之結構將於後續段落說明。
第二基板300是設置在第一基板100的對向側。第二基板300之材質可為玻璃、石英或有機聚合物等等。具體來說，當第一基板100的材質不為金屬時，第二基板300的材質可以與第一基板100的材質相同或不同。此外，本實施例不限定彩色濾光膜(未繪示)與黑色矩陣(black matrix，未繪示)是設置於第一基板100上或是設置於第二基板300上，本發明所屬領域中具有通常知識者可示需求選擇。
電極膜400設置於第二基板300上，且電極膜400位於第一基板100以及第二基板300之間。電極膜400為透明導電層，其材質包括金屬氧化物，例如是銦錫氧化物或者是銦鋅氧化物。電極膜400是全面地覆蓋於第二基板300上，即電極膜400是全面地覆蓋第一基板100上的畫素結構P或者是圖案化的設置於第二基板300上，即每個圖案化電極膜400與第一基板100所對應的畫素結構P重疊。在本實施例中，電極膜400較佳為全面地覆蓋於第二基板300上為範例，但並不限於此。電極膜400連接至一共用電壓（Vcom ），且當一個不同於共用電壓Vcom 的畫素電壓(Vp )被施加於畫素陣列200時，畫素陣列200以及電極膜400之間會產生垂直電場，以驅動在畫素陣列200以及對向電極層400之間的液晶層500。
液晶層500位於第一基板100與第二基板300之間。液晶層500其可包括液晶分子、電泳顯示介質、或是其它可適用的介質。在本發明下列實施例中的液晶層500係以液晶分子當作範例，但不限於此。
圖2A是圖1的實施例之畫素陣列的上視示意圖。圖2B是圖2A的實施例之畫素陣列的局部上視示意圖。圖3為沿著圖2A的剖面線AA’之顯示面板的剖面示意圖。請同時參照圖1以及圖2A，畫素陣列200位於第一基板100上，且畫素陣列200上方覆蓋有液晶層500。畫素陣列200由多個畫素結構P構成。該些畫素結構P之至少一部份的設計將參照圖2A、圖2B以及圖3於下文中詳細地描述。為了清楚地說明本實施例，圖2A僅繪示出畫素陣列200中的2×2個畫素結構P之陣列，且為清楚起見，是以一個畫素結構P為例進行說明，本發明所屬領域中具有通常知識者應可以理解，圖1之畫素陣列200實際上是由多個畫素結構P排成之陣列所構成。
如圖2A所示，該些畫素結構P至少一部份包括掃描線SL、資料線DL、主動元件T、畫素電極PE以及導電條狀圖案250。
請參照圖2A與圖3，掃描線SL與資料線DL彼此交越設置於第一基板100上，且形成一交錯區X。換言之，掃描線SL的延伸方向與資料線DL的延伸方向不相同，較佳的是掃描線SL的延伸方向與資料線DL的延伸方向垂直。其中，掃描線SL與資料線DL是分別位於不相同的膜層，且兩者之間夾有絕緣層（未繪示）。掃描線SL以及資料線DL主要用來傳遞驅動畫素結構P的驅動訊號。基於導電性的考量，掃描線SL與資料線DL一般是使用不透光的金屬材料，然本發明不限於此。根據其他實施例，掃描線SL與資料線DL也可以使用其他不透光的導電材料，其例如是包括合金、金屬氧化物、金屬氮化物、金屬氮氧化物或是金屬材料與其它導電材料的堆疊層。
請同時參照圖2A以及圖3，該些畫素結構P至少一部份中的主動元件T是與所對應的至少一條掃描線SL以及所對應的至少一條資料線DL電性連接。在本實施例中，主動元件T例如包括閘極G、通道層CH、汲極D以及源極S。具體來說，閘極G與掃描線SL電性連接，絕緣層210位於閘極G的上方，通道層CH位於絕緣層210的上方且對應於閘極G，源極S以及汲極D位於通道層CH的上方，且源極S與資料線DL電性連接。因此，當有控制訊號電壓輸入掃描線SL時，掃描線SL與閘極G之間會電性導通；當有資料訊號電壓輸入資料線DL時，資料線DL會與源極S電性導通。本實施例之主動元件電性T是以底部閘極型薄膜電晶體為例來說明，但本發明不限於此。在其他實施例中，主動元件T也可以是頂部閘極型薄膜電晶體，例如：通道層CH位於閘極G下方，且通道層CH與閘極G夾設有絕緣層210，或是其它合適類型的薄膜電晶體。此外，閘極G例如是位於與掃描線SL相同的膜層，而汲極S以及源極D例如是位於與資料線DL相同的膜層。換言之，絕緣層210是位於第一金屬層(即：閘極G與掃描線SL)與第二金屬層(即：源極S、汲極D與資料線DL)之間。在一實施例，閘極G的材質例如是金屬、金屬氧化物、有機導電材料或上述之組合；且通道層CH的材質例如是非晶矽、多晶矽、微晶矽、單晶矽、有機半導體材料、氧化物半導體材料(例如：銦鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或是其它合適的材料、或上述之組合)、或其它合適的材料、或含有摻雜物(dopant)於上述材料中、或上述之組合，本發明不以此為限。絕緣層210的材料包含無機材料(例如：氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、其它合適的材料、或上述之組合)、有機材料(例如：光阻、聚醯亞胺(polyimide， PI)、苯並環丁烯(BCB)、環氧樹脂(Epoxy)、過氟環丁烷(PFCB)、其它合適的材料、或上述之組合)、或其它合適的材料、或上述之組合。
請同時參照圖2A以及圖3，畫素電極PE與主動元件T電性連接。具體來說，第一保護層220（繪示於圖3）位於主動元件T上且具有接觸窗C，其中畫素電極PE藉由接觸窗C與主動元件T的汲極D電性連接。舉例而言，本實施例之畫素電極PE具有主體部260以及與主體部260連接的多個條狀部262（繪示於圖2A）。條狀部262是由主體部260往至少四個方向延伸。換言之，條狀部262是由主體部260往四周延伸至畫素電極PE的邊緣處，以形成魚骨狀圖案並定義出至少四個配向區域（domain region）。另一方面，相鄰的兩個條狀部162之間定義出狹縫264。於其它實施例中，主體部260約為X形或十字形，且條狀部262由主體部260往至少四個方向延伸，且狹縫264位於二相鄰的條狀部262之間。據此，藉由畫素電極PE連接至畫素電壓Vp 以及電極膜400連接共用電壓Vcom ，使得畫素電極PE以及電極膜400之間產生電壓差，用以驅動液晶層500，使液晶層500具有不同的傾倒方向。在一實施例中，畫素電極PE的材質例如是穿透式畫素電極、反射式畫素電極或是半穿透半反射式畫素電極。穿透式畫素電極之材質包括金屬氧化物(例如是銦錫氧化物、銦鋅氧化物、鋁錫氧化物、鋁鋅氧化物、銦鍺鋅氧化物、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層)、奈米碳管/桿、有機導電材料、或其它合適的氧化物、或者是上述至少二者之堆疊層。反射式畫素電極之材質包括具有高反射率的金屬材料，本發明不以此為限。第一保護層220的材料包含無機材料(例如：氧化矽、氮化矽、氮氧化矽、其它合適的材料、或上述之組合)、有機材料(例如：光阻、聚醯亞胺(polyimide， PI)、苯並環丁烯(BCB)、環氧樹脂(Epoxy)、過氟環丁烷(PFCB)、其它合適的材料、或上述之組合)、或其它合適的材料、或上述之組合。再者，資料線DL的上方不存在遮光層(即黑色矩陣)，遮光層(即黑色矩陣)僅存在於掃描線SL上方，即遮光層(即黑色矩陣)與該掃描線至少部份重疊，而彩色濾光層位於前述畫素結構中。
請參照圖2A，導電條狀圖案250對應設置在資料線DL的上方，其中導電條狀圖案250具有開口258(或稱為間隔(gap))，且開口258垂直投影於第一基板100上與資料線DL至少部份重疊，即導電條狀圖案250垂直投影於第一基板100上未覆蓋資料線DL至少一部份。換言之，此時開口258暴露出資料線DL。本實施例的導電條狀圖案250包括延伸部254以及橋接部256，且延伸部254沿著資料線DL的延伸方向(即：第二方向D2)延伸，橋接部256沿著掃描線SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸。於其它實施例中，資料線DL的延伸方向(第一方向D1)延伸，掃描線SL延伸方向(第二方向D2)延伸，則導電條狀圖案250的延伸部254沿著資料線DL的延伸方向(第一方向D1)延伸，橋接部256沿著掃描線SL的延伸方向(第二方向D2)延伸。
請再同時參考圖2A與圖3，具體來說，導電條狀圖案250的延伸部254具有第一延伸部254a以及第二延伸部254b，其中第一延伸部254a與第二延伸部254b分別配置於資料線DL的兩側而與資料線DL部份重疊。換言之，導電條狀圖案250位於資料線DL的上方，其中導電條狀圖案250具有位於延伸部254中的第一延伸部254a以及第二延伸部254b之間的開口258，其垂直投影於第一基板100上與資料線DL至少部份重疊，即導電條狀圖案250垂直投影於第一基板100上未覆蓋資料線DL至少一部份。換言之，部分資料線DL被開口258所暴露出來。也就是說，藉由開口258的設置，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分別有部份區域不與資料線DL重疊，即第一延伸部254a以及第二延伸部254b會分隔開來。導電條狀圖案250藉由僅與資料線DL部分重疊，因此減少導電條狀圖案250與資料線DL的重疊區域，進而降低導電條狀圖案250與資料線DL之間的寄生電容。導電條狀圖案250與電極膜400皆連接至同一共同電壓Vcom (即：導電條狀圖案250以及電極膜400被施予相同的電壓)，且前述之第一延伸部254a以及第二延伸部254b是分別位於資料線的兩側(如圖3所示)，因此可達到保持資料線DL周邊的電場穩定，進而避免因第一基板100與第二基板300彼此錯位使液晶倒向不佳所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題。再者，因前述之設計，遮光層(即黑色矩陣)不存在資料線DL上，但遮光層(即黑色矩陣)存在於掃描線SL上方，可減少第一基板100與第二基板300對組/彎曲時，因位移所造成的漏光影響。再者，遮光層(即黑色矩陣)及/或彩色濾光層可設置於第一基板100或第二基板300上。
此外，在本實施例中，該些畫素結構P至少一部份具有第一區域107，其垂直投影於第一基板100上與掃描線SL以及交錯區X重疊，其中導電條狀圖案250的橋接部256，較佳地，對應設置在第一區域107內。舉例而言，第一區域107是具有掃描線SL與導電條狀圖案250的區域，例如：掃描線SL與導電條狀圖案250的橋接部256至少部份重疊以及延伸部254部份重疊。藉此，導電條狀圖案250的延伸部254的第一延伸部254a以及第二延伸部254b通過橋接部256彼此連結，使得資料線DL周邊電場具有更佳的均勻性。另外，由於導電條狀圖案250的橋接部256是沿著掃描線SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸，因此除了電性連結位於同一畫素結構內的第一延伸部254a以及第二延伸部254b外，其亦可電性連結位於其延伸方向上的其它畫素結構的第一延伸部254a以及第二延伸部254b，使畫素陣列200中的每一畫素結構中的導電條狀圖案250具有相同的共同電壓。其中，導電條狀圖案250是位於與畫素電極PE之相同的膜層，如考慮製成簡便性，導電條狀圖案250與畫素電極PE可以是具有相同材料，或於同一道製程形成，但不限於此。
圖2B是圖2A的畫素結構P之局部(包括交錯區X)的放大上視示意圖。請參照圖2B，資料線DL具有寬度Wd ，延伸部254具有寬度W2，第一延伸部254a與第二延伸部254b分別具有寬度W3，開口258具有寬度Wg 。為了避免導電條狀圖案250於製作過程時的位移，寬度W2較佳為符合W2=(2*W3)+Wg ，且開口258的寬度Wg 小於資料線DL的寬度Wd 。在本實施例中，舉例而言，資料線DL的寬度Wd 例如具有約14微米，其中第一延伸部254a與資料線DL的重疊區域之寬度例如為約2微米，且第二延伸部254b與資料線DL的重疊區域之寬度例如為約2微米，但本發眀不以此為限。
請再參照圖2A以及圖3，本實施例之畫素結構P更包括屏蔽金屬層SH，其中屏蔽金屬層SH位於畫素電極PE與資料線DL之間。在本實施例中，屏蔽金屬層SH例如是與導電條狀圖案250電性連接致同一共同電壓Vcom 。具體來說，屏蔽金屬層SH連接至共同電壓Vcom 且位於資料線DL與畫素電極PE之間，故能遮蔽資料訊號電壓輸入資料線DL時對畫素電極PE所產生的電性影響，使畫素電極PE的電場不會受到干擾，以提升畫面顯示均勻度，確保顯示品質。另一方面，由於屏蔽金屬層SH與畫素電極PE部份重疊，故可與畫素電極PE耦合以形成儲存電容器(未標示)。屏蔽金屬層SH與資料線DL、閘極G以及掃描線SL彼此分隔開來。如圖3所示，本實施例中的屏蔽金屬層SH例如是與掃描線SL位於相同膜層，而與資料線DL位於不同膜層為例，因此絕緣層210是位於第一金屬層(即：閘極G、掃描線SL與屏蔽金屬層SH)與第二金屬層(即：源極S、汲極D與資料線DL)之間，然本發明不限於此。在其他實施例中，屏蔽金屬層SH也可以與資料線DL位於相同膜層，而與掃描線SL與位於不同膜層。
此外，承上述，本發明不限定橋接部256設置在第一區域107內；在另一實施例中，導電條狀圖案250的橋接部256亦可以是對應設置在第一區域107外。圖4是本發明另一實施例之畫素陣列的上視示意圖。如圖4所示，圖4之畫素陣列與上述圖2A之畫素陣列200相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符號表示，不再重複說明。圖4A之實施例與圖2A之實施例間的主要差異處在於，圖4的導電條狀圖案250的橋接部256是對應設置在第一區域107的外側。具體來說，圖4的導電條狀圖案250的橋接部256位於屏蔽金屬層SH與掃描線SL之間，即屏蔽金屬層SH與第一區域107之間。換言之，導電條狀圖案250的橋接部256不與掃描線SL重疊，但橋接部256於交錯區X及其附近與部份的資料線DL重疊。此外，導電條狀圖案250的橋接部256可以選擇性的與掃描線SL同層，或者橋接部256一部份與另一部份可分別從掃描線SL、資料線DL與畫素電極PE其中至少二者同層。藉由此設置，可進一步降低導電條狀圖案250與掃描線SL之間的寄生電容。
如上所述，本發明的畫素結構以及顯示面板將導電條狀圖案對應設置在資料線的上方，除了避免因上下二基板錯位所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題外，更同時藉由開口的設置，可減少導電條狀圖案與資料線之間的重疊區域，使得導電條狀圖案與資料線之間的寄生電容降低，進而減少電阻電容負載，以確保顯示品質與穿透率。
圖5A是本發明另一實施例之畫素陣列的上視示意圖。如圖5A所示，圖5A之畫素陣列200’與上述圖2A之畫素陣列200相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符號表示，且不再重複說明。圖5A之實施例與圖2A之實施例主要差異處在於，其為導電條狀圖案的另一種實施態樣。具體來說，相較於圖2A之畫素結構P的導電條狀圖案250，圖5A的導電條狀圖案250’更包括連接部252，且位於第一區域107內。詳細而言，連接部252是位於資料線DL與掃描線SL之交錯區Y，其為第一區域107之一部份。如圖5B之交錯區Y內的資料線DL具有寬度Wd1 ，其餘部份的資料線DL具有寬度Wd ，即交錯區Y之外資料線DL具有寬度Wd ，寬度Wd1 小於寬度Wd 且大於4微米。
請參考圖5A，導電條狀圖案250’包括連接部252、延伸部254、橋接部256以及開口258，其中導電條狀圖案250’的連接部252以及延伸部254沿著資料線DL的延伸方向(即：第二方向D2)延伸，橋接部256沿著掃描線SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸。其它實施例之延伸方向與設計可查閱前述描述來加以變更。導電條狀圖案250’的連接部252以及橋接部256對應設置在位於第一區域107內，且連接部252位於具有寬度Wd1 的資料線DL之上，導電條狀圖案250’的延伸部254位於具有寬度Wd 的資料線DL之上，且開口258垂直投影於該第一基板100上與資料線DL至少部份重疊，即導電條狀圖案250垂直投影於第一基板100上未覆蓋資料線DL至少一部份。換言之，開口258位於延伸部254內並暴露出資料線DL。
具體來說，導電條狀圖案250’的延伸部254具有第一延伸部254a以及第二延伸部254b，其中第一延伸部254a與第二延伸部254b分別配置於資料線DL的兩側而與資料線DL部份重疊。換言之，導電條狀圖案250’位於資料線DL的上方，其中導電條狀圖案250’具有位於延伸部254中的第一延伸部254a以及第二延伸部254b之間的開口258，使得部份的資料線DL未被第一延伸部254a以及第二延伸部254b所遮蔽，即僅部分資料線DL被開口258所暴露。也就是說，藉由開口258的設置，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分別有部份不與資料線DL重疊(於垂直於第一基板方向上)，可減少導電條狀圖案250’與資料線DL的重疊區域，且再藉由縮窄位於第一區域107(即交錯區Y)中的資料線DL的線寬，可進一步減少導電條狀圖案250’(即：連接部252))與資料線DL在第一區域107內的重疊區域，進而大幅度地降低導電條狀圖案250’與資料線DL之間的寄生電容。又，導電條狀圖案250’是連接至電極膜400所連接之共同電壓Vcom (即：導電條狀圖案250’以及電極膜400被施予相同的電壓)，且前述之不與資料線DL重疊的部份第一延伸部254a以及第二延伸部254b是分別位於資料線的兩側，因此可達到保持資料線周邊的電場穩定，避免因第一基板100與第二基板300錯位時液晶倒向不佳所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題。
另外，本實施例的延伸部254例如是與連接部252連接，且連接部252例如是與橋接部256連接，且連接部252與橋接部256皆是位於第一區域107內，如圖5A所示，然本發明不以此為限。在其它實施例中，延伸部254例如是與連接部252連接，而延伸部254例如是與橋接部256連接，即連接部252位於第一區域107內，而橋接部256可選擇性地位於第一區域107內或第一區域107內的外側。藉此，導電條狀圖案250’的延伸部254的第一延伸部254a以及第二延伸部254b彼此電性連結，可更進一步地加強資料線DL周邊的電場的均勻性。另外，由於導電條狀圖案250’的橋接部256是沿著掃描線SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸，因此除了電性連結位於同一畫素結構內的第一延伸部254a以及第二延伸部254b外，其亦可電性連結位於其延伸方向上的其它畫素結構的第一延伸部254a以及第二延伸部254b，使畫素陣列200’中的每一畫素結構P’中的導電條狀圖案250’具有相同的共同電壓Vcom 。
圖5B是圖5A的實施例之畫素結構的局部放大上視示意圖。具體來說，圖5B是圖5A的畫素結構P’之局部(包含交錯區Y)的放大上視示意圖。請參照圖5B，導電條狀圖案250’的連接部252具有寬度W1，延伸部254具有寬度W2，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分別具有寬度W3，開口258具有寬度Wg ，其中W2=(2*W3)+Wg ，寬度W1小於寬度W2，寬度W1大於寬度W3，且開口258的寬度Wg 小於資料線DL的寬度Wd 。在本實施例中，導電條狀圖案250’的連接部252的寬度W1例如是大於寬度Wd1 ，然本發明不限於此。在一實施例中，導電條狀圖案250’的連接部252的寬度W1例如是等於寬度Wd1 。其中，導電條狀圖案250’是位於與畫素電極PE之相同的膜層，故導電條狀圖案250’與畫素電極PE具有相同材料。
如上所述，本發明的畫素結構以及顯示面板將導電條狀圖案對應設置在資料線的上方，除了避免因上下基板錯位所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題外，更同時藉由開口以及縮窄部份資料線DL之線寬的設置，可大幅度地減少導電條狀圖案與資料線之間的重疊區域，使得導電條狀圖案與資料線之間的寄生電容降低，進而減少電阻電容負載，以確保顯示品質與穿透率。
為了證明本實施例之顯示面板的設計確實具有較佳的光穿透率，特以數個實驗條件進行實驗來做驗證。請參照下方表1，其分別以樣本1至樣本3進行資料線與其上方電極層之間的寄生電容值之量測。樣本1為使用如圖2A之畫素陣列的顯示面板(即：導電條狀圖案250)、樣本2為使用如圖5A之畫素陣列的顯示面板(即：導電條狀圖案250’)以及樣本3為使用本發明之對照實施例的顯示面板(請參照圖6)。
詳言之，圖6為沿著剖面線AA’之對照實施例的顯示面板的剖面示意圖，其中剖面線AA’的位置標示於圖2A。圖6的顯示面版與圖3的顯示面版10(具有圖2A之畫素陣列)相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符號表示，不再重複說明。更具體的說，圖6之對照實施例與圖3之實施例之間的主要差異處在於，繪示於圖6中的導電條狀圖案600不具有暴露出資料線DL的開口258，即導電條狀圖案600與資料線DL重疊(於垂直第一基板方向上)。也就是說，圖6所示之顯示面版中的導電條狀圖案600是全面地覆蓋於資料線DL上方。其中，樣本1~3的設計，遮光層與掃描線SL至少部份重疊，但遮光層不存在於該資料線DL上方或下方。
表1
由表1可知，相較於本發明之對照實施例的顯示面板（樣本3），本發明之顯示面板（樣本1以及樣本2）確實有效地降低資料線與其上方電極層之間的寄生電容值，且以樣本2最佳。
圖7A以及圖7B為本發明另一實施例之顯示面板的剖面示意圖。具體來說，圖7A與圖7B分別為沿著剖面線AA’以及剖面線BB’之顯示面板的剖面示意圖，其中剖面線AA’以及剖面線BB’的位置標示於圖2A。如圖7A以及圖7B所示，繪示於圖7A以及圖7B中的顯示面板11與上述圖3的顯示面板10相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符號表示，且不再重複說明。此外，若第一基板與第二基板100與300對組之精準度可提高，則之前省略的遮光層(黑色矩陣)仍可被使用。因此，圖7A以及圖7B之實施例與圖3之實施例主要差異處在於，圖7A以及圖7B的顯示面板11更包括遮光層(即黑色矩陣)LB以及彩色濾光層230。
更具體來說，圖7A與圖7B進一步繪示出掃描線SL、資料線DL、屏蔽金屬層SH、遮光層LB、彩色濾光層230以及導電條狀圖案250之間的配置關係。
請同時參照圖7A以及圖7B，遮光層LB，與各畫素結構P之掃描線SL及/或資料線DL至少部份重疊，且彩色濾光層230，位於各畫素結構P。舉例而言，遮光層LB位於第二基板300上，且遮光層LB與每一畫素結構P之掃描線SL以及資料線DL重疊設置。更具體的說，遮光層LB位於第二基板300以及電極膜400之間，且遮光層LB例如是多個遮光圖案。其中，如圖7A所示，每一遮光圖案分別對應一個畫素結構P中的資料線DL重疊設置並沿著所對應之資料線DL的延伸方向延伸；且如圖7B所示，每一遮光圖案分別對應一個畫素結構P中的掃描線SL重疊設置並沿著所對應之掃描線SL的延伸方向延伸。換言之，遮光層LB例如是多個遮光圖案，且上述遮光圖案排列呈網格狀以覆蓋於掃描線SL以及資料線DL上方。因此，藉由遮光層LB的設置，可更減少畫素結構P之漏光問題的發生，進而確保顯示品質。然，本發明不以此為限，在另一實施例中，遮光層LB例如可以僅被配置於掃描線SL上方或資料線DL上方。
此外，彩色濾光層230位於第一基板100上。如圖7A與圖7B所示，彩色濾光層230位於第一保護層220與第二保護層240之間。其中，藉由第一保護層220的設置，彩色濾光層230與位於下方的掃描線SL、資料線DL以及屏蔽金屬層SH電性絕緣，並藉由第二保護層240的設置，彩色濾光層230與導電條狀圖案250的連接部256以及畫素電極PE電性絕緣。更明確地說，彩色濾光層230是以第一保護層220與位於下方的主動元件T電性絕緣並以第二保護層240與位於上方的導電條狀圖案250以及畫素電極PE電性絕緣，以確保顯示面板的顯示品質。第二保護層240的材料可選自第一保護層220所述的材料，且二者之材料可實質上相同或不同。
圖8是本發明一實施例的曲面顯示裝置的示意圖。請參照圖8，曲面顯示裝置1000包括顯示面板10、背光模組20以及彎曲裝置30。顯示面板10可以是前述各實施例所述之顯式面板，且背光模組20配置在顯示面板10的背面。詳細來說，背光模組20可以同時具有光源以及導光板或是只具有光源。當背光模組20同時具有光源以及導光板時，光源可以設置在導光板的側邊，且由光源射出的光能夠藉由導光板的引導而入射到顯示面板10中。當背光模組20只具有光源時，光源可以直接配置在顯示面板10的背面，使得光源射出的光不需藉由導光板的引導而直接入射到顯示面板10中。另一方面，將彎曲裝置30設置在背光模組20的背面，以固定顯示面板10以及背光模組20，使其具有一彎曲曲度。藉此，使得顯式面板10形成彎曲狀的顯式面板。其中，框架31以及螺桿32的材質可為具有延展性的金屬。如圖8所示，本實施中的彎曲裝置30包括框架31以及螺桿32，然發本明不限於此。在另一實施例中，本實施中的彎曲裝置30可以是僅具有框架31。除此之外，曲面顯示裝置1000還可具有背板40，以固定螺桿32。曲面顯示裝置1000另具有封裝材50與背板40連接。其中，本實施例的彎曲顯示裝置1000的曲率中心位於顯示面板10之外側，即顯示面板10呈現內彎(內凹)。於其它實施例中，彎曲顯示裝置1000的曲率中心位於背板40之外側，即顯示面板10呈現外凸(外彎)。
綜上所述，本發明的畫素結構與顯示面板藉由將導電條狀圖案對應設置在資料線的上方並具有暴露出資料線的開口的設置，除了避免因上下基板錯位所導致的漏光、面板亮度或是對比度不均等問題外，同時可減少導電條狀圖案與資料線之間的重疊區域，使得導電條狀圖案與資料線之間的寄生電容降低，進而減少電阻電容負載，以確保顯示品質與穿透率。
除此之外，本發明的畫素結構與顯示面板藉由縮窄位於資料線與掃描線之交錯區內的資料線的線寬，可更加地減少導電條狀圖案與資料線的重疊區域，進一步降低導電條狀圖案與資料線之間的寄生電容，確保顯示品質與穿透率。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10、11‧‧‧顯示面板
20‧‧‧背光模組
30‧‧‧彎曲裝置
31‧‧‧框架
32‧‧‧螺桿
40‧‧‧背板
50‧‧‧封裝材
100‧‧‧第一基板
107‧‧‧第一區域
200、200’‧‧‧畫素陣列
210‧‧‧絕緣層
220‧‧‧第一保護層
230‧‧‧彩色濾光層
240‧‧‧第二保護層
250、250’、600‧‧‧導電條狀圖案
252‧‧‧連接部
254‧‧‧延伸部
254a‧‧‧第一延伸部
254b‧‧‧第二延伸部
256‧‧‧橋接部
258‧‧‧開口
260‧‧‧主體部
262‧‧‧條狀部
264‧‧‧狹縫
300‧‧‧第二基板
400‧‧‧電極膜
500‧‧‧液晶層
1000‧‧‧曲面顯示裝置
AA’、BB’‧‧‧剖面線
C‧‧‧接觸窗
CH‧‧‧通道層
D‧‧‧汲極
D1‧‧‧第一方向
D2‧‧‧第二方向
DL‧‧‧資料線
G‧‧‧閘極
LB‧‧‧遮光層
P、P’‧‧‧畫素結構
PE‧‧‧畫素電極
S‧‧‧源極
SH‧‧‧屏蔽金屬層
SL‧‧‧掃描線
T‧‧‧主動元件
Vcom ‧‧‧共通電壓
VP ‧‧‧畫素電壓
Wd 、Wd1 、Wg 、W1、W2、W3‧‧‧寬度
X、Y‧‧‧交錯區
圖1為本發明一實施例之顯示面板的剖面示意圖。 圖2A是圖1的實施例之畫素陣列的上視示意圖。 圖2B是圖2A的實施例之畫素陣列的局部上視示意圖。 圖3為沿著圖2A的剖面線AA’之顯示面板的剖面示意圖。 圖4是本發明另一實施例之畫素陣列的上視示意圖。 圖5A是本發明另一實施例的之畫素陣列的上視示意圖。 圖5B是圖5A的實施例之畫素陣列的局部上視示意圖。 圖6是本發明一對照實施例之顯示面板的剖面示意圖。 圖7A以及圖7B為本發明另一實施例之顯示面板的剖面示意圖。 圖8是本發明一實施例的曲面顯示裝置的示意圖。

Claims (13)

  1. 一種顯示面板，包括：一第一基板；一畫素陣列，位於該第一基板上，該畫素陣列包括多個畫素結構，且該些畫素結構至少一部份包括：一掃描線以及一資料線；一主動元件，與該掃描線以及該資料線電性連接；一畫素電極，與該主動元件電性連接；以及一導電條狀圖案，對應設置在該資料線的上方，其中該導電條狀圖案具有一開口，且該開口垂直投影於該第一基板上與該資料線至少部份重疊；一第二基板，位於該第一基板的對向側；一電極膜，位於該第二基板上，其中該電極膜被施予的電壓與每一畫素結構之該導電條狀圖案被施予的電壓相同；以及一液晶層，位於該第一基板與該第二基板之間，其中該些畫素結構至少一部份更包含一屏蔽金屬層，位於該畫素電極與該資料線之間，其中該屏蔽金屬層與該掃描線屬於同一膜層。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的顯示面板，其中每一畫素結構之該導電條狀圖案包括：一連接部；以及一延伸部，與該連接部連接，其中該開口位於該延伸部。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的顯示面板，其中該些畫素結構至少一部份具有一第一區域，該第一區域垂直投影於該第一基板上與該掃描線重疊，其中該導電條狀圖案之該連接部對應設置在該第一區域。
  4. 如申請專利範圍第3項所述的顯示面板，其中該資料線與該掃描線於該第一區域具有重疊處，該資料線於該重疊處的線寬較資料線與該掃描線未重疊處小。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項其中之一所述的顯示面板，更包括：一遮光層，與該掃描線至少部份重疊，且該遮光層不存在於該資料線上方或下方。
  6. 如申請專利範圍第1項至第4項其中之一所述的顯示面板，更包括：一遮光層，與各該畫素結構之該掃描線及/或該資料線至少部份重疊。
  7. 一種曲面顯示裝置，包括：一顯示面板，如申請專利範圍第1項所述；一背光模組，位於該顯示面板的一側；以及一彎曲裝置，固定該顯示面板以及該背光模組具有一彎曲曲度。
  8. 一種畫素結構，包括：一掃描線以及一資料線位於一第一基板；一主動元件，與該掃描線以及該資料線電性連接；一畫素電極，與該主動元件電性連接；以及一導電條狀圖案，對應設置在該資料線的上方，其中該導電條狀圖案具有一開口，且該開口垂直投影於該第一基板上與該資料線至少部份重疊，其中該導電條狀圖案與該畫素電極的材料相同且屬於同一膜層。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的畫素結構，更包含一屏蔽金屬層，位於該畫素電極與該資料線之間。
  10. 如申請專利範圍第8項所述的畫素結構，其中該導電條狀圖案包括：一連接部；以及一延伸部，與該連接部連接，其中該開口位於該延伸部。
  11. 如申請專利範圍第10項所述的畫素結構，該畫素結構具有一第一區域，該第一區域垂直投影於該第一基板上與該掃描線重疊，其中該連接部對應設置在該第一區域。
  12. 如申請專利範圍第11項所述的畫素結構，其中該資料線與該掃描線於該第一區域具有重疊處，該資料線於該重疊處的線寬較資料線與該掃描線未重疊處小。
  13. 如申請專利範圍第8項所述的畫素結構，其中在該資料線上方不存在一遮光層，且該遮光層僅與該掃描線至少部份重疊。
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