TWI386743B - 顯示面板 - Google Patents

Description

顯示面板

本發明是有關於一種顯示面板，且特別是有關於一種顯示面板中遮光層的設計。

由於液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)具有低電壓操作、無輻射線散射、重量輕以及體積小等傳統陰極射線管(cathode ray tube，CRT)所製造之顯示器無法達到的優點，因此已成為近年來顯示器研究的主要課題，且不斷地朝向彩色化發展。

藉由彩色濾光薄膜可使得液晶顯示面板進行全彩化顯示，彩色濾光片基板(color filter substrate)、將彩色濾光薄膜製作於薄膜電晶體陣列上(color filter on array，COA)之技術以及將薄膜電晶體陣列製作於彩色濾光薄膜上(array on color filter，AOC)之技術是目前較為常見之技術。以COA技術為例，由於彩色濾光薄膜至直接製作於薄膜電晶體陣列上，因此彩色濾光薄膜與薄膜電晶體陣列之對位誤差(mis-alignment)很小，且已被廣泛地應用於市售之產品中。

圖1為習知的液晶顯示面板之剖面示意圖。請參照圖1，習知的液晶顯示面板100包括一薄膜電晶體陣列基板110、一整合於薄膜電晶體陣列基板110上之彩色濾光層120、一配置於薄膜電晶體陣列基板110上方的對向基板130以及一配置於薄膜電晶體陣列基板110與對向基板130之間的液晶層140。如圖1所示，薄膜電晶體陣列基板110具有多個畫素電極112，而對向基板130具有黑矩陣層132以遮蔽不同畫素電極112之間的區域以及各個畫素電極112的邊緣，進而改善畫素電極112之間的漏光現象(leakage)。由於黑矩陣層132具有傾斜邊緣(taper)X，且位於畫素電極112上方，因此傾斜邊緣X會使液晶錯向(liquid crystal disclination)，進而導致液晶顯示面板100在其黑矩陣130的邊緣處發生漏光現象。值得注意的是，為了克服色偏(color washout)問題，薄膜電晶體陣列基板110中的各個子畫素被區分為一主顯示單元以及一子顯示單元，其中黑矩陣130所導致的漏光現象對於子顯示單元的顯示影響較為嚴重。因此，如何改善黑矩陣層132在子顯示單元邊緣所造成的漏光現象，是目前液晶顯示面板在製造上亟待解決的問題之一。

本發明提供一種顯示面板，其能夠有效避免黑矩陣層所導致的漏光現象，以提昇顯示品質。

本發明提供一種顯示面板，其包括一第一基板、多條掃描線、多條資料線、多個子畫素單元、一遮光層、一第二基板以及一顯示介質。掃描線與資料線位於第一基板上，子畫素單元位於第一基板上，且各子畫素單元包括一主顯示單元以及一子顯示單元。主顯示單元包括一第一開關以及一第一畫素電極，第一畫素電極與資料線相距一水平間距(G1)而不與資料線重疊。子顯示單元包括一第二開關以及一第二畫素電極，第二畫素電極與資料線以一第一重疊寬度(W1)部分重疊。遮光層分佈於兩相鄰的第一畫素電極之間，且遮光層與二相鄰的第一畫素電極其中之一以一第二重疊寬度(W2)部分重疊。此外，第二基板相對於第一基板設置，且顯示介質位於第一基板以及第二基板之間。

在本發明之一實施例中，前述之各子畫素單元中之第一開關以及第二開關係連接至相同的掃描線以及相同的資料線。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層不與兩相鄰的第二畫素電極重疊。

在本發明之一實施例中，0微米＜水平間距(G1)≦5微米，0微米＜第一重疊寬度(W1)≦5微米，0微米＜第二重疊寬度(W2)≦6微米。

在本發明之一實施例中，前述之資料線包括一第一部分以及一第二部分。第一部分位於二相鄰的第一畫素電極之間，且第一部分具有第一線寬。第二部分位於二相鄰的第二畫素電極之間，而第二部分具有第二線寬，且第一線寬小於第二線寬。

在本發明之一實施例中，前述之第一線寬約為4微米至10微米，而第二線寬約為10微米至20微米。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層位於第一基板以及顯示介質之間。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層位於第二基板以及顯示介質之間。

在本發明之一實施例中，前述之顯示面板更包括一彩色濾光層，且此彩色濾光層位於第一基板以及顯示介質之間。

在本發明之一實施例中，前述之各子畫素單元中之第一開關以及第二開關係連接至相同的掃描線以及不同的資料線。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層更與兩相鄰的第二畫素電極重疊，且遮光層與二相鄰的第二畫素電極其中之一以一第三重疊寬度(W3)至少部分重疊。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層位於第一基板以及顯示介質之間。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層位於第二基板以及顯示介質之間。

在本發明之一實施例中，前述之顯示面板更包括一彩色濾光層，且此彩色濾光層位於第一基板以及顯示介質之間。

本發明提供一種顯示面板，其包括多個子畫素、一彩色濾光層以及一遮光層。各子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各子畫素包括一主顯示單元以及一子顯示單元，主顯示單元包括一第一開關以及一第一畫素電極，第一開關與掃描線以及資料線電性連接，而第一畫素電極與第一開關電性連接，且第一畫素電極不與資料線重疊。子顯示單元包括一第二開關以及一第二畫素電極，第二開關與掃描線以及資料線電性連接，而第二畫素電極與第二開關電性連接，且第二畫素電極與資料線部分重疊。彩色濾光層覆蓋掃描線、資料線、第一開關以及第二開關。遮光層位於掃描線的部分區域以及資料線的部分區域之上方，其中遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間並與第一畫素電極部分重疊，且二相鄰的第二畫素電極之間不具有遮光層。

本發明另提供一種顯示面板，其包括多個子畫素、一彩色濾光層以及一遮光層。各子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各子畫素包括一主顯示單元以及一子顯示單元，主顯示單元包括一第一開關以及一第一畫素電極，第一開關與掃描線以及資料線電性連接，而第一畫素電極與第一開關電性連接，且第一畫素電極不與資料線重疊。子顯示單元包括一第二開關以及一第二畫素電極，第二開關與掃描線以及資料線電性連接，而第二畫素電極與第二開關電性連接，且第二畫素電極與資料線部分重疊。彩色濾光層覆蓋掃描線、資料線、第一開關以及第二開關。遮光層位於掃描線的部分區域以及資料線的部分區域之上方，其中遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間以及二相鄰的第二畫素電極之間，而遮光層與第一畫素電極部分重疊，而在二相鄰的第二畫素電極之間的區域內，遮光層之寬度小於資料線的線寬。

在本發明之一實施例中，前述之資料線包括一第一部分以及一第二部分。第一部分位於二相鄰的第一畫素電極之間，且第一部分具有第一線寬。第二部分位於二相鄰的第二畫素電極之間，而第二部分具有第二線寬，且第一線寬小於第二線寬。

在本發明之一實施例中，前述之第一線寬介於4微米至10微米，而第二線寬介於10微米至20微米。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層與彩色濾光層直接接觸。

在本發明之一實施例中，前述之遮光層不與彩色濾光層直接接觸。在一較佳實施例中，彩色濾光層配置於第一畫素電極以及第二畫素電極下方。

本發明又提供一種顯示面板，其包括多個子畫素、一彩色濾光層以及一遮光層。各子畫素分別與一掃描線、一第一資料線以及一第二資料線電性連接，且各子畫素包括一主顯示單元以及一子顯示單元。主顯示單元包括一第一開關以及一第一畫素電極，第一開關與掃描線以及第一資料線電性連接，而第一畫素電極與第一開關電性連接，且第一畫素電極不與第一資料線以及第二資料線重疊。子顯示單元包括一第二開關以及一第二畫素電極，第二畫素電極與第二開關電性連接，且第二畫素電極與第一資料線以及第二資料線部分重疊。彩色濾光層配置於第一畫素電極以及第二畫素電極下方，並且覆蓋掃描線、第一資料線、第二資料線、第一開關以及第二開關。遮光層位於掃描線的部分區域、第一資料線的部分區域以及第二資料線的部分區域之上方，其中遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間以及二相鄰的第二畫素電極之間，而遮光層與第一畫素電極部分重疊，在二相鄰的第二畫素電極之間的區域內，第一資料線與第二資料線之間存在一間隙，而間隙的寬度、第一資料線的線寬與第二資料線的線寬之總和大於遮光層之寬度。

在本發明之一實施例中，前述之第二開關與掃描線以及第二資料線電性連接。

本發明再提出一種顯示面板，其包括多個子畫素以及一遮光層。各子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各子畫素包括一主顯示單元以及一子顯示單元。主顯示單元包括一第一開關以及一第一畫素電極，第一開關與掃描線以及資料線電性連接，而第一畫素電極與第一開關電性連接。子顯示單元包括一第二開關以及一第二畫素電極，第二開關與掃描線以及資料線電性連接，而第二畫素電極與第二開關電性連接。此外，遮光層大體環繞主顯示單元，但不環繞子顯示單元。

在本發明之一實施例中，前述之顯示面板更包括一彩色濾光層，以大體覆蓋住掃描線、資料線、第一開關以及第二開關。

在本發明之一實施例中，前述之彩色濾光層配置於第一畫素電極以及第二畫素電極下方。

基於上述，本發明之顯示面板中的遮光層設計可以有效地改善發生在子顯示單元邊緣的漏光問題，故本發明之顯示面板具有良好的顯示品質。

為讓本發明之上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。

【第一實施例】

圖2為本發明第一實施例顯示面板的上視示意圖，而圖3為沿著圖2中A-A’剖面與B-B’剖面之剖面示意圖。請參照圖2與圖3，本實施例之顯示面板200包括一第一基板210、多條掃描線SL、多條資料線DL、多個子畫素單元220、一遮光層230、一第二基板240以及一顯示介質250。掃描線SL與資料線DL位於第一基板210上，且子畫素單元220位於第一基板210上。此處，位於第一基板210上之子畫素單元220、位於該子畫素單元220上方的顯示介質250(例如是液晶層)以及第二基板240上之共通電極(未繪示)係定義為一子畫素P。此外，第二基板240相對於第一基板210設置，且顯示介質250位於第一基板210以及第二基板240之間。

在本實施例中，各子畫素P分別與掃描線SL以及資料線DL電性連接，且各子畫素P包括主顯示單元M以及子顯示單元S，主顯示單元M包括第一開關SW1以及第一畫素電極PE1，第一開關SW1與掃描線SL以及資料線DL電性連接，而第一畫素電極PE1與第一開關電性SW1連接，且第一畫素電極PE1不與資料線DL重疊。值得注意的是，第一畫素電極PE1與資料線DL相距一水平間距(G1)。在本實施例中，第一畫素電極PE1與資料線DL之間存在一間隙，而間隙被遮光層230所覆蓋，且間隙的寬度，即水平間距(G1)，滿足0微米＜水平間距(G1)≦5微米之關係。在一較佳實施例中，第一畫素電極PE1與資料線DL之間的水平間距(G1)例如是3微米。

子顯示單元S包括第二開關SW2以及第二畫素電極PE2，第二開關SW2與掃描線SL以及資料線DL電性連接，而第二畫素電極PE2與第二開關SW2電性連接，且第二畫素電極PE2與資料線DL部分重疊。詳言之，第二畫素電極PE2與資料線DL的重疊寬度為一第一重疊寬度(W1)。在本實施例中，0微米＜第一重疊寬度(W1)≦5微米，而第一重疊寬度(W1)較佳為4微米。此處，各個子畫單元素220中之第一開關SW1以及第二開關SW2係連接至相同的掃描線SL以及相同的資料線DL，即所謂的1D1G架構。

遮光層230分佈於兩相鄰的第一畫素電極PE1之間，並與第一畫素電極PE1部分重疊，但不與第二畫素電極PE2重疊，詳言之，遮光層230與第一畫素電極PE1的重疊寬度為第二重疊寬度(W2)。舉例而言，0微米＜第二重疊寬度(W2)≦6微米，而第二重疊寬度(W2)較佳為5微米。在本實施例中，遮光層230例如為一黑矩陣層(black matrix，B/M)。

從圖2與圖3可知，遮光層230僅位於掃描線SL的部分區域以及資料線DL的部分區域之上方，且二相鄰的第二畫素電極PE2之間未分佈有遮光層230。意即，遮光層230僅大體環繞主顯示單元M，但不環繞子顯示單元S。由於相鄰的第二畫素電極PE2之間未分佈有或環繞有遮光層230，因此，本實施例之子顯示單元S不會有遮光層230所導致的漏光現象，子顯示單元S顯示品質得以確保。

在本實施例中，顯示面板200可進一步包括一彩色濾光層CF，此彩色濾光層CF係配置於第一基板210上，以覆蓋住前述之掃描線SL、資料線DL、第一開關SW1以及第二開關SW2。此外，從圖3可知，本實施例之彩色濾光層CF係配置於第一畫素電極PE1以及第二畫素電極PE2下方。

由圖2可知，在本實施例中，資料線DL包括一第一部分P1以及一第二部分P2。第一部分P1位於二相鄰的第一畫素電極PE1之間，且第一部分P1具有第一線寬W4。第二部分P2位於二相鄰的第二畫素電極PE2之間，而第二部分P2具有第二線寬W5，且第一線寬W4小於第二線寬W5。舉例而言，第一線寬W4係介於4微米至10微米之間，較佳為6微米，而第二線寬W5係介於10微米至20微米之間，較佳為16微米。此外，第一部分P1之第一線寬W4小於二相鄰的第一畫素電極PE1之間的距離，而第二部分P2之第二線寬W5則大於二相鄰的第二畫素電極PE2之間的距離。

在本實施例中，遮光層230係製作於彩色濾光層CF上方，但不與彩色濾光層CF接觸。詳言之，遮光層230係位於第二基板240以及顯示介質250之間。

圖4為沿著圖2中A-A’剖面與B-B’剖面之另一種剖面示意圖。請同時參照圖3與圖4，圖4中所繪示之剖面與圖3中所繪示之剖面類似，惟二者主要差異之處在於：圖4中的遮光層230係製作於彩色濾光層CF上，並與彩色濾光層CF接觸，即所謂的BOA(Black Matrix on Array)架構。詳言之，遮光層230係位於第一基板210以及顯示介質250之間。

在本實施例中，由於相鄰的第二畫素電極PE2之間未分佈有遮光層230，因此可以有效改善遮光層230所導致的漏光現象，進而改善子顯示單元S的顯示品質。

【第二實施例】

圖5為本發明第二實施例顯示面板的上視示意圖，圖6為沿著圖5中A-A’剖面與B-B’剖面之剖面示意圖，而圖7為沿著圖5中A-A’剖面與B-B’剖面之另一種剖面示意圖。請參照圖5至圖7，本實施例之顯示面板300與第一實施例之顯示面板200類似，惟二者主要差異之處在於：遮光層330之圖案。詳言之，遮光層330係分佈於二相鄰的第一畫素電極PE1之間以及二相鄰的第二畫素電極PE2之間，而遮光層330與第一畫素電極PE1部分重疊，而在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，遮光層330之寬度小於資料線DL之第二部分P2的線寬W5。

從圖6與圖7可知，在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，遮光層330之寬度例如是等於或小於其相鄰的第二畫素電極PE2之間的距離。在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，由於遮光層330之寬度小於等於或小於而相鄰的第二畫素電極PE2之間的距離，因此本實施例可以有效改善遮光層330所導致的漏光現象，進而改善子顯示單元S的顯示品質。

【第三實施例】

圖8為本發明第三實施例顯示面板的上視示意圖，圖9為沿著圖8中C-C’剖面與D-D’剖面之剖面示意圖，而圖10為沿著圖8中C-C’剖面與D-D’剖面之另一種剖面示意圖。請參照圖8至圖9，本實施例之顯示面板400包括多個子畫素P、一彩色濾光層CF以及一遮光層430。各子畫素P分別與一掃描線SL、一第一資料線DL1以及一第二資料線DL2電性連接，且各子畫素P包括一主顯示單元M以及一子顯示單元S。主顯示單元M包括一第一開關SW1以及一第一畫素電極PE1，第一開關SW1與掃描線SL以及第一資料線DL1電性連接，而第一畫素電極PE1與第一開關SW1電性連接，且第一畫素電極PE1不與第一資料線DL1以及第二資料線DL2重疊。子顯示單元S包括一第二開關SW2以及一第二畫素電極PE2，第二畫素電極PE2與第二開關SW2電性連接，且第二畫素電極PE2與第一資料線DL1以及第二資料線DL2部分重疊。彩色濾光層CF配置於第一畫素電極PE1以及第二畫素電極PE2下方，並且覆蓋掃描線SL、第一資料線DL1、第二資料線DL2、第一開關SW1以及第二開關SW2。遮光層430位於掃描線SL的部分區域、第一資料線DL1的部分區域以及第二資料線DL2的部分區域之上方，其中遮光層430分佈於二相鄰的第一畫素電極PE1之間以及二相鄰的第二畫素電極PE2之間，而遮光層430與第一畫素電極PE1部分重疊，在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，第一資料線DL1與第二資料線DL2之間存在一間隙G2，而間隙G2被遮光層430所覆蓋。

承上述，第一畫素電極PE1與資料線DL相距一水平間距(G1)，此水平間距(G1)係介於0微米至5微米之間，而較佳為3微米。第一資料線DL1與第二資料線DL2之間的間隙G2寬度例如係介於5微米至15微米之間，而較佳為10微米。此外，在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，間隙G2的寬度、第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7之總和大於遮光層430之寬度W8。換言之，在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，遮光層430之寬度W8需大於間隙G2的寬度，但不大於間隙G2的寬度、第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7之總和。舉例而言，在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，間隙G2的寬度例如為10微米，第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7例如皆為6微米，而遮光層430之寬度W8例如為16微米。

綜上所述，在鄰近二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，間隙G2的寬度、第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7之總和大於 遮光層430之寬度W8；但在二相鄰的第一畫素電極PE1之間的區域內，間隙G2的寬度、第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7之總和小於 遮光層430之寬度W9。舉例而言，在二相鄰的第一畫素電極PE1之間的區域內，遮光層430之寬度W9例如係介於26微米至52微米之間。

從圖9可知，第二畫素電極PE2與第一資料線DL1或第二資料線DL2的重疊寬度為一第一重疊寬度(W1)。在本實施例中，第一重疊寬度(W1)例如是介於0微米至10微米之間，而較佳為8微米。遮光層430與第一畫素電極PE1的重疊寬度為第二重疊寬度(W2)，第二重疊寬度(W2)例如是介於0微米至6微米之間，而較佳為5微米。此外，遮光層430與第二畫素電極PE2的重疊寬度為第三重疊寬度(W3)，第三重疊寬度(W3)例如是介於0微米至15微米之間，而較佳為4微米。水平間距G1為第一畫素電極PE1(舉例為圖9中左圖之右邊的第一畫素電極PE1)的邊緣至該第一資料線DL1的邊緣之距離介於2微米至6微米，而該第一畫素電極PE1的邊緣至該第二資料線DL2的邊緣之距離介於10微米至25微米。

在本實施例中，遮光層430係製作於彩色濾光層CF上方，但不與彩色濾光層CF接觸，如圖9所繪示。詳言之，遮光層430係位於第二基板240以及顯示介質250之間。

圖10為沿著圖8中C-C’剖面與D-D’剖面之另一種剖面示意圖。圖10中的遮光層430係製作於彩色濾光層CF上，並與彩色濾光層CF接觸，即所謂的BOA架構。詳言之，遮光層430係位於第一基板210以及顯示介質250之間。

在二相鄰的第二畫素電極PE2之間的區域內，由於遮光層430之寬度小於於間隙G2的寬度、第一資料線DL1的線寬W6與第二資料線DL2的線寬W7之總和，因此本實施例可以有效改善遮光層430所導致的漏光現象，進而改善子顯示單元S的顯示品質。

基於上述，前述實施例之顯示面板中的遮光層設計可以有效地改善發生在子顯示單元邊緣的漏光問題，故本發明之顯示面板具有良好的顯示品質。

100．．．液晶顯示面板

110．．．薄膜電晶體陣列基板

112．．．畫素電極

120．．．彩色濾光層

130．．．對向基板

132．．．黑矩陣層

140．．．液晶層

X．．．傾斜邊緣

200、300、400．．．顯示面板

210．．．第一基板

220．．．子畫素單元

230、330、430．．．遮光層

240．．．第二基板

250．．．顯示介質

SL．．．掃描線

DL．．．資料線

DL1．．．第一資料線

DL2．．．第二資料線

P1．．．第一部分

P2．．．第二部分

P．．．子畫素

M．．．主顯示單元

S．．．子顯示單元

SW1．．．第一開關

PE1．．．第一畫素電極

SW2．．．第二開關

PE2．．．第二畫素電極

G1．．．水平間距

G2．．．間隙

W1．．．第一重疊寬度

W2．．．第二重疊寬度

W3．．．第三重疊寬度

W4．．．第一線寬

W5．．．第二線寬

W6、W7．．．線寬

W8、W9．．．寬度

CF．．．彩色濾光層

圖1為習知的液晶顯示面板之剖面示意圖。

圖2為本發明第一實施例顯示面板的上視示意圖。

圖3為沿著圖2中A-A’剖面與B-B’剖面之剖面示意圖。

圖4為沿著圖2中A-A’剖面與B-B’剖面之另一種剖面示意圖。

圖5為本發明第二實施例顯示面板的上視示意圖。

圖6為沿著圖5中A-A’剖面與B-B’剖面之剖面示意圖。

圖7為沿著圖5中A-A’剖面與B-B’剖面之另一種剖面示意圖。

圖8為本發明第三實施例顯示面板的上視示意圖。

圖9為沿著圖8中C-C’剖面與D-D’剖面之剖面示意圖。

圖10為沿著圖8中C-C’剖面與D-D’剖面之另一種剖面示意圖。

200．．．顯示面板

220．．．子畫素單元

230．．．遮光層

SL．．．掃描線

DL．．．資料線

P1．．．第一部分

P2．．．第二部分

P．．．子畫素

M．．．主顯示單元

S．．．子顯示單元

SW1．．．第一開關

PE1．．．第一畫素電極

SW2．．．第二開關

PE2．．．第二畫素電極

W4．．．第一線寬

W5．．．第二線寬

Claims (45)

1. 一種顯示面板，包括：一第一基板；多條掃描線與多條資料線，位於該第一基板上；多個子畫素單元，位於該第一基板上，各該子畫素單元包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一畫素電極與該資料線相距一水平間距(G1)而不與該資料線重疊；以及一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二畫素電極與該資料線以一第一重疊寬度(W1)部分重疊；一遮光層，分佈於兩相鄰的第一畫素電極之間，該遮光層與二相鄰的第一畫素電極其中之一以一第二重疊寬度(W2)部分重疊；一第二基板，相對於該第一基板設置；以及一顯示介質，位於該第一基板以及該第二基板之間，其中各該子畫素單元之該第一開關以及該第二開關係連接至相同的掃描線以及相同的資料線，且該遮光層不與兩相鄰的第二畫素電極重疊。
2. 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中0微米<水平間距(G1)≦5微米，0微米<第一重疊寬度(W1)≦5微米，0微米<第二重疊寬度(W2)≦6微米。
3. 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該資料線包括： 一第一部分，位於二相鄰的第一畫素電極之間，該第一部分具有第一線寬；以及一第二部分，位於二相鄰的第二畫素電極之間，該第二部分具有第二線寬，且該第一線寬小於第二線寬。
4. 如申請專利範圍第3項所述之顯示面板，其中該第一線寬約為4微米至10微米，而該第二線寬約為10微米至20微米。
5. 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該遮光層位於該第一基板以及該顯示介質之間。
6. 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，其中該遮光層位於該第二基板以及該顯示介質之間。
7. 如申請專利範圍第1項所述之顯示面板，更包括一彩色濾光層位於該第一基板以及該顯示介質之間。
8. 一種顯示面板，包括：一第一基板；多條掃描線與多條資料線，位於該第一基板上；多個子畫素單元，位於該第一基板上，各該子畫素單元包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一畫素電極與該資料線相距一水平間距(G1)而不與該資料線重疊；以及一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二畫素電極與該資料線以一第一重疊寬度(W1)部分重疊；一遮光層，分佈於兩相鄰的第一畫素電極之間，該遮 光層與二相鄰的第一畫素電極其中之一以一第二重疊寬度(W2)部分重疊；一第二基板，相對於該第一基板設置；以及一顯示介質，位於該第一基板以及該第二基板之間，其中各該子畫素單元之該第一開關以及該第二開關係連接至相同的掃描線以及不同的資料線，且該遮光層更與兩相鄰的第二畫素電極重疊，且該遮光層與該二相鄰的第二畫素電極其中之一以一第三重疊寬度(W3)至少部分重疊。
9. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中0微米<水平間距(G1)≦5微米，0微米<第一重疊寬度(W1)≦10微米，0微米<第二重疊寬度(W2)≦6微米，0微米<第三重疊寬度(W3)≦15微米。
10. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中該遮光層位於該第一基板以及該顯示介質之間。
11. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，其中該遮光層位於該第二基板以及該顯示介質之間。
12. 如申請專利範圍第8項所述之顯示面板，更包括一彩色濾光層位於該第一基板以及該顯示介質之間。
13. 一種顯示面板，包括：多個子畫素，各該子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各該子畫素包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第一畫素電極與該第一開關電性連接，且該第一畫素電極不與該資料線重疊；以及 一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第二畫素電極與該第二開關電性連接，且該第二畫素電極與該資料線部分重疊；一彩色濾光層，覆蓋該掃描線、該資料線、該第一開關以及該第二開關；以及一遮光層，位於該掃描線的部分區域以及該資料線的部分區域之上方，其中該遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間並與該些第一畫素電極部分重疊，且二相鄰的第二畫素電極之間不具有該遮光層。
14. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該第一畫素電極與該資料線之間存在一間隙，且該間隙被該遮光層所覆蓋。
15. 如申請專利範圍第14項所述之顯示面板，其中該間隙的寬度介於0微米至5微米。
16. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該第一畫素電極的邊緣至該資料線的邊緣之距離介於3微米至12微米。
17. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該第二畫素電極的邊緣至該資料線的邊緣之距離介於2微米至5微米。
18. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該資料線包括：一第一部分，位於二相鄰的第一畫素電極之間，該第一部分具有第一線寬；以及 一第二部分，位於二相鄰的第二畫素電極之間，該第二部分具有第二線寬，且該第一線寬小於第二線寬。
19. 如申請專利範圍第18項所述之顯示面板，其中該第一線寬介於4微米至10微米，而該第二線寬介於10微米至20微米。
20. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該遮光層與該彩色濾光層直接接觸。
21. 如申請專利範圍第13項所述之顯示面板，其中該遮光層不與該彩色濾光層直接接觸。
22. 如申請專利範圍第21項所述之顯示面板，其中該彩色濾光層配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方。
23. 一種顯示面板，包括：多個子畫素，各該子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各該子畫素包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第一畫素電極與該第一開關電性連接，且該第一畫素電極不與該資料線重疊；以及一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第二畫素電極與該第二開關電性連接，且該第二畫素電極與該資料線部分重疊；一彩色濾光層，配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方，並且覆蓋該掃描線、該資料線、該第一開關 以及該第二開關；以及一遮光層，位於該掃描線的部分區域以及該資料線的部分區域之上方，其中該遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間以及二相鄰的第二畫素電極之間，而該遮光層與該些第一畫素電極部分重疊，而在二相鄰的第二畫素電極之間的區域內，該遮光層之寬度小於該資料線的線寬。
24. 如申請專利範圍第23項所述之顯示面板，其中該第一畫素電極與該資料線之間存在一間隙，且該間隙被該遮光層所覆蓋。
25. 如申請專利範圍第24項所述之顯示面板，其中該間隙的寬度介於0微米至5微米。
26. 如申請專利範圍第23項所述之顯示面板，其中該第一畫素電極的邊緣至該資料線的邊緣之距離介於3微米至12微米。
27. 如申請專利範圍第23項所述之顯示面板，其中該第二畫素電極的邊緣至該資料線的邊緣之距離介於0微米至5微米。
28. 如申請專利範圍第23項所述之顯示面板，其中該資料線包括：一第一部分，位於二相鄰的第一畫素電極之間，該第一部分具有第一線寬；以及一第二部分，位於二相鄰的第二畫素電極之間，該第二部分具有第二線寬，且該第一線寬小於第二線寬。
29. 如申請專利範圍第28項所述之陣列基板，其中該第一線寬介於4微米至10微米，而該第二線寬介於10微 米至20微米。
30. 如申請專利範圍第23項所述之陣列基板，其中該遮光層與該彩色濾光層直接接觸。
31. 如申請專利範圍第23項所述之陣列基板，其中該遮光層不與該彩色濾光層直接接觸。
32. 如申請專利範圍第31項所述之顯示面板，其中該彩色濾光層配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方。
33. 一種顯示面板，包括：多個子畫素，各該子畫素分別與一掃描線、一第一資料線以及一第二資料線電性連接，且各該子畫素包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一開關與該掃描線以及該第一資料線電性連接，而該第一畫素電極與該第一開關電性連接，且該第一畫素電極不與該第一資料線以及該第二資料線重疊；以及一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二畫素電極與該第二開關電性連接，且該第二畫素電極與該第一資料線以及該第二資料線部分重疊；一彩色濾光層，配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方，並且覆蓋該掃描線、該第一資料線、該第二資料線、該第一開關以及該第二開關；以及一遮光層，位於該掃描線的部分區域、該第一資料線的部分區域以及該第二資料線的部分區域之上方，其中該 遮光層分佈於二相鄰的第一畫素電極之間以及二相鄰的第二畫素電極之間，而該遮光層與該些第一畫素電極部分重疊，在二相鄰的第二畫素電極之間的區域內，該第一資料線與該第二資料線之間存在一間隙，而該間隙的寬度、該第一資料線的線寬與該第二資料線的線寬之總和大於該遮光層之寬度。
34. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該第二開關與該掃描線以及該第二資料線電性連接。
35. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該間隙被該遮光層所覆蓋。
36. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該間隙的寬度介於5微米至15微米。
37. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該第一畫素電極的邊緣至該第一資料線的邊緣之距離介於2微米至6微米，而該第一畫素電極的邊緣至該第二資料線的邊緣之距離介於10微米至25微米，該遮光層之寬度係介於26微米至52微米之間。
38. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該第一資料線包括：一第一部分，位於二相鄰的第一畫素電極之間，該第一部分具有第一線寬；以及一第二部分，位於二相鄰的第二畫素電極之間，該第二部分具有第二線寬。
39. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該第二資料線包括： 一第三部分，位於二相鄰的第一畫素電極之間，該第三部分具有第三線寬；以及一第四部分，位於二相鄰的第二畫素電極之間，該第四部分具有第四線寬。
40. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該遮光層與該彩色濾光層直接接觸。
41. 如申請專利範圍第33項所述之顯示面板，其中該遮光層不與該彩色濾光層直接接觸。
42. 如申請專利範圍第41項所述之顯示面板，其中該彩色濾光層配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方。
43. 一種顯示面板，包括：多個子畫素，各該子畫素分別與一掃描線以及一資料線電性連接，且各該子畫素包括：一主顯示單元，包括一第一開關以及一第一畫素電極，該第一開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第一畫素電極與該第一開關電性連接；以及一子顯示單元，包括一第二開關以及一第二畫素電極，該第二開關與該掃描線以及該資料線電性連接，而該第二畫素電極與該第二開關電性連接；以及一遮光層，環繞該主顯示單元但不環繞該子顯示單元，其中各該子畫素之該第一開關以及該第二開關係連接至相同的掃描線以及相同的資料線，且該遮光層不與兩相鄰的第二畫素電極重疊。
44. 如申請專利範圍第43項所述之顯示面板，更包括 一彩色濾光層，其中該彩色濾光層覆蓋該掃描線、該資料線、該第一開關以及該第二開關。
45. 如申請專利範圍第44項所述之顯示面板，其中該彩色濾光層配置於該第一畫素電極以及該第二畫素電極下方。