CN106094363B - 像素结构、显示面板及曲面显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种像素结构、显示面板及曲面显示装置。像素结构包括第一基板、扫描线、数据线、主动元件、像素电极以及导电条状图案。扫描线与数据线位于第一基板上。主动元件与扫描线以及数据线电性连接。像素电极与主动元件电性连接。导电条状图案对应设置在数据线的上方，其中导电条状图案具有开口，且开口垂直投影于第一基板上与数据线至少部分重叠。

Description

像素结构、显示面板及曲面显示装置
技术领域
本发明涉及一种像素结构，且特别涉及一种具有上述像素结构的显示面板及一种曲面显示装置。
背景技术
随着科技的进步，显示器的技术也不断地发展。轻、薄、短、小的平面显示器(FlatPanel Display,FPD)逐渐取代传统厚重的阴极映像管显示器(Cathode Ray Tube,CRT)。如今，由于平面显示器的轻薄特性，平面显示器更被配置到许多建筑物或电子设备的非平面的表面上。为了要配合非平面的表面，显示面板亦要跟着具有些许弧度，故曲面显示面板亦被提出。其中，可达到平面与弯曲共用的显示面板逐渐受到注目。
然而，在液晶显示面板的上下两基板于对位及/或弯曲后，由于上下两基板弯曲时受到的应力不同，使上下两基板之间彼此相对错位，会使得黑色矩阵(black matrix)皆会遮住原本设计的开口区，即黑色矩阵皆会遮住扫描线、数据线与至少一部分的像素电极，而让开口率下降，更导致位于数据线周边的液晶因为电场窜出、导向不好而造成漏光(lightleakage)。除此之外，由于液晶显示面板弯曲后的每个位置所受到的应力不同，上下两基板错位的程度也不一致，亦会造成面板亮度不均(Mura)以及对比下降(Low contract)的问题。
发明内容
本发明提供一种像素结构、一种显示面板以及一种曲面显示装置，除了避免因上下基板错位所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题外，还可降低电阻电容负载，提升显示品质。
本发明提供一种像素结构，其包括第一基板、扫描线、数据线、主动元件、像素电极以及导电条状图案。扫描线与数据线位于第一基板上。主动元件与扫描线以及数据线电性连接。像素电极与主动元件电性连接。导电条状 图案对应设置在数据线的上方，其中导电条状图案具有开口且其垂直投影于该第一基板上与该数据线至少部分重叠。
本发明另提供一种显示面板，其包括第一基板、像素阵列、第二基板、电极膜以及液晶层。像素阵列位于第一基板上，且像素阵列包括多个像素结构，且每一像素结构包括扫描线、数据线、主动元件、像素电极以及导电条状图案。其中，主动元件与扫描线以及数据线电性连接，像素电极与主动元件电性连接，导电条状图案对应设置在数据线的上方，且导电条状图案具有开口，且其垂直投影于该第一基板上与该数据线至少部分重叠。第二基板位于第一基板的对向侧。电极膜位于第二基板上，其中电极膜被施予的电压与每一像素结构的导电条状图案被施予的电压相同。液晶层位于第一基板与第二基板之间。
本发明再提供一种曲面显示装置，其包括前述的显示面板、背光模块以及弯曲装置。背光模块位于显示面板的一侧。弯曲装置固定显示面板以及背光模块，以使得显示面板以及背光模块具有弯曲曲度。
基于上述，本发明的像素结构与显示面板通过将导电条状图案对应设置在数据线的上方并具有开口，且其垂直投影于第一基板上与数据线至少部分重叠，除了避免因上下基板错位所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题外，同时可减少导电条状图案与数据线之间的重叠区域，使得导电条状图案与数据线之间的寄生电容降低，进而减少电阻电容负载，以确保显示品质与穿透率。
为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合所附图式作详细说明如下。
附图说明
图1为本发明一实施例的显示面板的剖面示意图。
图2A是图1的实施例的像素阵列的结构示意图。
图2B是图2A的实施例的像素阵列的局部结构示意图。
图3为沿着图2A的剖面线AA’的显示面板的剖面示意图。
图4是本发明另一实施例的像素阵列的结构示意图。
图5A是本发明另一实施例的的像素阵列的结构示意图。
图5B是图5A的实施例的像素阵列的局部结构示意图。
图6是本发明一对照实施例的显示面板的剖面示意图。
图7A以及图7B为本发明另一实施例的显示面板的剖面示意图。
图8是本发明一实施例的曲面显示装置的示意图。
其中，附图标记说明如下：
10、11：显示面板
20：背光模块
30：弯曲装置
31：框架
32：螺杆
40：背板
50：封装材
100：第一基板
107：第一区域
200、200’：像素阵列
210：绝缘层
220：第一保护层
230：彩色滤光层
240：第二保护层
250、250’、600：导电条状图案
252：连接部
254：延伸部
254a：第一延伸部
254b：第二延伸部
256：桥接部
258：开口
260：主体部
262：条状部
264：狭缝
300：第二基板
400：电极膜
500：液晶层
1000：曲面显示装置
AA’、BB’：剖面线
C：接触窗
CH：通道层
D：漏极
D1：第一方向
D2：第二方向
DL：数据线
G：栅极
LB：遮光层
P、P’：像素结构
PE：像素电极
S：源极
SH：屏蔽金属层
SL：扫描线
T：主动元件
Vcom：共同电压
VP：像素电压
Wd、Wd1、Wg、W1、W2、W3：宽度
X、Y：交错区
具体实施方式
图1为本发明一实施例的显示面板的剖面示意图。请先参照图1，显示面板10包括第一基板100、像素阵列200、第二基板300、电极膜400以及液晶层500。
第一基板100的材质可为玻璃、石英、有机聚合物或是不透光/反射材料(例如：导电材料、金属、晶圆、陶瓷或上述材料的组合)或是其它可适用的材料，本发明不以此为限。若使用导电材料或金属时，则在第一基板100上 覆盖一层绝缘层(未绘示)，以避免短路问题。第一基板100上设置有像素阵列200，像素阵列200包括多个像素结构(未绘示)，详细的像素阵列200的结构将于后续段落说明。
第二基板300是设置在第一基板100的对向侧。第二基板300的材质可为玻璃、石英或有机聚合物等。具体来说，当第一基板100的材质不为金属时，第二基板300的材质可以与第一基板100的材质相同或不同。此外，本实施例不限定彩色滤光膜(未绘示)与黑色矩阵(black matrix，未绘示)是设置于第一基板100上或是设置于第二基板300上，本发明所属领域中具有通常知识者可视需求选择。
电极膜400设置于第二基板300上，且电极膜400位于第一基板100以及第二基板300之间。电极膜400为透明导电层，其材质包括金属氧化物，例如是铟锡氧化物或者是铟锌氧化物。电极膜400是全面地覆盖于第二基板300上，即电极膜400是全面地覆盖第一基板100上的像素结构P，或者电极膜400是图案化的设置于第二基板300上，每个图案化电极膜400与第一基板100所对应的像素结构P重叠。在本实施例中，电极膜400较佳为全面地覆盖于第二基板300上为范例，但并不限于此。电极膜400连接至一共同电压Vcom，且当一个不同于共同电压Vcom的像素电压Vp被施加于像素阵列200时，像素阵列200以及电极膜400之间会产生垂直电场，以驱动在像素阵列200以及对向电极层400之间的液晶层500。
液晶层500位于第一基板100与第二基板300之间。液晶层500可包括液晶分子、电泳显示介质或是其它可适用的介质。在本发明下列实施例中的液晶层500系以液晶分子当作范例，但不限于此。
图2A是图1的实施例的像素阵列的结构示意图。图2B是图2A的实施例的像素阵列的局部结构示意图。图3为沿着图2A的剖面线AA’的显示面板的剖面示意图。请同时参照图1以及图2A，像素阵列200位于第一基板100上，且像素阵列200上方覆盖有液晶层500。像素阵列200由多个像素结构P构成。这些像素结构P的至少一部分的设计将参照图2A、图2B以及图3于下文中详细地描述。为了清楚地说明本实施例，图2A仅绘示出像素阵列200中的2×2个像素结构P的阵列，且为清楚起见，是以一个像素结构P为例进行说明，本发明所属领域中具有通常知识者应可以理解，图1的像素阵 列200实际上是由多个像素结构P排成的阵列所构成。
如图2A所示，这些像素结构P至少一部分包括扫描线SL、数据线DL、主动元件T、像素电极PE以及导电条状图案250。
请参照图2A与图3，扫描线SL与数据线DL彼此交错设置于第一基板100上，且形成一交错区X。换言之，扫描线SL的延伸方向与数据线DL的延伸方向不相同，较佳的是扫描线SL的延伸方向与数据线DL的延伸方向垂直。其中，扫描线SL与数据线DL是分别位于不相同的膜层，且两者之间夹有绝缘层(未绘示)。扫描线SL以及数据线DL主要用来传递驱动像素结构P的驱动信号。基于导电性的考量，扫描线SL与数据线DL一般是使用不透光的金属材料，然本发明不限于此。根据其他实施例，扫描线SL与数据线DL也可以使用其他不透光的导电材料，其例如是包括合金、金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物或是金属材料与其它导电材料的堆叠层。
请同时参照图2A以及图3，这些像素结构P至少一部分中的主动元件T是与所对应的至少一条扫描线SL以及所对应的至少一条数据线DL电性连接。在本实施例中，主动元件T例如包括栅极G、通道层CH、漏极D以及源极S。具体来说，栅极G与扫描线SL电性连接，绝缘层210位于栅极G的上方，通道层CH位于绝缘层210的上方且对应于栅极G，源极S以及漏极D位于通道层CH的上方，且源极S与数据线DL电性连接。因此，当有控制信号电压输入扫描线SL时，扫描线SL与栅极G之间会电性导通；当有数据信号电压输入数据线DL时，数据线DL会与源极S电性导通。本实施例的主动元件电性T是以底部栅极型薄膜晶体管为例来说明，但本发明不限于此。在其他实施例中，主动元件T也可以是顶部栅极型薄膜晶体管，例如：通道层CH位于栅极G下方，且通道层CH与栅极G夹设有绝缘层210，或是其它合适类型的薄膜晶体管。此外，栅极G例如是位于与扫描线SL相同的膜层，而漏极S以及源极D例如是位于与数据线DL相同的膜层。换言之，绝缘层210是位于第一金属层(即：栅极G与扫描线SL)与第二金属层(即：源极S、漏极D与数据线DL)之间。在一实施例，栅极G的材质例如是金属、金属氧化物、有机导电材料或上述的组合；且通道层CH的材质例如是非晶硅、多晶硅、微晶硅、单晶硅、有机半导体材料、氧化物半导体材料(例如：铟锌氧化物、铟锗锌氧化物或是其它合适的材料或上述的组合)或其它合适的 材料或含有掺杂物(dopant)于上述材料中或上述之组合，本发明不以此为限。绝缘层210的材料包含无机材料(例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、其它合适的材料或上述的组合)、有机材料(例如：光阻、聚酰亚胺(polyimide，PI)、苯并环丁烯(BCB)、环氧树脂(Epoxy)、过氟环丁烷(PFCB)、其它合适的材料或上述的组合)或其它合适的材料或上述的组合。
请同时参照图2A以及图3，像素电极PE与主动元件T电性连接。具体来说，第一保护层220(绘示于图3)位于主动元件T上且具有接触窗C，其中像素电极PE通过接触窗C与主动元件T的漏极D电性连接。举例而言，本实施例的像素电极PE具有主体部260以及与主体部260连接的多个条状部262(绘示于图2A)。条状部262是由主体部260往至少四个方向延伸。换言之，条状部262是由主体部260往四周延伸至像素电极PE的边缘处，以形成鱼骨状图案并定义出至少四个配向区域(domain region)。另一方面，相邻的两个条状部162之间定义出狭缝264。于其它实施例中，主体部260约为X形或十字形，且条状部262由主体部260往至少四个方向延伸，且狭缝264位于两相邻的条状部262之间。据此，通过像素电极PE连接至像素电压Vp以及电极膜400连接共同电压Vcom，使得像素电极PE以及电极膜400之间产生电压差，用以驱动液晶层500，使液晶层500具有不同的倾倒方向。在一实施例中，像素电极PE的材质例如是穿透式像素电极、反射式像素电极或是半穿透半反射式像素电极。穿透式像素电极的材质包括金属氧化物(例如是铟锡氧化物、铟锌氧化物、铝锡氧化物、铝锌氧化物、铟锗锌氧化物或其它合适的氧化物或者是上述至少二者的堆叠层)、奈米碳管/杆、有机导电材料或其它合适的氧化物或者是上述至少二者的堆叠层。反射式像素电极的材质包括具有高反射率的金属材料，本发明不以此为限。第一保护层220的材料包含无机材料(例如：氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、其它合适的材料或上述的组合)、有机材料(例如：光阻、聚酰亚胺(polyimide，PI)、苯并环丁烯(BCB)、环氧树脂(Epoxy)、过氟环丁烷(PFCB)、其它合适的材料或上述的组合)或其它合适的材料或上述的组合。再者，数据线DL的上方不存在遮光层(即黑色矩阵)，遮光层(即黑色矩阵)仅存在于扫描线SL上方，即遮光层(即黑色矩阵)与该扫描线至少部分重叠，而彩色滤光层位于前述像素结构中。
请参照图2A，导电条状图案250对应设置在数据线DL的上方，其中导 电条状图案250具有开口258(或称为间隔(gap))，且开口258垂直投影于第一基板100上与数据线DL至少部分重叠，即导电条状图案250垂直投影于第一基板100上未覆盖数据线DL至少一部分。换言之，此时开口258暴露出数据线DL。本实施例的导电条状图案250包括延伸部254以及桥接部256，且延伸部254沿着数据线DL的延伸方向(即：第二方向D2)延伸，桥接部256沿着扫描线SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸。于其它实施例中，数据线DL的延伸方向为沿着第一方向D1，扫描线SL的延伸方向为沿着第二方向D2，则导电条状图案250的延伸部254沿着数据线DL的延伸方向(第一方向D1)延伸，桥接部256沿着扫描线SL的延伸方向(第二方向D2)延伸。
请再同时参考图2A与图3，具体来说，导电条状图案250的延伸部254具有第一延伸部254a以及第二延伸部254b，其中第一延伸部254a与第二延伸部254b分别配置于数据线DL的两侧而与数据线DL部分重叠。换言之，导电条状图案250位于数据线DL的上方，其中导电条状图案250具有位于延伸部254中的第一延伸部254a以及第二延伸部254b之间的开口258，其垂直投影于第一基板100上与数据线DL至少部分重叠，即导电条状图案250垂直投影于第一基板100上未覆盖数据线DL至少一部分。换言之，部分数据线DL被开口258所暴露出来。也就是说，通过开口258的设置，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分别有部分区域不与数据线DL重叠，即第一延伸部254a以及第二延伸部254b会分隔开来。导电条状图案250通过仅与数据线DL部分重叠，因此减少导电条状图案250与数据线DL的重叠区域，进而降低导电条状图案250与数据线DL之间的寄生电容。导电条状图案250与电极膜400皆连接至同一共同电压Vcom(即：导电条状图案250以及电极膜400被施予相同的电压)，且前述的第一延伸部254a以及第二延伸部254b是分别位于数据线的两侧(如图3所示)，因此可达到保持数据线DL周边的电场稳定，进而避免因第一基板100与第二基板300彼此错位使液晶倒向不佳所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题。再者，因前述的设计，遮光层(即黑色矩阵)不存在数据线DL上，但遮光层(即黑色矩阵)存在于扫描线SL上方，可减少第一基板100与第二基板300对组/弯曲时，因位移所造成的漏光影响。再者，遮光层(即黑色矩阵)及/或彩色滤光层可设置于第一基板100或第二基板300上。
此外，在本实施例中，这些像素结构P至少一部分具有第一区域107，其垂直投影于第一基板100上与扫描线SL以及交错区X重叠，其中导电条状图案250的桥接部256，较佳地，对应设置在第一区域107内。举例而言，第一区域107是具有扫描线SL与导电条状图案250的区域，例如：扫描线SL与导电条状图案250的桥接部256至少部分重叠以及延伸部254部分重叠。藉此，导电条状图案250的延伸部254的第一延伸部254a以及第二延伸部254b通过桥接部256彼此连结，使得数据线DL周边电场具有更佳的均匀性。另外，由于导电条状图案250的桥接部256是沿着扫描线SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸，因此除了电性连结位于同一像素结构内的第一延伸部254a以及第二延伸部254b外，其亦可电性连结位于其延伸方向上的其它像素结构的第一延伸部254a以及第二延伸部254b，使像素阵列200中的每一像素结构中的导电条状图案250具有相同的共同电压。其中，导电条状图案250是位于与像素电极PE的相同的膜层，如考虑制成简便性，导电条状图案250与像素电极PE可以是具有相同材料，或于同一道制程形成，但不限于此。
图2B是图2A的像素结构P的局部(包括交错区X)的放大结构示意图。请参照图2B，数据线DL具有宽度Wd，延伸部254具有宽度W2，第一延伸部254a与第二延伸部254b分别具有宽度W3，开口258具有宽度Wg。为了避免导电条状图案250于制作过程时的位移，宽度W2较佳为符合W2＝(2*W3)+Wg，且开口258的宽度Wg小于数据线DL的宽度Wd。在本实施例中，举例而言，数据线DL的宽度Wd例如具有约14微米，其中第一延伸部254a与数据线DL的重叠区域的宽度例如为约2微米，且第二延伸部254b与数据线DL的重叠区域的宽度例如为约2微米，但本发眀不以此为限。
请再参照图2A以及图3，本实施例的像素结构P还包括屏蔽金属层SH，其中屏蔽金属层SH位于像素电极PE与数据线DL之间。在本实施例中，屏蔽金属层SH例如是与导电条状图案250电性连接至同一共同电压Vcom。具体来说，屏蔽金属层SH连接至共同电压Vcom且位于数据线DL与像素电极PE之间，故能遮蔽数据信号电压输入数据线DL时对像素电极PE所产生的电性影响，使像素电极PE的电场不会受到干扰，以提升画面显示均匀度，确保显示品质。另一方面，由于屏蔽金属层SH与像素电极PE部分重叠，故可与像素电极PE耦合以形成储存电容器(未标示)。屏蔽金属层SH与数据线 DL、栅极G以及扫描线SL彼此分隔开来。如图3所示，本实施例中的屏蔽金属层SH例如是与扫描线SL位于相同膜层，而与数据线DL位于不同膜层为例，因此绝缘层210是位于第一金属层(即：栅极G、扫描线SL与屏蔽金属层SH)与第二金属层(即：源极S、漏极D与数据线DL)之间，然本发明不限于此。在其他实施例中，屏蔽金属层SH也可以与数据线DL位于相同膜层，而与扫描线SL与位于不同膜层。
此外，承上述，本发明不限定桥接部256设置在第一区域107内；在另一实施例中，导电条状图案250的桥接部256亦可以是对应设置在第一区域107外。图4是本发明另一实施例的像素阵列的结构示意图。如图4所示，图4的像素阵列与上述图2A的像素阵列200相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符号表示，不再重复说明。图4的实施例与图2A的实施例间的主要差异处在于，图4的导电条状图案250的桥接部256是对应设置在第一区域107的外侧。具体来说，图4的导电条状图案250的桥接部256位于屏蔽金属层SH与扫描线SL之间，即屏蔽金属层SH与第一区域107之间。换言之，导电条状图案250的桥接部256不与扫描线SL重叠，但桥接部256于交错区X及其附近与部分的数据线DL重叠。此外，导电条状图案250的桥接部256可以选择性的与扫描线SL同层，或者桥接部256一部分与另一部分可分别从扫描线SL、数据线DL与像素电极PE其中至少二者同层。通过此设置，可进一步降低导电条状图案250与扫描线SL之间的寄生电容。
如上所述，本发明的像素结构以及显示面板将导电条状图案对应设置在数据线的上方，除了避免因上下两基板错位所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题外，更同时通过开口的设置，可减少导电条状图案与数据线之间的重叠区域，使得导电条状图案与数据线之间的寄生电容降低，进而减少电阻电容负载，以确保显示品质与穿透率。
图5A是本发明另一实施例的像素阵列的结构示意图。如图5A所示，图5A的像素阵列200’与上述图2A的像素阵列200相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符号表示，且不再重复说明。图5A的实施例与图2A的实施例主要差异处在于，其为导电条状图案的另一种实施态样。具体来说，相较于图2A的像素结构P的导电条状图案250，图5A的导电条状图案250’还包括连接部252，且位于第一区域107内。详细而言，连接部252是位于 数据线DL与扫描线SL的交错区Y，其为第一区域107的一部分。如图5B的交错区Y内的数据线DL具有宽度Wd1，其余部分的数据线DL具有宽度Wd，即交错区Y的外数据线DL具有宽度Wd，宽度Wd1小于宽度Wd且大于4微米。
请参考图5A，导电条状图案250’包括连接部252、延伸部254、桥接部256以及开口258，其中导电条状图案250’的连接部252以及延伸部254沿着数据线DL的延伸方向(即：第二方向D2)延伸，桥接部256沿着扫描线SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸。其它实施例的延伸方向与设计可查阅前述描述来加以变更。导电条状图案250’的连接部252以及桥接部256对应设置在位于第一区域107内，且连接部252位于具有宽度Wd1的数据线DL之上，导电条状图案250’的延伸部254位于具有宽度Wd的数据线DL之上，且开口258垂直投影于该第一基板100上与数据线DL至少部分重叠，即导电条状图案250垂直投影于第一基板100上未覆盖数据线DL至少一部分。换言之，开口258位于延伸部254内并暴露出数据线DL。
具体来说，导电条状图案250’的延伸部254具有第一延伸部254a以及第二延伸部254b，其中第一延伸部254a与第二延伸部254b分别配置于数据线DL的两侧而与数据线DL部分重叠。换言之，导电条状图案250’位于数据线DL的上方，其中导电条状图案250’具有位于延伸部254中的第一延伸部254a以及第二延伸部254b之间的开口258，使得部分的数据线DL未被第一延伸部254a以及第二延伸部254b所遮蔽，即仅部分数据线DL被开口258所暴露。也就是说，通过开口258的设置，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分别有部分不与数据线DL重叠(于垂直于第一基板方向上)，可减少导电条状图案250’与数据线DL的重叠区域，且再通过缩窄位于第一区域107(即交错区Y)中的数据线DL的线宽，可进一步减少导电条状图案250’(即：连接部252))与数据线DL在第一区域107内的重叠区域，进而大幅度地降低导电条状图案250’与数据线DL之间的寄生电容。又，导电条状图案250’是连接至电极膜400所连接的共同电压Vcom(即：导电条状图案250’以及电极膜400被施予相同的电压)，且前述的不与数据线DL重叠的部分第一延伸部254a以及第二延伸部254b是分别位于数据线的两侧，因此可达到保持数据线周边的电场稳定，避免因第一基板100与第二基板300错位时液晶倒向不 佳所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题。
另外，本实施例的延伸部254例如是与连接部252连接，且连接部252例如是与桥接部256连接，且连接部252与桥接部256皆是位于第一区域107内，如图5A所示，然本发明不以此为限。在其它实施例中，延伸部254例如是与连接部252连接，而延伸部254例如是与桥接部256连接，即连接部252位于第一区域107内，而桥接部256可选择性地位于第一区域107内或第一区域107内的外侧。藉此，导电条状图案250’的延伸部254的第一延伸部254a以及第二延伸部254b彼此电性连结，可更进一步地加强数据线DL周边的电场的均匀性。另外，由于导电条状图案250’的桥接部256是沿着扫描线SL的延伸方向(即：第一方向D1)延伸，因此除了电性连结位于同一像素结构内的第一延伸部254a以及第二延伸部254b外，其亦可电性连结位于其延伸方向上的其它像素结构的第一延伸部254a以及第二延伸部254b，使像素阵列200’中的每一像素结构P’中的导电条状图案250’具有相同的共同电压Vcom。
图5B是图5A的实施例的像素结构的局部放大结构示意图。具体来说，图5B是图5A的像素结构P’的局部(包含交错区Y)的放大结构示意图。请参照图5B，导电条状图案250’的连接部252具有宽度W1，延伸部254具有宽度W2，第一延伸部254a以及第二延伸部254b分别具有宽度W3，开口258具有宽度Wg，其中W2＝(2*W3)+Wg，宽度W1小于宽度W2，宽度W1大于宽度W3，且开口258的宽度Wg小于数据线DL的宽度Wd。在本实施例中，导电条状图案250’的连接部252的宽度W1例如是大于宽度Wd1，然本发明不限于此。在一实施例中，导电条状图案250’的连接部252的宽度W1例如是等于宽度Wd1。其中，导电条状图案250’是位于与像素电极PE的相同的膜层，故导电条状图案250’与像素电极PE具有相同材料。
如上所述，本发明的像素结构以及显示面板将导电条状图案对应设置在数据线的上方，除了避免因上下基板错位所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题外，还同时通过开口以及缩窄部分数据线DL的线宽的设置，可大幅度地减少导电条状图案与数据线之间的重叠区域，使得导电条状图案与数据线之间的寄生电容降低，进而减少电阻电容负载，以确保显示品质与穿透率。
为了证明本实施例的显示面板的设计确实具有较佳的光穿透率，特以数个实验条件进行实验来做验证。请参照下方表1，其分别以样本1至样本3进行数据线与其上方电极层之间的寄生电容值的量测。样本1为使用如图2A的像素阵列的显示面板(即：导电条状图案250)、样本2为使用如图5A的像素阵列的显示面板(即：导电条状图案250’)以及样本3为使用本发明的对照实施例的显示面板(请参照图6)。
详言之，图6为沿着剖面线AA’的对照实施例的显示面板的剖面示意图，其中剖面线AA’的位置标示于图2A。图6的显示面板与图3的显示面板10(具有图2A的像素阵列)相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符号表示，不再重复说明。更具体的说，图6的对照实施例与图3的实施例之间的主要差异处在于，绘示于图6中的导电条状图案600不具有暴露出数据线DL的开口258，即导电条状图案600与数据线DL重叠(于垂直第一基板方向上)。也就是说，图6所示的显示面板中的导电条状图案600是全面地覆盖于数据线DL上方。其中，样本1～3的设计，遮光层与扫描线SL至少部分重叠，但遮光层不存在于该数据线DL上方或下方。
表1
Figure DEST_PATH_GDA0001060926280000131
由表1可知，相较于本发明的对照实施例的显示面板(样本3)，本发明的显示面板(样本1以及样本2)确实有效地降低数据线与其上方电极层之间的寄生电容值，且以样本2最佳。
图7A以及图7B为本发明另一实施例的显示面板的剖面示意图。具体来说，图7A与图7B分别为沿着剖面线AA’以及剖面线BB’的显示面板的剖面示意图，其中剖面线AA’以及剖面线BB’的位置标示于图2A。如图7A以及图7B所示，绘示于图7A以及图7B中的显示面板11与上述图3的显示面板10相似，因此相同或相似的元件以相同的或相似的符号表示，且不再重复说明。此外，若第一基板与第二基板100与300对组的精准度可提高，则之 前省略的遮光层(黑色矩阵)仍可被使用。因此，图7A以及图7B的实施例与图3的实施例主要差异处在于，图7A以及图7B的显示面板11还包括遮光层(即黑色矩阵)LB以及彩色滤光层230。
更具体来说，图7A与图7B进一步绘示出扫描线SL、数据线DL、屏蔽金属层SH、遮光层LB、彩色滤光层230以及导电条状图案250之间的配置关系。
请同时参照图7A以及图7B，遮光层LB，与各像素结构P的扫描线SL及/或数据线DL至少部分重叠，且彩色滤光层230，位于各像素结构P。举例而言，遮光层LB位于第二基板300上，且遮光层LB与每一像素结构P的扫描线SL以及数据线DL重叠设置。更具体的说，遮光层LB位于第二基板300以及电极膜400之间，且遮光层LB例如是多个遮光图案。其中，如图7A所示，每一遮光图案分别对应一个像素结构P中的数据线DL重叠设置并沿着所对应的数据线DL的延伸方向延伸；且如图7B所示，每一遮光图案分别对应一个像素结构P中的扫描线SL重叠设置并沿着所对应的扫描线SL的延伸方向延伸。换言之，遮光层LB例如是多个遮光图案，且上述遮光图案排列呈网格状以覆盖于扫描线SL以及数据线DL上方。因此，通过遮光层LB的设置，可进一步减少像素结构P的漏光问题的发生，进而确保显示品质。然而，本发明不以此为限，在另一实施例中，遮光层LB例如可以仅被配置于扫描线SL上方或数据线DL上方。
此外，彩色滤光层230位于第一基板100上。如图7A与图7B所示，彩色滤光层230位于第一保护层220与第二保护层240之间。其中，通过第一保护层220的设置，彩色滤光层230与位于下方的扫描线SL、数据线DL以及屏蔽金属层SH电性绝缘，并通过第二保护层240的设置，彩色滤光层230与导电条状图案250的连接部256以及像素电极PE电性绝缘。更明确地说，彩色滤光层230是以第一保护层220与位于下方的主动元件T电性绝缘并以第二保护层240与位于上方的导电条状图案250以及像素电极PE电性绝缘，以确保显示面板的显示品质。第二保护层240的材料可选自第一保护层220所述的材料，且二者的材料可实质上相同或不同。
图8是本发明一实施例的曲面显示装置的示意图。请参照图8，曲面显示装置1000包括显示面板10、背光模块20以及弯曲装置30。显示面板10 可以是前述各实施例所述的显示面板，且背光模块20配置在显示面板10的背面。详细来说，背光模块20可以同时具有光源以及导光板或是只具有光源。当背光模块20同时具有光源以及导光板时，光源可以设置在导光板的侧边，且由光源射出的光能够通过导光板的引导而入射到显示面板10中。当背光模块20只具有光源时，光源可以直接配置在显示面板10的背面，使得光源射出的光不需通过导光板的引导而直接入射到显示面板10中。另一方面，将弯曲装置30设置在背光模块20的背面，以固定显示面板10以及背光模块20，使其具有一弯曲曲度。藉此，使得显示面板10形成弯曲状的显示面板。其中，框架31以及螺杆32的材质可为具有延展性的金属。如图8所示，本实施中的弯曲装置30包括框架31以及螺杆32，然发本明不限于此。在另一实施例中，本实施中的弯曲装置30可以是仅具有框架31。除此之外，曲面显示装置1000还可具有背板40，以固定螺杆32。曲面显示装置1000另具有封装材50与背板40连接。其中，本实施例的弯曲显示装置1000的曲率中心位于显示面板10的外侧，即显示面板10呈现内弯(内凹)。于其它实施例中，弯曲显示装置1000的曲率中心位于背板40的外侧，即显示面板10呈现外凸(外弯)。
综上所述，本发明的像素结构与显示面板通过将导电条状图案对应设置在数据线的上方并具有暴露出数据线的开口的设置，除了避免因上下基板错位所导致的漏光、面板亮度或是对比度不均等问题外，同时可减少导电条状图案与数据线之间的重叠区域，使得导电条状图案与数据线之间的寄生电容降低，进而减少电阻电容负载，以确保显示品质与穿透率。
除此之外，本发明的像素结构与显示面板通过缩窄位于数据线与扫描线的交错区内的数据线的线宽，可更加地减少导电条状图案与数据线的重叠区域，进一步降低导电条状图案与数据线之间的寄生电容，确保显示品质与穿透率。
虽然本发明已以实施例揭露如上，然其并非用以限定本发明，任何所属技术领域中具有通常知识者，在不脱离本发明的精神和范围内，当可作些许的更动与润饰，故本发明的保护范围当视后附的申请专利范围所界定者为准。

Claims (9)

1.一种显示面板，包括：
一第一基板；
一像素阵列，位于该第一基板上，该像素阵列包括多个像素结构，且多个所述像素结构至少一部分包括：
一扫描线以及一数据线；
一主动元件，与该扫描线以及该数据线电性连接；
一像素电极，与该主动元件电性连接；以及
一导电条状图案，对应设置在该数据线的上方，其中该导电条状图案具有一开口，且该开口垂直投影于该第一基板上与该数据线至少部分重叠，所述导电条状图案与所述像素电极位于同一层，且相互间隔，所述导电条状图案与所述数据线不连接；
一第二基板，位于该第一基板的对向侧；
一电极膜，位于该第二基板上，其中该电极膜被施予的电压与每一像素结构的该导电条状图案被施予的电压相同；以及
一液晶层，位于该第一基板与该第二基板之间，
其中每一像素结构的该导电条状图案包括：
一连接部；以及
一延伸部，与该连接部连接，其中该开口位于该延伸部，
其中多个所述像素结构至少一部分具有一第一区域，该第一区域垂直投影于该第一基板上与该扫描线重叠，其中该导电条状图案的该连接部对应设置在该第一区域，
其中该数据线与该扫描线于该第一区域具有重叠处，该数据线于该重叠处的线宽较数据线与该扫描线未重叠处小。
2.如权利要求1所述的显示面板，其中多个所述像素结构至少一部分还包含一屏蔽金属层，位于该像素电极与该数据线之间，其中该屏蔽金属层与该扫描线属于同一膜层。
3.如权利要求1-2其中之一所述的显示面板，还包括：
一遮光层，与该扫描线至少部分重叠，且该遮光层不存在于该数据线上方或下方。
4.如权利要求1-2其中之一所述的显示面板，还包括：
一遮光层，与各该像素结构的该扫描线及/或该数据线至少部分重叠。
5.一种曲面显示装置，包括：
一显示面板，如权利要求1所述；
一背光模块，位于该显示面板的一侧；以及
一弯曲装置，固定该显示面板以及该背光模块具有一弯曲曲度。
6.一种像素结构，包括：
一扫描线以及一数据线位于一第一基板；
一主动元件，与该扫描线以及该数据线电性连接；
一像素电极，与该主动元件电性连接；以及
一导电条状图案，对应设置在该数据线的上方，其中该导电条状图案具有一开口，且该开口垂直投影于该第一基板上与该数据线至少部分重叠，所述导电条状图案与所述像素电极位于同一层，且相互间隔，所述导电条状图案与所述数据线不连接，
其中每一像素结构的该导电条状图案包括：
一连接部；以及
一延伸部，与该连接部连接，其中该开口位于该延伸部，
其中多个所述像素结构至少一部分具有一第一区域，该第一区域垂直投影于该第一基板上与该扫描线重叠，其中该导电条状图案的该连接部对应设置在该第一区域，其中该数据线与该扫描线于该第一区域具有重叠处，该数据线于该重叠处的线宽较数据线与该扫描线未重叠处小。
7.如权利要求6所述的像素结构，其中该导电条状图案与该像素电极的材料相同且属于同一膜层。
8.如权利要求6所述的像素结构，还包含一屏蔽金属层，位于该像素电极与该数据线之间。
9.如权利要求6所述的像素结构，其中在该数据线上方不存在遮光层，且该遮光层仅与该扫描线至少部分重叠。
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