TWI649555B

TWI649555B - 光學構件的檢查方法、光學製品的製造方法、及光學構件的檢查裝置

Info

Publication number: TWI649555B
Application number: TW106143987A
Authority: TW
Inventors: 田村透; 古澤修也
Original assignee: 日商日東電工股份有限公司
Priority date: 2013-08-07
Filing date: 2014-05-27
Publication date: 2019-02-01
Also published as: TW201809641A; JP6255186B2; KR102270956B1; CN104345062B; TWI630380B; TW201506384A; KR102373254B1; CN104345062A; KR20200078438A; JP2015034710A; KR20150017663A

Abstract

本發明可對設有光源部與攝影部之檢查裝置供給光學構件作為被檢查物，並使前述光學構件通過業經特定之配置之前述光源部與前述攝影部之間而進行前述光學構件之檢查。

Description

光學構件的檢查方法、光學製品的製造方法、及光學構件的檢查裝置

技術領域

本發明有關於一種光學構件的檢查方法、光學製品的製造方法及光學構件的檢查裝置，更詳而言之，乃關於一種設有可對被檢查物照光之光源部及可自相反側拍攝受該光源部之光照射之部位之攝影部之檢查裝置、藉該檢查裝置而檢查光學構件之方法，以及使用前述業經檢查之光學構件而製造光學製品之方法。

背景技術

迄今，已使用偏光膜(偏光板)作為影像顯示裝置等光學製品所應用之光學薄膜。

上述偏光膜則已由光學薄膜廠商予以產品化為於諸如其至少一面上藉黏著層而積層有保護膜之薄膜積層體之狀態。

其次，偏光膜並已由光學製品廠商剝離前述保護膜而加以裝配於影像顯示裝置等中。

然而，偏光膜通常乃連續製成而形成長形之帶狀。

其次，偏光膜並構成藉黏著層而於至少一面上積層有前述保護膜之薄膜積層體，進而在上述薄膜積層體呈筒狀捲束而成之稱為整捲之形態下進行暫時保管。

然後，偏光膜再藉模切等而由前述整捲加工成具有預定形狀之薄片，前述薄片即為用於裝配於光學製品中之產品。

另，前述整捲並非必然全面均形成合格品，通常，將於前述模切前由檢查裝置進行瑕疵部位之偵測。

作為用於檢查上述整捲等片狀之光學構件之檢查裝置，已知設有光源部與攝影部，而可使被檢查物之光學構件朝水平方向通過上下對向配置之攝影部與光源部之間，同時自下面側藉前述光源部對前述光學構件照光，並自光學構件之上側藉前述攝影部拍攝前述光照射部位而偵測瑕疵之類型之檢查裝置(參照以下專利文獻1)。

且，亦已知一種非使光學構件呈水平狀態而進行檢查，而使光學構件之移動方向為垂直方向之檢查方法(參照以下專利文獻2)。

即，習知之光學製品之製造方法乃藉實施片狀之光學構件之瑕疵之偵測步驟及自該步驟後之光學構件切下比前述光學構件小型之薄片之步驟，而使用前述薄片製成光學製品。

其次，前述光學構件之瑕疵之偵測步驟通常乃藉固定前述光源部對前述光學構件之光照射部位，並以該光照射部位作為前述攝影部之拍攝部位，且使光學構件通過前述攝影部與前述光源部之間而沿前述光學構件之長度方向依序偵測瑕疵之方法而進行。

先行技術文獻專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2007-213016號公報

專利文獻2：日本專利特開2009-069142號公報

發明概要

使用前述之檢查裝置之檢查方法當然無法於攝影部之拍攝後藉前述檢查裝置測知光學構件上附著之附著物。

故而，為避免附著物進入最終光學製品中而使光學製品之良率降低，而須避免通過前述拍攝部位後產生附著物。

尤其，光學構件為最外層面上設有黏著層且該黏著層之背面側上積層有前述偏光膜之積層體，在以該黏著層為上面側而通過前述光源部與前述攝影部之間之態樣中，附著物將因黏著層之表面黏著力而不易脫落，故難以期待拍攝後乃附著之附著物自然地由光學構件脫落。

因此，上述態樣中，特別嚴格要求避免於前述拍攝後產生附著物。

因應上述之期待，則可考量如前述專利文獻2(特開 2009-069142)所示，使黏著層與偏光膜之積層體之移動方向為垂直方向而進行檢查，以避免拍攝後之附著物之產生。

然而，上述之檢查方法可能因積層體之移動方向為垂直而增加裝置之高度，並降低作業性，故不宜採用之。

另，並非僅限附有黏著層而使用之偏光膜乃要求拍攝後不致產生附著物，其它光學薄膜亦同。

然而，習知之光學構件之檢查方法並未充分滿足上述之期待，而難以較以往更為提高光學製品之製造良率。

本發明即以上述問題之解決為目標，而以提供可抑制檢查裝置本身或該檢查裝置所包含之光學構件之生產線之設備高度之增高，同時抑制前述拍攝後於光學構件產生附著物之光學構件之檢查方法，甚至提昇光學製品之製造良率為目的。

本發明人為解決上述問題而致力檢討後，發現可能由攝影部及光源部產生微小異物，此則可能導致通過攝影部之拍攝部位後之光學構件上產生附著物，以及，使位在光學構件上側之攝影部或光源部位在較前述拍攝部位之正上方更偏向上游側之處，則可有效抑制前述附著物之產生，而完成本發明。

即，可解決上述問題之光學構件之檢查方法之本發明可對設有光源部與攝影部之檢查裝置供給片狀之光學構件作為被檢查物，並使前述光學構件通過前述光源部與前述攝影部之間，同時自前述光源部朝前述光學構件之其中一面側照光，且自前述光學構件之另一面側藉前述攝影部而拍攝前述受光照射之部位以偵測前述光學構件之瑕疵，其特徵在於在前述光學構件為水平狀態或對水平方向傾斜之狀態下，使其通過前述光源部與前述攝影部之間，且，使前述光源部及前述攝影部中，位在前述光學構件之上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向前述光學構件之移動方向上游側之處而實施前述瑕疵之偵測。

又，可解決上述問題之光學製品之製造方法之本發明可自片狀之光學構件切下比前述光學構件小型之薄片，並使用前述薄片而製造光學製品，其特徵在於使用業經上述檢查方法之檢查之光學構件，並自藉前述檢查方法並未發現瑕疵之部分切下前述薄片。

進而，可解決上述問題之檢查裝置之本發明用於檢查片狀之光學構件，設有光源部與攝影部，可自前述光源部朝通過前述光源部與前述攝影部之間之前述光學構件之其中一面側照光，並自前述光學構件之另一面側藉前述攝影部而拍攝前述受光照射之部位以偵測瑕疵，其特徵在於使通過前述光源部與攝影部之間之光學構件形成水平狀態或對水平方向傾斜之狀態，而形成前述光學構件之移動路徑，且，使前述光源部及前述攝影部中，位在前述光學構件上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向前述光學構件之移動方向上游側之處。

依據本發明，檢查裝置之攝影部及光源部中，位在光學構件上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向光學構件之移動方向上游側之處。

因此，可藉本發明而避免未為攝影部所測知之附著物進入最終光學製品中。

其次，本發明即可抑制因此而使光學製品之良率降低之問題。

且，依據本發明，由於不使光學構件朝垂直方向而移動於攝影部與光源部之間，故可避免檢查裝置本身及光學構件之製造設備之高度增高。

另，本發明為更顯著發揮上述之效果，宜使通過前述光源部與前述攝影部之間之前述光學構件形成朝移動方向向上之傾斜狀態而實施前述瑕疵之偵測。

且，本發明為便於將前述光源部及前述攝影部配置成接近光學構件以有效節省空間，而宜將前述光源部與前述攝影部配置成可使連結前述光源部及前述攝影部之線段為與前述光學構件之移動方向垂直之方向以實施前述瑕疵之偵測。

進而，本發明中，前述光學構件為最外層面上設有黏著層且該黏著層之背面側上積層有偏光膜之積層體，以該黏著層為上面側而使前述光學構件通過前述光源部及攝影部之間，則可更為顯著地發揮抑制攝影部所未測知之附著物進入最終光學製品中之效果。

1‧‧‧送料機

2‧‧‧保護膜捲束機

3‧‧‧隔片捲束機

10‧‧‧檢查裝置

11‧‧‧攝影部

12‧‧‧光源部

a1、a2‧‧‧黏著層

a1‧‧‧第1黏著層

a2‧‧‧第2黏著層

A‧‧‧拍攝部位

BW‧‧‧上游側

D‧‧‧移動方向

f0‧‧‧薄膜積層體

fa‧‧‧積層體

fb‧‧‧附黏著層之保護膜

FW‧‧‧下游側

fx‧‧‧光學薄膜

fy、fz‧‧‧保護膜

fy‧‧‧隔片

fy‧‧‧第1保護膜

fz‧‧‧第2保護膜

X1、X2‧‧‧虛擬線

圖1為顯示應用本發明之檢查方法之光學構件之構造之概略立體圖。

圖2為顯示用於實施本發明之檢查方法之設備之概況之概略設備圖。

圖3為放大顯示圖2之主要部分之主要部分放大圖。

用以實施發明之形態

以下，說明本發明之較佳實施形態。

首先參照顯示應用本發明之檢查方法之光學構件之構造之圖1而說明該光學構件。

本發明之實施形態之前述光學構件為至少包含光學薄膜之片狀之光學構件，並為由包含前述光學薄膜之多數薄膜所構成之薄膜積層體。

前述薄膜積層體一如圖1所示，包含長形之帶狀之光學薄膜fx、用於保護該光學薄膜fx之兩面之2片保護膜fy、fz。

前述薄膜積層體f0之前述2片保護膜fy、fz具有與光學薄膜fx相同之形狀，並分別藉黏著層a1、a2而與光學薄膜fx黏合。

因此，本實施形態之薄膜積層體f0之平面形狀與光學薄膜fx相同，厚度大於光學薄膜fx，並具有由圖1之上方起依序存在保護膜fy、黏著層a1、光學薄膜fx、黏著層a2及保護膜fz之積層結構。

另，本實施形態中，前述2片保護膜fy、fz雙方均將於檢查裝置之檢查前自光學薄膜fx剝離。

更詳細說明之，則前述保護膜fy、fz中，位在上側之保護膜fy將在檢查前自其與光學薄膜fx之間之黏著層a1(亦下亦稱為「第1黏著層a1」)表面剝離。

另，位在下側之保護膜fz則附隨有其與光學薄膜fx之間之黏著層a2(以下亦稱為「第2黏著層a2」)而形成附黏著層之保護膜fb，並將於檢查前自光學薄膜f0之表面剝離。

另，以下，簡稱「保護膜」時，若無特別之理由，則意指形成附黏著層之保護膜fb而將自光學薄膜fx剝離之下側之保護膜fz，自第1黏著層a1之表面剝離之上側之保護膜fy則稱為「第1保護膜fy」或「隔片fy」以與下側之保護膜fz相互區別。

又，以下，為更明確加以區別，亦將下側之保護膜fz稱為「第2保護膜fz」。

如上所述，本實施形態中，將在自光學薄膜fx去除附黏著層之保護膜fb及隔片fy後乃實施檢查裝置之檢查。

因此，本實施形態中以檢查裝置檢查之被檢查物乃於最外層面設有前述第1黏著層，並於該第1黏著層a1之背面側上積層有前述光學薄膜fx之積層體fa。

構成使用於本實施形態之檢查方法之積層體fa之前述光學薄膜fx可為諸如於聚合物膜間夾設有偏振片而成之偏光膜。

接著，參照圖2、3而說明用於檢查由上述光學薄膜fx與黏著層積層而成之積層體fa之瑕疵部位之設備。

圖2顯示相對於前述積層體fa之移動方向而自側方觀察設備所得之狀態。

如該圖2所示，前述設備亦安裝有由薄膜積層體f0捲束成筒狀而成之整捲，並設有可自該整捲之外側饋送前述薄膜積層體f0之送料機1。

且，該設備並設有可自前述送料機1所饋送之薄膜積層體f0剝離前述第2保護膜fz與前述第2黏著層a2之積層體之附黏著層之保護膜fb而加以捲束之保護膜捲束機2。

進而，前述設備並設有可自前述薄膜積層體f0進而剝離隔片fy而加以捲束之隔片捲束機3，以及，可以自薄膜積層體f0剝離去除附黏著層之保護膜fb與隔片fy而得之積層體fa作為被檢查物而進行檢查之檢查裝置10。

又，雖未圖示，但前述設備並於前述檢查裝置10之下游側設有可標記而明示已藉前述檢查裝置10而發現之瑕疵部位之標記裝置。

前述檢查裝置10包含用於發現積層體fa之瑕疵部位之攝影部11，以及可自背面側朝該攝影部11之拍攝部位照光之光源部12。

前述檢查裝置10在本實施形態中，乃構成可將因損傷部位、薄壁部位、針孔部位、異物附著部位、其等以外之原因導致偏光特性超過容許範圍而與周圍不同之部位等測知為瑕疵部位。

可由諸如線掃描攝影機或面掃描攝影機等構成該檢查裝置10之攝影部11。

不須單獨使用前述線掃描攝影機或面掃描攝影機，亦可朝積層體fa之寬度方向(大致水平方向)加以排列配置多數台而構成攝影部11。

且，若有必要，亦可以具有不同功能之多台機器構成前述攝影部11。

可使用螢光燈、鹵素燈、金屬鹵素燈、LED等而形成前述光源部12。

該光源部12亦與前述攝影部11相同，亦可朝積層體fa之寬度方向排列多數之螢光燈、鹵素燈、金屬鹵素燈、LED等而形成，此時，無須以相同之光源進行排列配置，亦與攝影部11相同。

本實施形態之檢查裝置10在垂直方向上設有高差而設置前述攝影部11與前述光源部12，更詳而言之，乃將前述攝影部11配置於高於前述光源部12之位置。

其次，本實施形態之檢查裝置10並使前述攝影部11與前述光源部12在水平方向上偏位而加以設置。

即，前述攝影部11並非設於前述光源部12之正上方，而配置於前述光源部12之斜上側。

其次，本實施形態之檢查裝置10形成有可供被檢查物之前述積層體fa通過前述攝影部11與前述光源部12之間之前述積層體fa之移動路徑，該移動路徑則構成可使通過攝影部11與光源部12之間之前述積層體fa形成朝移動方向向上之傾斜狀態。

其次，前述攝影部11與前述光源部12配置成可使連結其等之線段與通過攝影部11與前述光源部12之間之前述積層體fa垂直。

即，前述攝影部11對前述積層體fa之拍攝部位乃通過自前述攝影部11對積層體表面畫成垂線之虛擬線(圖2之X1)與前述積層體fa之交點，並與積層體fa之寬度方向平行之直線狀之領域(圖3之A)。

另，在此，雖例示拍攝部位為較細之直線狀區域，但本實施形態之拍攝部位並不受限於上述形狀。

即，所拍攝之領域當然隨構成前述攝影部11之機器而異其大小及形狀等，舉例言之，以前述線掃描攝影機構成前述攝影部11時，將為圖3所示之細線狀領域，由前述面掃描攝影機構成攝影部11時，則形成大於使用線掃描攝影機時之區域，但本實施形態中，前述領域之形狀並無特別之限制。

前述光源部12配置於檢查裝置10中，而至少可對前述拍攝部位A之背側以充分之照度實施光照射。

使用上述檢查裝置10之積層體fa之檢查方法乃以前述積層體fa作為被檢查物而加以供至前述檢查裝置10，並於通過前述光源部12與前述攝影部11之間時，自前述光源部12朝其下面側照光，且自相反側以前述攝影部11拍攝前述受光照射之部位而偵測瑕疵。

甚且，使通過光源部12與攝影部11之間之前述積層體fa形成朝移動方向向上之傾斜狀態，而使位於前述積層體fa之上側之前述攝影部11位在較拍攝部位A之正上方更偏向前述移動方向D之上游側之處以檢出前述瑕疵。

在此，前述攝影部11之整體位在較前述拍攝部位A之正上方(圖3之虛擬線X2)更偏向前述積層體fa之移動方向上游側BW之處，而完全未位在下游側FW。

藉此，假設即便構成攝影部11之線掃描攝影機之外部所附著之微塵等掉落至積層體fa上，或由該線掃描攝影機內部產生微小異物而其掉落至積層體fa上，其等掉落至上游側之可能性將高於掉落至拍攝部位A。

其次，前述微小異物即可由攝影部11予以拍攝而辨識為瑕疵。

因此，本實施形態之檢查方法與習知之使積層體水平移動同時自正上方拍攝前述積層體之檢查方法相較，可減少未測知之瑕疵進入成品之光學製品中之可能。

另，在攝影部11與光源部12換位時亦可同樣發揮上述之效果。

即，在通過光源部與攝影部之間之前述積層體形成朝移動方向向上之傾斜狀態，並使位於前述積層體之上側之光源部位在較前述攝影部對積層體之拍攝部位之正上方更偏向前述移動方向上游側之處而偵測前述瑕疵時，亦可同樣發揮上述效果。

另，使位於積層體上側之攝影部或光源部位在較前述攝影部對積層體之拍攝部位之正上方更偏向前述積層體之移動方向上游側之處，並使前述積層體形成向上之傾斜狀態，尤其有助於獲致上述效果。

就以上加以說明，則即便使通過攝影部與光源部之間之積層體之移動路徑形成朝移動方向下行之傾斜狀態或水平狀態，亦可藉使位於積層體上側之攝影部或光源部位在較前述攝影部對積層體之拍攝部位之正上方更偏向前述積層體之移動方向上游側之處，而減少未測知之瑕疵進入成品之光學製品中之可能。

另，使前述積層體形成向上之傾斜狀態時，乃將攝影部與光源部配置成在對積層體垂直之方向上對向之狀態，而將位於前述積層體上側之攝影部或光源部配置於較拍攝部位之正上方更偏向前述積層體之移動方向上游側之處。

因此，使前述積層體形成向上之傾斜狀態時，將易於將攝影部及光源部配置成接近積層體，同時將攝影部或光源部配置於較拍攝部位之正上方更偏向前述積層體之移動方向上游側之處。

即，使積層體向上而傾斜，即可節省用於檢查之空間。

另，即便積層體之移動方向為垂直方向時，亦可不使前述攝影部或前述光源部位在攝影部之拍攝部位之正上方，而將攝影部與光源部配置成接近積層體。

然而，不宜使轉輥等抵接去除保護膜及隔片後之前述積層體而進行移動方向之轉換，尤其極難以對黏著層表面接觸任何構件。

故而，積層體之移動方向為垂直方向時，將配設於檢查裝置前後之裝置類配置於垂直方向上之必要性提高之結果，可能使設備高度增高。

設備高度若增高，則可能降低對檢查裝置設置被檢查物或進行該檢查裝置之設定時之作業性。

相對於此，使積層體形成水平狀態或對水平方向傾斜之狀態而通過攝影部與光源部之間，則可抑制設備高度增高之可能。

即，使積層體之角度(仰角)為0°(水平狀態)、大於-90°而小於0°(向下傾斜)，或大於0°而小於90°(向上傾斜)而設定攝影部與光源部之間之積層體之移動路徑，即可避免設備之高度過高。

如上所述，而將通過前述攝影部與前述光源部之間時之積層體之角度(仰角)設為大於-90°並小於90°，以抑制設備之高度。

通過前述攝影部與前述光源部之間時之積層體之角度(仰角)宜為大於0°、70°以下，大於0°、60°以下則尤佳，即可更為顯著發揮抑制裝置高度之效果。

另，實施上述之檢查方法後，可再對檢查後之積層體fa貼合前述附黏著層之保護膜及隔片，並於形成與原本相同之薄膜積層體後，藉前述標記裝置明示瑕疵部位而進行外形加工，並加以使用於對光學製品之裝配。

即，本實施形態中，可在實施前述光學構件之瑕疵之偵測步驟後，實施對前述光學構件進行外形加工之步驟，而製成光學製品。

更具體而言，光學製品之製造方法可實施自業經本實施形態之光學構件之檢查方法之檢查後之薄膜積層體切下比前述薄膜積層體之小型薄片之步驟，而以其作為偏光板，甚且，將自檢查已發現之瑕疵部分以外切下前述薄片而成之偏光板與其它構件一同組合而製成光學製品。

前述偏光板之切割則可應用以使用湯姆森刀模或衝壓機等之模切方法為代表之習知之公知方法。

又，光學製品之製造方法可就已切下之前述偏光板進而形成相位差層，或施予抗眩處理，使其與反射膜組合等，而製成影像顯示裝置之構成構件。

另，可內裝前述偏光板之光學製品則可例舉液晶顯示裝置、有機EL(電致發光)顯示裝置、電漿顯示面板等影像顯示裝置及觸控面板等輸入裝置。

前述光學製品之製造方法一如上述而可實施對設有光源部與攝影部之檢查裝置供給片狀之光學構件作為被檢查物，並使前述光學構件通過前述光源部與前述攝影部之間，同時自前述光源部朝前述光學構件之其中一面側照光，且自前述光學構件之另一面側藉前述攝影部拍攝前述受光照射之部位而偵測前述光學構件之瑕疵之步驟，以及自前述步驟後之光學構件切出尺寸小於前述光學構件之薄片之步驟。

甚且，該製造方法於偵測前述光學構件之瑕疵之前述步驟中，可在已使前述光學構件形成水平狀態或對水平方向傾斜之狀態下，使其通過前述光源部與前述攝影部之間，且，使前述光源部及前述攝影部中，位於前述光學構件上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向前述光學構件之移動方向上游側之處而實施前述瑕疵之偵測。

進而，該製造方法可於切下前述薄片之前述步驟中，自光學構件之未發現瑕疵之部分切下前述薄片。

如上而製成之光學製品中，用於製成偏光板之捲材之薄膜積層體之瑕疵部位較少，故可提高前述薄膜積層體於產品中之使用率，並有利於降低成本。

且，本實施形態所製造之光學製品可抑制裝配存在檢查所未辨識之瑕疵之偏光板之可能，故可期待較以往更為提昇良率，並避免與前述偏光板一同組裝之相位差膜及反射膜之浪費及組裝時間之浪費。

因此，可較以往更為提昇光學製品之製造效率。

另，本實施形態中已例示對於偏光膜上積層黏著層而成之積層體進行檢查。

其次，就難以期待通過拍攝部位後乃附著之附著物自然脫落，而可更為顯著發揮本發明效果之方面，雖已例示光學構件為前述之積層體，且以前述黏著層為上面側而使其通過前述光源部與前述攝影部之間之態樣，但以該黏著層為下面側而實施檢查之情況亦包括在本發明之光學構件之檢查方法之目的範圍內。

又，本發明之檢查方法之對象亦不受限於偏光膜與黏著層之2層結構者，實施於單層偏光膜或進而積層有其它光學薄膜者等之檢查方法亦包含在本發明之目的範圍內。

即，本實施形態雖已例示剝離隔片fy與保護膜fz 雙方而進行偏光膜之檢查，但舉例言之，不剝離保護膜fz即進行檢查之情形亦包括在本發明之目的範圍內。

進而，本發明之檢查方法並未將光學構件所包含之光學薄膜限定為偏光膜。

舉例言之，對相位差膜、增亮膜等實施本實施形態所說明之檢查之情況，亦包括在本發明之目的範圍內。

且，對積層有偏光膜、相位差膜、增亮膜等中之多種膜之積層膜實施本實施形態所說明之檢查之情況，亦包括在本發明之目的範圍內。

又，上述例示中，雖將攝影部與光學部配置成與光學構件之通過方向垂直，但亦可實施其等之配置而使連結攝影部與光學部之線段對光學構件之通過方向形成直角以外之角度。

即，本發明可在不明顯損及其效果之範圍內，對上述例示附加適當之變更。

Claims

一種光學構件之檢查方法，係將片狀之光學構件作為被檢查物供給至設有光源部與攝影部之檢查裝置，使前述光學構件通過前述光源部與前述攝影部之間，並自前述光源部對該光學構件之其中一面側照射光，且自該光學構件之另一面側藉前述攝影部拍攝受該光照射之部位以偵測前述光學構件之瑕疵，其特徵在於使前述光學構件在相對於水平方向傾斜之狀態下，通過前述光源部與前述攝影部之間，並使通過前述光源部與前述攝影部之間的前述光學構件成為朝移動方向向上之傾斜狀態，使前述光源部及前述攝影部中，位在前述光學構件之上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向該光學構件之移動方向上游側之處，且將前述光源部與前述攝影部配置成使連結前述光源部與前述攝影部之線段為對前述光學構件之移動方向垂直之方向，當在前述拍攝部位之正上方不存在前述光源部及前述攝影部之任一者的狀態下，實施前述瑕疵之偵測，前述瑕疵之偵測包含對前述光學構件之附著物的偵測。
一種光學製品之製造方法，自片狀之光學構件切下比該光學構件小型之薄片，並使用該薄片而製造光學製品，其使用已實施請求項1之光學構件之檢查方法的光學構件，並自藉前述檢查方法而沒有發現瑕疵之部分切下前述薄片。
一種光學構件之檢查裝置，用於檢查片狀之光學構件，設有光源部與攝影部，可自前述光源部朝通過該光源部與前述攝影部之間之前述光學構件之其中一面側照射光，並自前述光學構件之另一面側藉前述攝影部拍攝受該光照射之部位以偵測瑕疵，其特徵在於前述光學構件之移動路徑形成為使通過前述光源部與前述攝影部之間之光學構件為相對於水平方向傾斜之狀態，並使通過前述光源部與前述攝影部之間的前述光學構件成為朝移動方向向上之傾斜狀態，使前述光源部及前述攝影部中，位在前述光學構件之上側者位在較前述攝影部對光學構件之拍攝部位之正上方更偏向該光學構件之移動方向上游側之處，且將前述光源部與前述攝影部配置成使連結前述光源部與前述攝影部之線段為對前述光學構件之移動方向垂直之方向，在前述拍攝部位之正上方不存在前述光源部及前述攝影部之任一者，前述瑕疵之偵測包含對前述光學構件之附著物的偵測。