TWI642808B - 基板傳輸單元與鍍膜設備 - Google Patents

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Abstract

一種基板傳輸單元與鍍膜設備。基板傳輸單元包括一傳動軸、多個傳輸滾輪與多個軸承。這些傳輸滾輪分別用以傳輸一基板。每一個傳輸滾輪經由對應的軸承而組裝至傳動軸。每一個軸承包括一轉子以及一定子。每一個傳輸滾輪固定至對應的轉子。定子固定至傳動軸。轉子與定子之間具有平行於傳動軸的一軸向的一磁性互斥力。定子經由磁性互斥力於轉子與定子之間產生的一摩擦力帶動轉子轉動。

Description

基板傳輸單元與鍍膜設備
本發明是有關於一種傳輸單元與鍍膜設備，且特別是有關於一種基板傳輸單元與鍍膜設備。
現今，高效率的卷對卷製程普遍應用於許多產品的製程中，以降低製造成本。為了進一步提升產量而降低製造成本，在現有的卷對卷製程設備中，會同時設置多個傳輸滾輪以同時傳輸多種基板。然而，在製程中，各個傳輸滾輪所傳輸的基板的張力大小可能有所差異，並導致部分的基板難以精準對位或甚至鬆脫。若要以個別驅動各個傳輸滾輪的方式解決上述問題，會面臨機構設計困難以及設備成本過高的問題。
本發明提供一種基板傳輸單元與鍍膜設備，可解決各個傳輸滾輪所傳輸的基板的張力大小有差異的問題。
本發明的基板傳輸單元包括一傳動軸、多個傳輸滾輪與多個軸承。這些傳輸滾輪分別用以傳輸一基板。每一個傳輸滾輪經由對應的軸承而組裝至傳動軸。每一個軸承包括一轉子以及一定子。每一個傳輸滾輪固定至對應的轉子。定子固定至傳動軸。轉子與定子之間具有平行於傳動軸的一軸向的一磁性互斥力。定子經由磁性互斥力於轉子與定子之間產生的一摩擦力帶動轉子轉動。
本發明的鍍膜設備包括如前述的基板傳輸單元、一放卷單元、一鍍膜單元以及一收卷單元。前述的基板為鍍膜遮罩。放卷單元用以輸出一目標基板。鍍膜單元用以經由鍍膜遮罩而鍍膜於目標基板。收卷單元用以回收鍍膜完成的目標基板。
基於上述，在本發明的基板傳輸單元與鍍膜設備中，定子經由磁性互斥力於轉子與定子之間產生的摩擦力帶動轉子轉動。因此，轉子與定子之間可適度地產生相對轉動，進而達成適時調整張力大小的目的。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1是依照本發明一實施例的鍍膜設備的示意圖。請參照圖1，本發明一實施例的鍍膜設備1000包括至少一個基板傳輸單元100、一放卷單元1400、一鍍膜單元1300以及一收卷單元1200。本實施例中，有兩個基板傳輸單元100是如下將介紹的本發明一實施例的基板傳輸單元100。在其他實施例中，鍍膜設備1000也可以僅包括一個如下將介紹的本發明一實施例的基板傳輸單元100，而與此基板傳輸單元100搭配用以收放基板10的另一基板傳輸單元可以與基板傳輸單元100採用不同設計。基板傳輸單元100所傳輸的基板10為鍍膜遮罩。本實施例的基板傳輸單元100所傳輸的基板10是製作成連續條狀的，且適合收納成卷。放卷單元1400用以輸出一目標基板20。鍍膜單元1300用以經由鍍膜遮罩而鍍膜於目標基板20。收卷單元1200用以回收鍍膜完成的目標基板20。
此外，依據實際需求，本實施例的鍍膜設備1000可更包括一主滾輪1500或是其他元件。另外，本實施例的鍍膜設備1000可更包括一真空腔體1600。鍍膜單元1300位於真空腔體1600內。因此，本實施例的鍍膜單元1300是在真空環境下操作，但本發明不侷限於此。此外，本實施例的鍍膜單元1300是在真空環境下對基板20進行鍍膜，因此用於在鍍膜時承載目標基板20的主滾輪1500也位於真空腔體1600內。另外，基板傳輸單元100、放卷單元1400以及收卷單元1200也可選擇性地放在真空腔體1600內。
圖2是依照本發明一實施例的基板傳輸單元的立體示意圖。請參照圖2，本發明一實施例的基板傳輸單元100可應用於如圖1所示的鍍膜設備1000，但本發明不侷限於此。本實施例的基板傳輸單元100包括一傳動軸110、多個傳輸滾輪120與多個軸承130。每個傳輸滾輪120用以傳輸一基板10。每一個傳輸滾輪120經由對應的一個軸承130而組裝至傳動軸110。由於本實施例中是以單一傳動軸110帶動多個傳輸滾輪120，因此可以簡化傳動機構的設計且節省所佔用的空間，。每個傳輸滾輪120所傳輸的基板10可以是相同或不同的。
圖3是圖2的基板傳輸單元的軸承處沿著傳動軸110的軸向剖下所得的剖面示意圖。請參照圖2與圖3，本實施例的每一個軸承130包括一轉子132以及一定子134。每一個傳輸滾輪120固定至對應的轉子132。定子134固定至傳動軸110。轉子132與定子134之間具有平行於傳動軸110的一軸向D10的一磁性互斥力M10。換言之，轉子132施加磁性互斥力M10於定子134，且定子134施加磁性互斥力M10於轉子132。定子134經由磁性互斥力M10於轉子132與定子134之間產生的一摩擦力F10帶動轉子132轉動。換言之，磁性互斥力M10使定子134傾向於遠離轉子132，但磁性互斥力M10也將定子134壓附於轉子132上遠離磁性互斥力M10發生的一側的另一側上。因此，當定子134被傳動軸110帶動旋轉時，在定子134與轉子132彼此緊密壓附的接合面上便會產生摩擦力F10，而摩擦力F10帶動轉子132轉動。摩擦力F10基本上垂直於傳動軸110的軸向D10。
在本實施例的基板傳輸單元100中，單一傳動軸110帶動多個傳輸滾輪120。在運作時，可能因為所剩餘的卷料的半徑大小不同或其他差異而導致不同傳輸滾輪120上的基板10承受不同的張力。但是，因為傳輸滾輪120不是直接固定於傳動軸110上，所以可以允許傳輸滾輪120相對傳動軸110轉動，進而達成調整基板10所承受的張力的大小的目的，同時避免基板10與圖1的目標基板20之間產生摩擦而降低良率。而且，定子134是施加非接觸式的磁性互斥力M10於轉子132，因此可減少定子134與轉子132可能產生的機械磨耗，避免需要頻繁更換軸承130而降低產量。
圖4是圖2的基板傳輸單元的軸承的分解示意圖。請參照圖3與圖4，本實施例的每一個轉子132例如包括一筒體132A以及一底盤132B。筒體132A具有一內腔C10。內腔C10具有一軸向壁W12與一徑向壁W14。底盤132B組裝至筒體132A。定子134配置於內腔C10內且被限位於底盤132B與徑向壁W14之間。當定子134被傳動軸110帶動旋轉時，底盤132B施加於定子134的磁性互斥力使定子134緊密壓附於筒體132A的內腔C10的徑向壁W14，且定子134與徑向壁W14之間產生的摩擦力F10就會帶動轉子132轉動。此外，本實施例的每一個軸承130例如還包括潤滑油136，配置於軸向壁W12與徑向壁W14，用以排除機械加工精度限制以及轉子132與定子134相對運動不順暢的問題，並提供各傳輸滾輪120均一的傳動阻力。潤滑油136例如是含氟且具有高黏度，適合於真空環境下工作而不會有揮發氣體。
另外，本實施例的底盤132B例如是螺合於筒體132A，但本發明不侷限底盤132B與筒體132A的組裝方式。此外，本實施例的每一個轉子132具有一第一磁鐵132C，每一個定子134具有一第二磁鐵134C，前述的磁性互斥力M10由第一磁鐵132C與第二磁鐵134C提供。舉例來說，第一磁鐵132C設置於底盤132B面對定子134的一側，而第二磁鐵134C設置於定子134面對底盤132B的一側。
圖5A與圖5B分別是圖2的基板傳輸單元在調整軸承的位置的前後的示意圖。請參照圖5A與圖5B，傳動軸110上例如具有多個定位點112，而軸承130是可拆卸地組裝於定位點112。舉例來說，每個定位點112可以是一個孔洞，而軸承130例如還包括一定位銷138。當軸承130已經組裝於所要的定位點112時，定位銷138插入對應的定位點112而達成定位的目的，如圖5A。當要移動軸承130至另一個定位點112時，將定位銷138從原本的定位點112取出，即可移動軸承130，並且在軸承130移動完成後將定位銷138插入新的對應的定位點112而達成定位的目的，如圖5B。在圖5A中，多個軸承130是等距離地組裝於傳動軸110上，而在圖5B中，多個軸承130則是非等距離地組裝於傳動軸110上，使用者可根據需求選擇。此外，軸承130也可以是固定於傳動軸110上而無法移動，本發明對此不設限。另外，本實施例的多個定位點112之間是等距離的，但在其他實施例中多個定位點之間也可以是不等距離的。
圖6A與圖6B分別是本發明另一實施例的基板傳輸單元在調整軸承的位置的前後的示意圖。請參照圖6A與圖6B，本實施例的基板傳輸單元與圖5A的實施例相似，差異在於本實施例的傳動軸110A不具有定位點。取而代之，本實施例的傳動軸110A具有一個定位平面114。軸承130同樣是藉由定位銷138而定位。當軸承130已經到達所要位置時，便將定位銷138穿過軸承130而抵緊於定位平面114上。利用定位銷138與定位平面114之間的緊迫接觸，當定位銷138與定位平面114之間欲產生相對位移時，就可藉由摩擦力而阻止相對位移的產生，進而使軸承130定位在傳動軸110A的固定位置上，如圖6A。當要移動軸承130至另一個位置時，解除定位銷138與定位平面114之間的接觸關係，即可移動軸承130，並且在軸承130移動到新的位置後將定位銷138再次抵緊於定位平面114上的新的位置以達成定位的目的，如圖6B。在圖6A與圖6B的架構下，軸承130可以定位在傳動軸110A上的任何位置，不會如圖5A般受到定位孔112的位置的限制。
綜上所述，在本發明的基板傳輸單元與鍍膜設備中，傳輸滾輪不是直接固定於傳動軸上，而是由定子經由磁性互斥力所產生的摩擦力帶動傳輸滾輪轉動。因此，當傳輸滾輪上的基板所承受的張力過大或過小時，轉子與定子之間可適度地相對轉動，進而達成適時調整張力大小的目的。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
10‧‧‧基板
20‧‧‧目標基板
100‧‧‧基板傳輸單元
110、110A‧‧‧傳動軸
112‧‧‧定位點
114‧‧‧定位平面
120‧‧‧傳輸滾輪
130‧‧‧軸承
132‧‧‧轉子
132A‧‧‧筒體
132B‧‧‧底盤
132C‧‧‧第一磁鐵
134‧‧‧定子
134C‧‧‧第二磁鐵
136‧‧‧潤滑油
138‧‧‧定位銷
1000‧‧‧鍍膜設備
1200‧‧‧收卷單元
1300‧‧‧鍍膜單元
1400‧‧‧放卷單元
1500‧‧‧主滾輪
1600‧‧‧真空腔體
M10‧‧‧磁性互斥力
D10‧‧‧軸向
F10‧‧‧摩擦力
C10‧‧‧內腔
W12‧‧‧軸向壁
W14‧‧‧徑向壁
圖1是依照本發明一實施例的鍍膜設備的示意圖。 圖2是依照本發明一實施例的基板傳輸單元的立體示意圖。 圖3是圖2的基板傳輸單元的軸承處的剖面示意圖。 圖4是圖2的基板傳輸單元的軸承的分解示意圖。 圖5A與圖5B分別是圖2的基板傳輸單元在調整軸承的位置的前後的示意圖。 圖6A與圖6B分別是本發明另一實施例的基板傳輸單元在調整軸承的位置的前後的示意圖。

Claims (15)

  1. 一種基板傳輸單元，包括： 一傳動軸； 多個傳輸滾輪，分別用以傳輸一基板； 多個軸承，其中每一該些傳輸滾輪經由對應的該軸承而組裝至該傳動軸，每一該些軸承包括： 一轉子，其中每一該些傳輸滾輪固定至對應的該轉子；以及 一定子，固定至該傳動軸，其中該轉子與該定子之間具有平行於該傳動軸的一軸向的一磁性互斥力，該定子經由該磁性互斥力於該轉子與該定子之間產生的一摩擦力帶動該轉子轉動。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的基板傳輸單元，其中每一該些轉子包括： 一筒體，具有一內腔，其中該內腔具有一軸向壁與一徑向壁；以及 一底盤，組裝至該筒體，其中對應的該定子配置於該內腔內且被限位於該底盤與該徑向壁之間，該傳動軸轉動時，該底盤與對應的該定子之間的該磁性互斥力使對應的該定子與該徑向壁之間產該摩擦力。
  3. 如申請專利範圍第2項所述的基板傳輸單元，其中每一該些軸承更包括潤滑油，配置於該些軸向壁與該些徑向壁。
  4. 如申請專利範圍第2項所述的基板傳輸單元，其中該些底盤螺合於該些筒體。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的基板傳輸單元，其中每一該些轉子具有一第一磁鐵，每一該些定子具有一第二磁鐵，該些第一磁鐵與該些第二磁鐵之間存在該磁性互斥力。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的基板傳輸單元，其中該些軸承等距離地組裝於該傳動軸上。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的基板傳輸單元，其中該傳動軸具有多個定位點，該些軸承可拆卸地組裝於該些定位點。
  8. 一種鍍膜設備，包括： 如申請專利範圍第1項所述的基板傳輸單元，其中該些基板為多個鍍膜遮罩； 一放卷單元，用以輸出一目標基板； 一鍍膜單元，用以經由該些鍍膜遮罩而鍍膜於該目標基板；以及 一收卷單元，用以回收鍍膜完成的該目標基板。
  9. 如申請專利範圍第8項所述的鍍膜設備，其中每一該些轉子包括： 一筒體，具有一內腔，其中該內腔具有一軸向壁與一徑向壁；以及 一底盤，組裝至該筒體，其中對應的該定子配置於該內腔內且被限位於該底盤與該徑向壁之間，該傳動軸轉動時，該底盤與對應的該定子之間的該磁性互斥力使對應的該定子與該徑向壁之間產該摩擦力。
  10. 如申請專利範圍第9項所述的鍍膜設備，其中每一該些軸承更包括潤滑油，配置於該些軸向壁與該些徑向壁。
  11. 如申請專利範圍第9項所述的鍍膜設備，其中該些底盤螺合於該些筒體。
  12. 如申請專利範圍第8項所述的鍍膜設備，其中每一該些轉子具有一第一磁鐵，每一該些定子具有一第二磁鐵，該些第一磁鐵與該些第二磁鐵之間存在該磁性互斥力。
  13. 如申請專利範圍第8項所述的鍍膜設備，其中該些軸承等距離地組裝於該傳動軸上。
  14. 如申請專利範圍第8項所述的鍍膜設備，其中該傳動軸具有多個定位點，該些軸承可拆卸地組裝於該些定位點。
  15. 如申請專利範圍第8項所述的鍍膜設備，更包括一真空腔體，其中該鍍膜單元位於該真空腔體內。
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