TWI639771B

TWI639771B - Vacuum pump

Info

Publication number: TWI639771B
Application number: TW106122653A
Authority: TW
Inventors: 木村裕章
Original assignee: 島津製作所股份有限公司
Priority date: 2016-08-29
Filing date: 2017-07-06
Publication date: 2018-11-01
Also published as: JP2018035684A; CN107795499A; CN107795499B; TW201807317A; US20200291963A1; US20180058478A1; US10989225B2

Abstract

一種真空泵，能夠減少朝向半導體裝置腔室內的顆粒的反沖。渦輪分子泵(1)包括：旋轉體(4)，由泵轉子(4a)緊固於通過馬達(10)而旋轉驅動的軸(4b)而成；凹部(43)，形成於泵轉子(4a)的進氣口側端面；以及平衡修正部件(65)，包括覆蓋凹部(43)的蓋體部(6)。

Description

真空泵

本發明是有關於一種真空泵。

渦輪分子泵的轉子，一般通過螺栓等緊固部件，而緊固於旋轉軸即軸(例如參照專利文獻1)。在專利文獻1所記載的渦輪分子泵中，在轉子的進氣口側端面形成有凹部，通過螺栓將此凹部底面部分緊固於軸。

[現有技術文獻]

[專利文獻]

[專利文獻1] 日本專利3974772號公報

但是，在將渦輪分子泵等真空泵用作例如蝕刻裝置等半導體製造裝置的排氣泵的情況下，在排出製程氣體(process gas)時，因製程氣體中的成分的化學變化而產生的顆粒(particle)會從進氣口流入至真空泵內。如上所述，在轉子的進氣口側端面形成有凹部的情況下，顆粒容易堆積於凹部。若對向半導體製造裝置腔室流入的氣體進行調節，而反復地對腔室內進行加壓減壓，則堆積於凹部的顆粒會向腔室側反沖。結果是，導致半導體製造過程中的品質下降。

本發明的優選實施方式的真空泵包括：旋轉體，由泵轉子緊固於通過馬達而旋轉驅動的軸而成；凹部，形成於所述泵轉子的進氣口側端面；以及平衡修正部件，具有覆蓋所述凹部的蓋體部，其中，所述蓋體部兼具有：防止流入的顆粒堆積在所述凹部的覆蓋功能、以及對於所述泵轉子的平衡進行修正的平衡修正功能。

在更優選的實施方式中，所述蓋體部的轉子軸方向位置設定在所述蓋體部的外表面與所述凹部的內壁的邊緣一致時的位置、與所述蓋體部的內表面與所述泵轉子的進氣口側端面一致時的位置之間。

在更優選的實施方式中，所述泵轉子包括：將所述凹部的內壁的邊緣與所述泵轉子的進氣口側端面予以連接的上升梯度的斜面。

在更優選的實施方式中，所述平衡修正部件包含第一元件與第二元件，所述第一元件包括配置於所述凹部的第一平衡修正部，所述第二元件形成有所述蓋體部。

在更優選的實施方式中，所述蓋體部包括第二平衡修正部。

在更優選的實施方式中，所述第一元件包括第三修正部，此第三修正部配置在所述蓋體部的外周側，覆蓋所述凹部的一部分，且兼具有覆蓋功能與平衡修正功能。

在更優選的實施方式中，所述第一元件、所述泵轉子及所述軸通過螺栓的共同緊固作用而彼此緊固，所述第二元件固定於所述第一元件。

在更優選的實施方式中，所述軸貫穿所述泵轉子而突出至所述凹部，所述平衡修正部件固定於所述軸的突出至所述凹部的部分。

在更優選的實施方式中，所述軸貫穿所述泵轉子而突出至所述凹部，所述第二元件固定於所述軸的突出至所述凹部的部分。

在更優選的實施方式中，包括將所述凹部與所述蓋體部的外部空間予以連接的連通路徑。

根據本發明，能夠減少朝向半導體裝置腔室內的顆粒的反沖。

1‧‧‧渦輪分子泵

3‧‧‧基座

4‧‧‧旋轉體單元

4a‧‧‧泵轉子

4b‧‧‧軸

5‧‧‧平衡圈

6、650‧‧‧蓋體部

10‧‧‧馬達

30‧‧‧泵進氣口

31‧‧‧固定葉片

32‧‧‧定子

33‧‧‧墊圈

34‧‧‧徑向電磁鐵

34a‧‧‧間隙感測器

35‧‧‧徑向電磁鐵

35a‧‧‧間隙感測器

36‧‧‧軸向電磁鐵

36a‧‧‧間隙感測器

37a‧‧‧機械軸承

37b‧‧‧機械軸承

38‧‧‧排氣口

39‧‧‧冷卻水管

41‧‧‧旋轉葉片

42‧‧‧圓筒部

43‧‧‧凹部

65‧‧‧平衡修正部件

70‧‧‧螺栓

71‧‧‧螺栓

72‧‧‧螺栓

73‧‧‧螺栓

74‧‧‧螺栓

75‧‧‧螺栓

400‧‧‧貫穿孔

401‧‧‧凸台部

402‧‧‧端面

403‧‧‧斜面

404‧‧‧凸緣

405‧‧‧凹部

406‧‧‧凸台部

431‧‧‧內壁

501‧‧‧凸台部

502‧‧‧凸台部

503‧‧‧凸部

504、507a、603、650a‧‧‧修正部

505‧‧‧凹部

506‧‧‧凹部

507‧‧‧豎立部

601‧‧‧凹部

602‧‧‧外表面

604‧‧‧內表面

605‧‧‧凸部

651‧‧‧凹部

G‧‧‧間隙

J‧‧‧軸

L1‧‧‧雙點劃線

P‧‧‧顆粒

t‧‧‧厚度尺寸

圖1是表示本發明的真空泵的一實施方式的圖。

圖2是泵轉子的凹部部分的放大圖。

圖3A與圖3B是對平衡圈及蓋體部的組裝順序與平衡調整方法進行說明的圖。

圖4A與圖4B是對蓋體部的軸方向位置進行說明的圖。

圖5是表示本實施方式的第一變形例的圖。

圖6A與圖6B是表示本實施方式的第二變形例的圖。

圖7是表示本實施方式的第三變形例的圖。

圖8是表示本實施方式的第四變形例的圖。

圖9A與圖9B是表示本實施方式的第五變形例的圖。

圖10A、圖10B與圖10C是表示本實施方式的第六變形例的圖。

圖11A與圖11B是表示本實施方式的第六變形例的其他例子的圖。

以下，參照圖式，來對用以實施本發明的方式進行說明。圖1是表示本發明的真空泵的一實施方式的圖，且是表示渦輪分子泵1的概略結構的剖視圖。

圖1所示的渦輪分子泵1包括：渦輪泵段，包含旋轉葉片41與固定葉片31；以及螺桿槽泵段，包含圓筒部42與定子32。在螺桿槽泵段中，在定子32或圓筒部42中形成有螺桿槽(screw groove)。旋轉葉片41及圓筒部42形成於泵轉子4a。泵轉子4a通過螺栓而緊固於軸4b。由泵轉子4a與軸4b構成旋轉體單元4。

相對於配置在軸方向上的多段的旋轉葉片41，交替地配置有多段的固定葉片31。各固定葉片31經由墊圈(spacer ring)33而沿著泵軸方向層疊。軸4b是由設置於基座3的徑向電磁鐵34、35及軸向電磁鐵36而非接觸地支撐。軸4b的從目標懸浮位置算起的位移，是由間隙感測器(gap sensor)34a、間隙感測器35a、間隙感測器36a而檢測。

旋轉體單元4通過馬達10而旋轉驅動。在磁軸承不工作時，軸4b由備用的機械軸承(mechanical bearing)37a、37b支撐。旋轉體單元4通過馬達10而高速旋轉後，氣體分子從泵進氣口30流入，通過渦輪泵段(旋轉葉片41、固定葉片31)及螺桿槽泵段(圓筒部42、定子32)依次進行排氣，使氣體分子從排氣口38排出。在基座3中設置有基座冷卻用的冷卻水管39。

在泵轉子4a的泵進氣口側的端面402中，形成有凹部43。在凹部43中設置有平衡修正部件65。平衡修正部件65包括：覆蓋凹部43的蓋體部6(第二元件)與平衡修正用的平衡圈(balance ring)5(第一元件)。通過螺栓75將蓋體部6固定於平衡圈5的凸台部502，由此，這些部分一體化為平衡修正部件65。平衡圈5通過螺栓70，與泵轉子4a一起緊固於軸4b。

圖2是泵轉子4a的凹部43的部分的放大圖。形成於軸4b的頂部的凸台部401、與平衡圈5的背面側所形成的凸台部501插入至貫穿孔400，此貫穿孔400形成於泵轉子4a的凹部底面。另外，在平衡圈5的凸台部502的頂部形成凸部503，此凸部503嵌合於蓋體部6的背面側所形成的凹部601，由此，蓋體部6被定位。蓋體部6的外表面602的高度(軸方向位置)將後述。

凹部43由蓋體部6覆蓋，因此，從泵進氣口30(參照圖1)流入的顆粒P會落下至泵轉子4a的泵進氣口側的端面402或蓋體部6的外表面602上。渦輪分子泵1的旋轉體單元4高速旋轉，因此，落下至端面402或外表面602的顆粒P利用離心力，以遠離旋轉的軸J的方式向旋轉葉片41的前端方向移動。移動至旋轉葉片41的部分的顆粒P通過旋轉葉片41及固定葉片31，向泵下游側移動。由此，能夠防止顆粒P堆積於泵轉子4a的端面，從而能夠防止在增加或減小半導體裝置腔室內的壓力時，顆粒P 向腔室內反沖。

如上所述，旋轉體單元4高速旋轉，因此，平衡調整變得重要。圖3A與圖3B是對平衡圈5及蓋體部6的組裝順序與平衡調整方法進行說明的圖。在第一製程中，如圖3A所示，通過螺栓70將泵轉子4a與平衡圈5一起緊固於軸4b。由此，泵轉子4a與軸4b一體化，並且平衡圈5固定於泵轉子4a的凹部底面。

在第二製程中，在未安裝蓋體部6的狀態下，通過旋轉測試機來對旋轉體單元4的不平衡量進行測量。在測量出的不平衡量超過允許值的情況下，利用鑽頭等將平衡圈5的修正部504的一部分削去，以減少不平衡量。相反地，也可以通過對修正部504附加固定螺釘等品質來修正不平衡。

在第三製程中，如圖3B所示，將蓋體部6固定於平衡圈5，並通過旋轉測試機來對旋轉體單元4的不平衡量進行測量。在測量出的不平衡量超過允許值的情況下，將蓋體部6的外表面602的一部分削去，以減少不平衡量。再者，將蓋體部6的靠近邊緣的區域設定為作為削去部分的修正部603(第二平衡修正部)。蓋體部6的品質遠小於旋轉體單元整體的品質，因此，因安裝蓋體部6而引起的平衡破壞程度小，與第二製程中的削除量相比，超過允許值時的削除量非常小。因此，修正部603的厚度能夠比平衡圈5的修正部504的厚度更薄。

一般來說，泵轉子4a由鋁合金形成，但對半導體裝置用途的渦輪分子泵實施耐腐蝕處理。例如，對渦輪分子泵實施鍍鎳等耐腐蝕處理。在此情況下，在鍍覆處理之前，進行所述第一製程及第二製程。再者，在平衡圈5及蓋體部6中使用不銹鋼材料之類的耐腐蝕性的金屬材料。在第二製程的平衡修正後，對泵轉子4a實施鍍覆處理。在鍍覆處理後，將泵轉子4a組裝至軸4b，並將蓋體部6固定於平衡圈5。然後，與所述第三製程的情況同樣地，對旋轉體單元4進行平衡修正。

圖4A與圖4B是對蓋體部6的軸方向位置進行說明的圖。圖4A是對蓋體部6的軸方向位置的下限進行說明的圖。蓋體部6的外表面602的下限位置設定為與凹部43的內壁431的邊緣一致的位置。在泵轉子4a中形成有斜面403，此斜面403連接凹部43的內壁431的邊緣(上端)與泵進氣口側的端面402。即，對凹部43的邊緣實施了倒角加工。在此情況下，內壁431的邊緣成為斜面403的下端。

外表面602上的顆粒P如虛線箭頭所示，越過斜面403而向端面402移動，然後，移動至旋轉葉片41的部分並被排出。因此，為了使顆粒P容易越過斜面403，優選斜面403的梯度小。

另一方面，如雙點劃線L1所示，在凹部43的邊緣未形成倒角部的情況下，或在倒角部非常小的情況下，以使外表面602與端面402在軸方向位置上一致的方式，設定蓋體部6的高度的下限位置。

圖4B是對蓋體部6的軸方向位置的上限進行說明的圖。為了使泵小型化，優選將旋轉體單元4的軸方向高度抑制得盡可能低。因此，蓋體部6的上限位置優選設為蓋體部6的內表面604與端面402接觸時的位置。此時，蓋體部6的外表面602的軸方向位置成為：將蓋體部6的厚度尺寸t與端面402的軸方向位置相加所得的值。

(第一變形例)

圖5是表示本實施方式的第一變形例的圖。如圖3A與圖3B所說明，在將蓋體部6安裝於平衡圈5後，也進行平衡調整，在不平衡量超過基準值的情況下，將蓋體部6的修正部603削去而進行平衡修正。因此，在圖5所示的第一變形例中，使修正部603的厚度變厚，從而增大修正的餘裕度(margin)。

另外，在平衡圈5與蓋體部6之間的緊固部上，在蓋體部6中形成有凸部605，在平衡圈5中形成有凹部505。再者，在斜面403與蓋體部6的修正部603之間形成間隙G。凹部43的空間與外部空間經由此間隙G而連通。原因在於：若將凹部43設為密閉空間，則此空間成為氣穴(air pocket)，因而在進行真空排氣時，凹部43內的氣體會逐漸洩漏，對真空環境造成不良影響。但是，通過像圖5那樣形成間隙G，在真空排氣時，凹部43內的氣體會迅速地被排出，因此，不會產生如上所述的問題。再者，代替形成間隙G，也可以在蓋體部6中形成貫穿孔。

(第二變形例)

圖6A與圖6B是表示本實施方式的第二變形例的圖。在圖2所示的實施方式中採用了如下結構，即，通過螺栓70，將泵轉子4a與平衡圈5一起緊固於軸4b而形成一體。另一方面，在圖6A所示的結構中，利用螺栓71來緊固泵轉子4a與軸4b，並利用螺栓72來緊固泵轉子4a與平衡圈5。在任一種情況下，均從凹部43側進行螺栓緊固。另一方面，在圖6B所示的結構中，在軸4b中形成凸緣404，使用螺栓73將此凸緣404的部分緊固於泵轉子4a。從軸側(圖示的下側)擰緊螺栓73。

(第三變形例)

圖7是表示本實施方式的第三變形例的圖。在圖2所示的實施方式中採用了如下結構，即，使軸4b的凸台部401及平衡圈5的凸台部501嵌合於泵轉子4a的貫穿孔400。另一方面，在圖7所示的結構中，在泵轉子4a中，形成有軸緊固用的凹部405與平衡圈緊固用的凸台部406。另外，在平衡圈5的背面側，形成有供凸台部406嵌合的凹部506。使軸4b的凸台部401嵌合於凹部405，且使泵轉子4a的凸台部406嵌合於平衡圈5的凹部506，並利用螺栓70進行緊固，由此，泵轉子4a、軸4b及平衡圈5成為一體。

(第四變形例)

圖8是表示本實施方式的第四變形例的圖。在圖8所示的結構中，平衡圈5的結構與圖2所示的平衡圈5不同，據此變更蓋體部6的外徑尺寸。如圖3A與圖3B所說明，在平衡調整作業中，在安裝蓋體部6之前，利用平衡圈5進行平衡修正，在安裝了蓋體部6後，通過將蓋體部6削去而再次進行平衡修正。在第四變形例中採用如下結構，即，能夠僅利用平衡圈5進行所述兩個平衡修正。

在平衡圈5中，在修正部504的外周部分，形成有向凹部43的開口方向延伸設置的豎立部507，在豎立部507的前端設置有修正部507a。此修正部507a配置在蓋體部6的外周側，並與蓋體部6一起覆蓋凹部43的一部分。即，修正部507a具備平衡修正功能與覆蓋功能。

在安裝蓋體部6前的平衡修正中，與圖3A所示的情況同樣地，利用鑽頭等將平衡圈5的修正部504的一部分削去。接著，在安裝了蓋體部6後的平衡修正中，利用鑽頭等將修正部507a的一部分削去，由此進行平衡修正。在所述結構的情況下，無需對於蓋體部6設置平衡修正用的削去量，因此，能夠使蓋體部6的厚度變薄。

(第五變形例)

圖9A與圖9B是表示本實施方式的第五變形例的圖。在所述圖2所示的例子中，利用平衡圈5與蓋體部6這兩個元件，來構成平衡修正部件65。另一方面，在圖9A所示的結構中，利用一個元件來構成平衡修正部件65。平衡修正部件65包括蓋體部650，使蓋體部650的外周側的壁厚變厚而設為修正部650a。

在第五變形例中，平衡修正部件65具備平衡修正功能與覆蓋功能，因此，與像圖2那樣包含兩個元件的情況相比，能夠減少組裝作業的製程數。而且，在平衡調整作業中，在使泵轉子4a、軸4b及平衡修正部件65成為一體後，只要進行一次平衡修正即可。

圖9B所示的結構表示如下情況，即，將平衡修正用的修正部650a配置在由蓋體部650覆蓋的凹部43的內部。在此種結構的情況下，在進行平衡修正時，需要在蓋體部650中形成修正部650a的貫穿孔，優選包含兩個組件。

再者，在圖9A、圖9B所示的例子中，採用了利用螺栓74將平衡修正部件65固定於泵轉子4a的結構，但與圖2的結構的情況同樣地，也可以利用螺栓的共同緊固作用，對泵轉子4a、軸4b及平衡修正部件65進行緊固。

(第六變形例)

圖10A~圖10C、圖11A~圖11B是表示本實施方式的第六變形例的圖。在第六變形例中，如圖10A所示，軸4b的凸台部401是以貫穿泵轉子4a的貫穿孔400的方式構成。在圖10A所示的結構中，向凹部43側突出的凸台部401的前端，嵌合於平衡圈5中所形成的凹部505。蓋體部6(第二元件)的結構與圖5所示的蓋體部6相同。

在圖10B所示的結構中，平衡圈5是單純的環狀的板部件，軸4b的凸台部401貫穿所述平衡圈5的中心部。另外，蓋體部6成為固定於泵轉子4a的端面402的結構，外周部分通過螺栓固定於泵轉子4a的端面402。形成於蓋體部6的背面側中央的凹部601成為嵌合於軸4b的前端的結構。

圖10C所示的結構為如下結構，即，圖8的結構中的軸4b的凸台部401貫穿泵轉子4a的貫穿孔400。蓋體部6呈與圖8所示的情況相同的形狀，平衡圈5的結構也與圖8所示的情況大致相同。但是，因為軸4b的凸台部401貫穿泵轉子4a，所以在平衡圈5的背面側形成凹部405，軸4b的前端嵌合於此凹部405。

圖11A所示的結構為如下結構，即，將圖10B所示的結構中的蓋體部6固定於軸4b的凸台部401的前端。另外，圖11B所示的結構為如下結構，即，將具備平衡修正功能與覆蓋功能的平衡修正部件65固定於軸4b的凸台部401的前端。泵轉子4a通過螺栓固定於軸4b，平衡修正部件65通過螺栓固定於凸台部401的前端。在平衡修正部件65的背面側中央形成有與凸台部401嵌合的凹部651，在蓋體部650的外周部分形成有壁厚的修正部 650a。在對泵轉子4a與軸4b進行緊固，並將平衡修正部件65固定於軸4b的前端之後，進行平衡調整作業。在平衡修正過程中，將平衡修正部件65的修正部650a的一部分削去。

如以上的說明所述，本實施方式會產生如下所述的作用效果。

(1)如圖2或圖9A~圖9B所示，渦輪分子泵1包括平衡修正部件65，此平衡修正部件65包括覆蓋凹部43的蓋體部6。結果是，流入至泵內的顆粒P會落下至端面402或蓋體部6的外表面602上，能夠防止所述顆粒P滯留於凹部43。端面402或外表面602上的顆粒P會利用離心力，向旋轉葉片41的方向移動並向泵下游側排出，因此，能夠防止顆粒P堆積於泵轉子端面上，從而能夠防止顆粒P因半導體裝置腔室的加壓減壓而向腔室內反沖。

(2)如圖4A~圖4B所示，蓋體部6的轉子軸方向位置，設定在蓋體部6的外表面602與凹部43的內壁431的邊緣一致時的位置(圖4A所示的位置)、與蓋體部6的內表面604與泵轉子4a的進氣口側的端面402一致時的位置(圖4B所示的位置)之間。另外，在設置了將凹部43的內壁431的邊緣與泵轉子4a的進氣口側的端面402予以連接的上升梯度的斜面403的情況下，設定範圍的下限位置即內壁431的邊緣是斜面403與內壁431的交線。

以所述方式設定蓋體部6的轉子軸方向位置，由此，蓋體部6的外表面602上的顆粒P能夠利用離心力，容易地向旋轉葉片方向移動。例如，在蓋體部6的外表面602低於內壁431的邊緣的情況下，在外表面602上移動的顆粒P會受到內壁431阻擋，導致顆粒P積存在此部分。另一方面，在本實施方式中，將外表面602的下限位置設為內壁431的邊緣，因此，能夠防止積存如上所述的顆粒P。另外，因為垂直的內壁431未露出，所以在泵維護時，當抹除外表面602上的顆粒P時，容易進行抹除。

(3)另外，如圖2所示，利用配置於凹部43的平衡圈5與蓋體部6這兩個元件來構成平衡修正部件65，由此，容易利用平衡圈5進行平衡修正作業。另外，能夠分別使用適合於元件的材料，例如在平衡圈5中使用比重大的金屬材料，在蓋體部6中使用比重小的金屬材料等。

(4)而且，如圖5所示，在蓋體部6中也設置平衡修正用的修正部603，由此，安裝蓋體部6後的平衡修正過程中的可修正量存有餘地。

(5)在圖8所示的結構中，平衡圈5(第一元件)包括修正部507a(第三修正部)，此修正部507a配置在蓋體部6的外周側，覆蓋凹部43的一部分，並兼具有覆蓋功能與平衡修正功能。根據此種結構，在安裝蓋體部6前的平衡修正及安裝蓋體部6後的平衡修正中，均能夠通過修正部507a進行平衡修正。這樣，將平衡修正功能的組件(平衡圈5)與覆蓋功能的組件(蓋體部6)嚴格地設為不同的組件，由此，能夠形成分別特殊化後的結構。例如，能夠使蓋體部6的厚度盡可能薄，且使此蓋體部6盡可能輕。

(6)如圖2所示，採用如下結構，即，通過螺栓70的共同緊固作用，將平衡圈5(第一元件)、泵轉子4a及軸4b彼此緊固，由此，能夠減少組裝作業的製程數。

(7)另外，如圖5所示，包括將凹部43與蓋體部6的外部空間予以連接的連通路徑(間隙G)，由此，在真空排氣時，凹部43內的氣體會迅速地被排出。結果是不會產生如下事態，此事態是指凹部43內的氣體逐漸洩漏，對真空環境造成不良影響。

在所述內容中，對各種實施方式及變形例進行了說明，但本發明並不限定於這些內容。另外，也能夠將一個或多個所述變形例與所述實施方式加以組合。而且，在本發明的技術思想的範圍內考慮到的其他方式也包含在本發明的範圍內。例如，在所述實施方式中，以渦輪分子泵為例進行了說明，但也能夠適用於包括高速旋轉的轉子的真空泵例如牽引分子泵(molecular drag pump)等。用以安裝蓋體部的螺栓也可以呈比蓋體部稍向上方突出的形狀。另外，也可以對平衡圈或蓋體實施鍍覆處理，以防止腐蝕。在此情況下，可以對平衡圈或蓋體的整個面進行鍍覆處理，也可以僅對從凹部露出的蓋體部的上表面進行鍍覆處理。

Claims

一種真空泵，包括：旋轉體，由泵轉子緊固於通過馬達而旋轉驅動的軸而成；凹部，形成於所述泵轉子的進氣口側端面；以及平衡修正部件，具有覆蓋所述凹部的蓋體部，所述平衡修正部件兼具有：防止流入的顆粒堆積在所述凹部的覆蓋功能、以及對於所述泵轉子的平衡進行修正的平衡修正功能。
如申請專利範圍第1項所述的真空泵，其中，所述蓋體部的轉子軸方向位置設定在：所述蓋體部的外表面與所述凹部的內壁的邊緣一致時的位置、與所述蓋體部的內表面與所述泵轉子的進氣口側端面一致時的位置之間。
如申請專利範圍第2項所述的真空泵，其中，所述泵轉子包括：將所述凹部的內壁的邊緣與所述泵轉子的進氣口側端面予以連接的上升梯度的斜面。
如申請專利範圍第2項或第3項所述的真空泵，其中，所述平衡修正部件包含第一元件與第二元件，所述第一元件包括配置於所述凹部的第一平衡修正部，所述第二元件形成有所述蓋體部。
如申請專利範圍第4項所述的真空泵，其中，所述蓋體部包括第二平衡修正部。
如申請專利範圍第4項所述的真空泵，其中，所述第一元件包括第三修正部，所述第三修正部配置在所述蓋體部的外周側，覆蓋所述凹部的一部分，且兼具有覆蓋功能與平衡修正功能。
如申請專利範圍第4項所述的真空泵，其中，所述第一元件、所述泵轉子及所述軸，通過螺栓的共同緊固作用而彼此緊固，所述第二元件固定於所述第一元件。
如申請專利範圍第1項所述的真空泵，其中，所述軸貫穿所述泵轉子而突出至所述凹部，所述平衡修正部件固定於所述軸的突出至所述凹部的部分。
如申請專利範圍第4項所述的真空泵，其中，所述軸貫穿所述泵轉子而突出至所述凹部，所述第二元件固定於所述軸的突出至所述凹部的部分。
如申請專利範圍第1項所述的真空泵，更包括：將所述凹部與所述蓋體部的外部空間予以連接的連通路徑。