JP3961155B2

JP3961155B2 - 真空ポンプ

Info

Publication number: JP3961155B2
Application number: JP14909799A
Authority: JP
Inventors: 剛志樺澤; 学野中; 隆志岡田
Original assignee: Ｂｏｃエドワーズ株式会社
Priority date: 1999-05-28
Filing date: 1999-05-28
Publication date: 2007-08-22
Anticipated expiration: 2019-05-28
Also published as: US6755611B1; KR20000077471A; TW466305B; JP2000337290A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は真空ポンプに係り、詳細には、吸気口側に気体分子を排気するための翼が配置された真空ポンプに関する。
【０００２】
【従来の技術】
真空ポンプは、例えば半導体製造装置におけるチャンバ内の気体を排気してこれを真空状態にする装置等に広く使用されている。この真空ポンプは、全体が翼で構成されたものや、翼部とネジ溝部とを組み合わせたもの等がある。
【０００３】
図１２及び図１３は、従来の真空ポンプの構成について表したもので、図１２は上面から見た状態の一部を表す図、図１３はその断面の一部を表す図である。
この真空ポンプは、吸気口１６を有するケーシング１０に固定されたステータ翼５０と、回転するロータ軸１８に固定されて回転するロータ翼４０を有するロータ４１とを備えている。各ステータ翼５０とロータ翼４０とは、軸方向に多段に配置されて、ロータ４１とケーシング１０間に吸気口１６から気体分子Ａを引き込んで排気する排気系１３を形成している。
このような真空ポンプでは、モータにより定常状態において数万ｒｐｍでロータ軸１８を高速回転させることで、真空（排気）処理を行うようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ロータ翼４０の周速度を大きくして排気性能を高めるためにロータ翼４０の外径を大きくするという方策があるが、ロータ翼４０の剛性が低下することになるため、ロータ翼４０の内径も合わせて大きくするようにしている。このため、気体分子Ａは吸気口１６と同一範囲で入射するのに対して、吸気口１６に面している最上段ロータ翼４０の内径内（ロータ軸１８の上部周辺）には翼が存在せず、気体分子Ａの流れを妨げるデッドスペースとなっていた。このデッドスペースが形成されることは、実質的に吸気口の有効面積が低下していることと等しく、コンダクタンスが小さくなると共に、ロータ翼４０に入射する気体分子の量を減少させることになり、排気効率が低下するという問題があった。
【０００５】
この吸気口中心部のデッドスペースに対応するために、実開昭６４ー５６５９７号公報には図１４に示すようにロータ軸１８の上端部に円錐状のインデューサ１９を取り付けた真空ポンプが提案されている。この提案にあってはインデューサ１９の壁面に衝突した気体分子Ａに径方向外方の運動成分を与えることが可能になる。
しかし、分子流領域における気体分子Ａは、図１４に示すように、衝突面に対して法線方向に向かうという余弦則から、外方の運動成分だけでなく、上方向（吸気口１６方向）の運動成分を有することになり、十分な排気効率を得ることはできないという問題があった。
【０００６】
そこで本願発明は、このような従来の真空ポンプの課題を解決するためになされたもので、ロータ翼に入射する気体分子の量を増大し、排気効率を高めた真空ポンプを提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
（１）請求項１記載の発明では、ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、吸気口を有するケーシングと、前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、
前記案内翼は、回転方向前面部が該案内翼の形成面に垂直になるように形成されている
ことを特徴とする真空ポンプ、により前記目的を達成する。
（２）請求項２記載の発明では、ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、吸気口を有するケーシングと、前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、前記案内翼は、回転方向前面部が、回転軸を中心とし該案内翼の取り付け部を通る放射線に対して、所定の後退角だけ回転方向後方に傾斜して形成されていることを特徴とする真空ポンプを提供する。
（３）請求項３記載の発明では、前記案内翼は、前記吸気口に臨んで略円錐状に順次縮径された形成面に形成されていることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空ポンプを提供する。
（４）請求項４記載の発明では、ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、吸気口を有するケーシングと、前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、前記排気手段は、少なくとも複数の翼により形成され、前記案内翼は、前記翼の最上段に配置されるロータ翼のブレード数に対して、その約数あるいは整数倍の枚数に設定されていることを特徴とする真空ポンプを提供する。
（５）請求項５記載の発明では、ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、吸気口を有するケーシングと、前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、前記案内翼は、前記吸気口に向けてケーシング内壁を順次縮径させたケーシング縮径部と対向する位置に形成されていることを特徴とする真空ポンプを提供する。
（６）請求項６記載の発明では、前記排気手段は、翼部、ネジ溝部、又は翼部とネジ溝部の組み合わせにより形成されたことを特徴とする請求項１から請求項５のうちのいずれか１の請求項に記載の真空ポンプを提供する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に好適な実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。図１は、本発明の真空ポンプの一実施形態の全体構成の断面を表したものである。
この真空ポンプ１は、例えば半導体製造装置内等に設置され、チャンバ等からプロセスガスの排出を行うものである。またこの真空ポンプ１は、チャンバ等からのプロセスガスをステータ翼７２とロータ翼６２とにより下流側へ移送するターボ分子ポンプ部Ｔと、ターボ分子ポンプ部Ｔからプロセスガスが送り込まれ、このプロセスガスをネジ溝ポンプにより更に移送して排出するネジ溝ポンプ部Ｓとを備えている。
【００１０】
図１に示すように、真空ポンプ１は、略円筒形状のケーシング１０と、このケーシング１０の中心部に配置される略円柱形状のロータ軸１８と、ロータ軸１８に固定配置されロータ軸１８とともに回転するロータ６０と、ステータ７０とを備えている。
ケーシング１０は、その上端部に半径方向外方へ延設されたフランジ１１を有しており、このフランジ１１をボルト等によって半導体製造装置等に留め付けてフランジ１１の内側に形成される吸気口１６とチャンバ等の容器の排出口とを連接し、容器の内部とケーシング１０の内部とを連通させるようになっている。
【００１１】
ロータ６０は、ロータ軸１８の外周に配置された断面略逆Ｕ字状のロータ本体６１を備えている。このロータ本体６１は、ロータ軸１８の上部にボルト１９で取り付けられている。ロータ本体６１は、ターボ分子ポンプ部Ｔにおいては、外周にロータ翼６２が多段に形成されている。各段のロータ翼６２は、外側が開放された複数の翼により構成されている。
【００１２】
ステータ７０は、ターボ分子ポンプ部Ｔにおいては、スペーサ７１と、このスペーサ７１、７１間に外周側が支持されることでロータ翼６２の各段の間に配置されるステータ翼７２とを備えており、ネジ溝ポンプ部Ｓにおいては、スペーサ７１に連設するネジ溝部スペーサ８０を備えている。
スペーサ７１は段部を有する円筒状であり、ケーシング１０の内側に積み重ねられている。各スペーサ７１の内側に位置する段部の軸方向の長さはロータ翼６２における各段の間隔に応じた長さになっている。
【００１３】
ネジ溝部スペーサ８０は、ケーシング１０の内側に配設され、かつ、スペーサ７１に連設され、スペーサ７１とステータ翼７２との下方に配設されている。このネジ溝部スペーサ８０は、内径壁がロータ本体６１の外周面と近接する位置まで張り出した厚みを有しており、内径壁に螺旋構造のネジ溝８１が複数条形成されている。このネジ溝８１は、上記ステータ翼７２とロータ翼６２との間と連通されており、ステータ翼７２とロータ翼６２との間を移送されてきた気体がネジ溝８１に導入され、ロータ本体６１の回転によってネジ溝８１内を更に移送されるようになっている。
なお、この実施形態では、ネジ溝８１をステータ７０側に形成したが、ネジ溝８１をロータ本体６１の外径壁に形成するようにしてもよい。またネジ溝８１をネジ溝部スペーサ８０に形成すると共に、ロータ本体６１の外径壁にも形成するようにしてもよい。
【００１４】
真空ポンプ１は、更に、ロータ軸１８を磁力により支持する磁気軸受２０と、ロータ軸１８にトルクを発生させるモータ３０を備えている。
磁気軸受２０は、５軸制御の磁気軸受であり、ロータ軸１８に対して半径方向の磁力を発生させる半径方向電磁石２１、２４と、ロータ軸１８の半径方向の位置を検出する半径方向センサ２２、２６と、ロータ軸１８に対して軸方向の磁力を発生させる軸方向電磁石３２、３４と、軸方向電磁石３２、３４による軸方向の磁力が作用するアーマチュアディスク３１、ロータ軸１８の軸方向の位置を検出する軸方向センサ３６とを備えている。
【００１５】
半径方向電磁石２１は、互いに直交するように配置された２対の電磁石で構成されている。各対の電磁石は、ロータ軸１８のモータ３０よりも上部の位置に、ロータ軸１８を挟んで対向配置されている。
この半径方向電磁石２１の上方には、ロータ軸１８を挟んで対向する半径方向センサ２２が２対設けられている。２対の半径方向センサ２２は、２対の半径方向電磁石２１に対応して、互いに直交するように配置されている。
さらに、ロータ軸１８のモータ３０よりも下部の位置には、同様に２対の半径方向電磁石２４が互いに直交するように配置されている。
この半径方向電磁石２４の下方にも、同様に半径方向電磁石２４に隣接して半径方向センサ２６が２対設けられている。
【００１６】
これら半径方向電磁石２１、２４に励磁電流が供給されることによって、ロータ軸１８が磁気浮上される。この励磁電流は、磁気浮上時に、半径方向センサ２２、２６からの位置検知信号に応じて制御され、これによってロータ軸１８が半径方向の所定位置に保持されるようになっている。
【００１７】
ロータ軸１８の下部には、磁性体で形成された円板状のアーマチュアディスク３１が固定されており、このアーマチュアディスク３１を挟んで対向する一対の軸方向電磁石３２、３４が配置されている。さらにロータ軸１８の下端部に対向して軸方向センサ３６が配置されている。
この軸方向電磁石３２、３４の励磁電流は、軸方向センサ３６からの位置検知信号に応じて制御され、これによりロータ軸１８が軸方向の所定位置に保持されるようになっている
【００１８】
磁気軸受２０は、制御系４５として図示しない磁気軸受制御部を備えている。そしてこの磁気軸受制御部が半径方向センサ２２、２６、および軸方向センサ３６の検出信号に基づいて半径方向電磁石２１、２４および軸方向電磁石３２、３４などの励磁電流をそれぞれフィードバック制御することによって、ロータ軸１８を磁気浮上させるようになっている。
このように、本実施形態の真空ポンプ１は、磁気軸受を使用することによって、機械的接触部分が存在しないため粉塵の発生がなく、また、シール用のオイル等が不要であるためガス発生もなく、クリーンな環境での駆動を実現している。このような真空ポンプは、半導体製造等の高いクリーン度が要求される場合に適している。
【００１９】
また、本実施形態の真空ポンプ１では、ロータ軸１８の上部及び下部側には保護用ベアリング３８、３９が配置されている。
通常、ロータ軸１８及びこれに取り付けられている各部からなるロータ部は、モータ３０により回転している間、磁気軸受２０により非接触状態で軸支される。保護用ベアリング３８、３９は、タッチダウンが発生した場合に磁気軸受２０に代わってロータ部を軸支することで装置全体を保護するためのベアリングである。
従って保護ベアリング３８、３９は、内輪がロータ軸１８には非接触状態になるように配置されている。
【００２０】
モータ３０は、ケーシング１０の内側の半径方向センサ２２と半径方向センサ２６との間で、ロータ軸１８の軸方向ほぼ中心位置に配置されている。このモータ３０に通電することによって、ロータ軸１８および、これに固定されたロータ６０、ロータ翼６２が回転するようになっている。この回転の回転数は回転数センサ４１により検出され、この回転数センサ４１からの信号に基づいて制御系によって制御されるようになっている。
【００２１】
真空ポンプ１のケーシング１０の下部には、ネジ溝ポンプ部Ｓにより移送されてきた気体を外部へ排出する排気口１７が配置されている。
また、真空ポンプ１は、コネクタおよびケーブルを介して制御系に接続されている。
【００２２】
特に、本発明にあっては図１に示すように、吸気口１６からの気体分子Ａに対して、径方向外方に向けて排気系１３の入り口側に運動成分を付与するための案内翼８０が、ロータ６０の上端部に一体的に取り付けれる。この案内翼８０はロータ６０と一体的に形成されあるいはロータ６０とは別体の別ピースで構成される。図示例は案内翼８０を別ピースで構成したものである。
【００２３】
具体的には案内翼８０は吸気口１６に臨んで順次縮径された円錐状のボス部９０に形成されていると共にそのボス部９０を介在させてロータ６０と同方向に一体的に回転するようになっている。ロータ本体６１には吸気口１６に臨んで開放された係合溝９１が形成されると共に、ボス部９０の底部には係合溝９１に係合する係合突起９２がロータ本体６１側に臨んで突出するように形成されている。ボス部９０にはボルト９３が挿通され、このボルト９３はロータ軸１８の上端部に螺合してボス部９０を含む案内翼８０をロータ本体６１に固定するようになっている。
【００２４】
したがって、吸気口１６からロータ６０の上流側に引き込まれた気体分子Ａにはロータ６０と共に一体的に回転する案内翼８０により径方向外方に向かう運動成分が与えられ、気体分子Ａは強制的に排気系１３の入り口に案内されることになる。このため、排気系１３に入射される気体分子数が増大し、排気系１３による排気効率を高めることができる。
【００２５】
図２、図３および図４は案内翼８０が形成されている形成面１００の形態例を示したものであり、いずれの形成面１００も吸気口１６に臨んで略円錐状に順次縮径されるように構成されている。
すなわち、図２は下流側から上流側に直線的に縮径された断面台形状の形成面１０１を形成したものであり、図３に示す形成面１０２にあっては円錐半径を径方向内方に縮径した例を示す。また、図４にあっては円錐半径を径方向外方に拡径させて下流側に断面半円形状の形成面１０３を示す。
案内翼８１、８２、８３は各形成面１０１、１０２、１０３の円錐半径に応じた仰角を有する。
【００２６】
いずれの形成面１０１、１０２、１０３にあっても上流側から下流側に向けて回転軸から離れるに従って周速度が増大することから、径方向外方に運動成分が与えれると共に形成面１０１、１０２、１０３の形状に相似した気体分子Ａの反射速度分布が得られ、排気系１３に入射される気体分子の量を増大できる。排気系１３に入射される気体分子数を増大するためには例えば形成面を形成する底角αを１５〜６０度に設定することが望ましい。
【００２７】
図５は、案内翼８０が略円錐状の形成面１００にこれに沿って周方向に互いに等間隔を隔てて形成されていると共に、各案内翼８０には回転方向前面部に気体分子Ａを反射させる反射面１１０が形成されている状態を示したものである。
この反射面１１０は形成面１００に垂直に起立するように形成されると共に回転軸を中心とする形成面１００の放射線方向に対して回転方向後方に順次後傾するように形成されている。図６及び図８、図９はこの案内翼８０およびこれに形成される反射面１１０の要部を拡大したものである。
【００２８】
前述したように、分子流領域における余弦則から気体分子Ａは壁面に対して垂直に反射するので、図６に示すように反射面１１０が形成面１００に垂直に形成されることで、形成面１００に衝突することなく径方向外方でかつ下流方向（吸気口側１６と反対側の軸方向）にむけて気体分子Ａを反射させることができる。すなわち、図７に示すように、反射面１１０が形成面１００側に鋭角に傾倒するように形成したのでは反射面１１０から反射した気体分子Ａが形成面１１０に衝突し、さらにその形成面１１０から垂直に反射するので、気体分子Ａに径方向外方に運動成分を与えることは困難となる。
【００２９】
また、図５、図８および図９に示すように、反射面１１０が回転軸を中心とする形成面１００の放射線方向に対して回転方向後方に所定の後退角で後傾するように形成されることで、案内翼８０の前面が半径方向外方を向き、気体分子Ａに径方向外方へより大きな運動成分を付与することができる。
なお、図５および図６、図８、図９に示すように、案内翼８０に形成される反射面１１０は軸直角断面に対して１５〜６０度の仰角に形成されている。
【００３０】
このように形成面１００に周方向に沿って回転方向前後に互いに等間隔を隔てて形成された案内翼８０の枚数はロータ６０の最上段のブレード数の約数あるいは整数倍の枚数に設定されている。案内翼８０をこのような枚数に設定することにより、気体分子Ａがロータ翼６２の上面すなわち吸気口１６に臨む面に衝突する確率が低下し、気体分子Ａが逆流をすることを未然に防止することができる。
また、図１に示すように、案内翼８０の対向面において吸気口１６に向けてケーシング内壁を順次縮径させたケーシング縮径部１２の高さ位置に形成されているので、ケーシングに衝突した分子も排気系１３に向かって反射するため、排気系１３に入射される気体分子の量をさらに増大することができ、排気効率を高めることができる。
【００３１】
図１０および図１１は反射面１００およびこれが形成される案内翼８０の他の形態を示すものであり、案内翼８４に形成される反射面１１１は円板上の平面で構成される形成面１０４上に垂直に形成されると共に回転軸を中心として形成面１０４の放射線方向に対して回転方向後方に順次後傾するように形成されている。したがって、気体分子Ａは反射面１１１から垂直に反射して接線方向より外向きに運動成分を与えられるれことになるため、前記実施形態と同様に排気系１３に入射する気体分子の量が増大し、排気効率を高めることができる。
【００３２】
以上説明したように本実施形態の真空ポンプによれば、以下の効果を得ることができる。
（１）ロータ部の上端部に気体分子を径方向外方に向けて運動成分を付与する案内翼を取り付けたので、排気系に入射される気体分子の量が増大し、排気効率を高めることができる。
（２）案内翼を略円錐状の形成面に形成したので、排気系に入射される気体分子の量が増大し、排気効率を高めることができる。
（３）案内翼の反射面を形成面上に垂直に形成したので、気体分子に径方向外向き（外方）の運動成分が与えられ、排気系に入射される気体分子の量を増大することができる。
（４）案内翼の反射面を放射線方向に対して回転方向後方に後傾させたので、気体分子に径方向外方に大きな運動成分が与えることができる。
（５）案内翼の枚数はロータ部の最上段のブレード数の約数あるいは整数倍の枚数に設定したので、排気系から上流側に気体分子が逆流することを防止できる。
（６）案内翼の対向面でケーシングを縮径させたので、排気系に入射される気体分子の量をさらに増大することができ、排気効率を高めることができる。
【００３３】
【発明の効果】
以上、本発明によれば、ロータ軸と吸気口との間に、ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼を取り付けたので、吸気口からの気体分子を効率的に排気手段に導くことができ、排気効率を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の形態を示す真空ポンプの断面図である。
【図２】本発明の形成面を示す図である。
【図３】本発明の形成面を示す図である。
【図４】本発明の形成面を示す図である。
【図５】本発明の案内翼および形成面を示す斜視図である。
【図６】案内翼を示す断面図である。
【図７】反射面を形成面に鋭角に取り付けた例を示す断面図である。
【図８】案内翼を示す平断面図である。
【図９】案内翼の仰角を示す拡大図である。
【図１０】本発明の他の形態例を示す斜視図である。
【図１１】本発明の他の形態例を示す平面図である。
【図１２】従来の真空ポンプを示す平面図である。
【図１３】従来の真空ポンプを示す縦断面図である。
【図１４】従来の真空ポンプを示す縦断面図である。
【符号の説明】
１０ケーシング
１２ケーシング縮径部
１３排気系
１６吸気口
６０ロータ
８０、８１、８２、８３、８４案内翼
１００、１０１、１０２、１０３、１０４形成面
１１０、１１１反射面
Ａ気体分子

Claims

ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、
吸気口を有するケーシングと、
前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、
このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、
前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、
前記案内翼は、回転方向前面部が該案内翼の形成面に垂直になるように形成されている
ことを特徴とする真空ポンプ。
ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、
吸気口を有するケーシングと、
前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、
このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、
前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、
前記案内翼は、回転方向前面部が、回転軸を中心とし該案内翼の取り付け部を通る放射線に対して、所定の後退角だけ回転方向後方に傾斜して形成されている
ことを特徴とする真空ポンプ。
前記案内翼は、前記吸気口に臨んで略円錐状に順次縮径された形成面に形成されている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空ポンプ。
ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、
吸気口を有するケーシングと、
前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、
このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、
前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、
前記排気手段は、少なくとも複数の翼により形成され、
前記案内翼は、前記翼の最上段に配置されるロータ翼のブレード数に対して、その約数あるいは整数倍の枚数に設定されている
ことを特徴とする真空ポンプ。
ロータ軸の上部周辺が分子流領域となる真空ポンプであって、
吸気口を有するケーシングと、
前記ケーシング内に収容されたロータ軸と、
このロータ軸と前記ケーシング間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子を排気する排気手段と、
前記ロータ軸と前記吸気口との間に、前記ロータ軸と共に回転可能に配設され、前記ロータ軸と共に回転することで前記吸気口からの気体分子に径方向外方の運動成分を付与する案内翼と、を具備し、
前記案内翼は、前記吸気口に向けてケーシング内壁を順次縮径させたケーシング縮径部と対向する位置に形成されている
ことを特徴とする真空ポンプ。
前記排気手段は、翼部、ネジ溝部、又は翼部とネジ溝部の組み合わせにより形成されたことを特徴とする請求項１から請求項５のうちのいずれか１の請求項に記載の真空ポンプ。