TWI629112B - 處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法 - Google Patents

Abstract

將開閉閥17設成閉狀態之前，不僅以倒吸閥19的針62縮窄處理液流路70，亦以開閉閥17的膜片46縮窄。由於亦以開閉閥17的膜片46縮窄從而能抑制輸送至倒吸閥19之處理液的壓力，因此能在倒吸閥19的前後抑制壓力差。結果，能抑制氣體混入至處理液。此外，在提升膜片46的移動速度並將開閉閥17設成閉狀態時，由於膜片46的移動量變少，因此減少伴隨著膜片46的移動而壓出的處理液的量。因此，能更進一步地防止關閉開閉閥17時之處理液的落液。

Description

處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法

本發明係有關於一種處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法，係在用以處理半導體基板、液晶顯示用玻璃基板、光罩(photomask)用玻璃基板、光碟用基板等之基板處理裝置中對基板供給處理液。

如圖10所示，以往的處理液供給裝置係具備有：噴出噴嘴111，係噴出顯像液作為處理液；顯像液供給源113；以及配管115，用以從顯像液供給源113對噴出噴嘴111輸送顯像液。於配管115夾設地設置有泵(pump)P以及開閉閥117。

開閉閥117係用以進行顯像液的噴出及停止顯像液的噴出。開閉閥117係藉由氣體供給部147使氣體流入及流出而被驅動。此外，開閉閥117係構成為能進行流量調整。亦即，操作者係使開閉閥117的流量調整盤118旋轉，藉 此能在開閉閥117的開狀態中流通任意流量的顯像液。

此外，以往的處理液供給裝置係在供給例如光阻(photoresist)液作為處理液之情形中，倒吸(suck back)閥係夾設地設置於噴出噴嘴111與開閉閥117之間的配管115(參照專利文獻1)。藉此，防止從噴出噴嘴垂落光阻液之「落液」。

[先前技術文獻]

[專利文獻]

專利文獻1：日本特許第5442232號公報。

不僅是光阻液，即使是在供給顯像液之情形中，亦期望防止顯像液落液至基板上等。此外，若流經流路的顯像液的流量較多，則在以開閉閥快速地關閉流路時，因為顯像液所造成的衝擊之水鎚(water hammer)，顯像液會細長地流動且顯像液會滴答滴答地落液。因此，期望防止關閉開閉閥時的顯像液的落液。此外，如上述，由於顯像液的流量調整為藉由使用者感覺性地使流量調整盤118旋轉而進行，因此難以進行流量調整。因此，期望能輕易地進行處理液的流量調整。

本發明有鑑於上述事情而研創，其目的在於提供一種防止關閉開閉閥時的落液之處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法。此外，提供一種能以合理性的構成進行處理液的落液防止與處理液的流量調整之處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法。

發明人為了解決上述問題用心研究的結果，得到如下卓見。在開閉閥的下游設置有流量調整閥之構成中，在以開閉閥關閉處理液流路時，以流量調整閥縮窄處理液流路，藉此減少處理液的流量。藉此，能防止關閉開閉閥時的處理液的衝擊所產生的落液。然而，還是會有產生落液的可能性。亦即，當不以開閉閥的第一閥體縮窄處理液流路而是以設置於比開閉閥還下游的流量調整閥的第二閥體縮窄處理液流路而將處理液的流量減少時，在流量調整閥的前後，壓力差會變大。如此，會有氣體混入至通過流量調整閥的處理液之可能性。若混入氣體，在快速地關閉開閉閥時，處理液會振動而容易產生落液。此外，當關閉開閉閥時的第一閥體的移動距離較長時，會壓出對應其長度份量的處理液，容易產生落液。

依據此種卓見之本發明係做成下述構成。

亦即，本發明的處理液供給裝置係具備有：處理液流路，係使處理液流通；開閉閥，係用以開閉前述處理液流路，並具備有用以執行開閉之第一閥體以及用以使前述第 一閥體移動之第一驅動部；以及流量調整閥，係設置於比前述開閉閥還下游，並具備有用以調整前述處理液流路的縮窄之第二閥體以及用以使前述第二閥體移動之第二驅動部；以及控制部，係在以前述開閉閥關閉前述處理液流路時，開始移動前述第二閥體俾使以前述第二閥體縮窄前述處理液流路，並開始移動前述第一閥體俾使以前述第一閥體縮窄前述處理液流路，在開始移動前述第一閥體後，在前述第二閥體到達預先設定的位置時，提升前述第一閥體的移動速度，將前述開閉閥設成閉狀態。

依據本發明的處理液供給裝置，在將開閉閥設成閉狀態之前，不僅以流量調整閥的第二閥體縮窄處理液流路，亦以開閉閥的第一閥體縮窄。在將開閉閥設成閉狀態之前，當不以開閉閥的第一閥體縮窄而是以流量調整閥的第二閥體縮窄處理液流路而將處理液的流量減少時，在處理液通過流量調整閥之前後，壓力差會變大。如此，有氣體混入至通過流量調整閥的處理液之可能性。若混入氣體，在將開閉閥設成閉狀態時，處理液會振動而容易產生處理液的落液。然而，亦以開閉閥的第一閥體縮窄從而能抑制輸送至流量調整閥之處理液的壓力，並能在流量調整閥的前後抑制壓力差。結果，能抑制氣體混入至處理液。此外，在提升第一閥體的移動速度並將開閉閥設成閉狀態時，由於第一閥體的移動量變少，因此隨著第一閥體的移動而壓出的處理液的量係減少。因此，能進一步地防止關閉開閉 閥時的處理液的落液。

此外，在上述處理液供給裝置中，較佳為前述控制部係在開始移動前述第二閥體後至前述第二閥體到達預先設定的位置之期間，將能通過開閉閥之處理液的容許流量調整至通過流量調整閥之處理液的設定流量以上。藉由將開閉閥的容許流量調整至流量調整閥的設定流量以上，能不妨礙流量調整閥的流量調整而藉由第一閥體縮窄處理液流路。

此外，在上述處理液供給裝置中，較佳為前述控制部係開始移動前述第二閥體俾使以前述第二閥體縮窄前述處理液流路，之後開始移動前述第一閥體俾使以前述第一閥體縮窄前述處理液流路。藉此，能容易地將開閉閥的容許流量調整至流量調整閥的設定流量以上。

此外，在上述處理液供給裝置中，較佳為前述第一驅動部為馬達。藉此，容易進行第一閥體的位置變更。此外，較佳為前述第二驅動部為馬達。藉此，容易進行第二閥體的位置變更，且容易進行處理液的流量調整。

此外，在上述處理液供給裝置中，較佳為前述流量調整閥係進一步具備有：體積變化部，係與前述第二閥體連動，並使比前述開閉閥還下游的下游側處理液流路的體積 變化。藉此，流量調整閥係能具有倒吸功能。

例如，在以開閉閥關閉處理液流路時，只要以第二驅動部使與第二閥體連動之體積變化部移動並增大下游側處理液流路的體積，即能倒吸而能防止處理液的落液。此外，在以開閉閥開啟處理液流路時，只要以第二驅動部使閥體移動並調整處理液的流量，即能藉由第二驅動部容易地調整已藉由操作者的感覺所調整過的處理液的流量調整。此外，由於能以同一個第二驅動部進行處理液的落液防止與處理液的流量調整兩者，因此與個別地設置驅動部等之構成相比，能省略無謂的構成而作成省空間的構造。因此，能以不同的流量對每個基板供給處理液，並能在同一個基板中在中途改變處理液的流量。

此外，在上述處理液供給裝置的一例中，前述控制部係在以前述開閉閥關閉前述處理液流路時，以前述第二驅動部使與前述第二閥體連動之前述體積變化部往復移動。 例如，將用以噴出顯像液作為處理液之噴出噴嘴的前端部浸入至純水中並吸引純水、將所吸引的純水直接保持一定時間、壓出所吸引的純水，藉此能洗淨噴出噴嘴前端。

此外，在上述處理液供給裝置中，較佳為前述處理液流路係以單一構件所構成。藉此，能將開閉閥與具有倒吸功能之流量調整閥作成一體的構成，而能作成簡易的構成。

此外，在上述處理液供給裝置的一例中，進一步具備有：噴出噴嘴，係設置於比前述流量調整閥還下游，並經由配管與前述處理液流路連接，用以噴出前述處理液。藉此，能防止關閉開閉閥時的衝擊導致處理液從噴出噴嘴落液。

本發明的處理液供給裝置的控制方法係用以控制處理液供給裝置，該處理液供給裝置係具備有：處理液流路，係使處理液流通；開閉閥，係用以開閉前述處理液流路，並具備有用以執行開閉之第一閥體以及用以使前述第一閥體移動之第一驅動部；以及流量調整閥，係設置於比前述開閉閥還下游，並具備有用以調整前述處理液流路的縮窄之第二閥體以及用以使前述第二閥體移動之第二驅動部；該處理液供給裝置的控制方法係具備有：在以前述開閉閥關閉前述處理液流路時，開始移動前述第二閥體俾使以前述第二閥體縮窄前述處理液流路，並開始移動前述第一閥體俾使以前述第一閥體縮窄前述處理液流路之步驟；以及在開始移動前述第一閥體後，在前述第二閥體到達預先設定的位置時，提升前述第一閥體的移動速度，將前述開閉閥設成閉狀態之步驟。

依據本發明的處理液供給裝置的控制方法，在將開閉閥設成閉狀態之前，不僅以流量調整閥的第二閥體縮窄處 理液流路，亦以開閉閥的第一閥體縮窄。在將開閉閥設成閉狀態之前，當不以開閉閥的第一閥體縮窄而是以流量調整閥的第二閥體縮窄處理液流路而將處理液的流量減少時，在處理液通過流量調整閥之前後，壓力差會變大。如此，有氣體混入至通過流量調整閥的處理液之可能性。若混入氣體，在將開閉閥設成閉狀態時，處理液會振動而容易產生處理液的落液。然而，亦以開閉閥的第一閥體縮窄從而能抑制輸送至流量調整閥之處理液的壓力，並能在第二閥體的前後抑制壓力差。結果，能抑制氣體混入至處理液。此外，在提升第一閥體的移動速度並將開閉閥設成閉狀態時，由於第一閥體的移動量變少，因此隨著第一閥體的移動而壓出的處理液的量係減少。因此，能進一步地防止關閉開閉閥時的處理液的落液。

依據本發明的處理液供給裝置及處理液供給裝置的控制方法，在將開閉閥設成閉狀態之前，不僅以流量調整閥的第二閥體縮窄處理液流路，亦以開閉閥的第一閥體縮窄。亦以開閉閥的第一閥體縮窄從而能抑制輸送至流量調整閥之處理液的壓力，並能在流量調整閥的前後抑制壓力差。結果，能抑制氣體混入至處理液。此外，在提升第一閥體的移動速度並將開閉閥設成閉狀態時，由於第一閥體的移動量變少，因此減少伴隨著第一閥體的移動而壓出的處理液的量。因此，能更進一步地防止關閉開閉閥時之處理液的落 液。

1‧‧‧基板處理裝置

2‧‧‧保持旋轉部

3‧‧‧處理液供給部

4‧‧‧自轉夾具

5‧‧‧旋轉驅動部

6‧‧‧罩

11、111‧‧‧噴出噴嘴

13‧‧‧處理液供給源

15‧‧‧處理液配管

17、117‧‧‧開閉閥

19‧‧‧倒吸閥

21‧‧‧噴嘴移動機構

23‧‧‧待機區

31‧‧‧控制部

33‧‧‧操作部

41‧‧‧開閉室

42‧‧‧活塞

43‧‧‧上游側流路

44‧‧‧第一閥座

45、82a‧‧‧隔壁

46、66‧‧‧膜片

47‧‧‧彈簧

48、147‧‧‧氣體供給部

48a‧‧‧氣體配管

49‧‧‧吸氣排氣口

50‧‧‧開閉室內流路

51‧‧‧連結流路

61‧‧‧閥室

61a‧‧‧側壁

62、82‧‧‧針

63‧‧‧閥室內流路

64‧‧‧第二閥座

64a‧‧‧開口部

67‧‧‧下游側流路

68、84‧‧‧馬達

70‧‧‧處理液流路

72‧‧‧下游側接頭部

81‧‧‧斜度

82b‧‧‧氣密保持構件

85‧‧‧容器

86‧‧‧顯像液層

87‧‧‧氣體層

88‧‧‧純水

113‧‧‧顯像液供給源

115‧‧‧配管

118‧‧‧流量調整盤

AX‧‧‧旋轉軸

C‧‧‧中心

E‧‧‧端部

F‧‧‧流量

L‧‧‧虛線

NA、NB、NC‧‧‧位置

P‧‧‧泵

SB0‧‧‧倒吸基準位置

SB1‧‧‧倒吸執行位置

SB2、SB3‧‧‧位置

SD‧‧‧移動量

t0至t8、t11至t19、t30至t36‧‧‧時間

W‧‧‧基板

圖1係用以顯示實施例1的基板處理裝置的概略構成之方塊圖。

圖2係用以顯示實施例1中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥之縱剖視圖。

圖3係用以說明實施例1中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥的動作之時序(timing)圖。

圖4中，(a)係用以說明處理液供給部的動作之圖，且為用以顯示噴出噴嘴相對於基板的位置之圖；(b)係用以顯示(a)的位置關係中的噴出量(流量)的一例之圖；(c)係用以顯示(a)的位置關係中的噴出量(流量)的另一例之圖。

圖5係用以說明實施例2中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥的動作之時序圖。

圖6係用以說明實施例3中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥之縱剖視圖。

圖7係用以說明實施例3中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥的動作之時序圖。

圖8係用以顯示變化例中之開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥之縱剖視圖。

圖9係用以說明變化例的處理液供給部的動作之圖。

圖10係用以顯示以往的處理液供給部的概略構成之方塊圖。

[實施例1]

以下參照圖式說明本發明的實施例1。圖1係用以顯示基板處理裝置的概略構成之方塊圖。圖2係用以顯示開閉閥以及具有流量調整功能之倒吸閥之縱剖視圖。

<基板處理裝置1的構成>

參照圖1。基板處理裝置1係具備有：保持旋轉部2，係以略水平姿勢保持基板W並使基板W旋轉；以及處理液供給部3，係供給處理液。處理液係能使用例如光阻液等塗布液、顯像液、溶劑、或者純水等清洗(rinse)液。處理液供給部3係相當於本發明的處理液供給裝置。

保持旋轉部2係具備有：自轉夾具(spin chuck)4，係藉由例如真空吸附保持基板W的背面；以及旋轉驅動部5，係由馬達等所構成，用以使自轉夾具4繞著略垂直方向的旋轉軸AX旋轉。於保持旋轉部2的周圍以圍繞基板W的側面之方式設置有可上下移動的罩(cup)6。

處理液供給部3係具備有：噴出噴嘴11，係對基板W噴出處理液；處理液供給源13，係由用以儲留處理液之槽(tank)等所構成；以及處理液配管15，係用以從處理液供給源13將處理液輸送至噴出噴嘴11。從處理液供給源13 起，於處理液配管15依序夾設有泵(pump)P、開閉閥17以及具有流量調整功能之倒吸閥19。此外，亦可於處理液配管15夾設有其他構成。例如，亦可於泵P與開閉閥17之間夾設有過濾器(未圖示)。此外，處理液配管15係相當於本發明的配管。

噴出噴嘴11係藉由噴嘴移動機構21而在基板W的外側的待機區23與基板W上方的噴出位置之間移動。噴嘴移動機構21係由支撐臂及馬達等所構成。此外，噴出噴嘴11係設置於比倒吸閥19還下游，並夾著處理液配管15而與後述的處理液流路70連接。

泵P係用以將處理液輸送至噴出噴嘴11。開閉閥17係進行處理液的供給與處理液的停止供給。倒吸閥19係與開閉閥17的動作組合，藉此將處理液予以倒吸(吸引)，並調整處理液的流量。開閉閥17與倒吸閥19係容後詳細說明。此外，具有流量調整功能之倒吸閥19亦可稱為具有倒吸功能之流量調整閥。

處理液供給部3係具備有：控制部31，係由中央運算處理裝置(亦即CPU(Centrad Processing Unit；中央處理器))等所構成；以及操作部33，係用以操作基板處理裝置1。 控制部31係控制基板處理裝置1的各構成。操作部33係具備有：液晶螢幕等顯示部；ROM(Read Only Memory；唯 讀記憶體)、RAM(Random Access Memory；隨機存取記憶體)及硬碟等記憶部；以及鍵盤、滑鼠及各種按鍵等輸入部。 於記憶部記憶有用以控制開閉閥17及倒吸閥19之條件以及其他基板處理條件。

<開閉閥17與具有流量調整功能之倒吸閥19>

接著，說明開閉閥17及倒吸閥19的詳細構成。參照圖2。開閉閥17係使處理液流路70開閉，該處理液流路70係由後述之上游側流路43、開閉室內流路50、連結流路51、閥室內流路63以及下游側流路67所構成。倒吸閥19係與開閉閥17的動作組合，將處理液予以倒吸並調整處理液的流量。

[開閉閥17的構成]

開閉閥17係設置於處理液配管15的路徑中途，並構成為將上游側流路43、開閉室41的開閉室內流路50以及與倒吸閥19的閥室內流路63連通之連結流路51予以串聯連結。處理液配管15係藉由上游側接頭部71安裝至開閉室41，並與開閉閥17的上游側流路43流路連接。開閉閥17係如後述般藉由其開閉動作而在開閉室41內將處理液的流動切換成流通狀態與阻斷狀態。

上游側流路43的端部係連通連接至開閉室41的開閉室內流路50的底部。此外，處理液配管15的另一端係連 接至泵P。因此，從泵P輸送出的處理液係通過上游側流路43流入至開閉室41的開閉室內流路50。

開閉室41為中空的箱狀構件，於開閉室41的內部設置有活塞42、彈簧47、隔壁45以及作為閥體之膜片(diaphragrm)46。活塞42係構成為在開閉室41的內部中沿著圖面的縱方向滑動自如。彈簧47係配置於活塞42的上表面與開閉室41的上部內壁面之間。此外，膜片46係用以執行開閉，相當於本發明的第一閥體。

隔壁45係用以將開閉室41的內部上下地隔開之平板狀的構件，且其中央部貫通有活塞42。雖然活塞42係相對於隔壁45滑動自如，但活塞42與隔壁45之間的接觸部分係被完全地密封，在空氣從氣體配管48a送入至開閉室41時，該空氣不會洩漏至比隔壁45還下側(膜片46側)。

膜片46的周緣部係固設於開閉室41的內壁面。膜片46的中央部係與活塞42的下端部固設。

於開閉室41的開閉室內流路50的底部中央設置有第一閥座44。連結流路51係連通連接開閉室41的第一閥座44與後述之倒吸閥19的閥室61的閥室內流路63。

於開閉室41的側壁設置有用以使來自氣體供給部48 的氣體予以吸氣及排氣之吸氣排氣口49。氣體供給部48係被控制部31控制。氣體供給部48係由氣體供給源、氣體開閉閥以及速度控制器等(皆未圖示)所構成。氣體供給部48係能藉由控制部31的控制將空氣通過氣體配管48a供給至吸氣排氣口49，並使氣體從吸氣排氣口49排氣。

在上述般的開閉閥17的構成中，當從氣體供給部48經由吸氣排氣口49將氣體供給至開閉室41的內部時，活塞42係抵抗彈簧47的彈性力而成為被上推的狀態(在圖2中以實線所示的狀態)。當活塞42被上推時，固設於活塞42之膜片46係變形且從第一閥座44離開。

如圖2的實線所示，當屬於閥體之膜片46從第一閥座44離開時，上游側流路43、開閉室內流路50以及連結流路51係分別成為連通狀態，從泵P輸送出的處理液係從上游側流路43經由開閉室內流路50、連結流路51、後述之閥室內流路63、下游側流路67到達至噴出噴嘴11，並從噴出噴嘴11朝基板W噴出處理液。亦即，圖2的實線所示之狀態係處理液流路70被開放且處理液流通之狀態。亦即，為以開閉閥17開啟處理液流路70之狀態(開狀態)。

反之，當氣體從氣體供給部48經由吸氣排氣口49排氣至開閉室41的內部時，開閉室41內的壓力變低，變成不存在抵抗彈簧47的復原力並將活塞42上推之壓力。因 此，如圖2的虛線所示，藉由彈簧47的復原力，活塞42被下推。當活塞42被下推時，如圖2的虛線所示，固設於活塞42之膜片46係變形並密著至第一閥座44。

如圖2所示，當屬於閥體之膜片46密著至第一閥座44時，開閉室流路50與連結流路51成為阻斷的狀態，從泵P輸送出的處理液無法朝連結流路51側流動，處理液的流動停止。亦即，成為以開閉閥17關閉處理液流路70之狀態(閉狀態)。

如此，氣體供給部48、活塞42以及彈簧47等係作為用以使作為閥體的膜片46作動之作動手段而發揮作用。

[具有流量調整功能之倒吸閥19的構成]

如圖2所示，倒吸閥19係設置於比開閉閥17還下游。倒吸閥19係具備有：閥室61，為中空的箱狀構件；針(needle)62，係在閥室61內部設置成可於圖2的上下方向移動；以及下游側流路67。

於閥室61內部設置有用以使處理液流通之閥室內流路63。此外，於閥室61的閥室內流路63的底部中央設置有用以承接針62之第二閥座64；於第二閥座64設置有用以流通例如處理液之開口部64a。開口部64a係與下游側流路67流路連接。處理液配管15係藉由下游側接頭部72安 裝至閥室61，並與倒吸閥19的下游側流路67流路連接。當第二閥座64承接針62時，開口部64a係被針62塞住。藉此，封閉閥室內流路63與下游側流路之間的流路。

此外，針62係構成為用以調整形成於閥室內流路63與下游側流路67之間的流路寬度(開口部64a的開口狀態)，換言之用以調整處理液流路70的縮窄。亦即，針62係藉由調整與第二閥座64的開口部64a之間的間隙而能調整流通於該間隙之處理液的流量。

此外，倒吸閥19係具備有：膜片66，係安裝至針62的前端部；以及馬達(電動機)68，係使針62於圖2的上下方向驅動。膜片66的周緣部係固定於閥室61內部的側壁61a；膜片66係以橫切過針62的移動方向之方式區隔閥室61內部。

此外，如圖2所示，膜片66係與針62連動。藉此，膜片66係能使從比開閉閥17還下游的連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積變化。 亦即，藉由針62的移動，同時進行與第二閥座64之間的間隙調整以及從連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積的變化。

針62係相當於本發明的第二閥體，膜片66係相當於 本發明的體積變化部。馬達68係相當於第二驅動部。

馬達68係被控制部31施予例如脈波數而被控制。馬達68的旋轉係被未圖示的機構變換，並對針62施予上下方向的驅動力。例如，控制部31係在開閉閥17為閉狀態時藉由馬達68使與針62連動之膜片66移動，增大從連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積並予以倒吸。此外，控制部31係在開閉閥17為開狀態時藉由馬達68使針62移動並調整處理液的流量。此外，較佳為以能獲得針62的上下方向的正確的移動量之方式於馬達68設置有旋轉編碼器(rotary encoder)等未圖示的感測器。

此外，開閉閥17與倒吸閥19係彼此相鄰地配置。因此，開閉閥17與倒吸閥19係一體性地構成而成為簡易的構成。此外，開閉閥17的上游側流路43、倒吸閥19的下游側流路67、以及用以連結開閉室內流路50與閥室內流路63之連結流路51亦可由單一構件所構成。在此情形中，例如如圖2的虛線L的下側的開閉室41及閥室61般，開閉室41的一部分與閥室61的一部分亦可由單一構件所構成。

此外，上游側流路43、開閉室內流路50、連結流路51、閥室內流路63以及下游側流路67係形成用以使處理 液流通之處理液流路70。此外，連結流路51、閥室內流路63以及下游側流路67係相當於本發明的下游側處理液流路。

<基板處理裝置1的動作>

接著，說明基板處理裝置1的動作中之處理液供給部3的動作。圖3係用以說明開閉閥17與具有流量調整功能之倒吸閥19的動作之時序圖。控制部31係依據預先設定的噴出條件(配方(recipe))控制基板處理裝置1的各構成。

在本發明中，因應開閉閥17的開閉以倒吸閥19的馬達68使針62移動，藉此進行處理液的倒吸(防止落液)與流量調整。此時，當進行倒吸時，會影響到流量調整；當進行流量調整時，會影響到倒吸。本發明係成為考慮到此點之動作。

此外，在倒吸閥19中，雖然藉由馬達68使針62升降，然而上升係針62與第二閥座64離開之動作；下降係針62與第二閥座64接近之動作。此外，在圖3及後述之圖5與圖7中，所謂針62的位置為「0」係顯示針62與第二閥座64最接近的位置且無關於處理液是否流通。

首先，在圖1的基板處理裝置1中，藉由未圖示的搬運機構將基板W搬運至保持旋轉部2。保持旋轉部2係保 持基板W的背面，並使所保持的基板W旋轉。此外，噴嘴移動機構21係使噴出噴嘴11從基板W的外側的待機區23移動至基板W的上方的噴出位置。控制部31係控制開閉閥17及倒吸閥19，從噴出噴嘴11噴出處理液。此外，當泵P被驅動而使開閉閥17成為開狀態時，輸送出儲留於處理液供給源13的處理液，並從噴出噴嘴11噴出。

在圖3的時間t0中，開閉閥17為開狀態，從噴出噴嘴11噴出處理液。此外，在開閉閥17開啟時，在倒吸閥19中，藉由馬達68使針62移動至位置NA，並調整至與位置NA對應之處理液的流量。

在控制部31停止從噴出噴嘴11噴出處理液時，在將開閉閥17設成閉狀態之前，減少流量，更確實地進行防止落液之動作。亦即，在時間t1中，控制部31係藉由馬達68使針62移動至倒吸基準位置SB0，使處理液的流量減少。之後，在時間t2中，控制部31係以開閉閥17關閉處理液流路70的開閉室內流路50與連結流路51之間而設成閉狀態。

再者，在時間t3中，控制部31係藉由馬達68使針62移動至倒吸執行位置SB1並進行倒吸。換言之，控制部31係藉由馬達68使與針62連動之膜片66移動，增大從連結流路51起經由閥室內流路直至下游側流路67為止的流路 體積。藉此，噴出噴嘴11的前端內部的處理液被倒吸(吸引)。此外，時間t2與時間t3亦可為相同的時序。時間t2亦可比時間t3稍慢。此外，倒吸係被針62的移動量SD設定。移動量SD係可為一定，亦可變化。

結束對基板W噴出處理液，進行保持旋轉部2上的基板W的替換。亦即，圖1的保持旋轉部2係停止基板W的旋轉並解除基板W的保持。噴嘴移動機構21係使噴出噴嘴11移動至基板W的外側的待機區23。接著，藉由未圖示的搬運機構替換基板W。如上所述，保持旋轉部2係保持基板W的背面並使所保持的基板W旋轉。此外，噴嘴移動機構21係使噴出噴嘴11從基板W的外側的待機區23移動至基板W的上方的噴出位置。

再次從噴出噴嘴11噴出處理液。在本發明的倒吸閥19的構造上，針62移動以進行倒吸動作。當針62移動時，需要再次進行流量調整。控制部31係在時間t4中，藉由馬達68使針62從處於已增大從連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積的狀態下之針62的倒吸執行位置SB1移動至成為預先設定的流量之位置，並在時間t5中開啟開閉閥17。

針對時間t4的動作說明兩個控制例。所謂兩個控制例係指上升至位置NB之情形以及下降至位置NC之情形。

首先，說明使針62從倒吸執行位置SB1上升至位置NB之情形。控制部31係在時間t4中藉由馬達68使針62從倒吸執行位置SB1上升至位置NB。當使針62上升時，與針62連動之膜片66亦上升。因此，進一步被倒吸。在此狀態下，在時間t5中，控制部31係以開閉閥17開啟處理液流路70，從噴出噴嘴11噴出處理液。以開閉閥17開啟處理液流路70時，由於從倒吸執行位置SB1上升，因此處理液不會從噴出噴嘴11被壓出而是進一步被倒吸。因此，無須擔心落液。

接著，說明使針62從倒吸執行位置SB1下降至位置NC之情形。控制部31係在時間t4中，藉由馬達68使針62從倒吸執行位置SB1下降至位置NC。由於使針62下降，因此變成壓出處理液。因此，有可能會因為針62的下降量而從噴出噴嘴11噴出處理液。

因此，控制部31係在使針62下降至成為預先設定的流量F之位置NC時，以成為預先設定的流量F之方式藉由馬達68變更針62的移動速度。亦即，以成為與在針62的位置NC的流量F相同或者接近的流量F之方式調整針62的下降速度(參照圖3的斜度81)。接著，在時間t5中，控制部31係以開閉閥17開啟處理液流路70，從噴出噴嘴11噴出處理液。由於調整針62的下降速度並使開閉閥17 成為開狀態，因此能連續且自然地流通預先設定的流量F的處理液。

以預定時間從噴出噴嘴11噴出處理液後，如上所述般，在時間t6中使倒吸閥19的針62下降至倒吸基準位置SB0並以減少流量之方式調整後，在時間t7中使開閉閥17成為閉狀態。在時間t8中，使倒吸閥19的針62上升至倒吸執行位置SB1，使與針62連動之膜片66上升，藉此予以倒吸。

接著，參照圖4(a)至圖4(c)，說明在同一基板W內變更噴出流量之情形。依據本發明，如圖3的位置NA與位置NB般，在不同的每個基板W或複數個基板成為一組(set)之情形中，每一組皆容易進行流量調整。再者，即使在同一個基板W內，亦容易進行流量調整。

圖4(a)係顯示噴出噴嘴11相對於基板W的位置之圖。 此外，圖4(b)係顯示圖4(a)的位置關係中的噴出量(流量)的一例之圖。有一邊從噴出噴嘴11噴出處理液並一邊藉由噴嘴移動機構21使噴出噴嘴11從基板W的中心C移動至基板W的端部E之情形。此情形亦可如圖4(b)般從端部E起對例如50mm的寬度增加噴出量。此外，亦可視需要減少。此外，亦可以圖4(c)般的傾斜從噴出噴嘴11噴出處理液。

依據本實施例，於用以使處理液流路70開閉之開閉閥17還下游設置有：針62，係調整形成於閥室內流路63與下游側流路67之間的流路寬度(開口部64a的開口狀態)；以及膜片66，係與針62連動，使從比開閉閥17還下游的連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積變化。針62係被馬達68驅動。控制部31係在以開閉閥17關閉處理液流路70時，藉由馬達68使與針62連動之膜片66移動，增大從連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積。因此，能倒吸從而能防止處理液的落液。此外，控制部31係在以開閉閥17開啟處理液流路70時，藉由馬達68使針62移動並調整處理液的流量。因此，能藉由馬達68容易地調整藉由操作者的感覺而調整的處理液的流量調整。此外，由於能以同一個馬達68進行處理液的落液防止與處理液的流量調整，因此與個別地設置馬達68等之構成相比，能省略無用的構成並做成省空間的構成。因此，能對每個基板W以不同的流量供給處理液，且在同一個基板W中能在中途改變處理液的流量。

此外，依據本實施例，開閉閥17係主要使用於開閉；倒吸閥19係構成為能進行詳細地調整。因此，例如能選擇簡易的閥作為開閉閥17。

此外，由於馬達68係驅動倒吸閥19的針62，因此容易地區分成複數次倒吸，亦即容易地多階段地進行倒吸。此外，容易地改變用以進行流量調整之針62的位置。

此外，控制部31係藉由馬達68使針62移動至倒吸基準位置SB0並減少處理液的流量後，以開閉閥17關閉處理液流路70，並進一步藉由馬達68使與針62連動之膜片66移動並增大處理液流路70的體積。藉此，以開閉閥17關閉處理液流路70時，由於處理液的流量變少，因此能抑制處理液的流量較多時所產生之處理液的落液。亦即，能更確實地防止落液。

此外，控制部31係藉由馬達68使針62從已將從連結流路51起經由閥室內流路63直至下游側流路67為止之流路體積增大的狀態之針62的位置移動至成為預先設定的流量之位置，並以開閉閥17開啟處理液流路70。當進行倒吸時，雖然針62的位置會變動，但是以開閉閥17開啟處理液流路70時，能供給預先設定的流量的處理液。

此外，以開閉閥17開啟處理液流路70時，針62朝成為預先設定的流量的位置之移動為上升。在以開閉閥17開啟處理液流路70時，由於使針62上升而流通預先設定的流量，因此處理液不會被壓出，而更進一步被倒吸。因此，無須擔心落液。

此外，使針62下降至成為預先設定的流量之位置時，以成為預 先設定的流量之方式藉由馬達68變更針62的下降速度(參照圖3的斜度81)。例如，在使針62下降至成為預先設定的流量之位置且從噴出噴嘴11噴出處理液時，變更針62的下降速度，以預先設定的流量從噴出噴嘴11噴出。藉此，能將藉由針62的移動所噴出之處理液的流量接近至以開閉閥17開啟處理液流路70時的流量。

此外，處理液供給部3係進一步具備有：噴出噴嘴11，係設置於比倒吸閥19還下游，並經由處理液配管15而與處理液流路70連接，用以噴出處理液。藉此，能在噴出噴嘴11內吸引處理液，並能流量調整從噴出噴嘴11噴出的處理液。

[實施例2]

接著，參照圖式說明本發明的實施例2。此外，省略與實施例1重複的說明。

在實施例1中，如圖3的時間t1所示，在使開閉閥17成為閉狀態之前，使倒吸閥19的針62下降至倒吸基準位置SB0。此點在無須下降至倒吸基準位置SB0的動作之情形中，亦可不使針62移動而直接使開閉閥17成為閉狀態。

在圖5的時間t11中，不使倒吸閥19的針62的位置NA下降，直接將開閉閥17設成閉狀態。在時間t12中，以預先設定的移動量SD使針62上升至位置SB2。亦即，使與針62連動之膜片66上升並倒吸。進行基板W的替換後，使針62移動至比位置NA還低的位 置NC，再次從噴出噴嘴11噴出處理液。

說明此情形的動作例。藉由噴嘴移動機構21使噴出噴嘴11移動至待機區23。在此狀態下，在時間t13中，使針62下降至位置NC。此時，即使處理液從噴出噴嘴11被壓出，亦會在待機區23被回收。接著，在時間t15中，使針62以移動量SD上升至位置SB3。 亦即，藉由與針62連動之膜片66進行倒吸。如圖5的時間t14至時間t15的符號83所示，亦可使開閉閥17成為開狀態，並使處理液仿真分配(dummy dispense)。

之後，藉由噴嘴移動機構21使噴出噴嘴11從待機區23朝基板W的上方移動。在時間t16中，使針62下降並進行流量調整；在時間t17中，使開閉閥17成為開狀態，從噴出噴嘴11噴出處理液。此外，在時間t18中，使開閉閥17成為閉狀態，停止從噴出噴嘴11噴出處理液；在時間t19中，藉由與針62連動之膜片66進行倒吸。

此外，在時間t13中，亦可如上述般在基板W上以成為與在針62的位置NC的流量F相同或接近的流量F之方式調整針62的下降速度(參照圖3及圖5的斜度81)，一邊從噴出噴嘴11壓出處理液一邊進行流量調整。接著，亦可使開閉閥17成為開狀態。

[實施例3]

接著，參照附圖說明本發明的實施例3。此外，省略 與實施例1重複的說明。

在實施例1中，如圖3的時間t1所示，使具有流量調整功能之倒吸閥19的針62下降至倒吸基準位置SB0，以減少處理液的流量之方式調整後，在時間t2中，使開閉閥17成為閉狀態。藉由此動作，雖然能更確實地防止落液，但仍然存在產生落液的可能性。

亦即，在圖3中，將開閉閥17設成閉狀態之前，以倒吸閥19的針62以減少處理液的流量之方式進行調整。在已經以針62縮窄處理液流路70時的縮窄的大小為微小之情形中，通過倒吸閥19之前後的壓力差係變大。如此，氣體容易混入至已通過倒吸閥19的處理液。當氣體混入至處理液時，在時間t2中，在將開閉閥17設成閉狀態時，處理液會振動而容易產生落液。此外，當關閉開閉閥17時之膜片46的移動距離較長時，會壓出其長度分的處理液，從而容易產生落液。

因此，控制部31係在以開閉閥17關閉處理液流路70時，針62開始下降俾使以倒吸閥19的針62縮窄處理液流路70，並使膜片46開始下降俾使以開閉閥17的膜片46縮窄處理液流路70。接著，控制部31係在使膜片46開始下降後且針62到達預先設定的位置時，提升膜片46的下降速度並將開閉閥17設成閉狀態。

此外，如圖6所示，本實施例的開閉閥17的膜片46及活塞42係藉由馬達(電動機)84而移動。藉由使用馬達84，容易進行膜片46的位置變更。馬達84係相當於本發明的第一驅動部。此外，倒吸閥19亦可稱為具有倒吸功能之流量調整閥。

參照圖7說明動作。在時間t30中，開閉閥17為閉狀態(OFF)，倒吸閥19的針62係存在於倒吸執行位置SB1。 由於針62存在於倒吸執行位置SB1，因此執行倒吸，成為將處理液吸入至噴出噴嘴11內的狀態。

在時間t31中，藉由馬達84使開閉閥17的膜片46上升至開狀態(ON)之預先設定的位置。此外，藉由馬達68使針62從倒吸執行位置SB1上升至位置NB。藉此，從噴出噴嘴11朝基板W噴出處理液。

將預定量的處理液噴出至基板W後，以開閉閥17關閉處理液流路70。此時，首先，在時間t32中，使針62開始下降俾使以針62縮窄處理液流路70。針62的下降係在針62到達至預先設定的倒吸基準位置SB0為止(時間t35)之期間進行。此外，所謂針62到達至倒吸基準位置SB0亦可稱為通過倒吸閥19之設定流量成為預先設定的流量。此外，在圖7中，針62的下降速度雖然為一定，但亦 可為可變。

此外，在時間t32中，使針62開始下降後，在時間t33中使膜片46開始下降。亦即，比針62的下降開始還晚，開始使膜片46下降。不僅使針62下降，亦使膜片46下降，藉此輸送至倒吸閥19之處理液的壓力係變小。藉此，能抑制在上述倒吸閥19的前後的壓力差變大。

此外，在開始使針62移動至至針62到達至預先設定的倒吸基準位置SB0為止之期間，能通過開閉閥17之容許流量係被調整至通過倒吸閥19之設定流量以上。此外，開閉閥17的容許流量為未以倒吸閥19的針62縮窄處理液流路70時能流通的流量。

例如，在時間t34中，在倒吸閥19的設定流量為200mL/min之情形中，開閉閥17的容許流量係被調整至200mL/min以上。藉此，不會干擾到倒吸閥19所為之流量調整，且能以膜片46縮窄。

此外，在上述說明中，開閉閥17的容許流量雖然被調整成倒吸閥19的設定流量以上，但開閉閥17的容許流量亦可調整成比倒吸閥19的設定流量還大。藉此，能更確實地獲得膜片46不會干擾到倒吸閥19所為之流量調整的功效。

此外，開閉閥17的容許流量與倒吸閥19的設定流量之比較亦可如下述般進行。以膜片46縮窄處理液流路70時之縮窄的大小(剖面積)亦可調整成以針62縮窄處理液流路70時之縮窄的大小(剖面積)以上，或者亦可調整成比以針62縮窄處理液流路70時之縮窄的大小(剖面積)還大。 此外，通過開閉閥17之前的處理液的壓力亦可調整成為通過倒吸閥19之前的處理液的壓力以上，或者亦可調整成比通過倒吸閥19之前的處理液的壓力還大。

附帶一提，即使在處理液的噴出時，開閉閥17的容許流量亦被調整至開閉閥19的設定流量以上。例如，在從時間t31至時間t32為止之期間中，在倒吸閥19的設定流量為1L/min之情形中，開閉閥17的容許流量係被調整至1L/min以上。

在時間t35中，在針62到達倒吸基準位置SB0時，提升膜片46的移動速度，開閉閥17係被設成閉狀態(OFF)。 以開閉閥17關閉時，以低速使膜片46下降後，以高速使膜片46下降。此外，膜片46的下降亦可變化成三階段以上。此外，使針62下降至倒吸基準位置SB0之動作亦可以預先設定的速度及預先設定的時間使針62下降而進行。

將時間t35的處理液流路70設成閉狀態後，在時間t36 中，使針62上升至倒吸執行位置SB1並執行倒吸。

依據本實施例，在將開閉閥17設成閉狀態之前，不僅以倒吸閥19的針62縮窄處理液流路70，亦以開閉閥17的膜片46縮窄。在將開閉閥17設成閉狀態之前，不以開閉閥17的膜片46縮窄，而是以倒吸閥19的針62縮窄處理液流路70並減少處理液的流量時，處理液在通過倒吸閥19前後的壓力差會變大。如此，有氣體混入至通過倒吸閥19的處理液之可能性。當空氣混入時，將開閉閥17設成閉狀態時處理液會振動而容易產生處理液的落液。然而，由於亦以開閉閥17的膜片46縮窄從而能抑制輸送至倒吸閥19之處理液的壓力，因此能抑制倒吸閥19前後的壓力差。此外，在提升膜片46的移動速度並將開閉閥17設成閉狀態時，由於膜片46的移動量變少，因此隨著膜片46的移動而壓出的處理液的量會減少。因此，能進一步防止關閉開閉閥17時之處理液的落液。亦即，能提升將開閉閥17設成閉狀態時之液體阻斷的精度。

此外，在使針62開始移動後至針62到達預先設定的位置之期間通過開閉閥17之處理液的容許流量係被調整至通過倒吸閥19之處理液的設定流量以上。開閉閥17的容許流量係被調整至倒吸閥19的設定流量以上，藉此不會干擾倒吸閥19所為之流量調整，而能以膜片46縮窄處理液流路70。

此外，使針62開始移動俾使以針62縮窄處理液流路70後，使膜片46開始移動俾使以膜片46縮窄處理液流路70。藉此，能容易地進行將開閉閥17的容許流量設成倒吸閥19的設定流量以上之調整。

此外，在本實施例中，將開閉閥17設成閉狀態之前，使針62開始下降後，使膜片46開始下降。此點亦可以相同的時序進行膜片46及針62的下降。此外，使膜片46開始下降後，亦可使針62開始下降。然而，膜片46的下降係以不會干擾針62所為之流量調整之方式將開閉閥17的容許流量調整至倒吸閥19的設定流量以上。

此外，在本實施例中，雖然為了使膜片46及針62移動而設置有馬達68、84，但只要膜片46及針62的位置變更能如馬達般容易，則亦可使用其他的驅動部。

本發明並未限定於上述實施形態，亦能如下述般進行變化實施。

(1)在上述各實施例中，設置有膜片66作為倒吸閥19的體積變化部。此點係如圖8所示，亦可以橫切過針82的移動方向之方式於針82設置有隔壁82a；隔壁82a係夾設有O型環等氣密保持構件82b，並可移動地接觸至閥室 61的內部的側壁。

(2)在上述各實施例及變化例(1)中，有例如使用顯像液作為處理液之情形。藉此，能防止顯像液的落液並流量調整顯像液。如圖9所示，控制部31係藉由噴嘴移動機構21使噴出噴嘴11移動至待機區23等，並將噴出噴嘴11的前端部浸入至滯留有純水等之容器85。接著，控制部31係在關閉上游側流路43時以倒吸閥19的馬達68使與針62連動之膜片66往復移動。將噴出噴嘴11的前端部浸入至純水並吸引純水、將所吸引的純水直接保持一定時間、壓出所吸引的純水，藉此能洗淨噴出噴嘴11的前端。在圖9中，元件符號86為顯像液層，元件符號87為空氣等氣體層，元件符號88為純水。

(3)在上述實施例1、實施例2以及各變化例中，開閉閥17為氣體操作閥，但亦可如倒吸閥19般為馬達驅動。

(4)在上述各實施例及各變化例中，雖然開閉閥17的閥體係以膜片46所構成，但亦可如倒吸閥19的針62般為可流量調整。此外，雖然開閉閥17係如圖2般的構成，但亦可為其他已知的構成。

(5)如圖3所示，在上述各實施例及各變化例中，倒吸基準位置SB0係流動處理液。倒吸基準位置SB0亦可因應 需要做成不使處理液流通。

(6)在上述各實施例及各變化例中，雖然倒吸閥19內的各流路係以單一構件所構成，但亦可為個別的構件。亦即，開閉閥17與倒吸閥19係個別地構成。在此情形中，開閉閥17與倒吸閥19係夾設處理液配管15而連接。

(7)在上述各實施例及各變化例中，於開閉閥17的下游設置有具有流量調整功能之倒吸閥19。因應需要，倒吸閥19亦可為不具有倒吸功能之流量調整閥。

Claims (10)

1. 一種處理液供給裝置，係具備有：處理液流路，係使處理液流通；開閉閥，係用以開閉前述處理液流路，並具備有用以執行開閉之第一閥體以及用以使前述第一閥體移動之第一驅動部；流量調整閥，係設置於比前述開閉閥還下游，並具備有用以調整前述處理液流路的縮窄之第二閥體以及用以使前述第二閥體移動之第二驅動部；以及控制部，係在將前述開閉閥由開狀態切換至閉狀態之閉動作中，一邊使前述第一閥體以第一速度移動並將前述第一閥體由開狀態的位置接近閉狀態的位置，一邊使前述第二閥體移動並使前述第二閥體到達至通過前述流量調整閥之處理液之流量比前述開閉閥在開狀態時的流量還少之預先設定之位置，在前述第二閥體到達前述預先設定之位置時，使以前述第一速度移動之前述第一閥體以比前述第一速度更快之第二速度移動並將前述開閉閥設成閉狀態。
2. 如請求項1所記載之處理液供給裝置，其中前述控制部係在使前述第二閥體開始移動後至使前述第二閥體到達前述預先設定的位置之期間，將能通過前述開閉閥之處理液的容許流量調整至通過前述流量調整閥之處理液的設定流量以上。
3. 如請求項2所記載之處理液供給裝置，其中前述控制部係為了使前述第二閥體到達前述預先設定之位置，使前述第二閥體開始移動後，為了將前述第一閥體由開狀態的位置接近閉狀態之位置，使前述第一閥體開始移動。
4. 如請求項1至3中任一項所記載之處理液供給裝置，其中前述第一驅動部為馬達。
5. 如請求項1至3中任一項所記載之處理液供給裝置，其中前述第二驅動部為馬達。
6. 如請求項1至3中任一項所記載之處理液供給裝置，其中前述流量調整閥係進一步具備有：體積變化部，係與前述第二閥體連動，並使比前述開閉閥還下游的下游側處理液流路的體積變化。
7. 如請求項6所記載之處理液供給裝置，其中前述控制部係在以前述開閉閥關閉前述處理液流路時，以前述第二驅動部使與前述第二閥體連動之前述體積變化部往復移動。
8. 如請求項1至3中任一項所記載之處理液供給裝置，其中前述處理液流路係以單一構件所構成。
9. 如請求項1至3中任一項所記載之處理液供給裝置，其中進一步具備有：噴出噴嘴，係設置於比前述流量調整閥還下游，並經由配管與前述處理液流路連接，用以噴出前述處理液。
10. 一種處理液供給裝置的控制方法，係用以控制處理液供給裝置，該處理液供給裝置係具備有：處理液流路，係使處理液流通；開閉閥，係用以開閉前述處理液流路，並具備有用以執行開閉之第一閥體以及用以使前述第一閥體移動之第一驅動部；以及流量調整閥，係設置於比前述開閉閥還下游，並具備有用以調整前述處理液流路的縮窄之第二閥體以及用以使前述第二閥體移動之第二驅動部；該處理液供給裝置的控制方法係具備有：開閉步驟，係將前述開閉閥由開狀態切換至閉狀態；前述開閉步驟具備有：一邊使前述第一閥體以第一速度移動並將前述第一閥體由開狀態的位置接近閉狀態的位置，一邊使前述第二閥體移動並使前述第二閥體到達至通過前述流量調整閥之處理液之流量比前述開閉閥在開狀態時的流量還少之預先設定之位置之步驟；以及在前述第二閥體到達前述預先設定之位置時，使以前述第一速度移動之前述第一閥體以比前述第一速度更快之第二速度移動並將前述開閉閥設成閉狀態之步驟。