TWI617518B - Flip device - Google Patents

Flip device Download PDF

Info

Publication number
TWI617518B
TWI617518B TW103113069A TW103113069A TWI617518B TW I617518 B TWI617518 B TW I617518B TW 103113069 A TW103113069 A TW 103113069A TW 103113069 A TW103113069 A TW 103113069A TW I617518 B TWI617518 B TW I617518B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
holding
substrate
holding member
holding surface
pressing
Prior art date
Application number
TW103113069A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201505984A (zh
Inventor
Hiroaki Yoshimura
Shinobu Fujikawa
Hiroshi Kitahara
Mitsuhiko Nakaishi
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Ind Co Ltd
Publication of TW201505984A publication Critical patent/TW201505984A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI617518B publication Critical patent/TWI617518B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67011Apparatus for manufacture or treatment
    • H01L21/67092Apparatus for mechanical treatment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

本發明提供一種能夠穩定地使基板翻轉之翻轉裝置。
支持構件4以第1保持面21a與第2保持面21b相互接近及分離之方式支持第1保持構件2a及第2保持構件2b使之可移動。第1保持構件2a及第2保持構件能夠以第1保持面朝向與第1方向相反之第2方向之方式一體地旋轉。

Description

翻轉裝置
本發明係關於一種翻轉裝置。
液晶裝置包含利用密封材料將第1基板與第2基板以其間介置有液晶層之方式貼合所得之貼合基板(例如專利文獻1)。自生產性之觀點等而言,該貼合基板通常暫時以大尺寸之狀態被製作,將該大尺寸之基板分斷成所需尺寸而製作複數個貼合基板。
分斷該貼合基板時,通常必需使貼合基板正背翻轉之步驟。對該貼合基板之分斷方法之一例進行說明,首先,以第1基板成為上側之方式固定貼合基板,於第1基板形成刻劃槽。繼而,使貼合基板正背翻轉而以第2基板成為上側之方式固定貼合基板,自第2基板側按壓貼合基板而使其撓曲,將第1基板沿刻劃槽分斷。繼而,於第2基板成為上側之狀態下,在貼合基板之第2基板形成刻劃槽後,使貼合基板正背翻轉而以第1基板成為上側之方式固定貼合基板。繼而,自第1基板側按壓貼合基板而使其撓曲,將第2基板沿刻劃槽分斷。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]日本專利特開2012-203235號公報
如上所述,當分斷基板時,必需使基板翻轉之處理。先前之翻 轉裝置係藉由如下方法使基板翻轉。首先,翻轉裝置吸附基板,並水平移動至能夠翻轉之位置而使基板移動。繼而,翻轉裝置藉由在能夠翻轉之位置上下翻轉而使基板之正背翻轉。繼而,翻轉裝置水平移動至下一步驟之單元,從而交接經正背翻轉之基板。然而,有此種翻轉裝置因意想不到之故障等導致吸附基板之吸附力下降之虞,其結果為基板偏移或落下。再者,對於非貼合基板之其他基板亦存在同樣之問題。
本發明之課題在於提供一種能夠穩定地使基板翻轉之翻轉裝置。
(1)本發明之一方面之翻轉裝置係用以使基板翻轉之翻轉裝置,且包括第1保持構件、第2保持構件、支持構件、及基底構件。第1保持構件具有朝向第1方向之第1保持面。第2保持構件具有與第1保持面對向之第2保持面。支持構件以第1保持面與第2保持面相互接近及分離之方式支持第1保持構件及第2保持構件中之至少一者並使之可移動。基底構件以第1保持面朝向與第1方向相反之第2方向之方式將支持構件可旋轉地支持。
根據該構成,可以利用第1保持構件之第1保持面與第2保持構件之第2保持面夾著並保持基板。並且,藉由在保持有該基板之狀態下使第1及第2保持構件一體地旋轉,可使基板翻轉。由於以此方式在利用第1及第2保持構件夾著基板之狀態下使基板翻轉,因此可穩定地使基板翻轉。
(2)較佳為,支持構件交替地進行向第1旋轉方向之旋轉與向與上述第1旋轉方向相反之第2旋轉方向之旋轉。根據該構成,即使於在支持構件等連接有管體等之情形時,亦可防止管體因支持構件之旋轉而扭曲。
(3)較佳為,第1保持面及第2保持面之至少一者包含能吸附基板之吸附部。根據該構成,可利用吸附部而更加穩定地保持載置於第1保持面或第2保持面上之基板等。
(4)較佳為,支持構件包含連結部、第1及第2支持部。第1支持部自連結部之第2方向側端部延伸,並且支持第1保持構件。第2支持部自連結部之第1方向側端部延伸,並且支持第2保持構件。
根據本發明,可提供一種穩定地使基板翻轉之翻轉裝置。
1‧‧‧翻轉裝置
2a‧‧‧第1保持構件
2b‧‧‧第2保持構件
3a‧‧‧第1限制構件
3b‧‧‧第2限制構件
4‧‧‧支持構件
5‧‧‧基底構件
6‧‧‧基座構件
7‧‧‧第1平台構件
8‧‧‧第2平台構件
9‧‧‧旋轉接頭
10‧‧‧翻轉單元
11‧‧‧旋轉驅動部
12a‧‧‧第1按壓構件
12b‧‧‧第2按壓構件
21a‧‧‧第1保持面
21b‧‧‧第2保持面
22a‧‧‧背面
23a‧‧‧切口
31a‧‧‧安裝部
32a‧‧‧連結桿
33a‧‧‧限制部
34a‧‧‧旋轉驅動部
35a‧‧‧氣缸
36a‧‧‧連桿機構
41‧‧‧連結部
42a‧‧‧第1支持部
42b‧‧‧第2支持部
43‧‧‧凸座部
51‧‧‧基底構件
52‧‧‧馬達減速部
61‧‧‧一對導軌
62‧‧‧驅動機構
63‧‧‧伺服馬達
64‧‧‧螺桿軸
121a‧‧‧第1按壓部
122a‧‧‧連結部
123a‧‧‧第1驅動部
311a‧‧‧本體部
312a‧‧‧軸承部
331a‧‧‧第1部分
332a‧‧‧第2部分
351a‧‧‧氣缸本體
352a‧‧‧活塞桿
361a‧‧‧第1連桿
362a‧‧‧第2連桿
421a‧‧‧側壁部
422a‧‧‧側壁部
423a‧‧‧前壁部
424a‧‧‧平板部
425a‧‧‧滑動驅動部
426a‧‧‧導桿
427a‧‧‧氣缸本體
428a‧‧‧活塞桿
429a‧‧‧筒狀部
1231a‧‧‧氣缸本體
1232a‧‧‧活塞
1233a‧‧‧滑塊
4261a‧‧‧擋止部
C‧‧‧旋轉軸
W‧‧‧基板
圖1係翻轉裝置之立體圖。
圖2係翻轉裝置之側視圖。
圖3係翻轉裝置之前視圖。
圖4係翻轉裝置之局部立體圖。
圖5係圖3之A-A線剖面。
圖6係解除姿勢下之第1限制構件之立體圖。
圖7係限制姿勢下之第1限制構件之立體圖。
以下,參照圖式對本發明之翻轉裝置之實施形態進行說明。圖1係翻轉裝置1之立體圖。
翻轉裝置1係用以使基板W翻轉之裝置。如圖1所示,翻轉裝置1包含第1保持構件2a、第2保持構件2b、及支持構件4。再者,將該等第1保持構件2a、第2保持構件2b、及支持構件4總稱為翻轉單元10。藉由使該翻轉單元10旋轉而使基板W翻轉。
翻轉裝置1進而包含基底構件5、基座構件6、第1平台構件7、及第2平台構件8。基底構件5係將翻轉單元10可旋轉地支持之構件。基座構件6係將基底構件5可移動地支持之構件。第1及第2平台構件7、8 係用以載置基板W之構件,於第1平台構件7載置翻轉處理前之基板W,於第2平台構件8載置翻轉處理後之基板W。第1平台構件7與第2平台構件8隔開特定間隔而配置。再者,於第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域配置有翻轉單元10。以下,對各構件進行詳細說明。
圖2係翻轉裝置1之側視圖,圖3係翻轉裝置1之前視圖。再者,於圖2中,省略了第1及第2平台構件7、8等之記載。又,於以下之說明中,「前方」係指圖2之左側,「後方」係指圖2之右側。通常,作業者於翻轉裝置1之前方進行作業。
如圖2及圖3所示,第1保持構件2a及第2保持構件2b係用以保持基板W之構件。具體而言,藉由利用第1保持構件2a與第2保持構件2b夾持基板W而保持基板W。
第1保持構件2a係俯視為矩形狀之構件,具有第1保持面21a與背面22a。第1保持面21a朝向第1方向,背面22a朝向與第1方向相反之第2方向。具體而言,於等待對翻轉單元10供給基板W之待機狀態,即未進行翻轉處理之狀態下,第1保持面21a朝向下方或上方,背面22a朝向上方或下方。再者,於圖2及圖3中,第1保持面21a朝向下方,背面22a朝向上方。
第1保持面21a構成用以吸附基板W等之吸附面。具體而言,於第1保持面21a形成有複數個孔部,藉由自各孔部抽吸空氣而吸附載置於第1保持面21a上者。第1保持構件2a於對向之一對端部,形成有複數個切口23a(參照圖4)。
第2保持構件2b之構成與使第1保持構件2a以旋轉軸C為中心旋轉180度之構件基本上相同,因此省略其詳細說明。再者,對於第2保持構件2b之各零件,標註與對應之第1保持構件2a之各零件相同之符號(僅末尾不同)。再者,對於第1保持構件2a之各零件標註在末尾具有「a」之符號,另一方面,對於第2保持構件2b之各零件標註在末尾具 有「b」之符號。
支持構件4以第1保持面21a與第2保持面21b相互接近及分離之方式支持第1保持構件2a及第2保持構件2b使之可移動。詳細而言,支持構件4包含連結部41、第1支持部42a、及第2支持部42b。連結部41前視為大致矩形狀。
第1支持部42a自連結部41之第2方向側之端部朝向前方延伸。又,第2支持部42b自連結部41之第1方向側之端部朝向前方延伸。第1支持部42a支持第1保持構件2a使之可移動。第1保持構件2a以相對於第1支持部42a接近及分離之方式移動。
圖4係翻轉裝置1之局部立體圖。如圖4所示,第1支持部42a包含一對側壁部421a、422a、前壁部423a、及平板部424a。一對側壁部421a、422a相對向地配置,且自連結部41向前方延伸。前壁部423a以將一對側壁部421a、422a之前端彼此連結之方式延伸。平板部424a遍及一對側壁部421a、422a間而延伸,且固定於一對側壁部421a、422a。
第1支持部42a進而包含滑動驅動部425a、及複數根(例如4根)導桿426a。滑動驅動部425a驅動第1保持構件2a,使第1保持構件2a向第1方向移動或向第2方向移動。滑動驅動部425a由平板部424a支持。具體而言,滑動驅動部425a例如為氣缸,且包含氣缸本體427a及活塞桿428a。氣缸本體427a固定於平板部424a,活塞桿428a之前端固定於第1保持構件2a之背面22a。藉由使活塞桿428a於長邊方向上往返移動,而使第1保持構件2a向第1方向或第2方向移動。
各導桿426a係用以使第1保持構件2a向第1方向及第2方向之移動穩定之構件。詳細而言,各導桿426a之前端固定於第1保持構件2a之背面22a。又,各導桿426a可相對於平板部424a滑動地被支持。具體而言,自平板部424a向第2方向延伸之複數個(例如4個)筒狀部429a固 定於平板部424a。筒狀部429a之內徑被設計為導桿426a能在筒狀部429a內滑動之程度。於平板部424a中固定有該筒狀部429a之部位形成貫通孔,該貫通孔與筒狀部429a之貫通孔連通。並且,各導桿426a藉由貫通各筒狀部429a內,而被平板部424a及筒狀部429a可滑動地支持。再者,導桿426a之後端部具有無法通過筒狀部429a內之擋止部4261a。平板部424a與筒狀部429a亦可一體地形成。
第2支持部42b之構成與使第1支持部42a以旋轉軸C為中心旋轉180度之構件基本相同,因此省略其詳細說明。再者,第2支持部42b支持第2保持構件2b使之可移動,第2保持構件2b以相對於第2支持部42b接近及分離之方式移動。對於第2支持部42b之各零件,標註與對應之第1支持部42a之各零件相同之符號(僅末尾不同)。再者,對於第1支持部42a之各零件標註在末尾具有「a」之符號,另一方面,對於第2支持部42b之各零件標註在末尾具有「b」之符號。
圖5係圖3之A-A線剖面圖。再者,於圖5中,省略了第1及第2平台構件7、8等之記載。如圖5所示,支持構件4進而包含凸座部43。凸座部43係自連結部41向後方延伸之圓筒狀之構件,且利用螺栓等被固定於連結部41。凸座部43經由軸承可旋轉地支持於基底構件5。因此,支持構件4可相對於基底構件5以旋轉軸C為中心旋轉。
基底構件5包含基底本體部51、減速部52、及滑動部53。如上所述,支持構件4之凸座部43可旋轉地支持於基底構件51。又,於基底本體部51安裝有旋轉接頭9,於旋轉接頭9安裝有旋轉驅動部11。該旋轉驅動部11係用以使翻轉單元10以旋轉軸C為中心旋轉之構件。被旋轉驅動部11驅動之翻轉單元10交替地進行順時針旋轉與逆時針旋轉。再者,翻轉單元10之旋轉角度為180度。因此,翻轉單元10中,第1保持構件2a配置於第2保持構件2b之上方,或第1保持構件2a配置於第2保持構件2b之下方。旋轉驅動部11例如為伺服馬達。
該旋轉驅動部11之旋轉經由旋轉接頭9被傳遞至馬達減速部52,利用馬達減速部52而減小轉數。減速部52連接於凸座部43,將經減速之旋轉傳遞至凸座部43。其結果為,可藉由旋轉驅動部11使翻轉單元10旋轉。再者,於連結部41、凸座部43、及減速部53沿旋轉軸C形成貫通孔,因此可於其內部穿通管體。可將該管體連接於旋轉接頭而將來自空氣源之空氣輸送至管體。
滑動部53設置於基底本體部51之下端部。該滑動部53係用以使基底構件5向前後方向滑動之構件。詳細而言,基座構件6包含於前後方向(圖5之左右方向)上延伸之一對導軌61。並且,滑動部53被一對導軌61可滑動地支持。其結果為基底構件5可相對於基座構件6向前後方向滑動。
如圖2所示,基座構件6具有驅動機構62。藉由該驅動機構62可使基底構件5向前後方向(圖2之左右方向)移動。例如,驅動機構62可設為滾珠螺桿裝置,包含伺服馬達63、螺桿軸64、及螺母部(省略圖示)。伺服馬達63旋轉驅動螺桿軸64。螺桿軸64向前後方向延伸,且經由複數個滾珠而與螺母部螺合。螺母部固定於基底本體部51之底面。該驅動機構62通過使伺服馬達63旋轉驅動螺桿軸64,而使螺母部沿螺桿軸64移動。其結果為,固定有螺母部之基底構件5亦沿螺桿軸64移動。
基底構件5支持翻轉單元10,因此藉由使基底構件5向前後方向移動,而使翻轉單元10亦向前後方向移動。藉由該前後方向之移動,翻轉單元10可於接收位置與翻轉位置之間移動。當翻轉單元10處於接收位置時,第1及第2保持構件2a、2b如圖1所示般位於第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。繼而,藉由使驅動機構62作動,翻轉單元10自圖1之狀態向後方移動。其結果為,第1及第2保持構件2a、2b偏離第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。將該位置設為翻轉位 置。翻轉單元10於翻轉位置執行翻轉處理。再者,當翻轉單元10處於翻轉位置時,第1及第2保持構件2a、2b亦可不完全偏離第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域,例如第1及第2保持構件2a、2b之一部分位於第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。
如圖4及如圖5所示,翻轉裝置1進而包含第1按壓構件12a與第2按壓構件12b。第1按壓構件12a及第2按壓構件12b係用以於藉由第1保持構件2a與第2保持構件2b保持基板W前按壓基板W之構件。再者,當於第2保持構件2b之第2保持面21b上載置有基板W時藉由第1按壓構件12a按壓基板W。又,當於第1保持構件2a之第1保持面21a上載置有基板W時藉由第2按壓構件12b按壓基板W。
如圖4所示,第1按壓構件12a包含一對第1按壓部121a、連結部122a、及第1驅動部123a。一對第1按壓部121a被連結部122a連結。各第1按壓部121a可經由形成於第1保持構件2a之貫通孔24a(參照圖5)而相對於第1保持面21a進退。即,各第1按壓部121a可採取按壓位置與解除位置。當各第1按壓部121a處於按壓位置時,各第1按壓部121a之前端面位於比第1保持面21a更靠第1方向側。即,各第1按壓部121a之前端面自第1保持面21a向第2保持面21b側突出而按壓載置於第2保持面21b上之基板W等。又,當各第1按壓部121a處於解除位置時,各第1按壓部121a之前端面位於與第1保持面21a相同之位置、或較第1保持面21a更靠第2方向側。
第1驅動部123a以一對第1按壓部121a可採取按壓位置與解除位置之方式驅動一對第1按壓部121a。詳細而言,第1驅動部123a例如為氣缸。該第1驅動部123a包含氣缸本體1231a、活塞1232a、及滑塊1233a。活塞1232a於氣缸本體1231a內滑動。滑塊1233a與活塞1232a連結,且與活塞1232a一併滑動。該滑塊1233a沿氣缸本體1231a滑動。又,於滑塊1233a固定有連結部122a。
第2按壓構件12b之構成與使第1按壓構件12a以旋轉軸C為中心旋轉180度之構件基本上相同,因此省略其詳細說明。再者,對於第2按壓構件12b之各零件標註與對應之第1按壓構件12a之各零件相同之符號(僅末尾不同)。再者,對於第1按壓構件12a之各零件標註在末尾具有「a」之符號,另一方面,對於第2按壓構件12b之各零件標註在末尾具有「b」之符號。
圖6係解除姿勢下之第1限制構件3a之立體圖。如圖6所示,於第1保持構件2a之背面22a上設置有第1限制構件3a。更詳細而言,第1限制構件3a設置於第1保持構件2a之背面22a上之端部。再者,於設置第1限制構件3a之第1保持構件2a之端部,形成有上述複數個切口23a。第1限制構件3a包含複數個安裝部31a、連結桿32a、複數個限制部33a、及旋轉驅動部34a。
各安裝部31a被螺栓等固定於第1保持構件2a之背面22a上。又,各安裝部31a沿背面22a之端部隔開特定間隔而配置。各安裝部31a包含本體部311a、及軸承部312a。本體部311a具有貫通孔,且於該貫通孔內固定有軸承部312a。
連結桿32a遍及各安裝部31a而延伸。連結桿32a為圓柱狀,且被各安裝部31a之軸承部312a支持。因此,連結桿32a被各安裝部31a可旋轉地支持。
各限制部33a於藉由第1保持面21a與第2保持面21b夾著基板W之狀態下,遍及第1保持構件2a與第2保持構件2b而延伸。具體而言,各限制部33a固定於連結桿32a。即,各限制部33a與連結桿32a一體地旋轉。各限制部33a包含第1部分331a及第2部分332a,其整體形成為大致L字狀。第1部分331a固定於連結桿32a。第2部分332a係於第1限制構件3a成為下述限制姿勢之情形時,遍及第1保持構件2a與第2保持構件2b而延伸之部分。
旋轉驅動部34a係用以使連結桿32a旋轉之構件。旋轉驅動部34a包含氣缸35a、及連桿機構36a。氣缸35a包含氣缸本體351a及活塞桿352a。氣缸本體351a可搖動地設置於第1保持構件2a之背面22a。活塞桿352a連結於在氣缸本體351a內滑動之活塞頭(省略圖示)。藉由對氣缸本體351a內供給空氣,而使活塞桿352a於長邊方向上往返移動。氣缸35a藉由活塞桿352a之往返移動而驅動連桿機構36a。
連桿機構36a包含第1連桿361a與第2連桿362a,第1連桿361a與第2連桿362a可旋轉地連結。再者,連結第1連桿361a與第2連桿362a之旋轉軸與連結桿33a之長邊方向平行地延伸。第1連桿361a連接於活塞桿352a。第2連桿362a固定於連結桿32a,且自連結桿32a於連結桿32a之直徑方向上延伸。
圖7係限制姿勢下之第1限制構件3a之立體圖。第1限制構件3a可採取圖6所示之解除姿勢、與圖7所示之限制姿勢。第1限制構件3a於等待要被翻轉之基板W時成為解除姿勢。當第1限制構件3a成為解除姿勢時,各限制部33a位於較第1保持構件2a之第1保持面21a更靠第2方向側。例如,如圖6所示,於如第1保持構件2a之第1保持面21a朝向下方之狀態下,各限制部33a位於較第1保持面21a更上方。由此,可順利地進行基板W之供給及取出。
第1限制構件3a於執行基板W之翻轉處理時,成為如圖7所示之限制姿勢。再者,於第1限制構件3a成為限制姿勢前,首先,成為第1保持構件2a與第2保持構件2b相互接近而夾著並保持基板W之狀態。若如此藉由第1及第2保持構件2a、2b保持基板W後第1限制構件3a成為限制姿勢,則各限制部33a遍及第1保持構件2a之切口23a與第2保持構件2b之切口23b而延伸。更具體而言,首先,自圖6所示之狀態,旋轉驅動部34a作動而使連結桿32a向箭頭X之方向旋轉。由此,成為各限制部33a遍及第1保持構件2a與第2保持構件2b而延伸之狀態。再者, 當第1保持面21a及第2保持面21b朝向水平方向時,即第1保持面21a及第2保持面21b與垂直方向平行地延伸時,各限制部33a配置於成為第1保持構件及第2保持構件之下方之位置。
(翻轉裝置之動作)
其次,對上述翻轉裝置1之動作進行說明。首先,將需要翻轉處理之基板W載置於第1平台構件7上。使載置於該第1平台構件7上之基板W移動至第2保持構件2b之第2保持面21b上。由於基板W被載置於第1保護片材(省略圖示)上,因此可拖動第1保護片材而使基板W自第1平台構件7移動至第2保持面21b上。再者,可由作業者利用手工作業使基板W移動,亦可利用帶式輸送機等移動裝置而使基板W移動。又,於該階段,第1及第2保持構件2a、2b位於第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。即,翻轉單元10位於接收位置。
使基板W移動至第2保持構件2b之第2保持面21b上後,於基板W上載置第2保護片材(省略圖示)。藉此,當如下所述使基板W自第1保持構件2a之第1保持面21a移動至第2平台構件8時,可藉由拖動第2保護片材而使基板W移動。
繼而,第1按壓構件12a之一對第1按壓部121a移動至按壓位置,隔著第2保護片材而按壓第2保持面21b上之基板W。藉此,可於如下所述基底構件5向後方移動時,防止第2保持面21b上之基板W或第2保護片材之位置偏移。再者,亦可於第1按壓部121a向按壓位置移動時,使第2保持構件2b向上方移動。再者,於該階段,第1保持面21a與第2保持面21b分離,基板W未被第1保持構件2a與第2保持構件2b保持。
繼而,基底構件5向後方移動。具體而言,藉由驅動機構62驅動基底構件5,而使基底構件5向後方移動。其結果為,第1及第2保持構件2a、2b偏離第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。即,翻轉單 元10移動至翻轉位置。再者,亦可為第1及第2保持構件2a、2b之一部分位於第1平台構件7與第2平台構件8之間的區域。
繼而,第1保持構件2a向下方移動。藉此,利用第1保持構件2a與第2保持構件2b夾著並保持基板W。再者,當第1保持構件2a向下方移動時,一對第1按壓部121a未移動。即,一對第1按壓部121a相對於第1保持構件2a相對地向上方移動。其結果為,一對第1按壓部121a移動至解除位置。
利用第1及第2保持構件2a、2b夾住基板W後,第1限制構件3a自解除姿勢成為限制姿勢。具體而言,成為如下狀態,即,第1限制構件3a之各限制部33a於第1及第2保持構件2a、2b之各切口23a、23b內遍及第1保持構件2a與第2保持構件2b而延伸。再者,第2限制構件3b與第1限制構件3a同樣地亦自解除姿勢成為限制姿勢。
繼而,翻轉單元10以旋轉軸C為中心旋轉180度。例如,於自前方觀察之狀態下,翻轉單元10順時針旋轉180度。其結果為,第1保持構件2a成為於旋轉前朝向下方之第1保持面21a朝向上方之狀態。又,第2保持構件2b成為於旋轉前朝向上方之第2保持面21b朝向下方之狀態。即,第1保持構件2a與第2保持構件2b之位置調換。藉由以此方式使翻轉單元10旋轉180度,而使基板W成為正背翻轉之狀態。
當翻轉單元10之旋轉結束時,基底構件5向前方移動。即,翻轉單元10移動至接收位置。繼而,因翻轉單元10之旋轉而成為位於第2保持構件2b之下方之第1保持構件2a向下方移動。又,成為位於第1保持構件2a之上方之第2保持構件2b向上方移動。又,第1及第2限制構件3a、3b自限制姿勢成為解除姿勢。其結果為,第1及第2保持構件2a、2b對基板W之保持被解除。
基板W之保持被解除後,使基板W移動至第2平台構件8。具體而言,藉由卸除覆蓋基板W之第1保護片材,拖動第2保護片材而使載置 於第2保護片材上之基板W亦一併移動。
繼而,翻轉裝置1重複與上述動作相同之動作。再者,與上述動作不同的是,由於第1保持構件2a與第2保持構件2b位置調換,因此第1保持構件2a之動作與第2保持構件2b之動作調換。又,隨之第1限制構件3a之動作與第2限制構件3b之動作調換,第1按壓構件12a之動作與第2按壓構件12b之動作調換。又,於利用第1保持構件2a與第2保持構件2b夾著並保持基板W後,翻轉單元10自前方觀察逆時針旋轉180度。
[變化例]
以上,對本發明之實施形態進行了說明,但本發明並不限定於該等實施形態,可於不脫離本發明之主旨之範圍內進行各種變更。
變化例1
於上述實施形態中,當翻轉單元10以使處於較第2保持構件2b更上方之第1保持構件2a位於較第2保持構件2b更下方之方式旋轉時,翻轉單元10自前方觀察為順時針旋轉,但並不特別限定於此。例如,翻轉單元10亦可於第1保持構件2a處於第2保持構件2b之上方時,自前方觀察為逆時針旋轉180度。
變化例2
於上述實施形態中,第1保持構件2a被第1支持部42a支持,第2保持構件2b被第2支持部42b支持,但並不特別限定於此。例如,亦可為第1及第2保持構件2a、2b可滑動地支持於連結部41。
變化例3
於上述實施形態中,第1保持構件2a及第2保持構件2b兩者被可移動地支持,但並不特別限定於此。例如,亦可為,僅第1保持構件2a可移動地支持於支持構件4,第2保持構件2b不可移動地支持於支持構件4。除此以外,亦可為,第1保持構件2a不可移動地支持於支持構件 4,第2保持構件2b可移動地支持於支持構件4。
1‧‧‧翻轉裝置
2a‧‧‧第1保持構件
2b‧‧‧第2保持構件
4‧‧‧支持構件
5‧‧‧基底構件
6‧‧‧基座構件
7‧‧‧第1平台構件
8‧‧‧第2平台構件
10‧‧‧翻轉單元
22a‧‧‧背面
61‧‧‧一對導軌
W‧‧‧基板

Claims (5)

  1. 一種翻轉裝置,其用以使基板翻轉,且包括:第1保持構件,其具有朝向第1方向之第1保持面;第2保持構件,其具有與上述第1保持面對向之第2保持面;支持構件,其以上述第1保持面與上述第2保持面相互接近及分離之方式支持上述第1保持構件及上述第2保持構件中之至少一者使之可移動;基底構件,其以上述第1保持面朝向與上述第1方向相反之第2方向之方式支持上述支持構件使之可旋轉;及按壓構件,其係用以於藉由上述第1保持構件與上述第2保持構件保持上述基板之前按壓上述基板;且上述按壓構件包含第1按壓構件與第2按壓構件,當於上述第2保持構件之上述第2保持面上載置有上述基板時僅藉由上述第1按壓構件按壓上述基板,當於上述第1保持構件之上述第1保持面上載置有上述基板時僅藉由上述第2按壓構件按壓上述基板。
  2. 如請求項1之翻轉裝置,其中上述支持構件交替地進行向第1旋轉方向之旋轉、及向與上述第1旋轉方向相反之第2旋轉方向之旋轉。
  3. 如請求項1之翻轉裝置,其中上述第1保持面及上述第2保持面之至少一者具有吸附上述基板之吸附部。
  4. 如請求項2之翻轉裝置,其中上述第1保持面及上述第2保持面之至少一者具有吸附上述基板之吸附部。
  5. 如請求項1至4中任一項之翻轉裝置,其中上述支持構件包括:連結部;第1支持部,其自上述連結部之上述第2方向側端部延伸,並 且支持上述第1保持構件;及第2支持部,其自上述連結部之上述第1方向側端部延伸,並且支持上述第2保持構件。
TW103113069A 2013-08-07 2014-04-09 Flip device TWI617518B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013164222A JP6300463B2 (ja) 2013-08-07 2013-08-07 反転装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201505984A TW201505984A (zh) 2015-02-16
TWI617518B true TWI617518B (zh) 2018-03-11

Family

ID=52497233

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103113069A TWI617518B (zh) 2013-08-07 2014-04-09 Flip device

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6300463B2 (zh)
KR (1) KR102250030B1 (zh)
CN (1) CN104340661B (zh)
TW (1) TWI617518B (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109625967A (zh) * 2018-12-28 2019-04-16 荆门锦尚行智能设备科技有限公司 一种玻璃生产线上玻璃片回流装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200093721A (ko) * 2019-01-28 2020-08-06 삼성디스플레이 주식회사 기판 반전 장치
CN110077153B (zh) * 2019-06-11 2020-09-01 广州市欧邦标识制品有限公司 一种翻转车
CN112537624A (zh) * 2020-11-06 2021-03-23 南京涛余鑫贸易有限公司 一种可翻转输送的反光板智能制造调节机构

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895722A (en) * 1973-12-20 1975-07-22 Inland Container Corp Box inverting apparatus
JPS60228345A (ja) * 1984-04-23 1985-11-13 Aida Eng Ltd 加工対象物の反転装置
JP2002302248A (ja) * 2001-03-30 2002-10-18 Shibaura Mechatronics Corp 基板反転装置、及びそれを用いたパネル製造装置
TW200605214A (en) * 2004-06-22 2006-02-01 Dainippon Screen Mfg Substrate reversing device, substrate transporting device, substrate processing device, substrate reversing method, substrate transporting method and substrate processing method
CN201035276Y (zh) * 2007-05-15 2008-03-12 北京京东方光电科技有限公司 高节拍翻转装置
JP2008192746A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Toshiba Electronic Engineering Corp 物品の搬送具、物品の反転装置、物品の反転方法、フラットパネルディスプレイの製造装置、及びフラットパネルディスプレイの製造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR19990051056A (ko) * 1997-12-19 1999-07-05 양재신 패널 반전용 고정지그
EP1493695A1 (de) * 2003-07-04 2005-01-05 Grenzebach Maschinenbau GmbH Vorrichtung zur Plattenübergabe zwischen einem Plattenförderer und einem Stapelgestell oder dergleichen
US20070214925A1 (en) * 2003-09-24 2007-09-20 Mitsubishi Diamond Industrial Co., Ltd Substrate dicing system, substrate manufacturing apparatus, and substrate dicing method
JP5052753B2 (ja) * 2005-02-16 2012-10-17 芝浦メカトロニクス株式会社 基板反転装置および基板製造装置
KR101265085B1 (ko) * 2006-06-30 2013-05-16 엘지디스플레이 주식회사 반전부를 구비한 이송장치 및 반전부를 이용한 글래스패널의 반전방법
JP4726776B2 (ja) * 2006-12-27 2011-07-20 大日本スクリーン製造株式会社 反転装置およびそれを備えた基板処理装置
JP2012203235A (ja) 2011-03-25 2012-10-22 Seiko Epson Corp 液晶装置および電子機器

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3895722A (en) * 1973-12-20 1975-07-22 Inland Container Corp Box inverting apparatus
JPS60228345A (ja) * 1984-04-23 1985-11-13 Aida Eng Ltd 加工対象物の反転装置
JP2002302248A (ja) * 2001-03-30 2002-10-18 Shibaura Mechatronics Corp 基板反転装置、及びそれを用いたパネル製造装置
TW200605214A (en) * 2004-06-22 2006-02-01 Dainippon Screen Mfg Substrate reversing device, substrate transporting device, substrate processing device, substrate reversing method, substrate transporting method and substrate processing method
JP2008192746A (ja) * 2007-02-02 2008-08-21 Toshiba Electronic Engineering Corp 物品の搬送具、物品の反転装置、物品の反転方法、フラットパネルディスプレイの製造装置、及びフラットパネルディスプレイの製造方法
CN201035276Y (zh) * 2007-05-15 2008-03-12 北京京东方光电科技有限公司 高节拍翻转装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109625967A (zh) * 2018-12-28 2019-04-16 荆门锦尚行智能设备科技有限公司 一种玻璃生产线上玻璃片回流装置

Also Published As

Publication number Publication date
TW201505984A (zh) 2015-02-16
KR102250030B1 (ko) 2021-05-07
JP2015034842A (ja) 2015-02-19
KR20150017659A (ko) 2015-02-17
JP6300463B2 (ja) 2018-03-28
CN104340661B (zh) 2018-10-19
CN104340661A (zh) 2015-02-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI617518B (zh) Flip device
JP6280332B2 (ja) 基板反転搬送装置
JP6875722B2 (ja) 基板加工装置
JP6838895B2 (ja) ワーク搬送装置およびその運転方法
JP2010058213A (ja) バキュームパッド装置
TW201702025A (zh) 產業用機器人
JP2016040203A (ja) 基板反転搬送装置
JP2013123746A (ja) 摩擦撹拌接合装置
BR112018002957B1 (pt) aparelho para fabricação de placas de vidro
KR100807172B1 (ko) 글라스 절단장치
KR20170110245A (ko) 션트 조립방법 및 조립장치
JP7054174B2 (ja) 基板反転装置
JP2015035442A (ja) 反転装置
KR102067984B1 (ko) 기판 절단 장치
JP2015035444A (ja) 反転装置
JP5781604B2 (ja) 帯状ゴム部材の移送切断方法および装置
JP2008122454A (ja) 貼合装置
JP5243720B2 (ja) 複合加工機および複合加工機におけるワークの搬送方法
JP2015035443A (ja) 反転装置
JP6925254B2 (ja) 面取り装置及び面取り方法
KR101341424B1 (ko) 가요성 기판 절단장치
KR102067985B1 (ko) 기판 절단 장치
JP2003273584A (ja) 電子回路部品保持ヘッド
KR101310765B1 (ko) 가요성 기판 절단장치
JP6659499B2 (ja) 搬送システム及び搬送体