TWI608926B - 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 - Google Patents

自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 Download PDF

Info

Publication number
TWI608926B
TWI608926B TW103119408A TW103119408A TWI608926B TW I608926 B TWI608926 B TW I608926B TW 103119408 A TW103119408 A TW 103119408A TW 103119408 A TW103119408 A TW 103119408A TW I608926 B TWI608926 B TW I608926B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
film laminate
foreign matter
film
adhesive
pair
Prior art date
Application number
TW103119408A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201504028A (zh
Inventor
田村透
古澤修也
Original Assignee
日東電工股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 日東電工股份有限公司 filed Critical 日東電工股份有限公司
Publication of TW201504028A publication Critical patent/TW201504028A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI608926B publication Critical patent/TWI608926B/zh

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B38/00Ancillary operations in connection with laminating processes
    • B32B38/16Drying; Softening; Cleaning
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08CLEANING
    • B08BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B7/00Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass
    • B08B7/0028Cleaning by methods not provided for in a single other subclass or a single group in this subclass by adhesive surfaces
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32LAYERED PRODUCTS
    • B32BLAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B41/00Arrangements for controlling or monitoring lamination processes; Safety arrangements

Landscapes

  • Polarising Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)

Description

自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 技術領域
本發明有關於一種自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置。
背景技術
迄今,諸如影像顯示裝置之影像顯示部所應用之光學薄膜乃使用偏光板(偏光膜)。通常,偏光板作為於其至少一面上經黏著層而積層有保護膜之薄膜積層體而供應,影像顯示裝置之製造時,則剝離前述保護膜再加以裝配於影像顯示部。
此種光學薄膜上一旦附著異物,可能對其光學特性造成影響。
因此,已提案有自光學薄膜除去異物之方法。
舉例言之,已提案有一種朝有機EL薄膜表面吹送空氣,並自其表面之兩端側吸引已吹送之空氣,而除去表面 之異物之技術(參照專利文獻1)。
又,舉例言之,已提案有一種使黏著輥輪之周面垂直地接觸基板端面,並使前述黏著輥輪旋轉,以除去基板端面之異物之技術(參照專利文獻2)。
先行技術文獻 專利文獻
專利文獻1:日本專利特開2010-140705號公報
專利文獻2:日本專利特開2006-165072號公報
發明概要
然而,上述之薄膜積層體於其端面側設有露出於外部環境中之黏著層,故具有異物容易附著於該端面上之傾向。因此,上述專利文獻1之技術尚難以充分除去端面上附著之異物。
且,設有光學薄膜之薄膜積層體較薄,故專利文獻2之技術可能因與黏著輥輪之周面之接觸而損傷薄膜積層體之端面。
本發明即有鑑於上述情況而以提供可避免損傷,同時可充分除去異物之自薄膜積層體除去異物的方法,以及可避免損傷,同時可避免異物之附著之薄膜積層體的製造方法及製造裝置為課題。
本發明之自薄膜積層體除去異物的方法,可朝下 游側輸送包含光學薄膜、形成於該光學薄膜上之黏著層、積層於該黏著層上而可保護前述光學薄膜之保護膜之薄膜積層體,同時使前述薄膜積層體之寬度方向之兩端緣之至少一方為配置於該兩端緣之至少一側之黏著輥輪對所夾持並朝前述下游側通過以除去異物。
依據上述構成,即可使附著於薄膜積層體端面上之異物附著於黏著輥輪對上而加以除去。藉此,而可充分除去異物。甚且,可藉黏著輥輪而避免薄膜積層體之端面受到垂直推壓,並藉前述黏著輥輪對而除去異物,故可避免薄膜積層體之損傷。
因此,可避免薄膜積層體之損傷,並自前述薄膜積層體充分除去異物。
上述構成之自薄膜積層體除去異物的方法宜使前述薄膜積層體之寬度方向之兩端緣為配置於該兩端緣側之前述黏著輥輪對所夾持並朝前述下游側通過以除去異物,且,前述黏著輥輪對愈接近前述薄膜積層體之寬度方向之中央側,位置愈偏向前述下游側而傾斜。
依據上述構成,藉如上述般而傾斜之黏著輥輪對分別夾持上述兩端緣,即可避免薄膜積層體產生皺褶。故而,可進而避免薄膜積層體之損傷。
上述構成之自薄膜積層體除去異物的方法宜使前述黏著輥輪對之各周面部之硬度為30~60°。
依據上述構成,即可使黏著輥輪對之各周面部配合薄膜積層體之端緣及端面之形狀而變形,以更易於接觸 前述薄膜積層體之端面,故可更為確實地除去薄膜積層體端面上之異物。
又,上述自薄膜積層體除去異物的方法適用於前述光學薄膜為偏光板之情況。
偏光板上即便附著數μm大小之異物亦可能成為問題,故若亦可確實除去附著於薄膜積層體端面上之異物,則效果極佳。
且,本發明之薄膜積層體之製造方法包括實施前述除去異物的方法之除去異物步驟。
依據上述構成,即可藉上述異物除去方法而避免薄膜積層體之損傷,並自前述薄膜積層體充分除去異物。
因此,包含實施上述異物除去方法之異物除去步驟,即可避免損傷,並製造可避免異物之附著之薄膜積層體。
本發明之薄膜積層體之製造裝置包含有:搬送裝置,可朝下游側搬送薄膜積層體;及,異物除去裝置,設有配置於前述薄膜積層體之寬度方向之兩端緣之至少一側上而可夾持前述兩端緣之至少一方並使前述薄膜積層體朝下游側通過之黏著輥輪對。
1‧‧‧薄膜積層體之製造裝置
3‧‧‧搬送用輥輪對
3‧‧‧搬送裝置
4‧‧‧異物除去裝置
10‧‧‧薄膜積層體
10a、10b‧‧‧兩端緣
11‧‧‧光學薄膜
11a‧‧‧表面
13‧‧‧黏著層
15‧‧‧保護膜
19‧‧‧繞捲體
20‧‧‧薄膜積層體
60‧‧‧黏著輥輪對
61‧‧‧第1黏著輥輪
61a、63a‧‧‧輥輪體
61b、63b‧‧‧黏著層
63‧‧‧第2黏著輥輪
圖1為顯示本發明一實施形態之薄膜積層體之製造方法所使用之製造裝置之概略側面圖。
圖2為顯示本實施形態之光學薄膜之異物除去方法之實施狀態之概略上面圖。
圖3為顯示本實施形態之光學薄膜之異物除去方法之 實施狀態之概略側面圖。
圖4為顯示本實施形態之光學薄膜之異物除去方法之實施狀態之概略正面圖。
圖5為顯示本發明之其它實施形態之光學薄膜之異物除去方法之實施狀態之概略側面圖。
用以實施發明之形態
以下,說明本發明實施形態之自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置。
首先,說明本實施形態之薄膜積層體之製造裝置。
如圖1、圖2所示,本實施形態之薄膜積層體之製造裝置1包含作為可朝下游側搬送自繞捲體19捲出之薄膜積層體10之搬送裝置之搬送用輥輪對3、設有配置於薄膜積層體10之寬度方向(圖2之Y方向)之兩端緣10a、10b之至少一側而可夾持(握持)前述兩端緣10a、10b之至少一方並使薄膜積層體10朝下游側通過之黏著輥輪對60之異物除去裝置4。
搬送用輥輪對3可藉預定之壓力夾持薄膜積層體10並旋轉而朝下游側輸送薄膜積層體10。
本實施形態之黏著輥輪對60一如圖2所示,配置於薄膜積層體10之上述兩端緣10a、10b側。即,黏著輥輪對60分別配置於可夾持薄膜積層體10之上述兩端緣之位置上。更詳而言之,黏著輥輪對60於薄膜積層體10之上述兩 端緣10a、10b側分別配置有1個,總計2個。且,如圖3所示,黏著輥輪對60包含可旋轉自如之第1黏著輥輪61與可旋轉自如之第2黏著輥輪63,該等第1及第2黏著輥輪61、63於其表面部設有黏著層(除去異物用黏著層)61b、63b。具體而言,第1及第2黏著輥輪61、63包含輥輪體61a、63a及分別形成於前述輥輪體61a、63a表面上之黏著層61b、63b。如圖2~圖4所示,黏著輥輪對60構成使第1黏著輥輪61與第2黏著輥輪63依預定之壓力而接觸,以使其等夾持薄膜積層體10並使其朝下游側通過。進而,該等黏著輥輪對60配置成與上述寬度方向(Y方向)平行。
接著,說明本實施形態所使用之薄膜積層體10。
如圖3所示,本實施形態之薄膜積層體10包含帶狀之光學薄膜11、形成於前述光學薄膜11之一面(在此為表面)11a上之黏著層13、積層於前述黏著層13上之帶狀之保護膜15。
光學薄膜11可例舉諸如偏光板(偏光膜)、相位差膜、抗反射膜、增亮膜或其等之積層體等。
黏著層13用於黏合光學薄膜11與保護膜15。該黏著層13乃於光學薄膜11上塗布作為用於形成黏著層13之材料之黏著劑,並視需要而予以乾燥或硬化而形成。
保護膜15用於保護光學薄膜11之表面11a。且,本實施形態中,保護膜15將自黏著層13剝離,此種保護膜亦稱為隔片。
包含上述光學薄膜11、黏著層13及保護膜15之薄膜積層體10可藉諸如以下製程而製造。
即,先於光學薄膜11之表面11a上塗布上述黏著劑,再視需要而予以乾燥或硬化,即形成黏著層13。使於該黏著層13上載置保護膜15而製得之積層體通過已設成預定之壓力之一對滾筒間(未圖示)。藉此,即可製得薄膜積層體10。圖1之態樣中,雖將薄膜積層體10捲束成筒狀而為繞捲體19,但本發明亦可使用薄膜積層體10而不予構成繞捲體19。
其次,說明本實施形態之薄膜積層體之製造方法。
本實施形態之薄膜積層體20之製造方法包含異物除去步驟,其中則實施藉朝下游側輸送包含光學薄膜11、形成於該光學薄膜11上之黏著層13、積層於該黏著層13上而用於保護前述光學薄膜11之保護膜15之薄膜積層體10,同時使前述薄膜積層體10之寬度方向(Y方向)之兩端緣10a、10b之至少一方為配置於該兩端緣10a、10b之至少一側之黏著輥輪對60所夾持並使其朝前述下游側通過,而除去異物之異物除去方法。
前述異物除去步驟中,如圖1所示,乃先自上述之繞捲體19將帶狀之薄膜積層體10沿其長向(X方向,參照圖2)加以捲出,並藉搬送用輥輪對3而朝下游側加以輸送。如此而朝下游側輸送薄膜積層體10,同時使薄膜積層體10之兩端緣10a、10b分別通過黏著輥輪對60,即,分別通過第1黏著輥輪61與第2黏著輥輪63之間。如圖3、圖4所示,第1黏著輥輪61及第2黏著輥輪63可夾持兩端緣10a、10b同時使薄膜積層體10朝下游側通過。
如上所述,以各黏著輥輪對60夾持兩端緣10a、10b並使其等朝下游側通過,即可除去附著於寬度方向(Y方向)上之薄膜積層體10之兩端面上之異物。另,此時,亦可同時除去薄膜積層體10表面之兩端緣10a、10b附近表面之異物。
又,上述寬度方向(Y方向)上,與薄膜積層體10接觸之黏著輥輪對60之寬度方向(Y方向)長度及未與薄膜積層體10接觸(較薄膜積層體更為凸出至外側)之黏著輥輪對60之寬度方向(Y方向)長度,可分別對應黏著層13之端面之異物除去程度而適當加以設定。
另,上述圖2中,顯示2個黏著輥輪對60配置於薄膜積層體10之兩端緣10a、10b側之態樣,即,2個黏著輥輪對60於本發明中配置於前述兩端緣10a、10b側之黏著輥輪對60之數量並無特別之限制,而可適當加以設定。
又,上述圖2中,雖顯示黏著輥輪對60配置成與薄膜積層體10平行之態樣,但本發明中,黏著輥輪對60之配置並無特別之限制,而可適當加以設定。舉例言之,可如圖5所示,採用將黏著輥輪對60配置成愈接近薄膜積層體10之寬度方向(Y方向)之中央側,位置則愈偏向上述下游側而傾斜之態樣。即,亦可將黏著輥輪對60配置成愈接近上述下游側即愈縮減寬度之八字狀之構造。藉如上而傾斜之黏著輥輪對60分別夾持薄膜積層體10之兩端緣10a、10b,即可避免薄膜積層體10產生皺褶。因此,可進而避免薄膜積層體10之損傷。
如上所述,將黏著輥輪對60配置成傾斜狀態時,其傾斜角度θ宜相對於寬度方向(Y方向)而為大於0°、30°以下。傾斜角度θ大於0°,則具有可避免薄膜積層體10產生皺褶之優點,傾斜角度θ為30°以下,則具有可避免薄膜積層體10之曲折行進以提昇直線前進安定性之優點。
又,上述黏著輥輪對60之各周面部之硬度即第1及第2黏著輥輪61、63之周面部之硬度宜為30~60°。上述硬度則為使用硬度計(橡膠硬度計)測定第1及第2黏著輥輪61、63之周面(表面)所得。
上述硬度為60°以下,則以黏著輥輪對60夾持薄膜積層體10時,將如圖4所示,各第1及第2黏著輥輪61、63之周面部(即黏著層61b、63b與輥輪體61a、63a之表面側之局部)將配合薄膜積層體10之端緣及端面而變形,可較易接觸薄膜積層體10之端面。藉此,而可更確實地除去薄膜積層體10端面上之異物。且,上述硬度為30°以上,則可充分提昇黏著輥輪對60之耐久性,即第1及第2黏著輥輪61、63之耐久性。
可使上述硬度如上而為30~60°之輥輪體61a、63a之形成材料則可例舉諸如異丁烯橡膠、胺甲酸乙酯橡膠等。
然後,如上而進行異物除去步驟,即製得該異物除去步驟後之積層體作為薄膜積層體20。
如上所述,本實施形態之自薄膜積層體10除去異物的方法乃藉朝下游側輸送上述薄膜積層體10,同時使薄膜積層體10之寬度方向(Y方向)之兩端緣10a、10b之至少一 方(在此為兩端緣10a、10b)為配置於該兩端緣10a、10b之至少一側(在此為兩端緣10a、10b側)之黏著輥輪對60所夾持並朝上述下游側通過,而除去異物。
依據上述構成,則可藉使附著於薄膜積層體10之端面上之異物附著於黏著輥輪對60上而加以除去。藉此,而可充分除去異物。甚且,可避免黏著輥輪對60推壓薄膜積層體10之端面,即以該黏著輥輪對60除去異物,故可避免薄膜積層體10之損傷。
因此,可避免薄膜積層體10之損傷,並自前述薄膜積層體10充分除去異物。
在此,舉例言之,在捲出薄膜積層體10之前,使黏著構件等接觸繞捲體19之側面,而除去其側面上之異物時,因繞捲體19之捲束狀態造成側面上存在凹凸部分,故難以充分除去異物。且,以單一之黏著輥輪對夾持薄膜積層體10之全面並使其朝下游側通過以除去上述端面之異物時,可能因薄膜積層體10之寬度方向上之厚度不均及前述輥輪對之寬度方向上之壓力不均等,而導致薄膜積層體10產生皺褶現象之發生。
然而,與上述情況相較,依據前述異物除去方法,則可避免皺褶之產生,並充分除去異物。
又,本實施形態適用於上述光學薄膜11為偏光板之情況。偏光板上即便附著數μm大小之異物亦可能成為問題,故若亦可確實除去薄膜積層體10端面上附著之異物,則效果極佳。
又,本實施形態之薄膜積層體20之製造方法包含實施上述自薄膜積層體10除去異物的方法之異物除去步驟。
依據上述構成,即可藉上述異物除去方法而避免薄膜積層體10之損傷,並自前述薄膜積層體10充分除去異物。
因此,包含實施上述異物除去方法之異物除去步驟,即可避免損傷,並製得可避免異物之附著之薄膜積層體20。
又,本實施形態之薄膜積層體20之製造裝置包含可朝下游側搬送薄膜積層體10之搬送裝置3、設有配置於上述薄膜積層體10之寬度方向之兩端緣10a、10b之至少一側而可夾持該兩端緣10a、10b之至少一方並使上述薄膜積層體10朝下游側通過之黏著輥輪對60之異物除去裝置4。
依據上述構造,則與前述相同,可避免損傷並製得可避免異物之附著之薄膜積層體20。
如上所述,依據本實施形態,可提供可避免損傷並充分除去異物之自薄膜積層體除去異物的方法,以及可製得可避免損傷並可避免異物之附著之薄膜積層體之光學薄膜之製造方法及製造裝置。
另,本實施形態之自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置雖如上所述,但本發明不受限於上述實施形態,而可在本發明之構思範圍內進行適當之設計變更。
舉例言之,上述實施形態中,雖說明以配置於上 述兩端緣10a、10b側之黏著輥輪對60夾持該兩端緣10a、10b之構造,但本發明亦可採用以上述兩端緣10a、10b中任一側之黏著輥輪對60夾持該兩端緣10a、10b中任一方之構造。
1‧‧‧薄膜積層體之製造裝置
3‧‧‧搬送用輥輪對
4‧‧‧異物除去裝置
10‧‧‧薄膜積層體
19‧‧‧繞捲體
20‧‧‧薄膜積層體
60‧‧‧黏著輥輪對

Claims (5)

  1. 一種自薄膜積層體除去異物的方法,可朝下游側輸送包含光學薄膜、形成於該光學薄膜上之黏著層、積層於該黏著層上而可保護前述光學薄膜之保護膜之薄膜積層體,同時使前述薄膜積層體之寬度方向之兩端緣為分別配置於該兩端緣之黏著輥輪對所夾持並朝前述下游側通過以除去異物,且,前述黏著輥輪對愈接近前述薄膜積層體之寬度方向之中央側,位置愈偏向前述下游側而傾斜。
  2. 如請求項1之自薄膜積層體除去異物的方法,其中前述黏著輥輪對之各周面部之硬度為30~60°。
  3. 如請求項1或2之自薄膜積層體除去異物的方法,前述光學薄膜為偏光板。
  4. 一種薄膜積層體的製造方法,包括用以實施請求項1至3中任一項之自薄膜積層體除去異物的方法之異物除去步驟。
  5. 一種薄膜積層體之製造裝置,包含有:搬送裝置,可朝下游側搬送薄膜積層體;及異物除去裝置,設有分別配置於前述薄膜積層體之寬度方向之兩端緣上而可夾持前述兩端緣並使前述薄膜積層體朝下游側通過之黏著輥輪對, 前述黏著輥輪對愈接近前述薄膜積層體之寬度方向之中央側,位置愈偏向前述下游側而傾斜。
TW103119408A 2013-07-31 2014-06-04 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 TWI608926B (zh)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2013159658A JP6163377B2 (ja) 2013-07-31 2013-07-31 フィルム積層体からの異物除去方法、フィルム積層体の製造方法及び製造装置。

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201504028A TW201504028A (zh) 2015-02-01
TWI608926B true TWI608926B (zh) 2017-12-21

Family

ID=52495653

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW103119408A TWI608926B (zh) 2013-07-31 2014-06-04 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6163377B2 (zh)
KR (1) KR102211407B1 (zh)
CN (1) CN104338712B (zh)
TW (1) TWI608926B (zh)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11155428B2 (en) * 2018-02-23 2021-10-26 International Test Solutions, Llc Material and hardware to automatically clean flexible electronic web rolls
JP2020128077A (ja) * 2018-08-01 2020-08-27 東洋紡株式会社 積層フィルム、エッジクリーニング装置、及び、クリーニングされた積層フィルムの製造方法
JP7216955B2 (ja) * 2019-01-09 2023-02-02 株式会社東海理化電機製作所 有機el素子の製造方法及び有機el装置
JP2020131128A (ja) * 2019-02-20 2020-08-31 日東電工株式会社 異物除去装置
JP2023105602A (ja) * 2022-01-19 2023-07-31 日東電工株式会社 表面保護フィルムおよび表面保護フィルム付光学部材
JP2023105601A (ja) * 2022-01-19 2023-07-31 日東電工株式会社 表面保護フィルムおよび表面保護フィルム付光学部材

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134523B1 (zh) * 1970-07-09 1976-09-27
JP2000288483A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Fuji Photo Film Co Ltd 長尺状可撓性シートの除塵方法
JP2006269614A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Hitachi Chem Co Ltd 除塵装置
JP4266503B2 (ja) * 2000-08-23 2009-05-20 住友化学株式会社 基材搬送装置および基材塗工体の製造方法

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2000343011A (ja) * 1999-06-04 2000-12-12 Ricoh Co Ltd ロールフィルム加工装置および加工方法
JP2002134876A (ja) * 2000-10-23 2002-05-10 Nippon Mektron Ltd プリント基板の除塵装置
JP2006165072A (ja) 2004-12-02 2006-06-22 Ngk Spark Plug Co Ltd 基板端面自動清掃装置及び配線基板の製造方法
CN101309955A (zh) * 2005-11-21 2008-11-19 柯尼卡美能达精密光学株式会社 光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法
JP2008168188A (ja) * 2007-01-10 2008-07-24 Mitsuma Giken Kk クリーニング装置
JP4964723B2 (ja) * 2007-09-26 2012-07-04 富士フイルム株式会社 ピンテンタ及び溶液製膜方法
JP5283923B2 (ja) * 2008-02-20 2013-09-04 キヤノン株式会社 画像形成装置
CN201264979Y (zh) * 2008-08-27 2009-07-01 达信科技股份有限公司 材料层的制造系统及偏光片的制造系统
JP2010140705A (ja) 2008-12-10 2010-06-24 Konica Minolta Holdings Inc 有機エレクトロルミネッセンスパネル及びその製造方法、該有機エレクトロルミネッセンスパネルを用いた照明装置、表示装置
JP5134523B2 (ja) * 2008-12-17 2013-01-30 株式会社日立ハイテクノロジーズ 光学フィルム貼付け装置、光学フィルム貼付け方法、および表示用パネルの製造方法
KR101956953B1 (ko) * 2011-10-04 2019-03-11 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 편광판의 제조 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5134523B1 (zh) * 1970-07-09 1976-09-27
JP2000288483A (ja) * 1999-04-05 2000-10-17 Fuji Photo Film Co Ltd 長尺状可撓性シートの除塵方法
JP4266503B2 (ja) * 2000-08-23 2009-05-20 住友化学株式会社 基材搬送装置および基材塗工体の製造方法
JP2006269614A (ja) * 2005-03-23 2006-10-05 Hitachi Chem Co Ltd 除塵装置

Also Published As

Publication number Publication date
KR102211407B1 (ko) 2021-02-03
CN104338712A (zh) 2015-02-11
KR20150015385A (ko) 2015-02-10
CN104338712B (zh) 2018-03-30
JP6163377B2 (ja) 2017-07-12
TW201504028A (zh) 2015-02-01
JP2015031751A (ja) 2015-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI608926B (zh) 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置
TWI608925B (zh) 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置
TWI524985B (zh) A continuous manufacturing method of an optical display panel and a continuous manufacturing system for an optical display panel
WO2012070427A1 (ja) 光学フィルム積層体の製造方法及び製造システム、並びに、光学フィルム積層体
TWI626159B (zh) 薄膜積層體之製造方法及薄膜積層體之製造設備
TWI641475B (zh) Continuous manufacturing method of optical display panel and continuous manufacturing system of optical display panel
TWI526298B (zh) A manufacturing method of an optical display panel, and a manufacturing system of an optical display panel
TW201702654A (zh) 貼合光學膜之製造方法、貼合光學膜之製造裝置及剝離膜之剝離方法
CN103229093A (zh) 液晶显示元件的制造方法和液晶显示元件的制造系统
WO2014174951A1 (ja) 積層体基板の形成方法および装置
JP5869704B2 (ja) 光学部材貼合体の製造方法
CN106536355A (zh) 贴合装置、光学显示器件的生产系统、贴合方法以及光学显示器件的生产方法
JP5801027B2 (ja) 光学表示装置製造方法
TWI629674B (zh) 連續性地製造光學性顯示裝置之裝置及方法
JP2010217878A (ja) 光学表示ユニットの製造システム及び製造方法、並びに、ロール原反
WO2015019932A1 (ja) 光学表示デバイスの生産システム
TW201825984A (zh) 光學顯示裝置的層積體、其製造方法及製造系統
TW201915571A (zh) 製造光學顯示裝置的層積體的方法及裝置
JP2020000959A5 (zh)
TWI703033B (zh) 光學的顯示單元的連續製造裝置及連續製造方法