TWI608925B - 自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 - Google Patents

Description

自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置 技術領域

本發明有關於一種自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置。

背景技術

迄今，諸如影像顯示裝置之影像顯示部所應用之光學薄膜乃使用偏光板(偏光膜)。通常，偏光板作為於其至少一面上經黏著層而積層有保護膜之薄膜積層體而供應，影像顯示裝置之製造時，則剝離前述保護膜再加以裝配於影像顯示部。

此種光學薄膜積層體上一旦附著異物，可能對光學薄膜之光學特性造成影響。

因此，已提案有自薄膜積層體除去異物之方法。舉例言之，已提案有一種朝有機EL薄膜表面吹送空氣，並自其表面之兩端側吸引已吹送之空氣，而除去表面之異 物之技術(參照專利文獻1)。

又，舉例言之，已提案有一種使黏著輥輪之周面垂直地接觸基板端面，並使前述黏著輥輪旋轉，以除去基板端面之異物之技術(參照專利文獻2)。

先行技術文獻 專利文獻

專利文獻1：日本專利特開2010-140705號公報

專利文獻2：日本專利特開2006-165072號公報

發明概要

然而，上述之薄膜積層體於其端面側設有露出於外部環境中之黏著層，故具有異物容易附著於該端面上之傾向。因此，上述專利文獻1之技術尚難以充分除去端面上附著之異物。

且，設有光學薄膜之薄膜積層體較薄，故專利文獻2之技術可能因與黏著輥輪之周面之接觸而損傷薄膜積層體之端面。

本發明即有鑑於上述情況而以提供可避免損傷，同時可充分除去異物之自薄膜積層體除去異物的方法，以及可避免損傷，同時可避免異物之附著之薄膜積層體的製造方法及製造裝置為課題。

本發明人等人有鑑於上述之問題而致力研究後， 已確認朝下游側輸送薄膜積層體同時剝離保護膜，即可使附著於前述薄膜積層體之端面上之異物上浮。此則推測乃因保護膜之剝離而減少薄膜積層體之端面面積，並減弱附著於前述端面上之異物之附著力所致。

且，亦已確認上浮之異物將附著於因保護膜之剝離而露出之黏著層表面上。

其次，基於該等發現，本發明人等人進而致力研究後，則發現剝離保護膜後，自側方吸引已剝離之部分，即可除去上浮之異物，藉此而可避免異物附著於因保護膜之剝離而露出之黏著層表面，其結果則可自薄膜積層體充分除去異物，而完成本發明。

即，本發明之自薄膜積層體除去異物的方法可朝下游側輸送包含光學薄膜、形成於該光學薄膜上之黏著層、積層於該黏著層上而可保護前述光學薄膜之保護膜之薄膜積層體，同時自前述薄膜積層體剝離前述保護膜，並自側方吸引該保護膜之剝離部分而除去異物。

依據上述構成，在剝離保護膜後，附著於薄膜積層體端面上之異物雖將上浮，但可自側方藉吸引而除去上述異物。藉此，即可充分除去異物。且，可在與薄膜積層體未接觸之狀態下除去異物，故可避免薄膜積層體之損傷。

因此，依據上述構成，即可避免薄膜積層體之損傷，並自前述薄膜積層體充分除去異物。

上述構成之自薄膜積層體除去異物的方法適用 於前述光學薄膜為偏光板之情況。

偏光板上即便附著數μm大小之異物亦可能成為問題，故若亦可確實除去附著於薄膜積層體端面上之異物，則效果極佳。

且，本發明之薄膜積層體的製造方法於實施前述自薄膜積層體除去異物的方法後，將在前述黏著層上積層保護膜而再度構成薄膜積層體。

依據上述構成，藉上述異物除去方法，即可避免薄膜積層體之損傷，並自前述薄膜積層體充分除去異物。藉此，而可避免異物附著於黏著層表面，並避免於對黏著層再度積層保護膜時夾入異物。且，亦可避免損傷。

因此，依據上述構成，即可避免損傷，並避免異物之附著。

上述構成之薄膜積層體的製造方法適用於前述光學薄膜為偏光板之情況。

偏光板上即便附著數μm大小之異物亦可能成為問題，故若亦可確實除去附著於薄膜積層體端面上之異物，則效果極佳。

又，本發明之薄膜積層體的製造裝置包含有：搬送裝置，可朝下游側輸送薄膜積層體；剝離裝置，可自已藉前述搬送裝置而送入之前述薄膜積層體剝離前述保護膜；異物除去裝置，可自側方吸引前述保護膜之剝離部分而除去異物；及，積層裝置，可於已藉前述剝離裝置剝離前述保護膜而成之殘餘之積層體之前述黏著層上積層保護膜而 再度構成薄膜積層體。

1‧‧‧薄膜積層體之製造裝置

3‧‧‧搬送用輥輪對

5‧‧‧剝離用輥輪

7‧‧‧支持輥輪

9‧‧‧積層用輥輪對

10‧‧‧薄膜積層體

11‧‧‧光學薄膜

11a‧‧‧表面

13‧‧‧黏著層

15‧‧‧保護膜

17‧‧‧積層體

19‧‧‧繞捲體

20‧‧‧薄膜積層體

25‧‧‧保護膜

29‧‧‧繞捲體

30‧‧‧薄膜積層體

39‧‧‧繞捲體

53‧‧‧吸引裝置

53a‧‧‧開口部

61‧‧‧捲束輥輪

63‧‧‧捲出輥輪

R‧‧‧剝離之部分

圖1為顯示本發明一實施形態之薄膜積層體之製造方法所使用之製造裝置之概略側面圖。

圖2為顯示本發明一實施形態之薄膜積層體之層構造之概略側面圖。

圖3為顯示本發明一實施形態之薄膜積層體上之異物除去步驟(方法)之實施狀態之概略上面圖。

圖4為圖3之Ⅳ-Ⅳ截面圖。

圖5為顯示本發明其它實施形態之薄膜積層體上之異物除去步驟(方法)之實施狀態之概略上面圖。

圖6為顯示本發明其它實施形態之薄膜積層體之製造方法之實施狀態之概略截面圖。

用以實施發明之形態

以下，說明本發明實施形態之自薄膜積層體除去異物的方法及薄膜積層體的製造方法。另，本實施形態中，將說明實施異物除去方法作為異物除去步驟之薄膜積層體的製造方法。

首先，說明本實施形態之薄膜積層體的製造方法所使用之製造裝置。

如圖1所示，本實施形態之薄膜積層體之製造裝置1包含作為可朝下游側搬送繞捲體19所捲出之薄膜積層體10之搬送裝置之搬送用輥輪對3、作為可自薄膜積層體10 剝離保護膜15之剝離裝置之剝離用輥輪5、作為可自側方吸引薄膜積層體10上之保護膜15之剝離之部分R而除去異物之異物除去裝置之吸引裝置53、用於支持已剝離之保護膜15之支持輥輪7、作為可於已藉剝離用輥輪5剝離保護膜15而成之殘餘之積層體17上再度積層保護膜(在此則為保護膜15)之積層裝置之積層用輥輪對9。

搬送用輥輪對3可以預定之壓力夾持薄膜積層體10並旋轉，而朝下游側輸送薄膜積層體10。

剝離用輥輪5配置成抵接薄膜積層體10之保護膜15，並以剝離用輥輪5為起點而自薄膜積層體10依序剝離保護膜15。

如圖3、圖4所示，吸引裝置53設有開口部53a，並可經該開口部53a而自薄膜積層體10上之保護膜10之剝離之部分R之側方(自薄膜積層體10之寬度方向(圖3中之Y方向)之兩端中至少一端側，進而換言之，乃相對於薄膜積層體10之搬送方向而自側方)吸引空氣。吸引裝置53可例舉為諸如真空幫浦、真空抽氣器、排氣送風機等。且，本實施形態中，雖於保護膜15之剝離部分R之兩側方配置有2個吸引裝置53，但本發明亦可於上述兩側方中之任一方加以配置。

支持輥輪7可捲送已剝離之保護膜15，而由下方支持前述保護膜15。

積層用輥輪對9則以預定之壓力夾持已剝離保護膜15之殘餘之積層體17與保護膜15，並同時旋轉而積層上述殘餘之積層體17與保護膜15，以構成薄膜積層體20。

以下，說明本實施形態所使用之薄膜積層體10。

如圖2所示，本實施形態之薄膜積層體10包含帶狀之光學薄膜11、形成於該光學薄膜11之一面(在此為表面)11a上之黏著層13、積層於該黏著層13上之帶狀之保護膜15。

光學薄膜11可例舉諸如偏光板(偏光膜)、相位差膜、抗反射膜、增亮膜或其等之積層體等。

黏著層13用於黏合光學薄膜11與保護膜15。該黏著層13乃於光學薄膜11上塗布作為用於形成黏著層13之材料之黏著劑，並視需要而予以乾燥或硬化而形成。

保護膜15用於保護光學薄膜11之表面11a。且，本實施形態中，保護膜15將自黏著層13剝離，此種保護膜亦稱為隔片。

包含上述光學薄膜11、黏著層13及保護膜15之薄膜積層體10可藉諸如以下製程而製得。

即，先於光學薄膜11之表面11a上塗布上述黏著劑，再視需要而予以乾燥或硬化，即形成黏著層13。使於該黏著層13上載置保護膜15而製得之積層體通過已設成預定之壓力之一對輥輪間(未圖示)。藉此，即製得薄膜積層體10。圖1之態樣中，雖將薄膜積層體10捲束成筒狀而為繞捲體19，但本發明亦可使用薄膜積層體10而不予構成繞捲體19。

其次，說明本實施形態之薄膜積層體的製造方法。

本實施形態之薄膜積層體的製造方法採用自薄膜積層體10除去異物的方法作為異物除去步驟，其中則藉 朝下游側輸送薄膜積層體10，同時自前述薄膜積層體10剝離前述保護膜15，並自側方吸引前述保護膜15之剝離之部分R而除去異物。且，其中並包括於實施上述異物除去步驟(即異物除去方法)後，在前述黏著層13上積層保護膜15而再度構成薄膜積層體20之積層步驟。

前述異物除去步驟中，乃朝下游側輸送包含光學薄膜11、形成於該光學薄膜11上之黏著層13、積層於該黏著層13上而可保護前述光學薄膜11之保護膜15之薄膜積層體10，同時自前述薄膜積層體10剝離前述保護膜15，並自側方吸引該保護膜15之剝離之部分R而除去異物。

具體而言，乃先如圖1所示，自繞捲體19將帶狀之薄膜積層體10沿其長向而加以捲出，並藉搬送用輥輪對3而朝下游側加以輸送。如上而朝下游側輸送薄膜積層體10，同時藉剝離用輥輪5而自薄膜積層體10剝離保護膜15。剝離保護膜15，即可露出黏著層13，而殘留光學薄膜11與黏著層13之積層體17。

其次，如圖3、圖4所示，如上而剝離保護膜15，同時自薄膜積層體10之側方藉吸引裝置53而分別吸引薄膜積層體10上之保護膜15之剝離部分R。

另，本實施形態雖說明藉2個吸引裝置53而自保護膜15之剝離部分R之兩側方加以吸引之態樣，但本發明亦可採用自上述兩側方中之任一方進行吸引之態樣。

吸引裝置53之吸引力可對應異物之除去狀況等而適當加以設定，或設為不致使薄膜積層體10發生變形之 程度。且，吸引方向如圖3所示，亦可為與寬度方向Y平行之方向，或其它對寬度方向Y傾斜之方向。且，連結吸引裝置53之開口部53a與薄膜積層體10之端緣之長度之最短距離宜設為5~30mm。上述長度設為5mm以上，則有可避免過於接近薄膜積層體10而對搬送造成不良影響之優點，設為30mm以下則具有可更有效地吸引異物之優點。

依據上述異物除去步驟，剝離保護膜15後，薄膜積層體10之端面上所附著之異物之附著力將弱化或提高，但可自側方吸引上述異物而除去之。藉此，即可充分除去異物。且，可在與薄膜積層體10未接觸之狀態下除去異物，故可避免薄膜積層體10之損傷。

因此，可避免薄膜積層體10之損傷，並自該薄膜積層體10充分除去異物。

前述積層步驟則於實施前述異物除去步驟後，即，藉吸引裝置53除去異物後，藉積層用輥輪對9而於上述殘餘之積層體17之前述黏著層13上積層保護膜15以再度構成薄膜積層體20。更詳而言之，本實施形態中，將於上述殘餘之積層體17之黏著層13上積層已於上述異物除去步驟中剝離之保護膜15而再度構成薄膜積層體20。

如上所述，本實施形態採用直接於黏著層13上積層已剝離之保護膜15而再度構成薄膜積層體20之態樣。然而，本發明亦可採用其它態樣，諸如圖5所示，可暫時回收已剝離之保護膜15，然後如圖6所示，於上述殘餘之積層體17之黏著層13上積層已剝離之保護膜15以外之其它保護膜 25。

具體而言，舉例言之，異物除去步驟中，一如圖5所示，可朝下游側輸送薄膜積層體10，同時諸如剝離保護膜15並藉捲束輥輪(捲束裝置)61加以捲束為繞捲體29而予以回收。如上所述，可採用在回收保護膜15之同時進行剝離，並與上述相同而藉吸引裝置53吸引剝離之部分R之態樣。

且，此時，舉例言之，積層步驟亦可如圖6所示而採用朝下游側輸送已除去保護膜15之上述殘餘之積層體17，並藉諸如捲出輥輪(捲出裝置)63而自繞捲體39捲出其它保護膜25，再予以貼合於黏著層13上，並藉積層用輥輪對9而予以構成薄膜積層體30之態様。另，已剝離之保護膜15則可使用於對上述殘餘之積層體17以外之其它積層體之黏著層上之積層。

如上所述，本發明之積層步驟中，可於已在上述異物除去步驟中藉上述剝離用輥輪5剝離保護膜15而成之殘餘之積層體17之黏著層13上，藉積層用輥輪對9而積層已剝離之保護膜15或該保護膜15以外之其它保護膜25，而再度構成薄膜積層體20、30。

依據本實施形態的製造方法，可藉上述異物除去步驟，而避免薄膜積層體10、20、30之損傷，並自上述薄膜積層體10、20、30充分除去異物。藉此，而可避免異物附著於黏著層13表面上，並避免於對黏著層13再度積層保護膜15、25時夾入異物。且，亦可避免損傷。

因此，可製得損傷較少，亦已避免異物之附著之薄膜積層體20、30。

又，依據本實施形態的製造裝置，則與以上相同，可製得損傷較少亦已避免異物之附著之薄膜積層體20、30。

又，本實施形態之自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及其製造裝置適用於剝離薄膜積層體10之保護膜15後進而諸如以檢查裝置檢查殘餘之積層體17或經處理裝置之處理後，於上述殘餘之積層體17上再度積層保護膜15、25之情況。

如上所述，依據本實施形態，可提供可避免損傷，並充分除去異物之自薄膜積層體除去異物的方法，以及可避免損傷並避免異物之附著之薄膜積層體的製造方法及製造裝置。

另，本發明之自薄膜積層體除去異物的方法、薄膜積層體的製造方法及製造裝置雖如上述之說明，但本發明不受限於上述實施形態，而可於本發明之構思範圍內進行適當之設計變更。

1‧‧‧薄膜積層體之製造裝置

3‧‧‧搬送用輥輪對

5‧‧‧剝離用輥輪

7‧‧‧支持輥輪

9‧‧‧積層用輥輪對

10‧‧‧薄膜積層體

15‧‧‧保護膜

17‧‧‧積層體

19‧‧‧繞捲體

20‧‧‧薄膜積層體

53‧‧‧吸引裝置

Claims (5)

1. 一種自薄膜積層體除去異物的方法，可朝下游側輸送包含光學薄膜、形成於該光學薄膜上之黏著層、積層於該黏著層上而可保護前述光學薄膜之保護膜的薄膜積層體，同時自前述薄膜積層體剝離前述保護膜，並藉異物除去裝置自側方吸引該保護膜之剝離部分而除去附著於前述薄膜積層體之端面上的異物，前述異物除去裝置是構造成：在前述薄膜積層體之寬度方向外側上，具有與前述薄膜積層體之端面的前述保護膜之剝離部分對向配置的開口部，經該開口部而自前述側方吸引前述保護膜之剝離的部分，而除去附著於前述薄膜積層體之端面上的異物。
2. 如請求項1之自薄膜積層體除去異物的方法，其中前述光學薄膜為偏光板。
3. 一種薄膜積層體的製造方法，於實施請求項1或2之自薄膜積層體除去異物的方法後，將保護膜積層在前述黏著層上而再度構成薄膜積層體。
4. 如請求項3之薄膜積層體的製造方法，其中前述光學薄膜為偏光板。
5. 一種薄膜積層體的製造裝置，包含有：搬送裝置，可朝下游側輸送薄膜積層體，該薄膜積層體包含光學薄膜、形成於該光學薄膜上之黏著層、積層於該黏著層上而可保護前述光學薄膜之保護膜； 剝離裝置，可從已藉由前述搬送裝置送入之前述薄膜積層體剝離前述保護膜；異物除去裝置，可自側方吸引前述保護膜之剝離部分而除去附著於前述薄膜積層體之端面上的異物；及積層裝置，可於下述剩下的積層體之前述黏著層上積層保護膜而再度構成薄膜積層體，該剩下的積層體為已藉由前述剝離裝置剝離前述保護膜而剩下者，前述異物除去裝置是構造成：在前述薄膜積層體之寬度方向外側上，具有與前述薄膜積層體之端面的前述保護膜之剝離部分對向配置的開口部，經該開口部而自前述側方吸引前述保護膜之剝離的部分，而除去附著於前述薄膜積層體之端面上的異物。