CN101309955A - 光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法 - Google Patents

光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法 Download PDF

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Abstract

本发明提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。该光学膜的处理方法是用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜后，除去该长膜表面的液体的光学膜的处理方法，其特征在于，该弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。

Description

光学膜的处理方法、光学膜的处理装置及光学膜的制造方法
技术领域
本发明涉及在长膜(長尺フイルム)上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法和光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法，特别是涉及横向不均得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。
背景技术
近年，对薄型轻量笔记本电脑或薄型、大画面的TV的开发正在进行，随之对液晶显示装置等显示装置中使用的偏振片的保护膜的薄膜化、大型化、高性能化的要求也日益增强。此外，大多使用为了提高视认性而设置有防反射层或具有在表面上设置凹凸赋予散射反射光的防眩层的光学膜的计算机、文字处理器等的液晶图像显示装置(液晶显示器等)。
防反射层根据用途有各种类型或性能的改进，使用通过将具有这些功能的各种前面板贴合在液晶显示器的偏振器等上，向显示器赋予防反射功能以提高视认性的方法。(例如，参照专利文献1。)在用作这些前面板的光学用膜上，大多设置通过涂布、气相沉积法(蒸着法)或溅射法等形成的防反射层。
此外，为了显示装置的薄型化而要求使用的膜的膜厚也越发的薄，或为了大画面化而要求光学膜的宽度更宽。特别是在大画面中，要求平面性优异的光学膜，但是以往的光学膜中，特别是宽幅、薄膜中未得到平面性优异的光学膜，此外也未得到在宽面积下具有充分的耐损伤性的光学膜。
特别是涂设金属氧化物层作为防反射层时，易产生涂布不均，要求对其进行改善。特别是若基材膜的宽度为1.4m以上的宽幅时，则极易产生涂布不均，要求改善横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布不均。
以往，为了改善由于异物所导致的点缺陷等，已知对膜表面进行湿式的除尘处理。(例如，参照专利文献2～4。)，但是这些除尘处理中，由于异物所导致的点缺陷等虽然可以得到某种程度的改善，但是不充分，此外，这些专利文献中，对于横向不均的问题或改善方法未有记载。
专利文献1：日本特开2002-182005号公报
专利文献2：日本特开平8-89920号公报
专利文献3：日本特开2001-38306号公报
专利文献4：日本特开2003-255136号公报
发明内容
发明要解决的课题
本发明的目的在于，提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法、光学膜的处理装置以及光学膜的制造方法。
解决问题的方法
本发明的上述课题通过以下方案实现。
1.光学膜的处理方法，该处理方法包括：用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜，然后除去该长膜表面的液体，其特征在于，该弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。
2.上述1记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述弹性体是表面改性橡胶。
3.上述1或2记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述表面改性橡胶是对表面进行有机卤化合物处理得到的橡胶。
4.上述1～3中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述弹性体是旋转的橡胶辊。
5.上述1～4中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述橡胶辊与长膜的接触角度为1度以上而小于135度。
6.上述1～5中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，用上述弹性体磨擦上述长膜的时间为0.05秒～3秒。
7.上述1～6中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，用上述弹性体磨擦上述长膜时的面压为500N/m2～5000N/m2。
8.上述1记载的光学膜的处理方法，其特征在于，具有除去附着在上述弹性体表面上的液体的步骤。
9.上述1记载的光学膜的处理方法，其特征在于，具有检测上述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的步骤。
10.上述1记载的光学膜的处理方法，其特征在于，用上述弹性体磨擦上述长膜时，向该长膜的背面送风的同时用上述弹性体连续地磨擦。
11.上述1记载的光学膜的处理方法，其特征在于，通过向上述长膜的被处理面供给液体的装置润湿该被处理面。
12.上述11记载的光学膜的处理方法，其特征在于，供给上述液体的装置是喷雾嘴。
13.上述12记载的光学膜的处理方法，其特征在于，从上述喷雾嘴供给的液体在上述长膜上附着时的液滴径的平均为10μm～5000μm。
14.上述11～13中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，向上述长膜供给的液体的量为3g/m2～100g/m2。
15.上述11～14中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述液体的温度为30℃～100℃，上述弹性体的温度为30℃～100℃。
16.上述11～14中任意一项记载的光学膜的处理方法，其特征在于，上述长膜为纤维素酯膜，上述液体为水。
17.光学膜的制造方法，其特征在于，用上述1～16中任意一项记载的光学膜的处理方法处理后，在长膜的被处理面上涂布设置光学功能层。
18.上述17记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述光学功能层为硬涂层或防反射层。
19.上述17或18记载的光学膜的制造方法，其特征在于，上述纤维素酯膜含有消光剂，上述硬涂层是通过使用含有丙烯酸酯类紫外线固化树脂和有机溶剂的硬涂层涂布液进行涂布而形成的，上述防反射层至少一层是通过使用含有低表面张力物质和有机溶剂的防反射层涂布液进行涂布而形成的。
20.光学膜的处理装置，该光学膜处理装置包括：用液体润湿连续搬运的长膜的液体供给装置、用弹性体磨擦该长膜的弹性体磨擦装置、从该弹性体的表面除去液体的弹性体表面液体除去装置和磨擦后除去该长膜表面的液体的液体除去装置，其特征在于，上述弹性体表面的静磨擦系数为0.2～0.9。
21.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，还包括检测上述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的装置。
22.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，还包括将上述液体调整为30℃～100℃液温的液温调整装置。
23.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，还包括向上述长膜背面送风的装置。
24.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，上述膜润湿装置是向上述长膜的被处理面供给液体的装置。
25.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，上述液体除去装置由空吸喷嘴和空气喷嘴形成。
26.上述20记载的光学膜的处理装置，其特征在于，从上述液体供给装置到液体除去装置的处理时间为2秒～60秒。
发明效果
通过本发明，可以提供在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹、拖尾等涂布故障得到改善的光学膜的处理方法以及光学膜的处理装置，特别是在可以改善横向不均方面具有特征。
附图说明
[图1]是示出本发明的通过弹性体磨擦长膜的一面被液体润湿的膜的装置的整体的示意图。
[图2]是示出本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
[图3]是示出本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
[图4]是示出本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
[图5]是示出本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
[图6]是示出本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
[图7]是示出本发明的空气喷嘴的设置部位和空气的喷出方向的示意图。
[图8]是本发明中优选使用的喷雾嘴装置的简图。
[图9]是示出液滴和液滴径的示意图。
[图10]是测定本发明涉及的弹性体的静磨擦系数的方法的一例。
[图11]是测定多个喷雾嘴的流量分布的方法。
[图12]是实施例中使用的浸渍式装置的示意图。
[图13]是实施例中使用的比较的装置的示意图。
符号说明
F长膜
1弹性体
2、2’、2”导辊
3液体槽
3’溢出槽
4液体
5空气喷嘴
6空气喷嘴
7空吸喷嘴
8喷雾嘴
9空气喷嘴
10超声波振子
11紫外线照射装置
12过滤器
13挤压泵
14喷嘴
15配管
16挡板
17浸渍槽
18涂布机
具体实施方式
下面，对本发明的具体实施方式进行具体的说明，但是本发明不被它们所限定。
本发明人鉴于上述课题进行深入研究的结果发现，用液体润湿连续搬运的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜后，除去该长膜表面的液体的光学膜的处理方法中，通过将该弹性体表面的静磨擦系数设定为0.2～0.9，则可在长膜上涂布防反射层等功能性层时易产生的横向不均、涂布条纹等涂布故障得到改善的令人吃惊的效果，从而完成了本发明。本发明人用液体润湿长膜，再用弹性体连续地磨擦该长膜，然后除去附着在该长膜表面上的液体，通过这样的步骤，可以矫正该长膜的皱折、粘连、变形等，结果发现该长膜的平面性提高，通过硬涂层等涂布防反射层等功能性层时的涂布故障可以得到改善。
下面对本发明进行具体的说明。
对于本发明的光学膜的处理方法、处理装置，使用图1～图11进行说明。但是，本发明不仅限于这些举例的方案。
图1是示出通过本发明的弹性体磨擦连续搬运的长膜的一面的装置的整体的示意图。长膜F在预先通过喷雾嘴8喷射液体而在被处理面润湿了的状态下通过导辊2引导，通过驱动的弹性体1(弹性体辊)磨擦。被驱动的弹性体1不断通过存积在液体槽3中的液体4洗涤，通过空气喷嘴9除去附着的液体。长膜F通过弹性体磨擦后，通过导辊2’搬运，通过空吸喷嘴7吸引、除去附着的液体。进一步地通过空气喷嘴6喷空气除去剩余的液体和异物等。
在弹性体1的对向侧配置空气喷嘴5，通过吹入空气防止液体被膜包裹。此外，空气喷嘴5通过调整空气压，可以控制长膜对弹性体的压接度，如后面所述可以调整空气压对长膜的背面加压的同时用上述弹性体连续地磨擦。作为上述加压装置，可以使用上述空气喷嘴5，或也可以使用支承辊等，但是如上所述从防止液体被膜包裹方面考虑，优选使用空气喷嘴5。接着，将长膜向干燥器(无图示)搬运，干燥两面，向下一步骤的功能性层的涂布步骤搬运。
导辊2、2’引导长膜F的运行。其中，各导辊2、2’分别被配置在规定的位置，但是此时重要的是，以长膜F对准弹性体1并具有后述所期望的搭接(ラツプ)角的接触方式进行配置。
弹性体1被配置在导辊2和导辊2’之间，被未图示的电动机驱动而旋转。该弹性体1的下部浸渍在配置于液体槽3内的液体4中。长膜F通过该旋转的弹性体1连续地被磨擦，表面的皱折、粘连、变形得到矫正。
而且，弹性体1优选下部浸渍在液体4中，通过旋转其表面浸渍在液体4中，对磨擦膜面时附着的异物等进行洗涤。此时，弹性体的下部，为了除去弹性体表面的污迹或附着物，可以用刮板、刷子或非织造布等磨擦进行清洁，此外，也可以使用图示的超声波振子10。本发明中，为了可以有效地除去弹性体1的污迹、异物的附着等而优选使用超声波振子。该超声波振子10向弹性体1的表面放射超声波、使转写的异物脱落。而且，超声波振子10，为了有效地将放射的超声波传播到弹性体1的表面上，则以与弹性体1之间保持液体4的方式配置。此外，也可以设置多个振子，此时，必须决定超声波振子间的间隔以使来自相邻的振子的超声波的重叠相同。超声波振子10的频率可以使用10～100000kHz。此外，可以组合振动不同频率的多个振子或使用可以调频的振子。
振子每单位面积的超声波输出功率可以使用0.1W/cm2～2W/cm2。从超声波振子10到弹性体1的距离中，由于存在驻波而具有最优点，因此优选以下式子的整数倍的距离。
λ＝C/f
其中，λ为波长、C为液体中的超声波传播速度、f为频率。
超声波处理的时间为1～100sec，优选在10～100000kHz的范围内进行。特别优选为40～1500kHz。
作为使用的超声波振子，使用本多电子社制WS-600-28N、WS-600-40N、WS600-75N、WS-600-100N、WS-1200-28N、WS-1200-40N、WS-1200-75N、WS-1200-100N、N60R-M、N30R-M、N60R-M、W-100-HFMKIIN、W-200-HFMKIIN、日本Alexs(アレツクス)社制等。
弹性体1浸渍在液体4中后，通过旋转从液体4中拉起，除去在弹性体表面上附着的液体，作为除去方法，可以通过非织造布或刮板刮落，但是特别优选通过空气喷嘴刮落。
图1中，通过空气喷嘴9除去附着在弹性体1上的液体。优选以液体的除去率为80～100％来除去，更优选为90～100％。
除去率＝(从弹性体表面除去的液体的量/除去前附着在弹性体表面上的液体的量)×100
上述空气喷嘴、空吸喷嘴可以使用市售的装置，优选使用，例如，大浩研热(株)制：MX系列、DX·DY系列、DZ·DLZ系列、DN·DM系列、DL·DLX系列、CX·CLX系列、LDN·LDLX系列、DV系列、bownozzle(バウノズル)、RS系列、RD系列、D系列、NM系列，Spraying Systems Co.，Japan(スプレ一イングシステムスジヤパン)(株)制：50750系列、SJA系列等。
空气喷嘴、空吸喷嘴的优选的安装方式的一例如下所述，但是不限于此。
<空气喷嘴>
缝隙宽度：0.8mm(优选为0.2～2mm)
缝隙长度：1600mm(根据膜宽决定)
喷出风速：100m/sec(优选为50～300m/sec)
与膜的距离：3mm(优选为2～10mm)
<空吸喷嘴>
缝隙宽度：2mm(优选为0.2～4mm)
缝隙长度：1600mm(根据膜宽决定)
吸入风速：50m/sec(优选为20～150m/sec)
与膜的距离：3mm(优选为2～10mm)
图2～图6为表示本发明涉及的其它装置的整体的示意图。
图2示出使用涂布机18来替代空气喷嘴8的例子，图3示出将用过滤器过滤的液体从液体槽3的上部返回的例子，图4示出用新的液体向空气喷嘴8进行的液体供给的例子，图5示出向液体槽3中仅供给新的液体而不循环的例子，图6示出由于不在液体槽3中洗涤弹性体1而用空气喷嘴9仅吹跑附着的液滴的例子。
图7(a)～图7(e)是示出空气喷嘴5或6的设置位置与空气的喷出方向的示意图。图7(a)示出在膜行进方向上相反地吸入空气的情况，图7(b)(c)示出向膜外侧吹空气的情况。图7(d)、(e)主要适于设置在与膜的被处理面相反一侧的空气喷嘴5、6，防止液体被包裹的效果高。
本发明中，由于在润湿膜的被处理表面的状态下通过弹性体磨擦，在弹性体1的前面设置向膜表面供给液体的装置。作为液体供给装置，可以是照相凹版涂布机、线棒涂布机、缝模涂布机、浸涂机等涂布方式或喷墨方式，也可以使用喷雾嘴等。优选通过喷雾嘴供给。
液体使用纯水时，若通过照相凹版涂布机、线棒涂布机、缝模涂布机、浸涂机等涂布方式纯粹地向膜供给，则供给纯水之后膜上的纯水立即形成大的球，结果搬运中纯水从膜上洒落。另一方面，通过喷雾嘴向膜供给纯水时，膜上的纯水形成细小的球，搬运中不会从膜上洒落。
本发明中，在用弹性体磨擦之前必须仅预先润湿被处理面。可以在导辊2之前配置图1的液体供给装置喷雾嘴8，通过用配管连结的紫外线杀菌装置11对存积在溢出槽3’中的液体进行杀菌，进一步用过滤器12过滤，通过压送泵13从喷雾嘴8喷射，则预先润湿长膜的被处理面。此处使用的过滤器可以适当选择，单独或适当组合使用孔径0.1～10μm的过滤器。此外，可以根据过滤寿命或操作的简便性，有利地选择折褶型的筒式过滤器。
此外，过滤循环流量有必要设定成不会由于由膜表面带入的异物导致液体槽内的异物数随着时间推移而增加。定量液体中浮游的异物数时，简便地利用野崎产业社制HIAC/ROYCO液体微粒计数器模型4100，可以对过滤器的分级尺寸或循环流量进行调节以使应该除去尺寸的粒子不随着运转时间推移而增加。此外，液体槽内的液体以0.1～10次/hr置换成新的液体在抑制异物数的增加方面为优选。
喷雾嘴8可以使用一台具有膜宽度方向的长度的棒状喷雾嘴或多台短尺寸的喷雾嘴。对喷嘴的开口径不特别限定，优选为05mm～2mm左右，送液液量优选为0.1L/分钟～10L/分钟。使用多台喷雾嘴时，优选进行调整以使流量分布在宽度方向上均一，在上述送液流量的范围内，优选通过各喷雾嘴的液体的流量偏差在±1％以内。
对本发明中的喷雾嘴的种类不特别限定，可以适用扁喷雾嘴、实心喷雾嘴、全锥形喷雾嘴、空心圆锥喷雾嘴，进而二流体喷雾嘴等公知的喷雾嘴。
喷雾嘴可以使用市售品，优选使用Spraying Systems Co.，Japan(スプレ一イングシステムスジヤパン)(株)制：VeeJet、UniJet、FloodJet、1/8J1/4J系列、1/4JAU系列，(株)いけうち制：VE-VEP系列等。
图8为本发明中优选使用的喷雾嘴装置的简图。图为一个例子，不限于此。
喷嘴8，对于膜F的宽度方向具有多个喷嘴14，通过配管15供给从上述溢出槽3’抽出的液体4进行喷雾。优选设置挡板16以使喷雾的液体不沾到膜的背面。膜的被处理面的带液体量可以进行适当改变，此时，适当设定液滴径、流量、喷雾嘴个数、膜与喷雾嘴的距离、喷射角度、喷雾压等而进行控制。
带液体量优选为1g/m2以上，更优选为3g/m2～100g/m2。
优选液滴径的平均为10μm～5000μm。液滴径的测定方法如下所述。
<液滴径测定方法>
对于液滴径的测定条件，在液温20℃的水、室温20±2℃、湿度50±5％、线速度15m/min下向搬运的膜通过喷雾嘴喷射液体，喷射后，对膜取样，用显微镜测定如图9所示的液滴径。
对于本发明涉及的喷雾嘴的设置位置，考虑到后述的用液体润湿长膜的被处理面的时间优选为2秒～60秒的位置来进行设置。虽然根据膜的搬运速度上述位置发生变化，但是通过弹性体1磨擦时保持预先喷雾的带液体量、液滴径在得到本发明效果方面是必要的。
本发明涉及的弹性体1，可以相对于长膜F的搬运方向进行顺转或逆转，优选设定直径和旋转速度以使弹性体1与长膜F的线速度之差的绝对值保持为5m/分钟以上。旋转速度优选为1～100rpm，更优选为5～60rpm。
进行本发明的处理时的长膜F的搬运速度通常为5～200m/分钟，优选为10～100m/分钟。
弹性体1采用辊形状适于连续生产。此外，弹性体1可以由天然橡胶、合成橡胶等单一原材料构成或由金属辊和橡胶等复合原材料构成。例如，在铝、铁、铜、不锈钢等金属辊上，可以在金属辊的表面上以0.5mm以上、优选0.5～100mm、特别优选1.0～50mm的厚度包覆尼龙-6、尼龙-66、共聚物尼龙等聚酰胺，或聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、共聚聚酯等聚酯，聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃，或聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、特氟纶(Teflon)(注册商标)等聚卤化乙烯，天然橡胶，氯丁橡胶，腈类橡胶，Nordel，卫通(Viton)橡胶，海普龙(Hypalon)，聚氨酯，Rayon(注册商标)，纤维素类等。选择这些弹性体的材质的观点中，优选通过所使用的液体不软化或溶出。此外，弹性体1的橡胶硬度在JISK-6253中规定的方法中通过硬度计A型测定，优选为15～70、更优选为20～60。
本发明中，弹性体表面的静磨擦系数必须为0.2～0.9。更优选为0.3～0.8。小于0.2时磨擦长膜，矫正表面的皱折、粘连、变形的效果差，若超过0.9则由于磨擦的长膜受损伤，产生横向不均，所以不优选。
弹性体的静磨擦系数可以通过以下的方法测定。
<弹性体的静磨擦系数测定>
图10中示出测定本发明涉及的弹性体的静磨擦系数的方法的一例。
使用HEIDON(ヘイドン)表面性试验机TYPE：HEIDON-14D(新东科学株式会社制)，通过球压头(SUSφ6)法测定被测定物(硫化橡胶成型体)的磨擦系数。图10示出本试验的原理图。
该HEIDON(ヘイドン)表面性试验机，如图10所示，垂直负荷用砝码通过支撑部件安装在SUS制球上，将该SUS制球以垂直负荷用砝码(200g)的重量压在由弹性体切取的试验片上。然后，测定使上述试验片对着纸面向右方向移动时产生的磨擦力。
利用该试验机时的其它的测定条件如下所示。
测定夹具：球压头(SUSφ6)
样品尺寸：对样品尺寸不特别限定，但是优选可以确保移动距离为50mm以上的尺寸。
试验负荷：200g(垂直负荷用砝码)
试验速度：600mm/min
氛围气：23℃±2、50％±10RH(空调范围内无结露)
由于通常的橡胶静磨擦系数为1.0以上，本发明涉及的弹性体1优选为表面改质橡胶，为了使弹性体1为上述范围的静磨擦系数，优选使用日本特开平7-158632号公报记载的使用填充有用钠-萘络合物处理的氟树脂粉末的硅橡胶层的方法、日本特开平9-85900号公报记载的使用由超高分子量聚烯烃粉末的熔融体形成的薄膜的方法、日本特开平11-166060号公报记载的硫化橡胶上形成烷氧基硅烷的水解物的缩聚物的方法、日本特开平11-199691号记载的使含官能团单体与橡胶加热反应的方法、日本特开2000-198864号记载的使橡胶与氧化硅反应的方法、日本特开2002-371151号公报记载的使氟橡胶基材与含官能团单体加热反应的方法、日本特开2004-251373号公报记载的使用氯丁二烯类橡胶的方法等公开的方法，但是本发明中，更优选为如日本特开2000-158842号公报所记载，弹性体使用橡胶，通过对其表面实施有机卤化合物处理进行调整的方法。
通过有机卤化合物处理可以改性的橡胶为丙烯腈·丁二烯橡胶、氯丁二烯橡胶、苯乙烯·丁二烯橡胶、合成异戊二烯橡胶、聚丁二烯橡胶、乙烯·丙烯·二烯三元共聚物橡胶、天然橡胶等。该目的中，优选的弹性体为丙烯腈·丁二烯橡胶。这些橡胶通常硫化来使用，硫化可以通过本技术领域使用的通常的硫化方法进行。
作为为了将上述橡胶类改性而使用的有机卤化合物，可以举出N-溴代琥珀酰亚胺等卤化琥珀酰亚胺，三氯异氰尿酸、二氯异氰尿酸等异氰尿酸的卤化物，二氯二甲基乙内酰脲等卤化乙内酰脲。优选为三氯异氰尿酸。
使有机卤化合物作用于橡胶表面时，优选溶解于有机溶剂中以适当的浓度使用。该目的中适于使用的溶剂必须不与该有机卤化合物反应，作为可以使用的有机溶剂，可以举出例如，苯、二甲苯等芳烃类，二乙基醚、二噁烷、四氢呋喃等醚类，乙酸乙酯等酯类，甲基乙基酮、环己酮等酮类，氯乙烷、氯仿等氯化烃类等。对处理橡胶表面时的有机溶剂中的有机卤化合物的浓度不特别限定，但是通常为2～10质量％、优选为4～6质量％。若浓度高于2质量％则对橡胶进行改性的效率优异，另一方面，若低于10质量％则易对橡胶表面进行均一、有效的涂布，此外改性效果也充分，橡胶不会硬化。
使有机卤化合物的溶液作用于橡胶时，可以仅单纯地使两者接触，不需特别的方法，例如，可以在橡胶表面上喷雾或用刷子涂布，可以在溶液中浸渍橡胶，进一步可以进行摩擦。
此外，长膜F对于弹性体1的搭接角(弹性体1对于长膜F的接触角)由配置在弹性体1的前后的导辊2、2’的配置决定。取大搭接角时，由于可以延长长膜F在弹性体1上的通过的处理时间，得到更高的磨擦效果，但是为了不产生皱折、擦伤、曲折行进而稳定地搬运，则设定成小于180度、优选1度以上而小于135度、进一步优选5度以上而小于90度。此外，通过增大弹性体1的直径，可以同样地延长处理时间，但是由于占有空间或价格的问题，直径小于2000mm、优选为50mm以上而小于1000mm、进一步优选为100mm以上而小于500mm。
上述长膜用上述弹性体磨擦的时间优选为0.05秒～3秒。小于0.05秒时难以得到本发明的效果，若为3秒以下则不发生由于液膜的断裂所导致的擦伤等，可得到充分的磨擦效果。
对弹性体1上的长膜F施加的面压，可以用通过上述空气喷嘴5形成的空气压控制，进一步可以通过膜搬运系统的张力和辊径控制。辊径由于还与上述处理时间相关，故优选控制搬运系统的张力。为了得到本发明的效果，优选保持高面压，但是若设置太高则液体的液膜断裂，由于弹性体1和长膜F直接接触而易产生擦伤。通常优选将上述长膜用上述弹性体磨擦时的面压设定为500N/m2～5000N/m2。
以面压N/m2＝(线张力N/膜宽m)/弹性体半径m而求得。
此外，通过调整喷雾嘴8、弹性体、空吸喷嘴7以及空气喷嘴6之间的距离，可以控制用液体润湿长膜被处理面的时间，从防止水印的产生等的方面考虑，优选润湿该被处理面的时间为2秒～60秒。对于润湿长膜的被处理面的起点，预先润湿长膜面的液体供给装置(例如喷嘴8)中的喷射液体、润湿长膜被处理面的时刻为起点。润湿时间的终点，指的是例如，通过空吸喷嘴7和空气喷嘴6使附着在长膜的被处理面上的液滴的95％以上飞散或挥发的时刻。从空气喷嘴6喷射的空气的温度优选为室温～80℃、更优选为40～70℃。
作为液体4不特别限定，优选选择对长膜F中含有的成分、或用涂布、其它方法在基质表面组合加入的底涂层等不溶解/提取的液体，可以举出甲醇、乙醇、异丙醇、丙酮、乙酸甲酯、甲苯、二甲苯等有机溶剂或含有氟类溶剂、酸或碱、盐、表面活性剂、消泡剂等的水或纯水等，最优选纯水。
本发明中，上述液体4的温度通常为0～100℃，但是特别优选为30℃～100℃，同时上述弹性体的温度为30℃～100℃，在得到本发明的效果方面优选。液体4的温度调整优选通过用通常的加热器方式进行温水循环来进行，此外，弹性体的温度优选通过在温水中浸渍适当时间加热或在弹性体内部进行温水循环来进行调整。
作为搬运速度，可以在5m/min～200m/min的范围适当设定。
此外，本发明中，为了精度更优异地矫正皱折、粘连、变形等，优选附加防止长膜曲折行进的装置，优选使用日本特开平6-8663号中记载的边缘位置控制辊(有时称为EPC)或中心位置控制辊(有时称为CPC)等曲折行进修正装置。这些装置通过空气伺服传感器或光传感器检测膜边沿位置(耳端)，基于该信息控制搬运方向，使膜的边沿位置或宽度方向的中央停留在一定的部位，作为其执行装置，具体地说，通过使1～2根导辊或带驱动的平面扩展器辊对于线方向左右(或上下)振动进行曲折行进修正，或在膜的左右设置小型的两根一组的夹送辊(在膜的表面和背面各设置一根，其位于膜的两侧)，通过该夹送辊夹着膜进行拉紧而修正曲折行进(导布装置方式)。这些装置的曲折行进修正的原理是，在膜行进中，例如欲向左行进时，在前者方式中，采用倾斜辊以使膜向右行进的方法，在后者的方法中中，右侧的一组夹送辊被夹紧，向右拉紧。
这些防止曲折行进装置，以配置本发明涉及的弹性体的位置为起点，优选设置在上游侧或下游侧的2～30m的范围内，更优选在上游侧和下游侧各设置至少一台。
本发明涉及的光学膜，其特征在于，通过上述制造方法得到，本发明中，该光学膜优选用作防反射膜的支撑体。
使用本发明的光学膜的防反射膜的特征在于，在支撑体上的至少一面上从支撑体侧依次层压高折射率层、低折射率层得到的光学干涉层的层压体(根据需要可以追加其它的层)。此外，优选在支撑体和防反射膜之间设置硬涂层。硬涂层使用后述的活性射线固化树脂而设置的。
防反射层中，对于波长λ的光，优选将高折射率层和低折射率层的光学膜厚设定为λ/4。光学膜厚是通过层的折射n与膜厚d的积定义的量。折射率的高低根据其中含有的金属或化合物大致决定，例如，Ti高、Si低、含有F的化合物更低，通过该组合设定折射率。折射率和膜厚通过分光反射率的测定计算求得。
其中，在支撑体上涂布含有金属化合物的溶液得到膜时，该防反射光学特性如上所述仅由物理的膜厚决定。
特别是550nm附近的反射光的色彩，通过膜厚仅偏离数nm在红紫和蓝紫之间变化。该颜色不均在来源于显示器的透过光量多时几乎不显著，但是光量少时或关掉显示器时颜色不均显著，视认性显著变差。此外，膜厚的偏离大时，不能降低400～700nm下的反射率，难以得到所期望的防反射特性。
[长膜]
作为本发明中使用的长膜不特别限定，可以举出例如，聚酯膜、纤维素酯膜、聚碳酸酯膜、聚醚砜膜、环状烯烃树脂膜等。它们优选使用通过熔融流延法或溶剂流延法制膜得到的长膜。其中，纤维素酯膜在本发明中优选，特别优选至少在一方向上拉伸了的纤维素酯膜。作为纤维素酯膜，优选使用，例如，柯尼卡美能达(コニカミノルタタツク)KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR-3、KC8UCR-4、KC8UCR-5、KC4UE、KC4FR-1、KC4FR-2(以上是柯尼卡美能达精密仪器(コニカミノルタオプト)(株)制)等。作为长膜的膜厚，为10～500μm，优选为10～200μm，更优选为20～100μm，特别优选为30～70μm，长度为100～10000m，优选为300～5000m。
作为本发明中优选使用的纤维素酯的原料纤维素，不特别限定，可以举出棉绒、木浆、洋麻等。此外，由它们得到的纤维素酯各个可以单独使用或以任意的比率混合使用，但是优选使用50质量％以上的棉绒。
当纤维素原料的酰化剂为酸酐(乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐)时，纤维素酯使用乙酸等有机酸或二氯甲烷等有机溶剂，并使用硫酸等质子性催化剂进行反应。酰化剂为酰氯(CH3COCl、C2H5COCl、C3H7COCl)时，使用胺等碱性化合物作为催化剂进行反应。具体地说，可以用日本特开平10-45804号公报中记载的方法合成。纤维素酯酰基与纤维素分子的羟基反应。纤维素分子含有葡萄糖单元多个连结而成的分子，葡萄糖单元存在3个羟基。将这3个羟基衍生酰基的数目称为取代度。
例如，纤维素三乙酸酯是葡萄糖单元的3个羟基全部与乙酰基键合。
对纤维素酯膜中可以使用的纤维素酯不特别限定，但是优选总酰基的取代度为2.40～2.98，更优选酰基中的乙酰基的取代度为1.4以上来使用。
酰基的取代度的测定方法可以根据ASTM-D817-96测定。
纤维素酯优选为纤维素三乙酸酯或纤维素二乙酸酯等纤维素乙酸酯，纤维素乙酸酯丙酸酯、纤维素乙酸酯丁酸酯或纤维素乙酸酯丙酸酯丁酸酯等除了乙酰基之外还与丙酸酯基或丁酸酯基键合的纤维素酯。而且，丁酸酯除了正丁酸酯之外还含有异丁酸酯。丙酸酯基的取代度大的纤维素乙酸酯丙酸酯的耐水性优异。
纤维素酯的数均分子量Mn(测定方法如下记载)为70000～250000的范围由于得到的膜的机械强度强，且形成适当的胶浆粘度而优选。进一步优选为80000～150000。此外，优选使用与重均分子量Mw的比(Mw/Mn)为1.0～5.0的纤维素酯，进一步优选为1.5～4.5。
《纤维素酯的数均分子量的测定》
通过高效液相色谱在下述条件下测定。
溶剂：丙酮
色谱柱：MPW×1(东曹(東ソ一)(株)制)
样品浓度：0.2(质量/体积)％
流量：1.0ml/分钟
样品注入量：300μL
标准样品：聚甲基丙烯酸甲酯(重均分子量188200)
温度：23℃
此外，优选制备纤维素酯中使用的或使用材料中虽然微量却混杂的纤维素酯中的金属尽量少，Ca、Mg、Fe、Na等金属的总含量优选为100ppm以下。
[有机溶剂]
作为可用于溶解纤维素酯形成纤维素酯溶液或胶浆的有机溶剂，可以举出氯类有机溶剂的二氯甲烷(氯化亚甲基)，适于纤维素酯、特别是纤维素三乙酸酯的溶解。作为非氯类有机溶剂，可以举出，例如，乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯、丙酮、四氢呋喃、1，3-二氧杂戊环、1，4-二噁烷、环己酮、甲酸乙酯、2，2，2-三氟乙醇、2，2，3，3-六氟-1-丙醇、1，3-二氟-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-甲基-2-丙醇、1，1，1，3，3，3-六氟-2-丙醇、2，2，3，3，3-五氟-1-丙醇、硝基乙烷等。
对纤维素三乙酸酯使用这些有机溶剂时，可以使用常温下溶解的方法，但是由于通过使用高温溶解方法、冷却溶解方法、高压溶解方法等溶解方法可以减少不溶解物而优选。
对于纤维素三乙酸酯之外的纤维素酯，可以使用二氯甲烷，但是优选不使用二氯甲烷而使用乙酸甲酯、乙酸乙酯、丙酮。特别优选为乙酸甲酯。本发明中，对于上述纤维素酯具有优异的溶解性的有机溶剂称为良溶剂，此外将在溶解中表现出主要效果、在其中大量使用的有机溶剂称为主(有机)溶剂或主要的(有机)溶剂。
在胶浆中，优选除了上述有机溶剂之外还含有1～40质量％的碳原子数为1～4的醇。它们作为在金属支撑体上流延胶浆之后，溶剂开始蒸发，醇的比率增大时片料凝胶化，片料变得坚硬，容易从金属支撑体剥离的凝胶化溶剂使用，或它们的比率少时起着促进非氯类有机溶剂的纤维素酯的溶解作用。
作为碳原子数为1～4的醇，可以举出甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、仲丁醇、叔丁醇。
其中，从胶浆的稳定性优异、沸点较低、干燥性优异且无毒等方面考虑优选乙醇。这些有机溶剂由于单独对于纤维素酯不具有溶解性，故称为不良溶剂。
[通过溶液流延制膜方法制造纤维素酯膜]
对于用作支撑体的纤维素酯膜的制造方法进行说明。纤维素酯膜通过溶液流延制膜方法制造。
(1)溶解步骤：在溶解釜中进行搅拌的同时将该纤维素酯、聚合物或添加剂溶解在以对于纤维素酯(薄片状)的良溶剂作为主有机溶剂中，形成胶浆的步骤，或在纤维素酯溶液中混合聚合物溶液或添加剂溶液形成胶浆的步骤。纤维素酯溶解时可以使用在常压下进行的方法、在主要溶剂的沸点以下进行的方法、在主要溶剂的沸点以上加压进行的方法、日本特开平9-95544号、日本特开平9-95557号或日本特开平9-95538号公报中记载的用冷却溶解法进行的方法、日本特开平11-21379号公报中记载的在高压下进行的方法等各种溶解方法，但本发明中，特别优选在主要溶剂的沸点以上加压进行的方法。
胶浆中的纤维素酯的浓度优选为10～35质量％。溶解中或之后向胶浆中加入添加剂，进行溶解以及分散后，用滤材过滤，脱泡用送液泵送至下一步骤。
(2)流延步骤：通过送液泵(例如加压型定量齿轮泵)将胶浆送到加压模头中，在连续转运的环形金属带，例如不锈钢带或旋转的金属鼓等金属支撑体上的流延位置上，由加压模头缝隙流延胶浆的步骤。优选可以调整模头的喷嘴部分的缝隙形状、易使膜厚均一的加压模头。加压模头有衣架型模头或T模头等，任意一种都优选使用。金属支撑体的表面形成镜面。为了提高制膜速度可以在金属支撑体上设置两台以上加压模头，分割胶浆量形成多层。
(3)溶剂蒸发步骤：为在金属支撑体上加热片料(将在金属支撑体上流延胶浆以后形成的胶浆膜称为片料)，使溶剂蒸发直至可以从金属支撑体上剥离片料的步骤。蒸发溶剂时，有从片料侧吹风的方法和/或从金属支撑体的背面通过液体传热的方法、通过辐射热从表面背面传热的方法等，但是背面液体传热的方法由于干燥效率优异而优选。此外，也优选组合它们而成的方法。背面液体传热时，优选在胶浆使用有机溶剂的主溶剂或具有最低沸点的有机溶剂的沸点以下加热。
(4)剥离步骤：将在金属支撑体上蒸发了溶剂的片料在剥离位置剥离的步骤。将剥离的片料送到下一步骤。在剥离时刻的片料的残留溶剂量(下式)过大时则难以剥离，相反地若在金属支撑体上充分干燥后进行剥离则过程中片料的一部分被剥离。
作为提高制膜速度的方法(由于在残留溶剂量尽可能多时进行剥离，可以提高制膜速度)，有凝胶流延法(凝胶流延)。
本发明涉及的光学膜的干燥方法和制造方法中，使用通过溶液流延制膜法制造的纤维素酯膜作为支撑体时，对溶液流延制膜方法其本身不特别限定，可以参考所属技术领域中一般使用的方法，例如美国专利第2492978号、美国专利第2739070号、美国专利第2739069号、美国专利第2492977号、美国专利第2336310号、美国专利第2367603号、美国专利第2607704号、英国专利第64071号、英国专利第735892号、日本特公昭45-9074号、日本特公昭49-4554号、日本特公昭49-5614号、日本特公昭60-27562号、日本特公昭61-39890号、日本特公昭62-4208号等中记载的方法。
溶液流延制膜法中使用的纤维素酯的胶浆的制备中使用的溶剂，可以单独使用或2种以上并用，但是将纤维素酯的良溶剂和不良溶剂混合使用在生产效率方面优选，进一步地，良溶剂多在纤维素酯的溶解性方面为优选。良溶剂和不良溶剂的混合比率的优选范围为，良溶剂70～98质量％、不良溶剂为30～2质量％。
对于良溶剂、不良溶剂，将单独能溶解使用的纤维素酯的溶剂定义为良溶剂、将单独能溶胀或不溶解的溶剂定义为不良溶剂。因此，根据纤维素酯的平均乙酰化度，良溶剂、不良溶剂的对象会发生变化，例如使用丙酮作为溶剂时，在纤维素酯的键合乙酸量为55％时成为良溶剂，在键合乙酸量60％时成为不良溶剂。
作为本发明中使用的良溶剂，不特别限定，例如在纤维素三乙酸酯的情况下，可以举出二氯甲烷等有机卤化合物、二氧杂戊环类或乙酸甲酯，此外在纤维素乙酸酯丙酸酯的情况下，可以举出二氯甲烷、丙酮、乙酸甲酯等。
此外，作为本发明中使用的不良溶剂，不特别限定，但是优选使用甲醇、乙醇、异丙醇、正丁醇、环己烷、丙酮、环己酮等。
作为制备上述胶浆液时的纤维素酯的溶解方法，可以使用一般的方法，在加压下、溶剂的常压下的沸点以上且溶剂不沸腾的范围的温度下进行加热、搅拌的同时进行溶解的方法，由于可以防止凝胶或被称为疙瘩的块状未溶解物的产生而更优选。
此外，优选使用将纤维素酯与不良溶剂混合，进行湿润或溶胀后进一步与良溶剂混合进行溶解的方法。
对加压容器的种类不特别限定，只要可以耐规定的压力，且可以在加压下进行加热、搅拌即可。在加压容器中，此外还适当配设压力计、温度计等计量器类。加压可以通过压入氮气等非活性气体的方法或通过加热提高溶剂的蒸气压来进行。加热优选从外部进行，例如夹套型由于易控制温度而优选。
添加溶剂的加热温度在使用溶剂的常压下的沸点以上且该溶剂不沸腾的范围的温度从纤维素酯的溶解性方面考虑为优选，但是若加热温度过高则需要的压力增大、生产性变差。优选的加热温度为45～120℃，更优选为60～110℃，进一步优选为70～105℃。此外，调整压力以使溶剂在设定温度下不沸腾。
除了纤维素酯和溶剂之外必要的增塑剂、紫外线吸收剂等添加剂可以预先与溶剂混合、溶解或分散后投入到纤维素酯溶解前的溶剂中或投入到纤维素酯溶解后的胶浆中。
溶解后，进行冷却的同时从容器中取出，或用泵等从容器中抽出用热交换器等冷却，将其供给制膜，此时的冷却温度可以冷却至常温，但是冷却至比沸点低5～10℃的温度，在该温度下直接进行流延由于可以降低胶浆粘度而更优选。
酰基的取代度的测定方法可以根据ASTM-817-96的规定测定。
这些纤维素酯如后所述一般用被称为溶液流延制膜法的方法制造(制膜)。该方法，在连续转运的环形金属带(例如不锈钢带)或旋转的金属鼓(例如在铸铁的表面镀铬得到的鼓)等流延用金属支撑体(以下有时简称为金属支撑体)上，由加压模头流延(Cast)胶浆(纤维素酯溶液的胶浆)，从金属支撑体剥离金属支撑体上的片料(胶浆膜)，进行干燥来制造。
在纤维素酯膜中，从防止作为图像显示装置置于室外时等的变差方面考虑，优选含有下述紫外线吸收剂。
作为紫外线吸收剂，优选使用波长370nm以下的紫外线的吸收能力优异且波长400nm以上的可见光的吸收少的紫外线吸收剂。可以举出，例如，羟基二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、水杨酸酯类化合物、二苯甲酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、镍络盐类化合物等，但是本发明不限于此。
本发明中，纤维素酯膜的膜厚优选使用10～200μm，特别优选为30～70μm。以往的该薄膜中易产生涂布不均，通过本发明即使为70μm以下的薄膜也可以期待稳定的涂布性。
本发明中，在上述支撑体面上设置光学薄膜时，可以将对于平均膜厚的膜厚偏差设定为±8％，更优选为±5％以内，特别优选为±1％以内的均一薄膜。本发明的制造方法特别适用于1400mm以上的宽幅光学膜时，可以发挥显著效果。优选适用的光学膜宽度的上限，从膜厚精度方面考虑不特别限定，但是从制造成本方面考虑，优选为4000mm以下。
本发明涉及的光学膜，通过在纤维素酯膜中含有消光剂，可以容易搬运或卷取。
消光剂优选尽可能为微粒的消光剂。作为微粒，可以举出例如，二氧化硅、二氧化钛、氧化铝、氧化锆、碳酸钙、高岭土、滑石、烧结硅酸钙、水合硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁、磷酸钙等无机微粒，或聚甲基丙烯酸甲酯丙烯酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯类树脂粉末、聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末、硅类树脂粉末、聚苯乙烯类树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、苯并鸟粪胺类树脂粉末、三聚氰胺类树脂粉末、聚烯烃类树脂粉末、聚酯类树脂粉末、聚酰胺类树脂粉末、聚酰亚胺类树脂粉末或聚氟乙烯类树脂粉末等。特别优选为交联高分子微粒。本发明中，不限于它们。
上述中，二氧化硅对于调整动磨擦系数特别优选，此外由于可以使膜的雾度小而优选。优选微粒的一次粒子或二次粒子的平均粒径为0.01～5.0μm，其含量相对于纤维素酯为0.005～0.5质量％。
二氧化硅等微粒大多通过有机物进行表面处理，该微粒由于可以降低膜的雾度而优选。
作为表面处理中优选的有机物，可以举出卤硅烷类、烷氧基硅烷类、硅氮烷、硅氧烷等。由于微粒的平均粒径大时，光滑性效果大，相反地平均粒径小时透明性优异，优选的微粒的一次粒子的平均粒径为20nm以下，更优选为5～16nm，特别优选为5～12nm。
这些微粒优选在纤维素酯膜中，在纤维素酯膜表面上生成0.01～1.0μm的凹凸。
作为二氧化硅的微粒，可以举出日本Aerosil(アエロジル)(株)制的Aerosil(AEROSIL)200、200V、300、R972、R972V、R974、R202、R812、OX50、TT600等，优选Aerosil200V、R972、R972V、R974、R202、R812。这些微粒可以并用2种以上。2种以上并用时，可以以任意的比率混合使用。此时，平均粒径或材质不同的微粒、例如Aerosil200V和R972可以按照质量比在0.1∶99.9～99.9∶0.1的范围内使用。作为氧化锆，例如可以使用AerosilR976或R811(日本Aerosil(株)制)等市售品。
作为有机物微粒，例如作为硅树脂可以使用Tospearl(トスパ一ル)103、105、108、120、145、3120、240(东芝silicone(东芝シリコ一ン)(株)制)等市售品。
本发明中优选使用的微粒的1次平均粒径的测定用透射型电子显微镜(倍率50万～200万倍)对粒子进行观察，观察100个粒子，取其平均值，作为1次平均粒径。
作为微粒的表观比重，优选为70g/L以上、进一步优选为90～200g/L、特别优选为100～200g/L。表观比重越大则越可以制备高浓度的分散液，雾度、凝聚物变好，所以优选，此外，制备本发明这样固体成分浓度高的胶浆时特别优选使用。
一次粒子的平均径为20nm以下、表观比重为70g/L以上的二氧化硅微粒，例如，可以通过将气化的四氯化硅和氢混合得到的混合物在1000～1200℃下于空气中燃烧来得到。本发明中，以上记载的表观比重是在一定量的量筒中取二氧化硅微粒，测定此时的重量，通过下式算出的值。
表观比重(g/L)＝二氧化硅质量(g)÷二氧化硅的容积(L)
作为制备本发明中有用的微粒的分散液的方法和将其添加到胶浆中的方法，可以举出，例如下述三种方法。
《制备方法A》
将有机溶剂和微粒搅拌混合后，用分散机进行分散。将其制成微粒分散液。将微粒分散液加入到胶浆中并进行搅拌。
《制备方法B》
将有机溶剂和微粒搅拌混合后，用分散机进行分散。将其作为微粒分散液。在另外向有机溶剂中加入少量的纤维素酯，进行搅拌溶解而得到的液体中加入微粒分散液，进行搅拌。将其作为微粒添加液，用在线混合器与胶浆充分混合。其中，在下述微粒的添加液的添加后可以添加紫外线吸收剂。
《制备方法C》
向有机溶剂中加入少量的纤维素酯，进行搅拌溶解。向其中加入微粒用分散机进行分散。将其制成微粒添加液。将微粒添加液通过在线混合器与胶浆充分混合。
制备方法A的二氧化硅微粒的分散性优异，而制备方法C在二氧化硅微粒不易再凝聚方面优异。其中，以上记载的制备方法B是在二氧化硅微粒的分散性和二氧化硅微粒不易进一步再凝聚等两方面都优异的优选的制备方法。
《分散方法》
将二氧化硅微粒与有机溶剂等混合、分散时的二氧化硅的浓度优选为5质量％～30质量％、进一步优选为10质量％～25质量％、最优选为15质量％～20质量％。
二氧化硅微粒对于纤维素酯的添加量，相对于纤维素酯100质量份，二氧化硅微粒优选为0.01质量份～0.5质量份、进一步优选为0.05质量份～0.2质量份、最优选为0.08质量份～0.12质量份。添加量多时纤维素酯膜的动磨擦系数优异，添加量少时在雾度低、凝聚物少方面优异。
分散液中使用的有机溶剂优选为低级醇类，作为低级醇类，优选为甲醇、乙醇、丙醇、异丙醇、丁醇等。作为低级醇之外的有机溶剂，不特别限定，但是优选为制备胶浆时使用的有机溶剂。
分散机可以使用通常的分散机。分散机大致分为介质分散机和无介质分散机。二氧化硅微粒的分散中，后者由于雾度降低而优选。作为介质分散机，可以举出球磨、砂磨、珠磨机(Dyno mill)等。此外，作为无介质分散机，有超声波型、离心型、高压型等，但是本发明中优选为高压型、优选高压分散装置。高压分散装置通过使微粒和有机溶剂混合而成的组合物高速通过细管中，创造高剪切或高压状态等特殊条件的装置。用高压分散装置处理时，例如，管径1～2000μm的细管中装置内部的最大压力条件优选为9.8MPa以上。进一步优选为19.6MPa以上。此外，此时优选最高到达速度为100m/秒以上、传热速度达到420kJ/小时以上。
上述高压分散装置中，有Microfluidics Corporation公司制超高压均化器(商品名Microfluidizer(マイクロフルイダイザ))或Nanomaizer(ナノマイザ)社制Nanomaizer(ナノマイザ)，此外可以举出Mantongolin(マントンゴ一リン)型高压分散装置，例如Izumi Food Machinery(イズミフ一ドマシナリ)制均化器、三和机械(株)社制UHN-01等。
本发明中，含有上述微粒时，优选在纤维素酯膜的厚度方向上均一分布，更优选以主要存在于表面附近的方式进行分布，例如，由一个模头通过共流延法同时流延2种以上胶浆，优选将含有微粒的胶浆配置于表层一侧。如此操作，可以减少雾度且降低动磨擦系数。进一步优选使用3种胶浆，使含有微粒的胶浆配置于表层侧的一侧的层或两层。
为了调整支撑体的动磨擦系数，可以在背面侧设置含有微粒的背涂层(バツクコ-ト)。可以通过添加的微粒的大小或添加量、材质等调整动磨擦系数。
作为本发明中优选使用的增塑剂，优选使用磷酸酯类增塑剂、非磷酸酯类增塑剂。
作为磷酸酯类增塑剂，可以举出三苯基磷酸酯、三甲苯基磷酸酯、甲苯基二苯基磷酸酯、辛基二苯基磷酸酯、二苯基联苯基磷酸酯、三辛基磷酸酯、三丁基磷酸酯等。
作为非磷酸酯类增塑剂，可以举出酞酸类酯、多元醇酯、多元羧酸酯、柠檬酸酯、乙醇酸酯、脂肪酸酯、均苯四甲酸酯、偏苯三酸酯、聚酯等。
其中优选多元醇酯类增塑剂、苯二甲酸酯、柠檬酸酯、脂肪酸酯、乙醇酸酯类增塑剂、聚酯类增塑剂等。
多元醇酯类增塑剂含有二元以上的脂肪族多元醇与单羧酸的酯的增塑剂，优选分子内具有芳环或环烷基环。优选2～20元的脂肪族多元醇酯。
本发明中使用的多元醇以下述通式(1)表示。
通式(1)   R1-(OH)n
其中，R1表示n价的有机基团，n表示2以上的正整数，OH基表示醇性和/或酚性羟基。
作为优选的多元醇的例子，可以举出，例如下述多元醇，但是本发明并不限于此。可以举出核糖醇、阿拉伯醇、乙二醇、二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、二丙二醇、三丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、1，4-丁二醇、二丁二醇、1，2，4-丁三醇、1，5-戊二醇、1，6-己二醇、己三醇、半乳糖醇、甘露醇、3-甲基戊烷-1，3，5-三醇、频那醇、山梨糖醇、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷、木糖醇等。特别优选三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、三丙二醇、山梨糖醇、三羟甲基丙烷、木糖醇。
作为本发明的多元醇酯中使用的单羧酸，不特别限定，可以使用公知的脂肪族单羧酸、脂环族单羧酸、芳族单羧酸等。若使用脂肪族单羧酸、芳族单羧酸则从提高透湿性、保留性方面考虑为优选。
作为优选的单羧酸的例子，可以举出下述单羧酸，但是本发明不限于此。
作为脂肪族单羧酸，优选使用碳原子数1～32的直链或具有侧链的脂肪酸。进一步优选碳原子数为1～20，特别优选碳原子数为1～10。若含有乙酸则由于增大与纤维素酯的相容性而优选，优选混合乙酸和其它的单羧酸来使用。
作为优选的脂肪族单羧酸，可以举出乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、己酸、庚酸、辛酸、壬酸、癸酸、2-乙基己烷羧酸、十一碳烷酸、月桂酸、十三碳烷酸、肉豆蔻酸、十五碳烷酸、棕榈酸、十七碳烷酸、硬脂酸、十九碳烷酸、花生酸、二十二碳烷酸、二十四碳烷酸、蜡酸、二十七碳烷酸、褐煤酸、蜂花酸、三十二碳烷酸等饱和脂肪酸，十一碳烯酸、油酸、山梨酸、亚油酸、亚麻酸、花生油烯酸等不饱和脂肪酸等。
作为优选的脂环族单羧酸的例子，可以举出环戊烷羧酸、环己烷羧酸、环辛烷羧酸或它们的衍生物。
作为优选的芳族单羧酸的例子，可以举出苯甲酸，甲苯酸等在苯甲酸的苯环上导入烷基得到的芳族单羧酸，联苯羧酸、萘羧酸、四氢化萘羧酸等具有两个以上苯环的芳族单羧酸或它们的衍生物。特别优选为苯甲酸。
对多元醇酯的分子量不特别限定，但是优选为300～1500，进一步优选为350～750。分子量大时由于不易挥发而优选，而从透湿性、与纤维素酯的相容性方面考虑则优选分子量小的多元醇酯。
多元醇酯中使用的羧酸可以为一种或两种以上的混合。此外，多元醇中的OH基可以全部酯化或一部分仍以OH基状态残留着。
以下举出多元醇酯的具体化合物。
[化学式1]
Figure A20068004285900281
[化学式2]
Figure A20068004285900291
[化学式3]
Figure A20068004285900301
[化学式4]
对乙醇酸酯类增塑剂不特别限定，优选使用烷基酞酰基烷基乙醇酸酯类。作为烷基酞酰基烷基乙醇酸酯类，可以举出例如，甲基酞酰基甲基乙醇酸酯、乙基酞酰基乙基乙醇酸酯、丙基酞酰基丙基乙醇酸酯、丁基酞酰基丁基乙醇酸酯、辛基酞酰基辛基乙醇酸酯、甲基酞酰基乙基乙醇酸酯、乙基酞酰基甲基乙醇酸酯、乙基酞酰基丙基乙醇酸酯、甲基酞酰基丁基乙醇酸酯、乙基酞酰基丁基乙醇酸酯、丁基酞酰基甲基乙醇酸酯、丁基酞酰基乙基乙醇酸酯、丙基酞酰基丁基乙醇酸酯、丁基酞酰基丙基乙醇酸酯、甲基酞酰基辛基乙醇酸酯、乙基酞酰基辛基乙醇酸酯、辛基酞酰基甲基乙醇酸酯、辛基酞酰基乙基乙醇酸酯等。
作为酞酸酯类增塑剂，可以举出酞酸二乙酯、二甲氧基乙基酞酸酯、酞酸二甲酯、酞酸二辛酯、酞酸二丁酯、二-2-乙基己基酞酸酯、酞酸二辛酯、酞酸二环己酯、对酞酸二环己酯等。
作为柠檬酸酯类增塑剂，可以举出柠檬酸乙酰基三甲酯、柠檬酸乙酰基三乙酯、柠檬酸乙酰基三丁酯等。
作为脂肪酸酯类增塑剂，可以举出油酸丁酯、蓖麻酸甲基乙酰基酯、癸二酸二丁酯等。
对聚酯类增塑剂不特别限定，但是优选使用分子内具有芳环或环烷基环的聚酯类增塑剂。作为优选的聚酯类增塑剂，不特别限定，例如，优选下述通式(2)所示的芳族末端酯类增塑剂。
通式(2)B-(G-A)n-G-B
(式中，B表示苯单羧酸残基，G表示碳原子数2～12的烷撑二醇残基、碳原子数6～12的芳基二醇残基或碳原子数4～12的氧基烷撑二醇残基，A表示碳原子数4～12的亚烷基二羧酸残基或碳原子数6～12的芳基二羧酸残基，此外n表示1以上的整数。)
通式(2)中，是由B所示的苯单羧酸残基和G所示的烷撑二醇残基、氧基烷撑二醇残基或芳基二醇残基以及A所示的亚烷基二羧酸残基或芳基二羧酸残基构成的化合物，可以通过与通常的聚酯类增塑剂相同的反应得到。
作为本发明中使用的聚酯类增塑剂的苯单羧酸成分，例如有苯甲酸、对叔丁基苯甲酸、邻甲苯酸、间甲苯酸、对甲苯酸、二甲基苯甲酸、乙基苯甲酸、正丙基苯甲酸、氨基苯甲酸、乙酰氧基苯甲酸等，它们可以各一种使用或作为两种以上的混合物使用。
作为聚酯类增塑剂的碳原子数2～12的烷撑二醇成分，有乙二醇、1，2-丙二醇、1，3-丙二醇、1，2-丁二醇、1，3-丁二醇、1，2-丙烷二醇、2-甲基-1，3-丙二醇、1，4-丁二醇、1，5-戊二醇、2，2-二甲基-1，3-丙二醇(新戊二醇)、2，2-二乙基-1，3-丙二醇(3，3-二羟甲基戊烷)、2-正丁基-2-乙基-1，3-丙二醇(3，3-二羟甲基庚烷)、3-甲基-1，5-戊烷二醇、1，6-己二醇、2，2，4-三甲基-1，3-戊烷二醇、2-乙基-1，3-己二醇、2-甲基-1，8-辛二醇、1，9-壬二醇、1，10-癸二醇、1，12-十八烷二醇等，这些二醇可以一种或作为两种以上的混合物使用。特别是碳原子数2～12的烷撑二醇由于与纤维素酯的相容性优异而特别优选。
此外，作为芳族末端酯的碳原子数4～12的氧基烷撑二醇成分，例如有二乙二醇、三乙二醇、四乙二醇、二丙二醇、三丙二醇等，这些二醇可以一种或作为两种以上的混合物使用。
作为芳族末端酯的碳原子数4～12的亚烷基二羧酸成分，例如有琥珀酸、马来酸、富马酸、戊二酸、己二酸、壬二酸、癸二酸、十二碳烷二羧酸等，它们可以各使用一种或作为两种以上的混合物使用。作为碳原子数6～12的亚芳基二羧酸成分，有邻酞酸、对酞酸、间酞酸、1，5-萘二羧酸、1，4-萘二羧酸等。
本发明中可以使用的聚酯类增塑剂的数均分子量优选为300～1500、更优选为400～1000。此外，其酸值为0.5mgKOH/g以下、羟值为25mgKOH/g以下，更优选酸值为0.3mgKOH/g以下、羟值为15mgKOH/g以下。
以下，示出芳族末端酯类增塑剂的合成例。
<样品No.1(芳族末端酯样品)>
向反应容器中一次性加入酞酸410份、苯甲酸610份、二丙二醇737份以及作为催化剂的四异丙基钛酸酯0.40份，在氮气气流中搅拌下，附加回流冷凝器回流过量的一元醇的同时，将在130～250℃下连续加热生成的水连续除去直至酸值为2以下。接着，在200～230℃下、100～最终4×102Pa以下的减压下除去馏出馏分，然后过滤得到具有下述性状的芳族末端酯增塑剂。
粘度(25℃、mPa·s)；43400
酸值                ；0.2
<样品No.2(芳族末端酯样品)>
除了在反应容器中使用酞酸410份、苯甲酸610份、乙二醇341份以及作为催化剂的四异丙基钛酸酯0.35份之外与样品No.1完全同样地操作得到具有下述性状的芳族末端酯。
粘度(25℃、mPa·s)；31000
酸值                ；0.1
<样品No.3(芳族末端酯样品)>
除了在反应容器中使用酞酸410份、苯甲酸610份、1，2-丙二醇418份以及作为催化剂的四异丙基钛酸酯0.35份之外与样品No.1完全同样地操作得到具有下述性状的芳族末端酯。
粘度(25℃、mPa·s)；38000
酸值                ；0.05
<样品No.4(芳族末端酯样品)>
除了在反应容器中使用酞酸410份、苯甲酸610份、1，3-丙二醇418份以及作为催化剂的四异丙基钛酸酯0.35份之外与样品No.1完全同样地操作得到具有下述性状的芳族末端酯。
粘度(25℃、mPa·s)；37000
酸值              ；0.05
以下示出芳族末端酯类增塑剂的具体的化合物，但是本发明不限于此。
[化学式5]
Figure A20068004285900341
[化学式6]
这些增塑剂可以单独或两种以上混合使用。增塑剂的用量相对于纤维素酯小于1质量％时，由于降低膜的透湿度的效果小而不优选，若超过20质量％则增塑剂从膜中渗出，膜的物性变差，所以优选为1～20质量％。进一步优选为6～16质量％、特别优选为8～13质量％。
对本发明优选使用的紫外线吸收剂进行说明。
作为紫外线吸收剂的具体例子，可以举出，例如，羟基二苯甲酮类化合物、苯并三唑类化合物、水杨酸酯类化合物、二苯甲酮类化合物、氰基丙烯酸酯类化合物、镍络盐类化合物等，不特别限于此，也可以使用除此之外的紫外线吸收剂。
作为具体例子，可以举出例如下述化合物。
UV-1：2-(2’-羟基-5’-甲基苯基)苯并三唑
UV-2：2-(2’-羟基-3’，5’-二叔丁基苯基)苯并三唑
UV-3：2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)苯并三唑
UV-4：2-(2’-羟基-3’，5’-二叔丁基苯基)-5-氯苯并三唑
UV-5：2-(2’-羟基-3’-(3”，4”，5”，6”-四氢化酞酰亚胺甲基)-5’-甲基苯基)苯并三唑
UV-6：2，2-亚甲基二(4-(1，1，3，3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)苯酚)
UV-7：2-(2’-羟基-3’-叔丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑
UV-8：2，4-二羟基二苯甲酮
UV-9：2，2’-二羟基-4-甲氧基二苯甲酮
UV-10：2-羟基-4-甲氧基-5-磺基二苯甲酮
UV-11：二(2-甲氧基-4-羟基-5-苯甲酰基苯基甲烷)
作为紫外线吸收剂，从波长370nm以下的紫外线的吸收能力优异，且优异的液晶显示性方面考虑，优选使用波长400nm以上的可见光的吸收少的紫外线吸收剂。作为本发明涉及的光学膜的紫外线吸收能力，相对于380nm的波长的光，优选透过率为10％以下，进一步优选透过率小于6％，特别优选透过率为0～不足4％。
光学膜中使用的紫外线吸收剂的含量，根据波长380nm的光的透过率的设定以适当的添加量使用。
此外，作为抗氧化剂，优选使用受阻酚类的化合物，可以举出，例如，2，6-二叔丁基-对甲酚、季戊四醇-四[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-二[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]、1，6-己二醇-二[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、2，4-二-(正辛基硫)-6-(4-羟基-3，5-二叔丁基苯胺基)-1，3，5-三嗪、2，2-硫代-二亚乙基二[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、十八烷基-3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯、N，N’-六亚甲基二(3，5-二叔丁基-4-羟基-氢化肉桂酰胺)、1，3，5-三甲基-2，4，6-三(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)苯、三-(3，5-二叔丁基-4-羟基苄基)异氰脲酸酯等。特别优选2，6-二叔丁基-对甲酚、季戊四醇-四[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酸酯]、三乙二醇-二[3-(3-叔丁基-5-甲基-4-羟基苯基)丙酸酯]。此外，例如也可以并用N，N’-二[3-(3，5-二叔丁基-4-羟基苯基)丙酰基]肼等肼类的金属钝化剂或三(2，4-二叔丁基苯基)亚磷酸酯等磷类加工稳定剂。这些化合物的添加量相对于纤维素酯按照质量比率优选为1ppm～1.0％、进一步优选为10～1000ppm。
这些抗氧化剂又被称为防劣化剂，在将液晶图像显示装置等置于高湿高温的状态下时，有可能产生纤维素酯膜的劣化，但这些防劣化剂例如具有延迟或防止由于纤维素酯膜中的残留溶剂量的卤素或磷酸类增塑剂的磷酸等导致的纤维素酯膜分解的作用，所以优选含在上述纤维素酯膜中。
通过本发明的制造方法即使层压更多层的薄膜时也无各层的不均，从而可以得到均一的光学膜。
如上所述，在本发明中可以提供形成具有各种功能的薄膜的光学膜。
本发明作为抗静电层或导电性层，可以设置膜厚0.1～2μm的层所述的层是涂布设置了金属氧化物微粒或交联阳离子聚合物等导电性树脂微粒。
本发明的光学薄膜的制造方法中得到的光学膜特别是作为偏振片保护膜是有用的，可以使用其通过公知的方法制造偏振片。这些光学膜由于薄膜的均一性高，优选用于各种显示装置中，可以得到优异的显示性能。
在本发明涉及的光学膜中，根据需要可以单独或适当组合地设置硬涂层、防眩目层、防反射层、抗静电层、导电层、光扩散层、易粘合层、防污层、易粘合层、取向层、液晶层、光学各向异性层等。
在液晶显示装置中通常优选在2片偏振片之间配置含有液晶的基板，但是由于特别是在液晶显示装置的显示侧最表面的偏振片保护膜上设置硬涂层、防眩层、防反射层等，特别优选将偏振片用于该部分。
(硬涂层)
本发明涉及的进行了处理的长膜，优选设置硬涂层作为功能性层。
本发明的光学膜优选在该硬涂层上设置防反射层(高折射率层、低折射率层等)构成防反射膜。
作为硬涂层，优选使用活性射线固化树脂层。
活性射线固化树脂层指的是以通过紫外线或电子射线等活性射线照射，经过交联反应等固化的树脂作为主要成分的层。作为活性射线固化树脂层，优选使用含有具有乙烯性不饱和双键的单体的成分，通过照射紫外线或电子射线等活性射线固化形成硬涂层。作为活性射线固化树脂，可以举出紫外线固化性树脂或电子射线固化性树脂作为代表，但是优选通过紫外线照射固化的树脂。
作为紫外线固化性树脂，优选使用紫外线固化型聚氨酯丙烯酸酯类树脂、紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂、紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂、紫外线固化型多元醇丙烯酸酯类树脂或紫外线固化型环氧树脂等。
紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂通常可以通过使聚酯多元醇与异氰酸酯单体或预聚物反应得到的产物进一步与丙烯酸2-羟基乙酯、甲基丙烯酸2-羟基乙酯(以下丙烯酸酯中包含甲基丙烯酸酯，仅表示为丙烯酸酯)、丙烯酸2-羟基丙酯等具有羟基的丙烯酸酯类单体反应而容易地得到。例如，可以使用日本特开昭59-151110号中记载的紫外线固化型丙烯酸聚氨酯类树脂。
例如，优选使用UNIDIC(ユニデイツク)17-806(大日本油墨(株)制)100份与コロネ一トL(日本polyurethane(株)制)1份的混合物等。
作为紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂，通常可以举出使聚酯多元醇与丙烯酸2-羟基乙酯、2-羟基丙烯酸酯类的单体反应时，则容易形成的紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂，可以使用日本特开昭59-151112号中记载的紫外线固化型聚酯丙烯酸酯类树脂。
作为紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出将环氧丙烯酸酯作为低聚物，向其中添加反应性稀释剂、光反应引发剂，进行反应产生的紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂，可以使用日本特开平1-105738号中记载的紫外线固化型环氧丙烯酸酯类树脂。
作为紫外线固化型多元醇丙烯酸酯类树脂的具体例子，可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二(三羟基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯等。
作为这些紫外线固化性树脂的光反应引发剂，具体地说，可以举出苯偶姻及其衍生物、苯乙酮、二苯甲酮、羟基二苯甲酮、米蚩酮、α-アミロキシム酯、噻吨酮等以及它们的衍生物。也可以与光敏剂一起使用。上述光反应引发剂也可以用作光敏剂。此外，使用环氧丙烯酸酯类的光反应引发剂时，可以使用正丁基胺、三乙基胺、三正丁基膦等增敏剂。紫外线固化树脂组合物中使用的光反应引发剂或光敏剂相对于该组合物100质量份为0.1～15质量份，优选为1～10质量份。
作为树脂单体：作为不饱和双键为一个的单体，可以举出例如，丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸苄酯、丙烯酸环己酯、乙酸乙烯酯、苯乙烯等通常的单体。此外，作为具有两个以上不饱和双键的单体，可以举出乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、二乙烯基苯、1，4-环己烷二丙烯酸酯、1，4-环己基二甲基二丙烯酸酯、前面出现的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯等。
作为本发明中可以使用的紫外线固化树脂的市售品，可以适当选择利用ADEKA Optomer(アデカオプトマ一)KR·BY系列：KR-400、KR-410、KR-550、KR-566、KR-567、BY-320B(旭电化(株)制)；UA HARD(コ一エイハ一ド)A-101-KK、A-101-WS、C-302、C-401-N、C-501、M-101、M-102、T-102、D-102、NS-101、FT-102Q8、MAG-1-P20、AG-106、M-101-C(广荣化学(株)制)；SEIKA BEAM(セイカビ一ム)PHC2210(S)、PHC X-9(K-3)、PHC2213、DP-10、DP-20、DP-30、P1000、P1100、P1200、P1300、P1400、P1500、P1600、SCR900(大日精化工业(株)制)；KRM7033、KRM7039、KRM7130、KRM7131、UVECRYL29201、UVECRYL29202(大赛璐(ダイセル)·UCB(ユ一シ一ビ一)(株)制)；RC-5015、RC-5016、RC-5020、RC-5031、RC-5100、RC-5102、RC-5120、RC-5122、RC-5152、RC-5171、RC-5180、RC-5181(大日本油墨化学工业(株)制)；Aurex(オ一レツクス)No.340クリヤ(中国涂料(株)制)；sanrad(サンラツド)H-601、RC-750、RC-700、RC-600、RC-500、RC-611、RC-612(三洋化成工业(株)制)；SP-1509、SP-1507(昭和高分子(株)制)；RCC-15C(Grace Japan(グレ一ス·ジヤパン)(株)制)、ARONIX(アロニツクス)M-6100、M-8030、M-8060(东亚合成(株)制)等。
此外，作为具体的化合物例子，可以举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、二(三羟基丙烷)四丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、烷基改性二季戊四醇五丙烯酸酯等。
这些活性射线固化树脂层可以通过照相凹版涂布机、浸涂机、逆涂布机、线棒涂布机、口模涂机、喷墨法等公知的方法进行涂布设置。
作为用于通过光固化反应固化紫外线固化性树脂、形成固化涂膜层的光源，只要能产生紫外线的光源则可以任意使用。例如，可以使用低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、碳弧灯、金属卤化物灯、氙灯等。这些光源优选使用空冷或水冷方式的光源。照射条件根据各种灯不同而不同，但是活性射线的照射量优选为5～500mJ/cm2、特别优选为20～150mJ/cm2。
此外，对于照射部优选通过氮气吹扫将氧浓度降低至0.01％～2％。
此外，照射活性射线时，优选在膜的搬运方向上赋予张力的同时进行，进一步优选在宽度方向上也赋予张力的同时进行。赋予的张力优选为30～300N/m。对赋予张力的方法不特别限定，可以在支承辊上在搬运方向上赋予张力或用拉幅机在宽度方向或双轴方向上赋予张力。由此，可以得到平面性更优异的膜。
作为紫外线固化树脂层组合物涂布液的有机溶剂，例如，可以从烃类(甲苯、二甲苯)、醇类(甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、环己醇)、酮类(丙酮、甲基乙基酮、甲基异丁基酮)、酯类(乙酸甲酯、乙酸乙酯、乳酸甲酯)、二醇醚类、其它的有机溶剂中适当选择或将它们混合利用。优选使用含有5质量％以上、更优选5～80质量％以上的丙二醇单烷基醚(烷基的碳原子数为1～4)或丙二醇单烷基醚乙酸酯(烷基的碳原子数为1～4)等的上述有机溶剂。
本发明，使用上述中含有丙烯酸酯类紫外线固化树脂和上述有机溶剂的硬涂层涂布液时特别有效。
此外，在紫外线固化树脂层组合物涂布液中，特别优选添加硅化合物。例如，优选添加聚醚改性硅油等。聚醚改性硅油的数均分子量，例如为1000～100000，优选为2000～50000，数均分子量小于1000时涂膜的干燥性降低，相反地若数均分子量超过100000则存在难以在涂膜表面上渗出的趋势。
作为硅化合物的市售品，可以举出DKQ8-779(dowcorning(ダウコ一ニング)社制商品名)，SF3771、SF8410、SF8411、SF8419、SF8421、SP8428、SH200、SH510、SH1107、SH3749、SH3771、BX16-034、SH3746、SH3749、SH8400、SH3771M、SH3772M、SH3773M、SH3775M、BY-16-837、BY-16-839、BY-16-869、BY-16-870、BY-16-004、BY-16-891、BY-16-872、BY-16-874、BY22-008M、BY22-012M、FS-1265(以上为东丽dowcorning silicone(东レ·ダウコ一ニングシリコ一ン)社制商品名)，KF-101、KF-100T、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、硅氧烷X-22-945、X22-160AS(以上为信越化学工业社制商品名)，XF3940、XF3949(以上为东芝silicone(シリコ一ン)社制商品名)，Disparon(デイスパロン)LS-009(楠本化成社制)，GLANOL(グラノ一ル)410(共荣社油脂化学工业(株)制)，TSF4440、TSF4441、TSF4445、TSF4446、TSF4452、TSF4460(GE东芝シリコ一ン制)，BYK-306、BYK-330、BYK-307、BYK-341、BYK-344、BYK-361(Byk ClemiJapan(ビツクケミ一ジヤパン)社制)，日本UNICAR(ユニカ一)(株)制的L系列(例如，L7001、L-7006、L-7604、L-9000)、Y系列、FZ系列(FZ-2203、FZ-2206、FZ-2207)等，且都优选使用。
这些成分提高对基材或下层的涂布性。在层压体最表面层中添加时，不仅提高涂膜的防水、防油性、防污性，而且对表面的耐擦伤性也发挥效果。这些成分相对于涂布液中的固体成分优选添加0.01～3质量％。
作为紫外线固化性树脂组合物涂布液的涂布方法，可以使用上述方法。对于涂布量，以湿膜膜厚计为0.1～30μm是适当的，优选为0.5～15μm。此外，以干燥膜厚计为0.1～20μm，优选为1～10μm。
紫外线固化性树脂组合物可以在涂布干燥中或之后照射紫外线，作为为了得到上述5～150mJ/cm2的活性射线的照射量的照射时间，可以为0.1秒～5分钟左右，从紫外线固化性树脂的固化效率或作业效率方面考虑更优选为0.1秒～10秒。
此外，这些活性射线照射部的照度优选为50～150mW/cm2。
为了防止粘连、提高耐擦伤性等、或为了具有防眩目性或光扩散性、或为了调整折射率而可以向如此得到的固化树脂层中加入无机化合物或有机化合物的微粒。
优选向本发明中使用的硬涂层中添加微粒，作为使用的无机微粒，可以举出氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化镁、碳酸钙、碳酸钙、滑石、粘土、烧结高岭土、烧结硅酸钙、水合硅酸钙、硅酸铝、硅酸镁和磷酸钙。特别优选使用氧化硅、氧化钛、氧化铝、氧化锆、氧化镁等。
此外，作为有机微粒，可以向紫外线固化性树脂组合物中加入聚甲基丙烯酸甲酯丙烯酸酯树脂粉末、丙烯酸苯乙烯类树脂粉末、聚甲基丙烯酸甲酯树脂粉末、硅类树脂粉末、聚苯乙烯类树脂粉末、聚碳酸酯树脂粉末、苯并鸟粪胺类树脂粉末、三聚氰胺类树脂粉末、聚烯烃类树脂粉末、聚酯类树脂粉末、聚酰胺类树脂粉末、聚酰亚胺类树脂粉末或聚氟乙烯类树脂粉末等。特别优选为交联聚苯乙烯粒子(例如，综研化学制SX-130H、SX-200H、SX-350H)、聚甲基丙烯酸甲酯类粒子(例如，综研化学制MX150、MX300)。
作为这些微粒粉末的平均粒径，优选为0.005～5μm、特别优选为0.01～1μm。紫外线固化树脂组合物与微粒粉末的比率，相对于树脂组合物100质量份，优选配合成0.1～30质量份。
紫外线固化树脂层优选为由JIS B 0601规定的中心线平均粗糙度(Ra)为1～50nm的透明硬涂层或Ra为0.1～1μm左右的防眩层。中心线平均粗糙度(Ra)优选通过光干涉式的表面粗糙度测定器测定，例如，可以使用WYKO公司制RST/PLUS测定。
此外，本发明中使用的硬涂层中优选含有抗静电剂，作为抗静电剂，优选含有选自Sn、Ti、In、Al、Zn、Si、Mg、Ba、Mo、W和V中的至少一种元素作为主要成分，且体积电阻率为107Ω·cm以下的导电性材料。
作为上述抗静电剂，可以举出具有上述元素的金属氧化物、复合氧化物等。
作为金属氧化物的例子，例如，优选ZnO、TiO2、SnO2、Al2O3、In2O3、SiO2、MgO、BaO、MoO2、V2O5等或它们的复合氧化物，特别优选ZnO、In2O3、TiO2和SnO2。作为含有不同种类原子的例子，例如对ZnO添加Al、In等、对TiO2添加Nb、Ta等、此外对于SnO2添加Sb、Nb、卤元素等是有效的。这些不同种类原子的添加量优选为0.01～25mol％，特别优选为0.1～15mol％。此外，这些具有导电性的这些金属氧化物粉末的体积电阻率为107Ω·cm以下，特别是为105Ω·cm以下。
此外，优选通过使用表面形成有凹凸的铸模辊(压花辊)的压花法设置具有凹凸的紫外线固化树脂层，将其作为防眩目层。
(防反射层)
本发明的光学膜优选在上述硬涂层上进一步设置防反射层作为功能性层。特别优选含有中空微粒的低折射率层。
(低折射率层)
本发明中使用的低折射率层优选含有中空微粒，更优选除此之外还含有硅醇盐、硅烷偶联剂、固化剂等。
<中空微粒>
低折射率层中优选含有下述中空微粒。
此处所称的中空微粒：(1)含有多孔性粒子和设置在该多孔性粒子表面上的被覆层的复合粒子、或(2)在内部具有空洞且内容物用溶剂、气体或多孔性物质填充而成的空洞粒子。而且，在低折射率层用涂布液中可以含有(1)复合粒子或(2)空洞粒子中的任意一方或双方。
而且，空洞粒子为内部具有空洞的粒子，空洞由粒壁包围而成。空洞内被制备时使用的溶剂、气体或多孔性物质等内容物填充。该无机微粒的平均粒径为5～300nm、优选为10～200nm。使用的无机微粒根据形成的透明被膜的厚度适当选择，优选是形成的低折射率层等透明被膜的膜厚的2/3～1/10。这些无机微粒为了形成低折射率层，优选以分散于适当的介质中的状态使用。作为分散介质，优选为水、醇(例如，甲醇、乙醇、异丙醇)和酮(例如，甲基乙基酮、甲基异丁基酮)、酮醇(例如二丙酮醇)。
复合粒子的被覆层的厚度或空洞粒子的粒子壁的厚度优选为1～20nm、更优选为2～15nm。在复合粒子的情况下，被覆层的厚度小于1nm时，有可能不能完全包覆粒子，有可能得不到充分的低折射率的效果。此外若被覆层的厚度超过20nm则复合粒子的多孔性(细孔容积)降低，有可能得不到充分的低折射率的效果。此外，在空洞粒子的情况下，粒子壁的厚度小于1nm时，有可能不能维持粒子形状，此外即使厚度超过20nm也有可能不能充分表现出低折射率的效果。
上述复合粒子的被覆层或空洞粒子的粒子壁优选以氧化硅作为主要成分。此外在复合粒子的被覆层或空洞粒子的粒子壁中可以含有氧化硅以外的成分，具体地说，可以举出Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等。作为构成复合粒子的多孔性粒子，可以举出含有氧化硅的粒子，含有氧化硅和氧化硅以外的无机化合物的粒子，含有CaF2、NaF、NaAlF6、MgF等的粒子。其中，特别优选为含有氧化硅和氧化硅以外的无机化合物的复合氧化物的多孔性粒子。作为氧化硅以外的无机化合物，可以举出Al2O3、B2O3、TiO2、ZrO2、SnO2、CeO2、P2O3、Sb2O3、MoO3、ZnO2、WO3等中的一种或两种以上。该多孔性粒子中，以SiO2表示氧化硅、以氧化物换算(MOx)表示氧化硅以外的无机化合物时的摩尔比MOx/SiO2优选为0.0001～1.0、更优选为0.001～0.3。难以得到多孔性粒子的摩尔比MOx/SiO2小于0.0001的粒子，即使得到也不表现出导电性。此外，若多孔性粒子的摩尔比MOx/SiO2超过1.0则由于氧化硅的比率减小，有可能得不到细孔容积小且折射率低的粒子
该多孔性粒子的细孔容积为0.1～1.5ml/g、优选为0.2～1.5ml/g。细孔容积小于0.1ml/g时不能得到折射率充分降低的粒子，若超过1.5ml/g则微粒的强度降低，得到的被膜的强度有可能降低。
而且，该多孔性粒子的细孔容积可以通过汞压入法求得。此外，作为空洞粒子的内容物，可以举出粒子制备时使用的溶剂、气体、多孔性物质等。溶剂中可以含有在空洞粒子制备时使用的粒子前体的未反应物、使用的催化剂等。此外，作为多孔性物质，可以举出含有上述多孔性粒子中举出的化合物的多孔性物质。这些内容物可以含有单一成分或为多种成分的混合物。
作为该无机微粒的制造方法，优选采用，例如日本特开平7-133105号公报的段落序号[0010]～[0033]中公开的复合氧化物胶体粒子的制备方法。具体地说，复合粒子含有氧化硅、氧化硅以外的无机化合物时，由以下的第1～第3步骤制备无机化合物粒子。
第1步骤：多孔性粒子前体的制备
第1步骤中，预先分别制备氧化硅原料和氧化硅以外的无机化合物原料的碱水溶液，或预先制备氧化硅原料和氧化硅以外的无机化合物原料的混合水溶液，将该水溶液根据目的的复合氧化物的复合比率，在搅拌的同时缓慢添加到pH10以上的碱水溶液中，制备多孔性粒子前体。
作为氧化硅原料，使用碱金属、铵或有机碱的硅酸盐。作为碱金属的硅酸盐，可使用硅酸钠(水玻璃)或硅酸钾。作为有机碱，可以举出四乙基铵盐等季铵盐，单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺等胺类。而且，铵的硅酸盐或有机碱的硅酸盐中也包括在硅酸液中添加氨、季铵氢氧化物、胺化合物等得到的碱性溶液。
此外，氧化硅以外的无机化合物的原料，可使用碱可溶的上述导电性化合物。
与这些水溶液的添加的同时混合水溶液的pH值在变化，但是不特别需要将该pH值控制在所规定的范围内的操作。最终，水溶液会根据无机氧化物的种类及其混合比率而成为确定的pH值。对此时的水溶液的添加速度不特别限定。此外，制备复合氧化物粒子时，可以将种粒子的分散液与起始原料一起使用。作为该种粒子，不特别限定，可使用SiO2、Al2O3、TiO2或ZrO2等无机氧化物或它们的复合氧化物的微粒，通常可以使用它们的溶胶。进一步也可以将通过上述制备方法得到的多孔性粒子前体分散液作为种子粒子分散液。使用种粒子分散液时，将种粒子分散液的pH调整为10以上后，在该种粒子分散液中将上述化合物的水溶液在搅拌的同时添加到上述碱水溶液中。此时不必进行分散液的pH的控制。如此操作，使用种子粒子时，则容易对制备的多孔性粒子的粒径进行控制，可以得到一致的粒度。
上述氧化硅原料和无机化合物原料在碱侧具有高溶解度。但是若在该溶解度大的pH区域将两者混合时，则硅酸离子和铝酸离子等含氧酸离子的溶解度降低，这些复合物析出，生长为微粒或在种子粒子上析出产生粒子生长。因此，微粒的析出、生长时，不必进行以往方法的pH控制。
第1步骤中的氧化硅和氧化硅以外的无机化合物的复合比率，将相对于氧化硅的无机化合物换算为氧化物(MOx)，MOx/SiO2的摩尔比为0.05～2.0，优选为0.2～2.0。在该范围内时，氧化硅的比率越少则多孔性粒子的细孔容积越大。但是，即使摩尔比超过2.0多孔性粒子的细孔容积也几乎不增加。另一方面，摩尔比小于0.05时，细孔容积减小。制备空洞粒子时，MOx/SiO2的摩尔比优选在0.25～2.0范围内。
第2步骤：除去来自多孔性粒子中的氧化硅以外的无机化合物
第2步骤中，从由上述第1步骤得到的多孔性粒子前体中选择性地除去氧化硅以外的无机化合物(硅和氧以外的元素)的至少一部分。作为具体的除去方法，使用矿物酸或有机酸溶解除去多孔性粒子前体中的无机化合物，或与阳离子交换树脂接触交换除去离子。
而且，由第1步骤得到的多孔性粒子前体，是硅和无机化合物构成元素通过氧键合而成的网眼结构的粒子。因此通过从多孔性粒子前体中除去无机化合物(硅和氧以外的元素)，则可得到一层多孔性且细孔容积大的多孔性粒子。此外，从多孔性粒子前体中除去无机氧化物(硅和氧以外的元素)的量越多则越可以制备空洞粒子。
此外，在从多孔性粒子前体中除去氧化硅以外的无机化合物之前，优选在由第1步骤得到的多孔性粒子前体分散液中添加将氧化硅的碱金属盐脱碱得到的硅酸液或水解性的有机硅化合物，形成氧化硅保护膜。氧化硅保护膜的厚度若为0.5～15nm的厚度即可。而且即使形成氧化硅保护膜，由于该步骤中的保护膜是多孔性且厚度薄的膜，所以可以从多孔性粒子前体中除去上述氧化硅以外的无机化合物。
通过形成该氧化硅保护膜，可以在保持粒子形状的状态下，从多孔性粒子前体中除去上述氧化硅以外的无机化合物。此外，在形成后述的氧化硅被覆层时，多孔性粒子的细孔不会被被覆层堵塞，因此细孔容积不降低而可以形成后述的氧化硅被覆层。而且，除去的无机化合物的量少时，由于粒子不被破坏，因此不必形成保护膜。
此外制备空洞粒子时，优选预先形成该氧化硅保护膜。制备空洞粒子时，除去无机化合物时，可得到含有氧化硅保护膜、该氧化硅保护膜内的溶剂、未溶解的多孔性固体成分的空洞粒子的前体，若在该空洞粒子的前体上形成后述的被覆层，则形成的被覆层形成粒子壁，从而形成空洞粒子。
为了形成上述氧化硅保护膜而添加的氧化硅源的量，在可以保持粒子形状的范围量少为优选。若氧化硅源的量过多则由于氧化硅保护膜过厚，有可能难以从多孔性粒子前体中除去氧化硅以外的无机化合物。作为氧化硅保护膜形成用中使用的水解性的有机硅化合物，可以使用通式RnSi(OR’)4-n[R、R’：烷基、芳基、乙烯基、丙烯酸基等烃基，n＝0、1、2或3]所示的烷氧基硅烷。特别优选使用四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷等四烷氧基硅烷。
作为添加方法，将向这些烷氧基硅烷、纯水和醇的混合溶液中添加作为催化剂的少量的碱或酸得到的溶液加入到上述多孔性粒子的分散液中，使烷氧基硅烷水解生成的硅酸聚合物沉积在无机氧化物粒子的表面上。此时可以同时向分散液中添加烷氧基硅烷、醇、催化剂。作为碱催化剂，可以使用氨、碱金属的氢氧化物、胺类。此外，作为酸催化剂，可以使用各种无机酸和有机酸。
多孔性粒子前体的分散介质，是单纯的水或水对于有机溶剂的比率高时，可以使用硅酸液形成氧化硅保护膜。使用硅酸液时，向分散液中添加所规定量的硅酸液，同时加入碱，使硅酸液沉积在多孔性粒子表面上。而且可以并用硅酸液和上述烷氧基硅烷而制造氧化硅保护膜。
第3步骤：氧化硅被覆层的形成
第3步骤中，通过向由第2步骤制备的多孔性粒子分散液(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体分散液)中加入水解性的有机硅化合物或硅酸液等，用水解性有机硅化合物或硅酸液等聚合物包覆粒子的表面而形成氧化硅被覆层。
作为氧化硅被覆层形成用中使用的水解性的有机硅化合物，可以使用上述通式RnSi(OR’)4-n[R、R’：烷基、芳基、乙烯基、丙烯酸基等烃基，n＝0、1、2或3]所示的烷氧基硅烷。特别优选使用四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷等四烷氧基硅烷。
作为添加方法，将向这些烷氧基硅烷、纯水和醇的混合溶液中添加作为催化剂的少量的碱或酸得到的溶液加入到上述多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)分散液中，使烷氧基硅烷水解生成的硅酸聚合物沉积在多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)的表面上。此时可以同时向分散液中添加烷氧基硅烷、醇、催化剂。作为碱催化剂，可以使用氨、碱金属的氢氧化物、胺类。此外，作为酸催化剂，可以使用各种无机酸和有机酸。
在多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)的分散介质，是单纯的水或与有机溶剂的混合溶剂，且水对于有机溶剂的比率高的混合溶剂的情况下，可以使用硅酸液形成被覆层。所述硅酸液，是对水玻璃等碱金属硅酸盐的水溶液进行离子交换处理而脱碱得到的硅酸的低聚合物的水溶液。
将硅酸液添加到多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)分散液中，同时加入碱使硅酸低聚合物沉积在多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)表面上。而且，可以将硅酸液与上述烷氧基硅烷并用而用于被覆层形成用途。被覆层形成用途中使用的有机硅化合物或硅酸液的添加量只要可以充分覆盖胶体粒子表面的程度即可，以使最终得到的氧化硅被覆层的厚度为1～20nm的量添加到多孔性粒子(空洞粒子的情况下为空洞粒子前体)分散液中。此外，形成上述氧化硅保护膜时，以使氧化硅保护膜和氧化硅被覆层的总厚度为1～20nm的量添加有机硅化合物或硅酸液。
接着，对形成有被覆层的粒子的分散液进行加热处理。通过加热处理，多孔性粒子的情况下，包覆多孔性粒子表面的氧化硅被覆层致密化，得到多孔性粒子被氧化硅被覆层包覆的复合粒子的分散液。此外，空洞粒子前体的情况下，形成的被覆层致密化形成空洞粒子壁，得到内部被溶剂、气体或多孔性固体成分填充的具有空洞的空洞粒子的分散液。
此时的加热处理温度只要是可以堵塞氧化硅被覆层的微细孔的程度即可，不特别限定，优选为80～300℃。加热处理温度小于80℃时，有可能不能完全堵塞氧化硅被覆层的微细孔进行致密化，此外处理时间有可能需要长时间。此外若热处理温度超过300℃进行长时间处理则有可能形成致密的粒子，但有可能得不到低折射率的效率。
如此得到的无机微粒的折射率低至小于1.44。该无机微粒由于保持多孔性粒子内部的多孔性或内部为空洞，故可推测折射率降低。
在本发明中使用低折射率层中除了中空微粒之外，优选含有烷氧基硅化合物的水解物以及通过随后的缩合反应形成的缩合物。特别优选含有调整了下述通式(3)和/或(4)所示的烷氧基硅化合物或其水解物得到的SiO2溶胶。
通式(3)R1-Si(OR2)3
通式(4)Si(OR2)4
(式中，R1表示甲基，乙基，乙烯基，或含有丙烯酰基、甲基丙烯酰基、氨基或环氧基的有机基团，R2表示甲基或乙基)
硅醇盐、硅烷偶联剂的水解，是将硅醇盐、硅烷偶联剂溶解在适当的溶剂中进行的。作为使用的溶剂，可以举出例如，甲基乙基酮等酮类，甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇等醇类，乙酸乙酯等酯类，或它们的混合物。
向将上述硅醇盐或硅烷偶联剂溶解在溶剂中得到的溶液中，加入比水解所需要的量稍多量的水，在15～35℃、优选20℃～30℃的温度下进行搅拌1～48小时、优选3～36小时。
上述水解中，优选使用催化剂，作为该催化剂优选使用盐酸、硝酸、硫酸或乙酸等酸。这些酸制成0.001N～20.0N、优选0.005～5.0N左右的水溶液使用。该催化剂水溶液中的水分可以作为水解用的水分。
使烷氧基硅化合物进行规定时间的水解反应，将制备的烷氧基硅水解液用溶剂稀释，混合必要的其它的添加剂等，制备低折射率层用涂布液，将其涂布在基材例如膜上，进行干燥，由此可以在基材上形成低折射率层。
<烷氧基硅化合物>
本发明中，作为低折射率层涂布液的制备中使用的烷氧基硅化合物(以下也称为烷氧基硅烷)，优选下述通式(5)所示的化合物。
通式(5)R4-nSi(OR’)n
上述通式中，R’为烷基，R表示氢原子或1价取代基，n表示3或4。
作为R’所示的烷基，可以举出甲基、乙基、丙基、丁基等基团，可以具有取代基，作为取代基，只要能表现出作为烷氧基硅烷的性质的取代基则不特别限定，例如可以被氟等卤原子、烷氧基等取代，但是更优选为非取代的烷基，特别优选为甲基、乙基。
作为R所示的1价取代基，不特别限定，可以举出例如，烷基、环烷基、链烯基、芳基、芳族杂环基、甲硅烷基等。其中优选的是烷基、环烷基、链烯基。此外它们可以进一步被取代。作为R的取代基，可以举出氟原子、氯原子等卤原子，氨基，环氧基，巯基，羟基，乙酰氧基等。
作为上述通式所示的烷氧基硅烷的优选例子，具体地说，可以举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷(TEOS)、四正丙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四(甲氧基乙氧基)硅烷、四(甲氧基丙氧基)硅烷，
此外可以举出甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、正丁基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、2-(3，4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、乙酰氧基三乙氧基硅烷、(十七氟-1，1，2，2-四氢癸基)三甲氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、(3，3，3-三氟丙基)三甲氧基硅烷、五氟苯基丙基三甲氧基硅烷，进一步可以举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷等。
此外可以是这些化合物部分缩合得到的多摩化学制硅酸酯(Silicate，シリケ一ト)40、硅酸酯(Silicate，シリケ一ト)45、硅酸酯(Silicate，シリケ一ト)48、M硅酸酯(Silicate，シリケ一ト)51等低聚物的硅化合物。
上述烷氧基硅烷，由于具有可以水解缩聚的硅醇盐基，故通过将这些烷氧基硅烷水解、缩合，进行交联，形成高分子化合物的网络结构，将其用作低折射率层涂布液，涂布在基材上，进行干燥，由此在基材上形成含有均一的氧化硅的层。
水解反应可以通过公知的方法进行，使所规定量的水与甲醇、乙醇、乙腈等亲水性的有机溶剂共存，进行溶解混合以使疏水的烷氧基硅烷与水易混合后，添加水解催化剂，将烷氧基硅烷水解、缩合。通常通过在10℃～100℃下进行水解、缩合反应，生成具有2个以上羟基的液态的硅酸酯低聚物，形成水解液。水解的程度可以通过使用的水的量适当调节。
本发明中，作为在烷氧基硅烷中与水一起添加的溶剂，甲醇、乙醇由于廉价，且得到的涂膜的特性优异、硬度优异而优选。也可以使用异丙醇、正丁醇、异丁醇、辛醇等，但是得到的涂膜的硬度有降低的趋势。溶剂量相对于水解前的四烷氧基硅烷100质量份，为50～400质量份，优选为100～250质量份。
如此操作制备水解液，将其通过溶剂稀释，根据需要添加添加剂，与形成低折射率层涂布液所需要的成分混合，制成低折射率层涂布液。
<水解催化剂>
作为水解催化剂，可以举出酸、碱、有机金属、金属醇盐等，但是本发明中优选为硫酸、盐酸、硝酸、次氯酸、硼酸等无机酸或有机酸，特别优选硝酸、乙酸等羧酸、聚丙烯酸、苯磺酸、对甲苯磺酸、甲磺酸等，其中特别优选使用硝酸、乙酸、柠檬酸或酒石酸等。除了上述柠檬酸或酒石酸之外，还优选使用乙酰丙酸、甲酸、丙酸、苹果酸、琥珀酸、甲基琥珀酸、富马酸、草醋酸、丙酮酸、2-酮戊二酸、乙醇酸、D-甘油酸、D-葡萄糖酸、丙二酸、马来酸、草酸、异柠檬酸、乳酸等。
其中，优选干燥时酸挥发而是不残留在膜中的水解催化剂，可以是沸点低的水解催化剂。因此，特别优选为乙酸、硝酸。
添加量，相对于使用的烷氧基硅化合物(例如四烷氧基硅烷)100质量份，为0.001～10质量份，优选为0.005～5质量份。此外，对于水的添加量，只要能部分水解物可以理论上100％水解的量以上即可，添加相当于100～300％的量，优选添加相当于100～200％的量。
将上述烷氧基硅烷水解时，优选混合下述无机微粒。
开始水解后，放置水解液所规定时间使水解进行至所规定的程度后来使用。放置的时间为上述水解后，通过缩合导致的交联进行到得到所期望的膜特性所需要的充分程度的时间。具体地说，虽然依赖于使用的酸催化剂的种类，但是例如，对于乙酸，室温下优选为15小时以上，对于硝酸优选为2小时以上。熟化温度对熟化时间有影响，通常高温下熟化进行的快，但是由于加热至100℃以上时则产生凝胶化，所以20～60℃的加热、保温是适当的。
向通过如此水解、缩合形成的硅酸酯低聚物溶液中加入上述中空微粒、添加剂，并进行必要的稀释，可制备低折射率层涂布液，将其涂布在上述膜上，进行干燥，由此可以形成含有优异的氧化硅膜的层作为低折射率层。
此外，本发明中，除了上述烷氧基硅烷之外，例如可以是通过具有环氧基、氨基、异氰酸酯基、羧基等官能团的硅烷化合物(单体、低聚物、聚合物)等改性得到的改性物，可以单独使用或并用。
<氟化合物>
本发明中使用的低折射率层可以含有氟化合物作为主要成分，特别优选含有中空微粒和氟化合物。作为粘合剂基质，优选含有通过热或电离放射线交联的含氟树脂(以下也称为“交联前的含氟树脂”)。通过含有该含氟树脂，可以提供优异的防污性防反射膜。
作为交联前的含氟树脂，优选为由含氟乙烯基单体和用于赋予交联性基团的单体形成的含氟共聚物。作为上述含氟乙烯基单体单元的具体例子，可以举出例如，氟烯烃类(例如，氟乙烯、偏二氟乙烯、四氟乙烯、六氟乙烯、六氟丙烯、全氟-2，2-二甲基-1，3-二氧环戊烯等)、(甲基)丙烯酸的部分或完全氟化烷基酯衍生物类(例如，Viscoat(ビスコ一ト)6FM(大阪有机化学制)或M-2020(大金制)等)、完全或部分氟化乙烯基醚类等。作为用于赋予交联性基团的单体，除了甲基丙烯酸缩水甘油酯、乙烯基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基缩水甘油基醚等分子内预先具有交联性官能团的乙烯基单体之外，还可以举出具有羧基、羟基、氨基、磺酸基等的乙烯基单体(例如，(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸羟甲基酯、(甲基)丙烯酸羟基烷基酯、丙烯酸烯丙基酯、羟基烷基乙烯基醚、羟基烷基烯丙基醚等)。后者通过在共聚后，加入具有与聚合物中的官能团反应的基团和另外一个以上的反应性基团的化合物，可以导入交联结构的单体在日本特开平10-25388号、日本特开平10-147739号中有记载。交联性基团的例子中，可以举出丙烯酰基、甲基丙烯酰基、异氰尿酸酯基、环氧基、氮丙啶基、噁唑啉基、醛基、羰基、肼基、羧基、羟甲基和活性亚甲基等。含氟共聚物，通过加热而进行反应的交联基团、或乙烯性不饱和基团与热自由基产生剂或环氧基与热酸发生剂等组合，由此则通过加热而进行交联时是热固化型，通过乙烯性不饱和基团与光自由基产生剂或环氧基与光酸发生剂等组合，并通过光(优选为紫外线、电子束等)的照射进行交联时则是电离放射线固化型。
此外除了上述单体之外，也可以使用并用含氟乙烯基单体和用于赋予交联性基团的单体以外的单体形成的含氟共聚物作为交联前的含氟树脂。作为可以并用的单体，不特别限定，可以举出例如，烯烃类(乙烯、丙烯、异戊二烯、氯化乙烯、偏二氯乙烯等)、丙烯酸酯类(丙烯酸甲酯、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸2-乙基己酯)、甲基丙烯酸酯类(甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丁酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯等)、苯乙烯衍生物(苯乙烯、二乙烯基苯、乙烯基甲苯、α-甲基苯乙烯等)、乙烯基醚类(甲基乙烯基醚等)、乙烯基酯类(乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、肉桂酸乙烯酯等)、丙烯酰胺类(N-叔丁基丙烯酰胺、N-环己基丙烯酰胺等)、甲基丙烯酰胺类、丙烯腈衍生物等。此外，在含氟共聚物中，为了赋予光滑性、赋予防污性，优选导入聚有机硅氧烷骨架、全氟聚醚骨架。其例如通过末端具有丙烯酸基、甲基丙烯酸基、乙烯基醚基、苯乙烯基等的聚有机硅氧烷或全氟聚醚与上述单体的聚合，利用末端具有自由基产生基的聚有机硅氧烷或全氟聚醚进行的上述单体的聚合，具有官能团的聚有机硅氧烷或全氟聚醚与含氟共聚物的反应等而得到。
对于为了形成交联前的含氟共聚物而使用的上述各单体的使用比率，含氟乙烯基单体优选为20～70摩尔％，更优选为40～70摩尔％，用于赋予交联性基团的单体优选为1～20摩尔％，更优选为5～20摩尔％，并用的其它的单体优选为10～70摩尔％，更优选为10～50摩尔％的比率。
含氟共聚物可以通过将这些单体在自由基聚合引发剂的存在下，用溶液聚合、本体聚合、乳液聚合、悬浮聚合法等方法聚合来得到。
交联前的含氟树脂，可以使用市售品。作为市售的交联前的含氟树脂的例子，可以举出Cytop(サイトツプ)(旭硝子制)、Teflon(テフロン)(注册商标)AF(杜邦(Du Pont，デユポン)制)、聚偏二氟乙烯、Lumiflon(ルミフロン)(旭硝子制)、Opstar(オプスタ一)(JSR制)等。
以交联的含氟树脂作为构成成分的低折射率层优选动磨擦系数为0.03～0.15，对于水的接触角为90～120度。
<添加剂>
在低折射率层涂布液中根据需要可以进一步含有硅烷偶联剂、固化剂等添加剂。硅烷偶联剂，具体地说，可以举出乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基丙基)三甲氧基硅烷等。
作为固化剂，可以举出乙酸钠、乙酸锂等有机酸金属盐，特别优选为乙酸钠。对于硅烷氧基硅烷水解溶液的添加量，相对于存在于水解溶液中的固体成分100质量份，优选为0.1～1质量份左右。
此外，在本发明中使用的低折射率层的涂布液中优选添加各种流平剂(リベリング)、表面活性剂、硅油等低表面张力物质。
作为硅油，作为具体的商品，可以举出日本UNICAR(ユニカ一)(株)社的L-45、L-9300、FZ-3704、FZ-3703、FZ-3720、FZ-3786、FZ-3501、FZ-3504、FZ-3508、FZ-3705、FZ-3707、FZ-3710、FZ-3750、FZ-3760、FZ-3785、FZ-3785、Y-7499，信越化学社的KF96L、KF96、KF96H、KF99、KF54、KF965、KF968、KF56、KF995、KF351、KF352、KF353、KF354、KF355、KF615、KF618、KF945、KF6004、FL100等。
此外，优选使用下表1中记载的表面活性剂。这些表面活性剂液可以用于上述硬涂层中。
[表1]
  制造商   型号   制造商   型号
  BYK·Japan(株)   BYK300   BYK·Japan(株)   BYK UV3500
  BYK·Japan(株)   BYK301   BYK·Japan(株)   BYK UV3510
  BYK·Japan(株)   BYK302   BYK·Japan(株)   BYK UV3530
  BYK·Japan(株)   BYK306   BYK·Japan(株)   BYK UV3570
  BYK·Japan(株)   BYK307   BYK·Japan(株)   BYK Silclean3700
  BYK·Japan(株)   BYK308   BYK·Japan(株)   BYK Dynwet800
  BYK·Japan(株)   BYK310   日本尤尼卡(株)   FZ2207
  BYK·Japan(株)   BYK315   日本尤尼卡(株)   FZ2222
  BYK·Japan(株)   BYK320   GE东芝Silicone(株)   TSF4440
  BYK·Japan(株)   BYK322   GE东芝Silicone(株)   TSF4460
  BYK·Japan(株)   BYK323   GE东芝Silicone(株)   XC96-723
  BYK·Japan(株)   BYK325   GE东芝Silicone(株)   YF3800
  BYK·Japan(株)   BYK330   GE东芝Silicone(株)   XF3905
  BYK·Japan(株)   BYK331   GE东芝Silicone(株)   YF3057
  BYK·Japan(株)   BYK333   (株)NEOS   Ftergent251
  BYK·Japan(株)   BYK333   (株)NEOS   Ftergent 212MH
  BYK·Japan(株)   BYK333   (株)NEOS   Ftergent 250
  BYK·Japan(株)   BYK333   (株)NEOS   Ftergent 222F
  BYK·Japan(株)   BYK333   (株)NEOS   Ftergent 212D
  BYK·Japan(株)   BYK335   (株)NEOS   FTX-218
  BYK·Japan(株)   BYK337   (株)NEOS   Ftergent 300
  BYK·Japan(株)   BYK340   (株)NEOS   Ftergent 310
  BYK·Japan(株)   BYK341   (株)NEOS   Ftergent 320
  BYK·Japan(株)   BYK344   (株)NEOS   FTX-209F
  BYK·Japan(株)   BYK345   (株)NEOS   FTX-245F
  BYK·Japan(株)   BYK346   (株)NEOS   FTX-218G
  BYK·Japan(株)   BYK347   大日本油墨(株)   MegafuckF-470
  BYK·Japan(株)   BYK348   大日本油墨(株)   MegafuckF-479
  BYK·Japan(株)   BYK350   大日本油墨(株)   MegafuckF-482
  BYK·Japan(株)   BYK352   大日本油墨(株)   MegafuckF-483
  BYK·Japan(株)   BYK354   大日本油墨(株)   DefensaMCF-350SF
  BYK·Japan(株)   BYK355   共荣社化学(株)   PolyflowNo.75
  BYK·Japan(株)   BYK356   共荣社化学(株)   PolyflowNo.77
  BYK·Japan(株)   BYK357   共荣社化学(株)   PolyflowNo.90
  BYK·Japan(株)   BYK358N   共荣社化学(株)   GLANOL410
  BYK·Japan(株)   BYK359   共荣社化学(株)   GLANOL 440
  BYK·Japan(株)   BYK361N   共荣社化学(株)   GLANOL 450
  BYK·Japan(株)   BYK370   共荣社化学(株)   FLOWLEN DOPA-33
  BYK·Japan(株)   BYK375   共荣社化学(株)   Polyflow KL-600
  BYK·Japan(株)   BYK377   SEIMICHEMICAL(株)   サ一フロンS-386
  BYK·Japan(株)   BYK380N   花王(株)   ELEC一EA
  BYK·Japan(株)   BYK381   花王(株)   HOMOGENOL L-18
  BYK·Japan(株)   BYK390   花王(株)   AMIET302
  BYK·Japan(株)   BYK392
这些成分提高对基材或下层的涂布性。在层压体最表面层添加时，不仅提高涂膜的防水、防油性、防污性，而且对表面的耐擦伤性也发挥效果。这些成分由于若添加量过多则涂布时成为出现凹陷的原因，故相对于涂布液中的固体成分优选添加0.01～3质量％。
<有机溶剂>
涂布设置低折射率层时的涂布液中使用的溶剂，可以举出甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇、丁醇等醇类，丙酮、甲基乙基酮、环己酮等酮类，苯、甲苯、二甲苯等芳族烃类，乙二醇、丙二醇、己二醇等二元醇类，乙基溶纤剂、丁基溶纤剂、乙基卡必醇、丁基卡必醇、二乙基溶纤剂、二乙基卡必醇、丙二醇单甲基醚等二元醇醚类，N-甲基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、乳酸甲酯、乳酸乙酯、乙酸甲酯、乙酸乙酯等，它们可以单独或2种以上混合使用，也可以含有水。
<涂布方法>
作为低折射率层的涂布方法，可以使用浸涂、旋涂、刀涂布、棒涂、气刮刀涂布、刮刀涂布、挤压涂布、逆辊涂布、照相凹版辊涂布、帘涂、喷涂、口模涂等公知的涂布方法或公知的喷墨法，优选使用可以连续涂布或薄膜涂布的涂布方法。涂布量，对于湿膜厚为0.1～30μm是适当的，优选为0.5～15μm。涂布速度优选为10～80m/min。
将本发明的组合物涂布在基材上时，通过调整涂布液中的固体成分浓度或涂布量，可以对层的膜厚和涂布均一性等进行控制。
本发明中，优选进一步设置下述中折射率层、高折射率层，形成具有多层的防反射层。
本发明中可以使用的防反射层的结构例子如下所示，但是不限于此。
长膜/硬涂层/低折射率层
长膜/硬涂层/中折射率层/低折射率层
长膜/硬涂层/高折射率层/低折射率层
长膜/硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
长膜/抗静电层/硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
长膜/硬涂层/抗静电层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
抗静电层/长膜/硬涂层/中折射率层/高折射率层/低折射率层
长膜/硬涂层/高折射率层/低折射率层/高折射率层/低折射率层
(中折射率层、高折射率层)
中折射率层、高折射率层，只要能得到所规定的折射率层则对构成成分不特别限定，但是优选含有下述折射率高的金属氧化物粒子、粘合剂等。除此之外也可以含有添加剂。中折射率层的折射率优选为1.55～1.75，高折射率层的折射率优选为1.75～2.20。高折射率层和中折射率层的厚度优选为5nm～1μm，进一步优选为10nm～0.2μm，最优选为30nm～0.1μm。涂布可以与上述低折射率层的涂布方法同样地进行。
<金属氧化物微粒>
对金属氧化物微粒不特别限定，例如可以使用二氧化钛、氧化铝(alumina)、氧化锆(zirconia)、氧化锌、锑掺杂氧化锡(ATO)、五氧化锑、氧化铟-锡(ITO)、氧化铁等作为主要成分。此外可以为它们的混合物。使用二氧化钛时，使用具有以二氧化钛为芯，用作为壳的氧化铝、氧化硅、氧化锆、ATO、ITO、五氧化锑等包覆的具有芯/壳结构的金属氧化物粒子，从控制光催化剂活性方面考虑为优选。
金属氧化物微粒的折射率优选为1.80～2.60，进一步优选为1.90～2.50。金属氧化物微粒的一次粒子的平均粒径为5nm～200nm，但是进一步优选为10～150nm。若粒径过小则金属氧化物微粒易凝聚，分散性变差。若粒径过大则雾度上升而不优选。无机微粒的形状优选为米粒状、针状、球形状、立方体状、纺锤形状或不定形状。
金属氧化物微粒也可以通过有机化合物进行表面处理。表面处理中使用的有机化合物的例子包括多元醇、烷醇胺、硬脂酸、硅烷偶联剂和钛酸酯偶联剂。其中，最优选为后述的硅烷偶联剂。可以组合物二种以上的表面处理。
通过适当选择金属氧化物的种类、添加比率，可以得到具有所期望的折射率的高折射率层、中折射率层。
<粘合剂>
粘合剂是为了提高涂膜的成膜性或物理特性而添加的。作为粘合剂，例如可以使用上述电离放射线固化型树脂、丙烯酰胺衍生物、多官能丙烯酸酯、丙烯酸树脂或甲基丙烯酸树脂等。
(金属化合物、硅烷偶联剂)
作为其它的添加剂，可以添加金属化合物、硅烷偶联剂等。金属化合物、硅烷偶联剂可以用作粘合剂。
作为金属化合物，可以使用下述通式(6)所示的化合物或其螯合化合物。
通式(6)：AnMBx-n
式中，M表示金属原子，A表示可以水解的官能团或具有可以水解的官能团的烃基，B表示与金属原子M共价键合或离子键合的原子团。x表示金属原子M的原子价，n表示2～x的整数。
作为可以水解的官能团A，可以举出例如，烷氧基、氯原子等卤原子、酯基、酰胺基等。属于上式(6)的金属化合物含有具有2个以上的与金属原子直接键合的烷氧基的醇盐或其螯合化合物。作为优选的金属化合物，从折射率或涂膜强度的增强效果、操作容易、材料成本等方面考虑，可以举出钛醇盐、锆醇盐、硅醇盐或它们的螯合化合物。钛醇盐的反应速度快、折射率高、操作容易，但是由于具有光催化剂作用故大量添加时则耐光性变差。锆醇盐虽然折射率高但是由于易混浊，必须注意涂布时的露点管理等。硅醇盐虽然反应速度慢、折射率低但是操作容易，耐光性优异。硅烷偶联剂由于可以与无机微粒和有机聚合物两者反应，故可以制造强韧的涂膜。此外，钛醇盐由于具有促进紫外线固化树脂、金属醇盐的反应的效果，即使仅少量添加也可以提高涂膜的物理特性。
作为钛醇盐，可以举出，例如四甲氧基钛、四乙氧基钛、四异丙氧基钛、四正丙氧基钛、四正丁氧基钛、四仲丁氧基钛、四叔丁氧基钛等。
作为锆醇盐，可以举出，例如四甲氧基锆、四乙氧基锆、四异丙氧基锆、四正丙氧基锆、四正丁氧基锆、四仲丁氧基锆、四叔丁氧基锆等。
硅醇盐和硅烷偶联剂为下述通式(7)所示的化合物。
通式(7)：RmSi(OR’)n
式中，R表示烷基(优选碳原子数为1～10的烷基)、或乙烯基、(甲基)丙烯酰基、环氧基、酰胺基、磺酰基、羟基、羧基、烷氧基等反应性基，R’表示烷基(优选碳原子数为1～10的烷基)，m+n为4。
具体地说，可以举出四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四(五乙氧基)硅烷(テトラペンタエトキシシラン)、甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-(2-氨基乙基氨基丙基)三甲氧基硅烷等。
作为优选与游离的金属化合物配位形成螯合化合物的螯合化剂，可以举出二乙醇胺、三乙醇胺等烷醇胺类，乙二醇、二乙二醇、丙二醇等二元醇类，乙酰基丙酮、乙酰乙酸乙酯等的分子量1万以下的螯合化剂。通过使用这些螯合化剂，可以形成对于水分的混入等稳定的、涂膜的增强效果也优异的螯合化合物。
金属化合物的添加量，在中折射率组合物中换算为金属氧化物，优选小于5质量％，在高折射率组合物中换算为金属氧化物，优选小于20质量％。
中折射率层和高折射率层优选使用上述低折射率层中记载的各种流平剂、表面活性剂、硅油等低表面张力物质、有机溶剂、涂布方法。
本发明的防反射层至少一层使用含有低表面张力物质和有机溶剂的防反射层涂布液，并通过上述涂布方法形成时是特别有效的，防反射层的全部层使用含有低表面张力物质和有机溶剂的防反射层涂布液，并通过上述涂布方法形成时是极其有效的。
(偏振片)
本发明的光学膜作为偏振片保护膜是有用的，该偏振片可以通过通常的方法制造。优选对本发明的光学膜的背面侧进行碱皂化处理，然后使用完全皂化型聚乙烯醇水溶液贴合到在碘溶液中浸渍拉伸制造的偏振膜的至少一面上。在另一面上可以使用该光学膜也可以使用其它的偏振片保护膜。也优选使用市售的纤维素酯膜(例如，柯尼卡美能达(コニカミノルタタツク)KC8UX、KC4UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UY、KC4UY、KC12UR、KC8UCR-3、KC8UCR-4、KC8UCR-5、以上是柯尼卡美能达精密仪器(コニカミノルタオプト)(株)制)。对于本发明的光学膜，在另一面上使用的偏振片保护膜优选具有面内延迟值Ro在590nm下为30～300nm，Rt为70～400nm的相位差。它们例如可以使用日本特开2002-71957、日本特开2003-170492记载的方法制造。此外，优选使用采用日本特开2003-12859记载的方法制造的延迟值Ro、Rt分别为0nm≤Ro≤15、-15nm≤Rt≤15nm的偏振片保护膜。或优选使用兼备具有进一步使盘状液晶等液晶化合物取向形成的光学各向异性层的光学补偿膜的偏振片保护膜。例如可以用日本特开2003-98348中记载的方法形成光学各向异性层。通过与本发明的光学膜组合使用，可以得到平面性优异、具有稳定的视场角扩大效果的偏振片。
作为偏振片的主要构成要素的偏振膜是只通过一定方向的偏振面的光的元件，现在已知的代表性的偏振膜有聚乙烯醇类偏振膜，其有对聚乙烯醇类膜用碘染色得到的偏振膜和用二色性染料染色得到的偏振膜。偏振膜可以使用将聚乙烯醇水溶液制膜、将其单轴拉伸并进行染色、或染色后进行单轴拉伸后，优选用硼化合物进行耐久性处理得到的偏振膜。偏振膜的膜厚优选为5～30μm，特别优选为10～20μm。
此外，也优选使用日本特开2003-248123号公报、日本特开2003-342322号公报等中记载的乙烯单元的含量为1～4摩尔％、聚合度为2000～4000、皂化度为99.0～99.99摩尔％的乙烯改性聚乙烯醇。其中，优选使用热水切断温度为66～73℃的乙烯改性聚乙醇膜。此外，膜的TD方向距离5cm的二点间的热水切断温度差为1℃以下在降低色斑方面进一步优选，进一步地，膜的TD方向距离1cm的二点间的热水切断温度差为0.5℃以下在降低色斑方面进一步优选，
使用了该乙烯改性聚乙烯醇膜的偏振膜不仅偏振光性能和耐久性能优异而且色斑少，特别优选用于大型液晶显示装置中。
如此得到的偏振膜通常在其两面或一面上贴合偏振片保护膜作为偏振片使用。作为贴合时使用的粘合剂，可以举出PVA类粘合剂或聚氨酯类粘合剂等，其中优选使用PVA类粘合剂。
(显示装置)
通过将使用本发明的光学膜的偏振片组装到显示装置中，可以制造各种视认性优异的显示装置。本发明的光学膜优选用于反射型、透射型、半透射型LCD或TN型、STN型、OCB型、HAN型、VA型(PVA型、MVA型)、IPS型等各种驱动方式的LCD中。此外，本发明的光学膜的平面性优异，优选用于等离子体显示器、场发射显示器、有机EL显示器、无机EL显示器、电子纸(电子ペ-パ-)等各种显示装置中。特别是在画面为30型(英寸)以上、特别是30～54寸的大画面显示装置中，在画面周边部无亮点(白拔け)等，其效果得到长期维持，在MVA型液晶显示装置中，确认显著的效果。特别是本发明的目的的颜色不均、晃眼或起伏不均少，具有即使长时间欣赏眼睛也不疲惫的效果。
实施例
以下举出实施例对本发明进行具体说明，但是本发明不被它们所限定。
实施例1
<纤维素酯膜1的制造>
(二氧化硅分散液A)
Aerosil972V(日本Aerosil(株)制)         12质量份
(一次粒子的平均径16nm。表观比重90g/L)
乙醇                                   88质量份
将以上原料用溶解器搅拌混合30分钟后，用マントンゴ一リン进行分散。分散后的液体浊度为200ppm。向二氧化硅分散液中在搅拌的同时投入88质量份的二氯甲烷，用溶解器搅拌混合30分钟，制备二氧化硅分散稀释液A。
(在线添加液A的制备)
TINUVIN(チヌビン)109(Ciba Specialty Chemicals(チバスペシヤルテイケミカルズ)(社)制)                                    11质量份
TINUVIN(チヌビン)109(Ciba Specialty Chemicals(チバスペシヤルテイケミカルズ)(社)制)                                    5质量份
二氯甲烷                                          100质量份
将以上原料投入到密闭容器中，进行加热、搅拌的同时完全溶解，进行过滤。
边搅拌边向其中加入36质量份的二氧化硅分散稀释液A，进一步搅拌30分钟后，边搅拌边加入纤维素乙酸酯丙酸酯(乙酰基取代度1.9、丙酰基取代度0.8)6质量份，进一步搅拌60分钟后，用Aduantech(アドバンテツク)东洋(株)的Polypropylene Wound Cartridge Filter(ポリプロピレンワインドカ一トリツジフイルタ一)TCW-PPS-1N进行过滤，制备在线添加液A。
(胶浆液A的制备)
纤维素酯(由棉绒合成的纤维素三乙酸酯、Mn＝148000、Mw＝310000、Mw/Mn＝2.1、乙酰基取代度＝2.92)                   100质量份
三羟甲基丙烷三苯甲酸酯                        5.0质量份
乙基酞酰基乙基乙醇酸酯                        5.5质量份
二氯甲烷                                      440质量份
乙醇                                          40质量份
将以上原料投入到密闭容器中，进行加热、搅拌的同时完全溶解，使用安积滤纸(株)制的安积滤纸No.24进行过滤，制备胶浆液A。
在制膜在线中用日本精线(株)制的Finmet(フアインメツト)NF过滤胶浆液A。在在线添加液流水线中，用日本精线(株)制的Finmet(フアインメツト)NF过滤在线添加液A。对于过滤的胶浆液A 100质量份，以3质量份的比率加入过滤的在线添加液A，用在线混合机(东丽静止型管内混合机Hi-Mixer、SWJ)充分混合，接着使用带流延装置，在温度32℃、1.8m宽度的条件下均一地在不锈钢带支撑体上流延。在不锈钢带支撑体上，蒸发溶剂直至残留溶剂量为100％，从不锈钢带支撑体上剥离。对剥离的纤维素酯的片料在35℃下蒸发溶剂，切割成1.65m宽，然后用拉幅机在TD方向(与膜的搬运方向垂直的方向)上拉伸至1.05倍的同时在135℃的干燥温度下进行干燥。此时用拉幅机开始拉伸时的残留溶剂量为20％。
然后，用多根辊经过120℃、110℃的干燥区边进行搬运边结束干燥，切割成1.4m宽，对膜两端实施宽1cm、平均高度8μm的压花加工，以卷取初期张力220N/m、终张力110N/m卷取到内径6英寸芯轴上，得到纤维素酯膜1。由不锈钢带支撑体的旋转速度和拉幅机的运转速度算出的刚剥离之后的MD方向(与膜的搬运方向为同一方向)的拉伸倍率为1.07倍。纤维素酯膜1的平均膜厚为60μm、卷数为3000m。
<通过弹性体磨擦膜面的处理>
使用上述制造的纤维素酯膜1，通过喷雾嘴用液体润湿膜面、再通过弹性体以下述方法进行磨擦膜面的处理。
使用图1所示的膜搬运装置，在表2所示的条件下，通过喷雾嘴用液体润湿膜面，通过弹性体1磨擦长膜的一面。
以下对表2记载的条件以及使用的装置进行具体说明。
<膜搬运速度>
纤维素酯膜1以15m/分钟的速度进行搬运。
<通过喷雾得到的液滴的附着量>
使用图8所示的喷雾嘴装置，在下述条件下使液滴(纯水)附着在膜上。
使用喷雾嘴：Spraying System Unijet(スプレ一イングシステムジヤパンUnijet)
条件1.在附着量1g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用两根喷雾压力0.3MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为1000mm。
条件2.在附着量20g/m2、液滴径5μm的情况下：在宽度方向上使用两根喷雾压力2MPa、流量250g/分钟、喷雾喷射角形成120度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为400mm。
条件3.在附着量20g/m2、液滴径6000μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.05MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成50度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为400mm。
条件4.在附着量120g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力1MPa、流量600g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为240mm。
条件5.在附着量50g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.3MPa、流量250g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为240mm。
条件6.在附着量70g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.3MPa、流量300g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为240mm。
条件7.在附着量20g/m2、液滴径1000μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.2MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成70度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为300mm。
条件8.在附着量20g/m2、液滴径3000μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.1MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成60度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为320mm。
条件9.在附着量3g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.3MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为900mm。
条件10.在附着量100g/m2、液滴径300μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.3MPa、流量500g/分钟、喷雾喷射角形成90度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为270mm。
条件11.在附着量20g/m2、液滴径10μm的情况下：在宽度方向上使用两根喷雾压力1.5MPa、流量250g/分钟、喷雾喷射角形成120度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为390mm。
条件12.在附着量20g/m2、液滴径5000μm的情况下：在宽度方向上使用五根喷雾压力0.15MPa、流量100g/分钟、喷雾喷射角形成65度的喷雾嘴，将搬运的长膜和喷雾嘴的距离设定为300μm。
多个喷雾嘴的流量分布使用图11的装置用下述方法测定。
(流量分布的测定)
使用如图11所示在喷雾嘴下设置宽度1300mm的水槽的装置。水槽内部设置壁以分成27个区域。由于端部的流量有减少的趋势，故通过挡板进行设置以直至端部形成均一的流量。向各喷嘴在水压0.3MPa、流量0.13L/分/根的条件下供给10分钟水，然后测定在水槽内的各区域存积的水的质量。结果流量分布为±1％。
<与弹性体的接触时间：磨擦时间>
条件T1.与弹性体的接触时间为0.035秒时设定弹性体直径为200mm、搭接角为5度。
条件T2.与弹性体的接触时间为0.52秒时设定弹性体直径为200mm、搭接角为75度。
条件T3.与弹性体的接触时间为2.3秒时设定弹性体直径为600mm、搭接角为110度。
条件T4.与弹性体的接触时间为1秒时设定弹性体直径为300mm、搭接角为100度。
条件T5.与弹性体的接触时间为0.14秒时设定弹性体直径为200mm、搭接角为20度。
条件T6.与弹性体的接触时间为0.05秒时设定弹性体直径为200mm、搭接角为7度。
条件T7.与弹性体的接触时间为3秒时设定弹性体直径为800mm、搭接角为108度。
<弹性体与膜的面压>
条件M1.弹性体直径200mm、210N/m2时以线张力29.4N进行实施
条件M2.弹性体直径200mm、2100N/m2时以线张力294N进行实施
条件M3.弹性体直径200mm、5600N/m2时以线张力784N进行实施
条件M4.弹性体直径600mm、1867N/m2时以线张力784N进行实施
条件M5.弹性体直径300mm、2100N/m2时以线张力441N进行实施
条件M6.弹性体直径200mm、4200N/m2时以线张力588N进行实施
条件M7.弹性体直径200mm、700N/m2时以线张力98N进行实施
条件M8.弹性体直径800mm、2100N/m2时以线张力1176N进行实施
条件M9.弹性体直径200mm、500N/m2时以线张力70N进行实施
条件M10.弹性体直径200mm、5000N/m2时以线张力700N进行实施
<弹性体的规格>
使用的弹性体的规格如下所述。
弹性体的大小、材质：在200mm、300mm或600mm的铝制辊上包覆厚度5mm的丙烯腈·丁二烯橡胶。
弹性体的硬度：橡胶硬度30(通过JIS-K-6253的方法使用Durometer(デユロメ一タ一)A型测定)
弹性体的静磨擦系数变化：用石油醚(石油benzine(ベンジン))将弹性体表面充分洗涤后，边旋转弹性体边将渗入了溶解在乙酸乙酯中的5质量％的三氯异氰尿酸溶液的棉纱与弹性体接触，在弹性体表面上涂布三氯异氰尿酸溶液。通过将该弹性体在室温下直接干燥约0.5小时，挥发溶剂干燥表面。通过改变三氯异氰尿酸溶液的浓度，弹性体的静磨擦系数按表2所示那样在变化。而且，静磨擦系数使用新东科学株式会社制的“HEIDON(ヘイドン)表面性测定机14型”通过上述方法测定。
弹性体的驱动方向和旋转速度：在膜搬运方向上以逆转的方向旋转，旋转速度10rpm
弹性体的温度：30℃
使用空气喷嘴5如下地调整向膜背面的空气供给。
缝隙宽度：0.8mm(优选为0.2～2mm)
缝隙长度：1600mm(依赖于膜宽)
喷出风速：100m/sec(优选为50～300m/sec)
与膜的距离：3mm(优选为2～10mm)
弹性体的洗涤通过使用图1的超声波振子的方法进行，在膜的宽度方向上排列设置两台、在膜搬运方向上排列设置四台超声波振子(日本ALEXS(アレツクス)社制的特别规格机种)。一台该振子的大小在膜的宽度方向上为50cm、在搬运方向上为30cm，以1000W的功率输出100KHz的超声波。
而且，在该装置的上游侧10m和下游侧10m的位置的膜搬运路径上各设置一台边缘位置控制器(EPC)，控制在弹性体1上磨擦的长膜的位置。
使用上述制备的纤维素酯膜1，分别如表2所示那样改变成有无通过喷雾嘴8向膜面供给液体4(纯水)、液体的附着量、液滴径、通过弹性体1磨擦的时间、膜对弹性体1的面压、空气喷嘴9的有无、有无通过空气喷嘴5吹膜背面、EPC的有无等，制造经过处理的纤维素酯膜C-1～C-40。
而且，对于比较例纤维素酯膜C-3使用图13的装置，对于本发明的纤维素酯膜C-36和比较例纤维素酯膜C-38、C-40使用图12的浸渍式装置。此外，比较例纤维素酯膜C-37、C-38中，使用静磨擦系数比本发明范围低、为0.14的弹性体，比较例纤维素酯膜C-39、C-40中使用静磨擦系数比本发明范围高、为1.0的弹性体。
(带防反射层的光学膜的制造)
使用上述处理的纤维素酯膜C-1～C-40，通过下述顺序分别制造带防反射层的光学膜(防反射膜)。
构成防反射层的各层的折射率通过下述方法测定。
(折射率)
对于将各层单独地涂设在以下制造的硬涂膜上得到的样品，由分光光度计的分光反射率的测定结果求得各折射率层的折射率。分光光度计使用U-4000型(日立制作所制)，对样品的测定侧的背面进行粗糙表面化处理后，通过黑色的喷雾进行光吸收处理，防止背面的光的反射，在5度正反射的条件下进行可见光区域(400nm～700nm)的反射率的测定。
(金属氧化物微粒的粒径)
对于使用的金属氧化物微粒的粒径而言，用电子显微镜观察(SEM)且分别观察100个微粒，将各微粒的外接圆的直径作为粒径，以其平均值作为粒径。
《硬涂层的形成》
用孔径0.4μm的聚丙烯制过滤器过滤下述硬涂层用涂布液，制备硬涂层涂布液，使用微照相凹版涂布机将其涂布在以上处理的纤维素酯膜C-1～C-40上，90℃下干燥后，使用紫外线灯以照射部的照度100mW/cm2、照射量0.1J/cm2使涂布层固化，形成干膜厚7μm的硬涂层，制造硬涂膜。
<硬涂层涂布液>
将下述材料搅拌、混合制成硬涂层涂布液。
丙烯酸类单体；KAYARAD DPHA(二季戊四醇六丙烯酸酯、日本化药制)
                                               220质量份
Irgacure(イルガキユア)184(Ciba Specialty Chemicals(チバスペシヤルテイケミカルズ)(株)制)                               20质量份
丙二醇单甲基醚                                 110质量份
乙酸乙酯                                       110质量份
<制作带防反射层的偏振片保护膜>
在上述制造的硬涂膜上如下所述以高折射率层、随后为低折射率层的顺序涂布设置防反射层，制造带防反射层的光学膜1～40。
(防反射层的形成：高折射率层)
在硬涂膜上用挤出涂布机涂布下述高折射率层涂布组合物，80℃下干燥1分钟，接着照射0.1J/cm2紫外线进行固化，进一步在100℃下热固化1分钟，设置厚度为78nm的高折射率层。
该高折射率层的折射率为1.62。
(高折射率层涂布组合物)
金属氧化物微粒的异丙醇溶液(固体成分20％、ITO粒子、粒径5nm)
                                                  55质量份
金属化合物：Ti(OBu)4(四正丁氧基钛)                1.3质量份
电离放射线固化型树脂：二季戊四醇六丙烯酸酯        3.2质量份
光聚合引发剂：Irgacure(イルガキユア)184(チバスペシヤルテイケミカルズ(株)制)                                         0.8质量份
直链二甲基硅氧烷-EO嵌段共聚物(FZ-2201、日本尤尼卡(株)制)的10％丙二醇单甲基醚液                                      1.5质量份
丙二醇单甲基醚                                    120质量份
异丙醇                                            240质量份
甲基乙基酮                                        40质量份
(防反射层的形成：低折射率层)
在上述高折射率层上用挤出涂布机涂布下述低折射率层涂布组合物，100℃下干燥1分钟后，使用紫外线灯照射0.1J/cm2紫外线进行固化，在耐热性塑料芯轴上以卷长4000m卷取，接着在80℃下进行3天加热处理，制造带防反射层的光学膜1～40。
而且，该低折射率层的厚度为95nm、折射率为1.37。
(低折射率层涂布组合物的制备)
<四乙氧基硅烷水解物A的制备>
将四乙氧基硅烷289g和乙醇553g混合，向其中添加0.15％乙酸水溶液157g，在25℃的水浴中搅拌30小时，由此制备水解物A。
四乙氧基硅烷水解物A                       110质量份
中空氧化硅类微粒(下述P-2)分散液           30质量份
KBM503(硅烷偶联剂、信越化学(株)制)        4质量份
直链二甲基硅氧烷-EO嵌段共聚物(FZ-2207、日本尤尼卡(株)制)的10％丙二醇单甲基醚液                              3质量份
丙二醇单甲基醚                            400质量份
异丙醇                                    400质量份
(中空氧化硅类微粒(P-2)分散液的制备)
将平均粒径5nm、SiO2浓度为20质量％的氧化硅溶胶100g和纯水1900g的混合物加温至80℃。该反应母液的pH为10.5，向该母液中同时添加SiO2计为0.98质量％的硅酸钠水溶液9000g和以Al2O3计为1.02质量％的铝酸钠水溶液9000g。其间，将反应液的温度保持为80℃。添加之后反应液的pH立即升高至12.5，然后几乎不变化。添加结束后，将反应液冷却至室温，用超滤膜洗涤制备固体成分浓度20质量％的SiO2·Al2O3核粒子分散液。(步骤(a))
向该核分子分散液500g中加入纯水1700g并升温至98℃，保持该温度的同时添加用阳离子交换树脂将硅酸钠水溶液脱碱得到的硅酸液(SiO2浓度3.5质量％)3000g，得到形成有第一氧化硅被覆层的核粒子的分散液。(步骤(b))
接着，向用超滤膜洗涤、固体成分浓度成为13质量％的形成第一氧化硅被覆层的核粒子分散液500g中加入纯水1125g，进一步滴加浓盐酸(35.5％)使pH为1.0，进行脱铝处理。接着，加入pH 3的盐酸水溶液10L和纯水5L的同时用超滤膜分离溶解的铝盐，制备除去形成第一氧化硅被覆层的核粒子的构成成分的一部分的SiO2·Al2O3多孔性粒子的分散液(步骤(c))。将上述多孔性粒子分散液1500g、纯水500g、乙醇1750g和28％氨水626g的混合液加温至35℃后，添加硅酸乙酯(SiO228质量％)104g，用硅酸乙酯的水解缩聚物包覆形成有第一氧化硅被覆层的多孔性粒子的表面，形成第二氧化硅被覆层。接着，使用超滤膜制备溶剂替换为乙醇的固体成分浓度20质量％的中空氧化硅类微粒(P-2)的分散液。
该中空氧化硅微粒的第一氧化硅被覆层的厚度为3nm、平均粒径为47nm、MOx/SiO2(摩尔比)为0.0017、折射率为1.28。其中，平均粒径通过动态光散射法测定。
如上制造的各带有防反射层的光学膜的具体情况如表2、表3所示。而且，表2、表3中以简称记载事项的具体内容如下所述。
*A：弹性体1出侧的空气喷嘴9
*B：通过空气喷嘴5吹膜背面
*1：不向膜供给液体、不通过弹性体磨擦
*2：使用图13中记载的装置
*3：使用图12中记载的装置
Figure A20068004285900681
Figure A20068004285900691
《评价》
使用得到的带有防反射层的光学膜1～40实施下述评价。
(耐防反射层的纵条纹故障性的评价)
各涂布十卷上述带有防反射层的光学膜3000m，在各卷中从10处取1m2的样品，通过黑色喷雾将取样的基底的防反射层背面涂黑，对防反射层面用3波长的荧光灯目视评价，评价纵条纹根数。
10卷×1m2×10处＝100m2＝100个样品评价
纵条纹为在膜搬运方向上产生的笔直的条纹，并发现条纹的一部分与其它部分的反射光的色调不同。
◎：未产生纵条纹
○：每100个样品产生1根纵条纹
△：每100个样品产生2根～10根纵条纹
×：每100个样品产生11根以上纵条纹
(耐防反射层的横向故障性的评价)
各涂布十卷上述带有防反射层的光学膜3000m，在各卷中从10处取1m2的样品，通过黑色喷雾将取样的基底的防反射层背面涂黑，对防反射层面用3波长的荧光灯目视评价，评价横向不均的产生。
10卷×1m2×10个部位＝100m2＝100个样品评价
横向不均在膜宽度方向上产生，段状地反射光的色调不同。段之间的间隙约为1～5mm。
◎：未产生
○：100个样品中，在1个样品中产生横向不均
△：100个样品中，在2个样品～10个样品中产生横向不均
×：100个样品中，在11个样品以上产生横向不均
(耐异物故障性的评价)
通过涂膜的目视检查对每1m2看到直径100～小于150μm或直径150μm以上的凸起状故障或凹陷状故障的个数进行计数。
直径100μm的异物故障指的是，看到对于涂膜的基准面涂膜表面的厚度变化率为2μm(涂膜的厚度变化)/100μm(基准面上的距离)以上、涂膜的厚度为0.5μm以上变化的凸起状故障或凹陷状部分的范围为准圆形时的直径为100μm的故障，将其作为目视到100μm大小的异物故障。同样地，将上述直径为150μm的故障作为150μm大小的异物故障。在实际的异物故障检查中，准备上述100μm大小的异物故障和150μm大小的异物故障样品，将具有100μm大小的异物故障样品和150μm大小的异物故障样品的中间的大小的异物故障作为直径100～150μm的异物数目进行计数。同样地，对于150μm大小的异物故障样品，将其以上大小的异物故障作为150μm以上的异物进行统计。
此外，异物故障的凸起状或凹陷状故障的截面的样子可以通过光干涉式的表面粗糙度计等观察。
上述统计的异物个数通过以下基准进行评价。
◎：未发现100μm以上的异物
○：发现稍有100μm以上而小于150μm的异物
△：发现100μm以上而小于150μm的异物
×：发现100μm以上而小于150μm的异物，进一步也发现150μm以上的异物
(耐皱性的评价)
对上述各带有防反射层的光学膜10卷进行目视观察，通过下述基准评价是否产生皱折。
◎：10卷都完全未产生皱折
○：发现1卷～3卷稍微产生皱折
△：1卷～3卷的皱折产生明显
×：4卷以上的皱折产生明显
(耐擦伤性的评价)
将上述带有防反射层的光学膜3000m各涂布十卷，在各卷中从10处取1m2的样品，通过黑色喷雾将取样的基底的防反射层背面涂黑，对防反射层面用绿色灯目视评价，评价擦伤条数。
10卷×1m2×10处＝100m2＝100个样品评价
◎：未产生擦伤
○：每10个样品，产生1条～3条的擦伤
△：每10个样品，产生4条～10条的擦伤
×：每10个样品，产生11条以上的擦伤
以上的评价结果如下表4所示。
[表4]
  带有防反射层的光学膜序号   耐皱性   耐纵条纹故障性   耐横段故障性   耐异物故障性   耐擦伤性   备注
  1   ×   ×   ×   ×   ◎   比较例
  2   ×   ×   ×   ○   ○   比较例
  3   ×   ×   ×   ○   ×   比较例
  4   ◎   ◎   ◎   ◎   ◎   本发明
  5   ○   ○   ○   ○   ○   本发明
  6   ○   ○   ○   ◎   △   本发明
  7   ◎   ○   ○   ○   ○   本发明
  8   ○   ○   ○   ○   ○   本发明
  9   ○   ○   ○   ◎   △   本发明
  10   ◎   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  11   ◎   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  12   ◎   ◎   ◎   ◎   △   本发明
  13   ○   ○   ○   ○   ◎   本发明
  14   ◎   ◎   ◎   ◎   △   本发明
  15   △   ○   ○   △   ◎   本发明
  16   ○   ○   ○   ○   ○   本发明
  17   ◎   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  18   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  19   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  20   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  21   ◎   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  22   ◎   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  23   ○   ○   ◎   ○   ◎   本发明
  24   ◎   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  25   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  26   ◎   ◎   ◎   ◎   ◎   本发明
  27   ◎   ◎   ◎   ◎   ◎   本发明
  28   ○   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  29   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  30   ◎   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  31   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  32   ◎   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  33   ◎   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  34   ○   ◎   ◎   ○   ◎   本发明
  35   ◎   ◎   ◎   ◎   ○   本发明
  36   ○   ○   ○   ○   ○   本发明
  37   ×   ○   ×   △   ○   比较例
  38   ×   △   ×   ×   ○   比较例
  39   ×   ○   ×   ○   △   比较例
  40   ×   △   ×   △   △   比较例
如表4记载的结果可知，使用本发明的处理后的纤维素酯膜C-4～C-36的带有防反射层的光学膜4～36中，耐纵条纹故障性、耐横向故障性、耐异物故障性、耐皱性、耐擦伤性相对于比较例得到改善。此外，通过分别设定成权利要求第2项～第15项所示的优选处理方法，上述改善效果得到进一步提高。
另一方面，使用未供给用于润湿表面的水的比较例的纤维素酯膜C-1～C-3的带有防反射层的光学膜1～3中，产生纵条纹故障、横向故障、异物故障、皱折、擦伤，不能用作光学膜。此外，使用虽然供给用于润湿表面的水但是使用静磨擦系数在本发明的范围外的弹性体的比较例的纤维素酯膜C-37～C-40的带有防反射层的光学膜37～40中，虽然通过供给水发现耐纵条纹故障性或耐擦伤性得到改善，但是产生横向故障或皱折，不能用作光学膜。
实施例2
除了在实施例1的带有防反射层的光学膜No.2和No.6的制造中，向硬涂层涂布液中加入1质量份、向高折射率涂布组合物中加入1.5质量份、向低折射率层涂布组合物中加入3质量份的BYK Chemi(ビツクケミ一)(株)制BYK330、BYK337、BYK346、BYK375的10％丙二醇单甲基醚液来替代直链二甲基硅氧烷-EO嵌段共聚物(FZ-2207、日本尤尼卡(株)制)的10％丙二醇单甲基醚液之外，同样地操作制造防反射膜，对耐纵条纹故障性、耐横向故障性、耐皱性进行评价时可知评价为◎，涂布性得到进一步改善。
实施例3
使用实施例1制造的带有防反射膜的光学膜1～40，制造偏振片和液晶显示装置。
<偏振片的制造>
将厚度120μm的聚乙烯醇膜单轴拉伸(温度110℃、拉伸倍率5倍)。将其在含有碘0.075g、碘化钾5g、水100g的水溶液中浸渍60秒，接着浸渍在含有碘化钾6g、硼酸7.5g、水100g的68℃的水溶液中。将其水洗、干燥得到偏振膜。
接着，根据下述步骤1～5将偏振膜，实施例1中制造的带有防反射层的光学膜1～36和作为背面侧偏振片保护膜的纤维素酯膜贴合制造偏振片。背面侧的偏振片保护膜使用具有相位差的纤维素酯膜(柯尼卡美能达(コニカミノルタタツク)KC8UCR-5：柯尼卡美能达精密仪器(コニカミノルタオプト)(株)制)分别制成偏振片。
步骤1：在60℃的2摩尔/L的氢氧化钠溶液中浸渍90秒，接着进行水洗干燥，得到与偏振器贴合侧皂化了的带有防反射层的光学膜。
步骤2：将上述偏振膜在固体成分2质量％的聚乙烯醇粘合剂槽中浸渍1～2秒。
步骤3：轻轻拭去步骤2中在偏振膜上附着的过量的粘合剂，将其置于步骤1中处理的带有防反射层的光学膜上，进行层压、配置。
步骤4：将步骤3中层压了的上述制造的带有防反射层的光学膜、偏振膜和背面侧的纤维素酯膜在压力20～30N/cm2、搬运速度约2m/分钟下进行贴合。
步骤5：在80℃的干燥机中将步骤4中制造的贴合偏振膜、带有防反射层的光学膜和背面侧的纤维素酯膜得到的样品干燥2分钟，制造偏振片。分别使用带有防反射层的光学膜1～40制造偏振片1～40。
《液晶显示装置的制造》
如下制造进行视场角测定的液晶面板，评价作为液晶显示装置的特性。
将富士通制15型(英寸)显示器VL-150SD的预先贴合的两面的偏振片剥离，将上述制造的偏振片1～36分别贴合在液晶盒的玻璃面上。
此时，设置偏振片的贴合的方向以使吸收轴面向与预先贴合的偏振片相同的方向，分别制造液晶显示装置1～36。
使用如上得到的液晶显示装置1～40进行下述评价。
《评价》
《视认性的评价》
对于上述制造的各液晶显示装置，在60℃、90％RH的条件下放置100小时后返回到23℃、55％RH下。结果若观察显示装置的表面则使用本发明的带有防反射层的光学膜4～36的液晶显示装置都为○～◎的评价结果，平面性优异，与此相对地，比较的显示装置为×的评价结果，发现细的波纹状的不均，若长时间欣赏则眼睛易疲惫。
◎：表面完全未发现波纹状的不均
○：表面稍有波纹状的不均
△：表面稍微发现细波纹状的不均
×：表面发现细波纹状的不均

Claims (26)

1.光学膜的处理方法，该方法包括，用液体润湿连续输送的长膜，用弹性体连续地磨擦该长膜，然后除去该长膜表面的液体，其中，该弹性体表面的静磨擦系数为0.2～0.9。
2.权利要求1所述的光学膜的处理方法，其中，所述弹性体为表面改性橡胶。
3.权利要求1或2所述的光学膜的处理方法，其中，所述表面改性橡胶是对表面进行有机卤化合物处理得到的橡胶。
4.权利要求1～3中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，所述弹性体是旋转的橡胶辊。
5.权利要求1～4中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，所述橡胶辊与长膜的接触角度为1度以上而小于135度。
6.权利要求1～5中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，用所述弹性体磨擦所述长膜的时间为0.05秒～3秒。
7.权利要求1～6中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，用所述弹性体磨擦所述长膜时的面压为500N/m2～5000N/m2。
8.权利要求1所述的光学膜的处理方法，其中，具有除去附着在所述弹性体的表面上的液体的步骤。
9.权利要求1所述的光学膜的处理方法，其中，具有检测所述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的步骤。
10.权利要求1所述的光学膜的处理方法，其中，用所述弹性体磨擦所述长膜时，边向该长膜的背面送风边用所述弹性体连续地磨擦。
11.权利要求1所述的光学膜的处理方法，其中，通过向所述长膜的被处理面供给液体的装置润湿该被处理面。
12.权利要求11所述的光学膜的处理方法，其中，供给所述液体的装置为喷雾嘴。
13.权利要求12所述的光学膜的处理方法，其中，通过所述喷雾嘴供给的液体附着在所述长膜上时的液滴的平均液滴径为10μm～5000μm。
14.权利要求11～13中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，向所述长膜供给的液体的量为3g/m2～100g/m2。
15.权利要求11～14中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，所述液体的温度为30℃～100℃，所述弹性体的温度为30℃～100℃。
16.权利要求11～14中任意一项所述的光学膜的处理方法，其中，所述长膜为纤维素酯膜，所述液体为水。
17.光学膜的制造方法，该方法包括，用权利要求1～16中任意一项所述的光学膜的处理方法处理后，在所述长膜的被处理面上涂布设置光学功能层。
18.权利要求17所述的光学膜的制造方法，其中，所述光学功能层为硬涂层或防反射层。
19.权利要求17或18所述的光学膜的制造方法，其中，所述纤维素酯膜含有消光剂，所述硬涂层通过使用含有丙烯酸酯类紫外线固化树脂和有机溶剂的硬涂层涂布液涂布而形成，所述防反射层至少一层通过使用含有低表面张力物质和有机溶剂的防反射层涂布液涂布而形成。
20.光学膜的处理装置，该光学膜的处理装置包括：用液体润湿连续搬运的长膜的液体供给装置、用弹性体磨擦该长膜的弹性体磨擦装置、从该弹性体的表面除去液体的弹性体表面液体除去装置和磨擦后除去该长膜表面的液体的液体除去装置，其中，所述弹性体的表面的静磨擦系数为0.2～0.9。
21.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，具有检测所述长膜的宽度端部位置、调整搬运位置的装置。
22.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，具有将所述液体调整为30℃～100℃液温的液温调整装置。
23.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，具有向所述长膜背面送风的装置。
24.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，所述润湿膜的装置是向所述长膜的被处理面供给液体的装置。
25.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，所述液体除去装置由空吸喷嘴和空气喷嘴形成。
26.权利要求20所述的光学膜的处理装置，其中，从所述液体供给装置到液体除去装置的处理时间为2秒～60秒。
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