TWI580270B - 視窗結構、製造視窗結構之方法、裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置及其製造方法 - Google Patents

視窗結構、製造視窗結構之方法、裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置及其製造方法 Download PDF

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Description

視窗結構、製造視窗結構之方法、裝備有包含視窗結構 之相機之電子裝置及其製造方法
相關申請案之交互參照
本申請案主張於2012年5月23日向韓國智慧財產局提出之韓國專利申請號第2012-0054731號之優先權，其全部內容於此併入作為參考。
發明之例示性實施例係關於一種視窗結構、製造其之方法、裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置及其製造方法。
視窗可安裝於用於例如手機、個人媒體播放器(PMP)等電子裝置中之顯示面板上，且其上印有徽標或圖標之設計層可附著於視窗上。最近，各種類型之電子裝置已裝備有相機，且用作為光至相機之路徑的孔洞可貫穿設計層而形成。
若設計層具有彩色或白色，經由孔洞穿透之光可能於相鄰於孔洞之設計層的一部份漫反射，而因此設計層之顏色可能被傳遞至影像周邊，即可能導致一種暈映。
例示性實施例提供可避免暈映之一種視窗結構。
例示性實施例提供製造可避免暈映之視窗結構之方法。
例示性實施例提供裝備有包含可避免暈映之視窗結構之相機的電子裝置。
例示性實施例製造裝備有包含可避免暈映之視窗結構之相機的電子裝置之方法。
根據本發明之一態樣，提供一種視窗結構，包含視窗、排列於視窗上之設計層結構，設計層結構包含暴露視窗之一部分之第一孔洞、排列於設計層結構上之光屏蔽層，光屏蔽層包含與第一孔洞成流體連通之第二孔洞、及覆蓋由第一孔洞及第二孔洞暴露之設計層結構之至少一部分之光吸收層，光吸收層包含暴露視窗之一部分之第三孔洞。
第二孔洞可具有大於第一孔洞之半徑。或者，第一孔洞及第二孔洞可具有實質上相同之半徑。光吸收層可覆蓋由第二孔洞暴露之光屏蔽層之側壁的至少一部分。光吸收層可覆蓋光屏蔽層頂面的一部分。或者，光吸收層可不存在於光屏蔽層之頂面。設計層結構可包含依序堆疊於視窗上之複數個設計層。第一孔洞可具有自相鄰於視窗之頂面之底部部份往最遠於視窗之頂面之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。或者，第一孔洞於實質上垂直於視窗之頂面之方向具有一致之半徑，且第一孔洞與第二孔洞可具有實質上相同之半徑。設計層結構可具有彩色或白色且光屏蔽層與光吸收層可具有黑色或灰色。設計層結構、光屏蔽層及光吸收層中的每一個可為印刷層。當自頂側觀察時，第一孔洞、第二 孔洞及第三孔洞可具有圓形邊界，且當自頂側觀察時，光吸收層可具有圓形、橢圓形或多邊形之邊界。第三孔洞可具有實質上垂直於視窗之頂面之側壁。或者，第三孔洞可具有對於視窗之頂面傾斜之側壁。或者，第三孔洞可具有彎曲側壁。視窗結構可亦包含排列於視窗上之聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)薄膜，且設計層結構可排列於聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜上。第三孔洞可作為一路徑，使入射於面對光屏蔽層之相機感測器之光穿透其中。
根據本發明之另一態樣，提供製造一種視窗結構之方法，包含於視窗上形成設計層結構，設計層結構具有暴露視窗之一部分的第一孔洞；於設計層結構上形成光屏蔽層，光屏蔽層具有與第一孔洞成流體連通之第二孔洞；及形成覆蓋由第一孔洞及第二孔洞暴露之設計層結構之至少一部分的光吸收層，光吸收層具有暴露視窗之一部分之第三孔洞。光屏蔽層之形成可包含形成光屏蔽層以使第二孔洞具有大於第一孔洞之半徑。光吸收層之形成可包含形成光吸收層以覆蓋由第二孔洞暴露之光屏蔽層之側壁的至少一部分。光吸收層之形成可包含形成光吸收層以覆蓋光屏蔽層之頂面的一部分。設計層結構之形成可包含依序堆疊複數個設計層於視窗上。設計層結構之形成可包含形成設計層結構以使第一孔洞具有自相鄰於視窗之頂面之底部部份往最遠於視窗之頂面之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。設計層結構之形成、光屏蔽層之形成及光吸收層之形成的每一個可由使用網格之網印製程所產生。
根據本發明之另一態樣，提供一種視窗結構，包含一視窗、排列於視窗上之設計層結構，設計層結構包含暴露視窗之一部分之第一 孔洞、及排列於視窗上之光屏蔽層，光屏蔽層覆蓋設計層結構並包含暴露視窗之一部分之第二孔洞。設計層結構可包含依序堆疊於視窗上之複數個設計層。第一孔洞可具有自相鄰於視窗之頂面之底部部份往最遠於視窗之頂面之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。設計層結構可具有彩色或白色，且光屏蔽層可具有黑色或灰色。
根據本發明之另一態樣，提供一種電子裝置包含，排列於基板上之顯示面板；排列於顯示面板上之視窗結構，視窗結構包含，視窗、排列於視窗上之設計層結構，設計層結構包含暴露視窗之一部分之第一孔洞、及排列於視窗上之光屏蔽層，光屏蔽層覆蓋設計層結構並包含暴露視窗之一部分之第二孔洞及覆蓋由第一孔洞及第二孔洞暴露之設計層結構之至少一部分之光吸收層，光吸收層包含暴露視窗之一部分之第三孔洞；及包含排列於視窗結構與基板間以偵測穿過第三孔洞之光的相機感測器之相機。
第二孔洞可具有大於該第一孔洞之半徑。光吸收層可覆蓋由第二孔洞暴露之光屏蔽層之側壁的至少一部分。光吸收層可覆蓋光屏蔽層之頂面的一部分。設計層結構可包含依序堆疊於視窗上之複數個設計層。第一孔洞可具有自相鄰於視窗之頂面之底部部份往最遠於視窗之頂面之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。設計層結構可具有彩色或白色且光屏蔽層與光吸收層可具有黑色或灰色。視窗可具有面對基板之第一表面及相對於第一表面之第二表面，且其中設計層結構可排列於視窗之第一表面上。顯示面板可為有機發光二極體(OLED)顯示面板、液晶顯示(LCD)面板或電漿顯示面板(PDP)。
根據本發明之另一態樣，提供一種製造電子裝置之方法，包含於基板上形成顯示面板；於基板上形成相機感測器，相機感測器與顯示面板相隔；形成視窗結構，包含提供視窗、於視窗上形成設計層結構，設計層結構具有暴露視窗之一部分的第一孔洞、於設計層結構上形成光屏蔽層，光屏蔽層具有與第一孔洞成流體連通之第二孔洞、及形成覆蓋由第一孔洞及第二孔洞暴露之設計層結構之至少一部分的光吸收層，光吸收層具有暴露視窗之一部分之第三孔洞；並附著視窗結構於顯示面板上以使第三孔洞重疊相機感測器且設計層結構面對基板。
根據本發明之另一實施例，提供一種電子裝置，包含排列於基板上之顯示面板；排列於顯示面板上之視窗結構，該視窗結構包含視窗、排列於視窗上之設計層結構，設計層結構包含暴露視窗之一部分之第一孔洞、及排列於視窗上之光屏蔽層，光屏蔽層覆蓋設計層結構並包含暴露視窗之一部分之第二孔洞；及包含排列於視窗結構與基板間以偵測穿過第二孔洞之光的相機感測器之相機。
100、50‧‧‧視窗結構
110、10‧‧‧視窗
20‧‧‧設計層結構
30‧‧‧光屏蔽層
112‧‧‧第一表面
114‧‧‧第二表面
120‧‧‧第一設計層結構
121‧‧‧第二設計層結構
122、22‧‧‧第一設計層
123‧‧‧第三設計層
124、24‧‧‧第二設計層
125、25‧‧‧第一孔洞
127‧‧‧第五孔洞
130‧‧‧第一光屏蔽層
132‧‧‧第二光屏蔽層
133‧‧‧第五光屏蔽層
134‧‧‧第三光屏蔽層
135、35‧‧‧第二孔洞
136‧‧‧第四光屏蔽層
137‧‧‧第四孔洞
139‧‧‧第六孔洞
140‧‧‧第一光吸收層
142‧‧‧第二光吸收層
144‧‧‧第三光吸收層
145‧‧‧第三孔洞
146‧‧‧第四光吸收層
148‧‧‧第五光吸收層
150‧‧‧第六光吸收層
152‧‧‧第七光吸收層
154‧‧‧第八光吸收層
155‧‧‧第七孔洞
156‧‧‧第九光吸收層
170‧‧‧聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜
180、80‧‧‧基板
185‧‧‧相機集裝箱
190、90‧‧‧相機感測器
200‧‧‧顯示面板
210‧‧‧緩衝帶
220‧‧‧可撓式印刷電路板
230‧‧‧光傳輸黏著劑
發明之更充分的理解及許多伴隨之優點，當其於結合附隨圖式餐考並藉參照以下詳細之描述變得更好理解時將顯而易見，其中相似之參照符號表示相同或相似之元件，其中：第1圖係為說明比較範例之視窗結構的剖面圖，而第2圖係為第1圖之視窗結構之平面圖；第3圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構的剖面圖，而第4圖係為第3圖之視窗結構之平面圖； 第5圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構的平面圖；第6圖、第8圖、第10圖及第12圖係為說明根據例示性實施例製造視窗結構之方法之剖面圖；第7圖、第9圖、第11圖及第13圖係為其視窗結構之平面圖；第14圖至第19圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構之剖面圖；第20圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構之剖面圖；第21圖係為第20圖之視窗結構之平面圖；第22圖及第23圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構之剖面圖；第24圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構之剖面圖；第25圖係為第24圖之視窗結構之平面圖；第26圖係為說明根據例示性實施例之視窗結構之剖面圖；第27圖係為說明根據例示性實施例之裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置之剖面圖；第28圖與第29圖係為說明根據例示性實施例之製造裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置之方法的剖面圖；及第30圖係為係為說明根據例示性實施例之裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置之剖面圖。
範例實施例藉附隨圖式更加詳細描述於下文中。然而，本發明可以許多不同的形式實現且不應被解釋為受本文所述之例示性實施例限制。於圖式中，層與區域之尺寸及相對尺寸可為了清晰而誇大。
其將理解的是，當元件或層被指稱為位於其他元件「上方」、「連結」或「耦接」其他元件或層時，其可直接位於其他元件或層之上方、直接連結或耦接其他元件或層或是有中介元件或層之存在。相反地，當元件被指稱為「直接」位於其他元件或層「上方」、「直接連結」或「直接耦接」其他元件或層時，無中介元件或層存在。全文中相同或相似之參照符號指相同或相似之元件。當用於本文中時，用語「及/或」包含一或多個相關表列項目之任一及所有組合。
將理解的是，雖然用語第一、第二、第三等可用於本文中以描述各種元件、組件、區域、層、圖樣及/或部份，此些元件、組件、區域、層、圖樣及/或部份不應被此些用語限制。此些用語僅用於分辨一元件、組件、區域、層、圖樣或部份與其他元件、組件、區域、層、圖樣或部份。因此以下討論之第一元件、組件、區域、層、圖樣或部份可被表示為第二元件、組件、區域、層、圖樣或部份而未脫離例示性實施例之教示。
空間相對性用語，例如「之下(beneath)」、「下方(below)」、「下(lower)」、「上方(above)」、「上(upper)」等可被用以簡單描述如於圖式中所示之對於一個元件或特徵與其他元件或特徵關係的描述。將理解的是，空間相對性用語意圖包含除了圖式中所描繪之方向外，使用中或操作中之裝置的不同方向。舉例而言，若圖式中之裝置被倒置， 則被描述為於其他元件或特徵「下方(below)」或「之下(beneath)」之元件將會轉向為於其他元件或特徵之「上方(above)」。因此，例示性用語「下方(below)」可包含上或下之兩種方向。裝置可轉向其他方向(旋轉90度或於其他方向)，而本文所使用之空間相對描述詞係依此解釋。
用於本文中之詞語之目的僅為具體描述例示性實施例而不意圖限制本發明。如用於本文中，除非內文中明確相反指出，否則單數形式之「一(a)」、「一(an)」及「該(the)」意圖包含複數形式。將更進一步理解的是，當用語「包含(comprises)」及/或「包含(comprising)」用於本說明書中時，指明所述之特徵、整數、步驟、操作、元件及/或組件之存在而不排除存在或外加一或多個其他特徵、整數、步驟、操作、元件、組件及/或其群組。
例示性實施例藉參照說明本發明理想化之例示性實施例(及中間結構)之說明示意圖的剖面說明圖描述。因此，可預期有例如因為製造技術及/或容許誤差導致之說明形狀之變化。因此，例示性實施例不應被解釋為受到本文所描述之具體形狀所限制，而應包含例如因為製造所導致之形狀偏差。圖式中說明之區域為示意性質且其形狀不意圖說明裝置之區域之真實形狀且不意圖限制本發明之範圍。
除非另有定義，否則用於本文中之所有用語(包含技術與科學用語)具有與本發明所屬領域內之習知技術者所一般理解之相同意義。其將更進一步理解的是，例如那些於通用字典定義之用語，應被解釋為具有與其於相關技藝之內容之意義一致之意義，且除非於本文中明確定義，否則不應被理想化或過度正式地解釋。
現轉向第1圖及第2圖，第1圖係為說明比較範例之視窗結構之剖面圖，且第2圖係為第1圖之視窗結構之平面圖。第1圖為第2圖之視窗結構沿著線I-I’切割之剖面視圖。於第1圖中，亦呈現可設置面對視窗結構之相機感測器。
現參照第1圖及第2圖，視窗結構50可包含視窗10及依序堆疊於視窗10上之設計層結構20與光屏蔽層30。設計層結構20可包含依序堆疊於為例如玻璃、塑膠等之透明材料之視窗10上之第一設計層22與第二設計層24。第一設計層22及第二設計層24可具有彩色或白色。設計層結構20可具有暴露視窗10之頂面的第一孔洞25。據此，當設計層結構20包含第一設計層22及第二設計層24，第一孔洞25可具有可自相鄰於視窗10之頂面之底部部份往與視窗10之頂面相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。當自頂側觀察時，第一孔洞25可具有圓形形狀。
光屏蔽層30可具有黑色或灰色。光屏蔽層30可具有與第一孔洞25成流體連通之第二孔洞35，且第二孔洞35可具有大於第一孔洞25之半徑。當自頂側觀察時，第二孔洞35可具有圓形形狀。第一孔洞25與第二孔洞35可為同心圓。
相機感測器90可被設置面對第一孔洞25及第二孔洞35，且相機感測器90可設置於基板80上。自物體(圖未示)反射並穿透視窗10及設計層結構20之第一孔洞25之光可入射於相機感測器90上，且一部分的光可自相機感測器90反射並可入射於光屏蔽層30及設計層結構20上。入射於設計層結構20上之光的一部分可被再次反射(參見第1圖之A1)並入 射於相機感測器90上。因此，相機感測器90可能偵測到除了物體的顏色外之設計層結構20的顏色。
若設計層結構20具有非常薄之厚度，自物體反射、穿透視窗10並入射於設計層結構20上之光的一部分可能穿透設計層結構20(參見第1圖中之A2)，且於此情況下，相機感測器90可能亦偵測到設計層結構20的顏色。然而，入射於被光屏蔽層30覆蓋之設計層結構20之一部分上的光可能無法穿透光屏蔽層30，因此可能不會被入射於相機感測器90上。
從而，穿透過視窗10之光可能在未被光屏蔽層30覆蓋之設計層結構20漫反射，且物體顏色無關之設計層結構20之顏色可能被相機感測器90偵測到。據此，設計層結構20之顏色可傳遞至物體影像之周邊，即可能產生一種暈映影像。
現轉向第3圖及第4圖，第3圖係為說明根據本發明例示性實施例之視窗結構之剖面圖，且第4圖係為第3圖之視窗結構之平面圖。第3圖為第4圖之視窗結構沿著線II-II’切割之剖面視圖。於第3圖中，亦呈現可設置面對視窗結構之相機感測器。
參照第3圖及第4圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120與第一光屏蔽層130及第一光吸收層140。視窗110可為平板，並具有第一表面112及相對於第一表面之第二表面114。視窗110可包含光傳輸材料，例如像是丙烯酸之合成樹脂或玻璃。
第一設計層結構120可形成於視窗110之第一表面112上。於例示性實施例中，第一設計層結構120可包含依序堆疊於視窗110上之第一設計層122及第二設計層124。第一設計層122及第二設計層124可具有彩色或白色。於例示性實施例中，第一設計層122及第二設計層124可具有實質上相同顏色。
第一設計層結構120可具有暴露視窗110之第一表面112的一部分之第一孔洞125。於例示性實施例中，當自頂側觀察時，第一孔洞125可具有圓形形狀。據此，當第一設計層結構120包含第一設計層122及第二設計層124，第一孔洞125可具有可自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。即第二設計層124可不覆蓋整個第一設計層122，且因此第一設計層122可被部份地暴露。
第3圖及第4圖顯示具有兩層設計層122及124依序堆疊之第一設計層結構120，然而第一設計層結構120可具有多於兩層之設計層，且可被定義為設計層之側壁及/或頂面之第一孔洞亦可具有其自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。或者，第一設計層結構120可僅具有一層設計層。下文中，為便於描述，將僅說明第一設計層結構120具有兩層設計層之情形。
第一光屏蔽層130可具有黑色或灰色，且可形成於第一設計層結構120之第二設計層124上，並具有與第一孔洞125成流體連通之第二孔洞135。於例示性實施例中第二孔洞135可具有大於第一孔洞125 之半徑。當自頂側觀察時，第二孔洞135可具有圓形形狀。第一孔洞125及第二孔洞135可為同心圓。第一光屏蔽層130可不覆蓋整個第二設計層124，因此第二設計層124可被部份地暴露。從而，包含第一孔洞125及第二孔洞135之第一孔洞結構可具有可自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。
第一光吸收層140可覆蓋至少一部分藉由第一孔洞結構，即第一孔洞125及第二孔洞135暴露之第一設計層結構120，並可具有暴露一部分視窗110之第一表面112之第三孔洞145。即第一光吸收層140可覆蓋可被第一孔洞125暴露或可定義第一孔洞125之第一設計層122之側壁、第一設計層122之頂面的一部分及第二設計層124之側壁，且一部分第二設計層124之頂面經由第二孔洞135暴露。第三孔洞145可形成於包含第一孔洞125及第二孔洞135之第一孔洞結構中且可具有小於第一孔洞結構之半徑。於例示性實施例中，當自頂側觀察時，第三孔洞145與第一孔洞125及/或第二孔洞135可為同心圓。於例示性實施例中第三孔洞145可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。即第一光吸收層140可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。
於例示性實施例中，第一光吸收層140可不僅覆蓋第一設計層結構120之一部分，亦可覆蓋可經由第二孔洞135暴露或可定義第二孔洞135之第一光屏蔽層130之側壁，且一部分的第一光屏蔽層130之頂面相鄰於第二孔洞135。第一光吸收層140之邊界可為圓形，且第一孔洞125及第二孔洞135及第一光吸收層140之邊界可為同心圓。於例示性實 施例中，第一光吸收層140可具有實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面。第一光吸收層140可具有黑色或灰色。於例示性實施例中，第一光屏蔽層130可具有灰色且第一光吸收層可具有黑色。
於第4圖中，第一設計層結構120及第一光屏蔽層130覆蓋除了第一至第三孔洞125、135及145以外之整個視窗110之第一表面112，然而第一設計層結構120與第一光屏蔽層130根據所需之設計可僅形成於相鄰於第一光吸收層140之一部分之視窗110之第一表面112上。
相機感測器190可被設置面對第三孔洞145，且相機感測器190可設置於基板180上。據此，第三孔洞145可作為自物體反射之光可透過其穿透之路徑。
自物體反射並穿透視窗110與第三孔洞145之光可入射於相機感測器190上且一部分的光可自相機感測器190反射並朝向第一設計層結構120、第一光屏蔽層130或第一光吸收層140。然而，第一光吸收層140可覆蓋一部分被第一孔洞125及第二孔洞135暴露之第一設計層結構120，並因此藉由第一光吸收層140及第一光屏蔽層130可阻擋相機感測器190反射出的光入射於第一設計層結構120。從而，可能為彩色或白色之第一設計層結構120之顏色可不被相機感測器190偵測到。
縱然第一設計層結構120可具有非常薄之厚度，自物體反射、穿透視窗110及第一設計層結構120並入射於第一孔洞125或第二孔洞135之光可被第一光吸收層140吸收，因此光可不被入射於相機感測器190上。穿透視窗110並入射於由第一光屏蔽層130覆蓋之第一設計層結 構120之光亦可被第一光屏蔽層130阻擋，從而與第一設計層結構120相互影響之光不會傳達到相機感測器190。
據此，可避免與物體顏色無關之第一設計層結構120之顏色入射於相機感測器190上，並可避免暈映，即第一設計層結構120之顏色相反地被傳遞到物體影像之周邊。
現轉向第5圖，第5圖為描繪根據例示性實施例之視窗結構之平面圖。除了第一光吸收層140之邊界外，視窗結構可實質上與第3圖與第4圖的視窗結構相同。因此，相似之參照符號表示相似之元件並於本文中省略對其之詳細描述。
視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130及第二光吸收層142。於例示性實施例中，第二光吸收層142可具有矩形形狀之邊界。
除了第一光吸收層140與第二光吸收層142分別之圓形及矩形外，視窗結構100可具有其他類型之邊界，例如橢圓形、多邊形等。下文中為便於解釋，將僅說明具有圓形邊界之視窗結構。
現轉向第6圖至第13圖，第6圖、第8圖、第10圖及第12圖為說明根據例示性實施例之製造視窗結構之方法之剖面圖。而第7圖、第9圖、第11圖及第13圖為其視窗結構之平面圖。更明確的說，第6圖、第8圖、第10圖及第12圖分別為第7圖、第9圖、第11圖及第13圖之視窗結構沿著第7圖、第9圖、第11圖及第13圖之線III-III’切割之剖面圖。第6圖至第13圖呈現製造第3圖及第4圖之視窗結構之方法，然而其可不限於此。
參照第6圖及第7圖，視窗110可包含光傳輸材料，例如像是丙烯酸之合成樹脂或玻璃。視窗110可包含第一表面112及相對於第一表面112之第二表面114。
第一設計層122可形成於視窗110之第一表面112之上。於例示性實施例中，第一設計層122可由使用網格之網印製程(screen printing process)形成。即可將用以形成所需圖樣之網格(圖未示)安裝於視窗110之第一表面112上，油墨可被噴濺或滴於網格上，且橡膠板可加壓噴濺或滴落之油墨以形成具有所需圖樣之第一設計層122。於例示性實施例中第一設計層122可使用彩色或白色之油墨形成，且金屬粉末，例如銀粉可被包含於油墨中。
於例示性實施例中，第一設計層122可被形成以包含貫穿其中之第一孔洞125。當自頂側觀察時，第一孔洞125可具有圓形形狀。於第一設計層122印刷於視窗110之第一表面112上時，可更進一步執行乾燥製程。
現參照第8圖及第9圖，第二設計層124可形成於第一設計層122上。第二設計層124可如第一設計層122，由使用網格之網印製程形成。於例示性實施例中，第二設計層124可使用彩色或白色油墨形成，且可使用具有實質上與第一設計層122相同顏色之油墨形成。
於例示性實施例中，第二設計層124可被形成以具有貫穿其中之孔洞。於第二設計層124中之孔洞與第一孔洞125可為同心圓。因此，於第二設計層124中之孔洞可與第一孔洞125成流體連通。
於例示性實施例中，於第二設計層124中之孔洞可形成以具有大於第一孔洞125之半徑以使於網印製程期間第二設計層124可不形成於經由第一孔洞125暴露之視窗110之第一表面112之一部分上。因此，第一設計層122可不完全被第二設計層124覆蓋，且可暴露相鄰於第一孔洞125之第一設計層122的一部分。
下文中，體連結在一起之穿透第一設計層122之第一孔洞125與貫穿第二設計層124之孔洞流可被表示為第一孔洞125。第一孔洞之底部可由不被第一設計層122覆蓋之視窗110之第一表面112的一部份所定義，而第一孔洞125之側壁可由第一設計層之頂面的側壁及暴露部份與第二設計層124中孔洞之側壁所定義。據此，第一孔洞125可具有自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。
第一設計層122第二設計層124可定義第一設計層結構120。如上所述，第一設計層結構120可替代地形成以包含多於兩層依序堆疊之設計層，或可不包含第二設計層124而僅包含第一設計層122。
參照第10圖及第11圖，第一光屏蔽層130可形成於第一設計結構120之頂面，即第二設計層124之頂面上。
第一光屏蔽層130可藉由使用與第一設計層122及第二設計層124相同網格之網印製程形成。於例示性實施例中，第一光屏蔽層130可使用黑色油墨或灰色油墨形成。
於例示性實施例中，第一光屏蔽層130可形成以具有貫穿其中之第二孔洞135。當自頂側觀察時，第二孔洞135可具有圓形形狀。 於例示性實施例中，第二孔洞135與第一孔洞125可為同心圓。因此第一孔洞125與第二孔洞135彼此可成流體連通。
於例示性實施例中，第二孔洞135可形成以具有大於第一孔洞125之半徑，從而第一光屏蔽層可不形成於藉第一孔洞125暴露之視窗110之第一表面112之部份上。據此，第二設計層124可不完全被第一光屏蔽層130覆蓋，且可暴露相鄰於第一孔洞125之第二設計層124之頂面的一部分。
下文中，第一孔洞125與第二孔洞135一起成流體連通可參照如第一孔洞結構。第一孔洞結構之側壁可藉由第一孔洞125之側壁定義，第二設計層124之頂面暴露之部份相鄰於第一孔洞125及第一光屏蔽層130之側壁。因此，第一孔洞結構可具有可自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑的階梯形狀。
現參照第12圖及第13圖，第一光吸收層140可形成於視窗110之第一表面112上以覆蓋至少由第一孔洞結構，即第一孔洞125與第二孔洞135，暴露之第一設計層結構之部份，因此可製成視窗結構100。
第一光吸收層140可藉由使用與第一設計層122、第二設計層124及第一光屏蔽層130相同網格之網印製程形成。於例示性實施例中，第一光吸收層140可使用黑色油墨或灰色油墨形成。
於例示性實施例中，當自頂側觀察時，第一光吸收層140可具有圓形形狀，且可具有暴露一部分視窗110之第一表面112之第三孔 洞145。如上所述，第一光吸收層140可替代地形成具有其他形狀，例如橢圓、多邊形等。
於例示性實施例中，第一光吸收層140可至少覆蓋藉第一孔洞125暴露或定義第一孔洞125之第一設計層122之側壁、第一設計層122頂面之一部分及第二設計層124之側壁，及經由第二孔洞135暴露之第二設計層124頂面之一部分。另外，第一光吸收層140可覆蓋藉由第二孔洞135暴露或定義第二孔洞135之第一光屏蔽層130之側壁及相鄰於第二孔洞135之第一光屏蔽層130頂面之一部分。
第三孔洞145可形成於第一孔洞結構中以具有小於第一孔洞結構之半徑，且第三孔洞145與第一孔洞125及/或第二孔洞135可為同心圓。於例示性實施例中，第三孔洞145可形成以具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。即第一光吸收層140可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。於例示性實施例中，第一光吸收層140可形成以具有實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面。
現轉向第14圖至第19圖，第14圖至第19圖為說明根據各種例示性實施例之視窗結構之剖面圖。除了光吸收層之形狀外，第14圖至第19圖中之視窗結構可實質上相同或相似於第3圖及第4圖之視窗結構。因此，相似之參照符號表示相似之元件，且本文中將省略對其之詳細描述。
現參照第14圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第三光吸收層144。
與先前之實施例相同，第三光吸收層144可具有實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面，但第三光吸收層144亦可具有不垂直而是傾斜於視窗110之第一表面112之側壁。特別是，第三光吸收層144可具有可自相鄰於視窗110之第一表面112之底部部份往與視窗110之第一表面112相隔一距離之頂部部份增加之半徑。因此，可自物體反射、穿透視窗110並入射於相機感測器190上之光量可相對增加。
參照第15圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第四光吸收層146。第四光吸收層146可具有對於視窗110之第一表面112形成各種斜角之彎曲側壁。另外，第四光吸收層146之頂面為彎曲並因此不平行於視窗110之第一表面112。
現參照第16圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第五光吸收層148。
第五光吸收層148可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁及實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面，但不覆蓋第一光屏蔽層130之頂面。於例示性實施例中，第五光吸收層148可具有實質上較第一光屏蔽層130高之頂面。
現參照第17圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第六光吸收層150。第六光吸收層150可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側 壁及實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面，且可不存在於第一光屏蔽層130之頂面並與第一光屏蔽層130之頂面實質上共平面。
現參照第18圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第七光吸收層152。第七光吸收層152可具有對於視窗110之第一表面112傾斜之彎曲側壁，且可不存在於第一光屏蔽層130之頂面。於第18圖之例示性實施例中，第七光吸收層152可具有與第一光屏蔽層130實質上共平面之頂面。
現參照第19圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第八光吸收層154。第八光吸收層154可具有對於視窗110之第一表面112傾斜之彎曲側壁，且可不存在於第一光屏蔽層130之頂面。於第19圖之例示性實施例中，第八光吸收層154可具有較第一光屏蔽層130低之頂面，因此可僅覆蓋第一光屏蔽層130之側壁的一部分。
現轉向第20圖及第21圖，第20圖係為根據例示性實施例說明面對視窗結構之相機感測器之剖面圖，而第21圖係為第20圖之視窗結構之平面圖。更具體而言，第20圖係為第21圖之視窗結構沿著第21圖之線IV-IV’之剖面圖。除了視窗結構可不包含獨立於光屏蔽層之光吸收層，且光屏蔽層具有不同形狀外，第20圖與第21圖之視窗結構可實質上與第3圖及第4圖相同或相似。因此，相似之參照符號表示相似之元件，且本文中將省略對其之詳細描述。
參照第20圖及第21圖，視窗結構100可包含視窗110與依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第二光屏蔽層132。
第二光屏蔽層132可覆蓋第一設計層結構120且可形成於視窗110上。第二光屏蔽層132可具有能夠暴露視窗110之第一表面112之一部分之第一孔洞125中之第四孔洞137。於例示性實施例中，當自頂側觀察時，第四孔洞137可具有圓形形狀，且第四孔洞137與第一孔洞125可為同心圓。
於例示性實施例中，第四孔洞137可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。即第二光屏蔽層132可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。
第二光屏蔽層132可包含黑色印刷層或灰色印刷層。第二光屏蔽層132可覆蓋第一設計層結構120，且因此可避免光於第一設計層結構120漫反射，從而可防止暈映。即第二光屏蔽層132可用作為於第3圖及第4圖中說明之視窗結構之第一光屏蔽層130及第一光吸收層140。
現轉向第22圖及第23圖，第22圖及第23圖係為說明根據其他例示性實施例之視窗結構之剖面圖。除了光屏蔽層側壁之形狀以外，第22圖及第23圖中之視窗結構可實質上與第3圖及第4圖相同或相似。因此，相似之參照符號表示相似之元件並於本文中省略對其之詳細描述。
現參照第22圖，視窗結構100可包含視窗110與依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第三光屏蔽層134。第三光屏蔽層134可具有不垂直而是傾斜或有斜角於視窗110之第一表面112之側壁。此允許自外部物體反射、穿透視窗110並經由第四孔洞137入射於相機感測器190之光量相對地增加。
現轉向第23圖，視窗結構100可替代地包含視窗110與依序堆疊於視窗110上之第一設計層結構120及第四光屏蔽層136。第四光屏蔽層136可具有不垂直於視窗110之第一表面112但係彎曲的之彎曲側壁。
現轉向第24圖及第25圖，第24圖係為說明根據其他例示性實施例之視窗結構之剖面圖，而第25圖係為第24圖之視窗結構之平面圖。更具體而言，第24圖係為第25圖之視窗結構沿著第25之線V-V’切割之剖面圖。於第24圖中，亦呈現可設置面對視窗結構100之相機感測器190。除了設計層結構、光屏蔽層及光吸收層之形狀外，第24圖中之視窗結構100可實質上與第3圖及第4圖相同或相似。因此，相似之參照符號表示相似之元件並於本文中省略對其之詳細描述。
現參照第24圖及第25圖，視窗結構100可包含視窗110、依序堆疊於視窗110上之第二設計層結構121及第五光屏蔽層133及第九光吸收層156。
第二設計層結構121可包含依序堆疊於視窗110之第一表面112上之第一設計層122及第三設計層123。第三設計層123可整個覆蓋第一設計層122。因此，第二設計結構121之第五孔洞127可具有與視窗110之第一表面112之距離無關之一致的半徑。
第五光屏蔽層133可形成於第二設計層結構121之頂面(即第三設計層123之頂面)上，且可整個覆蓋第三設計層123。因此，第五光屏蔽層133之第六孔洞139可具有與第五孔洞127實質上相同之半徑。因 此，包含第五孔洞127及第六孔洞139之第二孔洞結構可具有與視窗110之第一表面112之距離無關之一致的半徑。
第九光吸收層156可覆蓋至少一部分藉第五孔洞127暴露之第二設計層結構121，即第一設計層122與第三設計層123之側壁，且可具有暴露視窗110之第一表面112之一部分的第七孔洞155。第七孔洞155可形成於包含第五孔洞127及第六孔洞139之第二孔洞結構中，且可具有小於第二孔洞結構之半徑。當自頂側觀察時，第七孔洞155可具有圓形形狀，且第七孔洞155與第五孔洞127和/或第六孔洞139可為同心圓。於例示性實施例中，第七孔洞155可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。即第九光吸收層可具有實質上垂直於視窗110之第一表面112之側壁。
於例示性實施例中，第九光吸收層156可不僅覆蓋第二設計層結構121之部份亦可覆蓋藉由第六孔洞139暴露或定義第六孔洞139之第五光屏蔽層133之側壁及相鄰於第六孔洞139之第五光屏蔽層133之頂面的一部分。當自頂側觀察時，第九光吸收層156可具有於圓形之邊界。第九光吸收層156之邊界與第五孔洞127及第六孔洞139可為同心圓。於例示性實施例中，第九光吸收層156可具有實質上平行於視窗110之第一表面112之頂面。
現轉向第26圖，第26圖係為說明根據另一實施例之視窗結構剖面圖。除了視窗結構更進一步包含聚乙烯對苯二甲酸酯(polyethylene terephthalate(PET))薄膜170外，第26圖中之視窗結構可 實質上與第3圖及第4圖相同或相似。因此，相似之參照符號表示相似之元件並於本文中省略對其之詳細描述。
現參照第26圖，視窗結構100可包含視窗110、聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170、依序堆疊於聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170上之第一設計層結構120及第一光屏蔽層130與第一光吸收層140。
第一設計層結構120可以高品質印刷且可具有暴露聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170之頂面的一部分之第一孔洞125，且第一光屏蔽層130可具有與第一孔洞125成流體連通之第二孔洞135。第一光吸收層140可覆蓋至少一部份之由第一孔洞125及第二孔洞135暴露之第一設計層結構120，且具有暴露一部分聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170頂面之第三孔洞145。
透光之聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170可形成於視窗110之第一表面112上，且因此入射於相機感測器190之光量不受聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜170影響。
現轉向第27圖，第27圖係為說明根據另一例示性實施例之裝備有相機及視窗結構之電子裝置之剖面圖。電子裝置可包含藉參照第3圖及替4圖說明之視窗結構及相機感測器，因此於本文中省略對其之詳細描述。
現參照第27圖，電子裝置可包含基板180、顯示面板200、可撓式印刷電路板(FPCB)220、視窗結構110及相機感測器190。
基板180可具有用以驅動電子裝置之各種類型之電路線路。於例示性實施例中，基板180可為PCB。
顯示面板200可為，例如有機發光二極體(OLED)顯示面板、液晶顯示(LCD)面板或電漿顯示面板(PDP)等。當顯示面板200為液晶顯示面板或電漿顯示面板時，電子裝置可進一步包含用以提供光予面板之背光組件。於例示性實施例中，顯示面板200可藉黏著劑，例如緩衝帶(cushion tape)210附著於基板180。
可撓式印刷電路板220可包含可撓式樹脂且可黏接於基板180之表面以提供驅動信號予顯示面板200。可撓式印刷電路板220可與顯示面板200之第一表面接觸。第27圖說明可撓式印刷電路板220係彎曲以接觸基板180面向遠離顯示面板200之第二表面，但可撓式印刷電路板220可替代性地彎曲以接觸基板180面向顯示面板200之第一表面。
視窗結構110可形成於相對於顯示面板200之第一表面之顯示面板200之第二表面上。視窗結構100可藉黏著劑，例如光學彈性樹脂(super view resin(SVR))附著於顯示面板200。
相機感測器190可面對視窗結構100之第三孔洞145而設置，且可藉例如相機集裝箱(camera container)設置於基板180上。
安裝於電子裝置之相機感測器190可面對包含第一設計層結構120之視窗結構100之第三孔洞145而設置，且可防止因為第一光吸收層140的存在而導致之暈映。
現轉向第28圖及第29圖，第28圖及第29圖係為說明根據例示性實施例之製造裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置之方法之剖面圖。更具體而言，第28圖及第29圖係為說明製造第27圖之電子裝置之方法，然而並不限於此。
現參照第28圖，可執行實質上與參照第6圖至第13圖說明者相同或相似之製程以製造視窗結構100。
現參照第29圖，相機集裝箱185可安裝於基板180之第一表面上，且相機感測器190可安裝於相機集裝箱185中。另外，顯示面板200可附著於基板180之第一表面。於此實施例中，基板180之第一表面與顯示面板200之第一表面可藉黏著劑，例如緩衝帶210，彼此附著。
可撓性印刷電路板220可附著於顯示面板200之第一表面，且可如第29圖所說明的被彎曲至基板180之第二表面或相對於基板180之第二表面之第一表面。
再次參照回第27圖，光傳輸黏著劑230，例如光學彈性樹脂可塗附於視窗結構100之第一光屏蔽層130上以使視窗結構100可附著於顯示面板200之第二表面以製造電子裝置。視窗結構100可被附著以使第三孔洞145可面對安裝於基板180之相機感測器190。
現轉向第30圖，第30圖係為說明根據例示性實施例，裝備有包含視窗結構之相機之電子裝置之剖面圖。除了視窗結構之組件外，第30圖之電子裝置可實質上與第27圖相同或相似。即第30圖之視窗結構不包含第27圖之第一光吸收層，而替代地延伸第二光屏蔽層以覆蓋第一設計層結構120之暴露部份，從而避免暈映影像。因此，相似之參照符號表示相似之元件並於本文中省略對其之詳細描述。
根據例示性實施例之視窗結構可應用於任何種類之具有顯示面板及相機之電子裝置。
以上為例示性實施例之說明，且不解釋為受其限制。雖然已描述一些例示性實施例，領域之習知技術者將輕易的意識到不實質上脫離例示性實施例之新穎性教示及優點的例示性實施例之各種修改為可能。據此，意圖包含所有此些修改於如申請專利範圍定義之例示性實施例範圍。於申請專利範圍中，手段功能條款意圖涵蓋描述於本文之結構如執行所述功能而不僅是結構上等同亦包含等同結構。因此，將理解的是前述為例示性實施例之說明而不解釋為受限於所揭露之具體實施例，且對揭露之例示性實施例之修改或是其他例示性實施例皆意圖包含於附隨申請專利範圍之範疇內。本發明係由附隨之申請專利範圍定義，並包含申請專利範圍之均等物於其中。
100‧‧‧視窗結構
110‧‧‧視窗
112‧‧‧第一表面
114‧‧‧第二表面
120‧‧‧第一設計層結構
122‧‧‧第一設計層
124‧‧‧第二設計層
125‧‧‧第一孔洞
130‧‧‧第一光屏蔽層
135‧‧‧第二孔洞
140‧‧‧第一光吸收層
145‧‧‧第三孔洞
180‧‧‧基板
190‧‧‧相機感測器

Claims (40)

  1. 一種視窗結構，其包含：一視窗；一設計層結構，排列於該視窗上，該設計層結構包含暴露該視窗之一部分之一第一孔洞；一光屏蔽層，排列於該設計層結構上，該光屏蔽層包含與該第一孔洞成流體連通之一第二孔洞；以及一光吸收層，覆蓋由該第一孔洞及該第二孔洞暴露之該設計層結構之至少一部分，該光吸收層包含暴露該視窗之一部分之一第三孔洞；其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第二孔洞具有大於該第一孔洞之半徑。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第一孔洞及該第二孔洞具有實質上相同之半徑。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該光吸收層覆蓋由該第二孔洞暴露之該光屏蔽層之側壁的至少一部分。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之視窗結構，其中該光吸收層覆蓋該光屏蔽層之一頂面的一部分。
  6. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該光吸收層不存在於該光屏蔽層之一頂面。
  7. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該設計層結構包 含依序堆疊於該視窗上之複數個設計層。
  8. 如申請專利範圍第7項所述之視窗結構，其中該第一孔洞具有自相鄰於該視窗之一頂面之一底部部份往最遠於該視窗之該頂面之一頂部部份增加之半徑的一階梯形狀。
  9. 如申請專利範圍第7項所述之視窗結構，其中該第一孔洞於實質上垂直於該視窗之一頂面之方向具有一致之半徑。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之視窗結構，其中該第一孔洞與該第二孔洞具有實質上相同之半徑。
  11. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該設計層結構具有彩色或白色且該光屏蔽層與該光吸收層具有黑色或灰色。
  12. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該設計層結構、該光屏蔽層及該光吸收層中的每一個為一印刷層。
  13. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中當自頂側觀察時，該第一孔洞、該第二孔洞及該第三孔洞具有圓形邊界，且當自頂側觀察時，該光吸收層具有圓形、橢圓形或多邊形之邊界。
  14. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第三孔洞具有實質上垂直於該視窗之一頂面之側壁。
  15. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第三孔洞具有對於該視窗之一頂面傾斜之側壁。
  16. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第三孔洞具有一彎曲側壁。
  17. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，更包含排列於該視窗上之一聚乙烯對苯二甲酸酯(PET)薄膜，且其中該設計層結構 係排列於該聚乙烯對苯二甲酸酯薄膜上。
  18. 如申請專利範圍第1項所述之視窗結構，其中該第三孔洞作為一路徑，使入射於面對該光屏蔽層之一相機感測器之光穿透其中。
  19. 一種製造一視窗結構之方法，包含：於一視窗上形成一設計層結構，該設計層結構具有暴露該視窗之一部分的一第一孔洞；於該設計層結構上形成一光屏蔽層，該光屏蔽層具有與該第一孔洞成流體連通之一第二孔洞；以及形成一光吸收層覆蓋由該第一孔洞及該第二孔洞暴露之該設計層結構之至少一部分，該光吸收層具有暴露該視窗之一部分之一第三孔洞；其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
  20. 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該光屏蔽層之形成包含形成該光屏蔽層以使該第二孔洞具有大於該第一孔洞之半徑。
  21. 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該光吸收層之形成包含形成該光吸收層以覆蓋由該第二孔洞暴露之該光屏蔽層之側壁的至少一部分。
  22. 如申請專利範圍第21項所述之方法，其中該光吸收層之形成包含形成該光吸收層以覆蓋該光屏蔽層之一頂面的一部分。
  23. 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該設計層結構之形成包含依序堆疊複數個設計層於該視窗上。
  24. 如申請專利範圍第23項所述之方法，其中該設計層結構之形成包含形成該設計層結構以使該第一孔洞具有自相鄰於該視窗之一頂面之一底部部份往最遠於該視窗之該頂面之一頂部部份增加之半徑的一階梯形狀。
  25. 如申請專利範圍第19項所述之方法，其中該設計層結構之形成、該光屏蔽層之形成及該光吸收層之形成的每一個係由使用一網格之一網印製程所產生。
  26. 一種視窗結構，包含：一視窗；一設計層結構，排列於該視窗上，該設計層結構包含暴露該視窗之一部分之一第一孔洞；一光屏蔽層，排列於該視窗上，該光屏蔽層覆蓋該設計層結構並包含暴露該視窗之一部分之一第二孔洞；其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
  27. 如申請專利範圍第26項所述之視窗結構，其中該設計層結構包含依序堆疊於該視窗上之複數個設計層。
  28. 如申請專利範圍第27項所述之視窗結構，其中該第一孔洞具有自相鄰於該視窗之一頂面之一底部部份往最遠於該視窗之該頂面之一頂部部份增加之半徑的一階梯形狀。
  29. 如申請專利範圍第27項所述之視窗結構，其中該設計層結構具有彩色或白色，且該光屏蔽層具有黑色或灰色。
  30. 一種電子裝置，包含：一顯示面板，排列於一基板上； 一視窗結構，排列於該顯示面板上，該視窗結構包含：一視窗；一設計層結構，排列於該視窗上，該設計層結構包含暴露該視窗之一部分之一第一孔洞；一光屏蔽層，排列於該設計層結構上，該光屏蔽層包含與該第一孔洞成流體連通之一第二孔洞；及一光吸收層，覆蓋由該第一孔洞及該第二孔洞暴露之該設計層結構之至少一部分，該光吸收層包含暴露該視窗之一部分之一第三孔洞；以及一相機，包含排列於該視窗結構與該基板間以偵測穿過該第三孔洞之光的一相機感測器；其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
  31. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該第二孔洞具有大於該第一孔洞之半徑。
  32. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該光吸收層覆蓋由該第二孔洞暴露之該光屏蔽層之側壁的至少一部分。
  33. 如申請專利範圍第32項所述之裝置，其中該光吸收層覆蓋該光屏蔽層之一頂面的一部分。
  34. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該設計層結構包含依序堆疊於該視窗上之複數個設計層。
  35. 如申請專利範圍第34項所述之裝置，其中該第一孔洞具有自相鄰於該視窗之一頂面之一底部部份往最遠於該視窗之該頂面之一頂部部份增加之半徑的一階梯形狀。
  36. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該設計層結構具有彩色或白色，且該光屏蔽層與該光吸收層具有黑色或灰色。
  37. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該視窗具有面對該基板之一第一表面及相對於該第一表面之一第二表面，且其中該設計層結構係排列於該視窗之該第一表面上。
  38. 如申請專利範圍第30項所述之裝置，其中該顯示面板為一有機發光二極體(OLED)顯示面板、一液晶顯示(LCD)面板或一電漿顯示面板(PDP)。
  39. 一種製造一電子裝置之方法，包含：於一基板上形成一顯示面板；於該基板上形成一相機感測器，該相機感測器與該顯示面板相隔；形成一視窗結構，包含：提供一視窗；於該視窗上形成一設計層結構，該設計層結構具有暴露該視窗之一部分的一第一孔洞；於該設計層結構上形成一光屏蔽層，該光屏蔽層具有與該第一孔洞成流體連通之一第二孔洞；及形成覆蓋由該第一孔洞及該第二孔洞暴露之該設計層結構之至少一部分的一光吸收層，該光吸收層具有暴露該視窗之一部分之一第三孔洞；以及附著該視窗結構於該顯示面板上以使該第三孔洞重疊該相機感測器且該設計層結構面對該基板； 其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
  40. 一種電子裝置，包含：一顯示面板，排列於一基板上；一視窗結構，排列於該顯示面板上，該視窗結構包含：一視窗；一設計層結構，排列於該視窗上，該設計層結構包含暴露一部分該視窗之一第一孔洞；及一光屏蔽層，排列於該視窗上，該光屏蔽層覆蓋該設計層結構並包含暴露該視窗之一部分之一第二孔洞，以及一相機，包含排列於該視窗結構與該基板間以偵測穿過該第二孔洞之光的一相機感測器；其中該光屏蔽層不同於該設計層結構。
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