CN109461372B - 用于显示装置的盖窗和该盖窗的制造方法 - Google Patents

Abstract

提供了一种用于显示装置的盖窗和制造该盖窗的方法。所述用于显示装置的盖窗包括：透光基底；模制层，位于透光基底的边缘的至少一部分上，并具有形成在其表面上的不均匀图案；无机材料图案层，位于模制层上并暴露模制层的一部分；以及印刷层，位于模制层上，并覆盖模制层的暴露部分。

Description

用于显示装置的盖窗和该盖窗的制造方法

本申请要求于2017年9月6日在韩国知识产权局提交的第10-2017-0114053号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的公开内容通过引用全部包含于此。

技术领域

本发明的实施例涉及一种用于显示装置的盖窗以及该盖窗的制造方法。

背景技术

显示装置是利用有机发光元件、液晶元件等显示图像的装置。显示装置应用于TV、监视器、笔记本电脑、平板PC、移动电话等。

显示装置可以包括用于保护显示面板的盖窗。因为移动电话和平板PC可以在移动的同时使用，并且也因为当添加触摸功能时其连续地接收外力，所以移动电话和平板PC容易被暴露于外部环境。因此，盖窗的功能更加重要。

通常，盖窗的背表面可以提供有用于使盖窗的非显示区域是反射的、金属性的或有光泽的图案。例如，当在其表面上具有凹凸图案的树脂层和通过沉积无机材料形成的层设置在一起时，可以实现反射或光泽性质。

然而，在制造盖窗的实际工艺中，树脂层和沉积层的尺寸彼此不一致的偏置会发生。这会导致在盖窗中将视觉上识别金带(golden band)，或者会导致将劣化盖窗的可视性。

发明内容

因此，为了解决以上的技术问题，本发明的实施例的方面提供了一种用于显示装置的盖窗，所述盖窗可以防止金带在视觉上被识别或可视性被劣化的现象。

然而，本发明的实施例的方面不限于在此所阐述的方面。通过参考以下给出的详细描述，本发明的实施例的以上和其它方面对本发明的实施例所属领域的普通技术人员而言将变得更加明显。

根据本发明的一个实施例，用于显示装置的盖窗包括：透光基底；模制层，位于透光基底的边缘的至少一部分上，并具有形成在其表面上的不均匀图案；无机材料图案层，位于模制层上并暴露模制层的部分；以及印刷层，位于模制层上，并覆盖模制层的暴露部分。

暴露部分可以包括模制层在平面上的内侧的一部分。

印刷层可以覆盖无机材料图案层的至少一部分。

印刷层可以完全覆盖模制层和无机材料图案层。

印刷层的内线可以在平面上与模制层的内线叠置。

模制层可以仅位于透光基底的一对相对边缘上。

仅具有平整表面的平坦模制层可以位于透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

印刷层可以位于透光基底的所有边缘上。

印刷层可以包括用于基本上阻挡可见光的颜色。

盖窗还可以包括掩模印刷层，所述掩模印刷层位于无机材料图案层上，并且与无机材料图案层完全叠置。

印刷层可以覆盖掩模印刷层的至少一部分。

根据本发明的另一实施例，一种制造用于显示装置的盖窗的方法包括：在透光基底的边缘的至少一部分上形成具有不均匀图案化表面的模制层；将无机材料沉积到透光基底上以形成覆盖透光基底和模制层的整个表面的无机材料沉积层；在无机材料沉积层与模制层叠置的区域的一部分上形成第一印刷层；使用第一印刷层作为掩模蚀刻无机材料沉积层，以去除无机材料沉积层的其上不形成有第一印刷层的部分，从而形成无机材料图案层；以及形成覆盖模制层的通过去除无机材料沉积层暴露的部分的第二印刷层。

可以通过印刷具有用于基本上阻挡可见光的颜色的墨水来形成第一印刷层和第二印刷层。

形成模制层的步骤可以包括使用光照射可光固化的树脂。

可以仅在透光基底的一对对应的边缘上形成模制层。

具有平坦表面的平坦模制层可以位于透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

第二印刷层可以位于透光基底的所有边缘上。

蚀刻无机材料沉积层的步骤可以暴露模制层在平面上的内侧的至少一部分。

第二印刷层可以覆盖第一印刷层的至少一部分。

形成第二印刷层的步骤可以包括完全覆盖模制层、无机材料图案层和第一印刷层。

附图说明

通过参照附图详细地描述本发明的实施例，本发明的实施例的以上和其它方面将变得更加明显，在附图中：

图1是根据本发明的实施例的用于显示装置的盖窗的平面图；

图2是沿图1中的线II-II'截取的剖视图；

图3至图5是根据本发明的其它实施例的用于显示装置的盖窗的剖视图；

图6是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗的平面图；

图7是沿图6中的线VII-VII'截取的剖视图；

图8是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗的剖视图；以及

图9至图14是示出根据本发明的实施例的以逐步的方式制造用于显示装置的盖窗的工艺的剖视图。

具体实施方式

通过参照实施例的以下的详细描述和附图，可以更加容易地理解发明构思的特征及其实现方法。在下文中，将参照附图更加详细地描述实施例。然而，本发明可以以各种不同的形式实施，并且不应被解释为仅限于在此所示出的实施例。相反，提供这些实施例作为示例使得本公开将是彻底的和完整的，并且将向本领域技术人员充分地传达本发明的方面和特征。因此，可以不描述对具有用于完整地理解本发明的方面和特征的本领域普通技术的技术人员来说不必要的工艺、元件和技术。除非另外指出，否则同样的附图标记贯穿附图和书面描述表示同样的元件，因此将不重复其描述。另外，将不示出与实施例的描述不相关的部分，以使描述清楚。在附图中，为了清楚，可以夸大元件、层和区域的相对尺寸。

在以下的描述中，出于解释的目的，阐述了许多具体细节以提供各种实施例的彻底的理解。然而，明显的是，可以在没有这些具体细节或者具有一个或更多个等同布置的情况下实践各种实施例。在其它情况下，以框图形式示出了公知的结构和装置，以避免不必要地使各种实施例不清楚。

将理解的是，尽管在此可以使用术语“第一”、“第二”、“第三”等来描述各种元件、组件、区域、层和/或部分，但是这些元件、组件、区域、层和/或部分不应受这些术语限制。这些术语用于将一个元件、组件、区域、层或部分与另一元件、组件、区域、层或部分区分开。因此，在不脱离本发明的精神和范围的情况下，以下描述的第一元件、组件、区域、层或部分可以被命名为第二元件、组件、区域、层或部分。

为了易于解释，在此可以使用诸如“在……之下”、“在……下方”、“下”、“在……下”、“在……上方”、“上”等的空间相对术语来描述如图中示出的一个元件或特征与另外的元件或特征的关系。将理解的是，除了图中描绘的方位之外，空间相对术语还意图包含装置在使用中或在操作中的不同方位。例如，如果图中的装置被翻转，则被描述为“在”其它元件或特征“下方”、“之下”或“下”的元件随后将被定位为“在”所述其它元件或特征“上方”。因此，示例术语“在……下方”和“在……下”可以包含上方和下方两种方位。装置可以被另外定位(例如，旋转90度或在其它方位)，并且应相应地解释在此使用的空间相对描述语。相似地，当第一部分被描述为布置“在”第二部分“上”时，这表示第一部分布置在第二部分的上侧或下侧处而不限于基于重力方向的其上侧。

将理解的是，当元件、层、区域或组件被称作“在”另一元件、层、区域或组件“上”、“连接到”或“结合到”另一元件、层、区域或组件时，该元件、层、区域或组件可以直接在所述另一元件、层、区域或组件上、直接连接到或直接结合到所述另一元件、层、区域或组件，或者可以存在一个或更多个中间元件、层、区域或组件。然而，“直接连接/直接结合”指一个组件直接连接或直接结合另一组件而没有中间组件。同时，可以相似地解释描述诸如“在……之间”、“紧密地在……之间”或者“与……相邻”和“与……直接相邻”的组件之间的关系的其它表述。另外，还将理解的是，当元件或层被称作“在”两个元件或层“之间”时，该元件或层可以是所述两个元件或层之间的唯一的元件或层，或者也可以存在一个或更多个中间元件或层。

在此使用的术语仅是出于描述具体实施例的目的，而不是意图成为本发明的限制。如在此使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式“一”、“一个(种、者)”也意图包括复数形式。还将理解的是，当在本说明书中使用术语“包括”、“具有”和“包含”及其变型时，说明存在陈述的特征、整体、步骤、操作、元件和/或组件，但是不排除存在或添加一个或更多个其它特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或它们的组。如在此使用的，术语“和/或”包括一个或更多个相关所列项的任意组合和所有组合。

如在此使用的，术语“基本上”、“大约”、“近似”和相似术语用作近似术语而不是用作程度术语，并且意图解释将被本领域普通技术人员认识到的测量值或计算值的固有偏差。如在此使用的，术语“使用”及其变型可以被认为分别与术语“利用”及其变型同义。另外，术语“示例性”意图指示例或图示。

当某些实施例可以被不同地实施时，可以与所描述的顺序不同地执行具体工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本上同时执行，或者可以以与所描述的顺序相反的顺序执行。

在此参照作为实施例和/或中间结构的示意性图示的剖面图示来描述各种实施例。如此，预计将出现例如由制造技术和/或公差引起的图示的形状的变化。另外，出于描述根据本公开的构思的实施例的目的，在此公开的特定结构的或功能性的描述仅是说明性的。因此，在此公开的实施例不应被解释为限于具体示出的区域的形状，而是包括例如由制造引起的形状的偏差。例如，示出为矩形的注入区域将通常在其边缘处具有倒圆或弯曲的特征和/或注入浓度的梯度，而不是从注入区域到非注入区域的二元变化。同样地，通过注入形成的埋区会导致在埋区与通过其发生注入的表面之间的区域中的一些注入。因此，图中示出的区域实际上是示意性的，并且它们的形状不意图示出装置的区域的实际形状，也不意图成为限制。另外，如本领域技术人员将认识到的，在都不脱离本公开的精神或范围的情况下，所描述的实施例可以以各种不同的方式来进行修改。

这里描述的根据本发明实施例的电子或电气装置和/或任何其它相关的装置或组件可以利用任何合适的硬件、固件(例如专用集成电路)、软件或者软件、固件和硬件的组合来实施。例如，这些装置的各种组件可以形成在一个集成电路(IC)芯片上或形成在单独的IC芯片上。另外，这些装置的各种组件可以在柔性印刷电路膜、载带封装件(TCP)、印刷电路板(PCB)上实施或者在一个基板上形成。另外，这些装置的各种组件可以是进程或线程，所述进程或线程在一个或更多个计算装置中的一个或更多个处理器上运行，执行计算机程序指令并且与用来执行在此描述的各种功能的其它系统组件交互。计算机程序指令存储在存储器中，所述存储器可以在使用诸如以随机存取存储器(RAM)为例的标准存储器装置的计算装置中实施。计算机程序指令也可以存储在诸如以CD-ROM或闪存驱动器等为例的其它非暂时性计算机可读介质中。另外，本领域技术人员应认识到的是，在不脱离本发明的实施例的精神和范围的情况下，各种计算装置的功能可以组合或集成到单个计算装置中，或者特定计算装置的功能可以分布在一个或更多个其它计算装置上。

除非另外定义，否则在此使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本发明所属领域的普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。还将理解的是，除非在此明确这样定义，否则术语(诸如在通用字典中定义的术语)应被解释为具有与相关领域和/或本说明书的上下文中它们的含义相一致的含义，并且应不以理想化或过于形式化的含义来进行解释。

图1是根据本发明的实施例的用于显示装置的盖窗的平面图，图2是沿图1中的线II-II'截取的剖视图。

参照图1，用于显示装置的盖窗1在平面上包括第一区域A和第二区域B。第二区域B位于第一区域A的外围上。如图1中所示，当第一区域A以矩形形状形成时，第二区域B可以位于沿第一区域A的边缘的外侧上。

第一区域A可以是能够透射可见光的透光区域，第二区域B可以是基本上阻挡可见光的透射的光阻挡区域。当盖窗1结合到显示面板时，盖窗1的第一区域A可以是从显示面板输出的图像在视觉上被识别的显示区域，第二区域B可以是图像不在视觉上被识别的非显示区域。

在第二区域B的内边缘处，可以从盖窗1的前方向看到位于盖窗1的背表面上的第二印刷层70的至少一部分。除非在此另外描述，否则在图中，盖窗1的“前表面”指在平面图中(诸如在图1中)视觉上被识别的表面，并且指在剖视图中(诸如在图2中)面向上的表面。“背表面”指与前表面相对的表面。随后将描述第二印刷层70的细节。

透光孔H可以形成在第二区域B的一部分中。透光孔H可以是与可包含在显示装置中的照相机模块、光学传感器等对应的区域。透光孔H可以是仅定位有盖窗1的透光构件的区域，并可以是与第一区域A具有基本上相同的结构的区域。然而，本发明不限于此，透光孔H可以是通过盖窗1形成或由盖窗1限定的部分。

在下文中，将参照剖视图描述用于显示装置的盖窗1的具体结构。

参照图2，显示装置的盖窗1包括透光基底/透明基底10、位于透光基底10的背表面上的模制层40、位于模制层40上的无机材料图案层50以及位于模制层40上的第二印刷层70。盖窗1还可以包括设置在透光基底10与模制层40之间的粘合层20和膜层30以及位于无机材料图案层50上的第一印刷层60。

盖窗1的第二区域B可以被限定为定位有模制层40、无机材料图案层50、第一印刷层60和第二印刷层70的区域。

透光基底10可以是这样的基体基底：其能够通过提供模制层40、无机材料图案层50等位于其背表面上的空间来支撑盖窗1的组件。

透光基底10可以由诸如玻璃的透明材料制成，以使可见光基本上透过。然而，本发明不限于此，透光基底10可以包含诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)的透明聚合物材料。

当盖窗1结合到显示面板时，从显示面板提供的光可以参照图2从透光基底10的背/下表面向上透射。

粘合层20和膜层30可以位于透光基底10的背表面上。粘合层20可以用来将膜层30附着并固定到透光基底10，膜层30可以被设置为其上定位有盖窗1的组件的基体表面。粘合层20和膜层30两者可以由透光材料制成。

粘合层20可以包括光学透明粘合剂(OCA)或光学透明树脂(OCR)。光学透明粘合剂(OCA)和光学透明树脂(OCR)可以是压敏粘合剂(PSA)。然而，本发明不限于此。

膜层30可以包含诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯或聚甲基丙烯酸甲酯的透明聚合物材料。然而，本发明不限于此。

模制层40可以位于膜层30上。模制层40可以位于盖窗1的边缘的至少一部分上。图1和图2示出了模制层40位于盖窗1的整个边缘上的情况。模制层40可以位于与第二区域B基本上对应的区域中。

参照图2，模制层40可以设置有形成在其下表面上的不均匀图案。在实施例中，形成在模制层40的下表面上的不均匀图案可以是在视觉上被识别为平面细线图案的发线图案，但不限于此。

形成在模制层40的下表面上的不均匀图案可以用于与随后将描述的无机材料图案层50一起实现第二区域B的反射性质和光泽。模制层40可以是通过使可光固化的树脂光固化而形成的层。

无机材料图案层50可以位于模制层40上。无机材料图案层50可以暴露模制层40的至少一部分。因此，无机材料图案层50和模制层40可以彼此不完全叠置。图2示出了无机材料图案层50暴露模制层40在平面上的内侧(图2中的右侧)的一部分(M)的情况。即，在本实施例中，无机材料图案层50不位于模制层40的内侧的一部分上一定余量(例如，预定余量)M，因此，相比于无机材料图案层50的内侧，模制层40的内侧可以朝向盖窗1的内侧突出更远。

无机材料图案层50可以包含诸如金属、金属氧化物或非金属氧化物的无机材料。无机材料图案层50可以是通过在盖窗1的整个表面上沉积无机材料然后通过蚀刻沉积的无机材料而形成的层。在实施例中，无机材料图案层50可以通过非导电真空金属化(NCVM)工艺来形成，但不限于此。

无机材料图案层50可以直接位于模制层40的一个表面上，以使第二区域B具有反射性质和光泽。

第一印刷层60可以位于无机材料图案层50上。第一印刷层60可以是可用作形成无机材料图案层50的工艺中的蚀刻掩模的掩模印刷层。因此，第一印刷层60可以与无机材料图案层50完全叠置。即，在平面上，第一印刷层60的面积可以与无机材料图案层50的面积基本上相同。

第一印刷层60可以是通过印刷具有能够基本上阻挡诸如黑光或蓝光的可见光的透射的颜色的墨水而形成的层。即，第一印刷层60可以是光阻挡图案层。第一印刷层60可以通过丝网印刷这样的光阻挡墨水来形成，但本发明不限于此。

第二印刷层70可以位于模制层40上。第二印刷层70可以覆盖模制层40的暴露部分，这是因为无机材料图案层50不位于模制层40的暴露部分上。因此，模制层40的暴露部分可以与第二印刷层70直接接触。

相似地，第二印刷层70可以是通过印刷具有能够基本上阻挡诸如黑光或蓝光的可见光的透射的颜色的墨水而形成的层。第一印刷层60和第二印刷层70的墨水的颜色可以相同或不同。然而，本发明不限于此。

当无机材料图案层50也位于不定位有模制层40的区域中时，无机材料图案层50会在盖窗1的前表面处在视觉上被识别为金带。如果无机材料图案层50不完全覆盖模制层40，则会使可视性劣化。为了防止这样的现象，模制层40和无机材料图案层50可以彼此完全叠置。然而，模制层40和无机材料图案层50中的任何一个会在实际工艺中延伸或缩短一定余量或者一定偏移量。

因此，在本实施例中，当形成无机材料图案层50时，无机材料图案层50可以被有意地形成为比模制层40窄一定余量(例如，预定余量)M，模制层40的暴露部分可以被第二印刷层70覆盖。因此，可以减少或防止仅无机材料图案层50存在时另外发生的金带现象，并且模制层40的不设置有无机材料图案层50的部分可以被挡光的第二印刷层70覆盖，以不对可视性产生负面影响。

如图2中所示，第二印刷层70可以覆盖第一印刷层60的一部分，并且也可以直接接触膜层30的一部分。然而，本发明不限于此，第二印刷层70的布置结构可以被修改，如随后将描述的其它实施例一样。

上述结构可以应用于透光孔H和与透光孔H相邻的第二区域B。相似地，通过该结构，可以防止金带现象和可视性的劣化。

图3是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗2的剖视图。

除了第二印刷层71覆盖整个第一印刷层60之外，图3的盖窗2与图1和图2的盖窗1相同。在下文中，将省略冗余的描述。

参照图3，第二印刷层71可以覆盖整个第一印刷层60，而不是仅覆盖第一印刷层60的一部分。因此，第二印刷层71可以完全覆盖模制层40和第一印刷层60。

图4是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗3的剖视图。

除了第二印刷层72的内边缘和模制层40的内边缘位于直线上之外，图4的盖窗3与图1和图2的盖窗1相同。在下文中，将省略冗余的描述。

参照图4，第二印刷层72的内线和模制层40的内线对准或者位于直线上。在此情况下，第二印刷层72的内线和模制层40的内线可以在平面上或在平面图中基本上彼此叠置。

图5是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗4的剖视图。

除了第二印刷层73覆盖整个第一印刷层60(如图3中示出)，并且第二印刷层73的内线和模制层40的内线位于直线上(如图4中示出)之外，图5的盖窗4与图1和图2的盖窗1相同。在下文中，将省略冗余的描述。

图6是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗5的平面图，图7是沿图6中的线VII-VII'截取的剖视图。

除了模制层40、无机材料图案层50和第一印刷层60仅位于与盖窗5的彼此对应的一对边缘上之外，图6和图7的盖窗5与图1和图2的盖窗1相同。在下文中，将省略冗余的描述。

参照图6和图7，可以从盖窗5的第二区域B的左边缘和右边缘省略模制层40、无机材料图案层50和第一印刷层60。即，模制层40、无机材料图案层50和第一印刷层60可以替代地仅在盖窗5的上边缘和下边缘上。例如，仅第二印刷层74可以位于第二区域B的左边缘和右边缘上以限定第二区域B。因此，仅盖窗5的上边缘和下边缘可以被构造为呈现出反射性质或光泽。因为位于盖窗5的上边缘和下边缘处的剖面结构与图1和图2中的剖面结构基本上相同，因此将省略其描述。

图8是根据本发明的另一实施例的用于显示装置的盖窗6的剖视图。

除了平坦的模制层41进一步位于左边缘和右边缘上之外，图8的盖窗6与图6和图7的盖窗5相同。在下文中，将省略冗余的描述。

参照图8，具有平整表面的平坦的模制层41可以位于盖窗6的不定位有模制层40、无机材料图案层50等的左边缘和右边缘上。因为平坦的模制层41具有低的表面粗糙度，因此基本上没有图案形成在其表面上，与不平坦图案形成在其表面上的模制层40不同，可以不产生反射性质或光泽。

平坦的模制层41可以位于膜层30的背表面上，第二印刷层75可以覆盖平坦的模制层41。

图9至图14是示出根据本发明的实施例的以逐步的方式制造用于显示装置的盖窗1的工艺的剖视图。

参照图9，首先，通过粘合层20将膜层30附着到透光基底10的一个表面。透光基底10的平面面积可以与膜层30的平面面积基本上相同。

参照图10，接着，在膜层30上形成模制层40。另外，在模制层40的表面上形成不均匀图案。在形成模制层40之后可以单独形成模制层40的表面图案，或者模制层40的表面图案可以与模制层40的形成同时形成。

在实施例中，将作为用于模制层40的材料的可光固化树脂施用于膜层30的一个表面上，将具有不平坦表面的单独的模具压在其上，然后使用光照射该树脂以固化该树脂，从而形成具有形成在其表面上的不均匀图案的模制层40。然而，本发明不限于此。

模制层40可以被形成为覆盖透光基底10的所有边缘，但本发明不限于此。在其它实施例中，如图6等中所示，可以仅在彼此对应的一对边缘上形成模制层40。

参照图11，接着，形成无机沉积层51以覆盖模制层40和膜层30的整个表面。可以通过在模制层40和膜层30上沉积无机材料来形成无机沉积层51。

参照图12，在无机沉积层51上形成第一印刷层60。可以在无机沉积层51与模制层40叠置的区域的一部分上形成第一印刷层60。即，第一印刷层60可以被形成为具有比模制层40的尺寸小的尺寸(例如，比模制层40的尺寸小一定余量M)。

可以通过在无机沉积层51上丝网印刷具有能够阻挡光的颜色的墨水来形成第一印刷层60。

参照图13，接着，使用第一印刷层60作为掩模来蚀刻无机沉积层51。因此，可以去除无机沉积层51的其上不形成第一印刷层60的部分，以形成被第一印刷层60覆盖的无机材料图案层50。另外，模制层40的表面可以被暴露一定余量M。

可以通过NCVM工艺来形成这种无机材料图案层50，但本发明不限于此。

参照图14，接着，可以在模制层40的暴露部分上形成第二印刷层70，以形成图1和图2中所示的盖窗1。模制层40的暴露部分可以与第二印刷层70直接接触。第二印刷层70可以直接覆盖第一印刷层60或膜层30的一部分。

可以通过在模制层40的暴露部分上丝网印刷具有能够阻挡光的颜色的墨水来形成第二印刷层70。

如上所述，根据本发明的实施例，用于显示装置的盖窗中的无机材料图案层被形成为比模制层窄一定余量或者一定偏移量，并且模制层的暴露部分被印刷层覆盖，从而防止金带在视觉上被识别或盖窗的可视性被劣化的现象。

本发明的实施例的方面不受前述限制，在此预测其它各种效果。

尽管出于说明性的目的已经公开了本发明的实施例，但是本领域技术人员将领悟的是，在不脱离如所附权利要求(并且其功能等同物将被包括)中公开的发明的范围和精神的情况下，能够进行各种修改、添加和替换。

Claims (20)

1.一种用于显示装置的盖窗，所述盖窗包括：

透光基底；

模制层，位于所述透光基底的边缘的至少一部分上，并具有形成在其表面上的不均匀图案；

无机材料图案层，位于所述模制层的第一表面上，并形成为比所述模制层窄一定余量以暴露所述模制层的所述第一表面的部分；以及

印刷层，位于所述模制层的所述第一表面上，并覆盖所述模制层的所述第一表面的被暴露部分。

2.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述被暴露部分包括所述模制层在平面上的内侧的一部分。

3.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层覆盖所述无机材料图案层的至少一部分。

4.根据权利要求3所述的盖窗，其中，所述印刷层完全覆盖所述模制层和所述无机材料图案层。

5.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层的内线在平面上与所述模制层的内线叠置。

6.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述模制层仅位于所述透光基底的一对相对边缘上。

7.根据权利要求6所述的盖窗，其中，仅具有平整表面的平坦模制层位于所述透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

8.根据权利要求6所述的盖窗，其中，所述印刷层位于所述透光基底的所有边缘上。

9.根据权利要求1所述的盖窗，其中，所述印刷层包括用于阻挡可见光的颜色。

10.根据权利要求1所述的盖窗，所述盖窗还包括掩模印刷层，所述掩模印刷层位于所述无机材料图案层上，并且与所述无机材料图案层完全叠置。

11.根据权利要求10所述的盖窗，其中，所述印刷层覆盖所述掩模印刷层的至少一部分。

12.一种制造用于显示装置的盖窗的方法，所述方法包括以下步骤：

在透光基底的边缘的至少一部分上形成具有不均匀图案化表面的模制层；

将无机材料沉积到所述透光基底上，以形成覆盖所述透光基底的整个表面和所述模制层的第一表面的无机材料沉积层；

在所述无机材料沉积层与所述模制层叠置的区域的一部分上形成第一印刷层；

使用所述第一印刷层作为掩模蚀刻所述无机材料沉积层，以去除所述无机材料沉积层的其上不形成有所述第一印刷层的部分，从而形成比所述模制层窄一定余量以暴露所述模制层的所述第一表面的部分的无机材料图案层；以及

形成第二印刷层，所述第二印刷层覆盖所述模制层的所述第一表面的通过去除所述无机材料沉积层而被暴露的所述部分。

13.根据权利要求12所述的方法，其中，通过印刷具有用于阻挡可见光的颜色的墨水来形成所述第一印刷层和所述第二印刷层。

14.根据权利要求12所述的方法，其中，形成所述模制层的步骤包括使用光照射可光固化的树脂。

15.根据权利要求12所述的方法，其中，仅在所述透光基底的一对对应的边缘上形成所述模制层。

16.根据权利要求15所述的方法，其中，具有平坦表面的平坦模制层位于所述透光基底的边缘上，所述边缘在其上不设置有所述模制层。

17.根据权利要求15所述的方法，其中，所述第二印刷层位于所述透光基底的所有边缘上。

18.根据权利要求12所述的方法，其中，蚀刻所述无机材料沉积层的步骤暴露所述模制层在平面上的内侧的至少一部分。

19.根据权利要求12所述的方法，其中，所述第二印刷层覆盖所述第一印刷层的至少一部分。

20.根据权利要求19所述的方法，其中，形成所述第二印刷层的步骤包括完全覆盖所述模制层、所述无机材料图案层和所述第一印刷层。

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