TWI570450B - An optical film, a method of manufacturing the same, and an image display device provided with the same - Google Patents

An optical film, a method of manufacturing the same, and an image display device provided with the same Download PDF

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TWI570450B
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Description

光學薄膜及其製造方法與具備其之影像顯示裝置
本發明係關於一種至少於可見光區域中,顯示波長越短而雙折射(double refraction)越小之波長分散性(逆波長分散性)的光學薄膜,與具備該光學薄膜之影像顯示裝置。
利用因高分子的配向所產生的雙折射之光學構件被廣泛使用於影像顯示領域之中。於如此光學構件之中,有一種目的為色調的補償、視野角的補償等之組裝於影像顯示裝置之相位差板(相位差膜)。例如,於反射型之液晶顯示裝置(LCD)之中,有使用根據因雙折射所產生的相位差之延遲光程(retardation)為波長的四分之一之相位差板(λ/4板)。而於有機EL顯示器(OLED)之中,有目的為防止外光的反射,而使用組合有偏光板與λ/4板之抗反射板(參照日本特開2007-273275號公報)。此等顯示雙折射性之光學構件,今後被期待其用途可更進一步擴大。
以往,光學構件主要係使用三乙醯纖維素(triacetyl cellulose,TAC)為代表之纖維素衍生物、聚碳酸酯(poly carbonate)、聚環烯烴(polycycloolefin),該等一般之高分子,係顯示光的波長越短而雙折射越大(亦即相位差增大)之波長分散性。而為了使影像顯示裝置具有優良的顯示特性,則被期望其光學構件能與此相反而顯示光的波長愈短則雙折射愈小(亦即相位差減少)之波長分散性。於本說明書中,係將至少於可見光區域中之光的波長愈短則雙折射愈小之波長分散性,依照業界人士慣用之名稱、並依照一般高分子以及該高分子所形成之光學構件所顯示之與波長分散性相反之特性,稱為「逆波長分散性」。
顯示逆波長分散性之光學構件,於日本特開2001-337222號公報中揭示有包含具有正的固有雙折射之聚合物(聚降茨烯(polynorbornene))、與具有負的固有雙折射之聚合物(苯乙烯系聚合物)之樹脂組成物所構成之相位差板。此外,於日本特開2001-235622號公報中揭示有具有正的固有雙折射之分子鏈(降茨烯鏈)與具有負的固有雙折射之分子鏈(苯乙烯系鏈)之共聚物所構成之相位差板。
本發明之目的係提供一種顯示逆波長分散性之新穎光學薄膜。
本發明之光學薄膜具有由樹脂(A)所構成之層,該樹脂(A)具有下述式(1)、(2)或(3)所示之分子構造或雜環芳香族基,且該光學薄膜至少於可見光區域中顯示波長愈短則雙折射愈小之波長分散性。
上述式(1)中,n為1~4之範圍之自然數,R1 及R2 為各自獨立之氫原子或甲基。
本發明之影像顯示裝置係具備本發明之光學薄膜。
本發明之光學薄膜,因具有由上述式(1)、(2)或(3)所示之分子構造或具有雜環芳香族基之樹脂(A)所構成之層,而顯示逆波長分散性。
本說明書中之「樹脂」係較「聚合物」更廣的概念。樹脂亦可由例如1種或2種以上之聚合物所構成,視需要亦可含有聚合物以外的材料,例如紫外線吸收劑、抗氧化劑、填充劑等之添加劑、相溶劑、安定劑等。
[樹脂(A)]
樹脂(A)的構成,若具有由上述式(1)、(2)或(3)所示之分子構造或具有雜環芳香族基則無特別限定。若將式(1)、(2)、(3)所示之分子構造以及雜環芳香族基當成分子構造X,如此一來,例如樹脂(A)即為含有具有結合有分子構造X之構成單位(反覆單位)之聚合物。
樹脂(A)係例如丙烯酸樹脂(acrylic resin)或環烯烴樹脂(cycloolefin resin)。丙烯酸樹脂以及環烯烴樹脂,其具有高透明性以及機械特性,具有該樹脂(A)所構成之層之光學薄膜,其適合作為用於液晶顯示裝置(LCD)等之影像顯示裝置之光學薄膜。
丙烯酸樹脂為含有丙烯酸聚合物50重量%以上之樹脂,較佳為60重量%以上、更佳為70重量%以上、最佳為80重量%以上。環烯烴樹脂為為含有環烯烴聚合物50重量%以上之樹脂,較佳為60重量%以上、更佳為70重量%以上、最佳為80重量%以上。
光學薄膜當中,有一種用以保護於偏光板中之偏光元件的薄膜(偏光元件保護膜)。當樹脂(A)為具有式(1)所示之分子構造時,具有該樹脂所構成之層之本發明之光學薄膜,可適用作為偏光元件保護膜。
偏光元件保護膜係於接合於偏光元件的單面或雙面的狀態下使用。偏光元件以典型而言,係將聚乙醇膜藉碘或雙色性染料等之雙色性物質染色所形成,因染色有使用水溶液,故接合於偏光元件之偏光元件保護膜一般以具有透水性較佳。偏光元件與偏光元件保護膜的接合有使用水系的接著劑亦為偏光元件保護膜以具有透水性較佳的理由之一。例如,由環烯烴聚合物所構成之所構成之薄膜,因該聚合物之疏水性強故幾乎不具透水性,作為偏光元件保護膜而言未必適用。相對於此,式(1)所示之分子構造則具有高親水性。因此,樹脂(A)中之該構造的含有率等,會因具體之光學薄膜的構成而異,而具有該構造之樹脂(A)所構成之層之本發明之光學薄膜會顯示高透水性,故適用於偏光元件保護膜。
樹脂(A)亦可具有2種以上之分子構造X。
作為具有結合有分子構造X之構成單位的聚合物之一例而言,有例如由下述式(4)、(5)或(6)所示之單位或具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為構成單位之聚合物(B-1)。換句話說,樹脂(A)亦可含有由下述式(4)、(5)或(6)所示之單位或具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為構成單位之聚合物(B-1)。
該式(4)中,n為1~4之範圍之自然數,R1 及R2 為各自獨立之氫原子或甲基。
以下,將式(4)、(5)、(6)所示之單位以及具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位稱為構成單位Y。此外,將具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位記載為不飽和單量體單位。
構成單位Y中之式(4)、(5)、(6)所示之單位,係分別於由各式(1)、(2)、(3)所示之分子構造,藉由結合有聚合性基之乙烯基或伸甲基之單體的聚合所形成之構成單位。此外,不飽和單體單位以典型而言,係於雜環芳香族基藉由結合有聚合性基之乙烯基或伸甲基之單體的聚合所形成之構成單位。
構成單位Y係具有對聚合物(B-1)賦予負的固有雙折射的作用。藉由構成單位Y具有之該作用,本發明之光學薄膜因而顯示逆波長分散性。
所謂具有對聚合物賦予負(或正)的固有雙折射的作用,係指形成該單位之同元聚合物時,所形成之同元聚合物的固有雙折射會成為負(或正)之構成單位。聚合物本身之固有雙折射的正負,係取決於該單位所產生的雙折射、與聚合體所具有之其他構成單位所產生的雙折射的綜合結果。
聚合物之固有雙折射的正負,可根據以下方式判斷:於聚合物的分子鏈為一軸配向之層(例如板或膜)中,對該層之主面垂直入射的光之中,以對於平行於該層中之分子鏈的配向方向(配向軸)的振動部分之層的折射率n1,減去對於垂直於配向軸的振動部分之層的折射率n2,亦即「n1-n2」來判斷。固有雙折射的值,可針對各聚合物其分子構造計算求得。
樹脂之固有雙折射的正負,係取決於該樹脂所含之各聚合物所產生之雙折射的綜合結果。
式(4)所示之單位,係於式(1)所示之內醯胺(lactam)構造,藉由結合有聚合性基之乙烯基之單體(乙烯內醯胺)的聚合而形成。式(4)所示之單位係選自N-乙烯-2-吡咯烷酮單位、N-乙烯-ε-己內醯胺單位、N-乙烯-2-哌啶酮單位、N-乙烯-4-甲基-2-吡咯烷酮單位、N-乙烯-5-甲基-2-吡咯烷酮單位以及N-乙烯-ω-庚內醯胺單位之至少一種。
式(5)所示之單位,係乙烯蔥(vinylanthracene)單位。該單位,係於式(2)所示之蔥構造,藉由結合有聚合性基之乙烯基之單體(乙烯蔥)的聚合而形成。此外,式(5)所示之環上的氫原子的一部分亦可置換為於下述式(8)中例示之作為有機殘基之基。
式(6)所示之單位,係二苯富烯(dibenzofulvene)單位。該單位,係於式(3)所示之茀(fluorene)構造,藉由結合有聚合性基之伸甲基之單體(二苯富烯)的聚合而形成。此外,式(6)所示之環上的氫原子的一部分亦可置換為於下述式(8)中例示之作為有機殘基之基。
不飽和單體單位並無特別限定,例如該單位具有之雜環芳香族基並無別限定。雜環芳香族基中之雜原子以典型而言,為氧原子、硫原子或氮原子,而以具有優良的使聚合物(B-1)中雙折射的波長分散性增大的作用而言,以氮原子較佳。若聚合物(B-1)中雙折射的波長分散性增大,則隨著構成可得到較強的逆波長分散性等,而提升本發明之光學薄膜中逆波長分散性之控制的自由度。
雜環芳香族基,例如為選子咔唑基、吡啶基、咪唑基、以及噻吩基之至少一種。
不飽和單體單位,例如為選自乙烯咔唑單位、乙烯吡啶單位、乙烯咪唑單位、以及乙烯噻吩單位之至少一種。
乙烯咔唑單位表示於以下之式(7)。此外,式(7)所示環上的氫原子的一部分亦可置換為於下述式(8)中例示之作為有機殘基之基。
以具有特別優良的使聚合物(B-1)中雙折射的波長分散性增大的作用而言,不飽和單體單位較佳為選自乙烯咔唑單位以及乙烯吡啶單位之至少一種,更佳為乙烯咔唑單位。
聚合物(B-1)亦可具有2種以上之構成單位Y,若可得到顯示逆波長分散性之光學薄膜,則樹脂(A)亦可含有聚合物(B-1)以外的聚合物。
具有結合有分子構造X構成單位之聚合物的其他例,可為下述之聚合物:具有至少一部分之分子構造或官能基因分子構造X而變性之構成單位。
該聚合物,例如為具有羥基或乙烯基因分子構造X而變性之重複單位,三乙烯纖維素(TAC)等之纖維素衍生物。藉由分子構造X的結合,纖維素衍生物的重複單位之至少一部分會變得具有對該衍生物賦予負的固有雙折射之作用。藉由基於分子構造X的變性所產生的該作用,使得本發明之光學薄膜顯示逆波長分散性。
[光學薄膜]
以下,針對本發明之光學薄膜的具體例來加以說明。
(實施形態1)
圖1顯示本發明之光學薄膜之一例。圖1所示之光學薄膜1係由單層之層2所構成,層2係由含有具有構成單位Y之聚合物(B-1)之樹脂(A)所構成。本實施形態中,聚合物(B-1)之固有雙折射為負值,樹脂(A)係進一步含有具有正的固有雙折射之聚合物(B-2)。樹脂(A)係含有聚合物(B-1)與(B-2)之組成物。
樹脂(A)雖含有固有雙折射為負值之聚合物(B-1)與固有雙折射為正值之聚合物(B-2),對兩者之聚合物若賦予同一方向之配向時,因各聚合物之慢軸(或快軸)為垂直,故雙方的雙折射會抵消。此處,雙折射其抵消的程度會隨波長而改變,故會產生雙折射(例如相位差)之逆波長分散性。
光學薄膜1雖為單層但仍顯示逆波長分散性。因此,可一面薄膜化而得到所需之光學特性,且可實現具備光學薄膜1之影像顯示裝置之更加小型化、輕量化等。此外,光學薄膜1相較於藉積層複數之層而實現逆波長分散性之光學薄膜,因不需要各層之接合角度的調整故生產性高。
若聚焦於聚合物(B-1)、(B-2)的配向,光學薄膜1係賦有配向之含有聚合物(B-1)以及(B-2)之樹脂A所形成之構件。至於賦予樹脂(A)配向之方法,可將形成膜之樹脂(A)加以拉伸即可。
聚合物(B-2)若具有正的固有雙折射則無特別限定。
聚合物(B-2)較佳為於主鏈具有環構造。藉由於主鏈具有環構造,聚合物(B-2)以及含有該聚合物之樹脂(A)的玻璃轉移溫度(Tg)會上升,而成為具有高耐熱性之光學薄膜1。如此高耐熱性之光學薄膜,例如於影像顯示裝置中,可接近光源等發熱部而配置。此外,因可提高後加工(例如塗佈等之表面處理)時之加工溫度,故光學薄膜1的生產性變高。
於主鏈具有環構造之聚合物(B-2)以及含有該聚合物之樹脂(A)的Tg,例如為110℃以上。依據環構造之種類、聚合物(B-2)中環構造的含有率、以及樹脂(A)中聚合物(B-2)的含有率,該Tg可為115℃以上、120℃以上、甚至130℃以上。Tg可依據JIS K7121來求得。
於主鏈具有環構造之聚合物(B-2)並無特別限定,例如可為選自環烯烴聚合物以及纖維素衍生物中至少一種。
聚合物(B-2)亦可為(甲基)丙烯酸聚合物,此情況下,可成為光學特性以及機械強度、成形加工性以及表面強度等各種特性經提升之光學薄膜。
(甲基)丙烯酸聚合物係(甲基)丙烯酸酯單位佔全構成單位的50莫耳%以上之聚合物(較佳為60莫耳%以上、更佳為70莫耳%以上)。(甲基)丙烯酸聚合物亦可含有(甲基)丙烯酸酯單位之衍生物中之環構造,此情況下,若(甲基)丙烯酸酯單位以及環構造之合計為全構成單位的50%以上,則視為(甲基)丙烯酸聚合物。
當聚合物(B-2)為(甲基)丙烯酸聚合物時,可提升光學薄膜1中逆波長分散性之控制的自由度。具有以構成單位Y為主鏈的聚合物(B-1)所顯示之雙折射之波長分散性,相較於(甲基)丙烯酸聚合物之聚合物(B-2)所示之雙折射之波長分散性明顯較大。如上所述,藉由組合雙折射之波長分散性明顯不同的聚合物(B-1)以及聚合物(B-2),可提升逆波長分散性之控制的自由度。
聚合物(B-2)亦可為於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物。如上所述,藉由使用於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物,含有聚合物(B-2)以及該聚合物之樹脂(A)的Tg會上升,而成為具有高耐熱性之光學薄膜1。
(甲基)丙烯酸聚合物於其主鏈所具有之環構造,例如為具有酯基、醯亞胺基或酸酐基之環構造。
更具體之環構造,可列舉選自內酯環(lactone ring)構造、戊二醯亞胺(glutarimide)構造、戊二酸酐(glutaric anhydride)構造、N-取代馬來醯亞胺(N-substituted maleimide)構造以及馬來酸酐(maleic anhydride)構造中至少一種。該等之於主鏈具有環構造之聚合物(B-2),藉由配向而顯示較大之正的固有雙折射,故藉由與聚合物(B-1)組合,可更加提升逆波長分散性之控制的自由度。
環構造,較佳為選自內酯環構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種,更佳為內酯環構造。於主鏈具有內酯環構造或戊二醯亞胺構造、特別是內酯環構造之聚合物(B-2),其雙折射之波長分散性非常小。因此,藉由與聚合物(B-1)組合,可更進一步提升逆波長分散性之控制的自由度。
聚合物(B-2)亦可具有之具體內酯環構造並無特別限定,例如可為下述式(8)所示之構造。
式(8)中,R3 、R4 及R5 為各自獨立之氫原子或碳數為1~20範圍之有機殘基。該有機殘基亦可含有氧原子。
有機殘基可列舉:甲基、乙基、丙基等碳數為1~20範圍之烷基;乙烯基、丙烯基等碳數為1~20範圍之不飽和脂肪族烴基;苯基、萘基等碳數為1~20範圍之芳香族烴基;上述烷基、上述不飽和脂肪族烴基以及上述芳香族烴基中,一個以上之氫原子被選自羥基、羧基、醚基以及酯基中至少一種之基所取代之基。
式(8)所示之內酯環構造,例如可於含有甲基丙烯酸甲酯(MMA)與2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)之單體群共聚合後,製得之共聚物中相鄰的MMA單位與MHMA單位進行脫醇環化縮合而成。此時,R3 為H、R4 及R5 為CH3
下述式(9)顯示戊二醯亞胺構造以及戊二酸酐構造。
式(9)中,R6 及R7 為各自獨立之氫原子或甲基,X1 為氧原子或氮原子。當X1 為氧原子時R8 即不存在,當X1 為氮原子時R8 為氫原子、碳數為1~6之直鏈烷基、環戊基、環己基或苯基。
當X1 為氮原子時,式(9)所示之環構造會成為戊二醯亞胺構造。戊二醯亞胺構造例如可藉由甲胺等醯胺化劑將(甲基)丙烯酸酯聚合物醯胺化而形成。
當X1 為氧原子時,式(9)所示之環構造會成為戊二酸酐構造。戊二酸酐構造例如可藉由將(甲基)丙烯酸酯與(甲基)丙烯酸之共聚物於分子內脫醇環化縮合而形成。
下述式(10)顯示N-取代馬來醯亞胺構造以及馬來酸酐構造。
式(10)中,R9 及R10 為各自獨立之氫原子或甲基,X2 為氧原子或氮原子。當X2 為氧原子時R11 即不存在,當X2 為氮原子時R11 為氫原子、碳數為1~6之直鏈烷基、環戊基、環己基或苯基。
當X2 為氮原子時,式(10)所示之環構造會成為N-取代馬來醯亞胺構造。於主鏈具有N-取代馬來醯亞胺構造之丙烯酸樹脂例如可藉由將N-取代馬來醯亞胺與(甲基)丙烯酸酯共聚合而形成。
當X2 為氧原子時,式(10)所示之環構造會成為馬來酸酐構造。於主鏈具有馬來酸酐構造之丙烯酸樹脂例如可藉由將馬來酸酐與(甲基)丙烯酸酯共聚合而形成。
當聚合物(B-2)於主鏈具有環構造時,聚合物(B-2)中之環構造含有率並無特別限定,通常為5~90重量%,較佳為20~90重量%。該含有率若越接近30~90重量%、35~90重量%、40~80重量%以及45~75重量%則更佳。環構造的含有率可藉由日本專利特開2001-151814號公報記載之法求得。
聚合物(B-2)若其固有雙折射為正值,則亦可具有任意的構成單位。例如聚合物(B-2)亦可具有構成單位Y,此時,聚合物(B-1)與(B-2)之間的相溶性會提升,而成為透明性優異的光學薄膜1。
聚合物(B-2)可藉由公知的方法製造。
以其中一例而言,於主鏈具有內酯環構造之聚合物(B-2),可藉由將分子鏈內具有羥基與酯基的聚合物(a)於任意的觸媒存在下進行加熱,進行伴隨脫醇之內酯環化縮合反應而製得。
式(11)中,R12 及R13 為各自獨立之氫原子或於式(8)中例示作為有機殘基之基。
式(11)所示之單體的具體例為:2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯、2-(羥甲基)丙烯酸異丙酯、2-(羥甲基)丙烯酸正丁酯、2-(羥甲基)丙烯酸第三丁酯。其中較佳為:2-(羥甲基)丙烯酸甲酯、2-(羥甲基)丙烯酸乙酯,而以可製得具有高透明性以及耐熱性之光學薄膜1的觀點來看,最佳為2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)。
此外,藉由該等單體的聚合所形成之構成單位,藉由環化,而具有對具該單位之聚合物賦予正的固有雙折射的作用。
形成聚合物(a)所用的單體群,亦可含有式(11)所示之單體2種以上。
形成聚合物(a)所用的單體群,亦可含有式(11)所示之單體以外的單體。如此之單體,若為可與式(11)所示之單體共聚合之單體則無特別限定,例如為式(11)所示之單體以外之(甲基)丙烯酸酯。
上述(甲基)丙烯酸酯,例如為丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸正丁酯、丙烯酸異丁酯、丙烯酸第三丁酯、丙烯酸環己酯、丙烯酸苯甲酯等之丙烯酸酯;甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸第三丁酯、甲基丙烯酸環己酯、甲基丙烯酸苯甲酯等之甲基丙烯酸酯。其中,以可製得具有高透明性以及耐熱性之光學薄膜1的觀點來看,較佳為甲基丙烯酸甲酯(MMA)。
形成聚合物(a)所用的單體群,亦可含有該等(甲基)丙烯酸酯2種以上。
形成聚合物(a)所用的單體群,另外亦可含有苯乙烯、乙烯甲苯、α-甲基苯乙烯、丙烯腈、甲基乙烯酮、乙烯、丙烯、乙酸乙烯等單體1種或2種以上。
具有構成單位Y之聚合物(B-2),可藉由將含有上述(甲基)丙烯酸酯單體、與因聚合而成為構成單位Y之單體之單體群聚合而形成。藉由選擇單體群所含有之(甲基)丙烯酸酯的種類,以及使形成之聚合物環化縮合,可使聚合物(B-2)具有構成單位Y,亦可於主鏈具有環構造。
聚合物(B-1)若具有構成單位Y以及具有負的固有雙折射則無特別限定。
構成單位Y係具有使於主鏈具有該單位的聚合物(B-1)中之雙折射的波長分散性大幅增加的作用(參照本申請案實施例之表6、表12、表16、表27)。因此,藉由聚合物(B-1)與(B-2)的組合,可提升逆波長分散性之控制的自由度。當聚合物(B-2)為(甲基)丙烯酸聚合物,特別是於主鏈具有內酯環構造或戊二醯亞胺構造之(甲基)丙烯酸聚合物時(如上所述,該等聚合物其雙折射之波長分散性非常小),可更進一步提升光學薄膜1之逆波長分散性之控制的自由度。
此外,於日本專利特開2001-337222號公報中所例示之樹脂的組合中,兩樹脂其雙折射之波長分散性並無太大差異,因此不能得到如本發明之光學薄膜的較果。
構成單位Y因具有使聚合物(B-1)之雙折射之波長分散性大幅增加的作用,故即使於構成單位Y佔聚合物(B-1)全構成單位的比例較低的情況,聚合物(B-1)亦會顯示較大的雙折射之波長分散性。此外,聚碳酸酯、聚苯乙烯等以往被用於光學構件的聚合物,即使為同元聚合物,以本實施例所示之可見光區域內之R/R0值而言,顯示出大約位於0.95~1.15左右之範圍內的波長分散性。
構成單位Y,關於其可大幅增加聚合物之雙折射之波長分散性的理由,本發明者們推測於波長帶300~450nm中構成單位Y的吸收光譜狀態有很大的關聯。
雙折射係聚合物的折射率特性,具體而言係因折射率的異向性而產生。聚合物的折射率特性,係受到構成該聚合物之構成單位的折射率特性所支配。例如,當聚合物具有2種以上的構成單位時,藉由各構成單位所具有之折射率特性的平衡點決定出聚合物的折射率特性。
此處,對於特定波長帶之光的構成單位之折射率特性的變化,被認為與對於該波長帶之光的構成單位之吸收光譜的變化相關。具體而言,當特定波長帶中構成單位之吸收光譜的變化較大時,則該波長帶中構成單位的折射率特性的變化會變大,且該構成單位之雙折射之波長分散性會增大。此一現象可藉由下述公式導出:以(1)表示折射率n與表示該折射率之物質的比電容率εe之間之關係式n2 =εe(該式係根據馬克士威電磁方程式所導出之電磁波的波動方程式所得)、(2)電容率εe與電磁化率χ之間之關係式(εe=1+χ)、以及(3)電磁化率χ為式χ=P/εo E(P:極化、E:電場、εo :真空電容率)所表示,極化P係以每單位體積之偶極矩來定義,偶極矩的平方與震盪器強度(oscillator strength)成正比,而震盪器強度與莫耳吸光係數之和之積分吸收係數成正比。
然而,逆波長分散性係至少於可見光區(約380~750nm的波長帶)中,光的波長愈短則雙折射愈小之特性。亦即,所謂構成單位中雙折射之波長分散性較大,意指可見光區中該構成單位之折射率特性的變化亦對應為較大。
聚合物之構成單位,一般而言係具有紫外線區之吸收峰。在遠離可見光區一段距離處具有吸收峰的情況,於可見光區並不會受到該吸收峰的影響,而構成單位之吸收光譜幾乎不變。亦即,該情況下可見光區中構成單位之折射率特性幾乎不變,且包含該單位之聚合物之折射率特性的變化會變小,而雙折射之波長分散性會變小。另一方面,即使在靠近可見光區之處或於可見光區,於非常短波長的區域中具有吸收峰的情況,因該吸收峰的側緣會落入可見光區中,故構成單位之吸收光譜會於可見光區有很大的變化。亦即,該情況下可見光區中構成單位之折射率特性會有很大的變化,且包含該單位之聚合物之折射率特性的變化會變大,而雙折射之波長分散性會變大。
300~450nm的波長帶中構成單位之吸收光譜的狀態,如上所述,會對可見光區中構成單位之折射率特性之變化有很大的影響。具體而言,於450nm以上之可見光區之吸收光譜之最大吸收峰必須要不存在,但若300~450nm的波長帶中之莫耳吸光係數的最大值為某程度以上之值,則具有如此之吸收光譜之構成單位被認為會使包含該單位之聚合物之雙折射之波長分散性大幅增加(其中,莫耳吸光係數的最大值,具體而言較佳為多少程度以上之值係今後的研究事項)。
波長帶300~450nm中構成單位之吸收光譜的最大值,可藉由使用紫外-可見光分光光度計測量由該構成單位所構成之聚合物之紫外-可見吸收光譜,或使用分子軌道法對該構成單位或因聚合而成之該構成單位的單體進行預測計算來求得。
使用分子軌道法對因聚合而成之乙烯咔唑(vinyl carbazole)單位、乙烯蔥單位以及二苯富烯單位的各單體(乙烯咔唑、乙烯蔥、二苯富烯)進行莫耳吸光係數的預測計算,結果不論何種單體,其於450nm以上之可見光區之可見光區吸收光譜之吸收峰皆不存在,且波長帶300~450nm中莫耳吸光係數的最大值皆為3000L/(mol‧cm)以上。此外,對幾乎不使聚合物之雙折射之波長分散性增加之構成單位之苯乙烯進行相同計算,結果波長帶300~450nm中莫耳吸光係數的最大值為100L/(mol‧cm)以下。
此外,預測計算係以下述順序進行。於最初,關於對象之單體係使用Accelrys Software Inc.製之軟體Materials studio之成形裝置作成模型化合物,並使用密度泛函數分子軌道計算軟體DMol3來探索最安定構造。探索最安定構造時,係以GGA/BLPY定為函數作為計算條件。接著,使用所得之最安定構造,藉由半經驗分子軌道計算軟體進行紫外-可見吸收光譜的計算。光譜的計算,係於軟體中使用Accelrys Software Inc.製之VAMP,於哈密頓函數中指定ZINDO/INDO/l來進行。
關於藉由構成單位Y而大幅增加聚合物之雙折射之波 長分散性的理由之上述說明,被認為亦可套用於具有相同分子構造之分子構造X。
芳香環係使得含有該環之聚合物的光彈性係數上升。因此,為了製得光學特性優異之光學薄膜,特別是適於影像顯示裝置之光學薄膜,較佳為使得該薄膜中芳香環的含量儘可能減少。具有構成單位Y之聚合物(B-1),因即使該聚合物中構成單位Y的含有率小亦可得到大的波長分散性,故可一方面抑制聚合物(B-1)中芳香環的含量,而製得逆波長分散性之控制的自由度較高的光學薄膜。亦即,含有構成單位Y(分子構造X)之本發明之光學薄膜,具有關於雙折射之優異的光學特性而抑制光彈性係數的上升,故該薄膜適合使用於影像顯示裝置。
此外,式(4)所示之構成單位Y因不含芳香環,故藉由具有該構成單位Y之聚合物(B-1)而得以進一步抑制光學薄膜中光彈性係數的上升。另外,藉由構成單位Y(分子構造X)而抑制光學薄膜之光彈性係數上升的效果,於實施形態2以後所示之光學薄膜11、23、31中亦相同。
聚合物(B-1)若其固有雙折射為負值,則亦可含有構成單位Y以外的構成單位。亦即,聚合物(B-1)亦可為因聚合而成為構成單位Y之單體與其他的單體之共聚物。此時,聚合物(B-1)中構成單位Y的含有率較佳為20重量%以上,更佳為30重量%以上。
例如,聚合物(B-1)亦可具有構成單位Y與(甲基)丙烯酸酯單位作為構成單位。此情況下,與(甲基)丙烯酸酯聚合物之聚合物(B-2)之間之相溶性會提升,而成為透明性優異之光學薄膜1。
聚合物(B-1)亦可於主鏈具有上述環構造。此情況下,其會成為耐熱性更佳優異之光學薄膜1。
具體的例子而言,聚合物(B-1)亦可具有由以下單體的聚合所形成之構成單位:丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸烷基酯(例如丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸咔唑乙酯)、甲基丙烯酸烷基酯(例如甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸咔唑乙酯)、丙烯酸胺基烷基酯(例如丙烯酸二乙胺乙酯)、甲基丙烯酸胺基烷基酯、丙烯酸與二醇之單酯、甲基丙烯酸與二醇之單酯(例如甲基丙烯酸羥乙酯)、丙烯酸之鹼金屬鹽、甲基丙烯酸之鹼金屬鹽、丙烯酸之銨鹽、甲基丙烯酸之銨鹽、丙烯酸胺基烷基酯之第四級銨衍生物、丙烯酸二乙胺乙酯與硫酸甲酯之第四級銨化合物、乙烯甲醚、乙烯乙醚、乙烯磺酸之鹼金屬鹽、乙烯磺酸之銨鹽、苯乙烯磺酸、苯乙烯磺酸鹽、丙烯磺酸、丙烯磺酸鹽、甲基丙烯磺酸、甲基丙烯磺酸鹽、醋酸乙烯酯、乙烯硬脂酸酯、N-乙烯乙醯胺、N-乙烯甲醯胺、丙烯醯胺、甲基丙烯醯胺、N-烷基丙烯醯胺、N-甲基纖維素丙烯醯胺、N,N-亞甲雙丙烯醯胺、二丙烯酸二醇酯、二甲基丙烯酸二醇酯、二乙烯苯酯、二醇二丙烯醚。
聚合物(B-1)有時會隨著構成單位Y的種類(更具體而言係隨著式(4)所示之構成單位得種類)而具有水溶性。
當聚合物(B-1)為非水溶性時,其重量平均分子量為例如5萬~150萬、較佳為8萬~120萬、更佳為10萬~90萬。
當聚合物(B-1)為水溶性時,其分子量之指標之k值為例如10~120、較佳為25~95、更佳為30~85。k值係藉由費肯卻法(Fikentscher method)所測定之值。
聚合物(B-1)之製造方法並無特別限定,可藉由公知之方法製造。例如,含有因聚合而成為構成單位Y之單體的單體群,可藉由公知之方法進行聚合。
因聚合而成為構成單位Y之單體,例如為以下之式(12)~(15)所示之單體。
式(12)所示之單體為乙烯內醯胺,n為1~4之範圍之自然數,R1 及R2 為各自獨立之氫原子或甲基。
式(13)所示之單體為乙烯蔥,式(14)所示之單體為二苯富烯,式(15)所示之單位為乙烯咔唑。式(12)、(13)、(15)所示之單體,其於分子構造X上結合有聚合性基之乙烯基。式(14)所示之單體,其於分子構造X上結合有聚合性基之亞甲基。
聚合物(B-1)之聚合時,作為聚合起始劑較佳為使用選自過氧化氫與金屬鹽之混合物、偶氮化合物以及有機過氧化物中至少一種。
偶氮化合物,例如為2,2’-偶氮雙(異丁腈)、2,2’-偶氮雙(2-甲基異丁腈)、2,2’-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮雙(異丁酸)二甲酯、4,4’-偶氮雙(4-氰戊酸)、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[N-(2-羧乙基)-2-甲基丙脒]水合物、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二鹽酸鹽、2,2’-偶氮雙[2-(2-咪唑啉-2-基)丙烷]二硫酸鹽二水合物、1,1’-偶氮雙(環己烷-1-甲腈)。聚合起始劑亦可併用2種以上之偶氮化合物。
該等偶氮化合物之中,較佳為2,2’-偶氮雙(2-甲基異丁腈)、2,2’-偶氮雙(異丁酸)二甲酯、2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽。
有機過氧化物,例如為過氧化苯甲醯、過氧化二異丙苯、2,5-二甲基-2,5-二(過氧化第三丁基)己烷、1,1’-二-過氧亻匕第三丁基-3,3,5-三亞甲基環己烷、1,3-二-(過氧化第三丁基)-二異丙基苯、過氧化二-第三丁酯、過氧化羥基第三丁酯、過氧化第三丁基-2-己酸乙酯、過氧化異丁酸第三丁酯、過氧化第三戊基-2-己酸乙酯、過氧化羥基第三戊酯。聚合起始劑亦可併用2種以上之有機過氧化物。
該等有機過氧化物之中,較佳為過氧化羥基第三丁酯、過氧化第三戊基-2-己酸乙酯,最佳為過氧化第三戊基-2-己酸乙酯。
聚合物(B-1)之聚合系中之聚合起始劑的濃度,若對應聚合之單體種類、濃度來加以調整則無特別限定,例如,相對於單體100重量份而言為0.001重量份~3重量份,較佳為0.005重量份~2重量份。
聚合系中,視需要亦可添加鏈轉移劑、pH調整劑、緩衝材料等。
聚合溶劑並無特別限定,例如為含酮溶劑(丙酮與甲苯之混合溶劑等)、酯系溶劑(醋酸乙酯、醋酸丁酯等)以及該等之混合溶劑。水溶性之聚合物(B-1)聚合時,亦可使用水或低級醇(甲醇、乙醇、異丙醇、二乙二醇等)作為聚合溶劑。
聚合溫度,若對應聚合之單體種類來加以調整則無特別限定,例如為40℃~100℃,較佳為50℃~95℃,更佳為60℃~90℃。
樹脂(A)中聚合物(B-1)與聚合物(B-2)的混合比,因對應各聚合物之固有雙折射的絕對值、或作為光學薄膜1所期望的逆波長分散性的程度等而有所不同,故無法一概而論,例如重量比可為(B-1):(B-2)=1:99~99:1的範圍,較佳為(B-1):(B-2)=10:90~90:10的範圍,更佳為(B-1):(B-2)=20:80~80:20的範圍。於此範圍內可提升逆波長分散性之控制的自由度,且可用作具有因應用途之良好的逆波長分散性的光學薄膜1。
本實施形態中之樹脂(A)亦可含有2種以上之聚合物(B-1)或2種以上之聚合物(B-2)。
當聚合物(B-2)為(甲基)丙烯酸聚合物時,樹脂(A)中之(甲基)丙烯酸聚合物的含有率的總量較佳為50重量%以上。
本實施形態中之樹脂(A)若可製得顯示逆波長分散性之光學薄膜,則其亦可含有聚合物(B-1)、(B-2)以外的任意聚合物。
構成單位Y視其種類而顯示非常強的吸濕性。因此樹脂(A)隨著聚合物(B-1)所具有之構成單位Y的種類、聚合物(B-1)中構成單位Y的含有率、以及樹脂(A)中聚合物(B-1)的含有率,有時會不容易單獨地形成層。此時,樹脂(A)亦可含有成為具有構成單位Y之聚合物(B-1)的黏合劑之聚合物(黏合劑聚合物)。此外,黏合劑聚合物較佳為固有雙折射趨近於零,亦即較佳為受拉伸而幾乎不顯示雙折射之聚合物,此時,光學薄膜1之光學特性的控制會變得容易。
樹脂(A)含有黏合劑聚合物時,例如重量比可為(B-1):黏合劑聚合物=10:90~70:30的範圍,較佳為(B-1):黏合劑聚合物=20:80~60:40的範圍。
樹脂(A)所含之聚合物的含有率以及聚合物中構成單位的含有率,可藉由公知的方法,例如1 H核磁共振(1 H-NMR)或紅外線分光分析(IR)求出。
光學薄膜1視需要亦可具有層2以外的任意層。
光學薄膜1的製造方法並無特別限定,依照公知的方法即可。例如,將含有聚合物(B-1)以及(B-2)的樹脂(A)成形成為薄膜,接著將所得之薄膜於既定的方向拉伸(典型為一軸拉伸或逐次二軸拉伸),使得樹脂(A)所含之聚合物的分子鏈配向而形成層2,再作為光學薄膜1即可。
樹脂(A)可藉由澆鑄法、熔融成形法(例如熔融擠壓成形、壓製成形)等公知的方法來形成薄膜。
(實施形態2)
圖2顯示本發明之光學薄膜之其他一例。圖2所示之光學薄膜11係由單一之層12所構成,層12係由含有具有構成單位Y之聚合物(B-1)之樹脂(A)所構成。本實施形態中聚合物(B-1)係具有構成單位Y(其作為具有對該聚合物賦予負的固有雙折射之作用之構成單位),且進一步具有構成單位Z(其具有對該聚合物賦予正的固有雙折射之作用)。本實施形態之聚合物(B-1),以下記載為聚合物(B-3)。
若聚合物(B-3)被施以配向,則源自於構成單位Y以及Z各自產生之雙折射會互相抵消。此處,雙折射抵消的程度會隨著波長而異,故會產生雙折射,例如相位差之逆波長分散性。
光學薄膜11係顯示單層之逆波長分散性。因此,可一邊進行薄膜化一邊得到所需之光學特性,而可實現具備光學薄膜11之影像顯示裝置之更進一步的小型化、輕量化。此外,光學薄膜11與藉由複數層之積層而實現逆波長分散性之光學薄膜相比,因不需要調整各層的接合角度,故生產性高。
若著眼於聚合物(B-3)的配向,光學薄膜11係含有聚合物(B-3)之樹脂(A)被賦予配向所形成之構件。至於賦予樹脂(A)配向,只要將成形之樹脂(A)拉伸成為薄膜即可。
聚合物(B-3)若具有構成單位Y以及Z則無特別限定。
構成單位Z若具有對聚合物(B-3)賦予正的固有雙折射之作用則無特別限定。構成單位Z例如為選自(甲基)丙烯酸酯單位、(甲基)丙烯酸酯單位之衍生物之環構造、以及環烯烴單位中之至少一種。構成單位Z較佳為選自(甲基)丙烯酸酯單位以及該單位之衍生物之環構造中之至少一種,此時,光學薄膜11中逆波長分散性之控制的自由度會提升。
構成單位Y係具有對聚合物(B-3)中雙折射之波長分散性加以增大之強力作用。對此,(甲基)丙烯酸酯單位以及該單位之衍生物之環構造對增聚合物(B-3)中雙折射之波長分散性加以增大之程度並不強力。如上所述,聚合物(B-3)之波長分散性加以增大之程度會藉由組合不同之構成單位而使逆波長分散性之控制的自由度提升。
此外,日本專利特開2001-235622號公報所揭示之分子鏈的組合中,因兩者之波長分散性的差並不大,故無法得到如使用具有構成單位Y之聚合物(B-3)之本發明之光學薄膜的效果。
環構造為例如用以說明實施形態1中之聚合物(B-2)所例示之環構造。
當聚合物(B-3)中(甲基)丙烯酸酯單位以及環構造的含有率之總量為50重量%以上時,聚合物(B-3)會視為(甲基)丙烯酸酯聚合物。此時,會成為光學特性以及機械強度、成形加工性以及表面硬度等之諸特性優異之光學薄膜11。
聚合物(B-3)較佳為具有(甲基)丙烯酸酯單位以及環構造之兩者作為構成單位Z。亦即,聚合物(B-3)較佳為於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物。含有環構造之構成單位相對於具有該單位之聚合物(B-3),其具有於配向時賦予較大的正的固有雙折射的作用。因此,藉由組合構成單位Y,可提升光學薄膜11中逆波長分散性之控制的自由度。
此外,藉由聚合物(B-3)於主鏈具有環構造,聚合物(B-3)以及含有該聚合物之樹脂(A)的Tg會上升,而成為高耐熱性之光學薄膜11。
於主鏈具有環構造之聚合物(B-3)以及含有該聚合物之樹脂(A)的Tg例如為110℃以上。依據環構造的種類、聚合物(B-3)中環構造的含有率以及樹脂(A)中聚合物(B-3)的含有率,該Tg會成為115℃以上、120℃以上、進而130℃以上。
環構造如同實施形態1所說明,較佳為選自內酯環構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種,更佳為內酯環構造。該等環構造雖具有對聚合物(B-3)賦予正的固有雙折射的作用,但其波長分散性非常小。因此,藉由組合構成單位Y,可進一步提升光學薄膜11中逆波長分散性之控制的自由度。
構成單位Y並無特別限定,較佳為式(4)所示之單位或不飽和單體單位。換言之,聚合物(B-3)較佳為具有式(4)所示之單位或不飽和單體單位來作為具有對該聚合物賦予負的固有雙折射作用之構成單位。
聚合物(B-3)亦可為隨機共聚物,其於主鏈隨機配置有構成單位Y以及Z、亦可為之嵌段共聚物,其存在有由構成單位Y所構成之區塊與由構成單位Z所構成之區塊。此外,亦可為接枝共聚物,其於具有選自構成單位Y以及Z之一者之構成單位(例如構成單位Y)的主鏈結合有具有其他構成單位(例如構成單位Z)的側鏈。
聚合物(B-3)亦可具有2種以上之構成單位Y。
聚合物(B-3)若可製得顯示逆波長分散性之光學薄膜,則亦可具有構成單位Y以及Z以外任意的構成單位。
聚合物(B-3)可藉由公知的方法製造。
聚合物(B-3)中構成單位Y以及Z的含有率的比,視各構成單位對聚合物(B-3)的固有雙折射的作用程度、或作為光學薄膜11所期望之逆波長分散性的程度等而不同,故無法一概而論,例如以重量比而言,構成單位Y:構成單位Z=1:99~38:62的範圍內。於該範圍內,可提升逆波長分散性之控制的自由度,而製得具有因應用途之良好的逆波長分散性之光學薄膜11。
樹脂(A)中聚合物(B-3)的含有率並無特別限定,由可確實得到本發明之效果的觀點而言,通常為50重量%以上,較佳為60重量%以上,更佳為70重量%以上。
本實施形態之樹脂(A)亦可含有2種以上之聚合物(B-3)。
光學薄膜11視需要亦可具有層12以外的任意層。
光學薄膜11的製造方法並無特別限定,依照公知的方法即可。例如,將含有聚合物(B-3)的樹脂(A)成形成為薄膜,接著將所得之薄膜於既定的方向拉伸(典型為一軸拉伸或逐次二軸拉伸),使得樹脂(A)所含之聚合物的分子鏈配向而形成層12,再作為光學薄膜11即可。
樹脂(A)可藉由澆鑄法、熔融成形法(例如熔融擠壓成形、壓製成形)等公知的方法來形成薄膜。
(實施形態3)
圖3顯示本發明之光學薄膜之其他一例。圖3所示之光學薄膜21係具有積層有雙重之層22、23之構造。層22係由含有具有構成單位Y之聚合物(B-1)之樹脂(A)所構成,其樹脂(A)之固有雙折射為負值。層23係由具有正的固有雙折射之樹脂(C)所構成。
光學薄膜21雖具有積層有固有雙折射的符號相異的2種之層(層22以及層23)的構造,但該積層構造中會產生兩層的雙折射對於入射光互相抵消的現象。此處,雙折射抵消的程度會隨著波長而異,故光學薄膜21會顯示逆波長分散性。
此外,光學薄膜21中,層22以及層23為各自獨立配置,因不需考慮固有雙折射的符號相異之聚合物之間的相溶性、或對聚合物賦予固有雙折射的符號相異之構成單位之間的相溶性,故各層可採取的組成範圍很廣。藉此,可成為逆波長分散性之控制的自由度至於光學上設計的自由度皆高之光學構件。
層22、23係藉由該層所含之聚合物的配向來產生雙折射。以此觀點來看,層22係將樹脂(A)配向而形成之層,層23係將樹脂(C)配向而形成之層。至於賦予樹脂(A)、(C)配向之方法,可將形成膜之樹脂(A)、(C)加以拉伸即可。
樹脂(C)若具有正的固有雙折射則無特別限定,例如含有具有正的固有雙折射之聚合物即可。作為具有正的固有雙折射之聚合物之一例而言,其可為上述聚合物(B-2)。
聚合物(B-2)較佳為(甲基)丙烯酸聚合物,此時,可提升光學薄膜21中逆波長分散性之控制的自由度。層22雖由含有具有聚合物(B-1)之樹脂(A)所構成,但此層所顯示之雙折射之波長分散性相較於由含有(甲基)丙烯酸聚合物之聚合物(B-2)之樹脂(C)所構成之層23所顯示之雙折射之波長分散性要大得多。如上所述,藉由組合雙折射之波長分散性截然不同之2種類的獨立層,可提升光學薄膜21中逆波長分散性之控制的自由度。
此外,即使為根據日本專利特開2001-337222號公報所例示之樹脂的組合所形成之層22、23(例如,即使使用聚降茨烯來形成層23、使用苯乙烯系聚合物來形成層22),因各層所顯示之雙折射之波長分散性的差並不大,故無法得到由含有(甲基)丙烯酸聚合物之聚合物(B-2)之樹脂(C)所構成之層23與由含有具有聚合物(B-1)之樹脂(A)所構成之層22加以組合時的效果。
聚合物(B-2)較佳為於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物。藉由聚合物(B-2)於主鏈具有環構造,層23之固有雙折射之絕對值會變大。因此,藉由組合層22,可提升光學薄膜21中逆波長分散性之控制的自由度。
此外,如實施形態1所述,藉由聚合物(B-2)於主鏈具有環構造,聚合物(B-2)以及含有該聚合物之樹脂(C)的Tg會上升,層23以及光學薄膜21之耐熱性會上升。藉由環構造所提高Tg的程度如上所述。
環構造如實施形態1所述,較佳為選自內酯環以及戊二醯亞胺構造中至少一種,更佳為內酯環構造。該等環構造,雖具有賦予聚合物(B-2)正的固有雙折射的作用,但其波長分散性非常小。因此,藉由組合含有聚合物(B-1)之層22,可進一步提升光學薄膜21中逆波長分散性之控制的自由度。
聚合物(B-2)的其他較佳條件與實施形態1中所說明之聚合物(B-2)的較佳條件相同。
含有聚合物(B-2)之樹脂(C)若具有正的固有雙折射,則其亦可含有聚合物(B-2)以外之聚合物。
本實施形態中之聚合物(B-1)與實施形態1中所說明之聚合物(B-1)相同。
本實施形態中之樹脂(A)若含有具有構成單位Y之聚合物(B-1)而具有負的固有雙折射則無特別限定,例如亦可含有聚合物(B-1)以外之聚合物。
此外,構成單位Y視其種類而顯示非常強的吸濕性。因此聚合物(B-1)隨著該聚合物所具有之構成單位Y的種類、以及該聚合物中構成單位Y的含有率,有時會不容易單獨地形成層。此時,樹脂(A)亦可含有成為聚合物(B-1)的黏合劑之聚合物(黏合劑聚合物)。黏合劑聚合物較佳為固有雙折射趨近於零,亦即較佳為受拉伸而幾乎不顯示雙折射之聚合物,此時,層22之光學特性的控制會變得容易。
光學薄膜21的製造方法並無特別限定。作為形成方法之一例而言,有將各別作成之層22以及層23互相接合的方法。例如,將含有聚合物(B-1)的樹脂(A)成形成為薄膜,接著將所得之薄膜於既定的方向拉伸(典型為一軸拉伸或逐次二軸拉伸),使得樹脂(A)所含之聚合物的分子鏈配向而形成層22。除此之外,亦將含有聚合物(B-2)的樹脂(C)成形成為薄膜,接著將所得之薄膜於既定的方向拉伸,使得樹脂(C)所含之聚合物的分子鏈配向而形成層23。接著,將形成之兩者之層加以積層,可形成圖3所示之光學薄膜21。層22與層23的接合可依照公知的方法,亦可將兩者之層藉由丙烯酸系接著劑等將其互相黏接。樹脂(A)、(C)可藉由澆鑄法、熔融成形法(例如熔融擠壓成形、壓製成形)等公知的方法來形成薄膜。
作為形成方法之其他一例而言,有將成為層22之前驅物之拉伸前薄膜(未拉伸薄膜或暫定之已拉伸之薄膜)與成為層23之前驅物之拉伸前薄膜所形成之積層體於既定的方向加以拉伸的方法。藉由該拉伸,各前驅物所含之聚合物(B-1)、(B-2)的分子鏈會受配向,而成為層22與層23所形成之積層體之光學薄膜21。前驅物之積層體亦可藉由例如由樹脂(A)所構成之薄膜與由樹脂(C)所構成之薄膜加以積層而形成,亦可藉由將樹脂(A)與樹脂(C)共擠製成形而形成。此外,亦可於層22或層23之其中一層之前驅物的薄膜上塗佈溶解有成為另一層之前驅物之樹脂的溶液,再將塗佈膜加以乾燥而形成。具體的例子而言,有將由(甲基)丙烯酸聚合物、環烯烴聚合物或纖維素衍生物所構成之基底膜上塗佈含有具有構成單位Y之聚合物(B-1)的溶液後使整體乾燥,再將所得之積層體於既定的方向加以拉伸的方法。
層22、23的積層狀態(例如層22、23的積層圖樣或由於光學薄膜21的表面垂直方向所見之層22的配向軸與層23的配向軸之間的傾斜角度等)並無特別限定,可配合光學上的設計事項來加以適當選擇。此外,將層22、23以其各自的拉伸方向大約一致的方式加以積層時,光學薄膜21所顯示之逆波長分散性會最強。
具有光學薄膜21之層22、23的數目並無特別限定。此外,層22與層23亦可相接或不相接。
光學薄膜21視需要亦可具有層22、23以外之層。
(實施形態4)
圖4顯示本發明之光學薄膜之其他一例。圖4所示之光學薄膜31係由單一之層32所構成,層32係由含有具有分子構造X改質之構成單位之聚合物(B-4)之樹脂(A)所構成。
若聚合物(B-4)被施以配向,則因分子構造X改質之程度會隨著構成單位之間而異,故源自於各構成單位產生之雙折射會互相抵消。此處,雙折射抵消的程度會隨著波長而異,故會產生雙折射,例如相位差之逆波長分散性。
聚合物(B-4)可藉由公知的方法形成。例如,將於分子構造X上結合有可與改質對象之構成單位結合之結合基的化合物,與具有該構成單位之聚合物反應即可。聚合物為TAC等之纖維素衍生物時,該結合基為例如羥基。分子構造X為式(1)所示之構造時,上述化合物為例如5-側氧吡咯啶-2-羧酸之氧氯化物。關於氧氯化物的形成,可使用亞硫醯氯。
光學薄膜31視需要亦可具有層32以外之層。
光學薄膜31的製造方法並無特別限定,依照公知的方法即可。例如,將含有聚合物(B-4)的樹脂(A)成形成為薄膜,接著將所得之薄膜於既定的方向拉伸(典型為一軸拉伸或逐次二軸拉伸),使得樹脂(A)所含之聚合物的分子鏈配向而形成層32,再作為光學薄膜31即可。
樹脂(A)可藉由澆鑄法、熔融成形法(例如熔融擠壓成形、壓製成形)等公知的方法來形成薄膜。
(光學薄膜的用途)
本發明之光學薄膜係顯示逆波長分散性。亦即,本發明之光學薄膜係顯示至少於可見光區域中波長越短雙折射(或相位差或延遲光程)越小之光學特性。藉由使用如此寬光譜之光學薄膜,可建構顯示特性優異的影像顯示裝置。
本發明之光學薄膜,例如可作為相位差板,亦可將根據所得之相位差之延遲光程設為光波長的1/4,藉此作為相位差板之一種之λ/4板。此外,可將本發明之光學薄膜與偏光板等其他光學構件組合來作為抗反射板。
本發明之光學薄膜亦可為偏光元件保護膜,特別是基於上述理由,於具有樹脂(A)為式(1)所示之分子構造時,可較佳地作為偏光元件保護膜。
本發明之光學薄膜,根據用途亦可與其他光學構件組合使用。
本發明之光學薄膜之用途並無特別限定,可使用於與以往之光學構件相同的用途(例如LCD、OLED等之影像顯示裝置)。
實施例
以下藉由實施例對本發明作更詳細的說明。本發明並不限於以下所示之實施例中。
(製造例1)
將15重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、35重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.34重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.1重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,將上述所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,形成於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-2A)。
(製造例2)
將15重量份之MHMA、25重量份之MMA、10重量份之甲基丙烯酸苯甲酯以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.34重量份之甲苯中一邊歷時6小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊在約105~111℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行2小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化觸媒之0.1重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,將上述所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,形成於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-2B)。
(製造例3)
將10重量份之乙烯咔唑、18重量份之MHMA、72重量份之MMA以及作為聚合溶劑之80重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置,溫度感測器,冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.1重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.2重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入溶解於10重量份之甲苯之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於迴流下以2小時在上述聚合所形成之聚合物中之MHMA單位與MMA單位之間進行環化縮合反應。
接著,將上述所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,形成於主鏈具有乙烯咔唑構造之透明聚合物(B-1A)。此外,所得之聚合物(B-1A)於主鏈具有內酯環構造,此內酯環構造係以提升與聚合物(B-1A)、聚合物(B-2A)或聚合物(B-2B)之相溶性作為目的而導入者。
(實施例1)
將製造例1所製得之聚合物(B-2A)10重量份與製造例3所製得之聚合物(B-1A)20重量份溶解於甲基異丁基酮中,再將所得之溶液攪拌,以均勻混合聚合物(B-2A)以及聚合物(B-1A)。接著,將所得之混合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得固態之樹脂30重量份。
接著,將製得之樹脂藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約100μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由二軸拉伸裝置(東洋精機製作所製,TYPE EX4)以拉伸溫度138℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為40μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差(薄膜面內的相位差)之波長分散性以及配向角藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來進行評價,波長分散性的評價結果顯示於以下之表1。其中,表1以及以後之實施例.比較例的各表中,將測定波長為590nm時的相位差作為基準(R0),而一併顯示其他波長的相位差R與R0的比(R/R0)。此外,各表所示之面內相位差為膜厚100μm時之值。
如表1所示,實施例1所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例1所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為-0.8。,亦即其固有雙折射為正值。
(實施例2)
除了使用製造例2所製得之聚合物(B-2B)來取代聚合物(B-2A)以外,其餘以與實施例1相同的方式製得拉伸薄膜,所製得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性以及配向角,亦以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表2。
如表2所示,實施例2所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例2所製得之拉伸薄膜的配向角(ψ)為0.6°,亦即其固有雙折射為正值。
(實施例3)
除了使用丙烯醯亞胺聚合物(Rohm and Haas公司製,KAMAX T-240)10重量份來取代聚合物(B-2A)、以及將製造例3所製得之聚合物(B-1A)的使用量設為25重量份以外,其餘以與實施例1相同的方式製得固態之樹脂35重量份。此外,所使用之丙烯醯亞胺聚合物係如下述式(16)所示,具有N-甲基-二甲基戊二醯亞胺單位以及甲基丙烯酸酯單位作為其構成單位。
接著,將製得之樹脂藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約100μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由二軸拉伸裝置,以拉伸溫度143℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜。
接著,將所製得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表3。
如表3所示,實施例3所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例3所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為-2.1°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例1)
僅使用製造例1所形成之聚合物(B-2A),以與實施例1相同的方式藉由進行壓製成形以及一軸拉伸,製得聚合物(B-2A)的拉伸薄膜。將所製得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表4。
如表4所示,比較例1所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,亦即其顯示出與使用聚碳酸酯等一般的高分子之雙折射構件相同的波長分散性。
比較例1所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為-0.7°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例2)
僅使用製造例3所使用之丙烯醯亞胺聚合物,以與實施例1相同的方式藉由進行壓製成形以及一軸拉伸,製得厚度為50μm的拉伸薄膜。將所製得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表5。
如表5所示,比較例2所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性。
比較例2所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為-0.8°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例3)
僅使用製造例3所形成之聚合物(B-1A),以與實施例1相同的方式藉由進行壓製成形以及一軸拉伸,製得聚合物(B-1A)的拉伸薄膜。將所製得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表6。
如表6所示,比較例3所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,但其分散性相較於碳酸酯、聚苯乙烯等樹脂卻顯得相當大。
比較例3所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為89.4°,亦即其固有雙折射為負值。
(實施例4)
將製造例1所製得之聚合物(B-2A),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述二軸拉伸裝置,以拉伸溫度145℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜(F1)。
除此之外,除了使用製造例3所製得之聚合物(B-1A)來取代聚合物(B-2A)以外,其餘以與上述相同的方式製得厚度為100μm的拉伸薄膜(F2)。
接著,將製得之拉伸薄膜(F1)作為第1層、拉伸薄膜(F2)作為第2層,一邊對齊各薄膜的拉伸方向(拉伸軸)而一邊將兩薄膜加以積層。藉由積層所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表7。
如表7所示,實施例4所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例4所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為-0.8°,亦即其固有雙折射為正值。
(實施例5)
將製造例2所製得之聚合物(B-2B),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述二軸拉伸裝置,以拉伸溫度138℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜(F3)。
除此之外,將製造例3所製得之聚合物(B-1A),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約210μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述二軸拉伸裝置,以拉伸溫度138℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為150μm的拉伸薄膜(F4)。
接著,將製得之拉伸薄膜(F3)作為第1層、拉伸薄膜(F4)作為第2層,一邊對齊各薄膜的拉伸方向(拉伸軸)而一邊將兩薄膜加以積層。藉由積層所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表8。
如表8所示,實施例5所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例5所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為0.6°,亦即其固有雙折射為正值。
(實施例6)
將製造例3中所使用丙烯醯亞胺樹脂,藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述二軸拉伸裝置,以拉伸溫度143℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜(F5)。
除此之外,將製造例3所製得之聚合物(B-1A),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約180μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述二軸拉伸裝置,以拉伸溫度138℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為125μm的拉伸薄膜(F6)。
接著,將製得之拉伸薄膜(F5)作為第1層、拉伸薄膜(F6)2張之積層體作為第2層,一邊對齊各薄膜的拉伸方向(拉伸軸)而一邊將兩薄膜加以積層。藉由積層所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表9。
如表9所示,實施例6所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
實施例6所製得之拉伸薄膜的配向角(Φ)為0.3°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例4)
將實施例4所製得之拉伸薄膜(F1)中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表10。
如表10所示,拉伸薄膜(F1)顯示出光的波長越短而相位差越大(微幅)之波長分散性。
拉伸薄膜(F1)的配向角(Φ)為-0.7°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例5)
將實施例5所製得之拉伸薄膜(F3)中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表11。
如表11所示,拉伸薄膜(F3)顯示出光的波長越短而相位差微幅變大之波長分散性。
拉伸薄膜(F3)的配向角(Φ)為-0.7°,亦即其固有雙折射為正值。
(比較例6)
將製造例3所製得之聚合物(B-1A)藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜使用上述之二軸拉伸裝置以拉伸溫度138℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜(F7)。
將拉伸薄膜(F7)中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表12。
如表12所示,拉伸薄膜(F7)顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,但其分散性相較於碳酸酯、聚苯乙烯等樹脂卻顯得相當大。
拉伸薄膜(F7)的配向角(Φ)為89.8°,亦即其固有雙折射為負值。
(比較例7)
將實施例3所使用之丙烯醯亞胺樹脂藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約140μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜使用上述之二軸拉伸裝置以拉伸溫度143℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為100μm的拉伸薄膜(F8)。
將拉伸薄膜(F8)中之相位差(面內相位差)的波長分散性以及配向角,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表13。
如表13所示,拉伸薄膜(F8)顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性。
拉伸薄膜(F8)的配向角(Φ)為-0.9°,亦即其固有雙折射為正值。
(製造例4)
將18重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、72重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、10重量份之乙烯吖唑以及作為聚合溶劑之90重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.1重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時3小時滴加溶解有0.2重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行3小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以乙烯咔唑單位作為構成單位且於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-1B)。
(製造例5)
將15重量份之MHMA、35重量份之MMA、以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.3重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.1重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-2C)。
(製造例6)
將6重量份之MHMA、74重量份之MMA、20重量份之乙烯咔唑以及作為聚合溶劑之90重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.1重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時4小時滴加溶解有0.2重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行3小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以乙烯咔唑單位作為構成單位且於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-1C)。
(實施例7)
將製造例4所製得之聚合物(B-1B),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由自動立體測圖儀(島津製作所製),以拉伸溫度142℃進行一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為45μm的拉伸薄膜(F9)。
除此之外,將乙酸纖維素丙酸酯(Aldrich公司製,Mn=15000)之二氯甲烷溶液(濃度15重量%)流鑄於玻璃板上,並使之乾燥,製得厚度為70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度160℃進行一軸拉伸使得拉伸倍率成為1.8倍,製得厚度為50μm的拉伸薄膜(F10)。
接著,將1張拉伸薄膜(F9)與2張拉伸薄膜(F10),以藉由F10包夾F9的方式,一邊對齊各薄膜的拉伸方向(拉伸軸)一邊加以積層。所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。波長分散性的評價結果顯示於以下之表14。
如表14所示,實施例7所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
(比較例8)
對實施例7所製得之拉伸薄膜(F10),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表15。
如表15所示,拉伸薄膜(F10)顯示出光的波長越短而相位差越大(微幅)之波長分散性。
拉伸薄膜(F10)的配向角藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來評價,結果其配相角(Φ)為1.4°,亦即乙酸纖維素丙酸酯的固有雙折射為正值。
(比較例9)
對實施例7所製得之拉伸薄膜(F9),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表16。
如表16所示,拉伸薄膜(F9)顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,其波長分散性相當大。
拉伸薄膜(F9)的配向角藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來評價,結果其配相角(Φ)為-86.4°,亦即聚合物(B-1B)的固有雙折射為負值。
(實施例8)
將製造例4所製得之聚合物(B-1B)20重量份與製造例5所製得之聚合物(B-2C)10重量份溶解於甲基異丁基酮中,並對全體加以攪拌,均勻混合。接著,將所得之混合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得固態之樹脂。
接著,將所製得之樹脂藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約90μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由自動立體測圖儀,以拉伸溫度143℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為49μm的拉伸薄膜(F11)。
製得之拉伸薄膜(F11),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表17。
如表17所示,拉伸薄膜(F11)顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其波長分散性相當大。
(實施例9)
將製造例5所製得之聚合物(B-2C),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約80μm的薄膜(F12)。接著,再藉由棒狀塗佈器#58,將製造例6所製得之聚合物(B-1C)之甲苯溶液(濃度30重量%)均勻塗佈於所製得之薄膜(F12)的表面。然後將整體以60℃ 1小時、以及120℃ 15分鐘進行乾燥,製得具有薄膜(F12)與由聚合物(B-1C)所構成之層之積層構造的積層體。接著,將製得之積層體,藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度142℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得具有薄膜(F12)的拉伸物與聚合物(B-1C)的拉伸物之積層構造之厚度為70μm的拉伸薄膜(F13)。
製得之拉伸薄膜(F13),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表18。
如表18所示,拉伸薄膜(F13)顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其波長分散性相當大。
除此之外,不塗佈聚合物(B-1C)之溶液而僅以相同方式拉伸薄膜(F12)所製得之拉伸薄膜的相位差(面內相位差)的波長分散性的評價結果,其顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性。此外,其配向角(Φ)接近0°,亦即聚合物(B-2C)之固有雙折射為正值。
另外,以與實施例7的拉伸薄膜(F9)相同的方式製得由聚合物(B-1C)所構成之拉伸薄膜,其相位差(面內相位差)的波長分散性的評價結果,顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,其波長分散性特別大。此外,其配向角(Φ)接近-90°,亦即聚合物(B-1C)之固有雙折射為負值。
(實施例10)
將製造例4所製得之聚合物(B-1B),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約70μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度142℃進行一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為45μm的拉伸薄膜(F14)。
除此之外,再將環烯烴聚合物薄膜(日本Zeon公司製,ZEONOR ZF14)藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度142℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為63μm的拉伸薄膜(F15)。
接著,將製得之拉伸薄膜(F14)作為第1層、拉伸薄膜(F15)作為第2層,一邊對齊各薄膜的拉伸方向一邊將兩薄膜加以積層。藉由積層所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表19。
如表19所示,拉伸薄膜(F14)與(F15)構成之積層體顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性。
(比較例10)
對實施例10所製得之拉伸薄膜(F15),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表20。
如表20所示,拉伸薄膜(F15)顯示出光的波長越短而相位差越大(微幅)之波長分散性。
另外,拉伸薄膜(F15)中之固有雙折射的正負,藉由求出該薄膜的配向角來評價,結果其為正值。
(製造例7)
將25重量份之MHMA、68重量份之MMA、7重量份之乙烯咔唑以及作為聚合溶劑之90重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.04重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時3小時滴加溶解有0.08重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以乙烯咔唑單位作為對聚合物賦予負的固有雙折射之構成單位且具有內酯環構造作為對聚合物賦予正的固有雙折射之構成單位之透明共聚物(B-3A)。
(製造例8)
將25重量份之MHMA、72重量份之MMA、3重量份之乙烯蔥以及作為聚合溶劑之90重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.04重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時3小時滴加溶解有0.08重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以乙烯蔥單位作為對聚合物賦予負的固有雙折射之構成單位且具有內酯環構造作為對聚合物賦予正的固有雙折射之構成單位之透明共聚物(B-3B)。
(實施例11)
將製造例7所製得之共聚物(B-3A),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約190μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度148℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為130μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表21。
如表21所示,實施例11所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
(實施例12)
將製造例8所製得之共聚物(B-3B),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約130μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度148℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為90μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表22。
如表22所示,實施例12所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性。
(製造例9)
將15重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、35重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.34重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.1重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-2D)。
(製造例10)
將576重量份之去離子水,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至80℃。當反應裝置內的溫度穩定維持於80℃時,於反應裝置中歷時3小時滴加534重量份之N-乙烯基-2-吡咯烷酮,與作為聚合起始劑之溶解於75.8重量份之去離子水之2.45重量份之2,2’-偶氮雙(2-甲基丙脒)二鹽酸鹽之溶液。滴定結束後,一邊維持80℃一邊進行反應4小時,然後將所得之聚合溶液於減壓下150℃乾燥2小時,製得N-乙烯-2-吡咯烷酮之聚合物(B-1D)。所得之聚合物的K值為59.8。其中,所謂K值意指與聚合物的分子量相關之黏性特性值,係藉由費肯卻法所測定之值。
藉由費肯卻法所得K值的測定方法如以下所述。最初,將測定對象之聚合物1.0g於室溫溶解於蒸餾水中,成為體積100ml之溶液。接著,將所得之溶液置放於保持25℃±0.2℃之恒溫槽中30分鐘後,使用烏式黏度計(Ubbelohde viscometer)求出該溶液之相對黏度[η]。求出相對黏度時,係使用蒸餾水作為標準液,對上述溶液以及蒸餾水以黏度計所測定之流動時間,係根據Hagenbach-Couette的補正來補正。相對黏度[η]可從上述溶液的流動時間t1以及蒸餾水的流動時間t2,藉由式[η]=t1/t2求出。K值可從上述所求出之相對黏度[η]以及溶液的濃度C(g/100ml),藉由以下之公式求出:
K值={{300C‧log[η]+(C+1.5C‧log[η])2 }1/2 +1.5C‧log[η]-C}/(0.15C+0.003C2 )
此方法所測定之K值若未滿20時,則將溶液的濃度設為5.0(g/100ml)再測定。
(製造例11)
製造例10所製得之N-乙烯-2-吡咯烷酮之聚合物(B-1D)的吸濕性強,難以單獨地形成層,因此於製造例11中以下述方式製造成為該聚合物之黏合劑的聚合物。
將10重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、40重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.34重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.045重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,於所得之聚合溶液中添加5重量份之丙烯腈-苯乙烯(AS)共聚物。接著,將添加有AS共聚物之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得於主鏈具有內酯環構造之混合有(甲基)丙烯酸聚合物與AS共聚物之透明樹脂(E)。
將製得之樹脂(E)藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度為120μm的薄膜,再將所製得之薄膜使用自動立體測圖儀(島津製作所製)以拉伸溫度142℃進行一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍。所得之拉伸薄膜的相位差藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來評價,結果厚度100μm之面內相位差,於測定波長447nm~750nm的範圍約為10nm以下。
(製造例12)
將10重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、40重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)以及作為聚合溶劑之50重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.03重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於3.34重量份之甲苯中一邊歷時2小時滴加溶解有0.06重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.045重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得於主鏈具有內酯環構造之透明聚合物(B-2E)。
(製造例13)
將70重量份之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、380重量份之甲基丙烯酸甲酯(MMA)、50重量份之N-乙烯-2-吡咯烷酮以及作為聚合溶劑之250重量份之甲苯以及250重量份之甲基異丁基酮,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至80℃。當聚合系的溫度穩定維持於80℃後,添加作為聚合起始劑之溶解於10重量份之甲苯中之1重量份之2,2’-偶氮雙(2-甲基丁腈)之溶液,然後一邊將聚合系維持於83℃,一邊進行溶液聚合8小時,
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.5重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以N-乙烯-2-吡咯烷酮單位作為對聚合物賦予負的固有雙折射之構成單位且具有內酯環構造作為對聚合物賦予正的固有雙折射之構成單位之透明共聚物(B-3C)。
(實施例13)
將製造例9所製得之聚合物(B-2D)藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約120μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜使用上述之自動立體測圖儀以拉伸溫度145℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2.5倍,製得厚度為100μm的拉伸薄膜(F16)。
除此之外,除了使用於甲基乙基酮、甲苯以及三氯甲烷之混合溶劑中均勻混合有製造例10所製得之聚合物(B-1D)5重量份與製造例11所製得之樹脂(E)95重量份之後乾燥所得之樹脂,來取代聚合物(B-2D)以外,其餘以與上述相同的方式製得厚度為95μm的拉伸薄膜(F17)。其中,拉伸倍率為2倍,拉伸溫度為132℃。
接著,將1張之拉伸薄膜(F16)與4張之拉伸薄膜(F17)一邊對齊各薄膜的拉伸方向(拉伸軸)一邊加以積層。所得之拉伸薄膜積層體中之相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表23。
如表23所示,實施例13所製得之拉伸薄膜積層體顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性。
(實施例14)
將製造例12所製得之聚合物(B-2E)18重量份、與製造例10所製得之聚合物(B-1D)2重量份溶解於甲基乙基酮、甲苯以及三氯甲烷之混合溶劑中,並將所得之溶液加以攪拌,均勻混合聚合物(B-2E)以及(B-1D)。接著,將所得之混合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得含有聚合物(B-2E)以及(B-1D)之樹脂。
接著,將製得之樹脂藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約100μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度139℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為60μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差(面內相位差)的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表24。
如表24所示,實施例14所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性。
(實施例15)
將製造例13所製得之共聚物(B-3C),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約100μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度130℃進行一軸拉伸使得MD方向的拉伸倍率成為2倍,製得厚度為60μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差(面內相位差)的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表25。
如表25所示,實施例15所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性。
(比較例11)
對實施例13所製得之拉伸薄膜(F16)(由製造例9所製得之聚合物(B-2D)所構成),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表26。
如表26所示,拉伸薄膜(F16)顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性。
除此之外,將拉伸薄膜(F16)的配向角藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來評價,結果其配相角(Φ)為-0.7°,亦即製造例9所製得之聚合物(B-2D)的固有雙折射為正值。
(比較例12)
對實施例13所製得之拉伸薄膜(F17)(由製造例10所製得之聚合物(B-1D)與製造例11所製得之樹脂(E)所構成),其相位差(面內相位差)的波長分散性以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表27。
如表27所示,拉伸薄膜(F17)顯示出光的波長越短而相位差越大之波長分散性,其波長分散性相當大。
除此之外,拉伸薄膜(F17)的配向角藉由使用全自動雙折射計(王子計測機器公司製,KOBRA-WR)來評價,結果其配相角(Φ)為-86.4°,亦即由製造例10所製得之聚合物(B-1D)5重量份與製造例11所製得之樹脂(E)95重量份混合而得之樹脂的固有雙折射為負值。
(製造例14)
將25重量份之MHMA、63重量份之MMA、5重量份之甲基丙烯酸環己酯(CHMA)、7重量份之乙烯咔唑以及作為聚合溶劑之90重量份之甲苯,裝入具備有攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管以及氮氣導入管的反應裝置中,於此一邊通入氮氣,一邊升溫至105℃。於升溫所伴隨之迴流開始時,一方面添加作為聚合起始劑之0.04重量份之過氧化異壬酸第三戊酯(ARKEMA吉富公司製,產品名:Luperox 570),一方面於10重量份之甲苯中一邊歷時3小時滴加溶解有0.08重量份之上述過氧化異壬酸第三戊酯,一邊以約105~110℃的迴流下進行溶液聚合,然後再進行4小時的加溫、熟化。
接著,於所得之聚合溶液中加入作為環化縮合反應之觸媒(環化觸媒)之0.9重量份之磷酸辛酯/二辛酯混合物,再於約80~105℃的迴流下進行2小時環化縮合反應。
接著,藉由高壓釜以240℃ 90分鐘進一步加熱後,將所得之聚合溶液於減壓下240℃乾燥1小時,製得具有以乙烯咔唑單位作為對聚合物賦予負的固有雙折射之構成單位且具有內酯環構造作為對聚合物賦予正的固有雙折射之構成單位之透明共聚物(B-3D)。
(實施例16)
將製造例14所製得之共聚物(B-3D),藉由壓製成形機以250℃壓製成形而成為厚度約190μm的薄膜。接著,再將所製得之薄膜藉由上述自動立體測圖儀,以拉伸溫度147℃進行任意端一軸拉伸使得拉伸倍率成為2倍,製得厚度為130μm的拉伸薄膜。
所得之拉伸薄膜的相位差的波長分散性,以與實施例1相同的方式進行評價。評價結果顯示於以下之表28。
如表28所示,實施例16所製得之拉伸薄膜顯示出光的波長愈短則相位差愈小之逆波長分散性,其變化相當大。
本發明只要不跳脫其意圖以及本質的特徵亦可適用於其他實施形態。本說明書所揭示之實施形態係用以對各要素加以說明而非侷限於此。本發明之範圍係藉由以下之申請專利範圍而非上述說明來界定,其包含與申請專利範圍等同之意義以及於範圍內之各種變更。
產業上之可利用性
本發明之光學薄膜,與以往之具有雙折射性之光學薄膜相同,可廣泛使用於以液晶顯示裝置(LCD)、有機EL顯示器(OLED)為首之影像顯示裝置。此外,藉由使用本發明之光學薄膜,可提升影像顯示裝置的顯示特性。
1、11、21、31...光學薄膜
2、12、22、23、32...層
圖1係示意性地顯示本發明之光學構件之一例的截面圖。
圖2係示意性地顯示本發明之光學構件之另一例的截面圖。
圖3係示意性地顯示本發明之光學構件之又一例的截面圖。
圖4係示意性地顯示本發明之光學構件之再一例的截面圖。

Claims (37)

  1. 一種光學薄膜,具有由樹脂(A)所構成之層,該樹脂(A)具有雜環芳香族基;其至少於可見光區域中,顯示波長愈短則雙折射愈小之波長分散性;該光學薄膜係相位差板;該樹脂(A)具有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)含有具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為構成單位;該聚合物(B-1)之固有雙折射為負值;該樹脂(A)進一步含有具有正的固有雙折射之聚合物(B-2)。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中該樹脂(A)為丙烯酸樹脂或環烯烴樹脂。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中樹脂(A)含有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)具有源自於如下單體的構成單位:該單體於450nm以上之可見光區不存在吸收光譜之波峰,波長帶300~450nm中莫耳吸光係數的最大值為3000L/(mol‧cm)以上。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係選自乙烯咔唑單位、乙烯吡啶單位、乙烯咪唑單位、以及乙烯噻吩單位之至少一種。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係乙烯咔唑單位。
  6. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中該聚合物 (B-2)於主鏈具有環構造。
  7. 如申請專利範圍第6項之光學薄膜,其中該聚合物(B-2)係選自環烯烴聚合物以及纖維素衍生物之至少一種。
  8. 如申請專利範圍第6項之光學薄膜,其中該聚合物(B-2)為於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物。
  9. 如申請專利範圍第8項之光學薄膜,其中該環構造係選自戊二酸酐(glutaric anhydride)構造、馬來酸酐(maleic anhydride)構造或N-取代馬來醯亞胺(N-substituted maleimide)構造中至少一種。
  10. 如申請專利範圍第8項之光學薄膜,其中該環構造係選自內酯環(lactone ring)構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種。
  11. 如申請專利範圍第1項之光學薄膜,其中該聚合物(B-1)具有乙烯咔唑單位作為構成單位;該聚合物(B-2)於主鏈具有選自內酯環構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種之環構造。
  12. 一種光學薄膜,具有由樹脂(A)所構成之層,該樹脂(A)具有雜環芳香族基;其至少於可見光區域中,顯示波長愈短則雙折射愈小之波長分散性;該光學薄膜係相位差板;該樹脂(A)具有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)含有具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為構成單位;該樹脂(A)之固有雙折射為負值,且進一步具有固有雙 折射為正之樹脂(C)所構成之層,而成為含有該樹脂(A)所構成之層與該樹脂(C)所構成之層的積層構造。
  13. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該樹脂(A)為丙烯酸樹脂或環烯烴樹脂。
  14. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中樹脂(A)含有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)具有源自於如下單體的構成單位:該單體於450nm以上之可見光區不存在吸收光譜之波峰,波長帶300~450nm中莫耳吸光係數的最大值為3000L/(mol‧cm)以上。
  15. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係選自乙烯咔唑單位、乙烯吡啶單位、乙烯咪唑單位、以及乙烯噻吩單位之至少一種。
  16. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係乙烯咔唑單位。
  17. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該樹脂(C)為含有具有正的固有雙折射之聚合物(B-2)。
  18. 如申請專利範圍第17項之光學薄膜,其中該聚合物(B-2)於主鏈具有環構造。
  19. 如申請專利範圍第18項之光學薄膜,其中該聚合物(B-2)係選自環烯烴聚合物以及纖維素衍生物之至少一種。
  20. 如申請專利範圍第18項之光學薄膜,其中該聚合物(B-2)為於主鏈具有環構造之(甲基)丙烯酸聚合物。
  21. 如申請專利範圍第20項之光學薄膜,其中該環構造 係選自戊二酸酐構造、馬來酸酐構造或N-取代馬來醯亞胺構造中至少一種。
  22. 如申請專利範圍第20項之光學薄膜,其中該環構造係選自內酯環構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種。
  23. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該聚合物(B-1)具有負的固有雙折射。
  24. 如申請專利範圍第12項之光學薄膜,其中該聚合物(B-1)具有乙烯咔唑單位作為構成單位,且具有負的固有雙折射。
  25. 如申請專利範圍第17項之光學薄膜,其中該聚合物(B-1)具有乙烯咔唑單位作為構成單位,且具有負的固有雙折射;該聚合物(B-2)於主鏈具有選自內酯環構造以及戊二醯亞胺構造中至少一種之環構造。
  26. 一種光學薄膜,具有由樹脂(A)所構成之層,該樹脂(A)具有雜環芳香族基;其至少於可見光區域中,顯示波長愈短則雙折射愈小之波長分散性;該光學薄膜係相位差板;該樹脂(A)具有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)含有具有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為構成單位;該聚合物(B-1)具有以含有雜環芳香族基之α,β-不飽和單體單位來作為具有對該聚合物賦予負的固有雙折射之作用的構成單位,亦進一步具有可產生對該聚合物賦予 正的固有雙折射之作用的構成單位;該可賦予正的固有雙折射之作用的構成單位係選自(甲基)丙烯酸酯單位、作為(甲基)丙烯酸酯單位之衍生物之環構造、以及環烯烴單位中之至少一種。
  27. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中該樹脂(A)為丙烯酸樹脂或環烯烴樹脂。
  28. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中樹脂(A)含有聚合物(B-1),該聚合物(B-1)具有源自於如下單體的構成單位:該單體於450nm以上之可見光區不存在吸收光譜之波峰;波長帶300~450nm中莫耳吸光係數的最大值為3000L/(mol‧cm)以上。
  29. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係選自乙烯咔唑單位、乙烯吡啶單位、乙烯咪唑單位、以及乙烯噻吩單位之至少一種。
  30. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中該α,β-不飽和單體單位係乙烯咔唑單位。
  31. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中可產生對該聚合物(B-1)賦予正的固有雙折射之作用的構成單位係選自(甲基)丙烯酸酯單位、以及作為(甲基)丙烯酸酯單位之衍生物之環構造之至少一種。
  32. 如申請專利範圍第31項之光學薄膜,其中該環構造係內酯環構造。
  33. 如申請專利範圍第26項之光學薄膜,其中該聚合物 (B-1)具有乙烯咔唑單位作為該具有賦予負的固有雙折射之作用的構成單位,且進一步具有內酯環構造作為該具有賦予正的固有雙折射之作用的構成單位。
  34. 一種影像顯示裝置,具備申請專利範圍第1~33項中任一項之光學薄膜。
  35. 一種光學薄膜之製造方法,其用以製造申請專利範圍第12項之光學薄膜;將由該樹脂(A)構成之拉伸膜及由該樹脂(C)構成之拉伸膜積層而得到具有積層結構的光學薄膜,該積層結構含有由該樹脂(A)構成之層及該樹脂(C)構成之層。
  36. 如申請專利範圍第35項之光學薄膜之製造方法,其中該樹脂(C)含有具有正的固有雙折射之聚合物(B-2)。
  37. 一種光學薄膜之製造方法,其用以製造申請專利範圍第12項之光學薄膜;將由該樹脂(A)構成之前驅物薄膜及由該樹脂(C)構成之前驅物薄膜的積層體拉伸,得到具有積層結構的光學薄膜,該積層結構含有由該樹脂(A)構成之層及由該樹脂(C)構成之層。
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