TWI557087B - 具有低軟化溫度及高韌性之玻璃 - Google Patents

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TWI557087B
TWI557087B TW100117130A TW100117130A TWI557087B TW I557087 B TWI557087 B TW I557087B TW 100117130 A TW100117130 A TW 100117130A TW 100117130 A TW100117130 A TW 100117130A TW I557087 B TWI557087 B TW I557087B
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Description

具有低軟化溫度及高韌性之玻璃
本發明係關於具有低軟化點及高損壞抵抗性之玻璃。
目前用在消費電子商品的玻璃是鹼金屬鋁矽酸鎂和蘇打石灰玻璃。鹼金屬鋁矽酸鎂玻璃的軟化點通常很高，會損壞用來下垂玻璃成應用上所需外形的鋼模，而蘇打石灰玻璃則無法適當進行離子交換的強化。此外，這種玻璃的熱膨脹係數通常很高，因此使得這些玻璃在快速熱變化期間很容易破碎。
本發明提供低軟化點和高韌性的玻璃。這種玻璃是鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，軟化點小於900℃，而且在有些實施例中，範圍從約650℃以上到約825℃。玻璃的壓痕器損壞低限值至少為300g，而且經離子交換強化後，損壞低限值至少為3000g。這種玻璃沒有鹼土金屬、鉛、砷和銻，在有些實施例中，沒有鋰。
據此，本說明的一個特性方面是提供一種鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，軟化點範圍從約650℃以上到約825℃，壓痕器損壞低限值至少300g。這種玻璃沒有鹼土金屬、鉛、砷和銻。
本說明的第二個特性方面是提供一種在壓應力下具有表面層的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，軟化點小於900℃，壓痕器損壞低限值至少5kg。這種玻璃沒有鹼土金屬、鉛、砷和銻。
本發明其他特性及優點揭示於下列說明，以及部份可由說明清楚瞭解，或藉由實施下列說明以及申請專利範圍以及附圖而明瞭。
100‧‧‧強化玻璃片
110‧‧‧第一表面
112‧‧‧強化表面層
115‧‧‧中央部份
120‧‧‧第二表面
122‧‧‧強化表面層
130‧‧‧邊
132‧‧‧部分
圖1為藉由離子交換強化玻璃片之示意性斷面圖。
圖2為玻璃的軟化點作為B2O3/Al2O3比值之函數的作圖。
圖3為離子交換之前(pre-IX)以及離子交換之後(post-IX)，多種玻璃的損壞低限值負載(damage threshold load)之作圖。
圖4為損壞低限值作為莫耳比值Σ R'2O3/Σ R2O之函數的作圖。
圖5為壓痕低限值(indentation threshold)作為莫耳比值Σ R2O/Al2O3之函數的作圖。
在底下的說明中，所有附圖裡類似的參考符號都代表類似或對應的零件。同時要瞭解的是，除非特別規定否則像「頂端」、；「底部」、「向外」、「向內」諸如此類的字眼只是為了方便起見，而不是用來作為限制詞語。此外，每當我們將群組說明成由一群元素及其組合中至少一個來構成時，要瞭解的是此群組可以由任何數目的引用元素來構成，可以是個別的或彼此結合。同樣的，每當我們將群組說明成包含一群元素及其組合中至少一個時，要瞭解的是此群組可以包含任何數目的引用元素，可以是個別的或彼此結合。除非特別規定，否則數值範圍包含範圍的上限和下限。除非另有說明，所有組成份份係以莫耳百分比(mol%)表示。
請大致參考附圖，尤其是圖1，應該要瞭解圖示是為了描述特定的實施例中，並不是用來限制此項說明或附加的聲請專利範為。附圖不一定是按照比例，為了清楚說明的目的，某些特點和圖示可能在比例或配置上顯得有點誇大。
如這裡使用的，「軟化點(softening point)」和「軟化溫度(softening temperature)」 一詞是指玻璃流動，並且黏滯性為107.6泊(poise)時的溫度。除非特別註明，「壓痕器低限值(indenter threshold)」是指在壓痕角落起始Vickers(即徑向)裂隙所需的Vickers壓痕器負載。
範圍從膝上型電腦到手機、音樂和影像播放器等消費性電子商品，通常包括經離子交換強化的玻璃，譬如鹼金屬鋁矽酸鎂玻璃。然而，這種玻璃的軟化點通常很高，會損壞用來下垂玻璃成應用上所需外形或3D形狀的鋼模。此外，這種玻璃的熱膨脹係數(CTE)通常很高(譬如約91 x 10-7/℃)，因此使得這些玻璃在快速熱變化期間很容易破碎。
據此，本說明提供的玻璃物品具有較低的軟化溫度和較低的CTE，適合用在這些應用上。此外，這種玻璃具有絕佳的離子交換特性，可抵抗裂隙的起始，且是可熔融成形的。玻璃物品包括鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，在有些實施例中，軟化點小於900℃，在其他實施例中，軟化點小於825℃，又在其他實施例中，軟化點範圍從約650℃以上到約825℃。在有些實施例中，未經離子交換化學強化的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，壓痕器損壞低限值至少300g。鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃沒有鹼土金屬和鉛。在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃沒有鋰、砷、銻、鉛和/或過渡金屬中之至少一種。
在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃是經由離子交換強化。在這種處理中，玻璃表面層內的離子被 較大型的離子取代或交換，這些較大型的離子和玻璃內呈現的離子同價或氧化狀態。鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃表面層內的離子和較大型的離子都是單價的金屬陽離子，譬如但不限定是Na+、K+、Rb+、Cs+、Ag+、Tl+、Cu+等等。
離子交換處理過程通常包括將鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃浸沒在含有較大型離子的熔態鹽浴池中，和玻璃內較小型的離子交換。熟悉此項技術的人應該知道離子交換處理過程的參數包括但不限定於浴池的組成份和溫度、浸沒時間、玻璃浸沒在鹽浴中的次數、使用多個鹽浴池，譬如退火、沖洗等額外的步驟，一般是根據玻璃的組成份、所需的層之深度、和玻璃藉由強化作業想要達到的壓應力而定。舉例而言，含鹼金屬玻璃的離子交換可藉由浸沒在至少一種熔態鹽浴池中而達成，包含的鹽譬如但不限定是硝酸鹽、硫酸鹽、氯化物等較大型的鹼金屬離子。熔態鹽浴池中的溫度範圍通常在約380℃以上到約450℃，浸沒時間範圍達約16小時。然而，也可使用和上述不同的溫度和浸沒時間。這種離子交換的處理通常會產生強化的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，在壓應力下具有外表面層(在這裡也稱為層之深度(depth of layer；DOL))。
圖1顯示的是經離子交換的強化鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃片的斷面圖。強化玻璃片100的厚度為t，實質上互相平行的第一表面110和第二表面120，中央部份115，和連結第一表面110和第二表面120的邊130。強化玻璃片100的強化表面層112、122分別從第一表面 110和第二表面120延伸到表面以下的深度d1、d2。強化表面層112、122是受到壓應力，而中央部份115則是受到張應力或張力。中央部份115的張應力和強化表面層112、122的壓應力平衡，因而保持強化玻璃片100內的平衡狀態。強化表面層112、122延伸的深度d1、d2通常被稱為「層之深度」。由於強化處理過程的結果，邊130的部分132也被強化了。強化玻璃片100的厚度t範圍通常從約0.1mm到約2mm。在一項實施例中，厚度t範圍從約0.5mm到約1.3mm。
離子交換玻璃片100的壓痕器損壞低限值(indenter damage threshold)至少是3000g。在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的壓痕器低限值範圍從約3000g到約10,000g。在一項實施例中，離子交換表面層112、122各具有至少20微米之層深度及至少約600MPa之壓應力。
在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃包含、基本上由以下成份組成，或由以下成份組成：50-70mol%的SiO2；5-15mol%的Al2O3；5-20mol%的B2O3；0-15mol%的Li2O；0-20mol%的Na2O及0-10mol%的K2O；且實質沒有鹼土金屬氧化物(即鹼土金屬氧化物不是主動或故意加到玻璃的，但可能因些微污染而小量呈現)。在有些實施例中，玻璃可進一步包括高達10mol%的P2O5和/或高達3.3mol%的SnO2，加入作為澄清劑。在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃 也是實質沒有鋰、銻、砷、鉛、銀和銅中之至少一種。在其他實施例中，可以加入譬如氟、氯和溴的鹵素到鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，作為澄清劑。或者，可加入高達3.3mol%的SnO2作為澄清劑。
在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃是向下抽拉的，利用此項技術已知的那些方法，譬如但不限定是熔融抽拉、槽孔抽拉、再抽拉等，液相線黏滯性至少135千泊(kpoise；KP)。在其他實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的黏滯性至少1百萬泊(Mpoise；MP)。在所有以上說明的實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃相對於鋯石是惰性的，在有些實施例中，當處在玻璃黏滯性至少是5千泊的溫度下，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃相對於鋯石是惰性的。
表1a和1b列出的是這裡描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃代表性成分和物理特性。譬如應變點、退火點和軟化點的性質是由纖維延伸率所決定。譬如層之深度和表面壓應力(CS)的離子交換(IX)特性是藉著分別極化電子顯微鏡和/或表面應力尺，從DOL和CS值計算中央張力和中央張應力(CT)而得到。
表1a列出的離子交換特性是利用單一步驟的離子交換處理而得到(玻璃浸沒在100% NaNO3或NaNO3和KNO3混合(重量比60/40、80/20或90/10)的單一離子交換或鹽浴池中)。在大多數的例子中，這裡描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃特性是高DOL(一般大於 100微米)，和相當低的CS(<50MPa)。高壓應力可利用兩步驟的IX處理而得到，首先將玻璃浸沒在第一離子交換或鹽浴池中，然後再將玻璃浸沒在和第一浴池不同成份的第二離子交換或鹽浴池中。例如，兩步驟的離子交換處理包括浸沒在成份是100% NaNO3或以重量比60% KNO3/40% NaNO3混合的第一浴池中，溫度範圍從約390℃到約410℃達2到15小時，接著浸沒在成份是100% KNO3或較大型陽離子鹽(譬如RbNO3)的第二浴池中，溫度範圍從約390℃到約410℃，時間範圍從5分鐘到15小時。
表1b列出另一種鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的成分以及熱和機械特性。所列出的是經由離子交換的玻璃之層深度和壓痕損壞低限值，所述離子交換使用的是100% NaNO3浴池或包含重量比60% KNO3和40% NaNO3的浴池。混合K+/Na+浴池中的離子交換，不只可以浴池中的Na+取代玻璃內的Li+，也可以浴池中的K+取代玻璃內的Na+，因此增加玻璃表面的壓應力。表面上的CS增加會使玻璃更能抵抗損壞。也列出基底玻璃測出的損壞低限值(即離子交換前，表1b中標為「Pre-IX」)。100% NaNO3浴池中的離子交換所產生之層深度，如果不同的話，可比得上使用重量百分比60：40的KNO3：NaNO3混合物的混合鹽浴池所獲得之層深度。在NaNO3中進行離子交換之玻璃的損壞低限值，至少比離子交換之前的基底玻璃所測得的損壞低限值大3倍。在KNO3：NaNO3混 合浴池中進行離子交換之玻璃的損壞低限值，至少比離子交換之前的基底玻璃所測得的損壞低限值大5倍。
我們發現鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃中的B2O3/Al2O3比例是降低這裡所描述玻璃軟化點的一個重要因素。將表1a列出的玻璃之軟化點作為 B2O3/Al2O3莫耳百分比的函數之作圖繪示於圖2中。根據高溫黏滯性和軟化點資料，小於1600℃的200P溫度(即玻璃黏滯性為200泊時的溫度)通常導致小於750℃的軟化點。如同圖2所示資料的線性迴歸曲線分析計算，B2O3/Al2O3莫耳百分比必須大於1.2，以達到這裡所描述鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃之小於750℃的軟化點。
這裡所描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃比鹼金屬鋁矽酸鹽和蘇打石灰玻璃更能抵抗損壞。這些鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃本質上的高損壞抵抗性是因為結構中缺乏非橋接氧原子。這種本質上的損壞抵抗性可藉著經由離子交換，加入壓縮層到玻璃上，而進一步得到改善。圖3比較的是針對離子交換前(pre-IX)和離子交換後(post-IX)的多種玻璃所得到的損壞低限值負載。在離子交換前，鹼金屬鋁矽酸鹽和蘇打石灰玻璃的損壞低限值分別是100g和300g，而這裡所描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃在離子交換前的損壞低限值至少是500g，在有些例子，至少是1000g(請見表中的範例)。經過離子交換強化後，這裡所描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的有些實施例中，顯示出高達7000g的損壞低限值。相對地，經離子交換的蘇打石灰玻璃(其具有約10微米的壓縮之層深度，及約650MPa的壓應力)的最大損壞低限值可達約800g。經離子交換的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃(其具有約50微米的DOL，及約750MPa的壓應力)的損壞低限值可高達5000g。藉著增加這裡所描述玻璃的矽含量和/或 減少氧化鋁濃度，可降低暴露到這裡所描述玻璃時，鋯石的反應或分解的程度。
在有些實施例中，當玻璃經由離子交換強化後，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃具有壓應力下的表面層，小於900℃的軟化點，和至少5kg的壓痕器損壞低限值。在這些實施例中，玻璃包含、基本上由以下成份組成，或由以下成份組成：50-70mol%的SiO2；5-15mol%的Al2O3；5-20mol%的B2O3；0-15mol%的Li2O；0-20mol%的Na2O及0-10mol%的K2O；且實質沒有鹼土金屬氧化物。在有些實施例中，玻璃可進一步包括高達10mol%的P2O5和/或高達3.3mol%的SnO2，加入作為澄清劑。在有些實施例中，鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃也是實質沒有鋰、銻、砷、鉛、銀和銅中之至少一種。在其他實施例中，可以加入譬如氟、氯和溴等鹵素到鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，作為澄清劑。藉由調整這些玻璃各種成分的濃度，就可得到具有各種所需特性組合的玻璃，譬如低軟化點、高韌性、高壓應力和層之深度，以及低的鋯石分解黏滯性(zircon breakdown viscosity)。例如，可藉著降低氧化矽和氧化鋁的濃度，一方面增加玻璃的硼和鹼金屬含量以得到較低的軟化點。
藉由離子交換強化玻璃之後，可藉由調整氧化鋁和B2O3(這裡一起稱為R'2O3)以及鹼金屬氧化物(這裡一起稱為R2O)的濃度，使得莫耳比值Σ R'2O3/Σ R2O的範圍從約1.5到約1.7，而莫耳比值Σ R2O/Al2O3小於 或等於1.12，來達到較大的韌性(即，較高的損壞低限值)。圖4顯示的是比值Σ R'2O3/Σ R2O對損壞低限值的影響。當比例值超出1.5≦Σ R'2O3/Σ R2O≦1.7的範圍時，損壞低限值會急速下降。圖5顯示的是比值Σ R2O/Al2O3對壓痕負載的影響。當此比值從較高的值趨近電荷平衡組成份(1.00)時，壓痕負載就會快速增加。藉著增加玻璃的氧化鋁濃度和/或降低玻璃的硼含量，經由離子交換可以達到較大的層深度和表面壓應力。
這裡描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃可依據每種玻璃顯示的軟化溫度和韌性加以分類。當玻璃的軟化點範圍從約725℃以上到約775℃且200泊(200P)的溫度範圍從約1550℃以上到約1600℃時，這組玻璃被視為是「軟而韌(soft and tough)」。經由離子交換強化之後，這種玻璃的損壞低限值負載範圍從約5kg到約15kg。成份上這種軟而韌之玻璃的比值Σ R'2O3/Σ R2O小於1.5，而比值Σ R2O/Al2O3大於1.12。此外，這種軟而且韌之玻璃的液相線黏滯性大於約1MP(百萬泊)，且鋯石的分解黏滯性範圍從約5kP(千泊)以上到約15kP。表2列出的是軟而韌之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的特性和代表性組成份。
1在100% KNO3鹽浴中離子交換。
藉由離子交換強化之後，這裡描述的具有中等軟性及韌性之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃具有從約800℃至約825℃之範圍內的軟化點、從約1600℃至約1650℃之範圍內的200P溫度，以及從約25kg至約40kg之範圍內的損壞低限值負載。此外，在此中等鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃群組中的玻璃具有大於1MP的液相線黏滯性，及從約15kP(千泊)以上到約40kP之範圍內的鋯石分解黏滯性。對這些玻璃而言，莫耳比值R'2O3/R2O在從約1.5 至約1.7的範圍內，且莫耳比值R2O/Al2O3在從約1.1至約1.2的範圍內。表3列出的是具有中等軟性及韌性的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的特性和代表性組成份。
1在100% KNO3鹽浴中離子交換。
這裡描述的超韌性鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃具有從約850℃至約900℃之範圍內的軟化點及從約 1650℃至約1700℃之範圍內的200P溫度。當經過璃子強化，這些玻璃具有至少約45kg的損壞低限值負載。這些玻璃各具有大於1MP的液相線黏滯性，及從約35kP(千泊)以上到約50kP之範圍內的鋯石分解黏滯性。對這些玻璃而言，莫耳比值R'2O3/R2O在從約1.5至約1.7的範圍內，且莫耳比值R2O/Al2O3在從約0.95至約1.10的範圍內。表4列出的是超韌性鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃的代表性組成份。
1在100% KNO3鹽浴中離子交換。
這裡描述的鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃可以形成平面的玻璃片，以在譬如但不限定是觸控螢幕和移動式電子裝置之應用中使用作為顯示視窗、蓋板、螢幕、結構特徵件(structural feature)等，所述移動式裝置可包括電話和其他通訊裝置、娛樂裝置，以及手握式、膝上型和筆記型電腦。在有些實施例中，這種鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃物品是平面的(即實質上平坦的)形狀。或者，這些玻璃物品可藉著下垂、鑄造、磨光、研磨或其它習知的方式，形成非平面或三維的形狀，而具有彎度、輪廓或半徑外形部分。
人們瞭解雖然本發明已詳細地對特定實施例加以說明，人們瞭解本發明並不受限於這些，熟知此技術者能夠作許多變化以及改變而並不會脫離下列申請專利範圍界定出本發明精神及原理。
100‧‧‧強化玻璃片
110‧‧‧第一表面
112‧‧‧強化表面層
115‧‧‧中央部份
120‧‧‧第二表面
122‧‧‧強化表面層
130‧‧‧邊
132‧‧‧部分

Claims (25)

  1. 一種鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，該玻璃具有低於725℃之軟化點以及至少300g的壓痕器損壞低限值(indenter damage threshold)，且其中該玻璃不含鹼土金屬、鉛、砷及銻，且其中比值B2O3(mol%)/Al2O3(mol%)大於1.2。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃具有承受壓應力之一表面層以及至少3000g的壓痕器損壞低限值。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃具有在從約3000g至約10,000g之範圍內的壓痕器損壞低限值。
  4. 如申請專利範圍第2項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該表面層係經離子交換。
  5. 如申請專利範圍第2項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該表面層之層深度為至少20微米，且該表面層之壓應力為至少700MPa。
  6. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃包含：50-70mol%的SiO2；5-15mol%的Al2O3；5-20mol%的B2O3；0-15mol%的Li2O；0-20mol%的Na2O；以及0-10mol%的K2O。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃不含鋰。
  8. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中在該玻璃之黏滯性為至少5KP的溫度下，該玻璃相對於鋯為惰性的。
  9. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃之液相線黏滯性(liquidus viscosity)為至少135KP。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃之液相線黏滯性為至少1MP。
  11. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃為可向下抽拉的(down-drawable)。
  12. 如申請專利範圍第1至5項中任一項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃被形成為玻璃物品，其中該玻璃物品為用於一電子裝置之一顯示視窗、一蓋板、一螢幕以及一結構特徵件中之一者。
  13. 如申請專利範圍第12項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃物品為非平面的。
  14. 一種鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，該玻璃具有承受壓應力之一表面層、在從約850℃至約900℃的 範圍內的軟化點，以及至少5kg的壓痕器損壞低限值(indenter damage threshold)，其中比值R'2O3(mol%)/R2O(mol%)係在從1.5至1.7的範圍內，且比值R2O(mol%)/Al2O3(mol%)係在從約0.95至1.10的範圍內，其中R'2O3=Al2O3+B2O3且R2O=Li2O+Na2O+K2O，且其中該玻璃不含鹼土金屬、鉛、砷及銻。
  15. 如申請專利範圍第14項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃包含：50-70mol%的SiO2；5-15mol%的Al2O3；5-20mol%的B2O3；0-15mol%的Li2O；0-20mol%的Na2O；以及0-10mol%的K2O。
  16. 如申請專利範圍第14項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃包含：50-70mol%的SiO2；5-15mol%的Al2O3；3-20mol%的B2O3；以及10-20mol%的Na2O。
  17. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃不含鋰。
  18. 如申請專利範圍第14項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該壓痕器損壞低限值在從5kg至15kg的範圍內。
  19. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金 屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該壓痕器損壞低限值在從25kg至35kg的範圍內。
  20. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該壓痕器損壞低限值為至少45kg。
  21. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該表面層係經離子交換。
  22. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃之液相線黏滯性為至少1MP。
  23. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃為可向下抽拉的(down-drawable)。
  24. 如申請專利範圍第14或15項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃被形成為一玻璃物品，其中該玻璃物品為用於一電子裝置之一顯示視窗、一蓋板、一螢幕以及一結構特徵件中之一者。
  25. 如申請專利範圍第24項所述之鹼金屬鋁硼矽酸鹽玻璃，其中該玻璃物品為非平面的。
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