TWI553351B - 使用相變化油墨之撓性濾光片基板及其製造方法 - Google Patents
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Description
本發明關於一種撓性濾光片基板及其製造方法,更特別的是,關於能用於連續程序之無黑色基質的撓性濾光片基板,及其製造方法。
一種根據相關技術的濾光片的細微圖案(諸如RGB圖案)主要係使用光蝕刻法製造。然而,在光蝕刻法中,由於圖案係藉由以光阻劑塗覆整體區域、使用光罩使該圖案選擇性曝光,及顯影不要想的圖案部分以移除該部分來形成,不必要損耗之材料量可能相對高,及可能需要多階段程序,導致製造成本提高,從而拉長所需之製造時間。
同時,雖然對於撓性顯示器的興趣迅速增加,但對於以塑膠取代玻璃作為顯示裝置之基板材料的研究仍活躍地進行。當以塑膠基板取代玻璃基板時,顯示裝置之整體重量可能降低同時賦予其設計靈活性。此外,在
塑膠基板之情況下,相較於使用玻璃基板之情況,耐衝擊性可改善及因其製造係連續程序進行之故製造成本可相對較低。
然而,上述光蝕刻法可能不適用於連續程序。因此,噴墨法已成為光蝕刻法之優良替代者以作為形成撓性顯示器中之撓性濾光片基板的方法。
然而在用於撓性顯示器之基板的情況下,基板的表面能可根據製造法而改變,且可視基板表面之位置而具有不同值,因此使得基板的表面能落能經常不規則。在用於形成根據相關技術之噴墨方法中所使用之濾光片的油墨之情況下,可能難以在如上述具有不規則表面能的基板上形成具有均勻寬度及高度的圖案。此外,在根據相關技術之噴墨方法中,由於圖案可使用於油墨乾燥時所留下的固態物質來形成,故溶劑揮發作用可以不均勻方式產生,以使圖案表面可為不均勻並可以凹凸方式形成。
此外,在用於形成相關技術中所使用之濾光片的油墨之情況下,由於其流動性可能高,故在圖案形成程序期間可輕易地混合R、G及B圖案。因此,為了防止該混合,已使用形成黑色基質部分圖案然後以R、G及B油墨填充於其內部的相關技術方法。然而,在此種方法中,可能需要大量程序且可能會造成不便。此外,在相關技術使用此種方法所形成之濾光片的情況中,R、G及B圖案之中央部分及邊緣部分具有不同高度,使得該等圖案之上表面可能不均勻形成。此種現象可因黑色基質與用於
形成濾光片之油墨之間的表面張力差異所產生。雖然可視所使用之油墨類型而產生稍微偏差,但在根據相關技術之濾光片基板的像素圖案之情況中,上表面之算術平均粗糙度(Ra)通常可為10%或更多個像素圖案高度。以此方式,當像素圖案之上方圖案不均勻時,可能無法實現均勻色彩。
如此,一直以來需要能適用於連續程序並且即使在未形成黑色基質圖案時將濾光片施加至塑膠基板亦實現圖案部分之均勻線寬及高度的濾光片。
本發明之一方面提供使用相變化油墨並在使得在無黑色基質之情況下能形成均勻圖案之適於連續程序的撓性濾光片基板,及其製造方法。
本發明之許多方面不受限於此,且可從本說明書之整體描述暸解。熟悉本技術之人士可毫無困難地理解本發明之其他方面。
根據本發明一方面,提供撓性濾光片基板,其包含:撓性基板;及形成於該撓性基板上之R、G及B圖案,其中該等R、G及B圖案係使用相變化油墨組成物形成。
該撓性基板可由塑膠、超薄玻璃、紙、薄金屬纖維強化之塑膠或其複合物所形成。
該相變化油墨組成物可具有約50℃至120℃之熔點。
R、G及B圖案之上表面可具有等於或小於圖案高度的5%,較佳約0.1至5%之算術平均粗糙度Ra。該等R、G及B圖案的寬對高之比可在約1:20至1:200的範圍。
根據本發明另一方面,提供一種製造撓性濾光片基板之方法,該方法包括:將相變化油墨組成物卸載在撓性基板上,以形成R、G及B圖案;及在(該相變化油墨組成物之熔點-20)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+15)℃之溫度下加壓該等R、G及B圖案。
該撓性基板可從捲繞有該撓性基板之捲筒解繞。
該卸載可在(該相變化油墨組成物之熔點+5)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+75)℃之溫度下進行。
該卸載可在70℃至125℃之溫度下進行。
該加壓可在0.01至50MPa之壓力下進行。
該加壓可藉由壓力輥或平板進行。
該加壓係在該壓力輥與該基板以1至100m/s之相對速度移動時進行。
該方法另外包括:在加壓該等R、G及B圖
案之前,將保護片堆疊在該等圖案之上方部分上。
該方法另外包括:固定該等經加壓之R、G及B圖案。
該等圖案之固定可經由光固化進行。
上述發明內容中未描述本發明之所有特徵。參考以下具體實例將更詳細理解本發明的各種特徵及據此獲得之優點及效益。
在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板及其製造方法中,由於R、G及B圖案係使用相變化油墨形成,可不必形成黑色基質以防止介於R、G及B圖案之間的混色,如此使得可進行連續程序及可經由簡單程序製造均勻而精確圖案。
此外,在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板中,由於根據相關技術,黑色基質位在像素元素下方部分上,可不產生該像素元件內或介於像素之間的梯狀部分。此外,可不產生該像素元件內之非填充區,從而顯著減少漏光現象,因而使能具有優異光學性質。
同時,當經由上述方法製造撓性濾光片基板時,由於點距、所施加壓力等可在卸載相變化油墨組成物時經調整而控制R、G及B圖案之線寬及高度,故該撓性濾光片基板可適於應用在具有不同解析度水準的各種顯示裝置。
此外,當使用相變化油墨組成物形成R、G及B圖案時,該油墨之分散度可能低從而促進形成具有窄線寬的圖案。此外,不需要黑色基質,如此促進具有相對低高度之濾光片圖案的形成。
10‧‧‧相變化油墨組成物
20‧‧‧噴墨頭
30‧‧‧撓性基板
40‧‧‧壓力輥
50‧‧‧光照射裝置
圖1係顯示根據本發明具體實例之撓性濾光片基板的圖。
圖2係顯示根據本發明具體實例之用於製造撓性濾光片基板的方法之圖。
圖3係顯示在改變點距時於將相變化油墨卸載於撓性基板上之後在該基板上所形成的圖案形狀之光學影像。
圖4係顯示在加壓圖3的圖案之後該等圖案的形狀之光學影像。
圖5為使用3D觀看器觀察圖3C的該等圖案所獲得之影像,而圖6顯示圖5之影像的剖面(以Y軸方向裁切)之輪廓。
圖7為使用3D觀看器觀察圖4C的該等圖案所獲得之影像,而圖8顯示圖7之影像的剖面(以Y軸方向裁切)之輪廓。
圖9為顯示根據實施例1至4之濾光片基板的耐熱性之測試結果的照片。
下文茲更詳細說明本發明之具體實例。
為了發展能用於連續程序且形成均勻而精確濾光片圖案的技術,經過重複研究,本發明之發明人發現上述目的可藉由使用相變化油墨來製造濾光片而獲致,從而完成本發明。
圖1係圖示根據本發明具體實例之撓性濾光片基板的圖。如圖1所示,根據本發明具體實例之撓性濾光片基板可包括撓性基板30及形成於該撓性基板上之R、G及B圖案15。在此情況下,R、G及B圖案15可使用相變化油墨組成物形成而且在該等R、G及B圖案15之間可不形成黑色基質。同時,在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板中,可形成R、G及B圖案以使得個別像素圖案彼此分開預定距離,或者個別像素圖案可以其間無間距方式彼此相鄰。
在本發明具體實例中,只要撓性基板30具有撓性,該基板之材料無特別限制。該撓性基板30可地由例如塑膠、超薄玻璃、紙、薄金屬纖維強化之塑膠或其複合物所形成而無限制。其中,就輕量、設計靈活性、優異耐衝擊性及因經由連續程序製造彼所致之低製造成本方面來看,該基板可由塑膠形成。
同時,作為塑膠基板,可使用由各種材料所形成而且常用於該技術領域之各式各樣塑膠基板而無限制。例如,可使用由聚對苯二甲酸乙二酯(PET)、聚碳酸
酯、三乙醯基纖維素(TAC)、丙烯酸聚合物、環烯烴聚合物(COP)、經丙烯酸系底漆處理之對苯二甲酸乙二酸(PET)、聚碳酸酯膜、聚降莰烯等所形成之塑膠基板。
然而,如上述,在塑膠基板之情況下,根據其程序效應或材料,可能難以具有均勻表面能,導致無法使用根據相關技術之濾光片油墨組成物形成均勻圖案。然而,如本發明,當使用相變化油墨組成物形成R、G及B圖案時,不論表面能為何,可在基板之表面上形成具有均勻寬度之細微圖案。
相變化油墨可指一種在室溫下以固體形式存在,但在噴墨裝置之操作溫度下可轉化成液體形式之油墨,其係以液相噴射,從而黏著至印刷媒體,在黏著之後,迅速凝結而形成圖案。在使用上述相變化油墨的情況下,由於油墨在噴射至印刷媒體上之後迅速凝結,該油墨鮮少擴散,因此即使在無黑色基質之情況下可能不會造成R、G及B圖案的混色。此外,由於油墨之凝結速度可根據溫度予以控制,形成相對均勻的圖案而與基板之表面狀態無關。
同時,可用於本發明具體實例中之相變化油墨組成物可包括相變材料及著色劑。
可提供相變材料以使油墨具有相變性質,其不受限制但可為在室溫下呈固體形式之脂肪酸、高級醇,及各種類型的蠟。該相變材料之特殊實例可包括脂肪酸,諸如癸酸、十一酸、十二酸、十三酸、十四酸、十五酸、
十六酸、十七酸、十八酸、十九酸、二十酸、二十一酸、二十二酸、二十三酸、二十四酸、二十五酸、二十六酸、二十七酸、二十八酸、二十九酸、三十酸、三十一酸、三十二酸、三十三酸、三十四酸、三十五酸及三十六酸;高級醇,諸如癸醇、十一醇、十二醇、十三醇、十四醇、十五醇、十六醇、十七醇、十八醇、十九醇、二十醇、二十一醇、二十二醇、二十三醇、二十四醇、二十五醇、二十六醇、二十七醇、二十八醇、二十九醇、三十醇、三十一醇、三十二醇、三十三醇、三十四醇、三十五醇及三十六醇;以及不同類型之蠟,諸如衍生自礦物之蠟,包括石蠟、微晶蠟、班斯達蠟(barnsdall wax)、地蠟(ozokerite)、純地蠟(ceresin)及褐煤蠟、衍生自植物之蠟,包括巴西棕櫚蠟、小冠椰子蠟、堪地里拉蠟、木蠟及梛子脂、衍生自動物之蠟,包括蜂蠟及鯨蠟,以及合成蠟,包括聚乙烯蠟、聚乙二醇蠟(polyoxyethylene glycol wax)、經鹵化之烴蠟、蠟酯等。然而,該等相變材料之實例不局限於此。
同時,該相變材料之含量相對於相變化油墨組成物的整體重量計可為約3至95重量份,較佳為約5至80重量份,或為約5至50重量份。當該相變材料之數量符合該範圍時,可獲得有效相變性質,從而可形成精確而均勻的圖案。
同時,可提供著色劑以使R、G及B圖案具有彩色特徵,其不受限制但可包括至少一種顏料或染料,
或其混合物。作為顏料,可使用無機顏料及有機顏料。該著色劑之特殊實例包括洋紅6B(C.I.12490);酞花青綠(C.I.74260);酞花青藍(C.I.74160);維多利亞純藍(Victoria Pure Blue)(C.I.42595);C.I.顏料紅3、23、97、108、122、139、140、141、142、143、144、149、166、168、175、177、180、185、189、190、192、202、214、215、220、221、224、230、235、242、254、255、260、262、264、272;C.I.顏料綠7、36;及C.I.顏料藍15:1、15:3、15:4、15:6、16、22、28、36、60、64等。或者,亦可使用本技術已知之其他顏料及染料。
同時,該著色劑之含量相對於相變化油墨組成物的整體重量計可為約5至50重量份,例如為約5至40重量份,或為約5至30重量份。當該著色之含量大於50重量份時,該染料可能未充分溶解,同時可能無法促進該顏料之分散而導致相變化油墨的黏聚大於噴嘴出口之尺寸,造成無法進行卸載程序。
同時,根據本發明具體實例之相變化油墨組成物可視需要進一步包括聚合物黏合劑,且在此情況下,該聚合物黏合劑之含量相對於相變化油墨組成物之整體重量計可為約0至20重量份,例如為約1至10重量份,或為約3至5重量份。當該聚合物黏合劑之數量在該範圍以外時,該相變化油墨於液體狀態下之黏度可能提高而造成噴射程序困難。
同時,該聚合物黏合劑不受限制,但可為下
列單體之同元聚合物或聚合物樹脂。可用於該具體實例之單體可為選自由下列所組成之群組中的一或多者:至少一種不飽和羧酸酯單體,其係選自由下列所組成之群組:(甲基)丙烯酸苯甲酯、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸二甲基胺基乙酯、(甲基)丙烯酸異丁酯、(甲基)丙烯酸三級丁酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、(甲基)丙烯酸2-苯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氫呋喃甲酯、(甲基)丙烯酸羥乙酯、(甲基)丙烯酸2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸2-羥基-3-氯丙酯、(甲基)丙烯酸4-羥丁酯、(甲基)丙烯酸醯基辛氧基-2-羥丙酯、(甲基)丙烯酸甘油酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、(甲基)丙烯酸3-甲氧基丁酯、(甲基)丙烯酸乙氧基二乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三乙二醇酯、(甲基)丙烯酸甲氧基三丙二醇酯、聚(乙二醇)甲基醚(甲基)丙烯酸酯、苯氧基二乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、對壬基苯氧基聚丙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸環氧丙酯、(甲基)丙烯酸四氟丙酯、(甲基)丙烯酸1,1,1,3,3,3-六氟異丙酯、(甲基)丙烯酸八氟戊酯、(甲基)丙烯酸十七氟癸酯、(甲基)丙烯酸三溴苯酯、(甲基)丙烯酸二環戊酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯酯、(甲基)丙烯酸二環戊烯氧基乙酯、(甲基)丙烯酸異莰酯、(甲基)丙烯酸金鋼烷酯、丙烯酸α-羥甲酯、
丙烯酸乙基α-羥甲酯、丙烯酸丙基α-羥甲酯及丙烯酸丁基α-羥甲酯;至少一種芳族乙烯基單體,其係選自由下列所組成之群組:苯乙烯、α-甲基苯乙烯、(鄰,間,對)-乙烯基甲苯、(鄰,間,對)-甲氧基苯乙烯,及(鄰,間,對)-氯苯乙烯;至少一種不飽和醚單體,其係選自由下列所組成之群組:乙烯基甲基醚、乙烯基乙基醚及烯丙基環氧丙基醚;至少一種不飽和醯亞胺單體,其係選自由下列所組成之群組:N-苯基順丁烯二醯亞胺、N-(4-氯苯基)順丁烯二醯亞胺、N-(4-羥苯基)順丁烯二醯亞胺及N-環己基順丁烯二醯亞胺;及順丁烯二酸酐單體,諸如順丁烯二酸酐及甲基順丁烯二酸酐,但不局限於此。
同時,視需要,根據本發明具體實例之相變化油墨組成物可進一步包括反應性單體或寡聚物,且在此情況下,該反應性單體或寡聚物之含量相對於相變化油墨組成物的整體重量可為約0至90重量份,例如,約2至60重量份,約3至50重量份,或約5至30重量份,但其量並不局限於此。
在此情況下,反應性單體或寡聚物可為可藉由輻射或電子射線固化之可光固化化合物,及可為具有乙烯系不飽和組合物之官能單體或寡聚物;可開環聚合之單體或寡聚物等。更特別的是,該反應性單體或寡聚物可為例如包括丙烯酸系衍生物、雙酚A衍生物或環氧或氧環丁烷基之化合物。該反應性單體或寡聚物之特殊實例可包括
至少一種選自由下列所組成之群組的單官能單體:一(甲基)丙烯酸酯聚乙二醇、一(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯及(甲基)丙烯酸酯苯氧基乙酯;至少一種選自由以下組成之群組的多官能基單體:聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸聚丙二醇酯、三丙烯酸三羥甲基乙烷酯、三丙烯酸三羥甲基丙烷酯、(甲基)丙烯酸新戊二醇酯、四丙烯酸新戊四醇酯、三丙烯酸新戊四醇酯、五丙烯酸二新戊四醇酯及六丙烯酸二新戊四醇酯;胺基甲酸酯多官能基丙烯酸酯,諸如U-324A、U15HA及U-4HA;雙酚A衍生物之環氧丙烯酸酯及酚醛清漆環氧丙烯酸酯;含環氧基之乙烯系不飽和單體,諸如烯丙基環氧丙基醚、5-降莰烯-2-甲基-2-羧酸環氧丙酯(內、外混合物)、1,2-環氧基-5-己烯、1,2-環氧基-9-癸烯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧丙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙基α-乙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙基α-正丙酯、(甲基)丙烯酸環氧丙基α-正丁酯、(甲基)丙烯酸3,4-環氧基丁酯、(甲基)丙烯酸4,5-環氧基戊酯、(甲基)丙烯酸5,6-環氧基庚酯、丙烯酸6,7-環氧基庚基α-乙酯,及(甲基)丙烯酸甲基環氧丙酯;含氧環丁烷基之單官能氧環丁烷,諸如3-乙基-3-(2-乙基己氧基甲基)氧環丁烷;含芳族基之單官能氧環丁烷,諸如3-乙基-3-苯氧基甲基氧環丁烷;1,4-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]苯;1,4-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]苯;1,3-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]苯;1,2-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]
苯;4,4'-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]聯苯;2,2'-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]聯苯;3,3’,5,5'-四甲基-4,4'-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]聯苯;2,7-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]萘;雙[4-{(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基}苯基]甲烷;雙[2-{(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基}苯基]甲烷;2,2-雙[4-{(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基}苯基]丙烷;3(4),8(9)-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]三環癸烷;2,3-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]降莰烷;1,1,1-參[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]丙烷;1-丁氧基-2,2-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基甲基]丁氧基-;1,2-雙[{2-(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基}乙硫基]乙烷;雙[{4-(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲硫基}苯基]硫醚;1,6-雙[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]-2,2,3,3,4,4,5,5-八氟己烷;3-[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]丙基三甲氧基矽烷;3-[(3-乙基氧環丁烷-3-基)甲氧基]丙基三乙氧基矽烷等。
同時,視需要,根據本發明具體實例之相變化油墨組成物可另外包括光聚合起始劑。當光聚合起始劑與可光固化化合物包括在該相變化油墨組成物中時,R、G及B圖案可經由光固化而固定,從而在形成圖案之後可防止該等圖案根據溫度改變而變形。該光聚合起始劑不受限制,但可為本技術中已知之自由基或陽離子光聚合起始劑。
自由基光聚合起始劑之實例可包括三化合物,諸如2,4-三氯甲基-(4'-甲氧基苯基)-6-三、2,4-三氯甲基-(4'-甲氧基苯乙烯基)-6-三、2,4-三氯甲基-(芬普尼)-6-三、2,4-三氯甲基-(3',4'-二甲氧基苯基)-6-三、3-{4-[2,4-雙(三氯甲基)-s-三-6-基]苯硫基}丙酸等;非咪唑(non-imidazole)化合物,諸如2,2'-雙(2-氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基非咪唑、2,2'-雙(2,3-二氯苯基)-4,4',5,5'-四苯基非咪唑等;以苯乙酮為底質之化合物,諸如2-羥基-2-甲基-1-苯基丙-1-酮、1-(4-異丙苯基)-2-羥基-2-甲基丙-1-酮、4-(2-羥乙氧基)-苯基(2-羥基)丙基酮、1羥基環己基苯基酮、安息香甲基醚、安息香乙基醚、安息香異丁基醚、安息香丁基醚、、2,2-二甲氧基-2-苯基苯乙酮、2-甲基-(4-甲硫基苯基)-2-嗎啉基-1-丙-1-酮、2-苯甲基-2-二甲基胺基-1-(4-嗎啉基苯基)-丁-1-酮等;以二苯甲酮為底質之化合物,諸如二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基胺基二苯甲酮、苯甲酸甲基-o-苯甲醯酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、3,3',4,4'-肆(三級丁基過氧基羰基)二苯甲酮等;以茀酮為底質之化合物,諸如9-茀酮、2-氯-9-茀酮、2-甲基-9-茀酮等;以噻噸酮為底質之化合物,諸如噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、異丙基噻噸酮、二異丙基噻噸酮等;以酮為底質之化合物,諸如酮、2-甲基酮等;以蒽醌為底質之化合物,諸如蒽醌、2-甲
基蒽醌、2-乙基蒽醌、三級丁基蒽醌、2,6-二氯-9,10-蒽醌等;以吖啶為底質之化合物,諸如9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙(9-吖啶基)戊烷、1,3-雙(9-吖啶基)丙烷等;二羰基化合物,諸如1,7,7-三甲基-雙環[2,2,1]庚-2,3-二酮、9,10-菲醌等;以氧化膦為底質之化合物,諸如2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦、雙(2,6-二氯苯甲醯基)丙基氧化膦等;以胺為底質之化合物,諸如4-(二甲基胺基)苯甲酸甲酯、乙基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯、4-(二甲基胺基)苯甲酸2-正丁氧基乙酯、2,5-雙(4-二乙胺基苯亞甲基)環戊酮、2,6-雙(4-二乙胺基苯亞甲基)環己酮、2,6-雙(4-二乙胺基苯甲基)-4-甲基-環己酮等;以香豆素為底質之化合物,諸如3,3'-羰基乙烯基-7-(二乙胺基)香豆素、3-(2-苯並噻唑基)-7-(二乙胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-(二乙胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧基-香豆素、10,10'-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H,11H-Cl]苯並哌喃並[6,7,8-ij]-喹-11-酮等;查耳酮化合物,諸如4-二乙胺基查耳酮、4-疊氮苯亞甲基苯乙酮等;及2-苯甲醯基亞甲基、3-甲基-β-萘並噻唑啉或其混合物。
此外,陽離子聚合起始劑之實例可包括鎓鹽,諸如芳族重氮鹽、芳族碘鋁鹽及芳族鋶鹽、鐵-芳烴錯合物等。
同時,該聚合起始劑之含量相對於相變化油
墨組成物的整體重量計可為約0至10重量份,較佳為約0.01至5重量份,或為約0.1至3重量份。當該聚合起始劑之含量為10重量份或更少時,例如可減少加熱該相變化油墨時因該聚合起始劑昇華所造成的設備及其周邊之污染。
同時,根據聚合起始劑之效率,可另外使用光交聯安定劑。該光交聯安定劑之實例不受限制但可包括以二苯甲酮為底質之化合物,諸如二苯甲酮、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙胺基)二苯甲酮、2,4,6-三甲基胺基二苯甲酮、苯甲酸甲基-o-苯甲醯酯、3,3-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮、3,3',4,4'-肆(三級丁基過氧基羰基)二苯甲酮等;以茀酮為底質之化合物,諸如9-茀酮、2-氯-9-茀酮、2-甲基-9-茀酮等;以噻噸酮為底質之化合物,諸如噻噸酮、2,4-二乙基噻噸酮、2-氯噻噸酮、1-氯-4-丙氧基噻噸酮、異丙基噻噸酮、二異丙基噻噸酮等;以酮為底質之化合物,諸如酮、2-甲基酮等;以蒽醌為底質之化合物,諸如蒽醌、2-甲基蒽醌、2-乙基蒽醌、三級丁基蒽醌、2,6-二氯-9,10-蒽醌等;以吖啶為底質之化合物,諸如9-苯基吖啶、1,7-雙(9-吖啶基)庚烷、1,5-雙(9-吖啶基)戊烷、1,3-雙(9-吖啶基)丙烷等;二羰基化合物,諸如1,7,7-三甲基-雙環[2,2,1]庚-2,3-二酮、9,10-菲醌等;以氧化膦為底質之化合物,諸如2,4,6-三甲基苯甲醯基二苯基氧化膦、雙(2,6-二甲氧基苯甲醯基)-2,4,4-三甲基戊基氧化膦等;以二苯甲酮
為底質之化合物,諸如甲基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯、乙基-4-(二甲基胺基)苯甲酸酯、4-(二甲基胺基)苯甲酸2-正丁氧基乙酯等;胺基增效劑,諸如2,5-雙(4-二乙胺基苯亞甲基)環戊酮、2,6-雙(4-二乙胺基苯亞甲基)環己酮、2,6-雙(4-二乙胺基苯亞甲基)-4-甲基-環戊酮等;以香豆素為底質之化合物,諸如3,3'-羰基乙烯基-7-(二乙胺基)香豆素、3-(2-苯並噻唑基)-7-(二乙胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-(二乙胺基)香豆素、3-苯甲醯基-7-甲氧基-香豆素、10,10'-羰基雙[1,1,7,7-四甲基-2,3,6,7-四氫-1H,5H,11H-Cl]-苯並哌喃並[6,7,8-ij]-喹-11-酮等;查耳酮化合物,諸如4-二乙胺基查耳酮、4-疊氮苯亞甲基苯乙酮等;及2-苯甲醯基亞甲基或3-甲基-β-萘並噻唑啉。
同時,該光交聯安定劑之含量相對於相變化油墨組成物的整體重量計可為約0至10重量份,較佳為約0.01至5重量份,或為約0.1至3重量份。
同時,該相變化油墨組成物可另外包括溶劑以調整相變化油墨之黏度或調整將形成圖案之固體物質的量。在此情況下,該溶劑之量不受限制但該溶劑的含量相對於相變化油墨組成物的整體重量計可為約0至60重量份,例如為約0至50重量份之量,或為約0至30重量份之量。當該溶劑之含量大於60重量份時,可能無法展現其中相變化油墨之形狀因溫度相依性相變而固定的特徵,及可能產生其中相變材料之細微黏聚懸浮在該溶劑中的現
象。
同時,該溶劑之實例不受限制但可包括丙酸甲基-3-甲氧酯(沸點為144℃,下文之沸點係表示於括號中)、乙二醇甲基醚(125℃)、乙二醇乙基醚(135℃)、乙二醇二乙基醚(121℃)、異丙基單乙二醇(143℃)、二丁基醚(140℃)、丙酮酸乙酯(144℃)、丙二醇甲基醚(121℃)、乙酸正丁酯(125℃)、乙酸異丁酯(116℃)、乙酸異戊酯(143℃)、丁酸乙酯(120℃)、丁酸丙酯(143℃)、乳酸甲酯(145℃)、甲基-2-羥基異丁酯(137℃)、乙酸2-甲氧基乙酯(145℃)、乙酸乙二醇甲基醚(145℃)、二丁基醚(140℃)、環戊酮(131℃)、2-己酮(127℃)、3-己酮(123℃)、5-甲基-2-己酮(145℃)、4-庚酮(145℃)、1-甲氧基-2-丙醇(118℃)、2-乙氧基乙基醚(185℃)、二丙二醇甲基醚(188℃)、3-壬酮(188℃)、5-壬酮(187℃)、2,2,6-三甲基環己酮(179℃)、環庚酮(179℃)、丁酸戊酯(185℃)、乳酸丁酯(186℃)、乙基-3-羥基丁酸酯(180℃)、二乙酸丙二醇酯(186℃)、二丙二醇甲基醚(188℃)、二乙二醇甲基乙基醚(176℃)、二乙二醇甲基異丙基醚(179℃)、二乙二醇二乙基醚(189℃)、二乙二醇單甲基醚(194℃)、4-乙基環己酮(193℃)、2-丁氧基乙基乙酸酯(192℃)、二乙二醇單乙基醚(202℃)、丁內酯(204℃)、己基丁酸酯(205℃)、乙酸二乙二醇甲基醚(209℃)、二乙二醇丁基甲基醚(212℃)、三丙二醇二甲基醚
(215℃)、三乙二醇二甲基醚(216℃)、乙酸二乙二醇乙基醚(217℃)、乙酸二乙二醇丁基醚(245℃)、3-環氧基-1,2-丙二醇(222℃)、丁酸乙基-4-乙醯酯(222℃)、二乙二醇單丁基醚(231℃)、三丙二醇甲基醚(242℃)、二乙二醇(245℃)、乙酸2-(2-丁氧基乙氧基)乙酯(245℃)、兒茶酚(245℃)、三乙二醇甲基醚(249℃)等。更佳地,該溶劑可具有比該相變化油墨中所添加之相變材料的相變溫度高出等於5℃或更高之沸點溫度。
同時,若需要,除了上述組分之外,根據本發明具體實例的相變化油墨組成物可另外包括至少一種選自由下列所組成之群組的添加劑:分散劑、黏著促進劑、抗氧化劑、紫外線吸收劑及熱聚合抑制劑。在此情況下,該添加劑之量不受限制但該添加劑的含量相對於相變化油墨組成物的整體重量計可為約0至10重量份,例如為約1至8重量份之量,或為約1至5重量份之量。當該添加劑之含量大於10重量份時,其影響可能未充分提高,而製造成本可能不經濟地增加。
同時,該黏著促進劑不受限制但可為例如選自由下列所組成之群組的至少一者:乙烯基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙氧基矽烷、乙烯基參(2-甲氧基乙氧基)-矽烷、N-(2-胺乙基)-3-胺丙基甲基二甲氧基矽烷、N-(2-胺乙基)-3-胺丙基甲基三甲氧基矽烷、3-胺丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基三乙氧基矽烷、3-環氧丙氧基丙基甲基二甲氧基矽烷、2-(3,4-乙氧基環己
基)乙基三甲氧基矽烷、3-氯丙基甲基二甲氧基矽烷、3-氯丙基三甲氧基矽烷、3-間丙烯醯氧丙基三甲氧基矽烷及3-巰丙基三甲氧基矽烷。
此外,抗氧化劑不受限制但可為例如2,2-硫雙(4-甲基-6-三級丁苯酚)、2,6-g,t-丁苯酚等。紫外線吸收劑不受限制但可為例如2-(3-三級丁基-5-甲基-2-羥苯基)-5-氯-苯並三唑、烷氧基二苯甲酮等。熱聚合抑制劑不受限制但可為例如氫醌、對甲氧基苯酚、二-三級丁基-對甲酚、焦五倍子酚、三級丁基兒茶酚、苯醌、4,4-硫雙(3-甲基-6-三級丁苯酚)、2,2-亞甲基雙(4-甲基-6-三級丁苯酚)、2-巰基咪唑等。
同時,根據本發明具體實例之相變化油墨組成物可具有約50℃至120℃的熔點。當相變化油墨組成物之熔點在該範圍外時,可能難以迅速產生油墨的凝固而造成圖案分散或導致卸載操作困難。
其次,可描述如上述根據本發明具體實例之製造撓性濾光片基板的方法。
圖2係圖示根據本發明具體實例之用於製造撓性濾光片基板的方法之圖。如圖2中所示,該根據本發明具體實例之製造撓性濾光片基板的方法可包括(1)將相變化油墨組成物10卸載至撓性基板30上以形成R、G及B圖案,及(2)在(該相變化油墨組成物之熔點-20)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+15)℃之溫度下加壓該等R、G及B圖案。
在此情況下,該撓性基板之類型及該相變化油墨組成物之組成、數量及性質可與上述者相同,因此將省略其詳細描述。
首先,可將分別包含紅色著色劑、綠色著色劑及藍色著色劑之相變化油墨組成物卸載在該撓性基板30上以形成R、G及B圖案。在此情況下,如圖2所示,該撓性基板30可為呈已裁切狀態之基板,及可從捲繞有該長撓性基板之捲筒(未圖示)解繞。後者基板更有利之處在於其可應用於連續程序-捲對捲程序。
同時,卸載可使用噴墨印表機之印刷頭等進行。為了晶種相變化油墨組成物,由於該油墨組成物需要呈液態,該噴墨印表機之印刷頭等可加熱至等於或大於該相變化油墨組成物的熔點之溫度。
更特別的是,卸載可在等於或大於相變化油墨組成物之熔點的溫度下進行,例如(該相變化油墨組成物之熔點+3)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+85)℃,或(該相變化油墨組成物之熔點+5)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+75)℃之溫度範圍進行。當卸載係在低於該相變化油墨組成物之溫度下進行時,該相變化油墨可未完全溶解及可仍保持固態,從而在卸載該油墨時阻塞卸載部件。
更佳的是,卸載可在50℃至160℃,例如60℃至140℃或70℃至125℃之溫度範圍中進行。卸載溫度可視該相變化油墨組成物之熔點、卸載部件之類型等而
改變,但考慮到裝置的價格效益,可為約70℃至125℃。
同時,被卸載之相變化油墨組成物可與該撓性基板接觸,且可在因其為室溫之周邊而失去熱時迅速凝固,從而形成R、G及B圖案。
然後,R、G及B圖案可經加壓。該加壓可提供以改善R、G及B圖案之表面平坦度,且可(該相變化油墨組成物之熔點-20)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+15)℃之溫度下進行。
該等以相變化油墨組成物形成的R、G及B圖案可具有相對均勻之線寬,但其表面可為不均勻而且因該等相變化油墨組成物之表面張力及凝固速率差異而輕易地以凸面或凹面方式形成。然而,當該等R、G及B圖案之表面不均勻時,該著色劑之濃度可視在表面之位置而改變,從而在顯示螢幕上產生斑點。因此,在本發明之具體實例中,該等R、G及B圖案可經加壓以改善該等R、G及B圖案中之平坦度,從而克服該瑕疵。
同時,加壓需要在使用該相變化油墨組成物所形成之R、G及B圖案的結構不會崩潰同時可彈性調整其表面形式的溫度及壓力範圍中進行。
較佳地,加壓可在(該相變化油墨組成物之熔點-20)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+15)℃之溫度,例如在(該相變化油墨組成物之熔點-15)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+10)℃或(該相變化油墨組成物之熔點-10)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+5)℃
的溫度範圍中進行。當加壓溫度在該數值範圍外時,可賦予能等圖案不充分之撓性,使得其圖案表面可能不均勻,或可賦予該等圖案過度撓性,使得該等圖案結構可能崩潰,從而導致無法獲得具有所希望形狀的圖案。
同時,該加壓不受限制但可為在約0.01至50Mpa之壓力下,例如在約0.03至30Mpa之壓力或約0.05至15Mpa之壓力下進行。在此情況下,該壓力可視設計者所希望的圖案之寬度及高度而做適當調整。然而,為了改善平坦度及防止R、G及B圖案之間的混色,必須符合該壓力範圍。
同時,該加壓可以本技術中眾所周知之方法進行,及例如可藉由壓力輥、平板等進行。
如圖2所示,在該壓力輥40與該撓性基板30可相對彼此移動時可進行該加壓。介於該壓力輥與該基板之間的相對速度可為1至150m/s之速率,例如3至140m/s之速率,或5至130m/s之速率。當介於該壓力輥與該基板之間的相對速度在該數值範圍外時,加工程序可能過於緩慢,或在該基板下方及之上可能產生少許振動,使得可能無法形成精確圖案。
雖然未圖示,加壓可藉由平板進行,而且在此情況下,該加壓可藉由將平板堆疊在在R、G及B圖案上並加壓彼等的方法來實施。
同時,根據本發明具體實例之製造方法可另外包括在使用壓力輥或平板加壓R、G及B圖案之前,將
保護膜堆疊在該等圖案之上方部分。在另外進行堆疊保護膜的情況下,可防止該壓力輥或平板沾染相變化油墨組成物,且該加壓可以更均勻方式實施。當該壓力輥或平板被相變化油墨組成物污染時,下一圖案在其加壓期間可能受到該相變化油墨組成物影響,從而造成連續圖案形成中的瑕疵。
同時,根據該具體實例之製造撓性濾光片基板的方法可另外包括固定該等經加壓之R、G及B圖案。使用相變化油墨組成物所形成之圖案因其相可視溫度而改變,故其可能易受溫度變化損害。因此,當該等圖案曝露於高溫環境時,該等R、G及B圖案可能變形而使顯示功能顯著劣化。可提供該等經加壓之R、G及B圖案的固定以解決上述瑕疵。當濾光片之形成完成時,該等R、G及B圖案可藉由熱或光固化及固定,以防止其結構根據溫度變化而變形。
在本發明具體實例中,該固定可經由光固化進行。為此,該相變化油墨組成物可另外包括可光固化化合物及光聚合起始劑。可添加於該組成物中之可光固化化合物及該光聚合起始劑的具體描述與上述者相同。以此方式,當該相變化油墨組成物另外包含該可光固化化合物及該光聚合起始劑時,在將紫外線照射在以該相變化油墨組成物形成之圖案上的情況下,該等圖案可根據該可光固化化合物之固化而固定,因此即使在溫度提高之情況下其相變可能不會產生。
同時,該光固化不受特別限制,但可使用本技術中眾所周知之方法進行。例如,如圖2所示,該光固化可以使用光照射裝置50將紫外線照射在R、G及B圖案上,其曝露量為在10mJ/cm2至1000mJ/cm2下為時約1至100秒之方法進行。
在經由上述方法所製造之根據本發明具體實例的撓性濾光片基板中,R、G及B圖案的上表面可具有高度平坦度且可具有實質上矩形之橫斷面。更特別的是,在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板中,該等R、G及B圖案的上表面之算術平均粗糙度Ra可等於或小於圖案高度的5%,較佳地,可為約0.1%至5%。考慮到使用根據相關技術之製造濾光片的一般油墨所製造的濾光片基板之情況,R、G及B圖案之上表面的算術平均粗糙度Ra係等於或大於圖案高度的10%,其可在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板的情況中確認,發現像素圖案表面之高度平坦度。在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板的情況下,各種圖案之上表面可為均勻,如此可在將該撓性濾光片基板應用於顯示裝置時實施均勻而清楚的色彩。
同時,算術平均粗糙度(Ra)係指表示表面上之不均勻度的值,且可藉由獲得待測量之圖案的橫斷面中之曲線及中心線所環繞的面積之總和,然後將該總和值除以所測量部分之長度而計算。該算術平均粗糙度Ra可使用表面粗糙度測量設備(諸如商品名為ALPHA-STEP)及3D觀看器(其在本技術中係眾所周知)來測量。
在根據本發明具體實例之撓性濾光片基板的情況下,由於根據相關技術,黑色基質位在像素元素下方部分上,可不產生該像素元件內或介於像素之間的梯狀部分。此外,可不產生該像素元件內之非填充區,從而顯著減少漏光現象,因而使能具有優異光學性質。
同時,當經由上述方法製造撓性濾光片基板時,由於點距、所施加壓力等可在卸載相變化油墨組成物時經調整而控制R、G及B圖案之線寬及高度,故該撓性濾光片基板可適於應用在具有不同解析度水準的各種顯示裝置。此外,R、G及B圖案之線寬需要隨著顯示裝置之解析度提高而縮減。如此,如本發明該具體實例,當以相變化油墨組成物形成R、G及B圖案時,該油墨之分散度可能低從而促進形成具有窄線寬的圖案。此外,隨著裝置之微型化,近來需要具有相對低高度之濾光片圖案。根據本發明該具體實例,不需要黑色基質,如此促進具有相對低高度之濾光片圖案的形成。
同時,在本發明具體實例中,個別濾光片像素圖案(即,R、G及B圖案)可具有約30μm至200μm之寬度,例如約35μm至170μm之寬度,或約40μm至150μm之寬度,但不局限於此。
此外,在本發明具體實例中,t該等個別濾光片像素圖案(即R、G及B圖案)可具有約1μm至10μm之高度,例如約1μm至8μm之高度,或約1μm至5μm之高度。
此外,該等個別圖案可具有自約自約1:20至1:200,例如自約1:30至1:70,或自約1:40至1:70之寬度對高度比。當該圖案之寬度對高度比在該範圍外時,可能無法形成圖案,及顯示螢幕上之色彩呈現可能劣化。
下文茲參考具體實例詳細描述本發明。
將40重量%之紅色染料(neozapon® red 395)、30重量%之三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMTPA)、20重量%之六丙烯酸二新戊四醇酯(DPHA)及10重量%之相變材料(C22OH)混合以製造具有65℃熔點之相變化油墨組成物。
在將相變化油墨組成物注入貯槽之後,將該貯槽之溫度設為75℃,並使用HM-30印刷頭(由Dimatix.Inc.製,卸載量為30pl)經由全部256個噴嘴在對其施加80V之電壓下進行噴射。該噴射係實施在PET膜(由Lamiace Corp.製),且在該噴射期間,點距係設為具有40μm之間隔。在噴射之後,形成具有平均約50μm之線寬及平均14μm之高度的線性圖案。圖3A圖示該噴射之後所形成之圖案的形狀。
其次,在60℃與0.1MPa之條件下使用壓力輥加壓該等圖案以使該等圖案平坦化。圖4A圖示該加壓
之後的圖案之形狀。參考圖3A與圖4A,可確認該等圖案之線寬在加壓之後變寬。在加壓前後該等圖案之線寬與高度係描述於下[表1]。
以與實施例1相同方式進行噴射,但將點距設為具有20μm之間隔,如此形成具有約70μm之平均線寬及平均20μm之高度的線性圖案。圖3B圖示該噴射之後所形成之圖案的形狀。
其次,在60℃與0.1MPa之條件下使用壓力輥加壓該等圖案以使該等圖案平坦化。圖4B圖示該加壓之後的圖案之形狀。參考圖3B與圖4B,可確認該等圖案之線寬在加壓之後變寬。在加壓前後該等圖案之線寬與高度係描述於下[表1]。
以與實施例1相同方式進行噴射,但將點距設為具有10μm之間隔,如此形成具有約90μm之平均線寬及平均28μm之高度的線性圖案。圖3C圖示該噴射之後所形成之圖案的形狀。
其次,在60℃與0.1MPa之條件下使用壓力輥加壓該等圖案以使該等圖案平坦化。圖4C圖示該加壓之後的圖案之形狀。參考圖3C與圖4C,可確認該等圖案之線寬在加壓之後變寬。在加壓前後該等圖案之線寬與高
度係描述於下[表1]。
在圖3、圖4及[表1]中,可確認在使用相變化油墨組成物形成圖案之情況下(如在本發明具體實例中),點距係受控制,從而形成具有各種不同寬度及高度之圖案。
為了測定加壓前後之圖案的形狀變化,使用3D觀看器觀察根據實施例3之圖案於加壓前後的形狀。圖5為根據實施例3之加壓前的圖案之影像,即使用3D觀看器觀察圖3C之圖案所獲得的影像。圖7為根據實施例3之加壓後的圖案之影像,即使用3D觀看器觀察圖4C之圖案所獲得的影像。圖6顯示圖5之影像在Y軸方向上裁切的表面之輪廓。圖8顯示圖7之影像在Y軸方向上裁切的表面之輪廓。
參考圖5至8,可確認在剛使用相變化油墨形成像素圖案之後圖案形為凸出之山峰狀,因此使用相變化
油墨所形成之像素圖案不適於作為像素圖案,然而在進行加壓程序之後,該等圖案之橫斷面形狀實質上為矩形而且其上表面之算術平均粗糙度為大約0.5μm,因此形成具有實質上高度平坦度之圖案。此外,可確認的是,不論在表面上之位置為何,個別圖案之線寬及高度幾乎均勻地形成。此結果顯示在根據本發明具體實例形成彩色像素圖案之情況下,即使無黑色基質部分亦可形成具有均勻矩形之像素圖案。
將40重量%之紅色染料(neozapon® red 395)、20重量%之三丙烯酸三羥甲基丙烷酯(TMTPA)、20重量%之六丙烯酸二新戊四醇酯(DPHA)、10重量%之光聚合起始劑(Igacure 907)及10重量%之相變材料(C22OH)混合以製造具有65℃熔點之相變化油墨組成物。
在將相變化油墨組成物注入貯槽之後,將該貯槽之溫度設為75℃,並使用HM-30印刷頭(由Dimatix.Inc.製,卸載量為30pl)經由全部256個噴嘴在對其施加80V之電壓下進行噴射。該噴射係實施在PET膜(由Lamiace Corp.製),且在該噴射期間,點距係設為具有40μm之間隔。在噴射之後,形成具有平均約45μm之線寬及平均15μm之高度的線性圖案。
其次,在60℃與0.1MPa之條件下使用壓力輥加壓該等圖案以使該等圖案平坦化。
然後,使用波長為395nm之UV硬化設備(由Phoseon Technology,Inc.製)以曝露量為400mW/cm2與8W將紫外線照射在該等圖案上為時2至3秒。
為了測定是否進行光固化造成的耐熱性質差異,將根據實施例1與4製造之濾光片基板曝露於80℃之烘箱1小時,觀察該等像素圖案之形狀。
圖9為圖示根據實施例1及4之濾光片基板曝露於高溫之後該等圖案的形狀之照片。圖9A為圖示根據實施例4之濾光片基板中的圖案之形狀的照片,及圖9B為圖示根據實施例1之濾光片基板中的圖案之形狀的照片。
如圖9所示,在未經由光固化進行圖案固定程序之根據實施例1的濾光片基板之情況下,在曝露於高溫下之後圖案形狀變形。另一方面,在已進行光固化之根據實施例4的濾光片基板之情況下,即使在曝露於高溫下之後其圖案形狀亦少有變化。
15‧‧‧R、G及B圖案
30‧‧‧撓性基板
Claims (13)
- 一種撓性濾光片基板,其包含:撓性基板,其係為塑膠基板;及形成於該撓性基板上之R、G及B圖案,其中該等R、G及B圖案係使用相變化油墨組成物形成,其中該等R、G及B圖案之上表面具有等於或小於圖案高度的5%之算術平均粗糙度。
- 如申請專利範圍第1項之撓性濾光片基板,其中該相變化油墨組成物具有50℃至120℃之熔點。
- 如申請專利範圍第1項之撓性濾光片基板,其中該等R、G及B圖案的寬對高之比在1:20至1:200的範圍。
- 一種製造撓性濾光片基板之方法,該方法包括:將相變化油墨組成物卸載在撓性基板上,以形成R、G及B圖案,該撓性基板為塑膠基板;及在(該相變化油墨組成物之熔點-20)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+15)℃之溫度下加壓該等R、G及B圖案。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其中該撓性基板係從捲繞有該撓性基板之捲筒解繞。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其中該卸載係在(該相變化油墨組成物之熔點+5)℃至(該相變化油墨組成物之熔點+75)℃之溫度下進行。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其中該卸載係在70℃至125℃之溫度下進行。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其中該加壓係在0.01至50MPa之壓力下進行。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其中該加壓係藉由壓力輥或平板進行。
- 如申請專利範圍第9項之方法,其中該加壓係在該壓力輥與該基板以1至100m/s之相對速度移動時進行。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其另外包括:在加壓該等R、G及B圖案之前,將保護片堆疊在該等圖案之上方部分上。
- 如申請專利範圍第4項之方法,其另外包括:固定該等經加壓之R、G及B圖案。
- 如申請專利範圍第12項之方法,其中該等圖案之固定係經由光固化進行。
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US11143909B2 (en) * | 2018-11-12 | 2021-10-12 | Lg Chem, Ltd. | Colour conversion film, and back light unit and display device comprising same |
JP7243191B2 (ja) * | 2019-01-09 | 2023-03-22 | コニカミノルタ株式会社 | 画像形成方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080258118A1 (en) * | 2005-09-09 | 2008-10-23 | Toda Kogyo Corporation | Colored composite microparticles, process for producing the colored composite microparticles, colorant, color filter and ink for ink-jet printing |
JP2010111802A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | インクジェットインキ、及びカラーフィルタ基板 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03154003A (ja) * | 1989-11-13 | 1991-07-02 | Seiko Epson Corp | カラーフィルターの製造方法 |
JPH07104113A (ja) * | 1993-10-04 | 1995-04-21 | Konica Corp | カラーフィルター及びその製造方法 |
US5514503A (en) * | 1994-10-17 | 1996-05-07 | Corning Incorporated | Apparatus and method for printing a color filter |
JP3000852B2 (ja) * | 1994-06-22 | 2000-01-17 | ブラザー工業株式会社 | 熱溶融性インク |
JPH08160219A (ja) * | 1994-12-12 | 1996-06-21 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルターとその作製方法とカラーフィルター用のインク |
KR20010021704A (ko) * | 1997-07-09 | 2001-03-15 | 사덱엠 파리스 | 향상된 휘도와 칼라특성을 갖는 칼라링 매체 |
JP4623500B2 (ja) * | 2004-01-19 | 2011-02-02 | 大日精化工業株式会社 | カラーフィルターの製造方法 |
JP4629370B2 (ja) * | 2004-06-23 | 2011-02-09 | 大日本印刷株式会社 | カラーフィルタおよびその製造方法 |
JP4834981B2 (ja) * | 2004-12-03 | 2011-12-14 | 大日本印刷株式会社 | パターン形成体の製造方法 |
CN1884402B (zh) * | 2005-06-24 | 2010-04-14 | 虹创科技股份有限公司 | 滤光片墨水和滤光片制备方法 |
WO2007119836A1 (ja) * | 2006-04-13 | 2007-10-25 | Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. | 着色樹脂組成物およびそれを用いたインクジェットインキ |
JP4499148B2 (ja) * | 2007-11-27 | 2010-07-07 | 住友ゴム工業株式会社 | インキ被膜用平坦化ローラ |
US7857901B2 (en) * | 2008-03-07 | 2010-12-28 | Xerox Corporation | Nonpolar liquid and solid phase change ink compositions comprising nanosized particles of benzimidazolone pigments |
JP5636716B2 (ja) * | 2010-03-26 | 2014-12-10 | 大日本印刷株式会社 | ロール状フィルム基材の製造方法、および、ロール状フィルム基材を用いたパターン形成体の製造方法 |
CN101840013B (zh) * | 2010-04-30 | 2012-10-10 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 彩色滤光片的制造方法 |
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Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080258118A1 (en) * | 2005-09-09 | 2008-10-23 | Toda Kogyo Corporation | Colored composite microparticles, process for producing the colored composite microparticles, colorant, color filter and ink for ink-jet printing |
JP2010111802A (ja) * | 2008-11-07 | 2010-05-20 | Toyo Ink Mfg Co Ltd | インクジェットインキ、及びカラーフィルタ基板 |
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