JP2005308954A - カラーフィルタの製造方法及びカラーフィルタ、液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】凸版反転オフセット印刷法を用いたカラーフィルタの製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のないカラーフィルタを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供する。
【解決手段】インク層の不要部を転写除去する凸版３として、その凸部６の上面端部にインク層に切り込みを入れるための線状もしくは破線状の切り込み部７を有した凸版を用いること。
【選択図】図２

Description

本発明は、カラーフィルタに関するものであり、特に、液晶表示装置、固体撮像素子などに用いられるカラーフィルタを廉価に製造することのできるカラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ、液晶表示装置に関する。

近年、液晶表示装置等は大型化、高性能化、さらに低価格化が進んでおり、用いられるカラーフィルタにも無欠陥、耐熱性、耐光性、耐薬品性などに加え、高透過率、高コントラストといった高性能化が要求されている、また、同時にカラーフィルタの低コスト化も強く求められており、製造工程における歩留まり向上、工程短縮、スループットの向上が必要となっている。

液晶表示装置用カラーフィルタは、ガラス等の透明基材の表面に複数のフィルタ色の微細な画素あるいは帯（ストライプ）を一定の配列で配置したものから構成されており，その画素サイズあるいは帯の幅は数十〜数百μｍという極めて微細なものである。このためカラーフィルタの製造方法については従来から様々な方法が提案されてきたが、諸特性や、生産性など多くの点から顔料分散法と呼ばれる製造方法が広く採用されている。この製造方法は、感光性樹脂中に顔料を分散した感光性着色組成物を用いフォトリソグラフィによってパターン（画素あるいは帯）を形成する方法である。

この顔料分散法は、顔料と母体からなる樹脂と架橋剤とを含有してなる感光性着色組成物を基板上に塗布し、フォトリソグラフィを用いて所定のパターン形状に各色の着色層を形成するものである。即ち、１つのフィルタ色の顔料を含んだ感光性着色組成物をガラス等の基板上に塗布し、パターン露光、現像を行うことで１色目のパターンの形成を行う。同様にして、赤色、緑色、青色、３色のパターンの形成を行う。

この感光性着色組成物は、カラーフィルタとしての物性、材料の豊富さ、及び生産性の点からネガ型の感光性着色組成物が主流である。また、現像は環境に与える影響の点から溶剤はほとんど用いられなくなり、アルカリ水溶液による現像が主流である。また、露光に関しては通常、紫外線を用いた露光が行われている。この製造工程においては感光性着色組成物の所定位置のみにフォトマスク等を介して紫外線等を照射し、その照射部分においては塗膜中の光開始剤が開裂してラジカルを発生させてラジカル重合を起こさせるという反応を利用している。

しかしながら、近年、特に液晶テレビに用いるカラーフィルタには、ＣＲＴテレビと同等以上の色再現性が求められてきた。すなわち、カラーフィルタの分光特性は色純度を重視する傾向が強まってきた。色純度を向上させるために、感光性着色組成物中の顔料濃度を高めると、塗膜中にて顔料に吸収される紫外光の量が多くなり重合反応の効率は悪化する。また、顔料濃度を高めると、塗布適性を保ために感光性着色組成物中の光重合開始剤やモノマーの添加量を減量することになる。その結果、塗膜の深さ方向に従って重合反応の効率は低下し、塗膜内部の硬化不良が発生し、現像時に剥がれなどのパターン不良が生じてしまう。

また、液晶表示装置は製造コストを低減するため、多面付けによる製造が行われているが、例えば、液晶テレビのように、大画面が大きくなるに従いガラス基板の大型化が進行している。その結果、カラーフィルタの製造装置も大型化し、特にフォトリソグラフィ工程における設備投資の金額を上昇させている。さらに、近年のカラーフィルタはカラーフ
ィルタ基板とＴＦＴ基板の間のセルギャップを保持する為のスペーサービーズのフォトスペーサへの移行や、液晶表示装置の視野角拡大のために開発されたＭＶＡ（マルチドメインバーティカルアライメント）方式に必要なリブなどのカラーフィルタ基板上への形成、などでフォトリソグラフィ工程は増える傾向にある。

これらの問題に鑑み、近年では顔料分散法のようにフォトリソグラフィ工程を多用しないカラーフィルタの製造方法が盛んに研究されている。その中で有力な方法としてインクジェット法と印刷法があげられる。

インクジェット法によるカラーフィルタの製造方法は、インクジェットノズルから溶剤に溶かした着色層の材料を基板上に噴出させ、基板上で乾燥させることで所望のパターンを得る方法である。しかしながら、ノズルから噴出されたインク液滴は球状をしている為、基板上に着弾する際にインクが円形状に広がり、形成したパターンの形状が直線性に欠けたり、着弾精度が悪くパターンの直線性が得られないという問題点がある。

これに対し、特開平６−１１８２１７号公報、特開平９−１７８９２９号公報などで開示されている方法は、予め基板上にレーザ加工やフォトリソグラフィで、撥インク性のある材料を用いてバンクを形成し、そこにインク液滴を着弾させることで、バンク形状に応じてインクがはじき、直線のパターンが得られるという方法である。しかし、インクジェット法を用いてパターンを形成する場合、インクジェットノズルが単位時間で描画処理する面積が小さく、パターン形成のスループットが小さいという問題が残る。

インクジェット法を用いず、印刷法によって基板上に高分子材料で着色層のパターンを形成する方法として、例えば、特開２０００−２８９３２０号公報では凸版反転オフセット印刷法が提案されている。凸版反転オフセット印刷法は、カラーフィルタの着色層を印刷でパターン形状に形成する場合、まず、顔料や樹脂などの着色層の材料を溶剤に溶解、あるいは分散したインク（以降単にインクと呼ぶ）をブランケット上にワイヤーバーコータ、あるいはダイコータを用いて塗布してインク層を形成し、次に、目的のパターン（ポジ部分）に対し、凸部がネガ版になっている凸版を押し当ててインク層の不要な部分（ネガ部分）を凸部に転写除去したのち、ブランケット上に残ったインク層のパターン（ポジ部分）をカラーフィルタを形成する基板上に転写するといった印刷法である。

このような凸版反転オフセット印刷法によって着色層のパターンを形成する方法は、使用する装置の規模は小さく、材料の利用も効率的で、スループットも良く、コストダウンに繋がるため好ましいものである。しかし、インク層が形成されたブランケットから、目的のパターンに対しネガ版になっている凸版を押し当てて不要な部分を転写除去する工程においては、図１（ａ）のように、ブランケット１上のインク層２に凸版３の凸部６が接触し、その部分が引き剥がされる時、図１（ｂ）のように、基板上に形成されるインク層のパターン（ブランケットに残る部分）の端部Ａと、インク層の凸版に転写除去された部分の端部Ｂとは、その境界でインク層が引き千切られたものであるために、基板上に形成されるインク層のパターンの端部Ａは直線性が悪いという欠点があった。

また、ブランケットから凸版へのインク層の転写除去の際に、インク層の材料のわずかな物性の違いや、インク層の乾燥条件のわずかな違いによって、ブランケット表面へのインク層の密着性や、凸版表面へのインク層の密着性、及び半乾燥状態のインク層の膜の強度に差が生じるため、ブランケット上のインク層の、凸版の凸部を圧着した箇所を引き剥がす時に、インク層が凸部の端部でうまく切れ離されず、凸部にインク層が転写除去されないことがある。すなわち、凸版の凸部に転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥が発生することがある。
このため、インク層の材料の物性や、転写除去時のプロセス条件を厳密に制御しなければ
ならないという問題がある。
特開平６−１１８２１７号公報 特開平９−１７８９２９号公報 特開２０００−２８９３２０号公報

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、凸版反転オフセット印刷法を用いたカラーフィルタの製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のないカラーフィルタを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法を提供することを課題とするものである。
また、上記カラーフィルタの製造方法によって製造されたカラーフィルタ、及び液晶表示装置を提供することを課題とする。

本発明は、凸版反転オフセット印刷方式によるカラーフィルタの製造方法において、インク層の不要部を転写除去する凸版として、その凸部の上面端部にインク層に切り込みを入れるための線状もしくは破線状の切り込み部を有した凸版を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法である。

また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタである。

また、本発明は、上記発明によるカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置である。

本発明は、凸版反転オフセット印刷方式によるカラーフィルタの製造方法において、インク層の不要部を転写除去する凸版として、その凸部の上面端部にインク層に切り込みを入れるための線状もしくは破線状の切り込み部を有した凸版を用いるので、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のないカラーフィルタを形成することが可能なカラーフィルタの製造方法となる。
また、上記製造方法を用いて製造したカラーフィルタであるので、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、転写欠陥のないカラーフィルタとなる。

以下に、本発明によるカラーフィルタの製造方法を一実施例に基づいて詳細に説明する。
図２（ａ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法において用いられる凸版の一実施例の概略図である。図２（ａ）に示すように、凸版３は、その凸部６の上面端部にインク層に切り込みを入れるための線状もしくは破線状の切り込み部７を有したものである。インク層が形成されたブランケットから、目的のパターン（ポジ部分）に対しネガ版になっている凸版を押し当てて、インク層の不要な部分（ネガ部分）を転写除去する工程においては、図２（ｂ）のように、凸部の上面端部に線状もしくは破線状の切り込み部７を有しているため、インク層が形成されたブランケットに押し当てた際に切り込み部７がインク
層２に食い込み、インク層に切れこみを入れる事が出来る。

従って、ブランケットと凸版を引き離す際に、端部に沿った切れこみがインク層にできているため、この切れこみの形状に応じて図２（ｃ）の様にインク層が切り離される。
すなわち、基板上に形成されたインク層のパターンの端部の直線性は良好なものとなる。また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥は発生しない。

ブランケットの材料は、この方法に用いることが出来るのであれば特に限定されるものではないが、インクの溶剤に対する耐性、膨潤性、形状安定性、インクとの密着性と濡れ性などを考慮するとシリコーンゴムやフッ素化シリコーンゴムなどを用いることが好ましい。

凸版の材料は、この方法に用いることが出来るのであれば特に限定はされないが、パターンのピッチ精度、インクに対する濡れ性と密着性を考慮するとガラス板、石英板、金属板、樹脂板などを用いることが可能であり、表面性やパターン精度の点からガラス板あるいは石英板が好ましく用いられる。また、これらの材料の表面にインクとの密着性などを付与する目的で表面処理を行ったり、適切な材料を塗布して密着層を形成しても良い。
また、凸版の凹部を形成する方法は特に限定されないが、フォトリソグラフィでレジストパターンを形成しておき、ドライエッチング、ウェットエッチング、サンドブラストなどの方法で凹部を形成するのが好ましい。凹部の深さは余り浅すぎるとブランケットを押し当てた際に凹部にブランケット表面のインク層が凹部の底面に接触してしまい好ましくない。

凸部に切り込み部７を形成する方法は、切り込み部を形成することが出来る方法であれば特に限定されるものではないが、切り込み部の直線性がそのままパターニングするインク層の直線性になるので、切り込み部の形成方法としてはフォトリソグラフィを用いて版の上にレジスト層を形成し、切り込み部を残して凸版部をエッチングする方法が好ましい。
また、エッチングの際には、凸版の基材をそのままエッチングしてもよいし、凸版の基材の上に別の材料を切り込み部の高さ分を成膜して、フォトリソグラフィを用いて所望の切り込み部を残して、この膜をエッチングにより除去することで、切り込み部を形成してもよい。また、凸版の溝部を形成する前に切り込み部を作ってもよいし、溝部を形成した後に切り込み部を形成してもよい。

切り込み部７の形状としては、インク層の厚みに応じて適切な切りこみをいれることが出来る形状であれば特に限定されるものではないが、切り込み部の断面形状としては、切り込み部の高さが高すぎるとブランケットを凸部に押し当てた際に、切り込み部の先端がインク層を突きぬけて下地のブランケット層を傷つけてしまい好ましくない。また、切り込み部の高さが低すぎるとインク層に十分な切りこみをいれることが出来なくなり、これも好ましくない。
切り込み部の平面形状としては、パターンを直線に切る必要があるため切り込み部の直線性は高い方が好ましいが、転写したインク層に直線的な端部を形成させることが出来るのであれば切り込み部に切り欠きのついた破線状でも良い。破線状の切り込み部にすることにより、切り込み部にかかる力が集中してインク層の切りこみをより少ない押し圧で形成することが出来る。

インク層の材料は、通常、顔料や樹脂を分散樹脂に混錬したものを溶媒に分散させたものや、分散剤を用いて溶剤に分散させたもの、あるいは染料とバインダー樹脂を溶媒に溶解させたものが用いられるが、必要に応じて密着性や乾燥性、インク層の膜の可撓性等を
改善するために添加剤を添加しても良い。

カラーフィルタは、基板上に画素からの光漏れを防ぐ為の遮光膜が設けられ、その上にパターン形状の着色層が設けられている。遮光膜としてクロム等の金属膜をエッチングで加工して形成する場合も多いが、近年はコスト削減とクロムの環境に与える点から黒色の樹脂層を基板上に設けて遮光膜にすることが行われている。
着色層は、通常ＲＧＢの３色のストライプ状、あるいは規則的な画素状に形成されたものである。また、ＴＦＴ基板とカラーフィルタ基板の間に液晶を注入する為の隙間（セルギャップ）を保持する為にフォトスペーサをカラーフィルタ基板状に形成する場合もある。さらに、ＭＶＡ（マルチドメインバーティカルアライメント）方式において液晶分子を配向させる為に必要なリブをカラーフィルタ基板上に形成する場合もある。

本発明において、カラーフィルタを形成する基板としては、無アルカリガラス基板、ソーダガラス基板、石英基板等の無機材料基板や、アクリル基板、ポリエチレンテレフタレート基板、ポリエーテルサルフォン基板、ポリイミド基板等の透明樹脂基板あるいは、ＳｉＯ₂ やＳｉＮｘなどでバリア処理が施されたフレキシブルな透明フィルムなどが好ましく用いられるが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明におけるカラーフィルタの着色層に用いられる着色材としては染料の例を挙げると、Ａｃｉｄ Ｒｅｄ ５２、８７、９２、１２２、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｒｅｄ ８、８３、１０９、１２５、１３２、Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｒｅｄ ６０、７２、８８、２０６、Ｂａｓｉｃ Ｒｅｄ １２、２７、Ａｃｉｄ Ｂｌｕｅ ９、４０、８３、１２９、２４９、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｂｌｕｅ ２５、３５、３６、５５、６７、７０、Ｄｉｓｐｅｒｓｅ
Ｂｌｕｅ ５６、６０、８１、８７、１４９、１９７、２１１、２１４、Ｂａｓｉｃ Ｂｌｕｅ １、７、２６、７７、Ａｃｉｄ Ｇｒｅｅｎ １８、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ３、Ｂａｓｉｃ Ｇｒｅｅｎ １、Ａｃｉｄ Ｙｅｌｌｏｗ ３８、９９、Ｓｏｌｖｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２５、８８、８９、１４６、Ｄｉｓｐｅｒｓｅ Ｙｅｌｌｏｗ
４２、６０、８７、１９８、Ｂａｓｉｃ Ｙｅｌｌｏｗ ２１などを挙げることができるがこれらに限定されるものではない。

また、顔料の具体例としては、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｒｅｄ ９、１９、３８、４３、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１７９、１８０、１９２、２１５、２１６、２１７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２８、２４０、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌｕｅ １５、１５：６、１６、２２、２９、６０、６４、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｇｒｅｅｎ ７、３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２０、２４、８１、８３、８６、９３、１０８、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６６、１６８、１８５、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ ３６、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ ２３、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｒｏｗｎ ２３、２５、２６、Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７及びチタンブラック等を挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、所望の色相を得るために２種類以上混合させても構わない。また、遮光層を樹脂層で形成する場合はＰｉｇｍｅｎｔ Ｂｌａｃｋ ７及びチタンブラック等の黒色の着色剤を用いたり、あるいは上記の各色の着色剤を混合して黒色を作っても良い。

本発明における着色層に用いられるバインダー樹脂としては、透明性を有しており、適切な溶剤に溶解する樹脂であれば特に限定はされない。バインダー樹脂の例としては、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリエーテルサルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂などを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また、カラーフィルタのパターン形成後に熱や光、電子線などによって重合する材料、例えば、樹脂の前駆体であって多官能アクリルモノマーのような材料をバインダー樹脂の前
駆体として混合しても良いし、更にモノマーの重合反応を促進させる為に重合開始剤を添加しても良い。

本発明に用いるインク層の材料は、顔料を十分に分散させること、及び基板上に着色層を１〜３μｍの膜厚で形成する必要があることから、材料をインク化した時に塗布適性を付与するために、通常は溶媒を用いて粘度調整を行う。溶剤としては、アルコール類、ケトン類、エステル類などが挙げられる。例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、２−メチルプロピルアルコール、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、イソホロン、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、酢酸−ｎ−ブチル、酢酸イソアミル、酢酸エチル、乳酸エチル、プロピオン酸エトキシエチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、クロロホルム、ジクロロメタン、テトラクロロメタン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、２−メトキシエタノール、２−エトキシエタノール、２−ブトキシエタノール、２−エトキシエチルアセテート、２−ブトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、２−エトキシエチルエーテル、２−（２−エトキシ）エトキシエタノール、２−（２−ブトキシ）エトキシエタノール、２−（２−エトキシ）エトキシエチルアセテート、２−（２−ブトキシ）エトキシエチルアセテート、２−フェノキシエタノール等が挙げることができるが、これらに限定されるものではない。また必要に応じて２種類以上の溶剤を混合して用いても構わない。

本発明に用いるインク層の材料の製造には３本ロールミル、２本ロールミル、サンドミル、アトライダー、ボールミル、ニーダー、ペイントシェイカー等の各種分散手段を用いて行うことができる。また、顔料の分散を良好にするために適宜分散助剤を添加しても良い。分散助剤は顔料の分散を助け、かつ、分散後の再凝集を防止する効果があるので、透明性に優れたカラーフィルタを提供できる。

本発明においては、カラーフィルタの着色層の少なくとも１層が、凸版反転オフセット印刷法により形成されている。この着色層の形成には、ブランケットから不要部のインク層を転写除去する凸版の凸部が所望のパターン形状に応じた形状で、インク層に切りこみをいれる為の線状もしくは破線状の切り込み部を有した凸版を使用する。これにより、直線性に優れ、転写欠陥のない着色層を得ることができる。

また、着色層を形成する為のインクに樹脂前駆体としてモノマーを加えたり、更に重合を促進する為に重合開始剤を加えた場合は、基板にインク層を転写した後、加熱したり、光、電子線などを照射するなどの重合プロセスを行うことが出来る。この重合プロセスは各色を一色基板上に転写して形成する毎に行っても良いし、全色を基板上に転写した後、一括で重合プロセスを行っても良い。

また、カラーフィルタを形成する各層のうち、オーバーコート層などのパターニングを必要としない層は、オーバーコート樹脂の塗液を用いてスピンコート法、バーコート法、スリットコート法、ディップコート法、スプレーコート法などの既知のプロセスにより形成することができる。

以下に、実施例により具体的に説明する。
以下に本発明の実施例を挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。まず、カラ
ーフィルタを形成する基板として無アルカリガラス基板（コーニング製、１７３７、厚さ０．７ｍｍ）を使用した。次に各着色層を形成するためのインクを下記の組成で作成した。

赤色インク
・リォトゲンレッドＧＤ ２２．５部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１６８）
・リォノーゲンレッドＲ ７．５部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントオレンジ３６）
・エピコート１００９ ２５部
（油化シェルエポキシ株式会社製エポキシ樹脂）
・エチルカルビトール ４５部
緑色インク
・リォノールグリーン２ＹＳ ２０．２５部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６）
・リォノーゲンエロー３Ｇ ７．７５部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１５４）
・エピコート１００９ ２６部
（油化シェルエポキシ株式会社製エポキシ樹脂）
・エチルカルビトール ４６部
青色インク
・リォノールブルーＥＳ １４．４部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６）
・リォノーゲンバイオレットＲＬ ３．６部
（東洋インキ製造株式会社製Ｃ．Ｉ．ピグメントバイオレット２３）
・エピコート１００９ ３０部
（油化シェルエポキシ株式会社製エポキシ樹脂）
・エチルカルビトール ５２部
（凸版の切り込み部の形成）
カラーフィルタの基板サイズとほぼ同じ大きさのガラス基板にポジ型フォトレジストＯＦＰＲ−８００（東京応化工業（株）製）を膜厚１．５μｍで塗布し、プリベーク、露光、現像を行い、図３（ａ）のようにレジストパターン４を形成した後、緩衝フッ酸で深さ８μｍまでエッチングして、図３（ｂ）のように高さ（Ｈ）８．０μｍの切り込み部７を作製した。
（凸版の凹部の形成）
さらに、同様にして図３（ｃ）のようにフォトリソグラフィでラインアンドスペースの凹部が露出するようにフォトレジストをパターニングし、レジストパターン４’を形成した。図３（ｄ）のように緩衝フッ酸で深さ（Ｄ）６０μｍまでエッチングして図３（ｅ）のように凹部（Ｏ）８０μｍ、凸部（Ｔ）２２０μｍの凸版の凹部を作製した。

次に、厚さ１ｍｍのシリコーンゴムの板を金属胴に巻き、ブランケット胴とした。これを市販の印刷機を改造したものに取り付け、インク層をブランケットに塗布するコータとしてスリットコータを取り付け印刷機とした。

次に、上記スリットコータより前述赤色の着色層用のインクを乾燥膜厚が１．８μｍになるようにブランケット上に塗布し、そのまま前記凸版のネガに転写除去し、不要部を除去した後、ブランケット胴を前記基板に押して当ててブランケット胴を転がし、予め線幅３０μｍの遮光層を形成したガラス基板上に転写し、パターンを形成した後、大気下で２００℃で１時間加熱乾燥を行った。
その後、緑、赤の着色層も同様に乾燥膜厚１．０μｍで塗布、基板上への転写位置を１０
０μｍづつずらして転写を行った後、大気下で２００℃で１時間加熱乾燥を行い、着色層のパターンを形成した。パターン形成後、このカラーフィルタ基板を顕微鏡で観察したところ、画素の端部の直線性は良好であり、転写欠陥も確認されなかった。

実施例１とほぼ同様の手法を用いて実施例２のカラーフィルタを作成した。実施例１との差はネガの凸版を作成する際に、切り込み部を形成しなかったことである。パターン形成後、このカラーフィルタを顕微鏡で観察したところ、各着色層の画素の端部にギザつきが見られ、一部転写されていない部分、すなわち、転写欠陥が見られた。

凸版反転オフセット印刷法における、パターンの端部の悪い直線性の説明図である。 （ａ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法において用いられる凸版の一実施例の概略図である。（ｂ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の説明図である。（ｃ）は、本発明によるカラーフィルタの製造方法の説明図である。 （ａ）〜（ｄ）は、実施例の説明図である。

符号の説明

１・・・ブランケット
２・・・インク層
３・・・凸版
４、４’・・・レジストパターン
５・・・凸版の基材
６・・・凸版の凸部
７・・・切り込み部

Claims (3)

1. 凸版反転オフセット印刷方式によるカラーフィルタの製造方法において、インク層の不要部を転写除去する凸版として、その凸部の上面端部にインク層に切り込みを入れるための線状もしくは破線状の切り込み部を有した凸版を用いることを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
2. 請求項１記載のカラーフィルタの製造方法を用いて製造したことを特徴とするカラーフィルタ。
3. 請求項２記載のカラーフィルタを用いたことを特徴とする液晶表示装置。

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