TWI548506B - 層合體、薄偏光件的製備方法、薄偏光件及包含其之偏光板 - Google Patents

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Description

層合體、薄偏光件的製備方法、薄偏光件及包含其之偏光板
本發明的請求項之優先權，是來自韓國專利申請號No.10-2013-0131592，申請日為2013年10月31日，本發明在此參照其全部的內容。
本發明係相關於一種層合體，使用相同層合體的薄偏光件的製備方法，以及含有上述薄偏光件的之製備方法的偏光板，尤指一種使用於製備薄偏光件的層合體，其具有從基底材質上輕易地被剝離的特性，並具有出色的光學屬性，以及使用上述層合體製備薄偏光件的製備方法，以及使用上述薄偏光件的偏光板。
用於偏光板的偏光件係一種將自然光或任何偏振光轉換成具有特定方向之偏振光的光學元件，且已經廣泛用於顯示裝置，例如液晶顯示裝置以及有機發光裝置(OLED)。目前，已經通常使用聚乙烯醇基偏光件做為顯示裝置的偏光件，其分子鏈包含在一預設方向上定向的碘基化合物或雙色性染料。
聚乙烯醇基偏光件係以下列方法製備：將一聚乙烯醇基膜用碘或雙色性染料染色，再於一預設方向上拉伸以及交聯，此時所述的拉 伸處理可用濕式拉伸進行(其在一溶液中進行，例如硼酸水溶液或碘水溶液)或是在空氣下以乾式拉伸進行。拉伸率通常是五倍以上。
然而，在如上所述的現有技術之製備流程中，為了避免拉伸執行中不會造成破損，其要求未拉伸的聚乙烯醇基膜之厚度要超過60μm。其理由是當未拉伸的聚乙烯醇基膜之厚度為60μm以下，聚乙烯醇基膜之膨脹度會增加，且因為厚度小所以拉伸處理中反應於每個單位面積的模數增加，從而容易造成破損。
同時，根據最近顯示裝置變薄的趨勢，偏光板亦被要求要更薄。惟，當現有技術中所使用的聚乙烯醇基膜之未拉伸厚度大於60μm時，其對偏光件之厚度減少有所限制。因此，已有研究針對如何準備更薄的偏光件。
例如，韓國專利申請案公開號2010-0071998已經揭露一種準備薄偏光板的方法，其藉由塗佈親水性聚合物層在基材層上以製備層合體，或是共同擠塑形成基材層的材料以及形成親水性聚合物層的材料。惟，在塗佈方法或共同擠塑方法的情況下，因為拉伸之後無法簡易地將聚乙烯醇層以及基材層分離，而分離需要高剝離力度，導致在分離處理期間容易發生地聚乙烯醇層被損壞或變形，造成光學屬性的問題，例如聚乙烯醇膜之偏振度劣化。此外，根據擠塑條件、塗佈條件或膜形成條件製備的聚乙烯醇膜之物理特性係容易改變，使得最後製備出的聚乙烯醇膜之物理特性有劣化的問題，而很難實現一致的物理特性。
本發明係致力於提供一種用於聚乙烯醇基薄偏光件 的層合體，其容易剝離且有出色的光學屬性，並具有10μm以下之夠薄的厚度；一種製備方法使用此層合體之薄偏光件的方法、一種薄偏光件以及一種偏光板。
在一態樣中，本發明提供一種層合體，其包含：一未拉伸的聚合物膜；一未拉伸的聚乙烯醇基膜，係附著此聚合物膜之至少一表面，其中此層合體符合下列的公式(1)以及公式(2)。
在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜係為該聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，以及dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
其中，較佳地，聚合物膜之模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且厚度係介於20μm至100μm之間。
進一步，聚乙烯醇基膜之該模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且該厚度係介於10μm至60μm之間。
同時，本發明亦提供一種拉伸的層合體，其以於溫度數值介於20℃至85℃之間的條件下，拉伸5至15倍的方式製備。
在另一態樣，本發明提供一種薄偏光件的製備方法，上述方法包含：貼附一未拉伸的聚乙烯醇基膜至未拉伸的聚合物膜的至少一表面上，形成層合體，並使層合體可符合下列的公式(1)以及公式(2)；拉伸上述 層合體，以形成拉伸層合體。
在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜係為該聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，以及dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
同時，上述聚合物膜和聚乙烯醇基膜彼此附著的方式，是使用複數個表面的弱引力，或使用黏著劑。
同時，所述之拉伸處理，可於溫度數值介於20℃至85℃之間的條件下，以5倍至15倍之拉伸率進行。
此外，所述之拉伸處理，可在濃度介於1wt%至5wt%之間的硼酸水溶液中進行。
同時，本發明所述之薄偏光件的製備方法，對層合體於形成拉伸層合體之前可更包含利用至少一碘以及雙色性染料來進行染色。
此外，本發明所述之薄偏光件的製備方法，可更包含於形成拉伸層合體之後，從聚合物膜上分離聚乙烯醇基膜。
此時，可藉由施加數值介於2N/2cm或少於2N/2cm之剝離強度，從聚合物膜上分離聚乙烯醇基膜。
本發明同時提供一種薄偏光件，其具有10μm以下的厚度並同時符合下列的公式(3)： 公式(3)DOP>-0.3179Ts2+26.012Ts-432.12
在公式(3)中，DOP是表示偏振度，Ts是表示單體透射率，在此情況下，Ts符合以下關係，0.400<Ts<0.427。
本發明更近一步的提供一種包含上述薄偏光件的偏光板。
根據本發明，其可能製備厚度在10μm以下的聚乙烯醇基薄偏光件，其非常薄且有出色的光學屬性。具體而言，此薄偏光件通常具有當單體透射率減少則偏振度會增加，當單體透射率增加則偏振度會減少的光學屬性。但是，本發明之薄偏光件的優點在於可具有出色的光學屬性，且偏振度以及單體透射率皆高於現有技術的薄偏光件。
同時，在本發明中，在拉伸處理期間的流程穩定度亦是出色的，例如在拉伸處理期間，拉伸之後的分離處理不需將聚合物膜與聚乙烯醇基膜分開藉此將表面損壞降到最低。
H‧‧‧夾持部
A‧‧‧聚乙烯醇基膜
B‧‧‧聚合膜
MD‧‧‧縱向方向
DOP‧‧‧偏振度
Ts‧‧‧單體透射率
圖1係繪示為一使用物性分析器量測剝離強度之方法的示意圖。
圖2係繪示根據實施例1至3以及比較例1至6所製備的薄偏光件之單體 透射率(Ts)以及偏振度(DOP)之間的關係。
為利 貴審查員瞭解本發明之發明特徵、內容與優點及其所能達成之功效，茲將本發明配合附圖，並以實施例之表達形式詳細說明如下，而其中所使用之圖式，其主旨僅為示意及輔助說明書之用，未必為本發明實施後之真實比例與精準配置，故不應就所附之圖式的比例與配置關 係解讀、侷限本發明於實際實施上的權利範圍。
本發明之優點、特徵以及達到之技術方法將參照例示性實施例及所附圖式進行更詳細地描述而更容易理解，且本發明或可以不同形式來實現，故不應被理解僅限於此處所陳述的實施例，相反地，對所屬技術領域具有通常知識者而言，所提供的實施例將使本揭露更加透徹與全面且完整地傳達本發明的範疇，且本發明將僅為所附加的申請專利範圍所定義。
首先，以下將描述一種層合體，其用於製備本發明之薄偏光件。
本發明之層合體之特徵在於包括：一未拉伸的聚合物膜；以及未拉伸的聚乙烯醇基膜，其附著至聚合物膜之至少一表面上，以及符合下列的公式(1)以及公式(2)。
在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，以及dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
首先，公式(1)表示未拉伸的聚合物膜之模數與厚度之比值，而未拉伸的聚合物膜之模數與厚度之比值較佳為5至70之間的範圍內，更佳的是10至60之間的範圍內。公式(2)表示未拉伸的聚乙烯醇基膜之模數與厚度之比值與未拉伸的聚合物膜之模數與厚度之比值的比值，其較佳為 0.7至1.3之間的範圍內，更佳的是0.8至1.2之間的範圍內。
本發明之特徵在於符合公式(1)以及公式(2)。當使用層合體所製備的薄偏光件符合公式(1)以及公式(2)時，其可製備出具有出色的光學屬性的薄偏光件，且具有較佳的處理穩定度，而且比起未符合公式(1)以及公式(2)者，符合公式(1)以及公式(2)的薄偏光件更可具有較高偏振度以及單體透射率。更具體地說，當層合體無法符合公式(1)以及公式(2)時，聚乙烯醇基膜會因為聚合物膜而無法被單軸向拉伸，且因為聚合物膜以及聚乙烯醇基膜之拉伸行為彼此不同，所以在製備流程期間會引起平面拉伸。其可能導致偏光件中的碘之定向被中斷的問題，從而使得光學屬性劣化。此外，當拉伸處理在實際測試時，會增加膜被損壞的可能性。
同時，本發明中所述的模數(楊氏模數)係表示固定根據JIS-K6251-1標準所製備之樣品之兩端並在與膜之厚度方向垂直的方向上施力並量測基於張力之每個單位面積之壓力而取得的數值。在此情況下，可使用量測裝置，例如拉力強度計量器(Zwick/RoellZ010UTM)和其類似裝置。
另外，本發明中的厚度可藉由此本發明涉及領域之熟知方法來量測，並可使用厚度量測裝置(TESAMu-hite Electronic Height Gauge 100mm)來量測。
接著，在本發明所述之層合體中，其所包含的聚合物膜中的聚乙烯醇基膜，需避免在拉伸處理期間被損壞，而本發明所述之聚合物膜在使用上沒有特別限制，只要上述膜可符合公式(1)以及公式(2)即可。例如，其可能從以下組成之群組中的至少一項，選出使用於聚合物膜的成份，例如熱塑性聚氨酯基樹脂、低密度聚乙烯基樹脂、高密度聚乙烯基樹脂、含有乙烯乙酸乙烯的高密度聚乙烯的共聚物樹脂、聚丙烯基樹脂、含有間 苯二甲酸的聚對苯二甲酸乙二酯基樹脂、丙烯酸基樹脂以及水溶性纖維素樹脂。
同時，上述聚合物膜的成份並無限制，但可特別包含熱塑性聚氨酯基。當上述聚合物膜包含熱塑性聚氨酯基樹脂時，可使聚乙烯醇基膜於乾燥處理的拉伸時，減少熱收縮產生的寬度收縮的現象，而使薄膜的寬度收縮變得較平緩，並加強聚乙烯醇與碘形成的複合體的定向性。根據本發明之例示性實施例，上述聚合物膜可包含熱塑性聚氨酯基樹脂。
同時，上述聚合物膜的模數，可介於50MPa至4,000MPa的範圍內，較佳地介於100MPa至3,000MPa。當上述聚合物膜的模數少於50MPa時，薄膜的剛性可能會劣化，而使流程不穩定，(例如可能產生破裂)，當上述模數超過4,000MPa，會使拉伸處理需以較強的力量進行，可能較難達到高比值的拉伸率，使薄膜的拉伸屬性劣化。
此外，聚合物膜之厚度可在20μm至100μm之範圍內，較佳的是30μm至80μm之範圍內。當聚合物膜之厚度少於20μm時，積層結構聚形成以進行拉伸處理時乙烯醇基膜無法被充分支撐，從而在處理中會造成破損的問題。當厚度超過100μm時，模數會增加且拉伸屬性劣化，且聚乙烯醇基膜亦可能在乾燥期間被妨礙而無法自由收縮寬度，從而最後獲得的偏光件之光學屬性受到抑制。
接著，受到拉伸處理、染色處理以及相似處理之後，附著在聚合物膜之至少一表面上的聚乙烯醇系膜係用作聚乙烯醇基薄偏光件。所使用的聚乙烯醇基膜沒有特別限制，只要此膜可符合公式(2)且包含聚乙烯 醇樹脂或其衍生物即可。在這種情況下，實施例中所述之聚乙烯醇樹脂的衍生物，可包括但不受限於，聚乙烯甲醛樹脂、聚乙烯乙醛樹脂和其類似物所述。上述的聚乙烯醇基膜，亦可能使用可符合公式(2)的樹脂，可使用此領域偏光件市售的聚乙烯醇基膜，使用於製備，例如Nippon Synthetic Chemical Industry Co.所製造的M2001和M2005，或使用Kurary Co.,Ltd所製造的PE20，和其類似物。
同時，聚乙烯醇基膜之模數可在50MPa至4,000MPa之範圍內，較佳在100MPa至3,000MPa之範圍。當聚乙烯醇基膜之模數少於50MPa時，此膜之剛性可能會劣化，從而造成處理不穩定(例如破損)。當模數超過4,000MPa時，因在拉伸處理需要施力較強，所以難以達到高拉伸比，而造成拉伸屬性劣化。
更進一步，聚乙烯醇基膜之厚度可在10μm至60μm之範圍內，較佳地在10μm至40μm之範圍。當聚乙烯醇基膜之厚度少於10μm時，則當形成積層結構以進行拉伸處理時可能導致容易破損的問題。當所述厚度超過60μm時，最後取得的偏光件之厚度會變得太厚以至於無法適用於製備10μm厚度以下的薄偏光件。
同時，聚乙烯醇基膜之聚合反應度可在1,000至10,000之範圍內，較佳地在1,500至5,000之範圍內，不以此為限。當聚合反應度符合所述範圍時，其分子能自由移動，且聚乙烯醇基膜可有彈性地與碘、雙色性染料或其類似物相混和。
以下，將描述本發明之薄偏光件的製備方法。
本發明之薄偏光件之製備方法的特徵在於包括：藉由貼附未 拉伸的聚乙烯醇基膜至未拉伸的聚合物膜之至少一表面上以形成符合下列公式(1)以及公式(2)的層合體；以及藉由拉伸此層合體以形成拉伸層合體。
在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
首先，在本發明中聚合物膜可藉由弱引力，不須分離媒介，而附著至聚乙烯醇基膜。在此情況下，剝離強度可為2N/2cm，或較佳地在0.1N/2cm至1N/2cm之範圍內。當剝離強度符合所述範圍時，聚合物膜以及聚乙烯醇基膜在拉伸處理期間不會分開，而在拉伸之後的分離處理期間表面損壞可降到最低。
同時，剝離強度係為具有2cm寬度之樣品膜彼此附著的情況下所量測到的，更具體地說，剝離強度係表示在以下條件下所量測到的剝離強度：藉由將層合體之聚乙烯醇基膜(A)固定於樣品架(H)，再於與層合體之表面方向垂直的方向上施力以從聚合物膜(B)剝離聚乙烯醇基膜(A)，如圖1所示。在此情況下，Stable Micro Systems,LTD.所製造的物性分析器(型號名稱TA-XT Plus)可使用作為量測裝置。
同時，為了增強聚合物膜與聚乙烯醇基膜之間的剝離強度，可在聚合物膜或聚乙烯醇基膜之一表面或兩表面上執行表面處理。在此情 況下，可使用此領域所熟知之各個表面處理方法來實現，例如，使用強鹼水溶液(例如氫氧化鈉、氫氧化鉀、或類似物)電暈放電處理、電漿處理或表面改質處理表面。
此外，在本發明中，可使用黏著劑將聚合物膜附著至聚乙烯醇基膜。當使用黏著劑將基膜附著至聚乙烯醇基膜時，黏著層之厚度較佳為20nm至4,000nm之範圍內。當黏著層之厚度符合所述範圍時，在拉伸與乾燥處理後剝離聚乙烯醇基膜時不會有損壞。
同時，黏著劑之剝離強度(黏著力)可在2N/2cm以下，較佳地在0.1N/2cm至1N/2cm之範圍內。黏著劑之材料無特別限制，可使用此領域中已知的各個黏著劑，而不受限制。例如，黏著層可用水性黏著劑或UV固化黏著劑形成。
更具體地說，上述黏著層可為以下組成之群組中選出的至少一種水性黏著劑所組成，例如聚乙烯醇基樹脂、丙烯酸基樹脂、乙烯乙酸基樹脂。此外，上述黏著層可含有丙烯基和羥基的聚乙烯醇基樹脂組成的水性黏著劑，此時，上述含有丙烯基或羥基的聚乙烯醇基樹脂進行聚合反應的程度，其範圍可介於500至1,800。較佳地，當使用上述水性黏著劑時，可使黏著層的厚度介於20nm至1,000nm。
同時，上述黏著層亦可使用UV固化黏著劑所組成，例如使用一種UV固化黏著劑，包含第一環氧化合物、第二環氧化合物以及陽離子光催化聚合反應起始劑，上述第一環氧化合物中同質聚合物的玻璃轉換溫度可為120℃或120℃以上，上述第二環氧化合物中同質聚合物的玻璃轉換溫度可為60℃或60℃以下。具體地說，上述UV固化黏著劑可包含，100重 量份的第一環氧化合物、30至100重量份的第二環氧化合物，以及0.5至20重量份的陽離子光催化聚合反應起始劑。
在此特別指的是，上述的環氧化合物，可使用分子上含有至少一個環氧基團的化合物，較佳地可為分子上含有至少兩個環氧基團的化合物，以及上述概念中所有的的化合物形成之單元體、聚合物或樹脂。較佳地，本發明所述之環氧化合物，可使用樹脂組成。
同時，第一環氧化合物於使用上沒有特別限制，只要上述化合物是一種環氧化合物，且其同質聚合物的玻璃轉換溫度為120℃或高於120℃，例如於同質聚合物中含有脂環族環氧化合物及/或芳香族環氧化物，作為本發明之第一環氧化合物，具體的說，上述環氧化合物，可包含3,4-環氧環己基甲基-3,4’-環氧環己烷羧酸酯、乙烯基二氧化物、二氧化雙環戊二烯、雙-環氧環戊基醚、雙酚A基底的環氧化合物、雙酚F基底的環氧化合物和其類似物。同時，第一環氧化合物中同質聚合物的玻璃轉換溫度，較佳的範圍可介於120℃至200℃。
進而，上述第二環氧化合物於使用上沒有特別限制，只要上述化合物是一種環氧化合物，且其中的同質聚合物的玻璃轉換溫度為60℃或少於60℃，例如，可使用脂環族環氧化合物、脂肪環氧化合物和其類似物作為上述第二環氧化合物。同時，第二環氧化合物中同質聚合物的玻璃轉換溫度，較佳的範圍可介於0℃至60℃。
上述脂環族環氧化合物，較佳地可使用具有雙官能基的環氧化合物，亦即，上述化合物為具有二個環氧基。較佳地，可優先使用上述二個環氧基來源皆為脂環族環氧基之化合物，但使用上並無限制。
此外，上述脂肪環氧化合物，與他種具有脂環族環氧基團的環氧化合物相較之下，可優先使用含有芳香族環氧的環氧化合物。例如脂肪多元醇的聚縮水甘油醚、脂肪多元醇中之環氧烷產物之中的聚縮水甘油醚、脂肪多元醇和脂肪多元羧酸之中脂肪多元醇的聚酯多元醇的聚縮水甘油醚、脂肪多元羧酸的聚縮水甘油醚、脂肪多元醇和脂肪多元羧酸之中聚酯聚羧酸的聚縮水甘油醚，或丙烯酸縮水甘油酯和甲基丙烯酸縮水甘油酯進行乙烯聚合反應形成的二聚體、寡聚物或聚合物，或丙烯酸縮水甘油酯和甲基丙烯酸縮水甘油酯與他種乙烯基單體進行乙烯聚合反應形成的寡聚物或聚合物。較佳地，可使用脂肪多元醇的聚縮水甘油醚，或使用上述醚類的環氧烷產物，但不以此為限。
上述脂肪多元醇，可為碳數為2至20、2至16、2至12、2至8或2至4的脂肪多元醇，可使用二醇脂肪，例如乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、2-甲基-1,3-丙二醇、2-丁基-2-乙基-1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、新戊二醇、3-甲基-2,4-戊二醇、2,4-戊二醇、1,5-戊二醇、3-甲基-1,5-戊二醇、2-甲基-2,4-戊二醇、2,4-二乙基-1,5-戊二醇、1,6-己二醇、1,7-庚二醇、3,5-庚二醇、1,8-辛二醇、2-甲基-1,8-辛二醇、1,9-壬二醇以及1,10-癸二醇，或使用脂環族二醇，例如環己烷二甲醇、環己二醇、氫化的雙酚A或雙酚F、三羥甲基乙烷、三羥甲基丙烷、己糖醇、戊糖醇、甘油、聚甘油、季戊四醇、二季戊四醇、四羥甲基丙烷和其類似物。
此外，上述烯類氧化物，可具有碳數為1至20、1至16、1至12、1至8或1至4的烯類，例如氧化乙烯、氧化丙烯、氧化丁烯和其類似物。
進而，上述脂肪多元羧酸，可使用例如草酸、丙二酸、琥珀 酸、戊二酸、己二酸、庚二酸、辛二酸、壬二酸、癸二酸、十二烷二酸、2-甲基琥珀酸、2-甲基己二酸、3-甲基己二酸、3-甲基戊二酸、2-甲基辛二酸、3,8-二甲基癸二二酸、3,7-二甲基癸二二酸、1,20-二十碳亞甲基二羧酸、1,2-環戊烷二羧酸、1,3-環戊烷二羧酸、1,2-環己烷二羧酸、1,3-環己烷二羧酸、1,4-環己烷二羧酸、1,4-亞甲基環己烷二羧酸、1,2,3-戊烷三羧酸、1,2,3,4-丁烷四羧1,2,3,4-環丁烷四羧酸和其類似物，但不以此為限。
較佳地，本發明所述之第二環氧化合物，可為含有至少一個環氧丙基醚基團的化合物，可使用至少一個從以下組成之群組中選出之成份，例如1,4-環己烷二甲醇二縮水甘油醚、1,4-丁二醇二縮水甘油醚、1,6-己二醇二縮水甘油醚、新戊基二縮水甘油醚、間苯二酚二縮水甘油醚、二乙二醇二縮水甘油醚、乙二醇二縮水甘油醚、三羥甲基丙基三縮水甘油醚、正丁基縮水甘油醚、2-乙基己基縮水甘油醚、苯基縮水甘油醚以及鄰甲苯基縮水甘油醚。
同時，本發明可較佳的可使用，含有至少一環氧脂肪環基團的第一環氧化合物以及含有至少一個縮水甘油醚基團的第二環氧化合物，作組合以形成上述環氧化合物，但使用上並無限制。
當聚乙烯醇基膜附著於上，以作為產生聚合物膜的層合體時，上述層合體是處於被拉伸的狀態，上述的拉伸成形使用濕式拉伸。和乾式拉伸方式相較之下，使用濕式拉伸時，可使聚合物膜與聚乙烯醇基膜的表面剝離強度較強，使拉伸動作可以穩定的執行，甚至是在聚乙烯醇基膜附著於聚合物膜時，沒有使用分離劑的情況下。
上述拉伸方式，可在對聚乙烯醇基膜使用碘及/或雙色性染 料進行染色的情況下執行，亦可在對染料與聚乙烯醇基膜已形成交聯後，執行拉伸步驟，此外，使用碘及/或雙色性染料對層合體進行染色之步驟，可於拉伸步驟前執行。
此外，上述拉伸步驟和使用碘及/或雙色性染料進行染色交聯的步驟，可同時於硼酸水溶液中進行。
例如，上述拉伸步驟和使用碘及/或雙色性染料進行染色交聯的步驟，可同時於包含碘及/或雙色性染料和硼酸的水溶液中進行。進一步的，可將層合體浸沒在水溶液中，先進行拉伸步驟，再進行染色步驟，亦可浸沒已染色完成的層合體，於浸沒於硼酸水溶液時進行拉伸。
同時，上述偏光裝置的準備流程，通常包含清洗、膨脹、染色、清洗、拉伸、加入互補色、乾燥和類似步驟。在本發明中，執行清洗、拉伸的流程，較佳可位於硼酸水溶液中，較佳地上述清洗流程的硼酸濃度，可介於0.1wt%至2.5wt%之間，較佳地介於0.5wt%至2.0wt%，在進行拉伸處理時，'上述硼酸濃度可介於1.0wt%至5.0wt%，較佳地介於1.0wt%至4.0，較佳地介於1.5wt%至3.5wt%。當在硼酸水溶液中執行拉伸處理時，會因聚乙烯醇基膜與硼酸產生交聯，而減少聚乙烯醇基膜的破損發生率，從而增強流程的穩定度，從而可控制所述聚乙烯醇基膜的產生皺褶的數量，使聚乙烯醇基膜可輕易地於濕式處理中產生。此外，和乾式拉伸相較之下，亦有於低溫下進行拉伸處理的優勢。
同時，製造上述薄型偏光件時，較佳的方式是聚乙烯醇基膜進行拉伸時，形成厚度為少於10μm的薄膜，較佳地，拉伸的厚度範圍可介於1μm至10μm或3μm至10μm之間。
此外，在考量光學屬性的情況下，可使用以下拉伸處理的條件，可在溫度位於20℃至85℃時，進行拉伸率為5至15倍的拉伸。較佳地可在溫度位於40℃至80℃時，或較佳地在溫度位於45℃至55℃時，進行拉伸率為5至10倍的拉伸處理。
此外，上述拉伸處理方法並無特別限制，上述層合體可以使用單軸向拉伸，並選擇以縱向方向(MD)或橫向方向(TD)進行拉伸處理。當上述層合體的拉伸方向為橫向方向(TD)，同時會於縱向方向(MD)產生收縮。於實施例中拉伸層合體的方法，可使層合體設置於拉伸機中，進行橫向方向(TD)的端點固定單軸拉伸法，或進行縱向方向(MD)的輥間拉伸法，或進行壓縮拉伸法、自由端單軸拉伸法，或其他類似的拉伸方法。同時上述拉伸處理可多階段的執行，亦可進行雙軸拉伸、斜向拉伸和其他種類的拉伸方式。
同時，拉伸處理亦可在乾式拉伸法中執行，亦即，本發明之層合體可在符合公式(1)和公式(2)的條件下進行乾式拉伸。更具體地說，乾式拉伸的方式可在20℃至80℃的低溫下，以拉伸率為5至15倍的範圍內進行拉伸。
同時，上述拉伸層合體在必須的情況下，可在拉伸後在進行乾燥。此時，上述乾燥條件不限於以下條件，在於偏光件上產生光學屬性的考量因子下，可使於溫度介於20℃至100℃之下進行乾燥，較佳地可介於40℃至90℃，且乾燥時間可介於1分鐘至10分鐘。上述，置備偏光板時，在乾燥期間，為了避免聚乙烯醇基偏光件之物理特性倍劣化，可移除聚乙烯醇內和表面上的濕氣，亦可使乾燥處理拉伸完成的聚乙烯醇基膜時，薄 膜的寬度收縮能較平緩，進而增強聚乙烯醇和碘形成複合物的定向性。
當上述層合體製造後，再進行拉伸處理，並可額外的將聚乙烯醇基膜從聚合物膜上分離。上述聚合物膜可藉由於聚乙烯醇基膜上施加微弱剝離強度，此時，上述剝離強度較佳地可為2N/2cm或以下，例如強度可介於0.1N/2cm至2N/2cm，或介於0.1N/2cm至1N/2cm。在本發明所述之情況下，由於使聚合物膜和聚乙烯醇基膜分離的剝離強度，與使用塗料或共同擠塑共同擠塑的情況相較之下較小，可使兩層膜在沒有分離處理或設備之下亦能輕易地分開的，並使聚乙烯醇基膜的損壞在分離時可降到最低，從而呈現出色的光學表現。
使用本發明所述方法製備時，可使薄偏光件之厚度在10μm以下，較佳地介於1μm至10μm，較佳地介於3μm至10μm，使厚度變得非常小，因此，可相對地使包含相同的的偏光板和其類似物變得較輕薄。
進而，藉由本發明所述之方法製備的薄偏光件，在很小的厚度即可呈現出色的光學屬性，例如單體透射率的範圍位於40%至43%，較佳地位於41.5%至42%，且偏振度為99.0%或以上，較佳地為99.5%以上，較佳地為99.8%以上。
具體而言，使用本發明所述之製備方法製造地薄偏光件，可符合以下公式(3)，一般而言，薄偏光件的光學屬性為，當單體透射率減少時偏振度即增加，當單體透射率增加時偏振度即減少，因此一直以來存在的問題是，薄偏光件無法同時具有較高的偏振度和單體透射率，然而，本發明所述之薄偏光件，可同時具有較高的偏振度和單體透射率，並符合下列的公式(3)。
公式(3)：DOP>-0.3179Ts2+26.012Ts-432.12
在公式(3)中，DOP是偏振度，Ts是單體透射率，在此情況下，Ts符合以下關係：40.0<Ts<42.7。
同時，如上所述，可於偏光件的一表面或兩表面上，層壓如本發明所述之透明膜，而形成偏光板。上述偏光板的結構並無特別限制，只要包含本發明所述之偏光件的偏光板即可，其型態亦可為偏光板/保護膜、保護膜/偏光件、保護膜/偏光板/偏光件和類似物。
此時，上述保護膜可被提供並用於保護偏光件，亦可形成此領域已知的的各個材料的保護膜，例如纖維素基底、聚乙烯對苯二甲酸乙二酯(PET)膜、環烯烴聚合物(COP)膜、丙烯酸基膜和其類似物的保護膜，但不以此為限。其中，在考量具有光學屬性、耐久性以及經濟效益和類似因子的情況下，可特別使用於丙烯酸基膜。
上述層壓偏光件和保護膜的方法並無特別限制，只要可使用黏著劑戶黏接劑和此領域熟知的類似物即可。可基於考量保護膜於使用上，或其他需求而選擇適當的黏接劑或黏著劑，例如當以TAC作為保護膜時，可使用水性黏著劑，例如聚乙烯醇基黏著劑，當以丙烯膜或COP膜和其類似物作為保護膜時，可使用光固化或熱固化黏著劑，例如丙烯酸基黏著劑和環氧基黏著劑。
同時，上述偏光板基於補償光學相位差的考量下，而更包括相位差膜，使用在本發明之上述並無特別限制，可根據各種液晶的型態，使用此領域常使用的相位差膜。
同時，本發明所述之偏光板，可包含在多種顯示裝置中，例 如可應用於液晶顯示裝置(LCD)和有機發光裝置(OLED)中。
以下將更詳細描述本發明之內容，並參照的具體實施例。
實施例1
實施例1中為一種層合體之組成，可藉由將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於407MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和908MPa的模數。同時，上述熱塑性聚氨酯，可藉由二苯基甲烷異氰酸酯、1,4-丁二醇以及己二酸進行反應製備而成。
層合體上的染色流程，是在25℃時浸泡於濃度為0.25wt%的碘溶液20秒所致，然後上述層合體所製備的拉伸層合體，會於25℃時1.0wt%的硼酸溶液中進行15秒的清洗流程，並在2.0wt%的硼酸溶液中進行上述層合體單軸向拉伸處理，並在52℃時於MD方向上以拉伸率為6.0倍的進行拉伸。
進行拉伸處理後，上述層合體會在5wt%碘化鉀(KI)溶液中以增加互補色，並再於80℃時進行乾燥處理5分鐘。乾燥處理後，再將上述聚乙烯醇基膜從聚合物膜上剝離，以完成厚度為6.2μm之聚乙烯醇基薄偏光件的製備。
實施例2
一種具有厚度為6.8μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了層合體的組成，是將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA 膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於407MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和956MPa的模數。
實施例3
一種具有厚度為6.1μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於407MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有60μm的厚度和1064MPa的模數。
比較例1
一種具有厚度為5.3μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於1781MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和908MPa的模數，並將上述層合體浸沒於染色溶液中進行15秒的染色。
比較例2
一種具有厚度為5.3μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於1781MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和908MPa的模數。
比較例3
一種具有厚度為5.3μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於1781MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和908MPa的模數，並將上述層合體浸沒於染色溶液中進行25秒的染色。
比較例4
一種具有厚度為5.3μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於1781MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有40μm的厚度和908MPa的模數，並將上述層合體浸沒於染色溶液中進行30秒的染色。
比較例5
一種具有厚度為4.9μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於1781MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有60μm的厚度和1064MPa的模數。
比較例6
一種具有厚度為5.8μm的聚乙烯醇基薄偏光件，是以如實施 例1中相同的方式進行製備，除了將未拉伸的聚乙烯醇基膜(Nippon Synthetic Chemical Industry Co.,Ltd.,M2001 grade 20μm PVA膜)，貼附於未拉伸的熱塑性聚氨酯膜(R&F Co.,Ltd.,MPL)的兩表面上，上述聚乙烯醇基膜具有20μm的厚度和介於407MPa的模數，且熱塑性聚氨酯具有50μm的厚度和200MPa的模數。
實驗實施例1-未拉伸的聚合物膜和聚乙烯醇基膜之物理特性的量測
以下是量測實施例1和實施例2以及比較例實1至6中未拉伸的聚合物膜和聚乙烯醇基膜，是否符合本發明所述之公式(1)以及公式(2)，其結果皆顯示於[表1]中。此時，上述模數是使用拉力強度計量器(Zwick/Roell Z010 UTM)進行量測而得，厚度是使用厚度量測裝置(TESA Mu-hite Electronic Height Gauge 100mm)量測而得。
在[表1]中，Esub'是表示未拉伸的聚合物膜的模數，dsub'是表示未拉伸的聚合物膜的厚度，EPVA是表示未拉伸的聚乙烯醇基膜的模數，dPVA是表示未拉伸的聚乙烯醇基膜的厚度。
如[表1]所示，實施例1至3皆同時符合本發明所述之公式(1)以及公式(2)，但比較例1至5不符合公式(2)，且比較例6同時不符合公式(1)以及公式(2)。
實驗實施例2-光學屬性之的量測
在實施例1至3以及比較例1至6中，是使用分光光度計(JASCO V-7100)量測所製備之薄偏光件的光學屬性，並顯示於以下[表2]中。此外，圖2係為實施例1至3和比較例1至6的單體透射率和偏振度的關係。
在[表2]中，單體透射率是表示單一偏光件的透明度，偏振度可藉由以下公式所示：[(Tp-Tc)/(Tp+Tc)]0.5X100，其中，Tp是表示二片偏光板的平行透明度，Tc是表示二片偏光板的垂直透射率。
進而，在[表2]中，上述單一彩色a和b，是使用色差計量測單一偏光件的彩色的數值，上述正交彩色a和b，是在一對偏光件的吸收軸皆互相正交的情況下，使用色差計量分別量測彩色的數值。
此外，上述彩色a和b是以CIE座標系統中呈現的色彩，為參考依據之數值，更具體地說上述彩色數值a的計算方式如下：a=500*[(X/Xn)1/3-(Y/Yn)1/3]，+a和-a分別表示紅和綠。
此外，彩色數值b的計算方式如下：b=200*[(Y/Yn)1/3-(Z/Zn)1/3]，+b和-b是分別表示黃和藍，此處的Xn、Yn和Zn，是分別對應白色參考值的X、Y和Z。
即是，上述單一彩色a和b的數值，是以CIE座標系統作為參考數值的數值，其中，單一偏光件的彩色是使用色差計進行量測，而正交彩色a和b數值，是在一對偏光件的吸收軸皆互相正交的情況下，使用色差計量分別量測彩色的數值。
如[表2]和圖2所示，藉由實施例1至3所述之製備方法製備而成的薄偏光件，與比較例1至6相較之下，可使薄偏光件於單體透射率較高時，例如單體透射率介於41.5%至42.0%之間時，仍具有出色的偏振度於99.8%以上。根據本發明所製備的薄偏光件，亦可同時具有出色的的單體透射率和偏振度。
以上所述之實施例僅係為說明本發明之技術思想及特點，其目的在使熟習此項技藝之人士能夠瞭解本發明之內容並據以實施，當不能以之限定本發明之專利範圍，即大凡依本發明所揭示之精神所作之均等變化或修飾，仍應涵蓋在本發明之專利範圍內。

Claims (11)

  1. 一種層合體，包含：一未拉伸的聚合物膜；以及一未拉伸的聚乙烯醇基膜，係附著該聚合物膜之至少一表面，其中所述未拉伸的聚合物膜包括選自由熱塑性聚氨酯基樹脂、低密度聚乙烯基樹脂、高密度聚乙烯基樹脂、含有乙烯乙酸乙烯在高密度聚乙烯中的共聚物樹脂、聚丙烯基樹脂、含有間苯二甲酸的聚對苯二甲酸乙二酯基樹脂、丙烯酸基樹脂以及水溶性纖維素樹脂組成之群組中的至少一項，其中該聚合物膜之該模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且該厚度係介於20μm至100μm之間，其中該聚乙烯醇基膜之該模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且該厚度係介於10μm至60μm之間，其中該層合體係符合以下公式(1)以及公式(2)： 在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
  2. 一種拉伸層合體，係於溫度數值介於20℃至85℃之間的條件下，拉伸5至15倍如申請專利範圍第1項所述之層合體所製備。
  3. 一種薄偏光件的製備方法，係包含：貼附一未拉伸的聚乙烯醇基膜至一未拉伸的聚合物膜的至少一表面，以形成符合下列公式(1)以及公式(2)之一層合體；拉伸該層合體，以形成一拉伸層合體；其中所述未拉伸的聚合物膜包括選自由熱塑性聚氨酯基樹脂、低密度聚乙烯基樹脂、高密度聚乙烯基樹脂、含有乙烯乙酸乙烯在高密度聚乙烯中的共聚物樹脂、聚丙烯基樹脂、含有間苯二甲酸的聚對苯二甲酸乙二酯基樹脂、丙烯酸基樹脂以及水溶性纖維素樹脂組成之群組中的至少一項，其中該聚合物膜之該模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且該厚度係介於20μm至100μm之間， 其中該聚乙烯醇基膜之該模數係介於50MPa至4,000MPa之間，且該厚度係介於10μm至60μm之間， 在公式(1)以及公式(2)中，Esub'係為一聚合物膜之模數，dsub'係為該聚合物膜之厚度，EPVA係為一聚乙烯醇基膜之模數，dPVA係為該聚乙烯醇基膜之厚度。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之方法，其中該聚合物膜以及該聚乙烯醇基膜係藉由複數個薄膜表面上的弱引力或一黏著劑互相貼附。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之方法，其中該拉伸步驟係於溫度數值介於20℃至85℃之間的條件下，以5倍至15倍之拉伸率進行。
  6. 如申請專利範圍第3項所述之方法，其中該拉伸步驟，係於濃度介於1wt%至5wt%之間的硼酸水溶液中進行。
  7. 申請專利範圍第3項所述之方法，更包含：利用至少一碘以及雙色性染料，對該層合體形成該拉 伸層合體之前進行染色。
  8. 如申請專利範圍第3項所述之方法，更包含：形成該拉伸層合體之後，從該聚合物膜上分離該聚乙烯醇基膜。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之方法，其中係藉由施加數值介於2N/2cm或少於2N/2cm之剝離強度，從該聚合物膜上分離該聚乙烯醇基膜。
  10. 一種包括如申請專利範圍第2項所述之拉伸層合體之薄偏光件，其中該薄偏光件具有厚度為10μm或少於10μm並符合下列公式(3)：公式(3)：DOP>-0.3179Ts2+26.012Ts-432.12在公式(3)中，DOP係為一偏振度、Ts係為一單體透射率，且Ts係符合40.0<Ts<42.7之關係式。
  11. 一種偏光板係包含如申請專利範圍第10項所述之薄偏光件。
TW103136228A 2013-10-31 2014-10-21 層合體、薄偏光件的製備方法、薄偏光件及包含其之偏光板 TWI548506B (zh)

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