TWI537423B - Indium hydroxide or a compound containing indium hydroxide - Google Patents

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014192650A1 (ja) * 2013-05-27 2014-12-04 住友金属鉱山株式会社 水酸化インジウム粉の製造方法及び酸化インジウム粉の製造方法、並びにスパッタリングターゲット
JP6201915B2 (ja) * 2014-06-30 2017-09-27 住友金属鉱山株式会社 カソード及びこれを用いた金属水酸化物の製造方法
JP6222072B2 (ja) * 2014-12-19 2017-11-01 住友金属鉱山株式会社 水酸化インジウム粉又は水酸化スズ粉の電解装置、水酸化インジウム粉又は水酸化スズ粉の製造方法、及びスパッタリングターゲットの製造方法
JP6222071B2 (ja) * 2014-12-19 2017-11-01 住友金属鉱山株式会社 水酸化インジウム粉の電解装置、水酸化インジウム粉の製造方法、及びスパッタリングターゲットの製造方法
CN107935026B (zh) * 2017-11-24 2021-01-15 郑州大学 一种利用电解制备纳米氧化铟的方法和装置
CN109183057B (zh) * 2018-11-13 2020-07-07 云南锡业集团（控股）有限责任公司研发中心 电解法制备高纯氧化铟粉末的方法及装置
CN111809050A (zh) * 2020-05-25 2020-10-23 先导薄膜材料有限公司 一种回收ito废靶的方法
CN111979563A (zh) * 2020-08-14 2020-11-24 郑州大学 氧化铟镓锌靶材的电化学回收再利用方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN1016366B (zh) * 1988-02-24 1992-04-22 个旧市焊料厂 用粗焊锡生产高纯锡的工艺
CN1071714A (zh) * 1991-10-14 1993-05-05 昆明工学院 一种由粗锌制取纯锌的电解精炼法
JP2783027B2 (ja) * 1991-12-03 1998-08-06 住友金属鉱山株式会社 金属の電解精製における品質管理方法
JP2736492B2 (ja) * 1992-12-28 1998-04-02 株式会社ジャパンエナジー 酸化インジウム−酸化スズ粉末の製造方法
US5417816A (en) * 1992-12-09 1995-05-23 Nikko Kyodo, Ltd. Process for preparation of indium oxide-tin oxide powder
JP2829556B2 (ja) * 1992-12-09 1998-11-25 株式会社ジャパンエナジー 酸化インジウム粉末の製造方法
JPH10140384A (ja) * 1996-09-15 1998-05-26 Yoshiya Okazaki 電解による強アルカリ水と次亜塩素酸殺菌水の同時生成装置
JPH10204669A (ja) * 1997-01-16 1998-08-04 Mitsubishi Materials Corp 酸化インジウム粉末の製造方法
JP3952766B2 (ja) * 2001-12-19 2007-08-01 三井金属鉱業株式会社 銅の高電流密度電解法
JP2003247089A (ja) * 2002-02-25 2003-09-05 Nikko Materials Co Ltd インジウムの回収方法
JP2004124115A (ja) * 2002-09-30 2004-04-22 Nippon Mining & Metals Co Ltd 銅電解液からの銅の回収方法及び浄液方法
JP4844023B2 (ja) 2005-07-01 2011-12-21 アタカ大機株式会社 固体高分子電解質膜の寸法安定化方法
JP4745400B2 (ja) * 2006-10-24 2011-08-10 Ｊｘ日鉱日石金属株式会社 Ｉｔｏスクラップからの有価金属の回収方法
KR20090057141A (ko) * 2006-10-24 2009-06-03 닛코 킨조쿠 가부시키가이샤 Ｉｔｏ 스크랩으로부터의 유가 금속의 회수 방법
CA2673834C (en) * 2007-02-16 2011-03-08 Nippon Mining & Metals Co., Ltd. Method of recovering valuable metal from scrap containing conductive oxide
CN100560758C (zh) * 2007-06-11 2009-11-18 华南师范大学 一种从废旧无汞碱性锌锰电池中回收铟的方法

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