TWI528545B - 顯示裝置 - Google Patents

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小林英和
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Description

顯示裝置
本發明係關於顯示裝置。
利用藉由通電而發光之EL(電激發光)現象之有機EL裝置作為顯示裝置之用途正在擴大。而且，作為近年新的用途，考慮可自表背兩面同時觀看之使用方法。作為與該用途對應之雙面顯示型之有機EL裝置，例如專利文獻1中提出有於陰極兩側形成至少包含EL層之發光功能層之型態。又，專利文獻2中提出有使陰極之一部分由透明構件形成之型態，專利文獻3中提出有使夾持發光功能層之電極即陽極與陰極之雙方由透明構件形成之型態。
[先前技術文獻]
[專利文獻]
[專利文獻1]
日本專利特開2000-58260號公報
[專利文獻2]
日本專利特開2001-332392號公報
[專利文獻3]
日本專利特開2002-252089號公報
然而，於陰極兩側形成發光功能層之型態會使製造成本上升。又，使陰極與陽極之雙方由透明構件形成會使電極材料之選擇範圍變窄，從而有可能影響到發光特性等。又，作為進一步之用途，亦提出有複數個人隔著顯示裝置而面對面地一面看著該顯示裝置與對方之兩者一面舉行會議等之使用方法。為用於該用途而必需於顯示裝置內設置有透明區域。而且，為使面對面之複數個人看到不左右顛倒之圖像，必需使該顯示裝置之一方側之圖像與另一方側之圖像各自獨立地形成。
本發明係為解決上述問題之至少一部分而完成者，其可作為以下之形態或者適用例而實現。
[適用例1]　本適用例之顯示裝置之特徵在於，其包括第1基板與第2基板之一對基板及設置於該一對基板之間之發光功能層，且配置有使發光向上述第1基板側射出之形成有第2像素之第2像素區域、及使發光向上述第2基板側射出之形成有第1像素之第1像素區域；上述第1像素包括形成於上述發光功能層之第1基板側之第1像素電極、形成於上述發光功能層之第2基板側之共用電極、及形成於上述發光功能層之第1基板側之反射層；上述第2像素包括形成於上述發光功能層之第1基板側之第2像素電極、形成於上述發光功能層之第2基板側之共用電極、及形成於上述發光功能層之第2基板側之反射層；於上述第1基板之上述發光功能層側形成有驅動上述第1像素電極與上述第2像素電極之驅動元件。
根據該構成，藉由形成有2層反射層，可使發光功能層內所產生之光自第1基板側與第2基板側之雙方射出。因此，既可抑制製造成本之增加又可實現雙面顯示裝置。
[適用例2]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：於俯視下，未形成有上述反射層，而形成有經由上述第1基板及上述第2基板而可透過光之透明區域。
根據該構成，可一面觀看所顯示之圖像一面經由該顯示裝置看到相反側。因此，可實現於會議等中能夠看到圖像與對方之兩者之雙面顯示裝置。
[適用例3]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述透明區域係未形成有上述第1像素電極及上述第2像素電極兩者之區域。
根據該構成，可抑制於透明區域中發光功能層發光，從而可提高顯示品質。
[適用例4]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述第1像素區域中之上述共用電極及上述發光功能層係與上述第2像素區域中之上述共用電極及上述發光功能層為同一層。
根據該構成，不增加共用電極之形成步驟及發光功能層之形成步驟便可使發光自第1基板側與第2基板側之雙方射出。因此，既可抑制製造成本之增加又可實現雙面顯示裝置。
[適用例5]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述第1像素電極與上述第2像素電極之2種像素電極之至少一方包括各自獨立地被驅動之紅色子像素電極、綠色子像素電極及藍色子像素電極之3種子像素電極，與上述一方之像素電極對應之像素區域被劃分為如下之3種子像素區域：紅色子像素區域，其於俯視下包含上述紅色子像素電極，且射出紅色光；綠色子像素區域，其於俯視下包含上述綠色子像素電極，且射出綠色光；及藍色子像素區域，其於俯視下包含上述藍色子像素電極，且射出藍色光。
根據該構成，既可抑制製造成本之增加又可實現能夠於至少一方之面上顯示彩色圖像之雙面顯示裝置。
[適用例6]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：於上述3種子像素區域中之上述發光功能層之上述反射層側之相反側，形成有與自各個子像素區域射出之光之顏色對應之彩色濾光器。
根據該構成，可實現既可於子像素間共用地使用發光功能層又可於至少一方之面上顯示彩色圖像之雙面顯示裝置。
[適用例7]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述3種子像素電極於上述發光功能層之上述反射層側之相反側具有半透過反射層，且於上述半透過反射層與上述反射層之間形成有使特定波長範圍之光共振之光共振器構造。
根據該構成，能夠實現既可於子像素間共用地使用發光功能層又可於至少一方之面上顯示彩色圖像之雙面顯示裝置。
[適用例8]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述第1像素電極與上述第2像素電極之至少一方配置為鋸齒狀。
根據該構成，可於顯示區域內降低條紋狀不均之產生，從而可提高顯示品質。
[適用例9]　一種顯示裝置，其係如上述之顯示裝置，其特徵在於：上述第1像素電極與上述第2像素電極之至少一方配置為列狀。
根據該構成，可使形成於第2基板側之反射層為帶狀，從而可容易地實現遮罩成膜。
以下，參照圖式對作為本發明之顯示裝置之有機EL裝置進行說明。再者，若本發明為EL裝置則亦可使用採用無機EL材料之EL裝置來實現，本實施形態中，以EL材料採用有機系EL材料之有機EL裝置為例進行說明。又，以下各圖中，將各層或各部位設為可於圖式上識別之程度之大小，因此使各層或各部位之縮尺與實際情況不同。
(第1實施形態)
圖1係表示本發明之第1實施形態之有機EL裝置91、及後述之各實施形態之有機EL裝置之概要之立體圖。有機EL裝置91包括於上表面與下表面之雙方在俯視下大致重合之顯示區域100。以左側眼80觀察之面係作為第1面之上表面3，以右側眼80觀察之面係作為第2面之下表面4。
自上表面3射出第1顯示光5，自下表面4射出與該第1顯示光不同之顯示光即第2顯示光6。「不同之顯示光」係指形成不同圖像之光。因此，有機EL裝置91可向隔著該有機EL裝置而處於對向之位置之兩個觀察者顯示各不相同之圖像。於此，於使後述之發光功能層15(參照圖5)由包含透明材料之一對電極夾持且自表背兩面(上表面與下表面)射出同一顯示光之情形時，無法形成不同之圖像。即，無法向上述之兩個觀察者顯示如圖示般之左右方向正確之圖像，而會向任一方之觀察者顯示左右顛倒之圖像。因此，至少無法正確地顯示文字資訊。
本實施形態之有機EL裝置91如後述般使用共用之發光功能層15於表背兩面(上表面3與下表面4)顯示各不相同之圖像，藉此不會引起左右顛倒而可向兩個觀察者顯示共用之圖像。又，顯示區域100中規則地形成有透明區域(可外部光7之一部分透過之區域)。因此，隔著該有機EL裝置而面對面之兩個觀察者，可看到形成於顯示區域100之圖像及對方之臉。因此，會議等中既可不變更視線而觀察圖像(圖像資訊)，又可進行所謂之面對面之對話。
圖2(a)及(b)係表示有機EL裝置91、及後述之各實施形態之有機EL裝置之顯示區域100內之各區域之配置型態之圖。各區域係指朝上表面射出第1顯示光5之第1像素區域41、朝下表面射出第2顯示光6之第2像素區域42、及可使外部光7之一部分透過之透明區域43之3種區域。該3種區域規則地形成於顯示區域100內。
圖2(a)表示上述各區域(41、42、43)分別配置為列狀(圖4等中之Y方向)之型態。該型態之配置與鋸齒狀配置相比，具有容易形成後述之第2反射層14(參照圖5)之優點。又，同樣地亦具有可將後述之第1反射層13(參照圖5)形成為跨過複數個第1像素區域41之帶狀之優點。進而，於各區域(41、42、43)之面積不同之情形時亦較為有利。再者，本圖中將各區域配置為縱向列狀，但亦可為配置成橫向行狀(圖4等中之X方向)之型態。
圖2(b)表示上述各區域(41、42、43)配置為鋸齒狀之型態。根據該配置，可顯示比較平滑之圖像。有機EL裝置91及後述之各實施形態之有機EL裝置採用圖2(a)所示之列狀配置。然而，並不限定於該配置，亦可於所有型態下均採用圖2(b)所示之鋸齒狀配置。
圖3(a)~(d)係表示上述各區域(41、42、43)內被更細地劃分之情形之圖。主要表示於後述之第2實施形態以下之有機EL裝置中，第1像素區域41與第2像素區域42根據射出之光之顏色而作為子像素區域進行劃分之情形。圖3(a)表示本實施形態之有機EL裝置91之上述各區域(41、42、43)。有機EL裝置91進行黑白顯示，因此第1像素區域41與第2像素區域42之雙方均不具有子像素區域。即，雙方之像素區域(41、42)可以任意強度射出白色光但無法射出有色光。再者，「白色光」係作為如下概念來使用，即不僅為純粹之白色光，亦包含具有稍許色度但無法改變該色度之單色光。
圖4係第1實施形態之有機EL裝置91之電路構成圖。有機EL裝置91包括顯示區域100及形成於該顯示區域之周邊部之周邊區域(無符號)。顯示區域100中形成有於X方向延伸之複數個掃描線103、於Y方向延伸之複數個信號線104、及同樣地於Y方向延伸之複數個電源線106。於X方向由信號線104與電源線106所規定、且Y方向由掃描線103所規定之每個方形區隔中，第1有機EL像素(以下稱作「第1像素」)31與第2有機EL像素(以下稱作「第2像素」)32形成為上述圖2(a)所示之列狀。再者，以下記載中，將第1像素31與第2像素32之總稱記作「有機EL像素(31、32)」。至於後述之其他構成要素亦相同。
第1像素31係與上述之第1像素區域41對應之像素，由包括第1像素電極35(參照圖5)之有機EL元件29及後述之其他構成要素構成。第2像素32係與上述之第2像素區域42對應之像素，由包括第2像素電極36(參照圖5)之有機EL元件29及後述之其他構成要素構成。本實施形態之有機EL裝置91係顯示黑白圖像之裝置，因此各像素射出之光之顏色無區別。於此，有機EL像素(31、32)係由有機EL元件29等各要素所構成之功能性之概念。像素區域(41、42)係輸出顯示光之區域，且為平面上之概念。再者，顯示區域100內亦配置有上述之透明區域43，但該透明區域係未形成有有機EL元件29等之區域，因此作為電路圖之本圖中並未加以圖示。
有機EL裝置91為主動矩陣型之顯示裝置，各個有機EL像素(31、32)包括如下者等(參照圖5)：開關用TFT(thin-film transistor，薄膜電晶體)108，其經由掃描線103將掃描信號供給至閘極電極23(參照圖5)；保持電容110，其對經由開關用TFT108而自信號線104供給之圖像信號加以保持；驅動用TFT112，其將由保持電容110所保持之圖像信號供給至閘極電極23；及有機EL元件29，其經由驅動用TFT112而自電源線106流入驅動電流。
周邊區域中形成有掃描線驅動電路120及信號線驅動電路130。掃描線驅動電路120根據自未圖示之外部電路供給之各種信號而將掃描信號依序供給至掃描線103。信號線驅動電路130將圖像信號供給至信號線104。自未圖示之外部電路對電源線106供給像素驅動電流。掃描線驅動電路120之動作與信號線驅動電路130之動作係藉由經由同步信號線140自外部電路供給之同步信號而相互實現同步。
若掃描線103被驅動而使開關用TFT108成為導通狀態，則該時間點之信號線104之電位由保持電容110加以保持，且根據保持電容110之狀態來決定驅動用TFT112之位準。而且，經由驅動用TFT112自電源線106於像素電極流過驅動電流，有機EL元件29根據驅動電流之大小而發光，從而作為顯示光(5、6)自與各個像素(31、32)對應之像素區域(41、42)射出。
圖5係第1實施形態之有機EL裝置91之顯示區域100(參照圖1及2)之模式剖面圖。如圖示般，有機EL裝置91係由元件基板10、對向基板11、及形成於該一對基板之間之各要素構成。對向基板11側即對向基板11之形成有後述各要素之側之相反側的面為上表面(第1面)3。元件基板10側即元件基板10之形成有各要素之側之相反側的面為下表面(第2面)4。
顯示區域100如上所述包括如下之共計3種區域，即俯視下自上表面3射出第1顯示光5之第1像素區域41；自下表面4射出第2顯示光6之第2像素區域42；及可使外部光7之至少一部分透過之透明區域43。而且，第1像素區域41中形成有第1像素31，第2像素區域42中形成有第2像素32。如圖示般，第1像素31與第2像素32之不同在於反射層(13、14)之於基板面之垂直方向之形成位置。因該形成位置之不同，可改變射出顯示光(5、6)之方向。再者，於如上所述在括弧內將符號以逗點隔開而並寫之情形時，表示「第1要素」與「第2要素」之雙方。
透明區域43由在垂直方向形成於上述一對基板及顯示區域100之大致整個表面之各層構成，並未形成有上述反射層(13、14)等。而且，該形成於整個表面之各層包含透明材料或者半透過性材料。又，元件基板10與對向基板11包含玻璃等透明材料。因此，透明區域43可經由有機EL裝置91而使外部光7之至少一部分透過。
再者，於透明區域43中不必使後述之發光功能層15通電，因此並未形成有像素電極(35、36)。但是，於該像素電極由具有透明性之(後述之)ITO(indium tin oxide，氧化銦錫)等形成之情形時，亦可為同一材料層以與該像素電極電性獨立之型態而形成。
以下，自元件基板10側說明構成有機EL像素(31、32)之各要素。再者，本實施形態之有機EL裝置91、及後述之各實施形態之有機EL裝置具有第1像素31與第2像素32射出顯示光之方向不同之特徵。由此，本圖中表示構成上述雙方之像素(31、32)之要素中有機EL元件29及驅動該有機EL元件之驅動用TFT(以下簡單地稱作「TFT」)112，省略開關用TFT108與保持電容110之圖示。
TFT112形成於元件基板10之上層。但亦可於元件基板10與TFT112之界面上另行形成有保護層。再者，「上方」及「上層」係指對向基板11側。TFT112包括半導體層21、使與掃描線103為同一層之層圖案化而形成之閘極電極23、及形成於半導體層21與閘極電極23之間之閘極絕緣層70等。半導體層21中俯視下與閘極電極23重疊之區域為通道區域22，於該通道區域之兩側形成有源極區域25與汲極區域26。再者，閘極電極23具有自元件基板10側起依序積層有Ti(鈦)、AlCu(鋁銅合金)及TiN(氮化鈦)之構造。
於TFT112之上層形成有積層著氮化矽或者氧化矽等無機絕緣材料與丙烯酸系樹脂等有機系材料之層間絕緣層71。像素電極(35、36)經由對層間絕緣層71局部性地蝕刻所形成之接觸孔27而電性連接於汲極區域26。像素電極(35、36)之形成材料必需有透明性與導電性、且功函數必需高於後述之作為共用電極之陰極19。因此，有機EL裝置91中，使像素電極(35、36)由作為透明導電材料之ITO(氧化銦錫合金)形成。亦可代替ITO而使用IZO(indium-zinc oxide，氧化銦合金)。進而，亦可使用作為不含有金屬之透明導電材料之PEDOT(polyethylenedioxythiophene，聚乙烯二氧噻吩)。
於第1像素電極35之下層形成第1反射層13及覆蓋該第1反射層之保護層28。第1反射層13(及後述之第2反射層14)之形成材料較佳為反射率高且加工性(圖案化性)優異之材料。因此，有機EL裝置91之第1反射層13(及後述之第2反射層14)由Al(鋁)等形成。第1反射層13係使厚度為大致80 nm且整個面地形成之A1層圖案化而形成。
保護層28包含氮化矽，於形成第1像素電極35時發揮保護第1反射層13之功能。又，由於氮化矽為絕緣材料，因此可使第1像素電極35與第1反射層13電性絕緣。因此，若為由包含氮化矽之保護層28完全覆蓋第1反射層13之構成，則亦可使第1反射層13不為島狀而形成為跨過在Y方向(參照圖4)相鄰之第1像素區域41之間之帶狀。即，於Y方向上，可為俯視下於第1反射層13之形成區域內配置有成島狀圖案化之第1像素電極35之型態。
又，於X方向上，亦可為於第1反射層13之形成區域內配置有第1像素電極35之型態。即，於接觸孔27之形成區域以外，第1反射層13於俯視下寬於第1像素電極35，即可以於俯視下覆蓋第1像素電極35之方式形成。
再者，第1像素電極35並非必需有透明性，亦可由Ag(銀)等反射性材料形成。該情形時，第1像素電極35兼作第1反射層13。而且，不需要保護層28。又，第1反射層13(及後述之第2反射層14)亦可不為藉由光微影法等而圖案化所形成者，而係以遮罩蒸鍍等遮罩成膜法總括性地進行成膜與圖案化而形成。
於形成有像素電極(35、36)之元件基板10之上層之整個表面形成有發光功能層15。因此，於第1像素區域41與第2像素區域42之2種區域中發光功能層15為共用之層。因此，於本實施形態之有機EL裝置91(後述之各實施形態之有機EL裝置)之製造中，發光功能層之形成步驟僅為1次。
發光功能層15為總稱，具體而言係自元件基板10側起依序積層有電洞注入層、電洞傳輸層、有機EL層及電子傳輸層之共計4層而形成。亦可認為係包含形成於電子傳輸層之上層之電子注入層在內之共計5層。本實施形態之有機EL裝置91不為彩色而為黑白(單色)顯示裝置，因此有機EL層為發出白色光之層。因此，發光功能層15為白色發光功能層。再者，上述之有機EL層並不限定於單一材料層。若將發光色各不相同之層加以積層而整體上可射出白色光則亦可。又，無需射出純粹之白色光，亦可為帶有若干顏色之光。
於發光功能層15之上層之整個表面，與發光功能層15相同地形成有作為共用電極之陰極19。陰極19、發光功能層15及像素電極(35、36)之積層體為有機EL元件29。若經由TFT112對像素電極(35、36)施加電壓，則會於該像素電極與陰極19之間經由發光功能層15而流過電流，從而使發光功能層15中所包含之有機EL層根據電流量而進行發光。
如上所述，於第1像素電極35之元件基板10側形成有第1反射層13。因此，於第1像素區域41中，第1反射層13位於發光功能層15與元件基板10之間，於該區域中朝向元件基板10側之發光會向對向基板11側反射。又，於該區域中朝向對向基板11側之發光直接作為第1顯示光5而自第1面3側即對向基板11側射出。因此，於第1像素31產生之發光全部作為第1顯示光5而自第1面3側射出，即自對向基板11側作為第1顯示光5射出。
有機EL裝置91為黑白顯示之有機EL裝置，因此有機EL元件29無需共振器構造。因此陰極19不必具有半透過性，亦可為透明性(透光性)。另一方面，透明區域43(參照圖2)使外部光7之一部分透過即可，陰極19無需完全透明。因此陰極19可具有透明性，亦可具有半透過性。
又，陰極19由於為電極，故而必需有導電性，進而，為確保電子注入性，必需由功函數低於像素電極(35、36)之形成材料之材料形成。有機EL裝置91中，積層2 nm之Al及1 nm之LiF(氟化鋰)作為電子注入層，且於該電子注入層上積層ITO作為陰極19，從而確保透明性與電子注入性。
於第2像素區域42之陰極19之上層形成有第2反射層14。該第2反射層係與第1反射層13相同而包含Al，且層厚亦相同地為80 nm。但是，形成方法較佳為遮罩蒸鍍等遮罩成膜法，這樣亦可抑制對作為基底之陰極19造成傷害。第2反射層14與第1反射層13不同而無需相互電性獨立。又，即便俯視下與接觸孔27重疊亦無問題。因此，本實施形態中可形成為於Y方向(參照圖4)延伸之帶狀。
第2反射層14除發揮使發光功能層15內所產生之光向元件基板10側反射之功能之外，亦發揮作為陰極配線(輔助配線)之功能。如上所述，陰極19為發揮透明性而形成得極薄。因此陰極19之表面電阻較高，於有機EL裝置之中央附近產生電壓降，因此存在流過有機EL層之電流量下降之傾向。第2反射層14係不介隔任何物體而積層於陰極19之上層，因此與該陰極電性地一體化。
而且，第2反射層14之層厚為80 nm，與陰極19之層厚相比十分厚，且第2反射層14規則地形成於顯示區域100內。因此，於第2反射層14不需要透明性之區域中實質上使陰極19之層厚增加，從而使陰極19之表面電阻降低。藉由該表面電阻之降低，中央部附近之該電壓降亦得以抑制，因此有機EL裝置91可顯示中央部與周邊部之亮度等之差較少之品質提高之圖像。
第2像素32於第2像素電極36之下層不具有反射層，因此發光功能層15內所產生之發光中朝向元件基板10側之發光直接自第2面4側作為第2顯示光6射出。另一方面，由於第2反射層14位於發光功能層15之上層，因此朝向對向基板11側之發光於該第2反射層反射後，朝向元件基板10側並自第2面4側作為第2顯示光6射出。因此，於第2像素區域42產生之發光之大致全部自第2面4側作為第2顯示光6射出。
於形成有第2反射層14之陰極19之上層，即於陰極19與對向基板11之間形成有密封層79。密封層79被圖示為單層，但實際上包含如下者：包含自陰極19之上層依序形成之陰極保護層、有機緩衝層及氣體阻隔層之共計3層之積層體；及填充於該積層體與對向基板11之間且具有透明性之接著材層。構成上述密封層79之各層均包含透明材料，透明區域43可使外部光7之至少一部分透過。因此，隔著有機EL裝置91而面對面之兩個人可相互看到對方。
如上所述，本實施形態之有機EL裝置91於透明區域43使外部光7之至少一部分透過，且於第1像素區域41向對向基板11側射出第1顯示光5，且於第2像素區域42向元件基板10側射出第2顯示光6。因此，透明區域中未形成有如反射層(13、14)般之遮光性之層，另一方面，於像素區域(41、42)中藉由反射層(13、14)而使發光功能層15內所產生之光僅向一方側射出。
於此，形成有像素電極(35、36)之區域中在發光功能層15內產生發光，因此為抑制顯示光(5、6)向相反側射出，而必需於俯視下使像素電極(35、36)包含於反射層(13、14)內。然而，第1像素區域41中無法於接觸孔27之形成區域形成第1反射層13。又，由於反射層(13、14)反射外部光，因此若使該反射層不與像素電極(35、36)重疊之部分，即俯視下該反射層自該像素電極露出之部分形成得極寬，則亦有可能會導致顯示品質下降。
為抑制該現象，於透明區域43以外之區域中，亦可於俯視下包圍像素電極(35、36)之區域形成有間隔壁(未圖示)。上述區域中在像素電極(35、36)與發光功能層15之間形成有包含遮光性之絕緣性材料之間隔壁，藉此可抑制發光功能層15之發光向不理想之側射出及反射外部光7之雙方，從而可提高顯示品質。
(本實施形態之效果)
如上所述，有機EL裝置91具有第1像素31與第2像素32之2種像素。兩像素(31、32)具有類似之構成，不同之處僅在於反射層(13、14)之形成位置(垂直方向之位置)。
於此，普通之有機EL裝置中，通常為使顯示光僅自元件基板10側與對向基板11側之任一方側射出而形成有反射層。因此，本實施形態之有機EL裝置91僅透過新形成1層反射層便可自第1面3與第2面4之兩面射出顯示光。又，有機EL裝置91為主動矩陣型之顯示裝置，因此可於相鄰之像素(31、32)間產生不同之發光。因此，有機EL裝置91僅透過若干之步驟數之增加即製造成本之增加便可自第1面3與第2面4之兩面射出顯示光，從而於兩個面(3、4)之顯示區域100中形成各不相同之圖像。
於此，上述之不同圖像包含使相同文字資訊左右顛倒者。於不使用如有機EL裝置91般之構成而使像素電極(35、36)與陰極19之雙方由透明材料形成之情形時，亦可於兩個面之顯示區域100中形成圖像。然而，該圖像於以一方之面為基準之情形時，會於另一方之面中左右顛倒，因此至少無法正確地顯示文字資訊。
有機EL裝置91亦不會使該文字資訊左右顛倒而可於兩個面之顯示區域100形成圖像，因此於會議等中複數個人可一面經由該有機EL裝置看共用之資訊一面進行對話。進而，由於在顯示區域100內形成有透明區域43，因此可同時看到圖像及面對面之對方之表情等。因此，藉由使用本實施形態之有機EL裝置91，可效率佳地完成一面以文字資訊等圖像資訊為資料一面舉行之會議等。進而，於有機EL裝置91、及後述之各實施形態之有機EL裝置(92、93、94)用作電子看板之情形時可於兩個面(3、4)上進行顯示，因此可進行無死角之宣傳顯示。
再者，圖2及圖3(a)中，形成於顯示區域100內之3種區域(41、42、43)之面積比圖示為大致1：1：1。然而，該面積比並不限定於上述值，可任意地設定。又，於無需看到對方之臉、表情等之情形時，亦可不形成透明區域43而僅為第1像素區域41與第2像素區域之2種區域。
(第2實施形態)
其次，對本發明之第2實施形態進行說明。本實施形態之有機EL裝置92係與第1實施形態之有機EL裝置91共用使用目的及型態，且構成亦類似。即，如圖1所示，於第1面3與第2面4之雙方具有在俯視下大致重疊之顯示區域100，可於該兩個面(3、4)顯示各不相同之圖像。而且，藉由形成於顯示區域100中之透明區域43(參照圖2等)，可經由該有機EL裝置看到對向之側(即相反側)。包含該透明區域之3種區域之配置型態亦為共用。即，採用圖2(a)所示之列狀配置。
有機EL裝置92於不進行黑白顯示而進行彩色顯示之方面不同於第1實施形態之有機EL裝置91。因此，透明區域43以外之兩個區域進而被較細地劃分為射出3原色光之任一者之子像素區域。
圖3(b)表示有機EL裝置92之像素區域(41、42)內之子像素區域之配置型態。如圖示般，第1像素區域41被劃分為射出3原色光之任一者之子像素區域，即作為射出紅色光之區域之第1紅色子像素區域51r，作為射出綠色光之區域之第1綠色子像素區域51g，及作為射出藍色光之區域之第1藍色子像素區域51b。
相同地，第2像素區域42亦被劃分為射出3原色光之任一者之子像素區域，即作為射出紅色光之區域之第2紅色子像素區域52r，作為射出綠色光之區域之第2綠色子像素區域52g，及作為射出藍色光之區域之第2藍色子像素區域52b。因此，兩個像素區域(41、42)可射出使該3原色光以任意比例混合而得之任意顏色之光。因此，有機EL裝置92可於第1面3與第2面4之雙方之側之顯示區域100顯示(形成)彩色圖像。
再者，以下記載中，例如於記作第1子像素區域51(r、g、b)之情形時，設為於第1像素區域41表示如圖3(b)所示包含之上述3種子像素區域。
圖6係有機EL裝置92之電路構成圖。該圖6係相當於上述之第1實施形態中之圖4之圖，後述之圖7係相當於第1實施形態中之圖5之圖。如上所述，有機EL裝置92係與第1實施形態之有機EL裝置91共用使用目的等。除不進行黑白顯示而進行彩色顯示之方面以外構成亦類似。由此，對該圖6及圖7中共用之構成要素附上相同符號並省略一部分說明之記載。
有機EL裝置92於俯視下被區分為顯示區域100及包圍該顯示區域之周圍之周邊區域。周邊區域中形成有掃描線驅動電路120、信號線驅動電路130、及使該兩個驅動電路實現同步之同步信號線140。顯示區域100中形成有於X方向延伸之複數個掃描線103、於Y方向延伸之複數個信號線104、及相同地於Y方向延伸之複數個電源線106。而且，於顯示區域100內，第1像素31與第2像素32如上述之圖2(a)所示形成為列狀。再者，亦可不如上述般形成為列狀而形成為鋸齒狀。又，該圖6為電路圖，因此未圖示透明區域43(參照圖2)之方面亦與上述之有機EL裝置91相同。
有機EL裝置92以對應於上述之像素區域與子像素區域之關係之方式，以3種子像素構成像素(31、32)。即，第1像素31以第1紅色子像素33r、第1綠色子像素33g及第1藍色子像素33b之3種子像素構成。相同地，第2像素32亦以第2紅色子像素34r、第2綠色子像素34g及第2藍色子像素34b之3種子像素構成。該各符號中所包含之各小寫字母之字母，表示自與各子像素(33、34)對應之上述各子像素區域(51、52)射出之發光之顏色。其他構成要素(後述之彩色濾光器等)亦相同。
各子像素(33、34)藉由後述之彩色濾光器75(r、g、b)與共振器構造，使發光功能層15內所產生之白色光成為紅色光、綠色光、藍色光之3原色光之任一光且自各子像素區域(51、52)射出。再者，「各子像素(33、34)」係上述之6種子像素之總稱，「各子像素區域(51、52)」係上述之6種子像素區域之總稱。
如圖示般，上述之共計6種子像素(33、34)形成於X方向由信號線104與電源線106所規定且Y方向由掃描線103所規定之每個方形區劃中。而且，各個子像素(33、34)包括有機EL元件29、開關用TFT108、保持電容110及驅動用TFT112。而且，與第1實施形態之有機EL裝置91之各像素(31、32)相同地，經由驅動用TFT112而自電源線106於有機EL元件29中流過驅動電流，該有機EL元件根據驅動電流之大小而發光。因此，可針對各個有機EL元件29而任意地控制發光量。其結果，於顯示區域100內形成彩色圖像。
圖7係有機EL裝置92之顯示區域100之模式剖面圖。如圖示般有機EL裝置92之顯示區域100包含自第1面3射出第1顯示光5之第1像素區域41、自第2面4射出第2顯示光6之第2像素區域42及透明區域43之共計3種區域。而且，如上述般，第1像素區域41與第2像素區域42進而包含3種子像素區域。而且，各子像素區域(51、52)之各自於俯視下與子像素(33、34)一一對應。
即，第1紅色子像素33r對應於第1紅色子像素區域51r，第1綠色子像素33g對應於第1綠色子像素區域51g，第1藍色子像素33b對應於第1藍色子像素區域51b。相同地，第2紅色子像素34r對應於第2紅色子像素區域52r，第2綠色子像素34g對應於第2綠色子像素區域52g，第2藍色子像素34b對應於第2藍色子像素區域52b。
如上述般，各子像素(33、34)具有與有機EL裝置91之「像素」相同之構成。即，由(驅動用)TFT112、有機EL元件29、省略圖示之開關用TFT108、及保持電容110等構成。因此，與第1實施形態之有機EL裝置91相同地，藉由控制對構成有機EL元件29之一對電極間所印加之電壓而可射出任意量之光。再者，有機EL元件29本來為一對電極(陰極19與像素電極(35、36))與發光功能層15之積層體，但該圖中方便起見亦包含反射層(13、14)或者半透過反射層12在內而示為有機EL元件29。又，該圖中省略覆蓋第1反射層13之保護層28(參照圖5)之圖示。
有機EL裝置92之各像素電極(35、36)亦由3種子像素電極構成。即，第1像素電極35由第1紅色子像素電極37r、第1綠色子像素電極37g、及第1藍色子像素電極37b構成，第2像素電極36由第2紅色子像素電極38r、第2綠色子像素電極38g及第2藍色子像素電極38b構成。
有機EL裝置92之發光功能層15與第1實施形態之有機EL裝置91之發光功能層15相同地為包括發出白色光之有機EL層之白色發光功能層。而且，有機EL裝置92係自該白色光強調特定波長範圍之光而使該白色光成為有色光後射出，從而可進行彩色顯示。因此，與有機EL裝置91相比於以下方面不同。
首先，形成有與各個子像素(33、34)對應之彩色濾光器75(r、g、b)。其次，陰極19係由具有半透過性即大致50%之光透過性之材料層形成。而且，其次，第2子像素34(r、g、b)中之第2子像素電極38(r、g、b)與元件基板10之間形成有具有半透過性之材料層即半透過反射層12。該半透過層(陰極19或者半透過反射層12)係藉由與反射層(13、14)組合而構成共振器構造。有機EL裝置92係藉由該共振器構造與彩色濾光器75(r、g、b)之功能而獲得上述之各發光色。
首先，對自第2面4射出之光進行說明。第2子像素34(r、g、b)如上述般於第2子像素電極38(r、g、b)與層間絕緣層71之間具有半透過反射層12，且於陰極19之上層具有第2反射層14。而且，第2子像素電極38(r、g、b)與元件基板10之間具有彩色濾光器75(r、g、b)。再者，半透過反射層12包含層厚大致10 nm之Al或者Mg‧Ag合金。
發光功能層15之發光中之大致一半朝向對向基板11側，且於第2反射層14中反射後朝向元件基板10側。又，剩餘之大致一半之光直接朝向元件基板10側。而且，朝向該元件基板10側之光之大致50%透過半透過反射層12、及後述之彩色濾光器75而自第2面4射出。剩餘之大致50%之光於半透過反射層12反射後朝向對向基板11側。然後於第2反射層14反射後再次朝向半透過反射層12側。發光功能層15中發出之光於半透過反射層12與第2反射層14之間反覆反射之現象為共振，其結果，由半透過反射層12與第2反射層14之間之距離所規定之特定波長範圍之光被強調。
上述之半透過反射層12與第2反射層14之間之距離為共振長度。有機EL裝置92中，使第2像素電極36之厚度即ITO層之厚度針對每個第2子像素電極38(r、g、b)而變化，藉此形成與各第2子像素34(r、g、b)之射出光之波長一致之共振長度。因此，透過半透過反射層12之光於第2紅色子像素34r中強調紅色光，於第2綠色子像素34g中強調綠色光，於第2藍色子像素34b中強調藍色光。
彩色濾光器75為有色透明之樹脂層，其可使特定波長範圍之光與其他波長範圍之光相比以較高之比率透過，藉此具有強調該特定波長範圍之光而使色純度提高之功能。具體而言，紅色濾光器75r具有使相當於紅色光之波長範圍之光以較高之比率透過之功能，綠色濾光器75g具有使相當於綠色光之波長範圍之光以較高之比率透過之功能，藍色濾光器75b具有使相當於藍色光之波長範圍之光以較高之比率透過之功能。以上述之共振器構造強調特定波長範圍之光而得之光藉由該彩色濾光器而成為色純度得以提高之光且自第2面4射出。
藉由上述之共振器構造與該彩色濾光器而使第2子像素34(r、g、b)可射出3原色光之任一者之波長範圍之光。因此，具有該子像素之第2像素32可使3原色光以任意比率混合而得之任意顏色(色度)之光作為第2顯示光6自第2面4射出。因此有機EL裝置92可於第2面4側形成彩色圖像。
其次，對自第1面3射出之光進行說明。第1子像素33(r、g、b)係於第1子像素電極37(r、g、b)與層間絕緣層71之間(隔著未圖示之保護層)具有第1反射層13。而且如上述般，陰極19由具有半透過性之材料層形成。因此，第1反射層13與陰極19之間形成有共振器構造。該共振器構造之共振長度係與第2像素32之共振長度相同地，被設定為與各第1子像素33(r、g、b)之射出光之波長一致之厚度。再者，陰極19之形成材料係與半透過反射層12相同地，可使用層厚為大致10 nm之Al或者Mg‧Ag合金。
而且，於第1像素區域41之對向基板11之密封層79側形成有濾色層76。再者，濾色層76包含與各發光色對應之彩色濾光器75(r、g、b)、對相鄰之該彩色濾光器之間進行遮光之黑矩陣75k、及保護該彩色濾光器之外塗層77。藉由上述之共振器構造而強調特定波長範圍之光而得之光，藉由該濾色層而成為色純度得以提高之光(有色光)。因此，藉由上述之共振器構造與濾色層76，構成第1像素31之3種第1子像素33(r、g、b)可使3原色光之任一者作為第1顯示光5而自第1面3側射出。因此有機EL裝置92可於第1面3形成彩色圖像。
如以上所述，有機EL裝置92可於雙面即第1面3與第2面4之兩個面形成彩色圖像。又，透明區域43係與第1實施形態之有機EL裝置91之該區域相同地可使外部光7之一部分透過。因此，於將本實施形態之有機EL裝置92用於會議等中之情形時，面對面之二個人可一面經由該有機EL裝置相互看到對方一面看各自所需之彩色圖像。
再者，上述之半透過層之使光透過之比率並不限定於大致50%。亦可更依賴於藉由彩色濾光器75(r、g、b)而提高色純度，藉此可使半透過層之透過率增大。
本實施形態之有機EL裝置92於如下方面亦與上述之第1實施形態之有機EL裝置91相同，即必需抑制顯示光(5、6)向相反側射出，即必需抑制於第1像素區域41中光向下表面4側射出及於第2像素區域42中光向上表面3側射出。又，必需抑制外部光7之反射之方面亦相同。有機EL裝置92於濾色層76具有黑矩陣75k，因此第1像素區域41中可抑制該現象，但第2像素區域42中會成為問題。
為抑制該現象，較佳為與有機EL裝置91相同地形成為俯視下像素電極(35、36)包含於反射層(13、14)內。又間隔壁之形成同樣亦係抑制上述現象而有效之方法。藉由將俯視下包含像素電極(35、36)之包含遮光性之絕緣性材料之間隔壁形成於像素電極(35、36)與發光功能層15之間，可抑制發光功能層15之發光向不理想之側射出及反射外部光7之雙方。又，亦可於雙方之基板(10、11)之背面即密封層79側之相反側之面的特定區域形成遮光層。若於第1像素區域41之元件基板10之背面形成遮光層，且於第2像素區域42之對向基板11之背面形成遮光層，則可抑制外部光7之反射而提高顯示品質。
(本實施形態之效果)
本實施形態之有機EL裝置92具有使發光(顯示光)向第1面3側射出之第1像素31、及使發光(顯示光)向第2面4側射出之第2像素32。藉由將該2種像素形成於顯示區域100內，可於兩個面形成於各不相同之圖像。上述之兩個像素係共用像素電極(35、36)、以TFT112為代表之驅動用元件、及發光功能層15等構成要素。因此，本實施形態之有機EL裝置92係於先前之(普通之)可進行彩色顯示之有機EL裝置新追加有半透過層(12或19之任一者)、彩色濾光器75(r、g、b)及反射層(13、14)而構成。即，可藉由該構成要素之追加而自第1面3與第2面4之兩個面射出顯示光且形成各不相同之圖像。又，本實施形態之有機EL裝置92具有透明區域43，因此可經由該有機EL裝置而相互看到對方。因此，於會議等中使用有機EL裝置92之情形時，複數個人可一面看著共用之彩色圖像及對方之兩者一面進行對話。
於此，將(亦包含透明區域43在內)2台(2)有機EL裝置加以貼合而亦可獲得上述之效果。然而，該構成之裝置中必需使發光功能層15等構成要素均形成有2組，從而於成本方面存在問題。本實施形態之有機EL裝置92於追加很少步驟便可獲得上述效果之方面具有特徵。再者，形成於顯示區域100內之3種區域(41、42，43)之面積比並不限定於1：1：1而可任意地設定之方面與第1實施形態之有機EL裝置91相同。但是，第1像素區域41與第2像素區域42之子像素區域之比受到限定。亦可不具有透明區域43之構成之方面，亦與第1實施形態之有機EL裝置91相同。
(第3實施形態)
繼而，對本發明之第3實施形態進行說明。第3實施形態之有機EL裝置93係與上述各實施形態之有機EL裝置相同之雙面顯示型之有機EL裝置。具有透明區域43之方面為共用之方面。不同之處在於如下方面：於一方之面(一方之側)顯示彩色圖像，於另一方之面(另一方之側)顯示黑白圖像。因此，有機EL裝置91與有機EL裝置92之雙方共用使用目的及型態，且構成亦類似。由此，以下記載中，對與上述各有機EL裝置(91、92)之構成要素共用之構成要素附上相同符號並省略一部分說明之記載。
圖3(c)係表示有機EL裝置93之顯示區域100內之像素區域之配置型態之圖。如圖示般，使顯示光向第1面3(參照後述之圖9)側射出之第1像素區域41由3種第1子像素區域51(r、g、b)構成。另一方面，使顯示光向第2面4(參照後述之圖9)側射出之第2像素區域42不具有子像素區域，而與上述3種第1子像素區域51對應之區域分別成為第2像素區域42。而且，第1像素區域41與第2像素區域42之間形成有使外部光之至少一部分透過之透明區域43。與上述各實施形態之有機EL裝置(91、92)相同地，相鄰之各子像素區域(r、g、b)之間、及各區域(41、42，43)之間可使外部光7(參照圖9等)透過。
圖8係第3實施形態之有機EL裝置93之電路構成圖。該圖8係相當於上述第1實施形態中之圖4之圖，且與該圖4相同地省略透明區域43(參照圖2)之圖示。如圖示般，第1像素31包含第1紅色子像素33r、第1綠色子像素33g及第1藍色子像素33b。於與上述圖3(c)對應之情形時，第1紅色子像素33r對應於第1紅色子像素區域51r，第1綠色子像素33g對應於第1綠色子像素區域51g，第1藍色子像素33b對應於第1藍色子像素區域51b。而且，第2像素32分別對應於在行方向配置成一列之3個第2像素區域42。
上述之各第1子像素33(r、g、b)及第2像素32之雙方包括有機EL元件29、TFT112、保持電容110及開關用TFT108。因此，第1子像素33(r、g、b)與第2像素32具有大致相同之構成。與上述之有機EL裝置91及有機EL裝置92相同地，上述各像素(31、32)及上述各第1子像素33(r、g、b)配置成列狀。即，於Y方向配置有相同之像素(31、32)及相同之第1子像素33(r、g、b)。
圖9係第3實施形態之有機EL裝置93之顯示區域100之模式剖面圖。如圖示般，剖面構成即與基板面垂直之方向之構成，亦與圖5所示之有機EL裝置91及圖7所示之有機EL裝置92之構成類似。即，於形成有第1子像素33(r、g、b)之第1像素區域41形成有濾色層76。而且，於形成有第2像素32之第2像素區域42之陰極19之上層形成有第2反射層14。第1像素區域41與第2像素區域42之間成為經由元件基板10及對向基板11而可透過外部光7之透明區域43。
第1子像素33(r、g、b)之像素電極、即第1子像素電極37(r、g、b)之厚度(層厚)各不相同，於第1反射層13與具有半透過性之陰極19之間形成有共振器構造。再者，與上述之有機EL裝置92相同地，組合各第1子像素電極37(r、g、b)而得者成為第1像素電極35。子像素被個別地控制，自各個第1像素區域41射出以任意比率混合而得之光。因此，於第1面3側形成有彩色圖像。
第2像素32係與有機EL裝置91之該第2像素相同地不具有濾色層76及共振器構造。因此，不具有對特定波長範圍之光進行強調之功能，使發光功能層15之發光於波長分佈幾乎無變化之狀態下作為第2顯示光6自第2面4側射出。
第1像素電極35及第2像素電極36之雙方均由ITO形成。而且，第1藍色子像素電極37b與第2像素電極36係使相同之ITO層圖案化而形成。因此，層厚大致相同。然而，第2像素32於發光功能層15與元件基板10之間不具有半透過層，因此第2反射層14與元件基板10之間未形成有共振器構造。因此，第2像素32中不會對相當於藍色光之波長範圍之光進行強調。因此，於第2面4側形成黑白圖像。
本實施形態之有機EL裝置93中，較佳為亦與上述之各實施形態之有機EL裝置(91、92)相同地抑制顯示光(5、6)向相反側射出及反射外部光7。因此，與上述之各實施形態之有機EL裝置(91、92)相同，較佳為如下：形成為俯視下像素電極(35、36)包含於反射層(13、14)內，且將俯視下包圍像素電極(35、36)之包含遮光性之絕緣性材料之間隔壁形成於像素電極(35、36)與發光功能層15之間，進而於雙方之基板(10、11)之背面即密封層79側之相反側之面的特定區域形成有遮光層。
(本實施形態之效果)
如以上所述，本實施形態之有機EL裝置93可於一方之面(第1面3)形成彩色圖像，且於另一方之面(第2面4)形成與上述之彩色圖像不同之內容之黑白圖像。而且可藉由透明區域43而經由該有機EL裝置看到相反側。因此，與上述之各實施形態之有機EL裝置(91、92)相同地，於會議等中使用有機EL裝置93之情形時，複數個人可一面看著共用之圖像與對方之兩者一面進行對話。
於此，第1像素區域41之剖面構成，與使用發出普通之白色光之有機EL層(即具有該有機EL層之發光功能層)僅於一方之面進行彩色圖像之顯示的有機EL裝置大致相同。而且，僅以於該有機EL裝置之另一方之區域即第2像素區域42新形成第2反射層14便可亦於另一方之面顯示(形成)黑白圖像。
雙面顯示型之有機EL裝置中，亦會存在僅一方之面能夠顯示彩色圖像便足夠之情形。例如於會議等中使用之情形時係僅於客戶側顯示彩色圖像之情形。本實施形態之有機EL裝置93增加最小限度之步驟即增加最小限度之製造成本便可實現該僅於一方之面顯示彩色圖像之雙面顯示型之有機EL裝置。
(第4實施形態)
繼而，對本發明之第4實施形態進行說明。第4實施形態之有機EL裝置94與上述之第3實施形態之有機EL裝置93相同地係於一方之面顯示(形成)彩色圖像、且於另一方之面顯示黑白圖像之雙面顯示型之有機EL裝置。有機EL裝置93具有透明區域43之方面亦為共用，構成亦類似。由此，以下記載中對與有機EL裝置93之構成要素共用之構成要素附上相同符號並省略一部分說明之記載。
圖3(d)係表示有機EL裝置94之顯示區域100內之像素區域之配置型態之圖。如圖示般，使顯示光向第1面3(參照後述之圖11)側射出之區域即第1像素區域41，與有機EL裝置93之該區域相同地由3種第1子像素區域51(r、g、b)構成。而且，於隔著透明區域43而與第1像素區域41對向之位置(區域)，形成有1個使顯示光向第2面4(參照後述之圖11)側射出之區域即第2像素區域42。
圖10係第4實施形態之有機EL裝置94之電路構成圖。該圖10係相當於上述第1實施形態之圖4之圖。該圖10為電路圖，因此與圖4相同地未圖示上述之透明區域43。如圖示般，第1像素31之構成與有機EL裝置92及有機EL裝置93之該像素之構成相同而包含3個子像素。第2像素32之構成亦與有機EL裝置93之該像素之構成相同而不具有子像素。於將構成第1像素31之第1子像素33(r、g、b)之各個設定為1個像素之情形時，用以在第1面3顯示圖像之像素之個數與用以在第2面4顯示圖像之像素之個數之比不為1：1而為3：1。顯示區域100內之各像素(31、32)等之配置、及第2像素32之構成亦與有機EL裝置93之該配置及構成類似。即，第1像素31與第2像素32、且構成第1像素31之各第1子像素33(r、g、b)形成為上述圖2(a)所示之列狀。
圖11係第4實施形態之有機EL裝置94之顯示區域100之模式剖面圖。如圖示般，第1像素區域41之剖面構成與透明區域43之剖面構成係與圖9所示之有機EL裝置93之該剖面構成相同。形成於第2像素區域42中之第2像素32亦為有機EL元件29、TFT112及未圖示之保持電容等之組合的方面與有機EL裝置93之第2像素32共用。但是，與其他實施形態之第2像素32相比，第2像素電極36形成得稍大些。因此，可確保第1像素區域41與第2像素區域42之比不為上述像素之個數之比3：1而為3：2左右。藉由該構成，本實施形態之有機EL裝置94於第1面3顯示彩色圖像，且於第2面4顯示與上述彩色圖像相比像素密度較低之黑白圖像。
本實施形態之有機EL裝置94中，較佳為亦與上述之各實施形態之有機EL裝置(91、92、93)相同地，抑制顯示光(5、6)向相反側射出及反射外部光7。因此，如下方面亦與上述之各實施形態之有機EL裝置(91、92、93)相同地，即較佳為如下：形成為俯視下像素電極(35、36)包含於反射層(13、14)內，且將俯視下包圍像素電極(35、36)之包含遮光性之絕緣性材料之間隔壁形成於像素電極(35、36)與發光功能層15之間，進而於雙方之基板(10、11)之背面即密封層79側之相反側之面的特定區域形成有遮光層。
(本實施形態之效果)
如以上所述，本實施形態之有機EL裝置94與第3實施形態之有機EL裝置93相同地，實現僅於一方之面顯示彩色圖像且於另一方之面顯示黑白圖像之雙面顯示型之有機EL裝置。如上所述，該構成之有機EL裝置可藉由在普通之僅於一方之面顯示彩色圖像之有機EL裝置追加若干成本而實現。而且，本實施形態之有機EL裝置94係以顯示品質之稍微降低為代價而以更低之成本實現黑白圖像之顯示。因此，適於在顯示於一方之面(第1面3)之圖像與顯示於另一方之面(第2面4)之圖像之間允許進一步之顯示品質之差的情形，從而既可進一步抑制製造成本之增加又可實現雙面顯示型之有機EL裝置。
本發明之實施形態並不限定於上述實施形態，亦可追加各種變更及改良。以下說明變形例。
(變形例1)
上述各實施形態中，發光功能層中所包含之有機EL層係射出白色光之有機EL層。藉由在每個子像素強調白色光中所包含之光中之特定波長範圍之光而進行彩色圖像之顯示。然而，作為本發明之實施形態，亦可為使有機EL層結合於各子像素所射出之顯示光之顏色而個別地形成之構成。若為該構成，則可省去彩色濾光器或者共振器構造。再者，該個別之有機EL層可以噴墨法或者遮罩成膜法形成。
(變形例2)
上述(除第1實施形態以外)之各實施形態之有機EL裝置為強調特定波長範圍之光而併用彩色濾光器與共振器構造。然而，亦可以彩色濾光器與共振器構造中之任一者進行上述之強調。而且，亦可於第1像素31與第2像素32中改變構成。尤其於元件基板10側形成彩色濾光器會導致成本上升，因此若使光向第2面4側射出之第2像素32為僅以共振器構造取出有色光之構造，則可以顯示品質之稍微降低為代價而削減製造成本。
(變形例3)
上述之各實施形態中，有機EL裝置91~94係作為主動矩陣型者來進行說明，但亦為由掃描電極與資料電極夾持發光功能層之被動(單純)矩陣型。即便為該構成，亦可藉由將反射層(13、14)形成於發光功能層15之兩側而使用單一發光功能層進行雙面顯示。
3．．．作為第1面之上表面
4．．．作為第2面之下表面
5．．．第1顯示光
6．．．第2顯示光
7．．．外部光
10．．．元件基板
11．．．對向基板
12．．．半透過反射層
13．．．作為反射層之第1反射層
14．．．作為反射層之第2反射層
15．．．發光功能層
19．．．作為共用電極之陰極
21．．．半導體層
22．．．通道區域
23．．．閘極電極
25．．．源極區域
26．．．汲極區域
27．．．接觸孔
28．．．保護層
29．．．有機EL元件
31．．．第1像素
32．．．第2像素
33．．．第1子像素
33b．．．第1藍色子像素
33g．．．第1綠色子像素
33r．．．第1紅色子像素
34．．．第2子像素
34b．．．第2藍色子像素
34g．．．第2綠色子像素
34r．．．第2紅色子像素
35．．．第1像素電極
36．．．第2像素電極
37．．．第1子像素電極
37b．．．第1藍色子像素電極
37g．．．第1綠色子像素電極
37r．．．第1紅色子像素電極
38．．．第2子像素電極
38b．．．第2藍色子像素電極
38g．．．第2綠色子像素電極
38r．．．第2紅色子像素電極
41．．．第1像素區域
42．．．第2像素區域
43．．．透明區域
51．．．第1子像素區域
51b．．．第1藍色子像素區域
51g．．．第1綠色子像素區域
51r．．．第1紅色子像素區域
52．．．第2子像素區域
52b．．．第2藍色子像素區域
52g．．．第2綠色子像素區域
52r．．．第2紅色子像素區域
70．．．閘極絕緣層
71．．．層間絕緣層
75b．．．藍色濾光器
75g．．．綠色濾光器
75k．．．黑矩陣
75r．．．紅色濾光器
76．．．濾色層
77．．．外塗層
79．．．密封層
80．．．眼
91．．．作為第1實施形態之顯示裝置之有機EL裝置
92．．．作為第2實施形態之顯示裝置之有機EL裝置
93．．．作為第3實施形態之顯示裝置之有機EL裝置
94．．．作為第4實施形態之顯示裝置之有機EL裝置
100．．．顯示區域
103．．．掃描線
104．．．信號線
106．．．電容線
108．．．開關用TFT
110．．．保持電容
112．．．驅動用TFT
120．．．掃描線驅動電路
130．．．信號線驅動電路
140．．．同步信號線
圖1係表示第1實施形態之有機EL裝置之概要之立體圖；
圖2(a)、(b)係表示有機EL裝置之顯示區域內之各區域之配置型態之圖；
圖3(a)-(d)係表示顯示區域內中之像素區域之配置之圖；
圖4係第1實施形態之有機EL裝置之電路構成圖；
圖5係第1實施形態之有機EL裝置之顯示區域之模式剖面圖；
圖6係第2實施形態之有機EL裝置之電路構成圖；
圖7係第2實施形態之有機EL裝置之顯示區域之模式剖面圖；
圖8係第3實施形態之有機EL裝置之電路構成圖；
圖9係第3實施形態之有機EL裝置之顯示區域之模式剖面圖；
圖10係第4實施形態之有機EL裝置之電路構成圖；及
圖11係第4實施形態之有機EL裝置之顯示區域之模式剖面圖。
3．．．作為第1面之上表面
4．．．作為第2面之下表面
5．．．第1顯示光
6．．．第2顯示光
7．．．外部光
10．．．元件基板
11．．．對向基板
12．．．半透過反射層
13．．．作為反射層之第1反射層
14．．．作為反射層之第2反射層
15．．．發光功能層
19．．．作為共用電極之陰極
29．．．有機EL元件
31．．．第1像素
32．．．第2像素
33b．．．第1藍色子像素
33g．．．第1綠色子像素
33r．．．第1紅色子像素
34b．．．第2藍色子像素
34g．．．第2綠色子像素
34r．．．第2紅色子像素
35．．．第1像素電極
36．．．第2像素電極
37b．．．第1藍色子像素電極
37g．．．第1綠色子像素電極
37r．．．第1紅色子像素電極
38b．．．第2藍色子像素電極
38g．．．第2綠色子像素電極
38r．．．第2紅色子像素電極
41．．．第1像素區域
42．．．第2像素區域
43．．．透明區域
51b．．．第1藍色子像素區域
51g．．．第1綠色子像素區域
51r．．．第1紅色子像素區域
52b．．．第2藍色子像素區域
52g．．．第2綠色子像素區域
52r．．．第2紅色子像素區域
70．．．閘極絕緣層
71．．．層間絕緣層
75b．．．藍色濾光器
75g．．．綠色濾光器
75k．．．黑矩陣
75r．．．紅色濾光器
76．．．濾色層
77．．．外塗層
79．．．密封層
92．．．作為第2實施形態之顯示裝置之有機EL裝置
112．．．驅動用TFT

Claims (9)

  1. 一種顯示裝置，其特徵在於：其係包括第1基板、第2基板、及複數發光元件者，上述複數發光元件係在上述第1基板與上述第2基板之間包含發光功能層；且該顯示裝置包含：包括第1發光元件之第1像素區域，其將使自上述發光功能層發出之光向上述第1基板側射出；及包括第2發光元件之第2像素區域，其將使自上述發光功能層發出之光向上述第2基板側射出；在上述第1像素區域，於上述第2基板側設有第1反射層；在上述第2像素區域，於上述第1基板側設有第2反射層；於俯視下，在上述第1像素區域與上述第2像素區域之間，設有可經由上述第1基板及上述第2基板透過光之透明區域。
  2. 如請求項1之顯示裝置，其中於上述第1像素區域，設有彩色濾光器；且於上述第2像素區域，未設有彩色濾光器。
  3. 如請求項1或2之顯示裝置，其中上述第1發光元件包括：第1像素電極及與上述第1像素電極對向地設置之共用電極；上述第2發光元件包括：第2像素電極及上述共用電極。
  4. 如請求項1或2之顯示裝置，其中 上述第1發光元件係電性連接於第1驅動元件；上述第2發光元件係電性連接於第2驅動元件。
  5. 如請求項3之顯示裝置，其中，於上述透明區域，未形成有上述第1像素電極及上述第2像素電極。
  6. 如請求項1或2之顯示裝置，其中於上述第1像素區域，包括：上述第1發光元件、第3發光元件、及第4發光元件；於上述第2像素區域，包括：上述第2發光元件、第5發光元件、及第6發光元件。
  7. 如請求項1或2之顯示裝置，其中於上述第1像素區域，設有半透過反射層；且於上述半透過反射層與上述第1反射層之間形成有使特定波長範圍之光共振之光共振器構造。
  8. 如請求項1或2之顯示裝置，其中，上述第1像素區域與上述第2像素區域之至少一者配置為鋸齒狀。
  9. 如請求項1或2之顯示裝置，其中上述第1像素區域與上述第2像素區域之至少一者配置為列狀。
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