TWI522741B - 光敏樹脂組合物和使用該光敏樹脂組合物的擋光層 - Google Patents
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- 239000011342 resin composition Substances 0.000 title claims description 64
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 title description 19
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 107
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 71
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 59
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 59
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 57
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 51
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 32
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 21
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 18
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 17
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 17
- 239000003999 initiator Substances 0.000 claims description 14
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 claims description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 11
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims description 9
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 claims description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 8
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 7
- 239000007858 starting material Substances 0.000 claims description 7
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 claims description 6
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 claims description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 4
- 239000007870 radical polymerization initiator Substances 0.000 claims description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 4
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 claims description 3
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000006539 C12 alkyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910005965 SO 2 Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 claims description 3
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 claims description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 claims description 3
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 claims description 3
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 claims description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N prop-2-enylbenzene Chemical compound C=CCC1=CC=CC=C1 HJWLCRVIBGQPNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl prop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C=C DPBJAVGHACCNRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000006159 dianhydride group Chemical group 0.000 claims description 2
- AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N ethenoxymethylbenzene Chemical compound C=COCC1=CC=CC=C1 AZDCYKCDXXPQIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybutyl prop-2-enoate Chemical compound CCC(O)COC(=O)C=C NJRHMGPRPPEGQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 claims 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims 1
- -1 azide compound Chemical class 0.000 description 52
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 30
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 25
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 14
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical compound C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Natural products CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 9
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 9
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M benzyl(triethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC[N+](CC)(CC)CC1=CC=CC=C1 HTZCNXWZYVXIMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 239000007822 coupling agent Substances 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- 229940022663 acetate Drugs 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 5
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 5
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N N-methylformamide Chemical compound CNC=O ATHHXGZTWNVVOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N desyl alcohol Natural products C=1C=CC=CC=1C(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 ISAOCJYIOMOJEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 4
- CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N heptan-2-one Chemical compound CCCCCC(C)=O CATSNJVOTSVZJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 4
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 description 3
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Natural products CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N Acetophenone Natural products CC(=O)C1=CC=CC=C1 KWOLFJPFCHCOCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 3
- 244000028419 Styrax benzoin Species 0.000 description 3
- 235000000126 Styrax benzoin Nutrition 0.000 description 3
- 235000008411 Sumatra benzointree Nutrition 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane triacrylate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CC)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C DAKWPKUUDNSNPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N ac1mqpva Chemical compound CC12C(=O)OC(=O)C1(C)C1(C)C2(C)C(=O)OC1=O GTDPSWPPOUPBNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960002130 benzoin Drugs 0.000 description 3
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 3
- 235000019382 gum benzoic Nutrition 0.000 description 3
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002978 peroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 3
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000007261 regionalization Effects 0.000 description 3
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCCOCC(C)OC(C)=O DMFAHCVITRDZQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOC(=O)C=C LEJBBGNFPAFPKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 2-Oxohexane Chemical compound CCCCC(C)=O QQZOPKMRPOGIEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-prop-2-enoyloxyethoxy)ethoxy]ethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C=C INQDDHNZXOAFFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-enoyloxyethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCOC(=O)C=C KUDUQBURMYMBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Bis(dimethylamino)benzophenone Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 VVBLNCFGVYUYGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 6-[3-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperidin-1-yl]-3-oxopropyl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C1CCN(CC1)C(CCC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1)=O DEXFNLNNUZKHNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 6-prop-2-enoyloxyhexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCCCCCCOC(=O)C=C FIHBHSQYSYVZQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N Ethyl pyruvate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=O XXRCUYVCPSWGCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N N-methylacetamide Chemical compound CNC(C)=O OHLUUHNLEMFGTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N [3-prop-2-enoyloxy-2-[[3-prop-2-enoyloxy-2,2-bis(prop-2-enoyloxymethyl)propoxy]methyl]-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COCC(COC(=O)C=C)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C MPIAGWXWVAHQBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 2
- RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N anisole Chemical compound COC1=CC=CC=C1 RDOXTESZEPMUJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1C(O)=O GCAIEATUVJFSMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N benzyl acetate Chemical compound CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 QUKGYYKBILRGFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N butyl acetate Chemical compound CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 150000007942 carboxylates Chemical class 0.000 description 2
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N diphenyl Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl benzoate Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=CC=C1 MTZQAGJQAFMTAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N fluorene Chemical compound C1=CC=C2C3=C[CH]C=CC3=CC2=C1 RMBPEFMHABBEKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical class [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid Chemical compound CC(C)C(O)=O KQNPFQTWMSNSAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 2
- BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N methyl isobutyrate Chemical compound COC(=O)C(C)C BHIWKHZACMWKOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N nonan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCO ZWRUINPWMLAQRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N o-biphenylenemethane Natural products C1=CC=C2CC3=CC=CC=C3C2=C1 NIHNNTQXNPWCJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N pentan-2-one Chemical compound CCCC(C)=O XNLICIUVMPYHGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003504 photosensitizing agent Substances 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N tert‐butyl hydroperoxide Chemical compound CC(C)(C)OO CIHOLLKRGTVIJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N (2-methoxy-3-methylphenyl)-(3-methylphenyl)methanone Chemical compound COC1=C(C)C=CC=C1C(=O)C1=CC=CC(C)=C1 FJKOQFIGFHTRRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N (2-methylpropan-2-yl)oxy benzenecarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOOC(=O)C1=CC=CC=C1 QEQBMZQFDDDTPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBZXHOSXGAGXNJ-UHFFFAOYSA-N (2-phenylbenzoyl) 2-phenylbenzoate Chemical compound C=1C=CC=C(C=2C=CC=CC=2)C=1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 FBZXHOSXGAGXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQJCRHHNABKAKU-NOSXKOESSA-N (4r,4ar,7r,7ar,12bs)-3-methyl-2,4,4a,7,7a,13-hexahydro-1h-4,12-methanobenzofuro[3,2-e]isoquinoline-7,9-diol Chemical compound O([C@H]1[C@@H](C=C[C@H]23)O)C4=C5[C@@]12CCN(C)[C@@H]3CC5=CC=C4O BQJCRHHNABKAKU-NOSXKOESSA-N 0.000 description 1
- WBODDOZXDKQEFS-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4-tetramethyl-5-phenylbenzene Chemical group CC1=C(C)C(C)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C WBODDOZXDKQEFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-trimethylphenanthrene Chemical compound CC1=CC=C2C3=CC(C)=CC=C3C=CC2=C1C MYWOJODOMFBVCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dimethylhydrazine Chemical compound CNNC DIIIISSCIXVANO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 1,2-diphenyl-2-propan-2-yloxyethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC(C)C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MSAHTMIQULFMRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RFDIBSNFDIXDCJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[2-[(2-methylpropan-2-yl)oxy]propan-2-yl]benzene Chemical compound CC(C)(C)OC(C)(C)C1=CC=CC(C(C)(C)OC(C)(C)C)=C1 RFDIBSNFDIXDCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 1,8-dibromooctane Chemical compound BrCCCCCCCCBr DKEGCUDAFWNSSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 1-(1-hydroperoxycyclohexyl)peroxycyclohexan-1-ol Chemical compound C1CCCCC1(O)OOC1(OO)CCCCC1 UICXTANXZJJIBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 1-(4-chlorophenyl)ethanone Chemical compound CC(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 BUZYGTVTZYSBCU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 1-(4-phenylsulfanylphenyl)butan-1-one Chemical compound C1=CC(C(=O)CCC)=CC=C1SC1=CC=CC=C1 PYKHTOHGCVJJMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2,2-trichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)(Cl)Cl)C=C1 IMDHDEPPVWETOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-tert-butylphenyl)-2,2-dichloroethanone Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C(=O)C(Cl)Cl)C=C1 VMCRQYHCDSXNLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DREPONDJUKIQLX-UHFFFAOYSA-N 1-[ethenyl(ethoxy)phosphoryl]oxyethane Chemical compound CCOP(=O)(C=C)OCC DREPONDJUKIQLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-dichlorophosphoryloxybenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1OP(Cl)(Cl)=O VLDPXPPHXDGHEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 1-hexoxyhexane Chemical compound CCCCCCOCCCCCC BPIUIOXAFBGMNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylthioxanthen-9-one Chemical compound S1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2C(C)C YIKSHDNOAYSSPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 2,4-di(propan-2-yl)thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C(C)C)=CC(C(C)C)=C3SC2=C1 BRKORVYTKKLNKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 2,4-diethylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(CC)=CC(CC)=C3SC2=C1 BTJPUDCSZVCXFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 2,5-bis(tert-butylperoxy)-2,5-dimethylhexane Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)CCC(C)(C)OOC(C)(C)C DMWVYCCGCQPJEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZAOMUMJENGCKAR-UHFFFAOYSA-N 2-(1-phenylbut-3-en-2-yloxy)but-3-enylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1CC(C=C)OC(C=C)CC1=CC=CC=C1 ZAOMUMJENGCKAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWGWLGJQIOHFBJ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylidenebutanoyl)butanedioic acid Chemical compound CCC(=C)C(=O)C(CC(O)=O)C(O)=O ZWGWLGJQIOHFBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-ylperoxy)propan-2-ylbenzene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(C)(C)OOC(C)(C)C1=CC=CC=C1 XMNIXWIUMCBBBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLYHOBWTMJVPGB-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=C(OC)C(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 RLYHOBWTMJVPGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKZHGKPUNXHWGB-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxynaphthalen-1-yl)-4,6-bis(2,2,2-trichloroethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)CC1=NC(=NC(=N1)CC(Cl)(Cl)Cl)C1=CC=C(C2=CC=CC=C12)OC OKZHGKPUNXHWGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 2-(4-methoxyphenyl)-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 QRHHZFRCJDAUNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 2-(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC=NC=N1 QTUVQQKHBMGYEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methoxy-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-4-methoxy-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound COC(C)(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)(C)OC PFHOSZAOXCYAGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-cyano-4-methylpentan-2-yl)diazenyl]-2,4-dimethylpentanenitrile Chemical compound CC(C)CC(C)(C#N)N=NC(C)(C#N)CC(C)C WYGWHHGCAGTUCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[2-(2-methylprop-2-enoyloxy)ethoxy]ethoxy]ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCOCCOCCOC(=O)C(C)=C HWSSEYVMGDIFMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(trimethoxymethyl)dodecoxymethyl]oxirane Chemical compound C(C1CO1)OCCCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC MFAWEYJGIGIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OC(=O)C=C.OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO FDSUVTROAWLVJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 2-butoxy-1-(2-butoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCCCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCCCC AAXRSWGYLGOFQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 2-chlorothioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(Cl)=CC=C3SC2=C1 ZCDADJXRUCOCJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OCC)C(=O)C1=CC=CC=C1 KMNCBSZOIQAUFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxy-1-(2-ethoxyphenyl)ethanone Chemical compound CCOCC(=O)C1=CC=CC=C1OCC MRDMGGOYEBRLPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroperoxy-2-(2-hydroperoxybutan-2-ylperoxy)butane Chemical compound CCC(C)(OO)OOC(C)(CC)OO WFUGQJXVXHBTEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical compound CC(C)(O)C(=O)C1=CC=CC=C1 XMLYCEVDHLAQEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1,2-diphenylethanone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 BQZJOQXSCSZQPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl prop-2-enoate Chemical compound COCCOC(=O)C=C HFCUBKYHMMPGBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 2-methoxypropanoate Chemical compound COC(C)C([O-])=O ICPWFHKNYYRBSZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MCDJZKPTBCWNSJ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(2-methylpropylsulfinyl)propane Chemical compound CC(C)CS(=O)CC(C)C MCDJZKPTBCWNSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YRRAEYCMWVQGAG-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-(4-methylsulfanylphenyl)-2-phenylpropan-1-one Chemical compound C1=CC(SC)=CC=C1C(=O)C(C)(C)C1=CC=CC=C1 YRRAEYCMWVQGAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DYDWFNLGKFGCMS-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutanoic acid;propane-1,2-diol Chemical compound CC(O)CO.CCC(C)C(O)=O DYDWFNLGKFGCMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 2-methylthioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC(C)=CC=C3SC2=C1 MYISVPVWAQRUTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 2-oxooctanal Chemical compound CCCCCCC(=O)C=O MWDGNKGKLOBESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenoxyethanol Chemical compound OCCOC1=CC=CC=C1 QCDWFXQBSFUVSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 HAZQZUFYRLFOLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 2-phenylpropan-2-yl 2,2-dimethyloctaneperoxoate Chemical compound CCCCCCC(C)(C)C(=O)OOC(C)(C)c1ccccc1 NUIZZJWNNGJSGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDVAGTPYBDSNLM-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-1-yl-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound ClC(Cl)(Cl)C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(N2CCCCC2)=N1 SDVAGTPYBDSNLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 3-(2,3-dimethoxyphenyl)prop-2-enal Chemical compound COC1=CC=CC(C=CC=O)=C1OC FRIBMENBGGCKPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-azobis(4-cyanopentanoic acid) Chemical compound OC(=O)CCC(C)(C#N)N=NC(C)(CCC(O)=O)C#N VFXXTYGQYWRHJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 4,4'-dichlorobenzophenone Chemical compound C1=CC(Cl)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(Cl)C=C1 OKISUZLXOYGIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-1,1,1-trifluorobutane Chemical compound FC(F)(F)CCCBr DBCAQXHNJOFNGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 4-bromo-2-fluoro-6-nitrophenol Chemical compound OC1=C(F)C=C(Br)C=C1[N+]([O-])=O ACQVEWFMUBXEMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 4415-87-6 Chemical compound O=C1OC(=O)C2C1C1C(=O)OC(=O)C12 YGYCECQIOXZODZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 5-(1,3-dioxo-2-benzofuran-5-carbonyl)-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1=C2C(=O)OC(=O)C2=CC(C(C=2C=C3C(=O)OC(=O)C3=CC=2)=O)=C1 VQVIHDPBMFABCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 6-(2-methylprop-2-enoyloxy)hexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCCCCCOC(=O)C(C)=C SAPGBCWOQLHKKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWHLYPDWHHPVAA-UHFFFAOYSA-N 6-hydroxyhexanoic acid Chemical compound OCCCCCC(O)=O IWHLYPDWHHPVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N Acetaldehyde Chemical compound CC=O IKHGUXGNUITLKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N Acetamidine Chemical compound CC(N)=N OQLZINXFSUDMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N Bis(2-chloroethyl)ether Chemical compound ClCCOCCCl ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JZHKIUBMQMDQRG-UHFFFAOYSA-N C(=C)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C(=C)C(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC JZHKIUBMQMDQRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZTUEENQDHWONC-UHFFFAOYSA-N C(=C)CCCCCCCCCC(OCC)(OCC)OCC Chemical compound C(=C)CCCCCCCCCC(OCC)(OCC)OCC SZTUEENQDHWONC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VPLKXGORNUYFBO-UHFFFAOYSA-N C1(CC2C(CC1)O2)CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC Chemical compound C1(CC2C(CC1)O2)CCC(C(OC)(OC)OC)CCCCCCCC VPLKXGORNUYFBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N Carbazole Natural products C1=CC=C2C3=CC=CC=C3NC2=C1 UJOBWOGCFQCDNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N Diisoamyl ether Chemical compound CC(C)CCOCCC(C)C AQZGPSLYZOOYQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N Glycidol Chemical compound OCC1CO1 CTKINSOISVBQLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M N,N,N-Trimethylmethanaminium chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)C OKIZCWYLBDKLSU-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZXIVVZWRXMEIRH-UHFFFAOYSA-N N1C(=CC2=CC=CC=C12)OC1=C(C(=O)O)C=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CC)=O)=O Chemical compound N1C(=CC2=CC=CC=C12)OC1=C(C(=O)O)C=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CC)=O)=O ZXIVVZWRXMEIRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIKNWNAJAVXLSQ-UHFFFAOYSA-N N1C(=CC2=CC=CC=C12)OC1=C(C(=O)O)C=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CCCCCC)=O)=O Chemical compound N1C(=CC2=CC=CC=C12)OC1=C(C(=O)O)C=CC=C1.C1(=CC=CC=C1)SC1=CC=C(C=C1)C(C(CCCCCC)=O)=O DIKNWNAJAVXLSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJZHEAKRAPUGGV-UHFFFAOYSA-N P(=O)(OC1OC1)(O)O.C=CC.C=CC.C=CC Chemical compound P(=O)(OC1OC1)(O)O.C=CC.C=CC.C=CC CJZHEAKRAPUGGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N PYRUVIC-ACID Natural products CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBNJSZYFWVVQBO-UHFFFAOYSA-N SOOS Chemical class SOOS DBNJSZYFWVVQBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N [2-(hydroxymethyl)-3-prop-2-enoyloxy-2-(prop-2-enoyloxymethyl)propyl] prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC(CO)(COC(=O)C=C)COC(=O)C=C HVVWZTWDBSEWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N [3-(3-sulfanylpropanoyloxy)-2,2-bis(3-sulfanylpropanoyloxymethyl)propyl] 3-sulfanylpropanoate Chemical compound SCCC(=O)OCC(COC(=O)CCS)(COC(=O)CCS)COC(=O)CCS JOBBTVPTPXRUBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N abcn Chemical compound C1CCCCC1(C#N)N=NC1(C#N)CCCCC1 KYIKRXIYLAGAKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000004840 adhesive resin Substances 0.000 description 1
- 229920006223 adhesive resin Polymers 0.000 description 1
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L adipate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)CCCCC([O-])=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001540 azides Chemical class 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- ZNRTVHASLDGVBC-UHFFFAOYSA-N benzhydryl benzoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OC(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ZNRTVHASLDGVBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229940007550 benzyl acetate Drugs 0.000 description 1
- GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N benzyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1=CC=CC=C1 GCTPMLUUWLLESL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N bis[4-(methylamino)phenyl]methanone Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(NC)C=C1 HXTBYXIZCDULQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N butyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCCCOC(=O)COC IWPATTDMSUYMJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L caesium carbonate Chemical compound [Cs+].[Cs+].[O-]C([O-])=O FJDQFPXHSGXQBY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000024 caesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N chelidonic acid Natural products OC(=O)C1=CC(=O)C=C(C(O)=O)O1 PBAYDYUZOSNJGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 1
- IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M copper phthalocyaninesulfonic acid, dioctadecyldimethylammonium salt Chemical compound [Cu+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)CCCCCCCCCCCCCCCCCC.C=1C(S(=O)(=O)[O-])=CC=C(C(=NC2=NC(C3=CC=CC=C32)=N2)[N-]3)C=1C3=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 IPHJYJHJDIGARM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M ctk4f8481 Chemical compound [O-]O.CC(C)C1=CC=CC=C1C(C)C SPTHWAJJMLCAQF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N cyanuric chloride Chemical compound ClC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 MGNCLNQXLYJVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000392 cycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 description 1
- MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N dibenzyl ether Chemical compound C=1C=CC=CC=1COCC1=CC=CC=C1 MHDVGSVTJDSBDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N diethyl oxalate Chemical compound CCOC(=O)C(=O)OCC WYACBZDAHNBPPB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IRECAYDEBUSTTP-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanone;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 IRECAYDEBUSTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)OCC WNIHNYUROPJCLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxy-2-methylpropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)(C)O GFUIDHWFLMPAGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxyacetate Chemical compound CCOC(=O)CO ZANNOFHADGWOLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)OC WHRLOJCOIKOQGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OCC BHXIWUJLHYHGSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-methoxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)CCOC IJUHLFUALMUWOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N ethyl 3-oxopropanoate Chemical compound CCOC(=O)CC=O SYFFHRPDTQNMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANFZRGMDGDYNGA-UHFFFAOYSA-N ethyl acetate;propan-2-ol Chemical compound CC(C)O.CCOC(C)=O ANFZRGMDGDYNGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 229940117360 ethyl pyruvate Drugs 0.000 description 1
- STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol dimethacrylate Substances CC(=C)C(=O)OCCOC(=O)C(C)=C STVZJERGLQHEKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 125000003983 fluorenyl group Chemical group C1(=CC=CC=2C3=CC=CC=C3CC12)* 0.000 description 1
- 125000005567 fluorenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 125000005549 heteroarylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004366 heterocycloalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005638 hydrazono group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002432 hydroperoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004356 hydroxy functional group Chemical group O* 0.000 description 1
- 150000002466 imines Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid ethyl ester Natural products CCOC(=O)C(C)C WDAXFOBOLVPGLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000468 ketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 150000003903 lactic acid esters Chemical class 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N methoxybenzene Substances CCCCOC=C UZKWTJUDCOPSNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OC PPFNAOBWGRMDLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N methyl 2-ethoxypropanoate Chemical compound CCOC(C)C(=O)OC YVWPDYFVVMNWDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate Chemical compound COC(=O)C(O)C(C)C YSGBMDFJWFIEDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methoxy-2-methylpropanoate Chemical compound COC(=O)C(C)(C)OC AKWHOGIYEOZALP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N methyl 3-ethoxypropanoate Chemical compound CCOCCC(=O)OC HSDFKDZBJMDHFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N methyl 3-methoxypropanoate Chemical compound COCCC(=O)OC BDJSOPWXYLFTNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGADEVQOWQDDFX-UHFFFAOYSA-N methyl 3-oxopropanoate Chemical compound COC(=O)CC=O AGADEVQOWQDDFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N methyl pyruvate Chemical compound COC(=O)C(C)=O CWKLZLBVOJRSOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N monoethyl carbonate Chemical compound CCOC(O)=O CQDGTJPVBWZJAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N n-benzyl-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)CC1=CC=CC=C1 ZWRDBWDXRLPESY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N naphthalenetetracarboxylic dianhydride Chemical compound C1=CC(C(=O)OC2=O)=C3C2=CC=C2C(=O)OC(=O)C1=C32 YTVNOVQHSGMMOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNPKAOCQMDJBIK-UHFFFAOYSA-N nitrocyanamide Chemical compound [O-][N+](=O)NC#N ZNPKAOCQMDJBIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N omega-Hydroxydodecanoic acid Natural products OCCCCCCCCCCCC(O)=O ZDHCZVWCTKTBRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 description 1
- UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N oxolane-2,3,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1OC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O UFOIOXZLTXNHQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N para-benzoquinone Natural products O=C1C=CC(=O)C=C1 AZQWKYJCGOJGHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002467 phosphate group Chemical group [H]OP(=O)(O[H])O[*] 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N phosphonic acid group Chemical group P(O)(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 150000003018 phosphorus compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N prop-2-enoyloxy prop-2-eneperoxoate Chemical compound C=CC(=O)OOOC(=O)C=C KCTAWXVAICEBSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N propan-2-yl propan-2-yloxycarbonyloxy carbonate Chemical compound CC(C)OC(=O)OOC(=O)OC(C)C BWJUFXUULUEGMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N propyl 2-oxopropanoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=O ILPVOWZUBFRIAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOWDZVNRQHPXDO-UHFFFAOYSA-N propyl hydrogen carbonate Chemical compound CCCOC(O)=O FOWDZVNRQHPXDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- MWNQXXOSWHCCOZ-UHFFFAOYSA-L sodium;oxido carbonate Chemical compound [Na+].[O-]OC([O-])=O MWNQXXOSWHCCOZ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 1
- 150000003505 terpenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M tetraethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CC[N+](CC)(CC)CC HWCKGOZZJDHMNC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N tetraethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 1
- YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N thioxanthen-9-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C3=CC=CC=C3SC2=C1 YRHRIQCWCFGUEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 238000009736 wetting Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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Description
本申請案係主張於2013年10月23日在韓國智慧財產權局提申的韓國專利申請號10-2013-0126542的優先權和權益,且藉由引用將其全部內容結合於本文中。
本揭示內容涉及一種包含酚酞基類樹脂(咔唑基樹脂,cardo-based resin)的光敏樹脂組合物和使用該光敏樹脂組合物的擋光層(光阻擋層,light blocking layer)。
液晶顯示裝置包括:下基板,下基板包括含有擋光層的濾色片,且一ITO像素電極係形成在下基板上;有源電路部分,有源電路部分包括液晶層、薄膜電晶體和電容器層;以及上基板,一ITO像素電極係形成在上基板上。擋光層阻擋從基板的透明像素電極透射出的非受控光,並因此防止由於透過薄膜電晶體的光所導致的對比度下降。紅、綠和藍擋光層透射白光中具有預定波長的光並且顯示彩色。通常,藉由顏料分散法製備擋光層。顏料分散法包括:用含
著色劑的光可聚合組合物塗覆透明基板,藉由熱固化曝光以提供圖案,以及用溶劑除去未曝光的部分。然而,當光敏聚醯亞胺或酚類樹脂用作顏料分散法中的黏合劑樹脂時可以獲得高耐熱性,但是感光度降低並且需要有機溶劑作為顯影溶劑。使用疊氮化合物的光阻劑具有低感光度和耐熱性,並且在曝光期間會受到氧的影響。同樣地,丙烯醯基類樹脂具有良好的耐熱性、耐收縮性、耐化學性等,但是具有降低的感光度、可顯影性和緊密接觸特性。由於大量包括黑色顏料以便調節擋光層的光密度,所以會顯著劣化感光度、可顯影性和緊密接觸特性。
本發明的一個實施方式提供了具有優異緊密接觸特性(close contacting properties)和解析度的光敏樹脂組合物。
本發明的另一個實施方式提供了使用該光敏樹脂組合物製造的擋光層。
本發明的一個方面提供了一種光敏樹脂組合物,包括:(A)含有由以下化學式1表示的重複單元的酚酞基類樹脂;(B)反應性不飽和化合物(reactive unsaturated compound);(C)顏料;(D)起始劑;以及(E)溶劑。
[化學式1]
在以上化學式1中,R11和R12獨立地為由以下化學式2-1或2-2表示的取代基,R13和R14獨立地為氫原子、鹵素原子,或取代或未取代的C1至C20烷基,R5是氫原子、或由以下化學式3表示的取代基,Z11是單鍵、O、CO、SO2、CR6R7、SiR8R9(其中,R6至R9獨立地為氫原子、或取代或未取代的C1至C20烷基)、或由以下化學式4-1至4-11表示的一種連接基團,Z12是酸酐殘基(acid anhydride residual group)或酸二酐殘基(acid dianhydride residual group),並且m11和m12獨立地為範圍在0至4的整數。
在以上化學式2-1和2-2中,L1至L3獨立地為單鍵、取代或未取代的C1至C30伸烷基、或取代或未取代的C6至C30伸芳基,R15和R16獨立地為氫原子、或取代或未取代的C1至C12烷基,並且在以上化學式3中,R17是取代或未取代的C1至C30烷基、或取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基。
[化學式4-4]
在以上化學式4-5中,Ra是氫原子、乙基、C2H4Cl、C2H4OH、CH2CH=CH2、或苯基。
[化學式4-9]
以上化學式3可以由選自以下化學式5-1至5-4中的一種表示。
[化學式5-3]
在以上化學式5-1至5-4中,L4至L6獨立地為單鍵、取代或未取代的C1至C30伸烷基、或取代或未取代的C6至C30伸芳基,並且R18至R24獨立地為取代或未取代的C1至C30烷基。
酚酞基類樹脂可以具有約500g/mol至約50,000g/mol的重量平均分子量。
酚酞基類樹脂可以在兩個末端中的至少一個處包括由以下化學式6表示的端基(terminal group)。
在以上化學式6中,Z3是由以下化學式7-1至7-7表示的連接基團。
[化學式7-1]
在以上化學式7-1中,Rb和Rc獨立地為氫原子、取代或未取代的C1至C20烷基、酯基、或醚基。
在以上化學式7-5中,Rd是O、S、NH、取代或未取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基(烷胺基,alkylamine group)、或C2至C20
烯丙胺基。
光敏樹脂組合物可以包含約1wt%至約30wt%的酚酞基類樹脂(A);約1wt%至約40wt%的反應性不飽和化合物(B);約1wt%至約50wt%的顏料(C);約0.01wt%至約10wt%的起始劑(D);以及餘量的溶劑(E)。
光敏樹脂組合物可以進一步包含丙烯醯基類樹脂(丙烯酸基類樹脂,acryl-based resin)。
丙烯醯基類樹脂可以是第一烯鍵式不飽和單體(ethylenic unsaturated monomer)和第二烯鍵式不飽和單體的共聚物,第一烯鍵式不飽和單體包括(甲基)丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸、或其等的組合;第二烯鍵式不飽和單體包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄甲醚、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-
二甲基胺基乙酯、乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、或其等的組合。
丙烯醯基類樹脂可以具有約3,000g/mol至約40,000g/mol的重量平均分子量。
可以以約99:1至約30:70的重量比包括酚酞基類樹脂和丙烯醯基類樹脂。
起始劑可以是光聚合起始劑、自由基聚合起始劑、或其等的組合。
基於100重量份的光敏樹脂組合物,光敏樹脂組合物可以進一步包含約0.01重量份至約20重量份的環氧化合物。
本發明的另一個方面提供了使用光敏樹脂組合物製造的擋光層。
本發明的其他方面包括在以下詳細說明中。
光敏樹脂組合物具有緊密接觸特性和解析度,並且可以有效應用於擋光層等。
在下文中,詳細描述本發明的實施方式。然而,這些實施方式是示例性的,並且本揭示內容並不限於此。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,術語“烷基”是指C1至C20烷基,術語“烯基”是指C2至C20
烯基,術語“環烯基”是指C3至C20環烯基,術語“雜環烯基”是指C3至C20雜環烯基,術語“芳基”是指C6至C20芳基,術語“芳烷基”是指C6至C20芳烷基,術語“伸烷基”是指C1至C20伸烷基,術語“伸芳基”是指C6至C20伸芳基,術語“伸烷基芳基(烷基伸芳基,alkylarylene group)”是指C6至C20伸烷基芳基,術語“伸雜芳基(雜伸芳基,heteroarylene group)”是指C3至C20伸雜芳基,以及術語“伸烷氧基”是指C1至C20伸烷氧基。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,術語“取代的”是指用下述的取代基取代,代替至少一個氫,所述取代基選自鹵素原子(F、Cl、Br或I)、羥基、C1至C20烷氧基、硝基、氰基、胺基、亞胺基、疊氮基、脒基、肼基、亞肼基(肼叉,亞聯胺基,hydrazono group)、羰基、胺基甲醯基、巰基、酯基、醚基、甲矽烷基、羧基或其鹽、磺酸基或其鹽、磷酸基或其鹽如膦酸基等、C1至C20烷基、C2至C20烯基、C2至C20炔基、C6至C20芳基、C3至C20環烷基、C3至C20環烯基、C3至C20環炔基、C2至C20雜環烷基、C2至C20雜環烯基、C2至C20雜環炔基、C3至C20雜芳基、或其等的組合。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,術語“雜”是指在化學式中包括選自N、O、S和P中的至少一個雜原子。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,“(甲基)丙烯酸酯”是指“丙烯酸酯”和“甲基丙烯酸
酯”,並且“(甲基)丙烯酸”是指“丙烯酸”和“甲基丙烯酸”。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,術語“組合”是指混合或共聚。
如在本文中使用的,除非另外提供具體定義,否則氫原子鍵合在其中假定給出但沒有畫出化學鍵的位置處。
如在本文中使用的,當沒有另外提供具體定義時,“*”表示其中相同或不同原子或化學式被連接的點。
根據一個實施方式的光敏樹脂組合物包含(A)酚酞基類樹脂、(B)反應性不飽和化合物、(C)顏料、(D)起始劑、以及(E)溶劑。酚酞基類樹脂包括由以下化學式2-1或2-2表示的取代基,並且還包括由以下化學式5-1至5-4表示的一種或多種取代基,並且從而可以改善對基板的緊密接觸力,以及可以實現優異的解析度。
在下文中,將具體而言描述每種組分。
(A)酚酞基類樹脂
酚酞基類樹脂包括由以下化學式1表示的重複單元。
在以上化學式1中,
R11和R12獨立地為由以下化學式2-1或2-2表示的取代基,R13和R14獨立地為氫原子、鹵素原子、或取代或未取代的C1至C20烷基,R5是氫原子、或由以下化學式3表示的取代基,Z11是單鍵、O、CO、SO2、CR6R7、SiR8R9(其中,R6至R9獨立地為氫原子、或取代或未取代的C1至C20烷基)、或由以下化學式4-1至4-11表示的一種連接基團,Z12是酸酐殘基或酸二酐殘基,並且m11和m12獨立地為範圍在0至4的整數。
在以上化學式2-1和2-2中,L1至L3獨立地為單鍵、取代或未取代的C1至C30伸烷基、或取代或未取代的C6至C30伸芳基,
R15和R16獨立地為氫原子、或取代或未取代的C1至C12烷基,並且在以上化學式3中,R17是取代或未取代的C1至C30烷基、或取代或未取代的(甲基)丙烯酸酯基。
在以上化學式4-5中,Ra是氫原子、乙基、C2H4Cl、C2H4OH、CH2CH=CH2、或苯基。
[化學式4-11]
由以上化學式1表示的重複單元包括在指示為R11和R12的位置處由以上化學式2-1或2-2表示的取代基以及在指示為R5的位置處由以上化學式3表示的取代基,並且因而可以改善光敏樹脂組合物與基板的緊密接觸力,並且因而改善解析度。
以上化學式3可以由選自以下化學式5-1至5-4中的一種表示。
[化學式5-4]
在以上化學式5-1至5-4中,L4至L6獨立地為單鍵、取代或未取代的C1至C30伸烷基、或取代或未取代的C6至C30伸芳基,並且R18至R24獨立地為取代或未取代的C1至C30烷基。
酚酞基類樹脂可以在兩個末端中的至少一個處包括由以下化學式6表示的端基。
在以上化學式6中,Z3是由以下化學式7-1至7-7表示的連接基團。
在以上化學式7-1中,Rb和Rc獨立地為氫原子、取代或未取代的C1至C20烷基、酯基、或醚基。
在以上化學式7-5中,Rd是O、S、NH、取代或未取代的C1至C20伸烷基、C1至C20烷基胺基、或C2至C20烯丙胺基。
可以具體地藉由混合下述中的至少兩種製備酚酞基類
樹脂:含氟化合物,如9,9-雙(4-環氧乙基甲氧基苯基)氟(9,9-bis(4-oxiranyl methoxyphenyl)fluorine)等;酸酐化合物,如苯四羧酸二酐、萘四羧酸二酐、聯苯基四羧酸二酐、二苯甲酮四羧酸二酐、均苯四酸二酐、環丁烷四羧酸二酐、二萘嵌苯四羧酸二酐、四氫呋喃四羧酸二酐、四氫鄰苯二甲酸酐(tetrahydrophthalic anhydride)等;二醇化合物,如乙二醇、丙二醇、聚乙二醇等;醇化合物,如甲醇、乙醇、丙醇、正丁醇、環己醇、苄醇等;溶劑化合物,如丙二醇甲基乙基乙酸酯、N-甲基吡咯啶酮等;磷化合物,如三苯基膦等;以及胺或銨鹽化合物,如氯化四甲銨、溴化四乙銨、苄基二乙胺、三乙胺、三丁胺、苄基三乙基氯化銨等。
酚酞基類樹脂可以具有約500g/mol至約50,000g/mol、例如約1,000g/mol至約30,000g/mol的重量平均分子量。當酚酞基類樹脂具有在此範圍內的重量平均分子量時,可以很好地形成圖案而在擋光層的製備期間不存在殘餘物並且在顯影期間不存在膜厚度損失。
基於光敏樹脂組合物的總量,可以以約1wt%至約30wt%、例如約3wt%至約20wt%的量包括酚酞基類樹脂。當酚酞基類樹脂包括在此範圍內時,可以獲得優異的感光度、可顯影性和緊密接觸特性。
除了酚酞基類樹脂之外,光敏樹脂組合物可以進一步包含丙烯醯基類樹脂。丙烯醯基類樹脂是第一烯鍵式不飽和單體和與第一烯鍵式不飽和單體可共聚的第二烯鍵式不
飽和單體的共聚物,並且是包含至少一個丙烯醯基類重複單元的樹脂。
第一烯鍵式不飽和單體是包括至少一個羧基的烯鍵式不飽和單體。單體的實例包括(甲基)丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸、或其等的組合。
基於丙烯醯基類樹脂的總量,可以以約5wt%至約50wt%、例如約10wt%至約40wt%的量包括第一烯鍵式不飽和單體。
第二烯鍵式不飽和單體可以是芳族乙烯基化合物如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄基甲基醚等;不飽和羧酸酯化合物如(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯等;不飽和羧酸胺基烷基酯化合物如(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲基胺基乙酯等;羧酸乙烯基酯化合物如乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯等;不飽和羧酸縮水甘油酯化合物如(甲基)丙烯酸縮水甘油酯等;乙烯基氰化物如(甲基)丙烯腈等;不飽和醯胺化合物如(甲基)丙烯醯胺等;等,並且可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用。
丙烯醯基類樹脂的具體實例可以是丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯共聚物、甲基丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物、甲基丙烯酸/
甲基丙烯酸苄酯/苯乙烯/甲基丙烯酸-2-羥基乙酯共聚物等,但不限於此。這些可以單獨地或作為兩種或更多種的混合物使用。
丙烯醯基類樹脂可以具有約3,000g/mol至約40,000g/mol、例如約5,000g/mol至約30,000g/mol的重量平均分子量。當丙烯醯基類樹脂具有在此範圍內的重量平均分子量時,光敏樹脂組合物可以具有優異的物理和化學特性以及適當的黏度,保持適當的可顯影性和感光度,並且在製備擋光層期間顯示出優異的與基板的緊密接觸力。
丙烯醯基類樹脂可以具有範圍從約20mgKOH/g至約200mgKOH/g、例如從約50mgKOH/g至約150mgKOH/g的酸值。當丙烯醯基類樹脂具有在此範圍內的酸值時,像素圖案可以維持可顯影性,並且從而具有優異的解析度。
當丙烯醯基類樹脂包括在光敏樹脂組合物中時,可以以範圍從約99:1至約30:70以及例如約95:5至約50:50的重量比使用酚酞基類樹脂和丙烯醯基類樹脂。當酚酞基類樹脂和丙烯醯基類樹脂包括在此重量比範圍內時,可以形成具有優異錐度特性(tapering characteristics)以及維持優異的可顯影性和感光度的擋光層圖案,並且還可以抑制底切。
(B)反應性不飽和化合物
反應性不飽和化合物可以是在光敏樹脂組合物中通常使用的單體或低聚物。其可以是包括至少一個烯鍵式不飽和雙鍵的(甲基)丙烯酸的單官能或多官能酯。
反應性不飽和化合物具有烯鍵式不飽和雙鍵,從而可
以在圖案形成過程中在曝光期間引起充分聚合,並且形成具有優異耐熱性、耐光性和耐化學性的圖案。
反應性不飽和化合物的具體實例可以是二丙烯酸乙二醇酯、二甲基丙烯酸乙二醇酯、二丙烯酸二乙二醇酯、二丙烯酸三乙二醇酯、二甲基丙烯酸三乙二醇酯、二丙烯酸-1,6-己二醇酯、二甲基丙烯酸-1,6-己二醇酯、三丙烯酸季戊四醇酯、四丙烯酸季戊四醇酯、五丙烯酸二季戊四醇酯、六丙烯酸二季戊四醇酯、雙酚A環氧丙烯酸酯、乙二醇單甲醚丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、磷酸三丙烯醯氧乙基酯等。
可光聚合單體的商業可獲得的實例如下。單官能(甲基)丙烯酸酯可以包括Aronix M-101®、M-111®、M-114®(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.);KAYARAD TC-110S®、TC-120S®(NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.);V-158®、V-2311®(OSAKA ORGANIC CHEMICAL IND.,Ltd.)等。雙官能(甲基)丙烯酸酯的實例可以包括Aronix M-210®、M-240®、M-6200®(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.)、KAYARAD HDDA®、HX-220®、R-604®(NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.)、V-260®、V-312®、V-335 HP®(OSAKA ORGANIC CHEMICAL IND.,Ltd.)等。三官能(甲基)丙烯酸酯的實例可以包括Aronix M-309®、M-400®、M-405®、M-450®、M-7100®、M-8030®、M-8060®(TOAGOSEI CHEMICAL INDUSTRY Co.,Ltd.)、KAYARAD TMPTA®、DPCA-20®、DPCA-30®、DPCA-60®、
DPCA-120®(NIPPON KAYAKU Co.,Ltd.)、V-295®、V-300®、V-360®、V-GPT®、V-3PA®、V-400®(Osaka Yuki Kayaku Kogyo Co.Ltd.)等。這些可以單獨地或作為兩種或更多種的混合物使用。
可以用酸酐處理反應性不飽和化合物以改善可顯影性。
基於光敏樹脂組合物的總量,可以以約1wt%至約40wt%、例如約1wt%至約20wt%的量包括反應性不飽和化合物。當在此範圍內包括反應性不飽和化合物時,在圖案形成過程中在曝光期間,反應性不飽和化合物被充分固化並且具有優異的可靠性,從而可以形成具有優異耐熱性、耐光性、和耐化學性,以及還有優異的解析度和緊密接觸特性的圖案。
(C)顏料
顏料可以包括有機顏料和無機顏料。
顏料可以包括紅顏料、綠顏料、藍顏料、黃顏料、黑顏料等。
紅顏料的實例可以是C.I.紅顏料254、C.I.紅顏料255、C.I.紅顏料264、C.I.紅顏料270、C.I.紅顏料272、C.I.紅顏料177、C.I.紅顏料89等。綠顏料的實例可以是鹵素取代的銅酞菁顏料如C.I.綠顏料36、C.I.綠顏料7等。藍顏料的實例可以是銅酞菁顏料如C.I.藍顏料15:6、C.I.藍顏料15、C.I.藍顏料15:1、C.I.藍顏料15:2、C.I.藍顏料15:3、C.I.藍顏料15:4、C.I.藍顏料15:5、C.I.藍顏料16等。黃顏料的實例可以是異
吲哚啉類顏料(isoindoline-based pigment)如C.I.黃顏料139等,喹酞酮類顏料(quinophthalone-based pigment)如C.I.黃顏料138等,鎳複合物顏料(鎳錯合物顏料,nickel complex pigment)如C.I.黃顏料150等。黑顏料的實例可以是苯胺黑、二萘嵌苯黑、鈦黑、炭黑等。顏料可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用,但不限於此。
在這些顏料之中,黑顏料可以用於進行有效的擋光層的光阻擋。黑顏料可以與顏色校準劑(color calibrator)如蒽醌類顏料、二萘嵌苯類顏料、酞菁類顏料、偶氮類顏料等一起使用。
光敏樹脂組合物可以進一步包含分散劑以便改善顏料的分散。具體而言,顏料可以利用分散劑進行表面預處理,或顏料和分散劑可以在製備光敏樹脂組合物的過程中一起加入。
分散劑可以是非離子分散劑、陰離子分散劑、陽離子分散劑等。分散劑的具體實例可以是聚伸烷基二醇及其酯、聚氧化烯、多元醇酯氧化烯加成產物(多元醇酯環氧烷加成產物,polyhydric alcohol ester alkylene oxide addition product)、醇氧化烯加成產物(醇環氧烷加成產物)、磺酸酯、磺酸鹽、羧酸酯、羧酸鹽、烷基醯胺氧化烯加成產物、烷基胺等,並且可以單獨或作為兩種或更多種的混合物使用。
分散劑的商業可獲得的實例可以包括:由BYK Co.,Ltd.製造的DISPERBYK-101、DISPERBYK-130、
DISPERBYK-140、DISPERBYK-160、DISPERBYK-161、DISPERBYK-162、DISPERBYK-163、DISPERBYK-164、DISPERBYK-165、DISPERBYK-166、DISPERBYK-170、DISPERBYK-171、DISPERBYK-182、DISPERBYK-2000、DISPERBYK-2001等;由EFKA Chemicals Co.製造的EFKA-47、EFKA-47EA、EFKA-48、EFKA-49、EFKA-100、EFKA-400、EFKA-450等;由Zeneka Co.製造的Solsperse 5000、Solsperse 12000、Solsperse 13240、Solsperse 13940、Solsperse 17000、Solsperse 20000、Solsperse 24000GR、Solsperse 27000、Solsperse 28000等;或由Ajinomoto Inc.製造的PB711、PB821等。
基於光敏樹脂組合物的總重量,可以以約0.1wt%至約15wt%的量包括分散劑。當在此範圍內包括分散劑時,光敏樹脂組合物具有優異的分散特性,並且因此可以形成具有優異的穩定性、可顯影性以及圖案形成能力的擋光層。
可以使用水溶性無機鹽和潤濕劑對顏料進行預處理。當對顏料進行預處理時,顏料的初級顆粒可以變得更細。
可以藉由將顏料與水溶性無機鹽和潤濕劑一起捏和,然後過濾和洗滌捏和顏料而進行預處理。
可以在範圍從約40℃至約100℃的溫度下進行捏和,並且可以藉由在用水等洗去無機鹽之後過濾顏料而進行過濾和洗滌。
水溶性無機鹽的實例可以是氯化鈉、氯化鉀等,但不限於此。潤濕劑可以使顏料與水溶性無機鹽均勻地混合並
且研磨成粉。潤濕劑的實例包括伸烷基二醇單烷基醚,如乙二醇單乙醚、丙二醇單甲醚、二乙二醇單甲醚等;以及醇,如乙醇、異丙醇、丁醇、己醇、環己醇、乙二醇、二乙二醇、聚乙二醇、甘油聚乙二醇(glycerine polyethylene glycol)等。這些可以單獨地或作為兩種或更多種的混合物使用。
在捏和之後,顏料可以具有範圍從約30nm至約100nm的平均粒徑。當顏料具有在此範圍內的平均粒徑時,可以有效地形成具有優異的耐熱性和耐光性的精細圖案。
基於光敏樹脂組合物的總量,可以以約1wt%至約50wt%並且例如約2wt%至約45wt%的量包括顏料。當在此範圍內包括顏料時,可以獲得具有優異的顏色再現性、固化特性和緊密接觸特性的圖案。
(D)起始劑
起始劑可以是光聚合起始劑、自由基聚合起始劑、或其等的組合。
光聚合起始劑可以是光敏樹脂組合物中通常使用的光聚合起始劑,例如苯乙酮類化合物、二苯甲酮類化合物、噻吨酮類化合物、苯偶姻類化合物、三嗪類化合物、肟類化合物等。
苯乙酮類化合物的實例可以是2,2'-二乙氧基苯乙酮、2,2'-二丁氧基苯乙酮、2-羥基-2-甲基苯丙酮、對叔丁基三氯苯乙酮、對叔丁基二氯苯乙酮、4-氯苯乙酮、2,2'-二氯-4-苯氧基苯乙酮、2-甲基-1-(4-(甲硫基)苯基)-2-啉代丙-1-
酮、2-苄基-2-二甲胺基-1-(4-啉代苯基)-丁-1-酮等。
二苯甲酮類化合物的實例可以是二苯甲酮、苯甲醯基苯甲酸酯、甲基苯甲醯基苯甲酸酯、4-苯基二苯甲酮、羥基二苯甲酮、丙烯酸酯化二苯甲酮(丙烯酸化二苯甲酮)、4,4'-雙(二甲基胺基)二苯甲酮、4,4'-雙(二乙基胺基)二苯甲酮、4,4'-二甲基胺基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、3,3'-二甲基-2-甲氧基二苯甲酮等。
噻吨酮類化合物的實例可以是噻吨酮、2-氯噻吨酮、2-甲基噻吨酮、異丙基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二異丙基噻吨酮等。
苯偶姻類化合物的實例可以是苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻異丙醚、苯偶姻異丁醚、苄基二甲基縮酮等。
三嗪類化合物的實例可以是2,4,6-三氯-s-三嗪、2-苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(3',4'-二甲氧基苯乙烯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4'-甲氧基萘基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲氧基苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(對甲苯基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-聯苯基-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、雙(三氯甲基)-6-苯乙烯基-s-三嗪、2-(萘并-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2-(4-甲氧基萘并-1-基)-4,6-雙(三氯甲基)-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-胡椒基-s-三嗪、2,4-雙(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-s-三嗪等。
肟類化合物的實例可以是O-醯基肟類化合物、2-(O-苯甲醯基肟)-1-[4-(苯硫基)苯基]-1,2-辛二酮、1-(O-乙醯基
肟)-1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲醯基)-9H-咔唑-3-基]乙酮、O-乙氧基羰基-α-氧胺基-1-苯基丙-1-酮等。O-醯基肟類化合物的具體實例可以是1,2-辛二酮、2-二甲胺基-2-(4-甲苄基)-1-(4-啉-4-基-苯基)-丁-1-酮、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛烷-1,2-二酮2-肟-O-苯甲酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-辛-1-酮肟-O-乙酸酯、1-(4-苯基硫烷基苯基)-丁-1-酮肟-O-乙酸酯等。
除了該化合物之外,光聚合起始劑可以進一步包括咔唑類化合物、二酮類化合物、硼酸鋶類化合物、重氮類化合物、咪唑類化合物、聯咪唑類化合物(biimidazole-based compound)等。
自由基聚合起始劑可以是過氧化物類化合物、偶氮雙類化合物(偶氮雙基化合物,azobis-based compound)等。
過氧化物類化合物的實例可以是酮過氧化物類,如過氧化甲乙酮、過氧化甲基異丁酮、過氧化環己酮、過氧化甲基環己酮、過氧化乙醯丙酮等;二醯基過氧化物類,如過氧化異丁醯、2,4-二氯苯甲醯過氧化物、鄰甲基苯甲醯過氧化物、雙-3,5,5-三甲基己醯過氧化物等;氫過氧化物類(hydro peroxides),如2,4,4-三甲基戊基-2-氫過氧化物、二異丙基苯氫過氧化物、枯烯氫過氧化物、叔丁基氫過氧化物等;二烷基過氧化物類,如二枯基過氧化物、2,5-二甲基-2,5-二(叔丁基過氧)己烷、1,3-雙(叔丁氧基異丙基)苯、叔丁基過氧戊酸正丁酯等;烷基過酸酯,如2,4,4-三甲基戊基
過氧苯氧基乙酸酯、α-枯基過氧新癸酸酯、叔丁基過氧苯甲酸酯、二叔丁基過氧三甲基己二酸酯等;過碳酸酯類,如二-3-甲氧基丁基過氧二碳酸酯、二-2-乙基己基過氧二碳酸酯、雙-4-叔丁基環己基過氧二碳酸酯、二異丙基過氧二碳酸酯、乙醯環己基磺醯基過氧化物、叔丁基過氧芳基碳酸酯等。
偶氮雙類化合物的實例可以是1,1'-偶氮雙環己烷-1-腈、2,2'-偶氮雙(2,4-二甲基戊腈)、2,2-偶氮雙(甲基異丁酸酯)、2,2'-偶氮雙(4-甲氧基-2,4-二甲基戊腈)、α,α'-偶氮雙(異丁腈)和4,4'-偶氮雙(4-氰基戊酸)等。
起始劑可以與藉由吸收光並且變得被激發而能夠引起化學反應,然後傳遞其能量的光敏劑一起使用。
光敏劑的實例可以是四乙二醇雙-3-巰基丙酸鹽(酯)、季戊四醇四-3-巰基丙酸鹽(酯)、二季戊四醇四-3-巰基丙酸鹽(酯)等。
基於光敏樹脂組合物的總量,可以以約0.01wt%至約10wt%、例如以約0.1wt%至約5wt%的量包含起始劑。當所包括的起始劑在此範圍內時,由於在圖案形成過程中在曝光期間的充分固化可以確保優異的可靠性,圖案可以具有優異的解析度和緊密接觸特性以及優異的耐熱性、耐光性、以及耐化學性,並且由於非反應起始劑,使得可以防止透光度劣化。
(E)溶劑
溶劑是與酚酞基類樹脂、反應性不飽和化合物、顏料
和起始劑具有相容性而不與其等反應的物質。
溶劑的實例可以包括醇類,如甲醇、乙醇等;醚類,如二氯乙醚、正丁基醚、二異戊醚、甲基苯醚、四氫呋喃等;二醇醚,如乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚等;溶纖劑乙酸酯(乙酸溶纖劑),如甲基溶纖劑乙酸酯、乙基溶纖劑乙酸酯、二乙基溶纖劑乙酸酯等;卡必醇類,如甲基乙基卡必醇、二乙基卡必醇、二乙二醇單甲醚、二乙二醇單乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇甲基乙基醚、二乙二醇二乙醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯類,如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等;芳族烴類,如甲苯、二甲苯等;酮類,如甲乙酮、環己酮、4-羥基-4-甲基-2-戊酮、甲基正丙基酮、甲基正丁基酮、甲基正戊基酮、2-庚酮等;飽和脂肪族單羧酸烷基酯,如乙酸乙酯、乙酸正丁酯、乙酸異丁酯等;乳酸酯類,如乳酸甲酯、乳酸乙酯等;氧乙酸烷基酯類(oxy acetic acid alkyl esters),如氧乙酸甲酯、氧乙酸乙酯、氧乙酸丁酯等;烷氧基乙酸烷基酯,如甲氧基乙酸甲酯、甲氧基乙酸乙酯、甲氧基乙酸丁酯、乙氧基乙酸甲酯、乙氧基乙酸乙酯等;3-氧丙酸烷基酯,如3-氧丙酸甲酯、3-氧丙酸乙酯等;3-烷氧基丙酸烷基酯,如3-甲氧基丙酸甲酯、3-甲氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸乙酯、3-乙氧基丙酸甲酯等;2-氧丙酸烷基酯,如2-氧丙酸甲酯、2-氧丙酸乙酯、2-氧丙酸丙酯等;2-烷氧基丙酸烷基酯,如2-甲氧基丙酸甲酯、2-甲氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸乙酯、2-乙氧基丙酸甲酯等;2-氧基-2-甲基丙酸酯(2-oxy-2-methyl propionic
acid ester),如2-氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-氧基-2-甲基丙酸乙酯等;2-烷氧基-2-甲基丙酸烷基酯的單氧基單羧酸烷基酯,如2-甲氧基-2-甲基丙酸甲酯、2-乙氧基-2-甲基丙酸乙酯等;酯類,如2-羥基丙酸乙酯、2-羥基-2-甲基丙酸乙酯、羥基乙酸乙酯、2-羥基-3-甲基丁酸甲酯等;酮酸酯類,如丙酮酸乙酯等。另外地,還可以使用高沸點溶劑如N-甲基甲醯胺、N,N-二甲基甲醯胺、N-甲基甲醯苯胺、N-甲基乙醯胺、N,N-二甲基乙醯胺、N-甲基吡咯啶酮、二甲亞碸、苄基乙醚、二己醚、乙醯丙酮、異佛爾酮、己酸、辛酸、1-辛醇、1-壬醇、苄醇、乙酸苄酯、苯甲酸乙酯、草酸二乙酯、馬來酸二乙酯、γ-丁內酯、碳酸伸乙酯、碳酸伸丙酯、苯基溶纖劑乙酸酯等。
考慮到互溶性和反應性,可以優選使用二醇醚類,如乙二醇單乙醚等;乙二醇烷基醚乙酸酯類,如乙基溶纖劑乙酸酯等;酯類,如2-羥基丙酸乙酯等;卡必醇類,如二乙二醇單甲醚等;丙二醇烷基醚乙酸酯類,如丙二醇甲醚乙酸酯、丙二醇丙醚乙酸酯等。
基於光敏樹脂組合物的總量,溶劑以餘量並且具體而言以約40wt%至約90wt%使用。當所包括的溶劑在此範圍內時,光敏樹脂組合物可以具有導致改善擋光層的塗覆特性的適當的黏度。
(F)其他添加劑
光敏樹脂組合物可以進一步包含環氧化合物以改善與基板的緊密接觸特性等。
環氧化合物的實例可以包括苯酚酚醛環氧化合物(phenol novolac epoxy compound)、四甲基聯苯基環氧化合物、雙酚A環氧化合物、脂環族環氧化合物、或其等的組合。
基於100重量份的光敏樹脂組合物,可以以約0.01重量份至約20重量份並且例如約0.1重量份至約10重量份的量包含環氧化合物。當所包括的環氧化合物在此範圍內時,可以改善緊密接觸特性、儲存特性等。
此外,光敏樹脂組合物可以進一步包含具有反應性取代基如羧基、甲基丙烯醯基、異氰酸酯基、環氧基等的矽烷偶聯劑,以改善其與基板的黏附性。
矽烷類偶聯劑的實例可以包括三甲氧基甲矽烷基苯甲酸、γ-甲基丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷、乙烯基三乙醯氧基矽烷、乙烯基三甲氧基矽烷、γ-異氰酸酯丙基三乙氧基矽烷、γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷、β-(3,4-環氧環己基)乙基三甲氧基矽烷等。這些可以單獨地或作為兩種或更多種的混合物使用。
基於100重量份的光敏樹脂組合物,可以以約0.01重量份至約10重量份的量包含矽烷偶聯劑。當所包括的矽烷偶聯劑在此範圍內時,緊密接觸特性、儲存特性等可以是優異的。
此外,根據需要,光敏樹脂組合物可以進一步包含界面活性劑以改善塗覆並且防止缺陷。
界面活性劑的實例可以是市售的氟類界面活性劑如
BM-1000®和BM-1100®(BM Chemie Inc.);MEGAFACE F 142D®、F 172®、F 173®以及F 183®(Dainippon Ink Kagaku Kogyo Co.,Ltd.);FULORAD FC-135®、FULORAD FC-170C®、FULORAD FC-430®和FULORAD FC-431®(Sumitomo 3M Co.,Ltd.);SURFLON S-112®、SURFLON S-113®、SURFLON S-131®、SURFLON S-141®和SURFLON S-145®(Asahi Glass Co.,Ltd.);以及SH-28PA®、SH-190®、SH-193®、SZ-6032®和SF-8428®等(Toray Silicone Co.,Ltd.)。
基於100重量份的光敏樹脂組合物,可以以約0.001重量份至約5重量份的量使用界面活性劑。當所包括的界面活性劑在此範圍內時,可以確保玻璃基板上的優異的潤濕以及塗覆均勻性,而不會產生汙跡。
此外,光敏樹脂組合物可以以預定量包含其他添加劑如抗氧化劑、穩定劑等,除非其等會劣化光敏樹脂組合物的性能。
根據本發明的另一個實施方式,提供了使用光敏樹脂組合物製造的擋光層。可以如下製造擋光層。
(1)施用和膜形成
使用旋塗法或狹縫塗覆法、輥塗法、絲網印刷法、塗抹法(applicator method)等,將光敏樹脂組合物塗覆在經過預定預處理的基板上,以具有期望的厚度,例如範圍從約0.5μm至約25μm的厚度。然後,在範圍從約70℃至約110℃的溫度下加熱塗覆的基板約1分鐘至約10分鐘以去除
溶劑。
(2)曝光
在放置具有預定形狀的光罩之後,藉由約190nm至約500nm的活性射線輻照得到的膜以形成期望的圖案。
藉由使用光源如具有低壓、高壓或超高壓的汞燈、金屬鹵化物燈、氬氣雷射器等進行輻照。根據情況,還可以使用X射線、電子束等。
當使用高壓汞燈時,曝光過程使用,例如,約500mJ/cm2或更少的光劑量(用365nm感測器)。然而,光劑量可以根據光敏樹脂組合物的每一種組分的種類、其組合比以及乾膜厚度而變化。
(3)顯影
在曝光過程之後,使用鹼性水溶液以藉由溶解並且去除曝光部分之外的不必要的部分來使曝光的膜顯影,從而形成圖像圖案。
(4)後處理
為了實現耐熱性、耐光性、緊密接觸特性、抗裂性、耐化學性、高強度、儲存穩定性等方面的優異品質,可以再次加熱或藉由活性射線等輻照顯影的圖像圖案用於進行固化。
因此,以上光敏樹脂組合物可以提供具有改善的高緊密接觸力和擋光層需要的解析度的圖案。
在下文中,將參照實施例更詳細地說明本發明。然而,這些實施例在任何情況下都不能解釋為限制本發明的範
圍。
(製備酚酞基類樹脂單體)
製備例1-1
將100g 9,9'-雙(4-縮水甘油氧基苯基)芴(9,9'-bis(4-glycidoxy phenyl)fluorene)(Hear Chem)、96g單-2-乙基丙烯醯琥珀酸、1.4g苄基三乙基氯化銨(Daejung Chmeicals & Metals Co.,Ltd.)、1g三苯基膦(Aldrich Corporation)、196g丙二醇甲基乙基乙酸酯(propylglycolmethylethylacetate)(Daicel Chemical Industries,Ltd.)和0.5g氫醌置於反應器中,並且將混合物加熱至120℃,然後維持12小時,獲得其中(基於溶液的總量)溶解50wt%的由以下化學式8-1表示的化合物的溶液。
製備例1-2
(1)在反應器中將50g 6-羥基己酸(Acros Organics)和39g三乙胺(Aldrich Corporation)溶解在200g二氯甲烷(Daejung Chmeicals & Metals Co.,Ltd.)中,將溶液冷卻至5℃,然後,維持在相同的溫度下,用1小時將35g丙烯醯氯(Aldrich Corporation)緩慢加入其中,並且將獲得的混合物加熱至40℃並且攪拌6小時。將反應溶液冷卻至室
溫,過濾並且除去其中產生的鹽,並且在減壓下蒸餾濾液,合成由以下化學式8-2表示的化合物。
(2)將100g 9,9'-雙(4-縮水甘油氧基苯基)芴(Hear Chem)、83g由以上化學式8-2表示的化合物、1.4g苄基三乙基氯化銨(Daejung Chmeicals & Metals Co.,Ltd.)、1g三苯基膦(Aldrich Corporation)、183g丙二醇甲基乙基乙酸酯(Daicel Chemical Industries,Ltd.)和0.5g氫醌置於反應器中,將混合物加熱至120℃,然後維持12小時,獲得其中(基於溶液的全部量)溶解50wt%的由以下化學式8-3表示的化合物的溶液。
(製備酚酞基類樹脂)
製備例2-1
將100g根據製備例1-1的新型酚酞基類單體溶液、8.22g聯苯二酸酐(biphenyl diacid anhydride)(Mitsubishi Chemical Co.)、以及2.28g四氫鄰苯二甲酸酐(Aldrich
Corporation)置於反應器中,並且將混合物加熱至120℃且攪拌9小時,獲得包括由以下化學式8-4表示的重複單元並且具有5,300g/mol的重量平均分子量的聚合物。
製備例2-2
將100g根據製備例1-2的新型酚酞基類單體溶液、8.22g聯苯二酸酐(Mitsubishi Chemical Co.)、以及2.28g四氫鄰苯二甲酸酐(Aldrich Corporation)置於反應器中,並且將混合物加熱至120℃且攪拌9小時,獲得包括由以下化學式8-5表示的重複單元並且具有5,100g/mol的重量平均分子量的聚合物。
[化學式8-5]
製備例2-3
將100g根據製備例2-1的聚合物溶液、2g丁基縮水甘油醚(Aldrich Corporation)、以及0.2g三苯基膦(Aldrich Corporation)置於反應器中,將混合物加熱至100℃且維持9小時,獲得其中同時存在由以上化學式8-4和以下化學式8-6表示的重複單元的化合物。由化學式8-6表示的化合物的重量平均分子量為5,700g/mol。
[化學式8-6]
製備例2-4
將100g根據製備例2-1的聚合物溶液、2g甲基丙烯酸縮水甘油酯(Aldrich Corporation)、以及0.2g三苯基膦(Aldrich Corporation)置於反應器中,將混合物加熱至100℃且維持9小時,獲得其中同時存在由以上化學式8-4和以下化學式8-7表示的重複單元的化合物。由化學式8-7表示的化合物的重量平均分子量為5,700g/mol。
[化學式8-7]
製備例2-5
將100g根據製備例2-2的聚合物溶液、2g KBE-9007(Shinetsu Chemical Co.,Ltd.)、以及0.2g三苯基膦(Aldrich Corporation)置於反應器中,將混合物加熱至100℃並保持9小時,獲得其中同時存在由以上化學式8-5和以下化學式8-8表示的重複單元的化合物。由化學式8-8表示的化合物的重量平均分子量為6,100g/mol。
[化學式8-8]
製備例2-6
(1)將25g二乙基乙烯基膦酸酯(Aldrich Corporation)、11.3g縮水甘油(Aldrich Corporation)、以及9.9g碳酸銫(Aldrich Corporation)置於反應器中,使混合物在50℃下反應5小時並且冷卻至室溫,將反應溶液加入至200g水中,用300g二氯甲烷(Aldrich Corporation)萃取混合物並且在減壓下蒸餾,並且藉由矽膠管柱處理獲得的溶液,獲得由以下化學式8-9表示的化合物(用於接枝的磷基環氧化合物)。
(2)將100g根據製備例2-2的聚合物溶液、2g由以上化學式8-9表示的化合物、以及0.2g三苯基膦(Aldrich Corporation)置於反應器中,並且將混合物加熱至100℃且
維持9小時,獲得其中同時存在由以上化學式8-5和以下化學式8-10表示的重複單元的化合物。由化學式8-10表示的化合物的重量平均分子量為5,500g/mol。
(製備顏料分散體)
製備例3:黑顏料分散體的製備
將15g炭黑(VULCAN® XC72R,Cabot Creanery Co.)、4g DISPERBYK-163(BYK)、3g丙烯酸/甲基丙烯酸苄酯共聚物(NPR 8000,Miwon Commercial Co.,Ltd.)、以及78g丙二醇甲基乙基乙酸酯(甲基乙基乙酸丙二醇酯,propylene glycol methylethylacetate)置於反應器中,並且藉由使用塗料混合器(paint-shaker)(Asada Iron Works Co.,Ltd.)分散混合物12小時,製備黑顏料分散體。
(製備光敏樹脂組合物)
實施例1至6和比較例1
藉由使用以下表1中的下列組分製備根據實施例1至6和比較例1的各種光敏樹脂組合物以具有該組成。
具體而言,將起始劑溶解在溶劑中,將溶液在室溫下攪拌2小時,在其中加入黏合劑樹脂和反應性不飽和化合物,並且將混合物在室溫下攪拌2小時。隨後,將根據製備例3的黑顏料分散體和矽烷偶聯劑加入反應物中,並且將混合物在室溫下攪拌1小時。隨後,將產物過濾三次以去除其中的雜質,製備光敏樹脂組合物。
(A)黏合劑樹脂
(A-1)使用根據製備例2-1的由化學式8-4表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-2)使用根據製備例2-2的由化學式8-5表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-3)使用根據製備例2-3的由化學式8-6表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-4)使用根據製備例2-4的由化學式8-7表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-5)使用根據製備例2-5的由化學式8-8表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-6)使用根據製備例2-6的由化學式8-10表示的化合物作為酚酞基類樹脂。
(A-7)使用由Nippon Steel Chemical Co.,Ltd.製備的V259ME作為酚酞基類樹脂。
(B)反應性不飽和化合物
使用六丙烯酸二季戊四醇酯。
(C)顏料分散體
使用根據製備例3的黑顏料分散體。在本文中,基於黑顏料分散體的總量,以15wt%的量包括顏料固體。
(D)起始劑
使用由Ciba-Geigy Co.製備的IRGACURE OXE02。
(E)溶劑
使用丙二醇甲醚乙酸酯。
(F)添加劑
使用γ-縮水甘油氧基丙基三甲氧基矽烷(S-510,Chisso Co.)作為矽烷偶聯劑。
評價1:解析度評價
用旋塗機(Opticoat MS-A150,Mikasa Co.,Ltd.),在10cm * 10cm的玻璃上將根據實施例1至6和比較例1的光敏樹脂組合物分別塗覆至1.2μm高,在100℃下在熱板上軟烘烤120秒,並且藉由使用曝光器(HB-50110AA,Ushio Inc.)和光罩光罩用80mJ曝光。隨後,藉由使用顯影劑(SSP-200,SVS Corp.)將塗布的玻璃在0.043wt%的氫氧化鉀(KOH)水溶液中顯影,並且在烘箱中在230℃下硬烘烤30分鐘,獲得圖案化的玻璃試樣。隨後,用光學顯微鏡檢查玻璃試樣中具有大於或等於1.1μm的厚度的圖案的CD(臨界尺寸)以選取達到最細的線寬的樣品,並且將結果提供在以下表2中。
評價2:緊密接觸力
藉由使用旋塗機(Opticoat MS-A150,Mikasa Co.,Ltd.),在10cm * 10cm的玻璃上將根據實施例1至6和比較例1的光敏樹脂組合物分別塗覆至1.2μm高,在100℃下在熱板上軟烘烤130秒,並且藉由使用曝光器(HB-50110 AA,Ushio Inc.)和光罩光罩用40mJ曝光。隨後,藉由使用顯影劑(SSP-200,SVS Corp.)將塗布的玻璃在0.043wt%的氫氧化鉀(KOH)水溶液中顯影,並且在烘箱中在230℃下硬烘烤30分鐘,獲得圖案化的玻璃試樣。將這些試樣切割成2cm * 2cm的尺寸,用安裝夾具(Mount clip)將螺柱銷(Stud pin)固定在切割試樣上,並且在藉由在烘箱中在120℃下將其等加熱30分鐘固定螺柱銷和玻璃試樣之後去
除安裝夾具。藉由使用UTM(Inspekt 10-1,Hegewald & Peschke)評價試樣的緊密接觸力,並且將結果提供在以下表2中。
參照表2,藉由分別使用根據製備例2-1至2-6的酚酞基類樹脂製備的根據實施例1至6的光敏樹脂組合物實現了較細的線寬,因此與根據比較例1的光敏樹脂組合物相比具有較高的緊密接觸力。
雖然已經結合目前被認為是實用的示例性實施方式對本發明進行了描述,但是應當理解,本發明並不限於所揭示的實施方式,而是相反,旨在涵蓋包括在所附申請專利範圍的精神和範圍內的各種改變和等同設置。因此,應當將上述實施方式理解為是示例性的而不以任何方式限制本發明。
Claims (12)
- 一種光敏樹脂組合物,包含:(A)一含有由以下化學式1表示的重複單元的酚酞基(cardo)類樹脂;(B)一反應性不飽和化合物;(C)一顏料;(D)一起始劑;以及(E)一溶劑:
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,以上化學式3由選自以下化學式5-1至5-4中的一種表示:[化學式5-1]
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,所述酚酞基類樹脂具有500g/mol至50,000g/mol的重量平均分子量。
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,所述酚酞基類樹 脂在兩個末端中的至少一個處包括由以下化學式6表示的端基:
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,所述光敏樹脂組合物包含:1wt%至30wt%的所述酚酞基類樹脂(A);1wt%至40wt%的所述反應性不飽和化合物(B);1wt%至50wt%的所述顏料(C);0.01wt%至10wt%的所述起始劑(D);以及餘量的所述溶劑(E)。
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,所述光敏樹脂組合物進一步包含丙烯醯基類樹脂。
- 如請求項6之光敏樹脂組合物,其中,所述丙烯醯基類樹脂是第一烯鍵式不飽和單體和第二烯鍵式不飽和單體的共聚物,所述第一烯鍵式不飽和單體包括(甲基)丙烯酸、馬來酸、衣康酸、富馬酸、或其等的組合;所述第二烯鍵式不飽和單體包括苯乙烯、α-甲基苯乙烯、乙烯基甲苯、乙烯基苄甲醚、(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-羥基丁酯、(甲基)丙烯酸苄酯、(甲基)丙烯酸環己酯、(甲基)丙烯酸苯酯、(甲基)丙烯酸-2-胺基乙酯、(甲基)丙烯酸-2-二甲基胺基乙酯、乙酸乙烯酯、苯甲酸乙烯酯、(甲基)丙烯酸縮水甘油酯、(甲基)丙烯腈、(甲基)丙烯醯胺、或其等的組合。
- 如請求項6之光敏樹脂組合物,其中,所述丙烯醯基類樹脂具有3,000g/mol至40,000g/mol的重量平均分子量。
- 如請求項6之光敏樹脂組合物,其中,以99:1至30:70的重量比包含所述酚酞基類樹脂和所述丙烯醯基類樹脂。
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,所述起始劑包括光聚合起始劑、自由基聚合起始劑、或其等的組合。
- 如請求項1之光敏樹脂組合物,其中,基於100重量份的所述光敏樹脂組合物,所述光敏樹脂組合物進一步包含0.01至20重量份的環氧化合物。
- 一種擋光層,係藉由使用如請求項1之光敏樹脂組合物所製備者。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020130126542A KR101686567B1 (ko) | 2013-10-23 | 2013-10-23 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201516564A TW201516564A (zh) | 2015-05-01 |
TWI522741B true TWI522741B (zh) | 2016-02-21 |
Family
ID=52826475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW103113021A TWI522741B (zh) | 2013-10-23 | 2014-04-09 | 光敏樹脂組合物和使用該光敏樹脂組合物的擋光層 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9164385B2 (zh) |
KR (1) | KR101686567B1 (zh) |
CN (1) | CN104570604B (zh) |
TW (1) | TWI522741B (zh) |
Families Citing this family (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI553410B (zh) * | 2015-10-08 | 2016-10-11 | 新應材股份有限公司 | 組成物、紅外線透過濾光片及其製造方法以及紅外線感測器 |
KR101965279B1 (ko) * | 2016-10-25 | 2019-04-03 | 삼성에스디아이 주식회사 | 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터 |
KR101840347B1 (ko) * | 2016-10-26 | 2018-03-20 | 동우 화인켐 주식회사 | 자발광 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치 |
CN110506235B (zh) * | 2017-03-30 | 2023-11-21 | 东友精细化工有限公司 | 蓝色感光性树脂组合物、利用其制造的滤色器及图像显示装置 |
KR102362443B1 (ko) * | 2017-08-31 | 2022-02-11 | 동우 화인켐 주식회사 | 청색 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 컬러필터 및 화상 표시 장치 |
KR102420415B1 (ko) * | 2017-10-17 | 2022-07-15 | 덕산네오룩스 주식회사 | 부착력 또는 접착성이 향상된 감광성 수지 조성물 및 그것들을 사용한 광 차단 층 |
KR102683008B1 (ko) * | 2019-11-28 | 2024-07-10 | 덕산네오룩스 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 표시장치 |
Family Cites Families (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004043573A (ja) | 2002-07-10 | 2004-02-12 | Sumitomo Chem Co Ltd | 樹脂組成物 |
US8084514B2 (en) * | 2005-05-13 | 2011-12-27 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Materials leading to improved dental composites and dental composites made therefrom |
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KR101486560B1 (ko) * | 2010-12-10 | 2015-01-27 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
KR101466274B1 (ko) * | 2010-12-10 | 2014-12-01 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
KR101400195B1 (ko) | 2010-12-21 | 2014-06-19 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 차광층 |
KR101453769B1 (ko) * | 2010-12-24 | 2014-10-22 | 제일모직 주식회사 | 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러 필터 |
KR20120078495A (ko) | 2010-12-31 | 2012-07-10 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물 |
KR20120078513A (ko) | 2010-12-31 | 2012-07-10 | 코오롱인더스트리 주식회사 | 블랙 매트릭스용 수지 조성물 |
KR101344786B1 (ko) * | 2011-12-02 | 2013-12-26 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
KR20130072954A (ko) * | 2011-12-22 | 2013-07-02 | 제일모직주식회사 | 컬러필터용 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터 |
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-
2013
- 2013-10-23 KR KR1020130126542A patent/KR101686567B1/ko active IP Right Grant
-
2014
- 2014-04-03 US US14/244,113 patent/US9164385B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2014-04-09 TW TW103113021A patent/TWI522741B/zh not_active IP Right Cessation
- 2014-04-11 CN CN201410146184.2A patent/CN104570604B/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201516564A (zh) | 2015-05-01 |
US20150111156A1 (en) | 2015-04-23 |
CN104570604B (zh) | 2019-01-25 |
CN104570604A (zh) | 2015-04-29 |
US9164385B2 (en) | 2015-10-20 |
KR101686567B1 (ko) | 2016-12-14 |
KR20150046933A (ko) | 2015-05-04 |
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