KR20120078513A - 블랙 매트릭스용 수지 조성물 - Google Patents

블랙 매트릭스용 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR20120078513A
KR20120078513A KR1020100140837A KR20100140837A KR20120078513A KR 20120078513 A KR20120078513 A KR 20120078513A KR 1020100140837 A KR1020100140837 A KR 1020100140837A KR 20100140837 A KR20100140837 A KR 20100140837A KR 20120078513 A KR20120078513 A KR 20120078513A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
weight
resin composition
black matrix
monomer
black
Prior art date
Application number
KR1020100140837A
Other languages
English (en)
Inventor
김수강
서영성
한재국
윤경근
Original Assignee
코오롱인더스트리 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 코오롱인더스트리 주식회사 filed Critical 코오롱인더스트리 주식회사
Priority to KR1020100140837A priority Critical patent/KR20120078513A/ko
Publication of KR20120078513A publication Critical patent/KR20120078513A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/13439—Electrodes characterised by their electrical, optical, physical properties; materials therefor; method of making
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1345—Conductors connecting electrodes to cell terminals
    • G02F1/13458—Terminal pads
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209—Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136227—Through-hole connection of the pixel electrode to the active element through an insulation layer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362—Active matrix addressed cells
    • G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005—Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007—Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

본 발명은 블랙 매트릭스 수지 조성물에 관한 것이로, 보다 상세하게는, 안료 분산액, 경화성 바인더 수지, 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머, 계면활성제 및 용매를 포함하여, 롤 프린팅 방식에 적용 가능한 블랙 매트릭스 수지 조성물에 관한 것이다.

Description

블랙 매트릭스용 수지 조성물 {Resin Composition for Black Matrix}
본 발명은 롤 프린팅(Roll Printing) 방식에 적용가능한 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 관한 것이다.
액정 표시장치는 액정분자의 광학적 이방성과 복굴절 특성을 이용하여 화상을 표현하는 것으로, 전계가 인가되면 액정의 배열이 달라지고 달라진 액정의 배열 방향에 따라 빛이 투과되는 특성 또한 달라진다.
일반적으로 액정표시장치는 전계 생성 전극이 각각 형성되어 있는 두 기판을 두 전극이 형성되어 있는 면이 마주 대하도록 배치하고, 두 기판 사이에 액정 물질을 주입한 다음, 두 전극에 전압을 인가하여 생성되는 전기장에 의해 액정 분자를 움직이게 함으로써 이에 따라 달라지는 빛의 투과율에 의해 화상을 표현하는 장치이다.
널리 쓰이고 있는 박막트랜지스터 액정디스플레이(TFT-LCD)의 구조의 일예를 보면, 박막 트랜지스터와 화소 전극이 배열되어 있는 하부 기판, 일명 어레이 기판과; 플라스틱 또는 유리로 된 기판 상부에, 블랙매트릭스와 적, 녹, 청의 삼색의 착색층이 반복되며, 그 위에 컬러필터의 보호와 표면평활성을 유지하기 위해 폴리이미드, 폴리아크릴레이트, 폴리우레탄 등과 같은 재료의 두께 1 내지 3um의 오버코트층(OVERCOAT)과 이 오버코트층 상부에 액정 구동을 위한 전압이 인가되는 ITO(Indium Tin Oxide) 투명전도막층이 형성된 상부 기판, 일명 컬러필터 기판; 그리고 상, 하부 기판 사이에 채워져 있는 액정으로 구성되어 있으며, 두 기판의 양쪽 면에는 가시광선(자연광)을 선편광하여 주는 편광판이 각각 부착되어 있는 구조를 갖는다. 외부의 주변회로에 의해 화소를 이루고 있는 TFT의 게이트에 전압을 인가하여 트랜지스터를 turn-on 상태로 하여 액정에 영상전압이 입력될 수 있는 상태가 되도록 한 후 영상전압을 인가하여 액정에 영상정보를 저장한 뒤 트랜지스터를 turn-off하여 액정 충전기 및 보조 충전기에 저장된 전하가 보존되도록 하여 일정한 시간 동안 영상 이미지를 표시하도록 한다. 액정에 전압을 인가하면 액정의 배열이 변화하게 되는데 이 상태의 액정을 빛이 투과하게 되면 회절이 일어나게 된다. 이 빛을 편광판에 투과시켜 원하는 영상을 얻게 된다.
최근에는 액정 표시 장치의 컬러필터를 상부 기판 즉, 컬러필터 기판이 아닌 하부 기판 즉, 어레이 기판 위에 형성하여 개구율을 높이고 또한 제조 공정을 줄이면서 제조 비용을 감소시키기 위한 노력이 진행 중이다. 이러한 컬러필터를 제조하기위해 염색 방식, 분산 방식, 전착 방식, 인쇄 방식, 젯팅 방식 등을 사용하고 있다. 이러한 컬러필터는 통상적으로 플라스틱 또는 유리로 된 투명기판 상부 면에 블랙 매트릭스를 형성하고, 레드, 그린, 블루 등의 다른 색상이 포토리소그래피(photolithography)법이나 인쇄법, 잉크젯방법 등으로 순차, 스트라이프상 또는 모자이크상 등의 색패턴으로 형성된다.
칼라필터 기판에 있어서 블랙매트릭스는 기판의 투명 화소 전극 이외로 투과되어 제어되지 않는 광을 차단하여 콘트라스트를 향상시키는 역할을 하며, 적, 녹, 청의 착색층은 백색광 중 특정 파장의 빛을 투과시켜 색을 표현할 수 있도록 하며, 투명전도막층은 액정에 전계를 인가하기 위한 공통전극의 역할을 한다.
이러한 블랙매트릭스를 제조하기 위해서는 원하는 모양의 패턴의 모습을 가진 마스크를 이용해 노광 및 현상 과정을 거쳐야 포토리소그래피(Photolithography) 방식을 적용해 제조하여야 한다. 그러나, 포토리소그래피 방식에 제조공정이 지나치게 복잡하고, 공정 중에 버려지는 재료가 많으며, 블랙매트릭스 형성을 위해 수지만이 사용될 수 있으며 특히 대면적으로 진행할수록 노광, 현상 공정상 불리해지는 단점이 있다.
본 발명은 롤 프린팅 방식으로 패턴을 형성할 수 있어, 노광 및 현상 공정을 거치지 않고 고품질의 블랙 매트릭스를 형성할 수 있는 수지 조성물을 제공하고자 한다.
이에 본 발명은 바람직한 제1 구현예로서,
안료 분산액 10 ~ 60 중량%; 경화성 바인더 수지 1 ~ 50 중량%; 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머 1 ~ 30 중량%; 계면활성제 0.4 ~ 10 중량%; 및 용매 10 ~ 60 중량%를 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제공한다.
상기 구현예에 의한 상기 안료분산액은 블랙안료 1 ~ 50 중량%; 아크릴계 또는 카도계 바인더 1 ~ 10 중량%; 분산제 1 ~ 5 중량%; 및 용매 40 ~ 80 중량%를 포함하는 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 경화성 바인더 수지는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 상기 모노머와 공중합 가능한 모노머의 공중합체; 또는 상기 공중합체와 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물과의 고분자 반응에 의하여 제조되는 고분자 화합물인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리 쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 상기 계면활성제는 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 상기 용매는 알킬 알코올계 용매, 알킬 에테르계 용매 및 알킬 케톤계 용매 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 수지 경화막 형성시, 하기 3가지 조건을 만족하는 것일 수 있다.
제1조건: 단위 두께 1.0㎛당 광학밀도(OD)가 3.0이상이고,
제2조건: 수지 조성물의 표면장력 수치가 15 ~ 28mN/m이다.
상기 구현예에 의한 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 아크릴레이트계 바인더 수지를 추가로 포함하는 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 아크릴레이트계 바인더 수지는 카도계 화합물인 것일 수 있다.
상기 구현예에 의한 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 중합개시제, 접착 조제, 보존 안정제 및 내열성 향상제로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 추가로 포함하는 것일 수 있다.
도 1은 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 사용한 롤 프린팅 공정을 나타낸 모식도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예(실시예 2)에 따른 수지 조성물을 롤 프린팅에 적용할 경우 코팅된 사진(a) 및 전사된 사진(b)을 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명의 비교예(비교예 1)에 따른 수지 조성물을 롤 프린팅에 적용할 경우 코팅 사진을 나타낸 것이다.
이하, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은 롤 프린팅 방식에 적용 가능한 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 관한 것으로, 구체적으로는 안료 분산액; 경화성 바인더 수지; 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머; 계면활성제; 및 용매를 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 관한 것이다.
안료 분산액은 수지 조성물 내에 안료가 균일하게 분산되어 존재할 수 있도록 사용하는 것으로 수지 조성물 내에 안료 분산액의 함량은 10 ~ 60 중량%일 수 있다. 안료 분산액의 함량이 10 중량% 미만이면 1미만의 OD가 측정이 되어 black-matrix 기능을 하지 못하며, 60중량%를 초과하면 코팅후 전사 및 패턴성에 불량이 생기는 문제점이 있다.
안료 분산액은 블랙안료 함량이 1~ 50% 이며, 아크릴계 또는 카도계 바인더 1 ~ 10%, 분산제 1 ~ 5% 및 용매 40 ~ 80% 를 함유하는 것일 수 있다. 이때 적용되는 블랙안료는 레드안료 및 블루 안료를 필수 성분으로 하고, 옐로우 안료, 그린 안료 및 바이올렛 안료 중에서 선택된 단독 또는 이들의 혼합물을 사용할수 있고, 카본블랙을 포함한 탄소계안료 단독으로 사용할 수도 있으며, 앞서 열거된 안료들을 혼합하여 사용할 수도 있다.
또한, 안료 분산액에서, 분산제는 변성 폴리우레탄, 변성 폴리아크릴레이트, 변성 폴리에스테르, 변성 폴리아미드 등의 고분자 분산제, 인산 에스테르, 폴리에스테르, 알킬 아민 등의 계면활성제 등을 사용할 수 있다. 이들 중에서도 특히 아크릴레이트계 분산제, 구체적인 일예로는 BYK chemie 사의 Disperbyk-2000, Disperbyk-2001, LP-N-21116, LP-N-21208, Ciba 사의 EFKA-4300, EFKA-4330, EFKA-4340, EFKA-4400, EFKA-4401, EFKA-4402, EFKA-4046 또는 EFKA-4060 등의 안료분산제가 분산안정성, 광학밀도 및 전기적 특성의 안정적인 구현 측면에서 더욱 유리할 수 있다. 용매는 에테르계 용매인 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸글리콜메틸아세테이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 메틸에톡시프로피오네이트, 뷰틸아세테이트, 에틸아세테이트 또는 케톤계 용매인 시클로헥사논, 아세톤, 메틸이소부틸케톤 등일 수 있으며, 이에 한정이 있는 것은 아니다.
경화성 바인더 수지는 수지 조성물이 수지경화막 형성시 경화를 잘 되게 하기 위하여 사용하며, 수지 조성물 내에 경화성 바인더 수지의 함량은 1 ~ 50 중량%일 수 있다. 경화성 바인더 수지의 함량이 1% 미만이면 경화후 기판에 대한 접착력이 떨어지며 50중량%를 초과하면 열 경화후 수축이 일어나, 패턴의 roughness에 문제점이 있다.
경화성 바인더 수지는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 이 모노머와 공중합 가능한 모노머와의 공중합에 의하여 형성된 공중합체를 사용할 수 있다. 상기와 같은 공중합에 의할 경우, 단독 중합에 의하여 제조된 수지보다 필름의 강도를 높일 수 있다.
또한, 상기 공중합체와 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물과의 고분자 반응에 의하여 제조되는 고분자 화합물을 사용할 수도 있다.
상기 산기를 포함하는 모노머의 예로는 (메타)아크릴 산, 크로톤 산, 이타콘 산, 말레인 산, 푸마린 산, 모노메틸 말레인산, 이소프렌 술폰산, 스티렌 술폰산, 5-노보넨-2-카복실산 등이 있으나 이에 제한되는 것은 아니다. 이들은 단독으로 사용될 수도 있고 2종 이상 혼합하여 사용할 수도 있다. 특히 경화막의 특성을 고려할 때 에폭시기를 함유하는 바인더 수지인 것이 바람직할 수 있는데, 이러한 점에서 알칼리 가용성 수지 제조시에 산기를 포함하는 모노머 이외에 에폭시기 함유 모노머를 병용하는 것이 바람직할 수 있다. 에폭시기 함유 모노머의 일예로는 아크릴산 글리시딜, 메타크릴산 글리시딜, α-에틸 아크릴산 글리시딜, α-n-프로필 아크릴산 글리시딜, α-n-부틸 아크릴산 글리시딜, 아크릴산-3,4-에폭시 부틸, 메타크릴산-3,4-에폭시 부틸, 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸, 메타크릴산-6,7-에폭시 헵틸, α-에틸 아크릴산-6,7-에폭시 헵틸, o-비닐 벤질 글리시딜 에테르, m-비닐 벤질 글리시딜 에테르, p-비닐 벤질 글리시딜 에테르 등을 들 수 있으나, 이에 한정이 있는 것은 아니다.
한편, 본 발명에 따른 블랙 매트릭스용 수지 조성물은 경화성 바인더 수지 이외에 아크릴레이트계 바인더 수지를 추가로 포함할 수 있으며, 상기 아크릴레이트계 바인더 수지는 카도계 화합물일 수 있다. 경화성 바인더 수지만을 사용할 경우, 제조된 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 이용하여 두께 2.2㎛ 이상의 차광막 형성함에 있어 다량의 다관능성 모노머를 사용해야 하고, 열경화시 주름이 발생하는 경우가 있을 수 있다. 이러한 점에서 본 발명의 일 구현예에 의한 수지 조성물은 경화성 바인더 수지에 아크릴레이트계 바인더 수지로서, 카도계 화합물 추가로 포함할 수 있다.
카도계 화합물은 이는 주쇄 중 플루오렌기를 함유하는 아크릴레이트계 바인더 수지를 일컫는 것으로 각별히 구조적으로 한정이 있는 것은 아니다.
그 일예로 다음 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다.
[화학식 1]
Figure pat00001
여기서, n은 1 ~ 100의 정수이다.
또한, X는
Figure pat00002
로 표시될 수 있다.
또한 Y는 말레인산 무수물(Maleic anhydride), 숙신산 무수물(Succinic anhydride), 시스-1,2,3,6-테트라하이드로프탈산 무수물(cis-1,2,3,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 3,4,5,6-테트라하이드로프탈산 무수물(3,4,5,6-Tetrahydrophthalic Anhydride), 프탈산 무수물(Phthalic Anhydride), 이타콘산 무수물(Itaconic anhydride), 1,2,4-벤젠트리카복실산 무수물(1,2,4-Benzenetricarboxylic Anhydride), 메틸-테트라하이드로프탈산 무수물(Methyl-Tetrahydrophthalic Anhydride), 시트라콘산 무수물(Citraconic Anhydride), 2,3-디메틸말레인산 무수물(2,3-Dimethylmaleic Anhydride), 1-사이클로펜텐-1,2,-디카복실산 무수물(1-Cyclopentene-1,2-Dicarboxylic anhydride), 시스(5-노보넨-엔도-2,3-디카복실산 무수물(cis-5-Norbonene-endo-2,3-Dicarboxylic Anhydride) 및 1,8-나프탄산 무수물(1,8-Naphthalic Anhydride) 중에서 선택된 산무수물의 잔기일 수 있다. 그리고 Z는 1,2,4,5-벤젠테트라카복실산 이무수물(1,2,4,5-Bezenetetracarboxylic Dianhydride), 4,4'-바이프탈산 이무수물(4,4'-Biphthalic Dianhydride), 3,3',4,4'-벤조페논테트라카복실산 이무수물(3,3',4,4'-Benzophenonetetracarboxylic Dianhydride), 피로멜리트산 이무수물(Pyromelitic Dianhydride), 1,4,5,8-나프탈렌테트라카복실산 이무수물(1,4,5,8-Naphthalenetetracarboxylic Dianhydride), 1,2,4,5-테트라카복실산 무수물(1,2,4,5-Tetracarboxylic Anhydide), 메틸노보넨-2,3-디카복실산 무수물(Methylnorbonene-2,3-Dicarboxylic Anhydride), 4,4'-[2,2,2-트리플로로-1-(트리플로로메틸)에틸리덴]디프탈산 무수물(4,4'-[2,2,2-Trifluoro-1-(Trifluoromethyl)Ethylidene]Diphthalic Anhydride), 4,4'-옥시디프탈산 무수물(4,4`-Oxydiphthalic Anhydride) 및 에틸렌글리콜 비스(안하이드로 트리멜리테이트)(Ethylene Glycol Bis (Anhydro Trimelitate)) 중에서 선택된 산2무수물의 잔기일 수 있다.
상기와 같은 카도계 화합물은 수지 조성물 총 고형분 중량에 대하여 1 내지 40 중량%인 것이 바람직하며, 보다 바람직하게는 20~30중량% 정도이다. 만일, 카도계 화합물로 불소기를 것을 사용하는 경우라면 소수성 구현, 현상성, 코팅성 및 분산 안정성을 고려할 때 바람직하기로는 수지 조성물 총 고형분 중량에 대하여 5 내지 10중량%로 사용할 수 있다.
에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머는 수지 조성물의 코팅성, 전사성 향상을 위해 사용하는 것으로, 수지 조성물 내에 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머의 함량은 코팅성, 전사성, 대기시간을 고려하여, 1 ~ 30 중량%일 수 있으며, 보다 좋기로는 1 내지 12 중량%일 수 있다. 에틸렌성 불포화 이중결합이 투입되는 경우, 경화성 바인더 수지 적용시 생성되는 주름 현상을 방지 할 수 있으며, 패턴의 직진성 역시 우수해지는 특성이 있다.
상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머는, 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리 쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트 및 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트로 이루어진 그룹 중에서 선택되는 1종 또는 2종 이상의 혼합물일 수 있다.
계면활성제는 코팅성 향상을 위해 사용되며, 수지 조성물 내에 계면활성제의 함량은 0.4 ~ 10 중량%일 수 있고, 보다 좋기로는 0.5 ~ 4중량%일 수 있다. 계면활성제 함량이 0.4 중량% 미만이면 코팅성이 저하되는 문제점이 있고, 10중량%를 초과하면 대기시간이 늘어나고, 경화시 백탁현상이 발생하는 문제점이 있다.
이때 사용되는 계면활성제의 종류로는 불소계 계면활성제 및 실리콘계 계면활성제가 바람직하다.
상기 불소계 계면활성제로는 말단, 주쇄 및 측쇄 중 적어도 어느 하나의 부위에 플루오로알킬기 및(또는) 플루오로알킬렌기를 갖는 화합물이 바람직하고, 그 예로는 1,1,2,2-테트라플루오로-n-옥틸(1,1,2,2-테트라플루오로-n-프로필)에테르, 1,1,2,2-테트라플루오로-n-옥틸(n-헥실)에테르, 옥타에틸렌글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로-n-부틸)에테르, 헥사에틸렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로-n-펜틸)에테르, 옥타프로필렌글리콜디(1,1,2,2-테트라플루오로-n-부틸)에테르, 헥사프로필렌글리콜디(1,1,2,2,3,3-헥사플루오로-n-펜틸)에테르, 1,1,2,2,3,3-헥사플루오로-n-데칸, 1,1,2,2,8,8,9,9,10,10-데카플루오로-n-도데칸, 퍼플루오로-n-도데칸술폰산나트륨이나, 플루오로알킬벤젠술폰산나트륨류, 플루오로알킬포스폰산나트륨류, 퍼플루오로알킬알콕실레이트류, 불소계 알킬에스테르 등을 들 수 있다.
또한, 불소계 계면활성제의 시판품으로는, 예를 들면 메가팩 F142D, 동 F172, 동 F173, 동 F178, 동 F183, 동 F191, 동 F471, 동 F476, 동 F482, 동 F486 (이상, 다이닛본 잉크 가가꾸 고교(주)제), 플루오라드 FC-170C, 동 FC-171, 동 FC-430, 동 FC-431 (이상, 스미토모 쓰리엠(주)제), 서플론 S-112, 동 S-113, 동 S-131, 동 S-141, 동 S-145, 동 S-382, 동 SC-101, 동 SC-102, 동 SC-103, 동 SC-104, 동 SC-105, 동 SC-106 (이상, 아사히 글라스(주)제), 에프톱 EF301, 동 EF303, 동 EF352 (이상, 신아끼다 가세이(주)제), 부타젠트 FT-100, 동 FT-110, 동 FT-140A, 동 FT-150, 동 FT-250, 동 FT-251, 동 FT-300, 동 FT-310, 동 FT-400S, 동 FTX-218, 동 FTX-251 (이상, (주)네오스제) 등을 들 수 있다.
상기 실리콘계 계면활성제로는, 예를 들면 도레이 실리콘 DC3PA, 동 DC7PA, 동 SH11PA, 동 SH21PA, 동 SH28PA, 동 SH29PA, 동 SH30PA, 동 SH-190, 동 SH-193, 동 SZ-6032, 동 SF-8428, 동 DC-57, 동 DC-190 (이상, 도레이?다우코닝?실리콘(주)제), TSF-4440, TSF-4300, TSF-4445, TSF-4446, TSF-4460, TSF-4452(이상, GE 도시바 실리콘(주)제) 등의 상품명으로 시판되고 있는 것을 들 수 있다.
또한, 상기 계면활성제는 실예로 든 것뿐으로 이에 한정적인 것은 아니며 이들 계면활성제는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.
용매는 알킬 알코올계 용매, 알킬 에테르계 용매, 알킬 케톤계 용매 및 이들의 혼합물일 수 있으며, 상기 알코올계 용매는 메탄올, 에탄올, 아이소프로필 알코올, 아이소부틸알코올등 일수 있고, 상기 알킬 에테르계 용매는 프로필렌글리콜에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜메틸에테르, 프로필렌글리콜프로필에테르, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 디에틸글리콜메틸아세테이트, 에틸에톡시프로피오네이트, 메틸에톡시프로피오네이트, 뷰틸아세테이트 디메틸포름아미드, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 메틸셀로솔브 및 에틸셀로솔브 등일 수 있고, 상기 알킬 케톤계 용매는 메틸에틸케톤(Methyl Etheyl Ketone, MEK), 시클로헥사논, 아세톤, 메틸이소부틸케톤 등일 수 있다. 상기 용매 함량은 전체 수지 조성물 중 통상 10 내지 60중량% 정도일 수 있다. 용매의 함량이 10 중량% 미만이면 조성물이 빠르게 건조가 되기 때문에 패턴 형성이 불가능 하며 문제점이 있고, 60중량%를 초과하면 코팅성에 문제점이 있다.
또한, 본 발명의 블랙매트릭스용 수지조성물은 추가적으로 중합개시제, 접착 조제, 보존 안정제, 내열성 향상제 중 선택되는 1종 이상의 첨가제를 포함할 수도 있으며, 그 함량은 전체 수지 조성물에 대하여 5 중량% 이하일 수 있으며, 바람직하게는 1~5중량%일 수 있다.
한편, 본 발명에 따른 블랙매트릭스용 수지 조성물은 수지 경화막 형성시, 하기 2가지 조건을 만족하며, 이에 롤 프린팅 방식에 적용가능하다.
제1조건: 단위 두께 1.0㎛당 광학밀도(OD)가 3.0이상이고
제2조건: 수지 조성물의 표면장력 수치가 15 ~ 28mN/m이다.
따라서, 본 발명에 따른 블랙매트릭스용 수지 조성물을 롤 프린팅 방식에 적용하여, 노광 및 현상 공정을 거치지 않고 기판 면적에 관계없이 간단하고 저렴하게 고품질의 블랙 매트릭스를 형성할 수 있다.
또한, 상기 수지 조성물은 칼라필터의 제조에 관해서 적정한 광학밀도 가지며, 롤 방식을 사용하여 패턴을 형성하는 데 있어 유용하다.
도 1은 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 사용한 롤 프린팅 공정을 나타낸 모식도로서, 하기와 같은 코팅 단계(도 1의 (a)), 패턴 형성 단계(도 1의 (b)) 및 전사 단계(도 1의 (c))로 이루어진다.
(1) 코팅 단계
제조된 조액을 롤 프린팅 장비(나래나노텍)를 이용하여 60mm/s 의 속도로 도포한다. 이때 토출량은 1㎛ 의 두께로 도포가 될수 있도록 조절한다.
(2) 패턴 형성 관계
코팅된 조성물을 클리셰(Cliche) 기판에 도포하여 패턴을 형성한다.
(3) 전사 단계
패턴이 형성된 조성물을 글래스 기판에 전사한 후, 열 경화 과정을 거쳐 블랙 매트릭스로 적용한다.
이하, 본 발명을 실시예를 통하여 보다 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.
하기 실시예 및 비교예에서, 각 성분 및 함량은 표 1에 나타난 바와 같다.
안료 분산액은 카본블랙안료를 사용한 분산액을 사용하였으며, 경화성 바인더 수지는 에폭시계 수지, 다관능성 모노머는 아크릴 우레탄계를 사용하였다. 임의 첨가제는 접착조제 및 중합개시제를 0.5 중량%씩 첨가하였다.
실시예 1
안료 분산액 45g, 경화성 바인더 20g, 다관능성 모노머 8g, 계면활성제 1.0g, isobuthylalcohol 25g, 임의 첨가제 1g 의 성분을 갖는 롤 프린팅용 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 준비하였다. 상기 수지 조성물을 롤 프린팅 장비를 사용하여, 블랭킷(blanket) 위에 코팅 후, 30초 대기 후에, 클리셰(cliche) 를 이용하여 패턴을 형성한 후, 글래스(Glass) 위에 전사하였다.
실시예 2~3
표 1에 기재된 바와 같은 용매를 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제조하였다.
비교예 1
표 1에 기재된 바와 같이, 다관능성 모노머와 계면활성제의 조성을 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 블랙 매트릭스용 수지 조성물을 제조하였다.
조성
(단위: g)		 실시예 비교예
1 2 3 1
(a)안료 분산액
(Mikuni 社 BK-103)		 45 45 45 45
(b)경화성 바인더수지
(Kolon BOP-134)		 20 20 20 20
(c) 다관능성 모노머
(네오켐 社
VT-UA-103-20)		 8 8 8 8.8
(d) 계면활성제
(BYK 社 F-482)		 1.0 1.0 1.0 0.2
(e) 용매
(대정화금 社)		 25
(isobutylalcohol)		 25
(MEK)		 25
(butyl acetate)		 25
(isobutylalcohol)
(f) 임의 첨가제
(BYK 社
C-8000 )		 1.0 1.0 1.0 1.0
실시예 및 비교예에서 제조된 블랙 매트릭스용 수지 조성물에 대하여 아래와 같은 방법으로 코팅성 및 전사성을 평가하였다.
(1) 코팅성
롤 프린팅시 블랭킷 위에 핀홀이 전혀 없는 것을 우수, 1 ~ 4개 인 것을 양호, 5개 이상인 것을 보통, 코팅이 되지 않는 경우를 불량으로 한다.
(2) 전사성
코팅된 조성을 클리셰를 사용하여 패턴을 만든 후 글래스에 전사하여, 100% 모두 전사되었을 때 우수, 1 ~ 5 개이상의 뜯김이 발생하였을 때 양호, 그 이상인 것을 불량으로 한다.
(3) OD (optical density)
코팅된 조성의 전면을 글라스에 전사하여, OD 측정기(Xrite 361T) 로 조성의 optical density 를 측정한다
(4) 표면장력
실시예 및 비교예를 통해서 제조된 블랙 매트릭스용 수지 조성물의 표면장력을 표면장력측정기(KRUSS K-100) 를 이용하여 측정한다.
구분 실시예 1 실시예 2 실시예 3 비교예 1
코팅성 양호 우수 우수 불량
전사성 우수 우수 양호 불량
O.D. 3.02 3.02 3.02 3.02
표면장력(mN/m) 22.66 22.76 23.32 29.74
물성평가결과, 상기 표 2에 나타난 바와 같이, 실시예의 경우 롤 프린팅 적용시의 코팅성 및 전사성이 매우 우수하게 나타남을 알 수 있으며, 도 2에 나타난 바와 같이, 실시예 2의 수지 조성물은 코팅(도 2의(b)) 및 전사(도 2의(c)) 가 잘 이루어진 것을 확인할 수 있다.
이에 비해 비교예 1의 경우, 코팅성 및 전사성이 불량하여 롤 프린팅 적용을 할 수 없으며, 표면장력이 실시예의 수지 조성물보다 커서, 도 3에 나타난 바와 같이, 비교예 1의 수지 조성물은 코팅이 제대로 되지 않은 것으로 나타났다.

Claims (10)

  1. 안료 분산액 10 ~ 60 중량%;
    경화성 바인더 수지 1 ~ 50 중량%;;
    에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머 1 ~ 30 중량%;;
    계면활성제 0.4 ~ 10 중량%; 및
    용매 10 ~ 60 중량%로부터 제조된 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 안료분산액은
    블랙안료 5 ~ 50 중량%; 아크릴계 또는 카도계 바인더 1 ~ 10 중량%; 분산제 1 ~ 5 중량%; 및 용매 40 ~ 80 중량%로부터 제조되는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 경화성 바인더 수지는 산기(acid functional group)를 포함하는 모노머와 상기 모노머와 공중합 가능한 모노머의 공중합체; 또는 상기 공중합체와 에폭시기를 함유한 에틸렌성 불포화 화합물과의 고분자 반응에 의하여 제조되는 고분자 화합물인 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 에틸렌성 불포화 이중결합을 가지는 다관능성 모노머는 프로필렌글리콜 메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사아크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 아크릴레이트, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트, 1,6-헥산디올 아크릴레이트 테트라에틸렌글리콜 메타크릴레이트, 비스페녹시 에틸알콜 디아크릴레이트, 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 트리메타크릴레이트, 트리메틸프로판 트리메타크릴레이트, 펜타에리 쓰리톨 트리메타 크릴레이트, 펜타에리쓰리톨 테트라메타크릴레이트, 디펜타에리쓰리톨 헥사메타 크릴레이트 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 계면활성제는 불소계 계면활성제 또는 실리콘계 계면활성제인 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 용매는 알킬 알코올계 용매, 알킬 에테르계 용매 및 알킬 케톤계 용매 및 이들의 혼합물로 구성된 군에서 선택되는 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  7. 제1항에 있어서,
    수지 경화막 형성시, 하기 2가지 조건을 만족하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
    제1조건: 단위 두께 1.0㎛당 광학밀도(OD)가 3.0이상이고,
    제2조건: 수지 조성물의 표면장력 수치가 15 ~ 28mN/m이다.
  8. 제1항에 있어서,
    아크릴레이트계 바인더 수지를 추가로 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 아크릴레이트계 바인더 수지는 카도계 화합물인 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
  10. 제1항에 있어서,
    중합개시제, 접착 조제, 보존 안정제 및 내열성 향상제로 구성된 군에서 선택되는 1종 이상의 첨가제를 추가로 포함하는 블랙 매트릭스용 수지 조성물.
KR1020100140837A 2010-12-31 2010-12-31 블랙 매트릭스용 수지 조성물 KR20120078513A (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100140837A KR20120078513A (ko) 2010-12-31 2010-12-31 블랙 매트릭스용 수지 조성물

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020100140837A KR20120078513A (ko) 2010-12-31 2010-12-31 블랙 매트릭스용 수지 조성물

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20120078513A true KR20120078513A (ko) 2012-07-10

Family

ID=46711846

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020100140837A KR20120078513A (ko) 2010-12-31 2010-12-31 블랙 매트릭스용 수지 조성물

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20120078513A (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8834749B2 (en) 2012-12-21 2014-09-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US9164385B2 (en) 2013-10-23 2015-10-20 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8834749B2 (en) 2012-12-21 2014-09-16 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same
US9164385B2 (en) 2013-10-23 2015-10-20 Cheil Industries Inc. Photosensitive resin composition and light blocking layer using the same

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8216770B2 (en) Resin composition comprising cardo resin, method for forming pattern using the resin composition and color filter using pattern formed by the method
US8822127B2 (en) Photosensitive resin composition for black matrix
US9733563B2 (en) Photosensitive resin composition and photosensitive material comprising the same
KR20120033893A (ko) 감광성 수지 조성물
KR101344790B1 (ko) 컬러필터용 청색 수지 조성물 및 이를 이용한 컬러필터
KR100842168B1 (ko) 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 액정 표시 장치
JP7275579B2 (ja) 着色組成物、それを用いたカラーフィルタ基板および表示装置
KR101337023B1 (ko) 감광성 수지 조성물
JPH08278629A (ja) 遮光性薄膜形成用組成物及びこれを用いて形成された遮光膜
KR20120030887A (ko) 컬러필터용 황색 수지 조성물 및 이를 이용한 황색 컬러필터
KR20150012163A (ko) 감광성 수지 조성물 및 이로부터 제조된 컬러필터
KR101752269B1 (ko) 착색 수지 조성물 및 이것을 이용한 경화막, 컬러 필터 및 그 제조 방법, 고체 촬상 소자 및 화상 표시 장치
TWI454842B (zh) 光聚合物樹脂組成物
CN107805237B (zh) 化合物、包含其的感光性树脂组合物以及彩色滤光片
US20160139455A1 (en) Liquid Crystal Display
JP2005189574A (ja) 感光性樹脂組成物
KR20120078513A (ko) 블랙 매트릭스용 수지 조성물
TWI679251B (zh) 感光性樹脂組成物、黑色感光性樹脂層以及彩色濾光片
KR102524653B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용하여 제조된 감광성 수지막 및 컬러필터
JP2020060617A (ja) 遮光膜用感光性樹脂組成物及びその硬化物、並びに当該硬化物を用いたカラーフィルター及びタッチパネルの製造方法
JP2007057651A (ja) 着色感光性樹脂組成物
KR101788088B1 (ko) 액정 표시 장치
KR20220166974A (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막, 컬러필터 및 디스플레이 장치
KR102338286B1 (ko) 감광성 수지 조성물, 이를 이용한 감광성 수지막 및 컬러필터
KR101305886B1 (ko) 수지 블랙 매트릭스용 감광성 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E601 Decision to refuse application