TWI521124B - Flushing device - Google Patents

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TWI521124B
TWI521124B TW102103953A TW102103953A TWI521124B TW I521124 B TWI521124 B TW I521124B TW 102103953 A TW102103953 A TW 102103953A TW 102103953 A TW102103953 A TW 102103953A TW I521124 B TWI521124 B TW I521124B
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Shinichi Yagi
Tomoyasu Ichiki
Hiroaki Amemori
Ayumu Umemoto
Yo Morotomi
Masahiro Yamamoto
Satoru Matsumoto
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Toto Ltd
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Description

沖廁裝置
本發明的形態，一般而言，是關於沖廁裝置。
用洗淨水洗淨大便器或小便器的盆面之後，當殘留在盆面的殘水蒸發而盆面乾燥時，會有水垢附著在盆面上的情況發生。當水垢附著在盆面上時，盆面就會髒污。而且，由於水垢牢固地附著在盆面上，所以要除掉水垢比較困難。因此，需要有可以抑制水垢生成的技術，或者即使在水垢附著在盆面的情況下也能夠容易地除去該水垢的技術。並且，矽酸成分的水垢是較之鈣成分、鎂成分等的水垢更牢固地附著在便器的瓷釉層表面。因此，人們渴望能夠有一種可容易地除去矽酸成分的水垢的技術。
以往已經有一種可將水垢成分的鈣離子或鎂離子等，預先除去的衛生洗淨裝置(請參考專利文獻1)。但是，專利文獻1所記載的衛生洗淨裝置，其問題點是裝置變得很大型化。
另外，還有一種殺菌性自來水供給式洗淨用住宅設備機器(請參考專利文獻2)，其生成具有pH為4~6的氫離子濃度的殺菌性自來水，並將殺菌性自來水供給到被洗 淨物體。另外，還有一種水洗式大便器(請參考專利文獻3)，是在執行洗淨操作並且經過規定的時間後，可向盆部吐出功能水。但是，在專利文獻2及專利文獻3中並沒有關於矽酸成分的水垢的記載，在抑制水垢生成的這一方面或者在可容易地除去水垢的這一方面，還是有待改善的餘地。
專利文獻1：日本國特開2004-270185號公報
專利文獻2：日本國特開平7-136660號公報
專利文獻3：日本國特開2004-92278號公報
本發明是基於這樣的技術課題而進行開發完成的，其目的在於提供：一種可抑制水垢生成或者可容易除去水垢的沖廁裝置。
本案的第1個發明是一種沖廁裝置，其特徵在於，具備：洗淨單元，用以洗淨便器的盆的表面；供水單元，用以向前述洗淨單元供給洗淨水；矽酸成分聚合抑制單元，用以向殘留在前述盆的表面的洗淨水添加矽酸成分聚合抑制劑，以資抑制在前述盆的洗淨後殘留在前述盆表面的洗淨水中的矽酸成分聚合；以及控制部，用以執行控制，以資在前述盆的表面乾燥之前，就開始進行前述矽酸成分聚合抑制單元的動作。
牢固地附著在盆表面的水垢是因為殘留在盆表面的殘 水中的矽酸成分的聚合而形成的。根據本發明，是在盆的表面乾燥之前，就能夠向殘留在盆表面的洗淨水添加矽酸成分聚合抑制劑。藉此，能夠抑制矽酸成分的聚合，能夠抑制水垢生成。而且，藉此，利用簡單的清掃即可讓水垢剝離(被除去)。
另外，本案的第2個發明的沖廁裝置的特徵在於，針對於第1個發明中，前述矽酸成分聚合抑制劑為酸性水。
根據這種沖廁裝置，能夠抑制殘水中的矽酸成分的聚合反應的進行。亦即，在矽酸未聚合的狀態下，當殘水蒸發而盆表面乾燥時，在中性區域則會產生咖啡環現象(溶質堆積現象)。在該過程中，矽酸會進行聚合反應。另一方面，在酸性區域則不會產生咖啡環現象(溶質堆積現象)。於是，將會形成：溶劑朝向中央方向流動且矽酸不聚合的狀態。由此，能夠抑制殘水中的矽酸成分的聚合反應進行，能夠抑制水垢生成。而且，能夠容易除去所生成的水垢。
另外，本案的第3個發明的沖廁裝置的特徵在於，針對於第2個發明中，前述酸性水含有金屬離子。
根據這種沖廁裝置，當金屬離子被添加在酸性水中的話，則在所生成的水垢中，金屬離子是存在於矽酸(SiO2)分子之間。而且，當因洗淨等而供給水時，金屬離子則被析出。於是使矽酸凝聚物更加脆化，從而可容易地除去水垢。
另外，本案的第4個發明的沖廁裝置的特徵在於，針 對於第2或第3個發明中，前述酸性水的酸性度為pH2.5~5.0。
根據這種沖廁裝置，由於酸性水的酸性度為pH2.5~5.0，所以利用電解水的電解槽即可生成酸性水。因此，不需要進行例如藥劑補充等維護。而且，酸性度為pH2.5~5.0的酸性水可以將殘留在盆表面的殘水的酸性度調整為例如約pH2.5~5.0左右。
另外，第5個發明的沖廁裝置的特徵在於，針對於第1至第4的任意一項發明中，在前述盆的表面形成有光觸媒層。
根據這種沖廁裝置，由於在盆的表面形成有光觸媒層，所以當向盆表面照射紫外線時，光觸媒被激發從而發生氧化還原反應。其結果，能夠得到分解雜菌、細菌、臭味物質等有機物的分解作用以及使表面容易被水潤濕的親水作用。由於形成有光觸媒層的盆可抑制污物附著或可分解污物，並且可以容易除去附著的水垢，所以能夠減輕清掃便器的負擔，可保持乾淨的便器。而且，由於因為向殘留在盆表面的洗淨水添加矽酸成分聚合抑制劑而可容易除去水垢，所以能夠抑制出現紫外線照射不到水垢下的光觸媒層的情事。藉此，能夠抑制光觸媒的活性降低。
根據本發明的形態，係可提供：可抑制水垢生成或者可容易除去水垢的沖廁裝置。
10‧‧‧沖廁裝置
23‧‧‧主流路
25‧‧‧第1流路
27‧‧‧第2流路
100‧‧‧衛生洗淨裝置
200‧‧‧便座
300‧‧‧便蓋
400‧‧‧外殼
401‧‧‧供水單元
411‧‧‧控制部
413‧‧‧閥
415‧‧‧熱交換器單元
417‧‧‧第1流路切換閥
420‧‧‧電解槽
424‧‧‧陽極板
425‧‧‧陰極板
431‧‧‧第2流路切換閥
432‧‧‧噴霧用泵
433‧‧‧真空防止閥
435‧‧‧電磁泵
437‧‧‧流量調節閥
439‧‧‧臀部洗淨噴嘴
440‧‧‧金屬離子水生成部
441‧‧‧水箱
443‧‧‧鋁
451‧‧‧入室感應察覺器
453‧‧‧人體感應察覺器
455‧‧‧入座感應察覺器
457‧‧‧便蓋開閉感應察覺器
481‧‧‧噴霧噴嘴
483‧‧‧UV光源
501‧‧‧水源
503‧‧‧控制部
505‧‧‧閥
507‧‧‧洗淨用吐水口
509‧‧‧洗淨水
511‧‧‧瓷磚
511a‧‧‧第1瓷磚
511b‧‧‧第2瓷磚
513‧‧‧UV光源
800‧‧‧便器
801‧‧‧盆
803‧‧‧彎管
805‧‧‧積水
811‧‧‧盆供水口
813‧‧‧彎管供水口
第1圖是表示本發明的實施方式的沖廁裝置的剖視示意圖。
第2圖是例示本實施方式的沖廁裝置洗淨動作的一種例子的圖表。
第3圖是表示本實施方式的沖廁裝置的重要部分結構的方塊圖。
第4圖是例示本實施方式的電解槽及金屬離子水生成部的剖視示意圖。
第5圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的具體例的時序圖。
第6圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的變形例的時序圖。
第7圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的其他變形例的時序圖。
第8圖是表示自來水及酸性電解水的水質分析結果的表。
第9圖是例示本實驗中水垢除去性的一例的評比結果的表。
第10圖是例示本實驗中水垢除去性的一例的評比結果的表。
第11圖是例示本實驗中水垢除去性的一例的評比結果的表。
第12圖是例示本實驗中水垢除去性的一例的評比結 果的表。
第13圖是在是否有紫外線照射的條件下的水垢生成的比較表。
第14圖是用於說明本實驗條件的示意圖。
第15圖是用於說明本實驗條件的示意圖。
以下，將參照附圖，對本發明的實施方式進行說明。另外，對各附圖中相同的構成要素標注相同的元件符號，適當省略其詳細說明。第1圖是表示本發明的實施方式的沖廁裝置的剖視示意圖。第2圖是例示本實施方式的沖廁裝置洗淨動作的一種例子的圖表。
第1圖所示的沖廁裝置10具有設置在西式座式便器(以下為了便於說明，僅稱為“便器”)800上的衛生洗淨裝置100。便器800具有盆801。便器800上設有用來洗淨盆801表面的洗淨單元。而且，便器800內還設有彎管803、盆供水口811和彎管供水口813。衛生洗淨裝置100具有外殼400、便座200和便蓋300。便座200和便蓋300係可開閉自如地分別被轉軸支撐在外殼400上。另外，便蓋300並不一定需要設置。
外殼400的內部設有供給洗淨水的洗淨水供給裝置(供水單元)401。而且，例如在外殼400的下部，設有可朝向便器800的盆801的表面進行自來水或矽酸成分聚合抑制劑等的噴霧的噴霧噴嘴(噴霧部)481以及向盆801 照射紫外線(UV：ultraviolet)的UV光源483。噴霧噴嘴481及UV光源483既可以設置在外殼400的內部，也可以附設在外殼400的外部。
另外，在本說明書中提到“水”時，不僅指冷水，也包括加熱後的熱水。而且，後面將對矽酸成分聚合抑制劑進行詳細說明。
如第2圖所示，當使用者進行便器洗淨操作或者因使用者從便座200站起來並經過規定時間，從而自動執行便器洗淨時，從盆供水口811向盆801供給的洗淨水的瞬間流量將會增加。例如，盆供水口811沿著盆801的上緣吐出洗淨水(內緣吐水)。
接下來，當經過規定時間之後，從盆供水口811吐出的洗淨水的瞬間流量將會減少，但是從彎管供水口813向彎管803供給的洗淨水的瞬間流量將會增加。例如：彎管供水口813向彎管803吐出洗淨水(噴射吐水)。
藉由這樣的內緣吐水及噴射吐水，向盆801吐出的洗淨水在進行盆801的洗淨的同時，也會充滿彎管803。由此產生虹吸作用。而且，向彎管803吐出的洗淨水會將積水805中的污物等經過彎管803向外排出。
接下來，當經過規定時間之後，從彎管供水口813向彎管803供給的洗淨水的瞬間流量將會減少，但是從盆供水口811向盆801供給的洗淨水的瞬間流量將會增加。由此確保了積水805的量。
另外，前述的洗淨動作是本實施方式的沖廁裝置的洗 淨動作的一種例子，並不侷限於此。
在此，當前述的洗淨動作結束後，殘留在盆801上的殘水蒸發而盆801的表面乾燥時，有時候，水垢將會附著在盆801上。通常，在殘水中的水分蒸發的過程中，當矽酸濃度增加時將會促進矽酸聚合。由此，產生咖啡環現象(由於液滴中的溶劑蒸發而溶質向液滴週邊流動且以環狀沉積的現象)，形成牢固的水垢。當水垢附著在盆801上時，盆801就會髒污。而且，由於水垢牢固地附著在盆801上，所以要除掉水垢比較困難。
對此，本實施方式的沖廁裝置10是具備有：矽酸成分聚合抑制單元，其在盆801的表面乾燥之前，就將矽酸成分聚合抑制劑向盆801的表面進行噴霧。矽酸成分聚合抑制劑，例如：是含有金屬離子的酸性度高的水溶液(酸性水)。也就是說，本實施方式的沖廁裝置10是將殘留在盆801上的殘水置換為含有金屬離子的酸性度高的水溶液。或者，本實施方式的沖廁裝置10是向殘留在盆801上的殘水添加酸性度高的水溶液或含有金屬離子的酸性度高的水溶液。由此，能夠抑制矽酸的聚合，能夠抑制水垢生成。而且，能夠容易除去所生成的水垢。
獲得上述效果的理由，係如下所述。但這是根據本發明人等所獲得的見解所做的假定或假設，本實施方式並不侷限於此。
使殘水中的酸性度變高時，就能夠抑制殘水中的矽酸成分的聚合反應進行。於是，在水分蒸發的過程中，即使 溶質濃度增加也未產生咖啡環現象，進而觀察到溶劑向中央方向流動的現象。而且，確認到所生成的水垢與基材的緊貼力很小，容易將水垢剝離。另外，水垢的生成得以抑制並且能容易除去所生成的水垢這一效果，係除了針對矽酸成分的水垢以外，針對鈣離子成分或鎂離子成分的水垢也能得到同樣的效果。
酸性水的酸性度，例如約為pH2.5~5.0左右。如果是具有該範圍的酸性度的酸性水的話，只要利用電解水的電解槽(例如參照第3圖)就能夠生成酸性水。因此，不需要進行例如：藥劑補充等維護。而且，酸性度約為pH2.5~5.0左右的含有金屬離子的酸性水可以將殘水的酸性度調整為例如約pH2.5~5.0(更好是pH2.0~5.0)左右。另外，酸性度只要能夠調整在pH1.5~5.5的範圍即可。由此，矽酸的聚合得以抑制，其結果，能夠抑制水垢生成，並且還能夠容易除去所生成的水垢。溶解在高酸性度水中的SiO2由於主要是以單體或二聚體那樣的低聚合度的狀態存在，因此可以認為即使水分蒸發也能夠抑制其聚合。另一方面，在酸性度小於pH1.5的水溶液以及酸性度大於pH5.5的水溶液中，單體或二聚體的存在率低。也就是說，可以認為矽酸已經變成高分子化了。
另外，在酸性水中添加金屬離子時，酸性水所含有的金屬離子例如是鋁離子(Al3+)、銅離子(Cu2+)等。這樣的金屬離子被添加在酸性水中後，會在所生成的水垢中，存在於矽酸(SiO2)分子之間。而且，當因洗淨等而供 給水時，金屬離子就被溶出。於是，被認為是可使矽酸凝聚物更加脆化，從而能夠容易除去水垢。金屬離子的添加量設定為對殘水添加0.1ppm左右，更好是1.0~5.0ppm左右。
其次，參照附圖，進一步對本實施方式的沖廁裝置10進行說明。第3圖是表示本實施方式的沖廁裝置的重要部分的結構方塊圖。第4圖是例示本實施方式的電解槽及金屬離子水生成部的剖視示意圖。
另外，第3圖同時表示水路系統和電氣系統的重要部分的結構。第4圖(a)例示本實施方式的電解槽。第4圖(b)例示本實施方式的金屬離子水生成部。
如第3圖所示，本實施方式的沖廁裝置10所具備的衛生洗淨裝置100是具有主流路23，其將從供水單元401供給來的水導向臀部洗淨噴嘴439、噴霧噴嘴481。在主流路23的上游側，設置有閥413及熱交換器單元415。閥413是可開閉的電磁閥，根據來自設置在外殼400內部的控制部411的指令，來進行供水控制。熱交換器單元415具有未圖示的溫水加熱器，對供給來的水進行加熱使其成為規定的溫水。
在閥413及熱交換器單元415的下游，設有第1流路切換閥417。第1流路切換閥417進行向臀部洗淨噴嘴439、噴霧噴嘴481供水的開閉或切換。主流路23利用第1流路切換閥417而分支為第1流路25和第2流路27，其中，第1流路25將洗淨水等導向臀部洗淨噴嘴439， 第2流路27將洗淨水、矽酸成分聚合抑制劑等導向噴霧噴嘴481。
在第2流路27的上游側，設置有電解槽(矽酸成分聚合抑制單元)420。電解槽420可生成酸性水及鹼性水。在此，將參照附圖進一步對電解槽420進行說明。
如第4圖(a)所示，本實施方式的電解槽420在其內部具有陽極板424及陰極板425，藉由控制部411控制通電，能夠電解流過陽極板424與陰極板425之間的空間(流路)的自來水。此時，在陰極板425上消耗酸(H+)，在陰極板425附近，pH上升。亦即，在陰極板425附近生成鹼性水。另一方面，在陽極板424上消耗鹼(OH-)，在陽極板424附近，pH下降。亦即，在陽極板424附近生成酸性水。
返回第3圖進行說明，電解槽420中所生成的酸性水及鹼性水分別被利用相互不同的流路導向設置在電解槽420下游的第2流路切換閥431。第2流路切換閥431將從電解槽420供給來的酸性水導向設置在第2流路切換閥431下游的金屬離子水生成部(矽酸成分聚合抑制單元)440。另一方面，第2流路切換閥431將從電解槽420供給來的鹼性水當作排水使其流向下水道。或者，第2流路切換閥431也可以是在不妨礙本實施方式的水垢抑制效果的範圍內，使得從電解槽420供給來的鹼性水流向便器800。另外，作為矽酸成分聚合抑制劑，在只使用酸性水的情況(使用不含金屬離子的酸性水的情況)下，只要將 後述的金屬(鋁)予以去除即可。
為了在電解槽420中抑制碳酸鈣等的水垢生成，控制部511有時候會將極性反轉(pole change(PC))，以轉換陽極板424及陰極板425。於是，在未設第2流路切換閥431的情況下，分別引導酸性水及鹼性水的流路互相替換，鹼性水被導向金屬離子水生成部。因此，在電解槽420中已進行極性反轉的情況下，第2流路切換閥431是具有切換流路而將酸性水導向金屬離子水生成部的功能。
在此，參照附圖對金屬離子水生成部440進行說明。
在本實施方式中，是以在金屬離子水生成部440溶解的金屬離子為鋁離子(Al3+)的情況為例，來進行說明。
如第4圖(b)所示，本實施方式的金屬離子水生成部440具有水箱441和設置在水箱441內的鋁443。從電解槽420通過第2流路切換閥431供給的酸性水貯存在水箱441內。而且，設置在水箱441內的鋁443是處於浸漬在被貯存在水箱441內的酸性水的狀態。
於是，浸漬在酸性水中的鋁443例如約花費一至兩個小時進行溶解(緩慢溶解)。由此，水箱441內的酸性水變成含有鋁離子的酸性水。也就是說，在金屬離子水生成部440中生成含有金屬離子(在本實施方式中為Al3+)的酸性度高的水溶液。
返回第3圖進行說明，金屬離子水生成部440中所生成的含有鋁離子的酸性水被噴霧用泵(矽酸成分聚合抑制單元)432吸上來並通過真空防止閥(VB)433導向流量 調節閥437。流量調節閥437在調節水勢(流量)的同時，將酸性水的供給目的地設定為噴霧噴嘴481，並將該酸性水導向噴霧噴嘴481。噴霧噴嘴481將從流量調節閥437供給來的酸性水向盆801進行噴霧。
另一方面，在第1流路切換閥417中被導向第1流路25的洗淨水則通過電磁泵435及流量調節閥437被導向臀部洗淨噴嘴439。而且，洗淨水從設置在臀部洗淨噴嘴439上的未圖示的吐水口朝向坐在便座200上的使用者的“臀部”等進行噴射。
另外，如第3圖所示，本實施方式的衛生洗淨裝置100具有入室感應察覺器(人體感應察覺器A)451、人體感應察覺器(人體感應察覺器B)453、入座感應察覺器455及便蓋開閉感應察覺器457。
入室感應察覺器451能夠偵測打開廁所的門剛剛入室後的使用者，還能夠偵測正要進入廁所而位於門前的使用者。也就是說，入室感應察覺器451不僅能偵測到已進入廁所的使用者，還能偵測到進入廁所之前的使用者，亦即，位於廁所外側門前的使用者。作為這樣的入室感應察覺器451，可使用熱電察覺器、都卜勒察覺器之類的微波察覺器等。使用利用微波的都卜勒效應的察覺器或使用發射微波並根據反射的微波振幅(強度)而偵測出被偵測體的察覺器等時，可以隔著廁所的門偵測到使用者的存在。也就是說，能夠偵測到進入廁所之前的使用者。
人體感應察覺器453能夠偵測位於便器800前方的使 用者，亦即，位於從便座200向前方分開的位置的使用者。也就是說，人體感應察覺器453能夠偵測到進入廁所後接近便座200的使用者。作為這樣的人體感應察覺器453，例如可使用紅外線反射式測距察覺器等。
入座感應察覺器455能夠偵測在使用者快要坐到便座200上之前位於便座200上方的人體或坐在便座200上的使用者。亦即，入座感應察覺器455不僅能偵測坐在便座200上的使用者，還能夠偵測位於便座200上的使用者。作為這樣的入座感應察覺器455，例如可使用紅外線反射式測距察覺器等。
便蓋開閉感應察覺器457能夠偵測便蓋300的開閉狀態。作為便蓋開閉感應察覺器457，例如可使用霍爾IC與磁鐵的組合或微動開關等。
控制部411能夠根據來自入室感應察覺器451、人體感應察覺器453、入座感應察覺器455或便蓋開閉感應察覺器457等的信號而對電解槽420、噴霧用泵432或流量調節閥437等的動作進行控制。
下面，參照附圖，對本實施方式的沖廁裝置10的動作的具體例進行說明。
第5圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的具體例的時序圖。
首先，在入室感應察覺器(人體感應察覺器A)451偵測到已進入廁所的使用者之前，UV光源483定期朝向盆801照射規定時間的紫外線(時刻t1以前)。這是因 為在盆801的表面形成有光觸媒層的情況下為了使光觸媒活性化或者為了保持光觸媒活性。在本說明書中，“光觸媒”是指一種物質，在光的照射下，可促進其氧化作用及還原作用中的至少一種作用。或者，“光觸媒”是指在光的照射下親水性得到提高的物質。
作為“光觸媒”的材料，例如可使用金屬氧化物。作為那樣的氧化物，例如可例舉氧化鈦(TiOx)、氧化鋅(ZnOx)、氧化錫(SnOx)等。其中，尤其是氧化鈦具有優良的光觸媒活性，而且穩定性、安全性等也很優異。
光觸媒在紫外線的照射下被激發，從而發生氧化還原反應。其結果，能夠得到分解雜菌、細菌、臭味物質等有機物的分解作用以及使表面容易被水潤濕的親水作用。由於形成有光觸媒層的盆801可抑制污物附著或可分解污物，並且可容易除去附著的水垢，所以能夠減輕清掃便器800的負擔，可保持乾淨的便器800。
另外，在本說明書中，“紫外線”是指：波長比可見光線短且比軟X射線長的光。具體而言，係指波長為10奈米~400奈米的光。
接下來，當入室感應察覺器451偵測到已進入廁所的使用者時，則便蓋300打開，閥413打開，第1流路切換閥417被切換至第2流路27側，第2流路切換閥431被切換至金屬離子水生成部440側(時刻t1)。而且，開始執行將洗淨水(自來水)或酸性水從金屬離子水生成部440的水箱441吸上來的噴霧用泵432的動作(時刻t1) 。由此，向盆801的表面進行自來水噴霧。如此，在使用者使用便器800之前，能夠藉由將盆801的表面潤濕而使附著在盆801表面的污物減少。
另外，如第5圖中示出的“電解槽”一欄的虛線所示，在入室感應察覺器451偵測出已進入廁所的使用者時，也可以是開始向電解槽420通電，生成酸性水(時刻t1)。在此情況下，向盆801的表面進行酸性水(或含有金屬離子的酸性水)噴霧。由此，能夠使附著在盆801表面的污物或水垢更加減少。
接下來，當人體感應察覺器(人體感應察覺器B)453偵測到位於便器800前方的使用者時，則閥413關閉，第1流路切換閥417被切換至第1流路25側，第2流路切換閥431被切換至排水側(時刻t2)。接下來，當入座感應察覺器455偵測到使用者離開便座200(時刻t3)且經過例如約5秒左右時，則開始進行便器洗淨(時刻t5)。便器洗淨的動作例如：如同第2圖的前述內容所示。
接下來，當便器洗淨結束(時刻t6)且經過規定時間T後，則閥413打開，第1流路切換閥417被切換至第2流路27側，第2流路切換閥431被切換至金屬離子水生成部440側(時刻t7)。而且，開始向電解槽420通電，開始執行噴霧用泵432的動作(時刻t7)。由此，向盆801的表面進行含有金屬離子的酸性水的噴霧。
從便器洗淨結束(時刻t6)至向盆801的表面進行含有金屬離子的酸性水的噴霧(時刻t7)為止的規定時間T 是指：盆801的表面未乾燥的時間，具體地說，例如約為30秒~30分鐘左右。根據本發明人等得到的見解，從便器洗淨結束後約經過30分鐘左右時間的一個例子是在表面形成有瓷釉層的便器的盆表面開始乾燥的時間。由此，能夠抑制矽酸聚合並能抑制水垢生成。而且，能夠容易地除去所生成的水垢。
是以，在本具體例中，在入座感應察覺器455偵測到使用者離開便座200(時刻t3)且便器洗淨結束(時刻t6)後經過規定時間T時(時刻t7)，朝向盆801的表面進行含有金屬離子的酸性水的噴霧。由此，能夠避免在使用者坐在便座200上時進行含有金屬離子的酸性水的噴霧從而噴濺到使用者的臀部。
接下來，當人體感應察覺器453偵測不到位於便器800前方的使用者(時刻t4)且經過例如約90秒左右時，則便蓋300關閉，UV光源483定期朝向盆801照射規定時間的紫外線(時刻t8以後)。如此，在本具體例中，在進行含有金屬離子的酸性水的噴霧開始(時刻t7)之後，開始由UV光源483照射紫外線(時刻t8)。由此，能夠抑制光觸媒的活性降低。
亦即，根據本發明人等所得到的見解，當水垢形成在光觸媒層的表面時，紫外線將照射不到水垢下的光觸媒層。因此，有時會使得光觸媒的活性顯著降低。而且，在形成有自來水水膜的狀態下，當朝向該水膜照射紫外線時，將會促進矽酸聚合。因此，而形成與光觸媒層牢固黏著的 水垢。對此，後面將進行詳述。由此，該部位的光觸媒活性將會顯著降低，有時候會無法復原。對此，在本具體例中，由於是在開始進行含有金屬離子的酸性水的噴霧之後，才開始由UV光源483照射紫外線，所以能夠抑制矽酸成分的聚合。
另外，紫外線照射的時間也可以是與含有金屬離子的酸性水的噴霧時間重疊。具體而言，也可以是正在進行含有金屬離子的酸性水的噴霧時，就開始進行紫外線照射。而且，如果是在可抑制水垢生成的範圍內的話，即使正在進行紫外線的照射時，就開始進行含有金屬離子的酸性水的噴霧也無妨。
另外，在本具體例中，雖然是舉出了便器800的盆801的表面形成有光觸媒層的沖廁裝置的例子，但是在盆801的表面未形成光觸媒層的情況下，就不需要紫外線的照射。
下面，參照附圖，對本實施方式的沖廁裝置10的動作的變形例進行說明。
第6圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的變形例的時序圖。
第7圖是例示本實施方式的沖廁裝置的動作的其他變形例的時序圖。
第6圖所示的時序圖的變形例是使用者排泄大便時的例子。第7圖所示的時序圖的變形例是使用者排泄小便或清掃廁所時的例子。因此，在第6圖所示的時序圖中，入 座感應察覺器455偵測到了坐在便座200上的使用者，而在第7圖所示的時序圖中，入座感應察覺器455未偵測到坐在便座200上的使用者。
在第6圖和第7圖所示的變形例中，在入室感應察覺器451偵測不到使用者(時刻t12)後且在便器洗淨結束(時刻t11)後經過規定時間T時，開始執行水垢抑制單元(電解槽420、噴霧用泵432)的動作(時刻t13)。規定時間T，係如第5圖的前述內容所示。如此，含有金屬離子的酸性水的噴霧，也可以是在使用者或清掃者從廁所出去之後才進行。由此，可以更加確實避免含有金屬離子的酸性水噴濺到人體。
在第5圖~第7圖的前述的具體例中，在便器洗淨結束後經過規定時間T時，才開始酸性水的噴霧。這是因為即使是在既有的便器800上，加裝上衛生洗淨裝置100的這種類型的衛生洗淨裝置，也可以達成偵測到便器洗淨結束的功能。另外，酸性水的噴霧開始時間並不侷限於此。例如，也可以是在經過以下規定時間T時，開始執行酸性水的噴霧，亦即：入座感應察覺器455偵測到使用者離開便座200後經過了規定時間T時；人體感應察覺器453偵測不到位於便器800前方的使用者後經過了規定時間T時；入室感應察覺器451偵測不到使用者後經過了規定時間T時；便蓋開閉感應察覺器457偵測到便蓋300關閉後經過了規定時間T時；閥413關閉後經過了規定時間T時；以及積水得到確保後經過了規定時間T時等。
下面，參照附圖對本發明人等所做的實驗進行說明。
第8圖是表示自來水及酸性電解水的水質分析結果的表。
第9圖~第12圖是例示本實驗中水垢除去性的一例評比結果的表。
在以下的實施例中，使用表面形成有瓷釉層的瓷磚(5 cm×5 cm)以及將下列所述的pH調整水作為實驗液使用，並且作為對照組，係使用酸性電解水進行了評比。而且，以下的實施例中進行的滑動試驗係如下所述。
在一般的自來水中添加硝酸(特級試藥，日本和光純藥工業株式會社製)，將pH調整到1~6的溶液作為pH調整水。第8圖表示所使用的自來水的水質分析結果。而且，下列組成分的酸性電解水是使用電解水生成裝置(TEK511，日本TOTO株式會社製)來製作的。
將硝酸鋁九水合物或硝酸銅六水合物(全部是特級試藥，日本和光純藥工業株式會社製)溶解在自來水中，將各金屬離子濃度調整到1000 ppm的溶液作為金屬離子原液。將該金屬離子原液用pH調整水(pH1~6)進行稀釋，將分別調整金屬離子濃度(0.1、0.5、1、5、10 ppm)與pH(pH1~6)的溶液作為添加有金屬離子的pH調整水。
關於滑動試驗，是使用摩擦測試器(日本太平理化工業株式會社製)依照以下的方法來進行的。將不織布海綿，亦即，思高拭亮魔布(註冊商標SCOTCH-BRITE)( SS-72K，日本住友3M株式會社製)切成2.24 cm見方，使用雙面膠帶以不織布的部分接觸滑動面的方式黏接在摩擦頭上後，用蒸餾水潤濕。使用數位顯微鏡(VHX-900，日本株式會社Keyence製)在放大100倍的倍數下觀察水垢附著部。接下來，放上250 g的重錘(負荷條件：4.9 kPa)滑動10次，在與上述相同的條件下，使用數位顯微鏡進行觀察，判斷水垢是否被除去。另外，在負荷條件：4.9 kPa下的10次滑動相當於一般的便器清掃條件。評比結果如下。
○：在滑動10次以內水垢被除去
×：滑動50次水垢仍然殘留
採用以下的方法評比了pH調整水的水垢除去性。首先，在表面形成有瓷釉層的瓷磚(5 cm×5 cm)上滴下20μL的pH調整水及酸性電解水後，在常溫下靜置48小時使水垢乾燥並附著。然後，進行滑動試驗。其結果如第9圖所示。
除了將使用硝酸鋁九水合物調製的添加有鋁離子的pH調整水作為試驗液以外，係採用與第9圖的前述的實施例相同的方法評比了水垢除去性。其結果如第10圖所示。
除了將使用硝酸銅六水合物調製的添加有銅離子的pH調整水作為試驗液以外，採用與第9圖的前述的實施例相同的方法評比了水垢除去性。其結果如第11圖所示。
將使用硝酸鋁九水合物或硝酸銅六水合物(全部是特級試藥，日本和光純藥工業株式會社製)調製的各種金屬離子原液適量添加在用市售的電解水生成裝置(TEK511，日本TOTO株式會社製)所生成的酸性電解水中，稀釋到目標金屬離子濃度(0.1、0.5、1、5、10 ppm)後將其作為添加有金屬離子的酸性電解水。另外，第8圖表示所使用的酸性電解水的水質分析結果。
除了將添加有金屬離子的酸性電解水作為試驗液以外，採用與第9圖的前述的實施例相同的方法評比了水垢除去性。其結果如第12圖所示。
根據以上的第8圖~第12圖的前述的實驗結果可知，在pH調整到約2.0~5.0左右的酸性水以及含有金屬離子(在本實施例中為Al3+、Cu2+)的酸性水蒸發而生成的水垢方面，水垢除去性良好。
下面，參照附圖對本發明人等所進行的實驗加以說明。
第13圖是在是否有紫外線照射的條件下的水垢生成的比較表。
第14圖及第15圖是用於說明本實驗條件的示意圖。
如第15圖所示，本發明人等首先準備了表面形成有光觸媒層的瓷磚511並傾斜配置。接著，利用控制部503打開閥505，將水源501供給來的洗淨水509從洗淨用吐水口507以淋浴狀約吐出5秒鐘左右。由此，在瓷磚511的表面形成水膜。
接下來，如第14圖(a)所示，於表面形成有水膜的多個瓷磚511中的第1瓷磚511a，在常溫下約放置30分鐘左右使表面乾燥。另一方面，如第14圖(b)所示，於表面形成有水膜的多個瓷磚511中的第2瓷磚511b，則在由UV光源513朝向第2瓷磚511b的表面照射紫外線的狀態下，在常溫下約放置30分鐘左右使表面乾燥。
乾燥後的第1瓷磚511a及第2瓷磚511b的表面狀態(水垢的生成狀態)如第13圖所示。第13圖所示的“照片”是對第15圖所示的範圍A1的瓷磚表面進行拍照的照片。第13圖所示的“水垢示意圖”是對第13圖所示的“照片”中的瓷磚表面所生成的水垢的示意圖。
由此可以看出，第2瓷磚511b的表面生成的水垢範圍比第1瓷磚511a的表面生成的水垢範圍大。因此，可知在形成有自來水(自來水)水膜的狀態下當向該水膜照射紫外線時，將會促進矽酸聚合，亦即，容易生成水垢。
以上，是對本發明的實施方式進行了說明。但是，本發明並不侷限於這些說明內容。只要是具備了本發明的特徵，本領域的技術人員對上述實施方式適當加以設計變更後的技術也包含在本發明的範圍內。例如，沖廁裝置10及衛生洗淨裝置100等所具備的各主要構件的形狀、尺寸、材質、配置等以及噴霧噴嘴481及UV光源483的設置方式等，均不侷限於所例示的內容，亦可進行適當變更。
另外，在實施方式中，雖然針對於便器是以西式座式便器(馬桶)為例來做說明，但是在本實施方式的便器範 圍中也包括小便器。
另外，只要技術上可行，前述各實施方式所具備的各主要構件亦可以進行組合，只要包含本發明的特徵，組合了這些內容的技術也包含在本發明的範圍內。
23‧‧‧主流路
25‧‧‧第1流路
27‧‧‧第2流路
100‧‧‧衛生洗淨裝置
401‧‧‧供水單元
411‧‧‧控制部
413‧‧‧閥
415‧‧‧熱交換器單元
417‧‧‧第1流路切換閥
420‧‧‧電解槽
431‧‧‧第2流路切換閥
432‧‧‧噴霧用泵
433‧‧‧真空防止閥
435‧‧‧電磁泵
437‧‧‧流量調節閥
439‧‧‧臀部洗淨噴嘴
440‧‧‧金屬離子水生成部
443‧‧‧鋁
451‧‧‧入室感應察覺器
453‧‧‧人體感應察覺器
455‧‧‧入座感應察覺器
457‧‧‧便蓋開閉感應察覺器。

Claims (5)

  1. 一種沖廁裝置，其特徵在於，具備：洗淨單元，用以洗淨便器的盆的表面；供水單元，用以向前述洗淨單元供給洗淨水；矽酸成分聚合抑制單元，用以向殘留在前述盆的表面的洗淨水添加作為矽酸成分聚合抑制劑的酸性水，以資抑制在前述盆的洗淨後殘留在前述盆表面的洗淨水中的矽酸成分聚合；以及控制部，用以執行控制，以資在將前述盆的表面洗淨後的前述盆的表面乾燥之前，就開始進行前述矽酸成分聚合抑制單元的動作，藉由將前述酸性水添加在殘留於前述盆的表面的洗淨水，來抑制前述矽酸成分的聚合。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的沖廁裝置，其中，前述酸性水含有金屬離子。
  3. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的沖廁裝置，其中，前述酸性水的酸性度為pH2.5~5.0。
  4. 如申請專利範圍第1項或第2項所述的沖廁裝置，其中，在前述盆的表面形成有光觸媒層。
  5. 如申請專利範圍第3項所述的沖廁裝置，其中，在前述盆的表面形成有光觸媒層。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9194110B2 (en) 2012-03-07 2015-11-24 Moen Incorporated Electronic plumbing fixture fitting
US20150144802A1 (en) * 2013-11-25 2015-05-28 Corning Incorporated Water purification and water supply system decontamination apparatus
US9623133B2 (en) 2015-01-30 2017-04-18 The Boeing Company Lavatory disinfection system
JP2017025561A (ja) * 2015-07-22 2017-02-02 Toto株式会社 トイレ装置
WO2017122231A1 (ja) * 2016-01-15 2017-07-20 パナソニックＩｐマネジメント株式会社 水廻り機器への除菌水の供給方法および水洗便器
US9783974B1 (en) * 2016-08-09 2017-10-10 The Boeing Company Fluid removal systems and methods
JP6932330B2 (ja) * 2017-03-30 2021-09-08 Toto株式会社 温水洗浄便座
US10570599B2 (en) * 2018-03-27 2020-02-25 Toto Ltd. Toilet device and toilet seat device
JP6982807B2 (ja) * 2018-03-27 2021-12-17 Toto株式会社 トイレ装置
US10597857B2 (en) * 2018-03-27 2020-03-24 Toto Ltd. Toilet device and toilet seat device
WO2019189447A1 (ja) * 2018-03-30 2019-10-03 株式会社Ｌｉｘｉｌ 便座装置、便器装置、及び、デスケール剤の供給装置
JP7189492B2 (ja) * 2018-08-31 2022-12-14 Toto株式会社 衛生洗浄装置
US10920408B2 (en) * 2018-10-24 2021-02-16 Hall Labs Llc Antimicrobial toilet with electrolyzer
JP6979175B2 (ja) * 2019-07-05 2021-12-08 Toto株式会社 衛生洗浄装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3776754D1 (de) * 1986-11-07 1992-03-26 Katayama Chemical Works Co Kesselsteinverhuetungsmittel.
CN1031516C (zh) * 1989-07-14 1996-04-10 徐云英 抽水马桶清洁剂
CA2042341C (en) * 1990-05-23 2001-06-12 Judy H. Bardsley Silica scale inhibition
JPH07136660A (ja) * 1993-04-02 1995-05-30 Toto Ltd 殺菌性上水供給式洗浄用住設機器
TW272244B (zh) 1994-08-19 1996-03-11 Toto Ltd
CN1162343A (zh) * 1994-08-19 1997-10-15 东陶机器株式会社 便器洗净方法和装置
US5656172A (en) * 1995-12-28 1997-08-12 Union Oil Company Of California pH modification of geothermal brine with sulfur-containing acid
JP2000144846A (ja) * 1998-11-13 2000-05-26 Toto Ltd 大便器および便座装置
AU1890001A (en) * 1999-12-15 2001-06-25 Toto Ltd. Flush toilet bowl with scale adhesion preventing function, coating composition for the function, and method of preventing adhesion of scale onto the flush toilet bowl
US6332229B1 (en) * 2000-12-13 2001-12-25 O'malley Conor Automated flap and cup cleaner water-saving toilet
JP4358536B2 (ja) 2003-03-05 2009-11-04 パナソニック株式会社 衛生洗浄装置
US20050246828A1 (en) * 2002-08-29 2005-11-10 Shigeru Shirai Hygiene washing apparatus
JP2004092278A (ja) 2002-09-03 2004-03-25 Toto Ltd 水洗式大便器
JP2009517484A (ja) * 2005-11-29 2009-04-30 ヒルズ・ペット・ニュートリシャン・インコーポレーテッド 尿路結石症を予防又は治療するための組成物及び方法
JP5030008B2 (ja) * 2006-05-30 2012-09-19 Ｔｏｔｏ株式会社 便器洗浄装置
KR101215765B1 (ko) * 2007-09-28 2012-12-26 파나소닉 주식회사 위생 세정 장치
JP5407348B2 (ja) * 2009-01-14 2014-02-05 栗田工業株式会社 シリカ系スケール抑制剤及び防止方法
US20100242164A1 (en) 2009-03-31 2010-09-30 Woongjin Coway Co., Ltd. Sterilizing water dispensing apparatus, and bidet and toilet seat having the same
TWM386321U (en) * 2009-12-17 2010-08-11 yan-jun Lin Toilet equipment capable of automatically sensing lifting toilet seat and flushing
JP5093762B2 (ja) * 2010-07-28 2012-12-12 Ｔｏｔｏ株式会社 衛生洗浄装置
US20120124726A1 (en) * 2010-11-19 2012-05-24 Gaertner Ralph WC Apparatus for Rail Vehicles
CN103030214A (zh) * 2011-09-29 2013-04-10 Toto株式会社 抑制水垢生成的用水处器具

Also Published As

Publication number Publication date
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