TWI506716B - Substrate handling device and substrate processing system - Google Patents

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Description

基板搬運裝置及基板處理系統
本發明係關於基板搬運裝置及基板處理系統。
以液晶顯示器(LCD)為代表之FPD的製造過程時，係在真空下，對被處理體之玻璃基板等基板，實施蝕刻、成膜等各種處理。FPD之製造上，係使用具備複數基板處理室之處理腔室的所謂多腔室型基板處理系統。此種基板處理系統，具有：配備著用以搬運基板之基板搬運裝置的搬運腔室；及配設於該搬運腔室周圍設之複數處理腔室。其次，以搬運腔室內之基板搬運裝置，將基板搬入各處理腔室內，或者，從各處理腔室搬出已處理之基板。基板之搬運上，通常，係使用被稱為拾取器之具有複數用以支撐基板之支撐構件的叉狀基板保持具。
近年來，為了提高生產效率，而朝FPD用基板之大型化發展，用以保持其之基板保持具也隨之大型化。為了實現以基板保持具保持大型基板之狀態進行旋轉等動作，搬運腔室亦必須大型化。然而，在真空狀態搬運基板之真空搬運腔室時，必須保有對抗大氣壓之機械強度，故大型化已逐漸接近其限度。所以，專利文獻1，以迴避搬運腔室之大型化及減輕驅動機構負擔為目的，提出了具有可於基座上滑動之方式配設之複數第1支撐構件；及可於該第1支撐構件上滑動之方式配設之複數第2支撐構件的基板保持具。該專利文獻1之基板保持具，藉由2階段之滑動機構，在確保基板之授受所必要的行程下，於搬運腔室內可使第1及第2支撐構件退避並使基板保持具收容成小型化，故可迴避搬運腔室之大型化。
[專利文獻1]日本特開2009-4661號公報
如專利文獻1所示，於基板保持具採用滑動機構時，因為於真空容器之內部進行使構件及構件滑動之動作，於滑動部位，有容易發生碎屑微粒等污染原因物質的疑慮。所以，必須採取即使基板保持具之滑動部位發生碎屑微粒等污染原因物質亦不會附著於基板之預防措施。
有鑑於上述問題，本發明之目的，係於基板搬運裝置，極力防止碎屑微粒等污染原因物質所導致之基板的污染。
為了解決上述課題，本發明之第1觀點之基板搬運裝置，係用以支撐並搬運基板之基板搬運裝置，具備：第1構件、被設置成可對該第1構件滑動而支撐基板之第2構件；以及於使前述第2構件滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，用以防止在前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間之擴散防止構件。
此外，本發明之第2觀點，基板搬運裝置，係以具有複數支撐構件之基板保持具來支撐並搬運基板之基板搬運裝置，前述支撐構件，具備：本體；被設置成可對該本體滑動而支撐基板之可動構件；以及於使前述可動構件滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，用以防止在前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間之擴散防止構件。
本發明之第2觀點之基板搬運裝置時，擴散防止構件，於前述本體，係以朝垂直於前述可動構件之滑動方向的方向突出之方式來配設。此外，前述擴散防止構件，係以覆蓋前述可動構件之側面之一部分或全部來配設。此外，前述擴散防止構件，具備：底壁部、及從該底壁部豎立且覆蓋前述可動構件之側面之一部分或全部的側壁部。前述可動構件，具備：具有用以支撐基板之支撐面之支撐部、及從該支撐部朝兩側下方下垂之一對曲折側板部，前述擴散防止構件，係以從外側覆蓋前述曲折側板部之至少下端且接近之方式來配設。此外，前述本體，具備可滑動引導前述可動構件之導引構件，於前述本體之長度方向，以該導引構件之長度以上之長度配設有前述擴散防止構件。此外，以環繞前述導引構件之端部的方式，於前述本體上配設有一對環繞構件。
此外，本發明之第3觀點時，基板搬運裝置，係以具有複數支撐構件之基板保持具支撐並搬運基板之基板搬運裝置，具備：以可於水平方向滑動之方式支撐前述基板保持具之滑動基座；及於使前述基板保持具滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，用以防止前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間之擴散防止構件。
本發明之第3觀點之基板搬運裝置時，前述擴散防止構件，於前述滑動基座，係以朝垂直相交於前述基板保持具之滑動方向的方向突出的方式來配設。此外，前述基板保持具，具有以可滑動之方式連結與前述滑動基座之間的連結構件。此外，前述擴散防止構件，係以覆蓋前述連結構件之側面之一部分或全部且接近的方式來配設。此外，前述滑動基座，具備可滑動引導前述連結構件之導引構件，於前述滑動基座之長度方向，以該導引構件之長度以上之長度配設有前述擴散防止構件。
本發明之基板搬運裝置，於前述擴散防止構件之內壁面，具備吸附材層。此時，前述吸附材層，可由黏著性構件所構成，亦可以由吸液性構件所構成。
本發明之基板處理系統，具備有上述任一基板搬運裝置。
依據本發明之基板搬運裝置，因為具備於滑動部位與外部之基板搬運空間之間，形成為狹道之形狀，而用以防止前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間之擴散防止構件，滑動部位所發生之碎屑微粒等污染原因物質為該擴散防止構件所阻擋而防止擴散至外部。所以，可預防基板搬運所使用之基板搬運裝置成為發生源而造成碎屑微粒等對基板之污染，實現信賴性高之基板處理。
[第1實施形態]
以下，參照圖式，針對本發明之實施形態進行詳細說明。此處，係以本發明之一實施形態之基板搬運裝置及具備該基板搬運裝置之基板處理系統為例來進行說明。第1圖，係基板處理系統之真空處理系統100之概略透視圖，第2圖，係各腔室之內部之概略平面圖。該真空處理系統100，為具有複數處理腔室1a、1b、1c之多腔室的構造。真空處理系統100，例如，係由以對FPD用玻璃基板(以下，簡單標記成「基板」)S進行電漿處理為目的之處理系統所構成。此外，FPD，例如，係液晶顯示器(LCD)、電致發光(Electro Luminescence；EL)顯示器、電漿顯示器面板(PDP)等。
真空處理系統100時，複數之大型腔室係以平面視為十字形之方式連結。於中央部，配置著搬運腔室3，於其三方側面，以與其相鄰之方式配設著對基板S進行電漿處理之3個處理腔室1a、1b、1c。此外，於搬運腔室3之剩餘的一方側面，則以鄰接之方式配設著預載腔室5。該等3個處理腔室1a、1b、1c、搬運腔室3及預載腔室5，皆由真空腔室所構成。於搬運腔室3與各處理腔室1a、1b、1c之間，配設有未圖示之開口部，於該開口部，分別配設著具有開關機能之閘閥7a。此外，搬運腔室3與預載腔室5之間，配設有閘閥7b。閘閥7a、7b，於關閉狀態可以使各腔室之間形成氣密之密封，且於開啟狀態，可以連通腔室間來進行基板S之移送。此外，於預載腔室5與外部之大氣環境之間，亦配備有閘閥7c，於關閉狀態，可維持預載腔室5之氣密性，於開啟狀態，可以於預載腔室5內與外部之間，進行基板S之移送。
於預載腔室5之外側，配設有2個卡匣定位裝置9a、9b。於各卡匣定位裝置9a、9b之上，分別載置著用以收容基板S之卡匣11a、11b。於各卡匣11a、11b內，以上下隔著間隔配置著多段之基板S。此外，各卡匣11a、11b，係利用昇降機構部13a、13b分別自由昇降之構成。本實施形態時，例如，係於卡匣11a，收容著未處理之基板，於另一方之卡匣11b，收容著已經過處理之基板的構成。
於該等2個卡匣11a、11b之間，配設有用以搬運基板S之搬運裝置15。該搬運裝置15，具備：配設成上下2段之基板保持具17a及17b；以可進出、退避及旋轉之方式支撐該等基板保持具17a、17b之驅動部19；以及用以支撐該驅動部19之支撐台21。
處理腔室1a、1b、1c，係以可使其內部空間維定特定減壓環境(真空狀態)來構成。於各處理腔室1a、1b、1c內，如第2圖所示，配備有用以載置基板S之載置台的承載器2。其次，於各處理腔室1a、1b、1c，在承載器2載置著基板S之狀態，對基板S，例如，進行真空條件下之蝕刻處理、灰化處理、成膜處理等電漿處理。
本實施形態時，可以3個處理腔室1a、1b、1c執行同種之處理，亦可以各處理腔室處理不同種類之處理。此外，處理腔室之數目未限制為3個，亦可以為4個以上。
搬運腔室3，與真空處理室處理腔室1a、1b、1c相同，係可保持於特定減壓環境之構成。於搬運腔室3中，如第2圖所示，配設有搬運裝置23。其次，藉由搬運裝置23，於3個處理腔室1a、1b、1c及預載腔室5之間，進行基板S之搬運。
搬運裝置23，係具有配設成上下2段之搬運裝置，而可各自獨立進行基板S之搬出入的構成。第3圖及第4圖，係具有叉狀基板保持具101之上段搬運裝置23a的概略構成。第3圖，係使基板保持具101退避之狀態，第4圖，係使基板保持具101進出之狀態。搬運裝置23a，其主要構成係具有滑動基座111、及以可相對於滑動基座111進行滑動之方式配設的基板保持具101。基板保持具101，係具有：藉由未圖示之主驅動機構可於滑動基座111上滑動之方式配設的拾取基座113、當做配設於該拾取基座113之「第1構件」的複數(第3圖、第4圖中，為3支)拾取本體115、以及藉由未圖示之副驅動機構可於該拾取本體115上滑動之方式配設之「第2構件」之複數(第3圖、第4圖中，為3支)可動拾取部117。拾取本體115及可動拾取部117，構成做為支撐構件之支撐拾取部118。各可動拾取部117，係以各拾取本體115為基準，可於朝前方延伸之進出狀態、及從該進出狀態退避之退避狀態之間進行滑動動作之方式來配設。此外，可動拾取部117，係藉由未圖示之連結部而同步進行朝前後之進退動作的構成。
拾取基座113，只要可確實固定配置成櫛齒狀之複數拾取本體115，並可以可動方式連結於滑動基座111之構成即可。此外，拾取基座113及拾取本體115之連結構造為任意方式。
基板S被支撐於可動拾取部117上來進行搬運動作。上述未圖示之主驅動機構及副驅動機構係連動，與於滑動基座111上使拾取基座113(亦即，基板保持具101整體)在第1行程朝前方進出之動作運動，而使可動拾取部117於拾取本體115上在第2行程朝前方進出。所以，可動拾取部117上之基板S，於進出時，係朝第3圖中之箭頭所示方向，以第1行程及第2行程之合計量進行移動，例如，於處理腔室1a、1b、1c之彼此之間，進行基板S之授受。使基板保持具101及可動拾取部117退避時，基板S，係朝與進出時為相反之方向(第4圖中之箭頭所示方向)，以第1行程及第2行程之合計量進行移動。
於拾取本體115之上面115a，配設有做為導引構件之線性導引部119。可動拾取部117，因為具有與該線性導引部119卡合之卡合構件(此處，省略了圖示)，可以藉由線性導引部119於直線方向進行引導並進退。於拾取本體115，配設有用以阻擋上述線性導引部119與卡合構件之滑動所可能發生之碎屑微粒等污染原因物質(以下，簡稱為「碎屑微粒」)而以防止擴散為目的之擴散防止蓋121。
擴散防止蓋121之詳細構成，如後面所述。
第3圖及第4圖，係針對上段搬運裝置23a進行說明，然而，下段搬運裝置(省略圖示)具有與上段搬運裝置23a相同之構成。其次，上下之搬運裝置23，係以未圖示之連結機構進行連結，而為一體並可於水平方向旋轉之構成。此外，於上下二段之構成的搬運裝置23，連結著用以進行拾取基座113及滑動拾取本體115之滑動動作、滑動基座111之旋轉動作及昇降動作之未圖示的驅動單元。此外，於滑動基座111上使拾取基座113滑動之主驅動機構、及於拾取本體115上使可動拾取部117滑動之副驅動機構，亦可以為互相獨立驅動的構成。
預載腔室5，與處理腔室1a、1b、1c及搬運腔室3相同，係以保持於特定減壓環境之方式來構成。預載腔室5，係於處於大氣環境之卡匣11a、11b與減壓環境之搬運腔室3之間，進行基板S之授受者。預載腔室5，因為重複處於大氣環境及減壓環境的緣故，故應以極小之內容積來構成。於預載腔室5，配設有上下2段之基板收容部27(第2圖中，只圖示著上段)，於各基板收容部27，配設著用以支撐基板S之複數緩衝部28。此外，於預載腔室5內，配設有抵接於矩形狀之基板S之互相相對之角部附近來進行定位之定位裝置29。
如第2圖所示，真空處理系統100之各構成部，係具有連結於具有電腦機能之控制部30並接受控制的構成(第1圖中，省略了圖示)。控制部30，係具備：具備CPU之控制器31、使用者介面32及記憶部33。控制器31，於真空處理系統100，例如，係統一控制處理腔室1a、1b、1c、搬運裝置15、搬運裝置23等之各構成部。使用者介面32，係由工程管理者以管理真空處理系統100為目的而用以執行輸入操作等之鍵盤及可見化顯示真空處理系統100之運轉狀況之顯示器等所構成。於記憶部33，保存著記錄有以控制器31之控制實現真空處理系統100所執行之各種處理之控制程式(軟體)及處理條件資料等之處方。使用者介面32及記憶部33，則連結於控制器31。
其次，對應需要，可以來自使用者介面32之指示等從記憶部33呼叫任意之處方來使控制器31執行，在控制器31之控制下，真空處理系統100執行期望之處理。
前述控制程式及處理條件資料等之處方，可以利用儲存於電腦可讀取之記憶媒體，例如，儲存於CD-ROM、硬碟、軟碟、快閃記憶體等之狀態者。或者，亦可以從其他裝置，例如，介由專用迴線隨時進行傳送而為線上利用者。
其次，針對以上構成之真空處理系統100之動作進行說明。
首先，驅動搬運裝置15之2個基板保持具17a、17b，從收容著未處理基板之卡匣11a受取基板S，並分別將其載置於預載腔室5之上下2段之基板收容部27之緩衝部28。
使基板保持具17a、17b退避後，關閉預載腔室5之大氣側閘閥7c。其後，進行預載腔室5內之排氣，使內部減壓至特定真空度為止。其次，打開搬運腔室3與預載腔室5間之閘閥7b，由搬運裝置23之基板保持具101，受取收容於預載腔室5之基板收容部27的基板S。此時，藉由使拾取基座113(基板保持具101之整體)對滑動基座111進行滑動，且使各可動拾取部117對各拾取本體115進行滑動，而使可動拾取部117進行進出或退避，來實施基板S之授受。
其次，以搬運裝置23之基板保持具101保持基板S之狀態，藉由拾取基座113及可動拾取部117之滑動動作、及滑動基座111之旋轉動作及昇降動作的組合，將基板S搬入處理腔室1a、1b、1c之任一，再對承載器2進行授受。於處理腔室1a、1b、1c內，對基板S實施蝕刻等之特定處理。其次，已經過處理之基板S，以與上述相同之滑動動作，從承載器2受取至搬運裝置23之基板保持具101，再從處理腔室1a、1b、1c搬出。
其次，基板S，以與前述相反之路徑，經由預載腔室5，由搬運裝置15收容至卡匣11b。此外，已經過處理之基板S，回到原來之卡匣11a。
其次，參照第5圖～第10圖，針對本發明之擴散防止構件的詳細構成，以裝設於基板保持具101之擴散防止蓋121為例來進行說明。首先，針對裝設著擴散防止蓋121之基板保持具101的構成進行說明。第5圖，係第3圖所示之退避狀態之拾取本體115與可動拾取部117重合之部分之支撐拾取部118的橫剖面。基板保持具101之拾取本體115為長條中空之角筒狀。拾取本體115之材質，應使用輕量、且載置大型基板S之狀態不會因荷重而發生變形之具高剛性的材質，例如，使用CFRP(碳纖維強化塑膠)等。此外，拾取本體115，例如，亦可以為實心板狀。
可動拾取部117，係橫剖面為倒U字形之長條板材。可動拾取部117，具備：具有用以支撐基板S之支撐面117a的支撐部117b；及從支撐部117b曲折而朝其兩側下方垂下成拱門狀的一對曲折側板部117c。曲折側板部117c，係以使可動拾取部117輕量化並維持機械強度為目的而配設，本實施形態時，與擴散防止蓋121共同具有封閉碎屑微粒之作用。由可動拾取部117之支撐部117b、及一對互相相對向之曲折側板部117c所形成之空間，插入著拾取本體115。可動拾取部117，係由與拾取本體115相同之材質所構成。
如上面所述，於拾取本體115之上面115a，於其長度方向配設有線性導引部119。此外，於可動拾取部117之支撐部117b的下面117d，配設有做為卡合構件之滑動塊123。滑動塊123，卡合於線性導引部119並滑動，用以規定可動拾取部117對拾取本體115之進退方向及進退行程。如此，由線性導引部119、滑動塊123及未圖示之前驅動部，構成使可動拾取部117滑動之滑動手段。
於拾取本體115，裝設著做為擴散防止構件之擴散防止蓋121。擴散防止蓋121，具有：底壁部121a及從該底壁部121a大致垂直豎立之側壁部121b。此外，擴散防止蓋121，具有大致從底壁部121a曲折成大致直角而形成之固定部121c。底壁部121a與側壁部121b，形成L字形之剖面。擴散防止蓋121之材質，只要可裝設於拾取本體115，並無特別限制，例如，可以使用鋁等之金屬及合成樹脂等。擴散防止蓋121，例如，可以螺絲或接著劑等之固定手段(未圖示)，將拾取本體115固定於固定部121c。此外，擴散防止蓋121之固定方法，並無特別限制，例如，可以為裝卸自如之方式裝設，亦可以熔接等而為與拾取本體115為一體之方式來配設。
據散防止蓋121之底壁部121a，係朝垂直相交於支撐拾取部118之長度方向的方向(拾取本體115及可動拾取部117之橫切方向)大致水平地突出。底壁部121a，具有阻擋滑動塊123與線性導引部119摩擦所發生並落下之碎屑微粒的作用。第5圖時，以虛線之箭頭來表示，於滑動塊123與線性導引部119之滑動部位所發生之碎屑微粒落下至擴散防止蓋121之底壁部121a並受到阻擋為止之軌跡的模式。
擴散防止蓋121之側壁部121b，係以大致平行於拾取本體115之側面115b及可動拾取部117之曲折側板部117c且覆蓋曲折側板部117c之至少下端的方式來配設於該曲折側板部117c附近。擴散防止蓋121之側壁部121b，與底壁部121a相同，不但可以阻擋碎屑微粒，尚有使碎屑微粒不會飛散至外部之封閉作用。為了達成該目的，如圖所示，拾取本體115之底面115c至可動拾取部117之支撐面117a的高度為H1、擴散防止蓋121之側壁部121b之上端高度為H2、可動拾取部117之曲折側板部117c之下端高度為H3時，應為H1>H2>H3。亦即，拾取本體115之側面115b與擴散防止蓋121之側壁部121b之間，可供可動拾取部117之曲折側板部117c的下端插入。其次，於可動拾取部117之曲折側板部117c與擴散防止蓋121之側壁部121b之間形成狹窄間隔，而形成碎屑微粒無法擴散至外部的狹道形狀。藉由此種構造，可以防止為擴散防止蓋121所阻擋之碎屑微粒向上飛揚並飛散至擴散防止蓋121外側。亦即，於滑動塊123及線性導引部119之滑動部位、與外部之基板搬運空間之間，形成狹道之形狀，可以防止因為可動拾取部117滑動所發生之碎屑微粒擴散至基板搬運空間。
此外，擴散防止蓋121，亦可以不是具有底壁部121a及側壁部121b之形狀，例如，如第6圖所示，而為具有剖面為圓弧狀之彎曲形狀的擴散防止蓋121A。此時，擴散防止蓋121A之上端部，係以接近可動拾取部117之曲折側板部117c之方式配設，而為將擴散防止蓋121A所阻擋之碎屑微粒封閉於內側之構造。
第7圖，係使可動拾取部117退避之狀態之1支支撐拾取部118之長度方向的剖面圖。如圖所示，擴散防止蓋121，於拾取本體115之長度方向，以可涵蓋線性導引部119所延伸之範圍並大於線性導引部119之長度來配設。如前面所述，可動拾取部117，係卡合於滑動塊123線性導引部119並藉由滑動來進行進出及退避。所以，藉由以涵蓋最容易發生碎屑微粒之滑動塊123的移動範圍來配設擴散防止蓋121，可以阻擋從滑動部位落下之碎屑微粒。此外，第7圖時，係圖示著具有2個滑動塊123之構成，然而，滑動塊123可以為1個，亦可以為3個以上。
本實施形態之基板保持具101時，為了閉封滑動塊123及線性導引部119之滑動部位所發生之碎屑微粒而不會擴散至外部，如第8圖所示，亦可進一步配設一對環繞構件125a、125b。一對環繞構件125a、125b，係立設於拾取本體115之上面115a而平面視為U字形之壁，係以從前後圍繞線性導引部119之基端部119a及前端部119b而互相相對之方式來配設。如上面所述，可動拾取部117，因為係滑動塊123卡合於線性導引部119並滑動來進行進出及退避，進出動作時，朝向線性導引部119之前端部119b側，此外，退避動作時，係朝向線性導引部119之基端部119a側，皆容易發生碎屑微粒之飛散。一對環繞構件125a、125b，不但阻擋滑動部位所發生之碎屑微粒，並具有防止其落至拾取本體115之前端部側或基端部側的作用。為環繞構件125a、125b所阻擋之碎屑微粒，即使從側方落下亦為擴散防止蓋121所阻擋。所以，據散防止蓋121，以配設於涵蓋一對環繞構件125a、125b之雙方之範圍的下方更佳。如此，本實施形態之基板保持具101時，藉由具備擴散防止蓋121、及對應需要而配設之一對環繞構件125a、125b，可以有效地封閉滑動機構之滑動部位所發生的碎屑微粒，而防止其擴散至外部。此外，亦可只配設環繞構件125a、125b之任一方或單方。
針對以進一步強化碎屑微粒之封閉效果為自的之構成，參照第9圖及第10圖進行說明。第9圖，係於擴散防止蓋121之底壁部121a之內面、及側壁部121b之內面，配設著做為吸附材層之用以吸附碎屑微粒之黏著性膜片131。黏著性膜片131，例如，可以由具有黏著性之合成樹脂等材質所構成。黏著性膜片131，因為可吸附補捉在擴散防止蓋121內飛翔並落下之碎屑微粒，故可確實防止碎屑微粒擴散至外部。
此外，第9圖時，不但於擴散防止蓋121之內面，於拾取本體115之側面115b及退避狀態下，與其側面115b相對之可動拾取部117之曲折側板部117c的內面，亦配設有黏著性膜片131。如上所述，因為可動拾取部117係以相對於拾取本體115可滑動之方式配設，故在使可動拾取部117以最大限進出之狀態下，拾取本體115之側面115b與可動拾取部117之曲折側板部117c之內面的大部分，並未互相相對，而為露出至外部之狀態。此外，進出狀態時，於可動拾取部117之下方，並未存在著擴散防止蓋121。所以，假設於滑動機構之滑動部位所發生之碎屑微粒，附著於可動拾取部117之曲折側板部117c之內面，則可能因落下或飛散之碎屑微粒而發生污染。此外，因為使可動拾取部117進出之狀態下，拾取本體115之側面115b露出，有附著於該側面115b之碎屑微粒時，容易飛散至周圍。如第9圖所示，藉由於拾取本體115之側面115b及可動拾取部117之曲折側板部117c之內面配備黏著性膜片131，可以吸附並確實補捉附著於該等表面之碎屑微粒，而防止落下及飛散。此外，黏著性膜片131，可以覆蓋配設對象之壁面整體，亦可只配設於一部分。
第10圖，係於擴散防止蓋121之底壁部121a之內面，配設有做為吸附材層之吸液性膜片133。吸液性膜片133，例如，可以由海綿等之多孔質素材或纖維素材等之液體吸收能力、液體保持能力優良之材質所構成。於滑動塊123及線性導引部119之滑動部位，為了可順暢滑動，有時會注入潤滑油(油脂)等。該潤滑油，有時會隨著滑動動作而成為微小油滴飛散至周圍，進行發生基板S之污染。吸液性膜片133，吸收並捕捉落下擴散防止蓋121內之潤滑油的微小油滴。此外，吸液性膜片133，吸收並捕捉經由可動拾取部117之曲折側板部117c之內壁面、或拾取本體115之側面115b流下之油。
吸液性膜片133，因為吸收並保持液體之能力優良，故可封閉一旦捕捉到之油，並防止對外部之擴散。結果，可以有效地防止油所導致之基板S的污染。第10圖時，於擴散防止蓋121之底壁部121a以外之側壁部121b的內面、及拾取本體115之側面115b與可動拾取部117之曲折側板部117c之內面，與第9圖相同，配設有吸附碎屑微粒之黏著性膜片131。如此，藉由組合配備做為吸附材層之性質不同的黏著性膜片131及吸液性膜片133，可以確實預防碎屑微粒等污染原因物質所導致之基板S污染。亦即，於擴散防止蓋121之側壁部121b之內面、或拾取本體115之側面115b及可動拾取部117之曲折側板部117c之內面，亦可配設吸液性膜片133。此外，吸液性膜片133，可以覆蓋配設對象之壁面整體來配設，亦可只配設一部分。
上述黏著性膜片131及吸液性膜片133，例如，以雙面膠帶等固定並定期更換，可以防止其本身成為污染原因物質之發生源。
[第2實施形態]
其次，參照第11圖及第12圖，針對本發明之第2實施形態之基板搬運裝置進行說明。首先，針對可適用本實施形態之擴散防止蓋的搬運裝置200之概略構成，參照外觀透視圖之第11圖來進行說明。第11圖時，為了使搬運裝置200之構成更容易了解，而為未裝設擴散防止蓋之狀態。如第11圖所示，搬運裝置200，係基板保持具205從滑動基座201向下垂吊之構造。搬運裝置200，係具備：主要構成之滑動基座201；具有連結滑動塊203而以相對於滑動基座201可滑動之方式配設之基板保持具205；以及用以支撐滑動基座201之複數框架(第11圖中，為2個)207。此外，第11圖，係使基板保持具205退避之狀態。該搬運裝置200，於第1圖及第2圖之真空處理系統100，可以使用其取代第1實施形態之搬運裝置23。此外，搬運裝置200，亦可以具有多段之滑動基座201及基板保持具205，例如，具有上下2段。
滑動基座201為長條板狀，沿著其長度方向，兩端具有滑動部201a。此外，於各滑動部201a，形成有導引(第11圖中，省略了圖示，參照第12圖)。滑動基座201，固定於橫跨上方而配設之2個框架207，而為該等所支撐。搬運裝置200，係藉由未圖示之驅動機構而與2個框架207以一體方式進行昇降及旋轉的構成。
基板保持具205，具有：上述一對之連結滑動塊203、203(第11圖中，只圖示了單側)；固定於該等連結滑動塊203而以相對於滑動基座201可滑動之方式配設之拾取基座209；配設於該拾取基座209之複數(例如，3支)拾取本體211；以及以藉由未圖示之副驅動機構可於各拾取本體211上滑動之方式配設之可動拾取部213。連結滑動塊203，藉由固定於拾取基座209且卡合於滑動基座201之滑動部201a，來垂吊基板保持具205整體。其次，連結滑動塊203，卡合於滑動部201a且藉由未圖示之主驅動機構來使拾取基座209(亦即，基板保持具205)滑動。
拾取本體211及可動拾取部213，構成用以做為支撐構件之支撐拾取部215。各可動拾取部213，係以各拾取本體211做為基準，而可於朝前方(第11圖之箭頭F之方向)延伸之進出狀態與從該進出狀態朝後方(第11圖之箭頭B之方向)退避之退避狀態之間進行滑動動作之方式配設。此外，可動拾取部213，藉由未圖示之連結部可同步朝前後執行進退動作之構成。
拾取基座209，只要可確實固定配設成櫛齒狀之複數拾取本體211，並與滑動基座201為可動式連結者，不論其構成為何。此外，拾取基座209及拾取本體211之連結構造為任意構造。
基板S被支撐於可動拾取部213上來進行搬運動作。係藉由上述未圖示之主驅動機構及副驅動機構，可使拾取基座209(亦即，基板保持具205整體)相對於滑動基座201以第1行程朝前方(第11圖之箭頭F之方向)進出，而且，可使可動拾取部213於拾取本體211上以第2行程朝前方進出之構成。所以，可動拾取部213上之基板S，進出時，係以第1行程及第2行程之合計量朝前方移動，例如，於處理腔室1a、1b、1c之任一之間進行基板S之授受。使基板保持具205及可動拾取部213退避時，基板S係以第1行程及第2行程之合計量朝與進出時相反之方向(第11圖之箭頭B之方向)移動。
第12圖，係從第11圖之箭頭B之方向觀察裝設著做為擴散防止構件之擴散防止蓋221之狀態的搬運裝置200之垂直相交於滑動基座201及支撐拾取部215之長度方向之方向之剖面放大圖。擴散防止蓋221，裝設著滑動基座201。亦即，本實施形態時，滑動基座201係「第1構件」，含有連結滑動塊203之基板保持具205係「第2構件」。擴散防止蓋221，具有：上壁部221a、及從該上壁部221a大致垂直下垂之側壁部221b。上壁部221a與側壁部2221b，形成L字形剖面。擴散防止蓋221之材質，與第1實施形態相同。擴散防止蓋221，例如，藉由螺絲或接著劑等固定手段(未圖示)，而固定於滑動基座201。此外，擴散防止蓋221之固定方法並無特別限制，例如，以裝卸自如之方式配設，亦可以利用熔接等而為與滑動基座201為一體之方式配設。
擴散防止蓋221之上壁部221a，係朝垂直相交於滑動基座201之長度方向之方向而大致水平地突出。如第12圖所示，固定於拾取基座209之一對連結滑動塊203、203，係卡合於分別凸設於滑動基座201之左右之滑動部201a的導引201b。其次，連結滑動塊203，係藉由沿著導引201b滑動移動來使基板保持具205整體進行水平滑動。擴散防止蓋221，具有使連結滑動塊203及導引201b之滑動部位所發生之碎屑微粒不會擴散至外部之搬運空間的作用。亦即，擴散防止蓋221之上壁部221a及側壁部221b，係以分別大致平行於連結滑動塊203之外側之上面203a及側面203b，且接近並覆蓋連結滑動塊203之至少上部的方式來配設。於擴散防止蓋221之上壁部221a與連結滑動塊203之上面203a、及擴散防止蓋221之側壁部221b與連結滑動塊203之側面203b之間，形成著狹窄之間隔，用以形成使碎屑微粒不會擴散至外部之基板搬運空間的狹道形狀。
此外，擴散防止蓋221，只要為與連結滑動塊203之間形成有狹道形狀者即可，例如，連結滑動塊之形狀為彎曲時，擴散防止蓋亦可以為剖面是圓弧狀之彎曲形狀。
本實施形態時，更配設有補助蓋223，用以遮蔽形成於滑動基座201左右之滑動部201a。補助蓋223，係平行於連結滑動塊203之內側之側壁面203c且以接近之方式配設。補助蓋223，阻擋因連結滑動塊203之移動而與導引201b之間所發生之碎屑微粒，並防止落下至滑動基座201下方之基板S上。
此外，擴散防止蓋221及補助蓋223，省略了圖示，然而，與第1實施形態相同，係以可涵蓋滑動基座201之導引201b之形成範圍的長度來配設。此外，與第1實施形態相同，擴散防止蓋221，於其內壁面，亦可配設有由黏著性膜片或吸液性膜片所構成之吸附材層。
此外，於搬運裝置200之各支撐拾取部215之拾取本體211，配設有與第1實施形態相同構成之擴散防止蓋121。該擴散防止蓋121之構成及作用，如第1實施形態之說明所示。此外，本實施形態時，是否裝設支撐拾取部215之擴散防止蓋121並無限制，亦可不裝設。
本實施形態之其他構成及作用，與第1實施形態相同。
以上，係以本發明之實施形態為例來進行詳細說明，然而，本發明並未受限於上述實施形態。相關業者可以在不背離本發明之思想及範圍進行各種改變，該等亦包含於本發明之範圍內。例如，第2實施形態時，於滑動基座201之滑動部201a配設有擴散防止蓋221，亦可以於第1實施形態之滑動基座111之滑動部，配設擴散防止蓋。此外，上述實施形態時，係以在真空狀態下進行基板S搬運之搬運裝置23為例來進行說明，然而，擴散防止蓋121、221，亦可適用於在大氣壓狀態進行基板搬運之搬運裝置15。
此外，具備擴散防止蓋121、221之本發明之基板搬運裝置，並未受限於以FPD製造用玻璃基板做為搬運對象之搬運裝置，例如，亦可適用於以太陽電池用之基板等各種用途之基板做為搬運對象之搬運裝置。
此外，本發明之基板搬運裝置的構成上，未受限於配備成上下2段之滑動方式，亦可以為1段構成或3段構成。此外，配備成上下2段之第1實施形態之滑動式搬運裝置23時，亦可只針對上段之搬運裝置23a配設擴散防止蓋121。
1a、1b、1c．．．處理腔室
3．．．搬運腔室
5．．．預載腔室
100．．．真空處理系統
101．．．基板保持具
111．．．滑動基座
113．．．拾取基座
115．．．拾取本體
115a．．．上面
115b．．．側面
117．．．可動拾取部
117a．．．支撐面
117b．．．支撐部
117c．．．曲折側板部
117d．．．下面
118．．．支撐拾取部
119．．．線性導引部
121．．．擴散防止蓋
121a‧‧‧底壁部
121b‧‧‧側壁部
121c‧‧‧固定部
123‧‧‧滑動塊
S‧‧‧基板
第1圖係真空處理系統之概略透視圖。
第2圖係第1圖之真空處理系統之平面圖。
第3圖係第1實施形態之搬運裝置之基板保持具退避狀態的透視圖。
第4圖係第1實施形態之搬運裝置之基板保持具進出狀態的透視圖。
第5圖係第1實施形態之具備擴散防止蓋之支撐拾取部的剖面圖。
第6圖係變形例之具備擴散防止蓋之支撐拾取部的剖面圖。
第7圖係支撐拾取部之長度方向剖面圖。
第8圖係用以說明環繞構件之配設例的圖面。
第9圖係配設有吸附材層之擴散防止構件的剖面圖。
第10圖係配設有吸附材層之擴散防止構件之其他例的剖面圖。
第11圖係第2實施形態之搬運裝置之基板保持具退避狀態的透視圖。
第12圖係第2實施形態之具備擴散防止蓋之支撐拾取部的剖面圖。
115．．．拾取本體
115a．．．上面
115b．．．側面
115c．．．底面
117．．．可動拾取部
117a．．．支撐面
117b．．．支撐部
117c．．．曲折側板部
117d．．．下面
118．．．支撐拾取部
119．．．線性導引部
121．．．擴散防止蓋
123．．．滑動塊
121a．．．底壁部
121b．．．側壁部
121c．．．固定部
H1．．．支撐面117a的高度
H2．．．側壁部121b之上端高度
H3．．．曲折側板部117c之下端高度

Claims (12)

  1. 一種基板搬運裝置，係用以支撐並搬運基板之基板搬運裝置，其特徵在於具備：第1構件；第2構件，其係被設置成可對該第1構件滑動而支撐基板；以及擴散防止構件，其係被設置在前述第1構件上，前述擴散防止構件在前述第1構件上，係以朝與前述第2構件之滑動方向垂直相交之方向突出的方式來配設，前述擴散防止構件係藉由被設置成覆蓋前述第2構件之側面之一部分或全部，使前述第2構件滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，防止在前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間。
  2. 一種基板搬運裝置，係以具有複數支撐構件之基板保持具來支撐並搬運基板之基板搬運裝置，其特徵在於前述支撐構件具備：本體；可動構件，其係被設置成可對該本體滑動而支撐基板；以及擴散防止構件，其係被設置在前述本體上，前述擴散防止構件在前述本體上，係以朝與前述可動構件之滑動方向垂直相交之方向突出的方式來配設，前述擴散防止構件係藉由被設置成覆蓋前述可動構件 之側面之一部分或全部，使前述可動構件滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，防止在前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間。
  3. 如申請專利範圍第2項所記載之基板搬運裝置，其中前述擴散防止構件，具備：底壁部；及從該底壁部豎立且覆蓋前述可動構件之側面之一部分或全部的側壁部。
  4. 如申請專利範圍第3項所記載之基板搬運裝置，其中前述可動構件，具備：具有用以支撐基板之支撐面之支撐部；及從該支撐部朝兩側下方下垂之一對曲折側板部，前述擴散防止構件，係以從外側覆蓋前述曲折側板部之至少下端且接近之方式來配設。
  5. 如申請專利範圍第4項所記載之基板搬運裝置，其中前述本體，具備可滑動引導前述可動構件之導引構件，於前述本體之長度方向，以該導引構件之長度以上之長度配設有前述擴散防止構件。
  6. 如申請專利範圍第5項所記載之基板搬運裝置，其中以環繞前述導引構件之端部的方式在前述本體上設置有一對環繞構件。
  7. 一種基板搬運裝置，係以具有複數支撐構件之基板保持具來支撐並搬運基板之基板搬運裝置，其特徵在於具備：滑動基座，其係以可於水平方向滑動之方式支撐前述基板保持具；連結構件，其係以可滑動之方式連結前述基板保持具和前述滑動基座之間；及擴散防止構件，其係被設置在前述滑動基座上，前述擴散防止構件在前述滑動基座上，係以朝與前述基板保持具之滑動方向垂直相交之方向突出的方式來配設，前述擴散防止構件係藉由以覆蓋前述連結構件之側面之一部分或全部且接近之方式來配設，使前述基板保持具滑動之滑動部位與外部之基板搬運空間之間形成狹道之形狀，防止在前述滑動部位所發生之污染原因物質擴散至前述基板搬運空間。
  8. 如申請專利範圍第7項所記載之基板搬運裝置，其中前述滑動基座，具備可滑動引導前述連結構件之導引構件，於前述滑動基座之長度方向，以該導引構件之長度以上之長度配設有前述擴散防止構件。
  9. 如申請專利範圍第1、2、7項中之任1項所記載之基板搬運裝置，其中於前述擴散防止構件之內壁面，具備吸附材層。
  10. 如申請專利範圍第9項所記載之基板搬運裝置，其中前述吸附材層，係由黏著性構件所構成。
  11. 如申請專利範圍第9項所記載之基板搬運裝置，其中前述吸附材層，係由吸液性構件所構成。
  12. 一種基板處理系統，其具備：如申請專利範圍第1至11項中之任1項所記載之基板搬運裝置。
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