CN102163569B - 基板输送装置和基板处理系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种基板输送装置，以极力防止因颗粒造成的基板污染。在叉主体(115)上，安装有作为扩散防止部件的扩散防止罩(121)。扩散防止罩(121)具有截止因滑动块(123)和线性引导件(119)摩擦而产生并落下的颗粒的底壁部(121a)和从该底壁部(121a)大致垂直立起的侧壁部(121b)。侧壁部(121b)与底壁部(121a)同样地截止颗粒，并封锁颗粒，以不向外部飞散。

Description

基板输送装置和基板处理系统
技术领域
本发明涉及基板输送装置和基板处理系统。
背景技术
在以液晶显示器(LCD)为代表的FPD的制造过程中，在真空状态下对作为被处理体的玻璃基板等基板实施蚀刻、成膜等的各种处理。在FPD的制造中，使用具有多个作为基板处理室的加工室、即多室型的基板处理系统。这种基板处理系统具有配置有用于输送基板的基板输送装置的输送室和在该输送室的周围设置的多个加工室。而且，通过输送室内的基板输送装置向各个加工室内搬入基板，或者从各个加工室中搬出处理过的基板。在基板的输送中，通常使用具有多个支撑被称为样片(pick)的基板的支撑部件的叉子状的基板保持件。
近年来，为了提高生产效率，FPD用的基板不断向大型化发展，保持它们的基板保持件也在大型化中。为了在基板保持件上保持大型基板的状态下能够进行旋转等的操作，输送室也必须进行大型化。但是，在真空状态中输送基板的真空输送室的情况下，需要保持仅仅对抗大气压的机械强度，大型化不断接近界限。所以，在专利文献1中，在避免输送室的大型化的同时，以减轻对驱动机构的负担为目的，提出了具有在基板上能够滑动地设置的多个第一支撑部件和在该第一支撑部件上能够滑动地设置的多个第二部件的基板保持件的方案。该专利文献1的基板保持件通过两阶的滑动机构，在确保交接基板时需要的行程的同时，在输送室内能够使第一和第二的支撑部件退避而紧凑地收纳基板保持件，所以能够避免输送室的大型化。
专利文献1：日本特开2009-4661号公报
发明内容
在如专利文献1那样在基板保持件上采用滑动的机构情况下，由于在真空容器的内部进行使部件和部件滑动的动作，所以具有在滑动部位容易产生颗粒等的污染源物质的隐患。从而，需要采取即使在基板保持件的滑动部位产生颗粒等的污染源物质，也不会附着在基板上的预防措施。
本发明是基于以上实际情况而提出的，其目的在于，在基板输送装置中，极力防止由于颗粒等污染源物质导致基板的污染。
为了解决上述课题，本发明的第一观点的基板输送装置是支撑并输送基板的基板输送装置，其具有：第一部件；相对于该第一部件设能够滑动地置的用于支撑基板的第二部件；和构成为在使所述第二部件滑动的滑动部位与外部的基板输送空间之间形成窄路的形状的、用于防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散的扩散防止部件。
另外，在本发明的第二观点中，基板输送装置是通过具有多个支撑部件的基板保持件支撑并输送基板的基板输送装置，所述支撑部件具有：主体；相对于该主体能够滑动地设置的支撑基板的可动部件；和构成为在使所述可动部件滑动的部位和外部的基板输送空间之间形成窄路的形状的、用于防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散的扩散防止部件。
在本方面的第二观点的基板输送装置中，在所述主体中，以在与所述可动部件的滑动方向正交的方向上伸出的方式设置有扩散防止部件。另外，以覆盖所述可动部件的侧面的一部分或者全部的方式设置有所述扩散防止部件。并且，所述扩散防止部件具有底壁部和从该底壁部立起设置的、覆盖所述可动部件的一部分或者全部的侧壁部。所述可动部件包括具有支撑基板的支撑面的支撑部和从该支撑部向两侧下方垂下的一对折弯侧板部，以从外侧覆盖所述请按去侧板部的至少下端的方式接近地设置有所述扩散防止部件。另外，所述主体具有能够引导所述可动部件滑动的引导部件，在所述主体的长度方向上，以该引导部件的长度的以上的长度设置有所述扩散防止部件。进一步地，以包围所述引导部件的端部的方式，在所述主体上设置有一对围绕部件。
另外，在本发明的第三观点中，基板输送装置是通过具有多个支撑部件的基板保持件支撑并输送基板的基板输送装置，其包括：支撑在水平方向上能够滑动地支撑所述基板保持件的滑动基部，构成为在使所述基板保持件滑动的滑动部位和外部的基板输送空间之间形成窄路的形状的、用于防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散的扩散防止部件。
在本发明的第三观点的基板输送装置中，在所述滑动基部中，在以在与所述基板保持件的滑动方向正交的方向上伸出的方式设置有所述扩散防止部件。另外，所述基板保持件具有与所述滑动基部的之间能够滑动地连接的连接部件。另外，以覆盖所述连接部件的侧面的一部分或者全部的方式接近地设置有所述扩散防止部件。另外，所述滑动基部具有能够引导所述连接部件滑动的引导部件，在所述滑动基部的长度方向上，以该引导部件的长度以上的长度设置有所述扩散防止部件。
在本发明的基本输送装置中，在所述扩散防止部件的内壁面上具有吸附材料层。该情况下，所述吸附材料层既可以由粘着性部件组成，也可以由吸液性部件构成。
本发明的基板处理系统，具有上述任何一种基板输送装置。
发明效果
根据本发明的基板输送装置，由于具有构成为在滑动部位和外部的基板输送空间之间形成狭路的形状的用于防止在所述滑动部位产生的污染源向所述基板输送空间扩散的扩散防止部件，所以能够截止在滑动部位产生的颗粒等的污染源物质，以防止向外部扩散。从而，能够预防输送基板用的基板输送装置成为发生源而因颗粒等对基板的污染的，实现可靠性高的基板处理。
附图说明
图1是概略表示真空处理系统的立体图。
图2是图1的真空处理系统的俯视图。
图3是表示在第一实施方式的输送装置中使基板保持件退避的状态的立体图。
图4是表示在第一实施方式的输送装置中使基板保持件伸出的状态的立体图。
图5是第一实施方式的具有扩散防止罩的支撑叉的截面图。
图6是具有变形例的扩散防止罩的支撑叉的截面图。
图7是在支撑叉的长度方向上的截面图。
图8是说明围绕部件的配设例的图。
图9是设置有吸附材料层的扩散防止部件的截面图。
图10是设置有吸附材料层的扩散防止部件的其他例的截面图。
图11是表示在第二实施方式的输送装置中使基板保持件退避的状态的立体图。
图12是第二实施方式的具有扩散防止罩的支撑叉的截面图。
符号说明
1a、1b、1c   加工室
3            输送室
5            负载锁定室
100          真空处理系统
101          基板保持件
111          滑动基部
113          叉基部
115          叉主体
115a         上表面
115b         侧面
117          可动叉
117a         支撑面
117b         支撑部
117c         折弯侧板部
117d         下表面
118          支撑叉
119          线性引导件
121     扩散防止罩
121a    底壁部
121b    侧壁部
121c    固定部
123     滑动块
S       基板
具体实施方式
第一实施方式
以下参照附图对本发明的实施方式进行详细说明。在此，以本发明的一个实施方式的基板输送装置和具有该基板输送装置的基板处理系统为例进行说明。图1是概略地表示作为基板处理系统的真空处理系统100的立体图。图2是概略的表示各个室的内部的俯视图。该真空处理系统100形成具有多个加工室1a、1b、1c的多室结构。真空处理系统100是作为用于例如对FPD用的玻璃基板(以下单独记做「基板」)S进行等离子体处理的处理系统而构成的。另外，作为FPD例示了液晶显示器(LCD)、电致发光(Electro Luminescence；EL)显示器、等离子体显示器屏(PDP)等。
在真空处理系统100中，多个大型室俯视时呈十字形进行连接。在中央部配置有输送室3，以与其三个侧面邻接的方式配置对基板S进行等离子处理的3个加工室1a、1b、1c。并且，以与输送室3的剩下的一个侧面邻接的方式，配置负载锁定室5。这3个加工室1a、1b、1c、输送室3和负载锁定室5都是真空室。在输送室3和各个加工室1a、1b、1c之间设置有未图示的开口部，在该开口部分别配置有具有开闭功能的闸阀7a。另外，在输送室3和负载锁定室5之间配置有闸阀7b。闸阀7a、7b在关闭状态下气密地密封各个室之间，在打开状态下使室之间连通以能够输送基板S。另外，在负载锁定室5和外部的大气气氛之间也配备有闸阀7c，在关闭状态下能够维持负载锁定室5的气密性，在打开状态下能够在负载锁定室5内部和外部基板之间输送基板S。
在负载锁定室5的外侧设置有两个盒进给器(Indexer)9a、9b。在各盒进给器9a、9b之上分别载置有用于收纳基板S的盒11a、11b。在各盒11a、11b内，上下地空出间隔多层地配置有基板S。另外，各盒11a、11b构成为，通过升降结构部13a、13b分别自由升降。在本实施方式中，例如在盒11a中收纳未处理的基板，在另一个盒11b中收纳处理过的基板。
在这两个盒11a、11b之间，设置有用于输送基板S的输送装置15。该输送装置15具有上下2层地设置的基板保持件17a和17b、以可以伸出、退避和旋转的方式支撑这些基板保持件17a、17b的驱动部19和支撑该驱动19的支撑台21。
加工室1a、1b、1c构成为，将其内部空间维持为规定的减压气氛(真空状态)。如图2所示，在各个加工室1a、1b、1c中配备有基座2作为载置基板S的载置台。而且，在各个加工室1a、1b、1c中，在基座2上载置基板S状态下，对基板S进行例如蚀刻处理、灰化处理、成膜处理等的等离子体处理。
在本实施方式中，既可以在3个加工室1a、1b、1c中进行相同的处理，也可以在每个加工室中进行不同的处理。另外，加工室的数目并不限定于3个，也可以具有4个以上。
输送室3构成为能够与作为真空处理室的加工室1a、1b、1c同样保持为规定的减压气氛。如图2所示，在输送室3中配置有输送装置23。而且，通过输送装置23能够在3个加工室1a、1b、1c和负载锁定室5之间输送基板S。
输送装置23构成为，具有上下2层地设置的输送装置，能够各自独立地进行基板S的存入取出。图3和图4是表示具有叉状的基板保持件101的上层的输送装置23a的概略结构。图3表示使基板保持件101退避的状态，图4表示使基板保持件101伸出的状态。输送装置23a的主要的结构具有滑动基部111和相对于滑动基部111能够滑动地设置的基板保持件101。基本保持件101具有通过未图示的主驱动机构在滑动基部111上能够滑动地设置的叉基部113、在该叉基部113上设置的作为“第一部件”的多个(在图3、4中为3根)叉主体115和通过未图示的副驱动机构在该叉主体115上能够滑动地设置的作为“第二部件”的多个(在图3、4中为3根)可动叉117。叉主体115和可动叉117构成作为支撑部件的支撑叉118。各个可动叉117被设置成，以各自的叉主体115为基准，在向前方延伸的伸出状态和从该伸出状态退避的退避状态之间能够进行滑动动作。并且，可动叉117构成为，通过未图示的连接部沿前后方向同步地进行进退的动作。
叉基部113可靠地固定梳齿状设置的多个叉主体115，只要是能够与滑动基部111可动式连接的结构即可。另外，叉基部113和叉主体115的连接结构也是任意的。
基板S被支撑在可动叉117上进行输送动作。上述未图示的主驱动机构和副驱动机构连动，与在滑动基部111上使叉基部113(即，基板保持件101整体)在第一行程向前方伸出的动作连动，在叉主体115上可动叉117在第二行程向前方伸出。所以，可动叉117上的基本S在伸出时，在图3中的箭头所示的方向上移动第一行程和第二行程的合计量，例如，在与任意一个加工室1a、1b、1c之间进行基板S的交接。使基板保持件101和可动叉117退避时，基板S向与伸出时相反的方向(图4中的箭头所示的方向)上移动第一行程和第二行程的合计量。
在叉主体115的上表面115a上设置有作为引导部件的线性引导件119。可动叉117由于具有与该线性引导件119接合的接合部件(在此省略图示)，通过线性引导件119可以在直线方向上被引导着进退。在叉主体115上，设置有扩散防止罩121，用于防止接受因上述线性引导件119与接合部件的滑动而可能产生的颗粒等的污染源物质(以下单独记为「颗粒」)，并防止扩散。
关于扩散防止罩121的详细构成后文有述。
在图3和图4中虽然对上层的输送装置23a进行了说明，但是下层的输送装置(图示省略)也具有与上层的输送装置23a相同的结构。而且，上下的输送装置23构成为，通过未图示的连接结构连接成一体，并能够在水平方向上旋转。另外，上下2层构成的输送装置23与未图示的驱动单元连接，以进行叉基部113和滑动叉主体115的滑动动作和滑动基部111的旋转动作和升降动作。另外，在滑动基部111上使叉基部113滑动的主驱动机构和在叉主体115上使可动叉117滑动的副驱动机构也可以是互相独立地进行驱动的结构。
负载锁定室5构成为与加工室1a、1b、1c和输送室3同样能够保持为规定的减压气氛。负载锁定室5是在大气气氛中的盒11a、11b和减压气氛中的输送室3之间进行基板S交接的部件。负载锁定室5由于在大气气氛中和减压气氛中往返的关系，其内部容积尽可能小。在负载锁定室5设置有上下2层的基板收纳部27(在图2中只显示上层)，在各个基板收纳部27中设置有支撑基板S的多个缓冲器28。另外，在负载锁定室5中与矩形状的基板S的相对的角部抵接设置有用于对准位置的定位器29。
如图2所示，真空处理系统100的各个构成部与具有作为计算机的功能的控制部30连接并受其控制(在图1中省略图示)。控制部30包括具有CPU的控制器31、用户界面32和存储部33。在真空处理系统100中，控制器31总括控制加工室1a、1b、1c、输送装置15、输送装置23等各个构成部。用户界面32由用于工序管理者管理真空处理系统100而进行口令输入操作等的键盘以及将真空处理系统100的运转状况进行可视化表示的显示器等构成。在存储部33中，保存有用于通过控制器31来实现真空处理系统100中进行的各种处理的控制程序(软件)，以及记录有处理条件数据的处理菜单。用户界面32和存储部33与控制器31连接。
而且，根据需要，可以按照来自用户界面32的指示等从存储部33读出任意的处理菜单并通过控制器31加以执行，在控制器31的控制下，在真空处理系统100中进行所希望的处理。
所述控制程序和处理条件数据等的菜单可以利用存储在计算机能够读取的存储介质、例如CD-ROM、硬盘、软盘、闪存等中的状态。或者，能够从其他的装置例如通过专用线路随时传送而在线加以利用。
下面，对于由以上方式构成的真空处理系统100的动作进行说明。
首先，驱动输送装置15的两个基板保持件17a、17b，从收纳有未处理基板的盒11a中接受基板S，分别载置到负载锁定室5的上下2层的基板收纳部27的缓冲器28上。
在使基板保持件17a、17b退避之后，关闭负载锁定室5的大气侧的闸阀7c。然后，对负载锁定室5内进行排气，将内部减压到规定的真空度。然后，打开输送室3和负载锁定室5之间的闸阀7b，通过输送装置23的基板保持件101，接受收纳在负载锁定室5的基板收纳部27上的基板S。此时，使叉基部113(基板保持件101全体)相对于滑动基部111进行滑动，并且使各可动大片117相对于各叉主体115进行滑动，由此使可动叉117伸出或退避，进行基板S的交接。
接着，在通过输送装置23的基板保持件101保持基板S的状态下，通过叉基部113和可动叉117的滑动动作与滑动基部111的旋转动作及升降动作的配合，将基板S搬入加工室1a、1b、1c的任何一个当中，交给基座2。在加工室1a、1b、1c中对基板S实施蚀刻等规定的处理。然后，通过与上述相同的滑动动作，将处理过的基板S从基座2交给输送装置23的基板保持件101，从加工室1a、1b、1c中搬出。
接着，基板S通过与上述相反的路线经过负载锁定室5，通过输送装置15被收纳在盒11b。另外，也可以将处理过的基板S送回到原来的盒11a。
下面，参照图5至图10，对于本发明中的扩散防止部件的详细结构，以安装在基板保持件101上的扩散防止罩121为例进行说明。首先，对安装有扩散防止罩121的基板保持件101的结构进行说明。图5表示在图3所示的退避状态下，叉主体115和可动叉117重合的部分的支撑叉118的横截面图。基板保持件101的叉主体115形成长的中空的方筒状。作为叉115的材质使用轻量且具有高刚度的材质，例如CFRP(碳纤维强化塑料)等，以在载置大型的基板S的状态下不会由于负载而发生挠曲。另外，叉主体115例如可是实心的板状。
可动叉117是其横截面为倒U字形的长的板材。可动叉117aa包括具有支撑基板S的支撑面117a的支撑部117b和从支撑部117b折弯向其两侧下方裙状垂下的一对的折弯侧板部117c。折弯侧板部117c虽然是以使可动叉117轻量化并维持机械强度为目的设置的，但是在本实施方式中与扩散防止罩121同时具有封锁颗粒的作用。在由可动叉117的支撑部117c和一对相对的折弯侧板部117c形成的空间中，插入叉主体115。可动叉117由与叉主体115相同的材质构成。
如上所述，在叉主体115的上表面115a上，在其长度方向上设置有线性引导件119。另外，在可动叉117的支撑部117b的下表面117d上，设置有作为卡合部件的滑动块123。滑动块123与线性引导件119卡合并滑动，规定可动叉117相对于叉主体115的进退方向和进退行程。这样，线性引导件119和滑动块123和未图示的副驱动部构成使可动叉117滑动的滑动单元。
在叉主体115上安装有作为扩散防止部件的扩散防止罩121。扩散防止罩121具有底壁部121a和从该底壁部121a开始大致垂直竖起的侧壁部121b。另外，扩散防止罩121具有从底壁部121a大致折弯成直角而形成的固定部121c。底壁部121a和侧壁部121b形成截面为L字形。扩散防止罩121的材质只要是能安装在叉主体115上的就无特别限定，例如可以使用铝等的金属和合成树脂等。扩散防止罩121通过例如螺钉或粘接剂等的固定方法(未图示)，通过固定部121c被固定到叉主体115上。另外，扩散防止罩121的固定方式并没有特别限定，例如，既可以设计为装卸自由的方式，也可以设计为通过焊接等与叉主体115构成一体。
扩散防止罩121的底壁部121a沿着与支撑叉118的长度方向垂直的方向(叉主体115和可动叉117的横截方向)大致水平地伸出。底壁部121a具有截止因滑动块123与线性引导件119摩擦而产生并落下的颗粒的作用。在图5中，以虚线箭头模式表示在滑动块123与线性引导件119的滑动部位(滑动部位)产生的颗粒到落下截止到扩散防止罩121的底壁部121a上的轨迹。
以与叉主体115的侧面115b以及可动叉117的折弯侧板部117c大致平行地、而且至少覆盖折弯侧板部117c的下端的方式，接近折弯侧板部117c设置扩散防止罩121的侧壁部121b。扩散防止罩121的侧壁部121b与底壁部121a同样地截止颗粒，并具有封锁颗粒以不向外部飞散的作用。为了该目的，如图所示，在使从叉主体115的底面115c到可动叉117的支撑面117a的高度为H1，使扩散防止罩121的侧壁部121b的上端的高度为H2，使可动叉117的折弯侧板部117c的下端的高度为H3的情况下，为H1＞H2＞H3。即，在叉主体115的侧面115b和扩散防止罩121的侧壁部121b之间，插入可动叉117的折弯侧板部117c的下端。而且，可动叉117的折弯侧板部117c和扩散防止罩121的侧壁部121b之间的间隔形成的较窄，形成颗粒不能向外部扩散的窄路。通过构成这种结构，能够防止被扩散防止罩121截止的颗粒飞舞而向扩散防止罩121的外侧飞散。即，在滑动块123和线性引导件119的滑动部位与外部的基板输送空间之间形成窄路，能够防止由于使可动叉117滑动而产生的颗粒向基板输送空间扩散。
另外，扩散防止罩121也可以采用不是具有底壁部121a和侧壁部121b的形状，例如如图6所示，而具有截面为圆弧状的弯曲的形状的扩散防止罩121A。这种情况下，接近可动叉117的折弯侧板部117c而设置扩散防止罩121A的上端部，将被扩散防止罩121A截止的颗粒封锁到内侧。
图7是在使可动叉117退避的状态时的一根支撑叉118的长度方向上的截面图。如图所示，在叉主体115的长度方向上，以尽可能覆盖线性引导件119延伸的范围的方式配置比线性引导件119更长的扩散防止罩121。如上所述，可动叉117通过滑动块123与线性引导件119卡合并滑动而进行伸出或退避。所以，通过以尽可能覆盖最容易产生颗粒的滑动块123的移动范围的方式配置扩散防止罩121，能够截止从滑动部位落下的颗粒。另外，在图7中虽然图示了具有两个滑动块123的结构，但是滑动块123即可以是1个也可以是3个以上。
在本实施方式的基板保持件101中，为了封锁在滑动块123和线形119的滑动部位产生的颗粒，而不向外部扩散，如图8所示，还可以设置一对围绕部件125a、125b。一对围绕部件125a、125b是在叉主体115的上表面115a上立起设置的俯视呈U字型的壁，以从前后包围线性引导件119的基端部119a和前端部119b的方式相面对地配置。如上所述，由于可动叉117通过滑动块123与线性引导件119卡合并滑动而伸出或退避，所以在伸出动作中朝向线性引导件119的前端部119b侧，在退避动作中朝向线性引导件119的基端部119a侧，分别容易产生颗粒的飞散。一对围绕部件125a、125b具有截止在滑动部位产生的颗粒，防止向叉主体115的前端部侧或基端部侧落下的作用。被一对围绕部件125a、125b截止的颗粒，即使从侧方落下也能被扩散防止罩121截止。所以，优选在能够覆盖一对围绕部件125a、125b的两方的范围内、在其下方设置扩散防止罩121。这样，在本实施方式的基板保持件101中，具有扩散防止罩121以及根据需要还具有一对围绕部件125a、125b，由此有效地封锁在滑动结构的滑动部位产生的颗粒、防止向外部的扩散。另外，围绕部件125a、125b可以只配置其中任何一个。
参照图9和图10对于进一步增强封锁颗粒的效果的结构进行说明。图9是在扩散防止罩121的底壁部121a的内面和侧壁部121b的内面作为吸附材料层设置有吸附颗粒的粘着片131。例如能够采用具有粘着性的合成树脂等的材质构成粘着片131。通过粘着片131能够吸附并捕捉在扩散防止罩121内飞翔或落下来的颗粒，所以能够更加可靠地防止颗粒向外部的扩散。
另外，在图9中不仅是在扩散防止罩121的内面，在叉主体115的侧面115b以及在退避状态下与该侧面115b相对的可动叉117的折弯侧板部117c的内面也设置有粘着片131。如上所述，由于相对于叉主体能够滑动地设置可动叉117，所以在使可动叉117最大限度地退避状态下，叉主体115的侧面115b以及可动叉117的折弯侧板部117c的内面的大部分是不互相面对而是对外部露出的状态。另外，在伸出状态下，在可动叉117的下方不存在扩散防止罩121。所以，假如在滑动机构的滑动部位产生的颗粒附着在可动叉117的折弯侧板部117c的内面上，则可能会使颗粒落下或飞散而引起颗粒污染。另外，在使可动叉117伸出的状态下，由于叉主体115的侧面115b露出，所以如果有在该侧面115b上附着有颗粒则容易飞散到周围。如图9所示，通过在叉主体115的侧面115b以及可动叉117的折弯侧板部117c的内面配备粘着片131，附着在他们表面的颗粒被吸附并牢固地捕捉，能够防止落下和飞散。另外，即可以以覆盖成为配置对象的壁面的整体的方式设置粘着片131，也可以只在一部分上设置。
图10是在扩散防止罩121的底壁部121a的内面作为吸附材料层设置有吸液片133。吸液片133例如可以由海绵等的多孔质素材和纤维素材等的液体吸收能力·液体保持能力优良的材质构成。在滑动块123和线性引导件119的滑动部位上，有时会注入用于能够圆滑滑动的润滑油(Grease)等。其润滑油随着滑动动作变成微小的油滴飞散到周围，会引起基板S的污染。吸液片133吸收并捕捉向扩散防止罩121内落下来的润滑油的微小的油滴。另外，吸液片133吸收并捕捉顺着可动叉117的折弯侧板部117c的内壁面或叉主体115的侧面115b流下来的油。
吸液片133由于吸收、保持液体的能力优良，所以会封锁已经捕捉到的油，防止向外部扩散。其结果，能够有效地防止由于油污染基板S。在图10中，在防止扩散盖121的底壁部121a以外的侧壁部121b的内面和叉主体115的侧面115b以及可动叉117的弯曲侧壁部117c的内面上，与图9同样的设置有吸附颗粒的粘着片131。这样，作为吸附材料层通过组合使用性质不同的粘着片131和吸液片133，能够更加可靠地地防止由于颗粒等的污染源物质污染基板S。当然，在扩散防止罩121的侧壁部121b的内面和叉主体115的侧面115b以及可动叉117的折弯侧板部117c的内面上也可以配置吸液片133。另外，即可以以覆盖成为配置对象的壁面的全体的方式设置吸液片133，也可以只在一部分上设置。
上述粘着片131和吸液片133，例如通过双面胶带等固定并定期更换，能够防止其自身成为污染源物质的发生源。
第二实施方式
下面，参照图11和图12对本发明的第二实施方式涉及的基板输送装置进行说明。首先，参照作为外观立体图的图11关于能够使用于本实施方式的扩散防止罩的输送装置200的概略构成进行说明。在图11中为了明确地显示输送装置200的结构，显示没有安装扩散防止罩的状态。如图11所示，输送装置200是基板保持件205悬挂在滑动基部201上的结构。输送装置200作为主要结构具有滑动基部201、具有连接滑块203并相对于滑动基部201能够滑动地设置的基板保持件205和支撑滑动基部201的多个框架207(在图11中有两个)。另外，图11表示使基板保持件205退避的状态。该输送装置200是在图1和图2的真空处理系统100中，能够替代第一实施方式的输送装置23使用的部件。另外，输送装置200可以多层例如上下2层地具有滑动基部201和基板保持件205。
滑动基部201是为长尺的板状，沿着其长度方向在两端具有滑动部201a。另外，在各个滑动部201a上形成有引导件(在图11中省略，参照图12)。滑动基部201被固定在以横切上方的方式配置的两个框架207上，由此而被支撑。输送装置200构成为通过未图示的驱动机构，能够与两个框架207一体地升降和旋转。
基板保持件205具有上述一对连接滑块203、203(在图11中只显示单侧)、固定在这些连接滑块203上并相对于滑动基部201能够滑动地设置的叉基部209、在该叉基部209上设置的多个(例如3个)叉主体211和通过未图示的副驱动机构在各个叉主体211上能够滑动地设置的可动叉213。连接滑块203在被固定在叉基部209上，并且通过与滑动基部201的滑动部201a卡合，悬挂基板保持件205整体。而且，连接滑块203与滑动部201a卡合并通过未图示的主驱动结构使叉基部209(即，基板保持件205)滑动。
叉主体211和可动叉213构成作为支撑部件的支撑叉215。以各个叉主体211为基准，在向前方(图11的箭头F的方向)延伸的伸出状态和从该伸出状态向后方(图11的箭头B的方向)退避的退避状态之间能够进行滑动动作地设置各个可动叉213。另外，可动叉213通过未图示的连接部同步地沿前后进行进退动作。
叉基部209可靠地固定梳齿状设置的多个叉主体211，只要是能够与滑动基部201可动式连接的部件的结构即可。另外，叉基部209和叉主体211的连接结构可以是任何结构。
基板S被支撑在可动叉213上进行输送动作。通过上述未图示的主驱动结构和副驱动结构，相对于滑动基部201在第一行程中使叉基部209(即，基板保持件205整体)向前方(图11中的箭头F的方向)伸出，并在叉主体211上在第二行程中使可动叉213向前方伸出。所以，可动叉213上的基板S在伸出时，向前方移动第一行程和第二行程的合计量，例如在与加工室1a、1b、1c任意一个之间交接基本S。基板保持件205和可动叉213退避时，在与基板S伸出时相反的方向(图11中的箭头B的方向)上移动第一行程和第二行程的合计量。
图12是从图11的箭头B的方向观看在安装有作为扩散防止部件的扩散防止罩221的状态的输送装置200中的与滑动基部201和支撑叉215的长度方向正交的方向上的截面的放大图。扩散防止罩221安装在滑动基部201上。即，在本实施方式中，滑动基部201是“第一部件”，含有连接滑块203的基板保持件是205是“第二部件”。扩散防止罩221具有上壁部221a和从该上壁部221a上大致垂直地垂下的侧壁部221b。上壁部221a和侧壁部221b形成断面为L字型。扩散防止罩221的材质与第一实施方式相同。扩散防止罩221例如通过螺钉和粘接剂等的固定方法(未图示)，被固定到滑动基部201上。另外，扩散防止罩221的固定方法并没有特别限定，例如既可以设计为装卸自由，也可以设计为通过焊接等与叉基部201构成一体。
扩散防止罩221的上壁部221a，在与滑动基部201的长度方向正交的方向上大致水平地伸出。如图12所示，被固定在叉基部209上的一对连接滑块203、203各自与在滑动基部201的左右的滑动部201a上凸出设置的引导件201b卡合。而且，通过连接滑块203沿着引导件201b滑动移动而使基板保持件205整体在水平方向上滑动。扩散防止罩221具有使在连接滑块203和引导件201b的滑动部位(滑动部位)产生的颗粒不向外部的输送空间扩散的作用。即，扩散防止罩221的上壁部221a和侧壁部221b以分别与连接滑块203的外侧的上表面203a和侧面203b大致平行且覆盖连接滑块203的至少上部的方式设置。扩散防止罩221的上壁部221a和连接滑块203的上表面203a、以及扩散防止罩221的侧壁部221b和连接滑块203的侧面203b的间隔都形成的较窄，形成颗粒不能向外部的基板输送空间扩散的窄路。
另外，扩散防止罩221只要是能够在与连接滑块203之间形成窄路的形状即可，例如连接滑块的形状是弯曲的情况下，扩散防止罩也可以是形成为圆弧状的弯曲的形状。
在本实施方式中，以进一步遮蔽在滑动基部201的左右形成的滑动部201a的方式配置有辅助罩223。辅助罩223以与连接滑块203的内侧的侧壁面203c平行且接近方式设置。辅助罩223截止因连接滑块203的移动而在与引导件201b之间产生的颗粒，防止落在滑动基部201的下方的基板上。
另外，虽然省略图示但与第一实施方式相同，以能够覆盖滑动基部201的引导件201b的形成范围的长度设置扩散防止罩221和辅助罩223。另外，与第一实施方式相同，扩散防止罩221可以在其内壁面设置由粘着片和吸液片构成的吸附材料层。
另外，在输送装置200的个支撑叉215的叉主体211上，设置有与地以实施方式相同结构的扩散防止罩221。该扩散防止罩221的结构与作用语第一实施方式说名的相同。另外，在本实施方式中，支撑叉215的扩散防止罩221的安装时任意的，也可以不设置。
在本实施方式中的其他的结构和作用与第一实施方式相同。
以上，虽然通过例示的目的详细说明了本实施方式，但是本发明并不被制约于上述实施方式。本领域技术人员可以不脱离本发明的思想和范围完成诸多改变，均包含在本发明的范围内。例如，在第二实施方式中，以在滑动基部201的滑动部201a上设置有扩散防止罩221的方式，也可以在第一实施方式的滑动基部111的滑动部设置扩散防止罩。另外，在上述实施方式中，虽然以在真空状态中进行输送基板S的输送装置23为例进行了说明，但是扩散防止罩121、221也能够适用于在大气压状态下进行输送基板S的输送装置15。
另外，具有扩散防止罩121、221的本发明的基板输送装置并不限制于以FPD制造用的玻璃基板为输送对象的输送装置，例如也适用于以太阳能电池用的基板等各种用途的基板为输送对象的输送装置。
另外，本发明的基板输送装置的结构并不限定于上下两层配备的滑动方式，也可以是一层，也可以是3层。另外，在上下两层配备的第一实施方式的滑动式的输送装置23中，能够只对上层的输送装置23a设置扩散防止罩121。

Claims (12)

1.一种基板输送装置，其支撑并输送基板，其特征在于，包括：
第一部件；
相对于该第一部件能够滑动地设置的、支撑基板的第二部件；和
设置在所述第一部件上的扩散防止部件，
利用所述扩散防止部件，在使所述第二部件滑动的滑动部位和外部的基板输送空间之间形成窄路，防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散，其中，
在所述第一部件上，以在与所述第二部件的滑动方向正交的方向上伸出的方式设置所述扩散防止部件，
以覆盖所述第二部件的侧面的一部分或者全部的方式设置所述扩散防止部件。
2.一种基板输送装置，其通过具有多个支撑部件的基板保持件支撑并输送基板，其特征在于：
所述支撑部件具有：
主体；
相对于该主体能够滑动地设置的、支撑基板的可动部件；和
设置在所述主体上的扩散防止部件，
利用所述扩散防止部件，在使所述可动部件滑动的部位和外部的基板输送空间之间形成窄路，防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散，其中，
在所述主体上，以在与所述可动部件的滑动方向正交的方向上伸出的方式设置所述扩散防止部件，
以覆盖所述可动部件的侧面的一部分或者全部的方式设置所述扩散防止部件。
3.如权利要求2所述的基板输送装置，其特征在于：
所述扩散防止部件具有底壁部和从该底壁部立起设置并覆盖所述可动部件的侧面的一部分或者全部的侧壁部。
4.如权利要求3所述的基板输送装置，其特征在于：
所述可动部件包括具有支撑基板的支撑面的支撑部和从该支撑部向两侧下方垂下的一对折弯侧板部，
以从外侧至少覆盖所述折弯侧板部的下端的方式，与所述折弯侧板部接近地设置有所述扩散防止部件。
5.如权利要求4所述的基板输送装置，其特征在于：
所述主体具有能够滑动地引导所述可动部件的引导部件，在所述主体的长度方向上，以该引导部件的长度以上的长度设置有所述扩散防止部件。
6.如权利要求5所述的基板输送装置，其特征在于：
以包围所述引导部件的端部的方式，在所述主体上设置有一对围绕部件。
7.一种基板输送装置，其通过具有多个支撑部件的基板保持件支撑并输送基板，其特征在于：包括
在水平方向上能够滑动地支撑所述基板保持件的滑动基部；和
设置在所述滑动基部上的扩散防止部件，
利用所述扩散防止部件，在使所述基板保持件滑动的滑动部位和外部的基板输送空间之间形成窄路，防止在所述滑动部位产生的污染源物质向所述基板输送空间扩散，其中，
在所述滑动基部，以在与所述基板保持件的滑动方向正交的方向上伸出的方式设置所述扩散防止部件，
所述基板保持件具有与所述滑动基部之间能够滑动地连接的连接部件，
以覆盖所述连接部件的侧面的一部分或者全部的方式，与所述连接部件接近地设置所述扩散防止部件。
8.如权利要求7所述的基板输送装置，其特征在于：
所述滑动基部具有能够滑动地引导所述连接部件的引导部件，在所述滑动基部的长度方向上，以该引导部件长度以上的长度设置有所述扩散防止部件。
9.如权利要求1至7中任一项所述的基板输送装置，其特征在于：在所述扩散防止部件的内壁面具有吸附材料层。
10.如权利要求9所述的基板输送装置，其特征在于：
所述吸附材料层由粘着性部件构成。
11.如权利要求9所述的基板输送装置，其特征在于：
所述吸附材料层由吸液性部件构成。
12.一种基板处理系统，其特征在于：
具有权利要求1至7中任一项所述的基板输送装置。
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