TWI477655B - 電化學方法中釋氧用的電極及其製法和應用 - Google Patents

電化學方法中釋氧用的電極及其製法和應用 Download PDF

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Description

電化學方法中釋氧用的電極及其製法和應用
本發明係關於一種電極,適合當做電化電池中之陽極,例如電冶法用的電化電池中之釋氧陽極。
本發明係關於適用於工業電化學方法中之電極,例如在電解應用中涉及釋氧之陽極反應。釋氧陽極廣用於若干電化應用,許多落在電冶金領域,涵蓋廣範圍的應用電流密度,可從很低(例如數百A/m2 ,像在電解冶金法),到很高(例如在快速電鍍中,對陽極表面可能超過10 kA/m2 );釋氧陽極之另一應用場合是,外施電流陰極榜首所賦予。適於陽極釋氧之電極製法是,從閥金屬基材開始,例如鈦及其合金,塗佈過渡金屬或其合金質催化性之組成物,其特徵為,有能力降低氧放電之陽極過電壓,在無催化性系統存在下,高到無法進行工業製法。適於催化陽極釋氧之組成物,包含例如銥和鉭的氧化物混合物,其中銥構成催化性活性物種,而鉭有利於形成結實塗膜,能夠保護閥金屬基材,免於腐蝕現象,尤其是以侵蝕性電解質操作時。在許多工業電化學方法中適於陽極釋氧之陽極配方,包括鈦基材,和催化性塗膜,由銥和鉭的氧化物組成,就金屬之莫耳組份言,為65%Ir和35%Ta。在若干情況下,例如以很酸性或另一說法是侵蝕性電解質操作,有利於在鈦基材和催化性塗膜間介置保護性中介層,催化性塗膜係例如鈦和鉭之氧化物組成,其莫耳組成份就金屬言,為80%Ti和20%Ta。此種電極可以多種方式製備,例如母質溶液在例如400-600℃的高溫進行熱分解。上述組成份之電極,符合許多工業應用上的需要,不論電流密度高低,均有合理的操作壽命。有些生產性製法之經濟,尤其是在電冶金領域(例如在電鍍法中的銅澱積,以製造印刷電路和銅箔),卻需要期限愈來愈長的電極,對照也在高電流密度之適當降低釋氧電位:釋氧電位事實上是決定製法操作電壓之主要因素,亦即影響總體耗電量。再者,在閥金屬基材上基於貴金屬或其氧化物的陽極操作壽命,於特別侵蝕性污染物存在下明顯降低,能夠建立腐蝕加速現象,或陽極表面結垢。前一型式之例為氟離子,決定特殊攻擊閥金屬,諸如鈦會很高使電極失活:在若干工業環境內,面臨大費成本把氟化物濃度降到極低水準,因為氟離子含量超過0.2 ppm,對陽極的期限已能顯示敏感效應。後一型式之例反而是鎂離子,存在於若干工業電解質內,典型量為2-30 g/l,從濃度低至1 g/l開始,有在陽極表面形成MnO2 層薄膜的傾向,容易堵住催化活性,不造成損壞,難以去除。
是故,顯然亟需提供一種釋氧用陽極,其特徵為操作壽命更長,甚至在特別關鍵製法條件下亦然,諸如高電流密度,或在特具侵蝕性電解質存在下,例如由於有污染物種存在之故。
本發明諸項要旨列在所附申請專利範圍內。
在一具體例中,本發明係關於一種電極,適於在電解法中做陽極用,包括鈦或其他閥金屬基材,和催化性塗膜,由一層或數層組成,其最外層適於與電解質接觸,由銥、鉭和鈦之氧化物組成,其莫耳組成份就金屬而言為,Ir 76-84%、Ta 15-23%、Ti 0.2-1.3%。本發明人等意外觀察到,於甚富有銥之催化性組成物內添加少量鈦,有能力提高陽極釋氧所用電極之期限到明顯程度,又能改進其容忍污染物種之存在。在一具體例中,由複數層組成的催化性塗膜,包括由銥和鉭的氧化物組成之內層,其莫耳組成份就金屬而言為Ir 60-70%和Ta 3040%,和由銥、鉭、鈦的氧化物組成之外層,其莫耳組成份就金屬而言為Ir 76-84%、Ta 15-23%、Ti 0.2-1.3%。此優點是使迄今為電極最貴成份的銥分佈更佳,對指定總體負載之效率達最大。銥在催化性塗膜內之最適總體負載,視電極注定的特殊應用型式,以及陽極在如此應用中所需最低操作壽命而定:在一具體例中,銥在催化性塗膜內之總體比負載為20-50 g/m2 ,可視需要分為含總體負載15-25%之內層,和含其餘之外層。
在一具體例中,保護性中介層,例如為鈦和/或鉭氧化物質,介置於基材和催化性層之間。在一具體例中,中介層係由鈦和鉭的氧化物之混合物組成,就鐵而言的組成份為Ti 75-85%、Ta 15-25%。在另一具體例中,保護性中介層由鈦氧化物組成,係由鈦基材經熱氧化過程所形成。此等具體例之優點是,提供基材有適當保護形式,以防電解質腐蝕侵襲,而不過度加重電極成本。凡精於此道之士,均能識別其他種保護性中介層,諸如鈦和/或鉭氧化物,按照特殊需要,應用方式有火焰或電漿噴濺、電鍍或利用化學或物理蒸氣澱積之不同技術,可視需要在真空(CVD、PVD、IBAD濺射)。
本發明人所得若干最重要結果,在以下實施例中明,無意做為本發明程度之限制。
實施例1
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片施以鈦和鉭的氧化物基質呈80:20重量比之保護層,總負載以金屬言為0.6 g/m2 (等於按氧化物計為0.87 g/m2 )。施加保護層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化而得),噴塗三次為之,隨後在500℃熱分解。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥、鉭、鈦之氧化物基質,呈78:20:2重量比(相當於莫耳比約80.1:19.4:0.5),銥總負載為45 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化,再添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為195 g/l而得),噴塗22次為之,隨後在480℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為5245小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l和5 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間分別為3715和980小時。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為3900小時。
實施例2
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片施以鈦和鉭的氧化物基質呈80:20重量比之保護層,總負載以金屬言為0.6 g/m2 (等於按氧化物計為0.87 g/m2 )。施加保護層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化而得),噴塗三次為之,隨後在500℃熱分解。
再於保護層施以由二層組成之催化性塗膜:第一層(內層)係銥和鉭之氧化物基質,呈65:35重量比(等於莫耳比約66.3:36.7),銥總負載為10 g/m2 ,第二層(外層)係銥、鉭、鈦之氧化物基質,呈78:20:2重量比(相當於莫耳比約80.1:19.4:0.5),銥總負載為35 g/m2
施加催化性內層係以母質溶液(於TaCl5 水溶液,添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為76 g/l而得),噴塗8次為之,隨後在520℃熱分解。
施加催化性外層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化,再添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為195 g/l而得),噴塗14次為之,隨後在480℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為6270小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l和5 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間分別為4080和1360小時。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為4420小時。
實施例3
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片在空氣存在下施以650℃熱處理3小時,成長氧化鈦保護層。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥、鉭、鈦之氧化物基質,呈80:15:5重量比(相當於莫耳比約83.9:14.8:1.3),銥總負載為45 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化,再添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為195 g/l而得),噴塗20次為之,隨後在480℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為4980小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l和5 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間分別為3630和920小時。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為2100小時。
實施例4
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,利用電漿噴濺,澱積鈦和鉭為70:30重量比之保護層,厚度約25 μm。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥、鉭、鈦之氧化物基質,呈75:24:1重量比(相當於莫耳比約76.6:23.1:0.3),銥總負載為20 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化,再添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為195 g/l而得),噴塗15次為之,隨後在480℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為3600小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l和5 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間分別為870和120小時。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為2460小時。
比較例1
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片施以鈦和鉭的氧化物基質呈80:20重量比之保護層,總負載以金屬言為0.6 g/m2 (等於按氧化物計為0.87 g/m2 )。施加保護層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化而得),噴塗三次為之,隨後在500℃熱分解。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥和鉭之氧化物基質,呈65:35重量比,銥總負載為45 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TaCl5 水溶液,添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為76 g/l而得),噴塗29次為之,隨後在520℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為2800小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間在100小時以下。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為1550小時。
比較例2
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片施以鈦和鉭的氧化物基質呈80:20重量比之保護層,總負載以金屬言為0.6 g/m2 (等於按氧化物計為0.87 g/m2 )。施加保護層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化而得),噴塗三次為之,隨後在500℃熱分解。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥和鉭之氧化物基質,呈80:20重量比,銥總負載為45 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TaCl5 水溶液,添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為76 g/l而得),噴塗30次為之,隨後在520℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為2940小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間在100小時以下。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為1020小時。
比較例3
取1級鈦片尺寸200×200×3 mm,經脫脂,先用鐵渣噴砂到表面粗糙度Rz 值為70-100 μm,再以20%重量HCl於90-100℃溫度蝕刻20分鐘。
乾燥後,對鈦片施以鈦和鉭的氧化物基質呈80:20重量比之保護層,總負載以金屬言為0.6 g/m2 (等於按氧化物計為0.87 g/m2 )。施加保護層係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化而得),噴塗三次為之,隨後在500℃熱分解。
再於保護層施以催化性塗膜,係銥、鉭、鈦之氧化物基質,呈63:35:2重量比,銥總負載為45 g/m2 。施加催化性塗膜係以母質溶液(於TiCl4 水溶液,添加TaCl5 水溶液,以HCl酸化,再添加H2 IrCl6 ,直到Ir濃度為76 g/l而得),噴塗29次為之,隨後在520℃熱分解。
從所得電極切出表面積10 cm2 的三個樣品,在陽極釋氧下,經加速使用壽命測試,於150 g/l H2 SO4 內,在溫度60℃,電流密度30 kA/m2 ,測量失活時間(定義為觀察電位提高1 V所需操作時間)。
三個樣品平均失活時間為2170小時。
同樣系列的三個樣品,在1 mg/l氟離子存在下,經同樣測試:經此測試後,測得平均失活時間在100小時以下。
同樣系列的三個樣品,在20 g/l鎂離子存在下,經測試:經此測試後,測得平均失活時間為940小時。
前述無意限制本發明,可按照不同具體例使用,不違本發明範圍,而其程度純以所附申請專利範圍界定。
在本案說明書全文和申請專利範圍中,「包括」等字樣並非排除元件或添加物存在。
說明書內提到的文件、作用、材料、裝置、文章等,只是為本發明提供文脈,並不擬議或代表其任何部份或全部,在本案各申請專利範圍優先權日之前,形成先前技術之一部份,或與本發明相關領域之一般常識。

Claims (14)

  1. 一種電化學方法中釋氧用的電極,包括閥金屬基材,和催化性塗膜,包括銥、鉭和鈦的氧化物之外層,其莫耳組成份就金屬而言,為Ir 76-84%、Ta 15-23%、Ti 0.2-1.3%者。
  2. 如申請專利範圍第1項之電極,其中該催化性塗膜包括銥和鉭的氧化物之內層,其莫耳組成份就金屬而言為Ir 60-70%、Ta 30-40%者。
  3. 如申請專利範圍第1項之電極,其中該催化性塗膜的銥比負載為20-50g/m2 者。
  4. 如申請專利範圍第1項之電極,其中該內層的銥比負載,相當於該催化性塗膜的銥總體比負載15-25%者。
  5. 如申請專利範圍第1項之電極,其中包括中介保護層,以鈦或鉭之氧化物為基質,介置於該基材和該催化性塗膜之間者。
  6. 如申請專利範圍第5項之電極,其中該中介保護層係由鈦和鉭的氧化物之混合物組成,其莫耳組成份就金屬而言為Ti 75-85%、Ta 15-25%者。
  7. 如申請專利範圍第5項之電極,其中該基材閥金屬係鈦,而該中間保護層係由基材經熱氧化形成之氧化鈦組成者。
  8. 一種如申請專利範圍第1項至第7項任一項電極之製法,包括形成該外層,應用含銥母質之溶液,濃度高於每公升180克銥,並隨後經熱分解者。
  9. 一種如申請專利範圍第2項至第7項任一項電極之製法,包括形成該內層,應用含銥母質之溶液,濃度包括每公升介於70和80克銥,隨後經熱分解者。
  10. 一種如申請專利範圍第5項電極之製法,包括形成該中介保護層,利用選自火焰或電漿噴濺、電鍍澱積,和化學或物理蒸氣澱積之技術,可視需要在真空下進行者。
  11. 如申請專利範圍第8項之製法,其中該銥母質為H2 IrCl6 者。
  12. 一種工業電化學方法,包括在如申請專利範圍第1項至第7項任一項之電極上,從電解質浴,在陽極釋氧者。
  13. 如申請專利範圍第12項之方法,其中該電解質浴含至少0.2ppm氟離子者。
  14. 如申請專利範圍第12項之方法,其中該電解質浴含至少1g/l鎂離子者。
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