TWI467001B - 氣化反應器及夾帶流氣化的方法 - Google Patents

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Description

氣化反應器及夾帶流氣化的方法
本發明係關於一種氣化細粒燃料材料之方法及裝置，該等燃料材料諸如來自煤炭、石油焦、生物廢料或燃料材料之粉狀燃料材料以及來源自油、焦油、精煉廠殘渣及適於在氣化器中霧化以生成主要由一氧化碳及氫及在下文中稱為原料氣體組成之原料合成氣體之其他液體殘渣的液體燃料。
已知大量該類型之方法及裝置。典型構造為具有位於底部之熔渣排放口及位於頂部之氣體出口之構造。專利案US 3,963,457描述一種具有彼此相對之水平燃燒器、位於底部之熔渣排放口及位於頂部之氣體出口及氣體淬火以及循環冷卻氣體過程之Koppers－Totzek氣化器。EP 0 400 740 B1描述一種具有水平燃燒器、位於底部之熔渣排放口及位於頂部之氣體出口及向上氣體淬火及垂直混合管之Shell氣化器。專利US 4,936,871描述一種具有位於頂部之氣體出口及向上氣體淬火且同樣具有垂直混合管之Koppers氣化器。專利US 5,441,547概述一種亦具有位於頂部之氣體出口及向上氣體淬火且同樣配備有垂直混合管、反轉裝置及向下熱交換器之PRENFLO氣化器。專利US 4,950,308涉及一種具有水平燃燒器、位於底部之熔渣排放口及位於頂部之氣體出口以及輻射冷卻器及氣體淬火之Krupp－Koppers 氣化器。大部分Koppers－Totzek氣化器具有水淬火，其允許冷卻至與所生成之氣體之露點相差甚遠的約1000℃，與用於噴水之噴嘴。
該等技術之缺點在於單元之高構造且缺乏足夠進一步冷卻所生成之原料氣體的能力。若意欲使用利用剩餘水之水淬火單元使合成氣體冷卻至露點，則將存在水滲透至配置在該層面以下之燃燒器中之風險，此構成安全風險。此外，若淬火水已滲透至氣化器反應區中，則將發生熱動力學缺點。
亦存在特殊類型之氣化器構造，其在底部具有用於排放原料氣體及熔渣之孔以及利用浸水管進行水淬火。例如，專利US 4,247,302描述一種具有配置在上部之燃燒器及位於底部用於氣體及熔渣之共同排放開口的Texaco氣化器。一分離容器安裝在氣化器下方，熔渣自該分離容器向下流至熔渣槽中，而合成氣體用管輸送穿過側出口並進入氣體淬火容器中。該類型之缺點在於需要數個容器且系統因為在熱熔渣粒子尚未固化就必須輸送而易堵塞之事實，對分離容器與淬火容器之間的管道而言尤其如此。
專利US 4,494,963涉及一種具有配置在上部之燃燒器及位於下部用於氣體及熔渣之共同出口之Texaco氣化器。配置在該氣化器下方之液體淬火單元主要由經冷卻劑(諸如水)潤濕且浸在水浴中之管組成。專利EP 0 278 063 A2描述一種類似系統。專利EP 0 374 324 A1說明如何潤濕該浸水管之內部。其他典型類型之構造概述於文獻US 4,992,081及US 5,744,067中。
採用經液體膜潤濕之浸水管之部署防止結垢形成。該膜覆蓋壁，執行一垂直運動，冷卻且從而防止結垢形成。然而，該概念之缺點在於淬火出口溫度依賴於水浴中氣泡之大小及停留時間，而該出口溫度又影響數個因素，諸如氣體通過量、壓力、水浴中之固體含量；此引起出口溫度變化且阻礙煙道灰燼有效分離。另外，浸水管之下端交替與極熱氣體及水接觸，如此將發生快速的材料疲勞及結垢形成。
亦已知之構造類型提供所生成合成氣體及熔渣之向下流及用於冷卻之噴灑型淬火單元。例如，專利DE 40 01 739 A1描述一種此類氣化器，在該氣化器下部，水分於多層中以錐形噴霧形式噴灑於熱氣體上。經冷卻氣體經由側出口離開淬火區，同時熔渣掉進水浴中。類似技術描述於WO 98/45386 A2中。
專利DE 10 2005 048 488 A1說明一種配備有數個對稱配置於反應器頂部中之燃燒器的系統，所生成之原料氣體及熔渣共同在淬火冷卻器中使用噴水處理以冷卻至180℃至240℃頓範圍內之露點或同時利用廢熱部分冷卻。專利DE 102005 041 930 A1描述如何在底部同時抽取熔渣及原料氣體，由呈圓形配置之一或數列噴嘴注入冷凝水，經由水浴排放熔渣。在淬火區末端移除粉塵。專利DE 10 2005 041 931 A1進一步描述一種使用配置在外殼中之噴嘴並藉助於冷凝水冷卻至約700－1100℃的部分淬火淬火系統；一 廢熱鍋爐係配置於該單元下游。
文獻DE 197 51 889 C1描述一種離開氣化器之熱原料氣體藉助於淬火噴嘴冷卻之氣化方法。灰燼經由極度冷卻之熔渣滑槽離開反應器且在淬火噴嘴中洗滌並冷卻。淬火噴嘴配備有熔渣掉離邊緣且利用淬火噴嘴中收縮獲得充分混合。接著排放熔渣並清除煙灰。EP 0 084 343 A1涉及一種相對於水浴向下操作且配備有兩級淬火系統之煤炭氣化器，第一淬火直接配置在氣化器之下游。文獻US 2007 006 2117 A1描述一種類似方法。文獻DE 10 2005 048 488 A1同樣描述一種相對於水浴作用之氣化器且提供藉助於噴水之淬火。
該方法之缺點在於熱氣體之向下流及來自噴嘴之水滴流在淬火區引起強循環，以致水滴滲透整個淬火室。該等位於熔渣孔附近之水滴因此以熔渣表面固化並形成鐘乳石狀物之方式冷卻熔渣。細熔渣粒子及水滴在未經水膜潤濕之壁(亦即，乾燥壁、頂板、尤其交替變得乾燥與潤濕之部分的噴嘴)上產生結垢。當水在壁上蒸發時，結垢將由雜質形成。因此，該等鐘乳石狀物及結垢導致主要的操作問題。
亦存在描述所生成合成氣體及熔渣獨立地向下流動之方法的專利文獻。例如，DE 197 18 131 A1說明一種獨立排放所獲得之氣化氣體及熔融物(尤其鹽熔融物)之方法。在此情況下，合成氣體藉由經由噴嘴注入水或鹽溶液在排放裝置中冷卻。熔融物被輸送至其自身槽中並據此加以處 理。
因此，本發明之目標在於提供一種不複雜且有效之氣化方法及一種利用該方法藉由在冷卻反應器中在0.3 MPa至8 MPa之壓力及1200℃至2000℃之溫度範圍下藉助於含氧氣態氣化劑將用作燃料材料之液體或細粒固體氣化來生成原料氣體所需之裝置，液體熔渣係在該容納於一壓力容器中之反應器之壁上分離，此消除上述缺點。
如下達成本發明之目標：．在一配置於該反應器之上部之第一反應腔室中生成該原料氣體，．將原料饋入該上部中，．液體熔渣沈澱在其側壁上，自由下流且熔渣表面不固化，．其下端具有一孔，其具有一掉離邊緣，可以向下方向自該孔抽取所生成之合成氣體且液體熔渣可掉離該邊緣；．一第二腔室設置於該開口下方且用於保持合成氣體乾燥及冷卻，且．該第二腔室由一由適當裝置產生且自由下流之水膜界定，．一第三腔室鄰接該第二腔室之底部設置且向其中饋入水以確保冷卻合成氣體，．一水浴鄰接該第三腔室之底部配置且收集已固化並掉 離之熔渣粒子或彼等仍在液相中之粒子，．所生成並經冷卻之合成氣體自位於該第三腔室下方或旁邊之區域中，但在任何情況下均位於該水浴上方的壓力容器中抽取。
該氣化較佳在高壓及超過熔渣熔點之溫度下以懸浮模式以<50 kg/m3 之粒子負載(不在流化床中)藉助於含氧氣化劑進行，所生成之氣體及壁上之熔渣經由底部中之開口離開氣化器。氣化產物流經一熱且乾燥之區，該區置於氣化器底部下方且由一自由下流之水簾與淬火區隔開以防止充滿來自淬火區充滿液滴之冷氣體滲透至熔渣掉落邊緣之部分中。
本發明之具體實例提供由諸如煤炭、石油焦、生物廢料或燃料材料或細粒塑膠材料之固體燃料材料組成之原料。固體燃料材料之粒子尺寸應不超過0.5毫米。在一第一步驟中，在一或數個並聯進料斗裝置中，使用諸如N2 或CO2 之不可冷凝之氣體、超過氣化器壓力2至10巴之最大壓力加壓固體材料。隨後將固體原料自一或數個進料容器氣動輸送至氣化器，較佳以濃相輸送形式輸送。亦可使用油、焦油、精煉廠殘渣或水性懸浮液作為液體燃料。大部分液體燃料適合於泵送至氣化器中，但推薦經由進料斗及藉助於壓縮氣體加壓饋給研磨性液體。亦有可能饋給固體及液體燃料之混合物。可燃或污染氣體亦適於該氣化器。高氣化溫度確保污染物經熱分解，由此固體反應產物包埋於玻璃狀熔渣中且氣態產物以諸如H2 、CO、N2 、HCl或H2 S 之簡單分子的形式離開氣化器。
本發明之其他具體實例提供一團粉塵或液滴之氣化反應。向氣化器中饋入燃料材料及氣化劑，可由至少兩個利用獨立的固定裝置固定於第一反應腔室之側壁之燃燒器執行；向氣化器中饋入燃料材料及氣化劑可視情況或另外利用至少一個安裝在氣化反應器之頂板上之燃燒器進行。氣化劑流在進入反應器之前可利用折流板或燃燒器之特殊設計而使其具有渦漩運動。
在本發明之其他具體實例中，第二腔室之底部利用一漏斗形水簾界定，該水簾自由下流至該水簾被所生成之合成氣體之向下射流分裂開之區中。隔開第二腔室與第三腔室之水膜較佳藉助於錐形滑水槽加速。在此情況下，推薦利用保護遮罩保護該滑水槽以免受熱或粉塵影響。該遮罩可設計為一藉助於來源自一外部空間之氣態冷卻劑或噴水，分割第二腔室與該外部空間之冷卻裝置。
水滴不逃離由加速滑槽導引或以自由下流之水簾形式提供之均勻膜，且該水膜之表面積比噴嘴供應之液滴範圍(droplet spectrum)之表面積小數個量級，如此由蒸發引起之冷卻效應相當低。因此，熔渣掉離邊緣之部分因而保持無水滴且保持為熱的，使得可防止邊緣附近之熔渣固化；此構成本發明之一優點。因為第二腔室之整個空氣保持乾燥，所以壁上不能形成因水蒸發所致之結垢。
在本發明之其他具體實例中，提供一第三腔室，其配備有一垂直分隔壁以確保所生成之合成氣體首先在由該分 隔壁形成之內部空間中向下流動，隨後使該合成氣體反轉在由該分隔壁形成之外部空間中上升，之後離開壓力容器。推薦的係分隔壁在內側及外側經水潤濕。
本發明之其他具體實例提供一在配置於下部分中之水浴中產生之循環流。推薦的係整個水存量經輕度酸化。亦可提供利用來源自水浴之水以泵送設施返回至第三空間以用於水膜形成之方式。
本發明亦包括一種執行上述方法所需之氣化反應器，其以如下詳情為特徵：．一第一反應腔室配置在該反應器之上部中，．該腔室之該上部容納一原料進料裝置；．該腔室之側壁具備具有經設計以形成一膜式壁之內部冷卻之管或替代地具有管圈，液體熔渣可自該等管圈向下自由流動以便該熔渣之表面不會固化；．該反應腔室之下端具有一具有一熔渣掉離邊緣之開口；．一第二腔室位於該開口下方，其用於保持合成氣體乾燥且熱，且．提供一產生一水膜之裝置；．一第三腔室位於該第二腔室下方且配備有供水設備；．一容納一水浴之裝置鄰接該第三腔室之底部配置，其包括一用於水及熔渣之混合物的抽取裝置；．一用於自反應器移除原料氣體之抽取裝置安裝在第三腔室下方或旁邊。
在本發明之其他具體實例中，至少兩個燃燒器提供於第一反應腔室中且由獨立的固定裝置附接於該腔室之側壁。燃燒器較佳以交叉型方式排列在該空間中，水平角為20°且垂直角為45°。此外，在氣化反應器之頂板中安裝至少一個燃燒器亦可行。
本發明之其他具體實例提供一配置在第二與第三腔室之間的錐形滑水槽、一安裝在第二反應腔室與滑水槽之間的保護遮罩。
在本發明之另一具體實例中，一垂直分隔壁安裝在第三腔室中。
在本發明之另一具體實例中，該容納水浴之裝置配備有一中央熔渣收集容器及一用於負載細塵粒子之水的環形空間。
在下文中基於三個實施例詳細說明本發明。
然而，本發明不受以上所提及之三個實施例限制。
燃料材料之氣化在反應腔室2中在0.3－8 MPa之壓力及灰燼熔點以上之溫度(亦即，1200－2500℃)下藉助於含氧氣化劑發生。經冷卻反應容器3保護壓力容器4免受高溫影響。在連續操作期間於環形空間32供應少量冷氣流(例如氮)。利用水封30保護該空間以免熱氣體滲透。然而，在反應腔室2中壓力快速升高之情況下，熱氣體可滲透至該環形空間32中。為保護壓力容器4以免在發生暫時或偶 然熱氣體侵擾時被加熱，該容器4之內壁具有一熱絕緣。經由至少兩個橫向配置之燃燒器5饋給燃料材料、反應劑及視情況待處置之廢料。
沈澱在反應容器3之壁上之液體熔渣沿壁向下流至排出開口6處，逐滴或連續掉離熔渣自掉離邊緣7進入水浴21中。來自反應腔室2之所生成之含塵氣體亦流經開口6，亦即，首先穿過熱且乾燥之空間8且隨後進入淬火室15中。為防止來自淬火室15之含液滴冷氣體逆流進入熱空間8中，藉助於給水器28及錐形加速滑槽11產生水簾12且其同心流入氣體腔室中。當該簾12撞上來自開口6之熱氣體或熔渣的向下射流時，該簾被分裂開。
經冷卻劑內部冷卻或經水膜外部冷卻及視情況經輕敲裝置清潔之保護遮罩9保護加速滑槽11及位於其上方之空間10以免受高熱及粉塵負載影響，如此在很大程度上避免結垢形成。具有數毫米之厚度的水簾12變成液滴流，該液滴流蒸發或汽化並徹底冷卻熱氣體。允許在加速滑槽11上形成水膜及/或形成水簾12之供水量超過補償由蒸發或汽化所致之損失所需的水量。該剩餘水量可用於潤濕淬火室15之分隔壁14及洗滌氣體以移除細塵粒子。
該區域中之垂直壁另外可經來自給水器27之流經溢流的水及來自噴嘴16之水潤濕。可安裝產生細液滴範圍之噴嘴以增強氣體冷卻及移除煙道灰燼。為避免具有高粉塵負載之淬火室15中的任何支撐區域結垢，將噴嘴16整合於壁14中。傳送冷卻氣體經由間隙19進入環形空間17。氣 體之180°反轉及向上流之低速度有利於移除較大灰燼粒子及水滴。亦在環形空間17中經由噴嘴18噴灑水主要洗滌流體用於除塵。
歸因於通過噴嘴之氣體出口13，淬火室及環形空間中之氣流變得不對稱，此使得環形空間中之速度局部較高且所夾帶煙道灰燼之量較大。在向環形空間17中均勻注入水噴霧之情況下，懸浮水滴在整個環形橫截面上產生大致相等的壓降，此在環形空間17中促成更均勻的氣流。
熔渣收集容器23安裝在熔渣經由間隙19反轉之部分下方的水浴21中。該容器23配備有同心配置之噴嘴26，如此可另外徹底冷卻較大熔渣粒子。水經由安裝在容器23外部之圓形分配器25供應且利用噴嘴型啟動器24在水浴21中誘導流動以便避免沈積。
熔渣排放裝置22輸送熔渣經由熔渣破碎器進入熔渣進料斗，其中使用製程水使熔渣冷卻至約60℃且接著由熔渣抽取器自製程中抽取熔渣。
在本發明之典型情況下，在40巴及1500℃下氣化50 kg/s乾燥且破碎之褐煤，此等效於1 GW之化學轉化。生成85 kg/s原料氣體，此操作亦產生1 kg/s煙道灰燼及3 kg/s液體熔渣。蒸發70 kg/s水以淬火，向水簾12中饋入140 kg/s水；不與潤濕表面區域之水一起蒸發以保持濕潤的水經由排水噴嘴20排放及抽取且排放至水浴21中，且隨後利用循環泵返回至淬火區域中之多個饋給點16、18、25、27及28。為分離煙道灰燼，環形空間17配備有總計24個分兩 層配置且定級水通量為160 kg/s之全錐形閥18。該水亦流入水浴21中。
圖2展示一用於第二及第三空間替代類型之設計。在該情況下提供特別陡峭之加速滑槽11。因此有可能在第三腔室中省去遮罩及分隔壁。向下水簾12隔開熱且無液滴之中央空間8與冷且濕的室15，從而避免含液滴原料氣體在熔渣掉離邊緣7附近循環且因而過於強烈冷卻掉離邊緣7上之熔渣。圖2中之橢圓形虛線描繪熱且濕之室中之隔開循環模式。向下水簾12僅展現可忽略之徑向速度分量；因此熱且乾燥之室8僅由離開排出開口6之氣體射流蔓延包圍，如此該室變得比具有徑向注入水膜之室長。作為一種選擇，水可經由安裝在水膜向下表面區域與壓力容器之間的噴嘴18注入。目的在於精確地在水膜向下表面區域與來源於排出開口6之氣體射流之蔓延範圍的外殼表面區域的交叉處獲得淬火水強烈的徑向注入。
圖3展示另一類型之設計，在氣化器出口區域處安裝有馴流器33以削弱由急轉效應引起之在氣化器中生成且由出口收縮增強之渦旋的設計。此避免作用於熔渣粒子之離心力及熱空間8之壁上之結垢傾向。在該特定實例中，熔渣掉離邊緣7位於馴流器33下方。作為一種選擇，有可能提供配置在上游且設計為掉離環或掉離槽之另一掉離邊緣7a，如此可排放大部分熔渣。
根據另一典型具體實例，合併熔渣流且將數個熔渣射流注入至流之熱核心中。因此，使熔渣遠離淬火室15之壁。
傳送加速滑槽11所需之水至圓周槽28a，水自圓周槽28a切向地流經數條狹縫。槽之橫截面積之流速沿整個槽及所有狹縫保持大致相同之方式沿各狹縫下游減少狹縫橫截面之量。來源於狹縫之水首先進入圓周槽28a且進一步流經具有經調節寬度之下游區段進入另一槽，水自該槽流經加速滑槽11上之狹縫。增加其流速後，水形成水簾12。應用槽之串接以確保均勻的水排出。
環形空間17及32彼此由隔板31及膨脹接面隔開。利用可安裝在壓力容器4內部或外部之壓力平衡線34(equalization line)確保該等空間之壓力平衡。向上環形空間32中饋入沖洗氣體以防止正常操作期間濕氣體之任何滲透。
1‧‧‧人孔
2‧‧‧氣化器之反應腔室
3‧‧‧反應容器
4‧‧‧壓力容器
5‧‧‧燃燒器
6‧‧‧氣化產物排出開口
7‧‧‧熔渣掉離邊緣
8‧‧‧具有熱且乾燥之氣體的空間
9‧‧‧保護遮罩
10‧‧‧具有冷氣體的空間
11‧‧‧水膜加速滑槽
12‧‧‧水簾(自由下流)
13‧‧‧氣體出口
14‧‧‧水濕潤之分隔壁
15‧‧‧淬火室
16‧‧‧整合於分隔壁中之噴嘴
17‧‧‧環形空間(底部)
18‧‧‧噴嘴
19‧‧‧間隙
20‧‧‧排水噴嘴
21‧‧‧水浴
22‧‧‧熔渣排放裝置
23‧‧‧熔渣收集容器
24‧‧‧循環流啟動器
25‧‧‧圓形分配器
26‧‧‧同心配置之噴嘴
27‧‧‧供壁上水膜用之給水器
28‧‧‧供水膜用之給水器
28a‧‧‧圓周槽
29‧‧‧供水封用之給水器
30‧‧‧水封
31‧‧‧隔板
32‧‧‧環形空間(頂部)
33‧‧‧馴流器
34‧‧‧平衡線
圖1為本發明氣化反應器之示意圖且展示其縱剖面圖。
圖2展示該反應器之下部的替代設計。
圖3說明本發明氣化反應器之另一類型的設計。
1‧‧‧人孔
2‧‧‧氣化器之反應腔室
3‧‧‧反應容器
4‧‧‧壓力容器
5‧‧‧燃燒器
6‧‧‧氣化產物排出開口
7‧‧‧熔渣掉離邊緣
8‧‧‧具有熱且乾燥之氣體的空間
9‧‧‧保護遮罩
10‧‧‧具有冷氣體的空間
11‧‧‧水膜加速滑槽
12‧‧‧水簾(自由下流)
13‧‧‧氣體出口
14‧‧‧水濕潤之分隔壁
15‧‧‧淬火室
16‧‧‧整合於分隔壁中之噴嘴
17‧‧‧環形空間(底部)
18‧‧‧噴嘴
19‧‧‧間隙
20‧‧‧排水噴嘴
21‧‧‧水浴
22‧‧‧熔渣排放裝置
23‧‧‧熔渣收集容器
24‧‧‧循環流啟動器
25‧‧‧圓形分配器
26‧‧‧同心配置之噴嘴
27‧‧‧供壁上水膜用之給水器
28‧‧‧供水膜用之給水器
29‧‧‧供水封用之給水器
30‧‧‧水封
31‧‧‧隔板
32‧‧‧環形空間(頂部)

Claims (26)

  1. 一種在一冷卻反應器中在0.3MPa至8MPa之壓力及1200℃至2000℃之溫度範圍下藉助於含氧氣態氣化劑氣化液體或細粒固體燃料材料來生成合成氣體之方法，液體熔渣在該容納於一壓力容器中之反應器之壁上分離，其特徵在於：該合成氣體在一配置於該反應器之上部之第一反應腔室中生成，將原料饋入該上部中，液體熔渣沈澱在其側壁上，自由下流且該熔渣表面不固化，該第一反應腔室的下端具有一帶有一掉離邊緣的開口，可以向下方向自該開口抽取該所生成之合成氣體且該液體熔渣可掉離該邊緣；一第二腔室設置於該開口下方且用於保持該合成氣體乾燥及冷卻，且該第二腔室由一由適當裝置產生且自由下流之水膜界定，一第三腔室鄰接該第二腔室之底部設置且向其中饋入水以確保冷卻該合成氣體，一水浴鄰接該第三腔室之底部配置且收集已固化並掉離之熔渣粒子或彼等仍在液相中之粒子，該所生成並經冷卻之氣體自位於該第三腔室下方或旁邊之區域中，但在任何情況下均位於該水浴上方的該壓力 容器中抽取。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於可使用諸如煤炭、石油焦、生物廢料或燃料材料或細粒塑膠材料之固體燃料材料作為原料。
  3. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該固體燃料材料之粒子尺寸不超過0.5毫米。
  4. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於使用油、焦油、精煉廠殘渣或水性懸浮液作為液體燃料。
  5. 如申請專利範圍第1項至第4項之方法，其特徵在於該氣化反應以一團粉塵或液滴形式發生。
  6. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於向該氣化器中饋入該等燃料材料及氣化劑可由至少兩個利用獨立的固定裝置固定於該第一反應腔室之該側壁之燃燒器執行，該等燃燒器分一或數層配置。
  7. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於向該氣化器中饋入該等燃料材料及氣化劑可由至少一個配置在該氣化反應器之頂板中之燃燒器進行。
  8. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該氣化劑流在進入該反應器之前可利用折流板或該燃燒器之特殊設計而使其具有渦漩運動。
  9. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該第二腔室之該底部由一漏斗形或圓柱形水膜界定，該水膜自由下流至該水膜由該所生成之合成氣體之向下射流分裂開之區中。
  10. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該隔開該第二腔室與該第三腔室之水膜藉助於一錐形滑水槽來加速。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法，其特徵在於該滑水槽利用一保護遮罩來保護以免受熱或粉塵影響。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法，其特徵在於該遮罩可設計為一藉助於一來源於一外部空間之氣態冷卻劑或噴水分割該第二腔室與該外部空間之冷卻裝置。
  13. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該第三腔室配備有一垂直分隔壁以確保該所生成之合成氣體首先在由該分隔壁形成之內部空間中向下流動，隨後該氣體反轉在由該分隔壁形成之該外部空間中上升，之後離開該壓力容器。
  14. 如申請專利範圍第13項之方法，其特徵在於該分隔壁在內側及外側經水潤濕。
  15. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於一循環流產生於配置於下部分中之水浴中。
  16. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於來源於該水浴之水利用一適當泵送設施返回至該第三腔室中且用於形成一水膜。
  17. 如申請專利範圍第1項之方法，其特徵在於該所使用之水經輕度酸化。
  18. 一種執行如申請專利範圍第1項之方法所需之氣化反應器，其特徵在於該反應器以下文描述之詳情為特徵： 一第一反應腔室配置在該反應器之上部中，該腔室之該上部容納一原料進料裝置，該腔室之側壁具備具有經設計以形成一膜式壁之內部冷卻之管或替代地具有管圈，液體熔渣可自該等管圈向下自由流動以便該熔渣之表面不會固化，該反應腔室之下端具有一具有一熔渣掉離邊緣之開口；一第二腔室設置於該開口下方，其用於藉由輻射冷卻保持該合成氣體乾燥及冷卻，且提供一用於產生一水膜之裝置；一第三腔室設置於該第二腔室下方且配備有供水設備；一容納一水浴之裝置鄰接該第三腔室之底部設置，其包括一用於抽取水及熔渣之混合物的抽取裝置，且一用於自該反應器移除該合成氣體之抽取裝置安裝在該第三腔室下方或旁邊。
  19. 如申請專利範圍第18項之裝置，其特徵在於將至少兩個燃燒器提供於該第一反應腔室中且由獨立的固定裝置附接於該腔室之該側壁。
  20. 如申請專利範圍第19項之裝置，其特徵在於該等燃燒器以交叉型方式排列於該空間中，水平角為20°且垂直角為45°。
  21. 如申請專利範圍第18項之裝置，其特徵在於將至少一個燃燒器安裝在該氣化反應器之頂板上。
  22. 如申請專利範圍第18項至第21項之裝置，其特徵在於將一流動協調器提供於該氣化器反應腔室之出口區域中。
  23. 如申請專利範圍第18項之裝置，其特徵在於將一錐形滑水槽設置於該第二腔室與該第三腔室之間。
  24. 如申請專利範圍第23項之裝置，其特徵在於將一保護遮罩安裝於該第二反應腔室與該滑水槽之間。
  25. 如申請專利範圍第18項之裝置，其特徵在於將一垂直分隔壁設置於該第三腔室中。
  26. 如申請專利範圍第18項之裝置，其特徵在於該容納該水浴之裝置配備有一中央熔渣收集容器及一用於負載有細塵粒子之水的環形空間。
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