KR101893625B1 - 가스화 반응기 - Google Patents

Abstract

가스화 반응기 (1) 는, 하단부가 하측 슬래그 수집조 (17) 안으로 이어지는 배출 챔버 또는 딥 튜브 (15, 40, 60) 를 갖고 관형 기밀 벽 (3) 을 갖는 가스화기 (2) 를 포함한다. 기밀 벽 및 슬래그 수집 조는 압력 용기 (18, 41, 61) 내에 배치된다. 배출 채널을 갖는 가스화기 및 압력 용기 사이의 환상 공간 (20, 42, 62) 은, 댐퍼 (25, 50, 70) 를 포함하는 시일링 배열체 (23, 43, 64) 에 의해서 고압 상측부 (21, 44, 64) 와 저압 하측부 (22, 45, 65) 로 분리된다. 댐퍼는, 예를 들어 유압식 록 (50, 70) 또는 상측 시일 (24, 71) 아래에 이격된 하측 시일 (25, 66-70) 일 수 있다.

Description

가스화 반응기{GASIFICATION REACTOR}

본 발명은 하단부가 수성 슬래그 수집조 안으로 개방된 관형 기밀 벽의 가스화기를 포함하는 가스화 반응기에 관한 것이며, 기밀 벽은 압력 용기 내에 배치된다.

예를 들어, 가스화 반응기는, 미분탄, 오일, 바이오매스, 가스와 같은 탄소 함유 공급물 또는 임의의 다른 타입의 탄소 함유 공급물의 부분 연소에 의해서 합성 가스의 생산을 위해서 이용될 수 있다. 일부 가스화 반응기 타입들만이, 종종 딥 튜브 (dip tube) 로 지칭되는 배출부를 통해서 수성 슬래그 수집조를 통해서 합성 가스를 배출하기 위한 배출 개구부를 하단부에 갖는다. 가스화기에서 압력 증가 때문에, 새롭게 생성된 합성 가스는 딥 튜브의 하부 에지 둘레의 슬래그 수집조를 통해서 아래로 유동되도록 강제되어 가스화기 벽과 압력 용기 벽 사이의 환상 공간에 재수집된다. 이 방식에서 슬래그 수집조의 물은 합성 가스를 세정하고 냉각한다.

열 응력을 감소시키기 위해서, 가스화기 벽은 전형적으로 냉각되고 그리고, 예를 들어 물과 같은 냉각 매체를 위한 채널을 한정하는 평행 관형 라인들에 의해서 형성될 수 있다. 이러한 관형 라인들은 상호연결되어, 예를 들어 튜브-핀 (fin) -튜브 배열체의 기밀 벽 구조체를 형성한다. 이러한 가스화기 벽들은 가스화기 내의 높은 작동 압력들에 의해서 유발된 로드가 가해진다. 가스화기 내 압력은, 예를 들어 20 ~ 80 바 (bar) 만큼 높을 수 있다. 가스화기 벽에서 압력에 의해 유발된 기계적 로드를 감소시키기 위해서, 내측 가스화기 압력과 가스화기와 압력 용기 사이의 둘러싸는 환상 공간의 압력의 균형을 유지하는 것이 바람직하다. 이것은 환상 공간 내 압력이 거의 가스화기 내 압력 만큼 높게 유지되는 것을 요구한다. 한편, 가스화기로부터 슬래그 수집조 안으로 취입되는 합성 가스가 딥 튜브와 압력 용기 사이의 환상 공간 내에서 올라갈 (bubble up) 수 있어야 한다. 이것은 슬래그 수집조 위 환상 공간의 압력이 가스화기 내 압력보다 실질적으로 낮을 것을 요구한다. 일반적으로 이것은 환상 공간을 환상 시일에 의해서 가스화기를 둘러싸는 상측부와 슬래그 수집조 위의 하측부로 분리함으로써 달성된다. 이러한 단일 시일은 상측부로부터의 영구적인 고압 및 하측부로부터의 더 낮은 압력에 동시에 노출되고, 이러한 단일 시일은 합성 가스가 슬래그 수집조로부터 올라올 때 높은 진동수로 변동된다. 누적된 로딩 패턴은 시일의 조기 파괴로 이어질 수 있다.

본 발명의 목적은 가스화기 벽과 둘러싸는 압력 용기 사이의 환상 공간의 상측부와 하측부의 견고하고 신뢰성 있는 분리를 제공하는 것이다.

본 발명의 목적은, 하단부에서 하측 슬래그 수집조 안으로 이어지는 배출 채널을 구비한 관형 기밀 벽을 갖는 가스화기를 포함하는 가스화 반응기로서, 상기 기밀 벽과 상기 슬래그 수집조는 압력 용기 내에 배치되고, 상기 배출 채널을 갖는 상기 가스화기와 상기 압력 용기 사이의 환상 공간은, 댐퍼를 포함하는 시일링 배열체에 의해서 고압 상측부와 저압 하측부로 분리되는 가스화 반응기에 의해서 달성된다. 이 방식으로 시일링 배열체는 하측부의 변동하는 압력 로드에 의해서 유발된 기계적 응력이 적어도 부분적으로 경감된다.

시일링 배열체는, 예를 들어 상측 시일을 포함할 수 있고, 댐퍼는 상측 시일 아래에 축방향으로 이격된 하측 시일에 의해서 형성된다. 이 방식으로, 상측 압력 시일은 가스화기 둘레의 상측부의 높은 정압만이 가해지는 한편, 하측 시일은 상측부의 높은 정압이 가해지지 않으면서 하측부의 맥동 합성 가스 유동에 의해서 유발된 변동되는 더 낮은 압력을 감쇄한다. 압력 변동에 의해서 유발되는 하측 시일의 변형은 2 개의 시일들 사이의 공간의 체적의 상당한 변화를 유발하지 않을 것이며, 그래서 중간 공간 내의 압력 변동은 전형적으로 무시될 수 있거나, 또는 적어도 하측 시일 아래 부분에서보다 실질적으로 더 적을 것이다.

합성 가스의 배출을 위한 하나 이상의 배출 채널들이 전형적으로 하측 시일 아래 위치에서 압력 용기 벽의 개구부들에 연결되어 합성 가스를 하류 장치, 예를 들어 가스 냉각을 위한 열 교환기들 또는 가스 처리를 위한 장치에 안내할 것이다.

상측 시일은 높은 정압을 견디도록 구성될 수 있고 그리고 상측 시일은, 예를 들어 압력 용기 벽의 내측 표면에 용접되는 외측 원주부와 가스화기의 벽, 특히 가스화기의 합성 가스 배출부 또는 딥 튜브에 용접되는 내측 원주부를 갖는 환상 플레이트, 예를 들어 강 플레이트와 같은 금속 플레이트 일 수 있다.

딥 튜브를 갖는 가스화기와 압력 용기 사이의 팽창의 차이는 상측 시일과 하측 시일 내에서 추가적인 기계적 응력을 유발한다. 이러한 응력을 감소시키기 위해서, 상측 시일 및/또는 하측 시일의 환상 플레이트는, 예를 들어 단면에서 단차 구성을 갖는다. 단면의 내측 절반은, 예를 들어 외측 절반에 대해서 하측 방향 또는 상측 방향으로 오프셋될 수 있거나, 또는 단면도가, 가장자리들에 대해서 상측 방향으로 또는 하측 방향으로 오프셋된 중간부를 도시 할 수 있다.

하측 시일은 높은 주파수로 변동하는 차압에 대처하도록 구성될 수 있다. 상측 시일과 같이, 하측 시일은, 압력 용기 벽의 내측 표면에 용접된 외측 원주부와 가스화기의 벽, 특히 가스화기의 합성 가스 배출부에 용접된 내측 원주부를 갖는, 예를 들어 환상 플레이트, 예를 들어 강 플레이트와 같은 금속 플레이트일 수 있다. 다른 로드 패턴을 고려하여, 하측 시일은, 예를 들어 더 얇은 벽 두께를 갖게 함으로써 상측 시일보다 더 가요성이 있을 수도 있다.

선택적으로, 시일들 사이의 중간 공간은 퍼징 가스의 공급부에 작동적으로 연결될 수 있다. 이 방식으로, 중간 공간 내 압력은, 압력 용기의 상측부 내 고압 환경과 압력 용기의 하측부의 변동 압력 환경 사이에 효과적인 버퍼를 생성하기 위해서 제어될 수 있다. 퍼징 가스는, 예를 들어 질소일 수 있다.

추가적으로, 또는 대안적으로, 2 개의 시일들 사이 공간은 하나 이상의 압력 제어 유닛들, 예를 들어 하나 이상의 압력 밸브들을 구비한다.

다른 실시형태에 있어서, 시일 배열체는 환상 공간의 대향측들로부터 연장된 적어도 2 개의 환상 부재들을 포함하고, 이 환상 부재들은 이격되어 댐퍼를 형성하는 유압식 록을 한정하는 인터록킹 (interlocking) 자유 단부들을 갖는다. 예를 들어, 압력 용기 벽은 환상 부재들 중 하나의 환상 부재를 지지하고 (carry), 이 환상 부재는 수직하게 연장되는 제 1 실린더 벽을 지지하는 자유 내측 원주부를 갖는 한편, 다른 환상 부재는 가스화기 벽 측에서 지지되고, 제 1 실린더 벽 내에 동축으로 배치된 수직방향으로 연장되는 제 2 실린더 벽을 지지하는 자유 외측 원주부를 가지며, 여기서 2 개의 실린더 벽들 사이 공간은 환상 공간의 상측부 및 하측부와 유압식으로 연통되고 액체, 전형적으로 물로 적어도 부분적으로 채워져 유압식 록을 형성한다.

이 방식으로, 시일링 및 댐핑 기능이 단일 시일에 통합될 수 있다. 대안적으로, 유압식 록은, 위에서 설명된 바와 같이, 상측 시일 아래 이격된 하측 시일의 부분일 수 있다.

예를 들어, 유압식 록은 물 또는 임의의 다른 적합한 타입의 유압식 액체의 공급을 위한 하나 이상의 공급부들을 포함할 수 있다. 물 공급부는, 예를 들어 연속적일 수 있다. 이와 같은 방식으로, 록은 정기적으로 또는 연속적으로 수세될 수 있다. 물 중에 부식 용액들이 희석되고 확산된 입자들의 농도에 의해서 유발되는 가능한 점성 변화들이 방지된다.

선택적으로, 유압식 록은 넘치는 물을 가스화기 벽의 적어도 일부를 따라서, 예를 들어 배출 채널 또는 딥 튜브를 따라서 안내하는 오버플로우부를 포함할 수 있다. 넘치는 물은 가스화기 벽을 냉각시켜 열적 로드를 감소시키고 반응기의 견고성과 신뢰성에 도움을 준다. 추가적으로, 또는 대안 적으로, 유압식 록에 물을 공급하기 위한 하나 이상의 물 공급부들은 물이 가스화기 벽의 적어도 일부를 따라서, 예를 들어 배출 채널 또는 딥 튜브를 따라서 안내되도록 배치될 수 있다.

배출 개구부들이 유압식 록의 바닥부에 제공되어, 예를 들어 플라이 애시 입자들의 퇴적을 방지할 수 있다.

만약 배출 채널, 즉 딥 튜브가 2 개의 시일들 사이 공간 내 압력 용기 벽의 내측 표면에 있는 지지부들로부터 현수 된다면, 이 지지부들은 플라이 애시와 고온 합성 가스의 열적 로드에 대해서 효과적으로 차폐된다.

시일링 배열체는, 예를 들어 배출 채널, 즉 딥 튜브의 레벨에서 위치될 수 있다. 이 방식으로, 배출 채널 위 가스화기 벽은 압력 용기 상측부의 고압 환경에 의해서 둘러싸일 것이다.

선택적으로, 가스화 반응기는, 댐퍼 위의 공간, 예를 들어 수위를 조절하도록 유압식 록 위의 공간, 또는 중간 공간의 압력을 제어하기 위해서 상측 시일과 하측 시일 사이의 공간에 퍼징 가스의 공급을 위한 하나 이상의 연결부들을 구비할 수 있다.

이제 본 발명의 예시적 실시형태는 수반된 도면을 참조하여 설명될 것이다.

도 1 은 본 발명에 따른 가스화 반응기의 실시형태를 개략적으로 도시하고;
도 2 는 본 발명에 따른 가스화 반응기의 제 2 실시형태를 개략적으로 도시하고;
도 3 은 본 발명에 따른 가스화 반응기의 제 3 실시형태를 개략적으로 도시한다.

도 1 은, 원통형 가스화기 벽 (3), 버너 (6) 의 통로를 위한 중앙 통로 개구부 (5) 를 갖는 폐쇄된 상단부 (4), 및 가스 배출 개구부 (8) 까지 좁아져 가는 테이퍼진 하단부 (7) 를 구비한 가스화기 (2) 를 포함하는 가스화 반응기 (1) 를 도시한다. 대안적으로 또는 추가적으로, 가스화 반응기는 측면 위치로부터 가스화기에 들어가는 하나 이상의 버너들을 가질 수 있다. 가스화기 벽 (3) 은 상호연결되어 기밀 구조체를 형성하는 평행 수직 냉각제 라인들 (10) 로 만들어진다. 냉각제 라인들 (10) 의 하단부에서 냉각제 매체는 원형 분배기 라인 (11) 을 통해서 공급된다. 냉각제 매체는 원형 헤더 라인 (12) 을 통해서 냉각제 라인들 (10) 의 상부에서 배출된다. 이 특정 실시형태에서, 가스화기 벽 (3) 내측 표면은 내화물 라이너 (13) 를 구비한다.

원통형 배출 채널 또는 딥 튜브 (15) 는 배출 개구부 (8) 와 일렬로 배치된다. 딥 튜브 (15) 는, 수조와 같은 냉각제 레저보 (17) 안으로 연장된 하단부 (16) 를 갖는다. 가스화기 (2), 딥 튜브 (15) 및 냉각제 레저보 (17) 는, 딥 튜브 (15) 의 하단부 (16) 로부터 이격된 바닥 (19) 을 갖는 원통형 압력 용기 (18) 내에 동축적으로 배치된다.

가스화기 (2) 에서 합성 가스는 버너 (6) 를 통해서 가스화기 (2) 내에 공급되는 탄소 함유 공급물의 부분 연소에 의해서 생성된다. 가스 유동 경로는 도 1 에서 화살표들 (A) 로 나타내진다. 가압된 합성 가스는 딥 튜브 (15) 의 하단부 (16) 둘레의 냉각제 레저보 (17) 의 물 안으로 유동되고, 딥 튜브 (15) 의 외측에서 다시 위로 유동된다.

배출 채널 (15) 을 구비한 가스화기 (2) 는 실질적으로 압력 용기 (18) 와 동축이다. 이것은 압력 용기 (18) 의 내측 표면과 딥 튜브 (15) 를 갖는 가스화기 (2) 사이에 환상 공간 (20) 을 남긴다. 이 환상 공간 (20) 은 시일링 배열체 (23) 에 의해서 상측부 (21) 와 하측부 (22) 로 나뉜다. 시일링 배열체 (23) 는 상측 시일 (24) 과 상측 시일 아래에 이격된 하측 시일 (25) 을 포함한다.

상측 시일 (24) 은 압력 용기 벽의 내측 표면에 용접된 외측 원주부 (26) 와 딥 튜브 (15) 의 벽에 용접된 내측 원주부 (27) 를 갖는 환상 강 플레이트이다. 외측 원주부 (26) 는 환상 플레이트의 나머지로부터 일정 거리 위로 오프셋된다.

유사하게, 하측 시일 (25) 은 압력 용기 벽의 내측 표면에 용접된 외측 원주부 (28) 와 상측 시일 (24) 아래에 이격된 딥 튜브 (15) 의 벽에 용접된 내측 원주부 (29) 를 갖는 환상 강 플레이트이다. 환상 중간부 (30) 는 내측 원주부 (28) 및 외측 원주부 (29) 로부터 아래로 오프셋된다. 이것은 압력 변동을 흡수하도록 필요한 신축성을 하측 시일 (25) 에 제공한다.

상측부 (21) 는 가스화기 (2) 를 둘러싼다. 가스화기 벽 (3) 의 기계적 응력 로드는 상측부 (21) 의 압력을 가스화기 (2) 내의 고압과 균등하게 함으로써 감소된다. 하측부 (22) 의 압력은 상측부 (21) 의 압력보다 충분히, 예를 들어 0 ~ 1 바 (bar) 낮아야 한다. 결과적으로, 가스화기로부터 딥 튜브 (15) 를 통해서 유동하도록 강제된 합성 가스는 저압 하측부 (22) 안으로 올라온다. 배출 라인들 (31) 은, 냉각기들 (도시 안됨) 과 같은 하류 장치에 생성된 합성 가스를 배출한다.

상측 시일 (24) 은 상측부 (21) 의 고압이 가해진다. 하측 시일 (25) 은 상측부 (21) 의 압력이 가해지지 않으나, 정상 작동 동안에 일반적으로 더 낮은 하측부 (22) 내의 압력만이 가해진다. 레저보 (17) 를 통한 합성 가스의 유동은 하측부 (22) 안으로 위로 올라가고, 이는 하측부 (22) 내의 압력을 변동시킨다. 하측 시일 (25) 은 압력 변동을 감쇄하고 그리고 상측 시일 (24) 이 이 변동이 가해지는 것을 효과적으로 방지한다.

상측 시일 (24) 과 하측 시일 (25) 사이의 중간 공간 (32) 은 퍼징 가스 (도시 안됨) 의 공급에 의하여 바람직한 레벨에서 내측 압력이 유지되게 존재한다. 압력은 전형적으로 높은 상측부 압력과 평균 하측부 압력 사이일 것이다.

도 2 는 본 발명에 따른 가스화 반응기의 대안적 실시형태의 상세를 단면으로 개략적으로 도시한다. 도 2 에서, 딥 튜브 (40) 는 수직으로 배치된 압력 용기 (41) 내에서 동축으로 연장된다. 압력 용기 (41) 와 딥 튜브 (40) 사이의 환상 공간 (42) 은 시일링 배열체 (43) 에 의해서 상측부 (44) 및 하측부 (45) 로 나뉜다.

시일링 배열체 (43) 는 환상 공간 (42) 의 대향 측들로부터 연장되는 2 개의 환상 부재들 (46, 47) 을 포함한다. 압력 용기 벽은 제 1 환상 부재 (46) 를 지지하고, 이 제 1 환상 부재는 아래로 연장된 제 1 실린더 벽 (48) 을 지지하는 자유 내측 원주부를 갖는다. 제 2 환상 부재 (47) 는 가스화기 벽측에서 딥 튜브 (40) 에 의해서 지지된다. 제 2 환상 부재 (47) 는 제 1 실린더 벽 (48) 내에 동축으로 배치된 위로 연장되는 제 2 실린더 벽 (49) 을 지지하는 자유 외측 원주부를 갖는다. 이와 같이, 실린더 벽들 (48, 49) 은, 이격되어 유압식 록 (hydraulic lock) (50) 을 한정하는 환상 부재들 (46, 47) 의 인터록킹 자유 단부들을 형성한다. 유압식 록 (50) 은 딥 튜브 (40) 의 하단부로부터 올라오는 합성 가스에 의해서 유발되는 하측부 (45) 의 압력 변동을 감쇄하는 댐퍼를 형성한다. 상측부 (44) 는, 딥 튜브 (40) 와 압력 용기 벽 사이의 열 팽창 차이로 인해서 유발되는 기계적 응력을 흡수할 필요 없이 하측부 (45) 로부터 효과적으로 시일링된다. 또한, 플라이 애시는 유압식 록의 물에 포획되며, 이는 상측부 (44) 에 플라이 애시가 실질적으로 없도록 유지한다.

상측부 (44) 는 퍼지 가스의 공급을 위한 연결부 (51) 를 구비하고, 이 퍼지 가스는 유압식 록 (50) 의 수위를 제어하기 위해서 이용된다. 퍼지 가스의 유동은 복잡한 제어 시스템의 필요성을 제거하기 위해서 일정한 레벨로 유지될 수 있다.

물은 하나 이상의 물 공급부 들 (52, 53) 로부터 유압식 록 (50) 으로 유동된다. 물은 딥 튜브 (40) 를 냉각시키기 위해서 딥 튜브 (40) 의 외측 표면을 따라서 안내된다.

도 3 은 가스화 반응기의 실시형태의 압력 용기 (61) 내에 동축으로 배치된 딥 튜브 (60) 를 개략적으로 도시한다. 도 2 의 실시형태에서와 같이, 압력 용기 (61) 와 딥 튜브 (60) 사이의 환상 공간 (62) 은 시일링 배열체 (63) 에 의해서 상측부 (64) 와 하측부 (65) 로 나뉜다. 시일링 배열체 (63) 는 환상 공간 (62) 의 대향 측들로부터 연장된 2 개의 환상 부재들 (66, 67) 을 포함한다. 압력 용기 벽은 제 1 환상 부재 (66) 를 지지하고, 이 제 1 환상 부재는 자유 내측 원주부에서 아래로 연장되는 제 1 실린더 벽 (68) 을 지지한다. 제 2 환상 부재 (67) 는 가스화기 벽 측에서 딥 튜브 (60) 에 의해서 지지된다. 제 2 환상 부재 (67) 는 제 1 실린더 벽 (68) 내에 동축으로 배치된 위로 연장되는 제 2 실린더 벽 (69) 을 지지한다. 평행한 실린더 벽들 (68, 69) 은 유압식 록 (70) 을 한정한다. 따라서, 시일링 배열체 (63) 의 하측 시일부는 부재들 (66, 67), 하측으로 연장된 제 1 실린더 벽 (68), 상측으로 연장된 제 2 실린더 벽 (69) 및 유압식 록 (70) 을 포함한다.

이 실시형태에 있어서, 또한 시일링 배열체 (63) 는 상측부 (64) 내 고압으로부터 유압식 록 (70) 을 차폐하는 상측 시일 (71) 을 포함한다. 상측 시일 (71) 은 환상 공간 (62) 을 완전히 가로지르고 압력 용기 (61) 의 내측 표면과 딥 튜브 (60) 의 외측 표면에 기밀한 방식으로 용접된 환상 강 링 (steel ring) 이다.

유압식 록 (70) 은 딥 튜브 (60) 의 하단부로부터 올라오는 합성 가스에 의해서 유발되는 하측부 (65) 의 압력 변동을 감쇄하는 댐퍼를 형성한다. 유압식 록 (70) 은 유체 정역학적 높이가 설계 차압과 차압의 변동 성분의 합과 동일하도록 치수화된다. 유압식 록 (70) 은 과압 릴리프 밸브로서 기능할 것이며, 그래서 시일링 배열체 (63) 의 차압은 유압식 록 (70) 내 물 기둥의 유체 정역학적 높이에 한정된다.

물은 하나 이상의 물 공급부 (72) 로부터 유압식 록 (70) 으로 유동된다. 물은 딥 튜브 (60) 를 냉각시키기 위해서 딥 튜브의 외측 표면을 따라서 안내된다.

하나 이상의 퍼지 가스 공급 라인들 (73) 은 퍼징 가스, 예를 들어 질소를 제 1 실린더와 딥 튜브 (60) 사이의 공간에 공급한다. 퍼징 가스는 유압식 록 내 물을 원하는 레벨로 유지하는 역할을 한다.

Claims (14)

1. 하단부에서 하측 슬래그 수집조 안으로 이어지는 배출 채널을 구비한 관형 기밀 벽을 갖는 가스화기를 포함하는 가스화 반응기로서,
   상기 기밀 벽과 상기 슬래그 수집조는 압력 용기 내에 배치되고,
   상기 배출 채널을 갖는 상기 가스화기와 상기 압력 용기 사이의 환상 공간은, 댐퍼를 포함하는 시일링 배열체에 의해서 고압 상측부와 저압 하측부로 분리되고,
   상기 시일링 배열체는 상측 시일을 포함하고, 그리고 상기 댐퍼는 상기 상측 시일 아래에 축방향으로 이격된 하측 시일에 의해서 형성되는, 가스화 반응기.
2. 제 1 항에 있어서,
   2 개의 상기 시일들 사이의 중간 공간은 하나 이상의 압력 제어 유닛들을 구비하는, 가스화 반응기.
3. 제 2 항에 있어서,
   상기 압력 제어 유닛들은 하나 이상의 과압 밸브들을 포함하는, 가스화 반응기.
4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 시일들 중 적어도 하나의 시일은, 내측 원주부를 따라서 배출부를 갖는 상기 가스화기 벽에 그리고 외측 원주부를 따라서 상기 압력 용기 벽에 기밀 방식으로 용접되는 금속 환상 플레이트인, 가스화 반응기.
5. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
   상기 배출 채널은 2 개의 상기 시일들 사이 공간 내 상기 압력 용기 벽의 내측 표면에 있는 지지부들로부터 현수된, 가스화 반응기.
6. 제 1 항에 있어서,
   상기 시일링 배열체는 상기 환상 공간의 대향측들로부터 연장된 적어도 2 개의 환상 부재들을 포함하고, 상기 환상 부재들은 이격되어 댐퍼를 형성하는 유압식 록 (hydraulic lock) 을 한정하는 인터록킹 자유 단부들을 갖는, 가스화 반응기.
7. 제 6 항에 있어서,
   상기 압력 용기 벽은 상기 환상 부재들 중 제 1 환상 부재를 지지하고 (carry), 상기 제 1 환상 부재는 수직으로 연장되는 제 1 실린더 벽을 지지하는 자유 내측 원주부를 갖고, 제 2 환상 부재는 상기 가스화기 벽 측에서 지지되고, 상기 제 2 환상 부재는 상기 제 1 실린더 벽 내에 동축으로 배치된 수직하게 연장되는 제 2 실린더 벽을 지지하는 자유 외측 원주부를 갖고, 그리고 적어도 부분적으로 액체로 채워져 상기 유압식 록을 형성하는, 가스화 반응기.
8. 제 7 항에 있어서,
   상기 하측 시일은 상기 상측 시일 아래에 이격되어 위치되는 상기 유압식 록을 한정하는 2 개의 상기 환상 부재들에 의해서 형성되는, 가스화 반응기.
9. 제 8 항에 있어서,
   상기 유압식 록은 하나 이상의 물 공급부를 포함하는, 가스화 반응기.
10. 제 9 항에 있어서,
    상기 물 공급부들 중 적어도 하나의 물 공급부는 상기 배출 채널을 갖는 상기 가스화기 벽의 적어도 일부를 따라서 물이 안내되도록 배치되는, 가스화 반응기.
11. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유압식 록은 넘치는 물을 상기 배출 채널을 갖는 상기 가스화기 벽의 일부를 따라서 안내하는 오버플로우부를 포함하는, 가스화 반응기.
12. 제 8 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 유압식 록은 하나 이상의 배출 개구부들을 포함하는, 가스화 반응기.
13. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 시일링 배열체는 상기 배출 채널의 레벨에 위치되는, 가스화 반응기.
14. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반응기는 상기 댐퍼 위 공간에 퍼징 가스의 공급을 위한 하나 이상의 연결부들을 구비하는, 가스화 반응기.

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