TWI452070B - Manufacturing method of optical film - Google Patents

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TWI452070B
TWI452070B TW101132360A TW101132360A TWI452070B TW I452070 B TWI452070 B TW I452070B TW 101132360 A TW101132360 A TW 101132360A TW 101132360 A TW101132360 A TW 101132360A TW I452070 B TWI452070 B TW I452070B
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Kazuki Akasaka
Nobuo Kubo
Naoki Takahashi
Takashi Takebe
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Description

光學薄膜之製造方法
本發明係關於一種光學薄膜的製造方法。
液晶顯示裝置廣泛地被用作為電視或個人電腦等的液晶顯示器。液晶顯示裝置，通常具有液晶晶胞、挾持該液晶晶胞之一對的偏光板，以及背光。偏光板通常具有偏光子、挾持該偏光子之一對的偏光板保護薄膜。
偏光板保護薄膜方面，因耐熱性高而通常使用纖維素三乙酸酯薄膜。但是，纖維素三乙酸酯薄膜在高濕條件下，會有尺寸易變化、因此導致光學性能易變化之問題。
因此，乃提案有含耐熱性高之纖維素系樹脂與耐濕性高之丙烯酸系樹脂的光學薄膜(例如，專利文獻1)。專利文獻1中記載的光學薄膜，可以使樹脂溶解於溶劑中予以混合之溶液流延法來製造。另一方面，為了減低環境負荷、降低製造成本等，而期望以不使用溶劑而使樹脂加熱熔融予以混合之熔融擠壓法來製造光學薄膜。但是，因纖維素系樹脂與丙烯酸系樹脂相溶性低，故難以以熔融擠壓法來製造含纖維素系樹脂與丙烯酸系樹脂之薄膜。
相對於此，自動車、家電或OA機器之零件等中所用的薄膜方面，乃提案有在纖維素衍生物的存在下使乙烯基單體聚合所得之熱可塑性樹脂的成形薄膜(例如，專利文獻2及3)。
[先前技術文獻] 專利文獻
專利文獻1：國際公開第2009/045924號
專利文獻2：日本特開2009-227876號公報
專利文獻3：日本特開2011-51127號公報
但是，將專利文獻2及3中記載的熱可塑性樹脂熔融擠壓所得之薄膜，其霧度高，並不適用為光學薄膜。
本發明者們發現，使專利文獻2及3中記載的熱可塑性樹脂成形所得之薄膜，其霧度高的主要原因有：(1)含有許多來自作為熱可塑性樹脂之原料纖維素樹脂的微小異物或雜質、(2)乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)之相溶性不足。
而且，本發明者們發現以下兩方法有效：(1)為了減低來自原料的微小異物或雜質，例如，可將乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之混合物(漿劑)過濾、(2)為了提高乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)之相溶性，可調整乙烯基單體(a)之聚合方法、固有複折射為正的樹脂(b)之種類或漿劑之黏度等。
本發明乃鑑於上述情事所成者，其係以提供耐熱性與耐濕性高且霧度低之光學薄膜的製造方法為目的。
[1]一種光學薄膜的製造方法，其係包含得到含50~90質量%之乙烯基單體(a)與10~50質量%之固有複折射為正的樹脂(b)之漿劑的步驟、使前述漿劑中所含的前述乙烯基單體(a)聚合而得熱可塑性樹脂之步驟、使含前述熱可塑性樹脂之樹脂組成物成形而得內部霧度為0.2%以下之光學薄膜的步驟。
[2]如[1]之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜之光彈性係數為-5.0×10-12 ~5.0×10-12 m2 /N之範圍。
[3]如[1]或[2]之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜係下述式(I)所示之在波長590nm的面內方向之遲滯量Ro為-10nm~10nm之範圍且下述式(II)所示之在波長590nm的厚度方向之遲滯量Rt為-10nm~10nm之範圍者；式(I)Ro=(nx-ny)×d 式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nx表示光學薄膜的面內方向中，在折射率為最大之方向x的折射率；ny表示光學薄膜的面內方向中，在與前述方向x呈垂直的方向y之折射率；nz表示在光學薄膜的厚度方向z之折射率；d(nm)表示光學薄膜的厚度)。
[4]如[1]之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜係下述式(I)所示之在波長590nm的面內方向之遲滯量Ro為20~150nm且下述式(II)所示之在波長590nm的厚度方 向之遲滯量Rt為70~400nm者；式(I)Ro=(nx-ny)×d 式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nx表示光學薄膜的面內方向中，在折射率成最大之方向x之折射率；ny表示光學薄膜的面內方向中，在與前述方向x呈垂直的方向y之折射率；nz表示在光學薄膜的厚度方向z之折射率；d(nm)表示光學薄膜的厚度)。
[5]如[1]~[4]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述固有複折射為正的樹脂(b)係由纖維素酯樹脂、纖維素醚樹脂、環狀烯烴樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂及丙烯酸樹脂所成之群選出的一種類以上者。
[6]如[1]~[5]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述固有複折射為正的樹脂(b)係具有碳數3以上之醯基的纖維素酯樹脂。
[7]如[1]~[6]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述固有複折射為正的樹脂(b)係滿足下述式(i)及(ii)之纖維素酯樹脂。(i)2.0≦DSac+DSpr<3.0 (ii)0.5≦DSpr<2.8(式中，DSac表示乙醯基的取代度、DSpr表示碳數3以上之 醯基的取代度)。
[8]如[6]或[7]之光學薄膜的製造方法，其中，前述纖維素酯樹脂之重量平均分子量Mw係3.0×104 ~3.0×105 。
[9]如[1]~[8]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述乙烯基單體(a)係單官能之乙烯基單體(a)。
[10]如[1]~[9]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述乙烯基單體(a)係由(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、馬來醯亞胺化合物、N-乙烯基環狀醯胺化合物、乙烯基酯化合物所成之群選出的一種類以上。
[11]如[1]~[10]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，前述漿劑以振動黏度計所測定之23℃下的黏度係4000Pa．s以下。
[12]如[1]~[11]中任一項之光學薄膜的製造方法，其係進一步含有過濾前述漿劑的步驟。
[13]如[1]~[12]中任一項之光學薄膜的製造方法，其係將前述漿劑以空隙率76~95%、捕集粒子徑0.5~5μm之過濾器過濾。
[14]如[1]~[13]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，在得到前述熱可塑性樹脂的步驟中，係使前述乙烯基單體(a)塊狀聚合。
[15]如[1]~[14]中任一項之光學薄膜的製造方法，其中，係將含前述熱可塑性樹脂之樹脂組成物予以熔融擠壓而得光學薄膜。
本發明之光學薄膜係耐熱性與耐濕性高且霧度低者。又，本發明之光學薄膜係因可藉由不使用習知之鹵素系溶劑等的熔融擠壓法來予以成形之故，而得以減輕環境負荷。
 實施發明之形態 1.光學薄膜
本發明之光學薄膜係將含有特定的熱可塑性樹脂與因應需要而添加的其他添加劑之樹脂組成物成形所得的薄膜。樹脂組成物中所含的特定的熱可塑性樹脂係於固有複折射為正的樹脂(b)的存在下使乙烯基單體(a)聚合者。
關於熱可塑性樹脂
構成熱可塑性樹脂之乙烯基單體(a)，係含有分子內具乙烯性雙鍵之化合物，較佳為分子內具乙烯性雙鍵與含雜原子之官能基的化合物。所謂含雜原子之官能基，可為酯基、醯亞胺基、醯胺基等。
分子內具乙烯性雙鍵與含雜原子之官能基的化合物之例中，包含(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、馬來醯亞胺化合物、N-乙烯基環狀醯胺化合物、乙烯基酯化合物、芳香族乙烯基、氰化乙烯基、(甲基)丙烯酸 等，較佳為(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、馬來醯亞胺化合物、N-乙烯基環狀醯胺化合物、乙烯基酯化合物。
(甲基)丙烯酸酯化合物之例中，包含甲基(甲基)丙烯酸酯、乙基(甲基)丙烯酸酯、環己基甲基丙烯酸酯、2-羥基乙基甲基丙烯酸酯、n-丙基丙烯酸酯、n-丁基丙烯酸酯、氰基乙基丙烯酸酯、氰基丁基丙烯酸酯等的(甲基)丙烯酸酯；2,2,2-三氟乙基甲基丙烯酸酯等的氟化(甲基)丙烯酸酯；(甲基)丙烯酸胺基乙基、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基胺基乙基、(甲基)丙烯酸t-丁基胺基乙基等的(甲基)丙烯酸胺基烷基；(甲基)丙烯酸甲氧基乙基、(甲基)丙烯酸乙氧基乙基等的(甲基)丙烯酸烷氧基烷基；N-(甲基)丙烯醯基氧基亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-6-氧基六亞甲基琥珀醯亞胺、N-(甲基)丙烯醯基-8-氧基八亞甲基琥珀醯亞胺等的N-(甲基)丙烯醯基琥珀醯亞胺等。
(甲基)丙烯醯胺化合物之例中，包含(甲基)丙烯醯胺、N,N-二甲基(甲基)丙烯醯胺、N-丁基(甲基)丙烯醯胺(正丁基丙烯醯胺、叔丁基丙烯醯胺)、N-羥甲基(甲基)丙烯醯胺、N-羥甲基丙烷(甲基)丙烯醯胺、N-丙烯醯基嗎福啉等的(甲基)丙烯醯胺等。
馬來醯亞胺化合物之例中，包含N-環己基馬來醯亞胺、N-苯基馬來醯亞胺、N-甲基馬來醯亞胺、二甲基馬來醯亞胺、N-丁基馬來醯亞胺等的N-取代馬來醯亞胺等。
N-乙烯基環狀醯胺化合物之例中，包含乙烯基吡咯酮等。乙烯基酯化合物之例中，包含醋酸乙烯基酯等。芳香族乙烯基之例中，包含苯乙烯、α-甲基苯乙烯等；氰化乙烯基之例中，包含丙烯腈等。
為了提高作為固有複折射為正的樹脂(b)之纖維素酯樹脂的相溶性，係可使用(甲基)丙烯酸酯化合物(較佳為(甲基)丙烯酸胺基烷基、(甲基)丙烯酸烷氧基烷基、(甲基)丙烯醯基琥珀醯亞胺)或(甲基)丙烯醯胺化合物(較佳為(甲基)丙烯醯胺)。為了得到高耐熱性之熱可塑性樹脂，係可使用馬來醯亞胺化合物(較佳為N取代馬來醯亞胺、更佳為N-環己基馬來醯亞胺)。
乙烯基單體(a)係以分子內僅具一個乙烯性雙鍵之化合物(單官能之乙烯基單體)者為佳。其中，更由反應性高等來看，係以(甲基)丙烯酸酯為佳、甲基(甲基)丙烯酸酯者更佳。
構成熱可塑性樹脂之乙烯基單體(a)，可僅為一種類，亦可為二種類以上之混合物。二種類以上之乙烯基單體(a)的混合物，係以至少含有(甲基)丙烯酸酯者為佳。(甲基)丙烯酸酯的含有比例，相對於二種類以上之乙烯基單體(a)的合計，可為50質量%以上。
構成熱可塑性樹脂之固有複折射為正的樹脂(b)，可為纖維素酯樹脂、纖維素醚樹脂、環狀烯烴樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂或丙烯酸樹脂。構成熱可塑性樹脂之固有複折射為正的樹脂(b)，可僅為一種類，亦可為二種以上之混合物。其中，從乙烯基單體(a)之相溶性高且所得之薄膜的透明性與耐熱性高的觀點來看，係以纖維素酯樹脂為佳。從熔融黏度低且相位差表現性高的觀點來看，則以纖維素醚樹脂為佳。
纖維素酯樹脂之總醯基取代度可為1.5以上且未達3.0，較佳為2.0以上且未達3.0、更佳為2.4以上且2.9以下、又更佳為2.5以上且2.8以下。總醯基取代度若未達1.5，則熔融擠壓時的熔融樹脂黏度高，薄膜面的品質會降低，於熔融溫度下樹脂容易劣化或著色。總醯基取代度係表示，構成纖維素之無水葡萄糖所具有的三個羥基之中，被酯化之羥基的數目平均值。
纖維素酯樹脂中所含的醯基，可為脂肪族醯基或芳香族醯基，較佳為脂肪族醯基。纖維素酯樹脂中所含的醯基，可為一種類，亦可為二種類以上。
脂肪族醯基之碳原子數，較佳為2~7、更佳為2~6、又更佳為2~4。脂肪族醯基方面，為了使所得之光學薄膜的霧度變低，係以含碳原子數3以上之醯基者為佳。含碳原子數3以上之醯基的纖維素酯樹脂，因與乙烯基單體(a)之相溶性高，而容易得到霧度低的光學薄膜。碳原子數3以上之醯基的取代度可為0.3以上且未達3.0、較佳為0.5以 上且未達2.8。碳原子數3以上之醯基的較佳例中，包含丙醯基、丁醯基等。
醯基的取代度係可依ASTM-D817-96來測定。
纖維素酯之例中，包含纖維素乙酸酯、纖維素乙酸酯丙酸酯、纖維素乙酸酯丁酸酯等，其中更以纖維素乙酸酯丙酸酯為佳。
其中，更以同時滿足下述式(i)與(ii)之纖維素酯樹脂為佳。下述式中，DSac表示乙醯基的取代度；DSpr表示碳原子數3以上之醯基的取代度。
(i)2.0≦DSac+DSpr<3.0
(ii)0.5≦DSpr<2.8
纖維素酯樹脂的重量平均分子量Mw以3.0×104 ~3.0×105 之範圍者為佳、5.0×104 ~2.0×105 之範圍者更佳。重量平均分子量Mw若未達3.0×104 ，則會有所得之薄膜的機械性強度低的情況。另一方面，重量平均分子量Mw若超過3.0×105 ，則含纖維素酯樹脂之漿劑的黏度高，且難以與乙烯基單體(a)充分地相溶。纖維素酯樹脂之重量平均分子量Mw若於上述範圍時，則可使後述之漿劑的黏度為4000Pa．s以下，且所得之薄膜的機械性強度亦高。
纖維素酯樹脂的分子量分佈(重量平均分子量Mw/數平均分子量Mn)係以1.0~4.5者為佳。
纖維素酯的重量平均分子量Mw可藉由膠體滲透層析 (GPC)來測定。測定條件如下述。
溶媒：二氯甲烷
管柱：連接Shodex K806、K805、K803G(昭和電工(股)製)等3支使用。
管柱溫度：25℃
試劑濃度：0.1質量%
檢出器：RI Model 504(GL SCIENCES公司製)
泵浦：L6000(日立製作所(股)製)
流量：1.0ml/min
校正曲線：使用標準聚苯乙烯STK standard聚苯乙烯(TOSOH(股)製)Mw=1.0×106 ~5.0×102 為止之13樣本所為之校正曲線。13樣本係以幾乎等間隔選擇者為佳。
纖維素酯可以公知的方法合成。具體而言，乃是將纖維素、至少含有醋酸或其無水物之碳原子數3以上的有機酸或其無水物，在觸媒的存在下使其進行酯化反應來合成纖維素的三酯體。接著，將纖維素的三酯水解，合成具有所期望醯基取代度之纖維素酯樹脂。將所得的纖維素酯樹脂過濾、沈澱、水洗、脫水並使其乾燥後，可得纖維素酯樹脂(參考日本特開平10-45804號中記載的方法)。
作為原料的纖維素，可使用例如綿花棉絨、木材木漿(來自針葉樹、來自闊葉樹)及洋麻(kenaf)等。作為原料的纖維素可僅為一種類，亦可為二種類以上的混合物。
市售品方面，可舉出DAICEL化學工業(股)製的L20、L30、L40、L50、EASTMAN CHEMICAL公司的Ca398-3、 Ca398-6、Ca398-10、Ca398-30、Ca394-60S。
纖維素醚樹脂
纖維素醚樹脂係纖維素之羥基的一部份或全部經烷氧基所取代者。烷氧基之碳數並無特別限制，但為了得到一定以上的相位差表現性，可為4以下，較佳可為2以下。如此的烷氧基之例中，包含甲氧基、乙氧基、丙氧基、丁氧基等，較佳為甲氧基、乙氧基、更佳為乙氧基。纖維素醚樹脂中所含的烷氧基，可為一種類，亦可為二種類以上。
纖維素醚樹脂之具體例中，包含甲基纖維素、乙基纖維素等，較佳為乙基纖維素。
纖維素醚樹脂之烷氧基的總取代度並無特別限制，可為1.5以上且未達3.0，較佳為2.0以上且未達3.0、更佳為2.3以上2.8以下。烷氧基之總取代度若過低，熔融擠壓時的熔融樹脂黏度會變高，會有成形性容易降低的情況。烷氧基的取代度係可依ASTM D4794-94中記載的方法來測定。
纖維素醚樹脂的重量平均分子量或分子量分佈等，係可調整至與纖維素酯樹脂同樣之範圍。
如此的纖維素醚樹脂，不只是較纖維素酯有更低的熔融黏度，也具有高相位差表現性。
熱可塑性樹脂的含量，為了得到一定以上之耐熱性、耐濕性或光學特性，相對於光學薄膜全體，可為60質量%以上，較佳為70質量%以上、更佳為80質量%以上。
本發明中所用的樹脂組成物，除了熱可塑性樹脂以外 ，亦可因應需要而進一步包含紫外線吸收劑、抗氧化劑、抗靜電劑及微粒子等的任意成分。
紫外線吸收劑
紫外線吸收劑，係吸收波長400nm以下之紫外線的化合物，較佳為在波長370nm之透過率為10%以下、更佳為5%以下、又更佳為2%以下的化合物。
紫外線吸收劑的光線透過率，係可藉由常法，以分光光度計來測定溶媒(例如，二氯甲烷、甲苯等)中溶解了紫外線吸收劑所成的溶液而得。分光光度計，可使用例如島津製作所公司製的分光光度計UVIDFC-610、日立製作所公司製的330型自記分光光度計、U-3210型自記分光光度計、U-3410型自記分光光度計、U-4000型自記分光光度計等。
紫外線吸收劑，並無特別限定，可為氧基二苯基酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、二苯基酮系化合物、氰基丙烯酸酯系化合物、三吖嗪系化合物、鎳錯鹽系化合物及無機粉體等。透明性高且為了抑制活性線硬化樹脂層之劣化，係以苯并三唑系紫外線吸收劑及二苯基酮系紫外線吸收劑為佳、再者，為了減少不必要的著色，以苯并三唑系紫外線吸收劑更佳。
紫外線吸收劑之具體例中，包含5-氯-2-(3,5-二-sec-丁基-2-羥基苯基)-2H-苯并三唑、(2-2H-苯并三唑-2-基)-6-(直鏈及側鏈十二烷基)-4-甲基苯酚、2-羥基-4-苯甲基氧 基二苯基酮、2,4-苯甲基氧基二苯基酮、Tinuvin 109、Tinuvin 171、Tinuvin 234、Tinuvin 326、Tinuvin 327、Tinuvin 328(Ciba Specialty Chemicals公司製)等的Tinuvin類等。
紫外線吸收劑的含量，雖視紫外線吸收劑的種類而定，但相對於光學薄膜全體，係以0.5~10質量%者為佳、0.6~4質量%者更佳。
抗氧化劑
以熔融擠壓法製造薄膜的步驟中，因於高溫下將樹脂等的薄膜材料予以熔融混練，而樹脂等的薄膜材料容易因熱或氧而分解。為了抑制如此樹脂等的薄膜材料因熱或氧導致的分解，本發明之樹脂組成物係以進一步包含抗氧化劑來作為安定化劑為佳。
抗氧化劑之例中，包含受阻苯酚系化合物、受阻胺系化合物、磷系化合物、耐熱加工安定劑等，較佳為受阻苯酚系化合物、磷系化合物等。
受阻苯酚系化合物之例中，包含2,6-二-t-丁基-p-甲酚、季戊醇-肆〔3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-雙〔3-(3-t-丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、1,6-己烷二醇-雙〔3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、2,4-雙-(n-辛基硫代)-6-(4-羥基-3,5-二-t-丁基苯胺基)-1,3,5-三吖嗪、2,2-硫代-二伸乙基雙〔3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、十八烷基-3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基 苯基)丙酸酯、N,N' -六亞甲基雙(3,5-二-t-丁基-4-羥基-氫桂皮醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-參(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯甲基)苯、參-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯甲基)-異氰尿酸酯等。特別是，2,6-二-t-丁基-p-甲酚、季戊醇-肆〔3-(3,5-二-t-丁基-4-羥基苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-雙〔3-(3-t-丁基-5-甲基-4-羥基苯基)丙酸酯〕為佳。受阻苯酚系化合物的市售品之例中，包含Irganox1010(Ciba Japan公司製)、Sumilizer GS(住友化學公司製)等。
磷系化合物之例中，包含參(2,4-二-t-丁基苯基)亞磷酸酯、雙(2,6-二-t-丁基-4-甲基苯基)季戊四醇-二亞磷酸酯等。磷系化合物的市售品之例中，包含ADK STAB PEP36(旭電化製)等。
本發明之樹脂組成物中所含的抗氧化劑可僅為一種類，亦可為二種類以上的混合物。抗氧化劑的含量，相對於前述熱可塑性樹脂，係以質量比例計1ppm~2.0%者為佳、10~1000ppm者更佳。
微粒子
微粒子，乃具有提高所得光學薄膜之表面平滑性的機能。微粒子可為無機微粒子或有機微粒子。無機微粒子之例中，包含二氧化矽、二氧化鈦、氧化鋁、氧化鋯、碳酸鈣、碳酸鈣、滑石、黏土、燒成高嶺土、燒成矽酸鈣等。有機微粒子之例中，包含聚苯乙烯、聚甲基甲基丙烯酸酯等。為了減少薄膜霧度的增大，特別以二氧化矽為佳。
微粒子之一次平均粒子徑係以20nm以下者為佳、5~16nm者更佳、5~12nm者又更佳。
微粒子之1次平均粒子徑，係以透過型電子顯微鏡在倍率50萬~200萬倍下觀察粒子，而得以求得粒子100個之粒子徑為其平均值。
微粒子的含量，相對於前述熱可塑性樹脂，係以0.01~5.0質量%者為佳、0.05~1.0質量%者更佳。微粒子之含量若超過5.0質量%，可減少凝聚物。
本發明之光學薄膜的厚度，並無特別限定，但以10~200μm者為佳、10~100μm者更佳、20~70μm者又更佳。薄膜的厚度若過小，難以獲得所期望的遲滯量。另一方面，薄膜的厚度若過大，則會因濕度等的影響導致遲滯量容易變動。
光學薄膜中所含的鈣及鎂之總量與醋酸量，係以滿足下述式(a)為佳。
1≦(醋酸量)/(鈣及鎂之總量)≦30．．．式(a)
光學薄膜中所含的鈣及鎂，乃是來自作為熱可塑性樹脂之原料的纖維素酯樹脂中所含之雜質，或是來自於中和或安定化纖維素酯樹脂之合成時所用的酸觸媒(特別是，硫酸)而添加的金屬氧化物、金屬氫氧化物或金屬鹽(無機酸鹽、有機酸鹽)。光學薄膜中所含的醋酸，係來自於纖維素酯樹脂之合成時，作為反應溶媒或酯化劑所添加的無水醋酸或醋酸者。未反應的無水醋酸，乃藉由反應停止劑(水、醇、醋酸等)所水解而生成醋酸。
醋酸量/(鈣及鎂之總量)若小於1時，則因鈣金屬鹽或鎂金屬鹽而產生光散射，容易使對比降低。另一方面，醋酸量/(鈣及鎂之總量)若超過30，則將光學薄膜貼合至偏光子時，會因醋酸而易使偏光子劣化。
光學薄膜中所含的鈣及鎂之總量，為了減低薄膜的霧度，係以5~130質量ppm者為佳、5~80質量ppm者更佳、5~50質量ppm者又更佳。鈣及鎂之總量係如後述，可藉由過濾漿劑等方式來減低。
光學薄膜中所含之鈣及鎂的量，例如，可以下述方法來測定。使已乾燥的光學薄膜完全地燃燒後，將所得的灰分溶解於鹽酸中進行前處理。然後，將所得試劑中所含的鈣及鎂的重量，以原子吸光法來測定。測定值為光學薄膜中所含的鈣及鎂之合計重量(單位：質量ppm)。
光學薄膜中所含醋酸的量，為了抑制偏光子之劣化，係以20~500質量ppm為佳、25~250質量ppm更佳、30~150質量ppm又更佳。
光學薄膜中所含的醋酸的量，例如可以下述方法來測定。使光學薄膜溶解於二氯甲烷中，再加入甲醇使其再沈澱。將所得的上清液過濾後，以氣體層析測定所得溶液中含有的醋酸量。
光學薄膜之面內方向的遲滯量Ro及厚度方向的遲滯量Rt，可因應所要求的光學機能來設定。例如，光學薄膜在23℃、55%RH之環境下，以波長590nm所測定之面內方向的遲滯量Ro可為-40nm~40nm之範圍、較佳為-10nm~ 10nm之範圍、更佳為-5nm~5nm之範圍。厚度方向的遲滯量Rt可為-70nm~70nm之範圍，較佳為-10nm~10nm之範圍、更佳為-5nm~5nm之範圍。具有如此遲滯量的光學薄膜，適合作為例如IPS方式之液晶顯示裝置中配置於偏光子之液晶晶胞側的相位差薄膜。
另一方面，光學薄膜之面內方向的遲滯量Ro較佳為20~150nm、更佳為30~150nm。厚度方向的遲滯量Rt較佳為70~400nm、更佳為100~400nm。具有如此遲滯量的光學薄膜，適用為例如VA方式之液晶顯示裝置中配置於偏光子之液晶晶胞側的相位差薄膜。
遲滯量Ro及Rt主要可依延伸條件或固有複折射為正的樹脂(b)之種類來調整。例如，若要降低Ro及Rt，則可降地延伸倍率，或是選擇相位差表現性不那麼高的固有複折射為正的樹脂(b)(例如，醯基之總取代度為2.4以上之纖維素乙酸酯或纖維素乙酸酯丙酸酯等)。另一方面，若要提高Ro及Rt，例如可使延伸倍率變高，或選擇相位差表現性高的固有複折射為正的樹脂(b)(例如，醯基之總取代度小於2.4之纖維素酯樹脂或纖維素醚樹脂等)。
遲滯量Ro及Rt分別以下述式所示。
式(I)Ro=(nx-ny)×d
式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d
(nx：薄膜面內之遲相軸方向的折射率、ny：薄膜面內中 ，對遲相軸呈垂直方向的折射率、nz：厚度方向中薄膜的折射率、d：薄膜的厚度(nm))
遲滯量Ro及Rt，例如可以下述方法求得。
(1)以折射計測定薄膜之平均折射率。
(2)藉由王子計測機器公司製KOBRA-21ADH，測定使來自薄膜法線方向之波長590nm的光入射時之面內方向的遲滯量Ro。
(3)藉由王子計測機器公司製KOBRA-21ADH，測定相對於薄膜法線方向從θ角度(入射角(θ))使波長590nm的光入射時的遲滯量值R(θ)。θ大於0°，較佳為30°~50°。
(4)由所測定的Ro及R(θ)與前述之平均折射率及膜厚，藉由王子計測機器公司製KOBRA-21ADH算出nx、ny及nz，且算出Rt。遲滯量之測定，係可於23℃55%RH條件下進行。
光學薄膜係於薄膜面內具有遲相軸或進相軸。與遲相軸的製膜方向所成的角θ 1(配向角)係以-1°以上且+1°以下者為佳、-0.5°以上且+0.5°以下者更佳。配向角θ 1若滿足上述範圍，則因可抑制光洩漏，而得以提高顯示影像的亮度。光學薄膜之配向角θ 1之測定係可使用自動複折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器)來測定。
23℃、55%RH條件下所測定的光學薄膜之光彈性係數c為-5.0×10-12 ~5.0×10-12 m2 /N者為佳、-2×10-12 ~2×10-12 m2 /N者更佳。光學薄膜之光彈性係數c係可依熱可塑性樹脂之合成時的乙烯基單體(a)與固有複折射為正的 樹脂(b)之含有比率等來調整。
薄膜之光彈性係數c之測定可依下述步驟進行。
1)使用遲滯量測定裝置(KOBURA31PR、王子計測機器公司製)，在光學薄膜之最大延伸方向(延伸倍率為最大之方向)上邊增加拉伸荷重，邊測定在波長589nm之薄膜面內的遲滯量Ro(589)。同樣地，測定使拉伸荷重變化時薄膜面內的遲滯量Ro(589)。測定可於23℃、55%RH條件下進行。
2)使對光學薄膜施加的拉伸應力為橫軸，使薄膜之面內遲滯量Ro(589)除以薄膜的厚度所得之△n(nx-ny)為縱軸，以各拉伸應力之△n(nx-ny)來作圖，得到拉伸荷重-△n(nx-ny)之曲線。求取所得曲線在近似直線時的直線斜率為光彈性係數。
光學薄膜根據JIS K-7136所測定的內部霧度，係以0.2%以下者為佳、0.1%以下者更佳、0.05%以下者更佳。為了降低內部霧度，係以如後述般，係以在熱可塑性樹脂之合成過程中(1)去除漿劑中所含的微小異物或雜質、(2)提高漿劑中乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之相溶性為佳。
光學薄膜之內部霧度係可根據JIS K-7136之方法，具體而言，可依下述方法來測定。
準備霧度計(型式：NDH 2000、日本電色(股)製)。光源係5V9W的鹵素燈泡，受光部為矽光電管(附比視感度濾光器)。
(1)空白霧度之測定
在洗淨的載片玻璃上，滴下一滴甘油(0.05ml)。此時，注意液滴中不可以有氣泡。
接著，於滴下的甘油上，放下蓋片玻璃。即使不壓蓋片玻璃，甘油也會展開。
將藉此所得的空白測定用樣本(蓋片玻璃/甘油/載片玻璃)固定於霧度計，測定霧度1(空白霧度)。
(2)含光學薄膜之樣本的霧度測定
與前述(1)同樣地進行，於洗淨的載片玻璃上滴下甘油。
另一方面，使將測定的光學薄膜，於23℃55%RH下經5小時以上進行調濕。接著，於滴下的甘油上，將已調濕的光學薄膜蓋上且注意不使氣泡進入。
再者，於光學薄膜上滴下0.05ml的甘油後，在蓋上蓋片玻璃。
將藉此所得之測定用樣本(蓋片玻璃/甘油/試劑薄膜/甘油/載片玻璃)固定於前述之霧度計，測定霧度2。
(3)將前述(1)所得之霧度1與前述(2)所得之霧度2，代入下述式中，算出光學薄膜之霧度。
光學薄膜之內部霧度(%)=霧度2(%)-霧度1(%)
內部霧度之測定均在23℃55%RH的條件下進行。又，內部霧度之測定中所用的玻璃為MICRO SLIDE GLASS S9213 MATSUNAMI。甘油係關東化學製鹿特級(純度>99.0%)、折射率1.47。
光學薄膜之可見光透過率係以90%以上者為佳、93%以上者更佳。
光學薄膜之玻璃轉移溫度係以110~200℃者為佳、120~190℃者更佳。光學薄膜之玻璃轉移溫度可遵照JIS K7121(1987)之方法來測定。具體而言，係使用示差掃瞄熱量測定器(Perkin Elmer公司製DSC-7型)，使光學薄膜以昇溫速度20℃/分昇溫時，測定其中間點玻璃轉移溫度(Tmg)。
光學薄膜依JIS Z 0208所測定於40℃、90%RH之透濕度係以200~1500(g/(m2 ．24hr))者為佳、400~1200(g/(m2 ．24hr))者更佳。光學薄膜之透濕度，例如，可藉由提高乙烯基單體(a)之聚合物的含有比例，或者是提高作為固有複折射為正的樹脂(b)之纖維素酯樹脂的碳原子數3以上之醯基取代度，來使其降低。
光學薄膜之破斷伸度係以10~80%者為佳、20~50%者更佳。
2.光學薄膜的製造方法
本發明之光學薄膜的製造方法，乃具有下述步驟：(1)得到含乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之漿劑的步驟、(2)使漿劑中所含的乙烯基單體(a)聚合而得熱可塑性樹脂的步驟、(3)將含熱可塑性樹脂之樹脂組成物予以成形而得光學薄 膜的步驟。而為了使所得之光學薄膜的霧度變低，可於(1)與(2)之間，進一步進行(4)去除漿劑中所含的雜質或異物的步驟。
(1)得到漿劑的步驟
獲得漿劑的步驟，乃是得到含乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之漿劑。漿劑中乙烯基單體(a)的含量，相對於乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之合計，係以50~90質量%者為佳、60~80質量%者更佳。乙烯基單體(a)之含有比率若小於50質量%，則漿劑的黏度容易變高。另一方面，乙烯基單體(a)之含有比率若超過90質量%，則所得之薄膜的機械性強度容易降低。
漿劑中固有複折射為正的樹脂(b)的含量，相對於乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之合計，係以10~50質量%者為佳、20~40質量%者更佳。
漿劑於23℃之黏度係以4000Pa．s以下者為佳、3500Pa．s以下者更佳。漿劑的黏度若超過4000Pa．s，則因固有複折射為正的樹脂(b)與乙烯基單體(a)難以相溶，所得薄膜之霧度容易變高。黏度之測定可使用振動黏度計(CBC材料(股)公司製VM-100A)來進行。
漿劑的黏度，例如可藉由乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)之含有比率，或者是固有複折射為正的樹脂(b)之分子量等來調整。
(4)去除漿劑中所含的雜質或異物的步驟，漿劑中，包含作為原料之固有複折射為正的樹脂(b)(特別是，纖維素酯 樹脂)中所含的微小異物(醯基取代度相異的纖維素酯或未反應的纖維素等)或雜質(後述的鈣離子或鎂離子等)。從含有如此微小異物或雜質之漿劑所得的含熱可塑性樹脂之光學薄膜，其霧度容易變高。因此，係以去除漿劑中所含的微小異物或雜質者為佳。
去除漿劑中所含雜質或異物的方法，並無特別限制，包含將漿劑過濾之方法、離心之方法等。
用於過濾的濾紙之空隙率係以76~95%者為佳。濾紙之捕集粒子徑係以0.5~5μm者為佳。為了提高過濾效率，可將濾紙重疊多片使用。
(2)使漿劑中所含的乙烯基單體(a)聚合之步驟，係以在固有複折射為正的樹脂(b)的存在下，使乙烯基單體(a)塊狀聚合者為佳。其係因可得乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)均一地相溶之熱可塑性樹脂，且含有該樹脂的薄膜霧度低的緣故。
意即，將乙烯基單體(a)於已分散有固有複折射為正的樹脂(b)的水中予以懸濁聚合所得的樹脂，因固有複折射為正的樹脂(b)不溶於水之故，乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)並未均一地相溶。又，於溶解了固有複折射為正的樹脂(b)的有機溶劑中，使乙烯基單體(a)懸濁聚合所得的樹脂，雖乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)相溶，但必須有去除有機溶劑的步驟。相對於此，不使用水或有機溶劑，而於固有複折射為正的樹脂(b)的存在下使乙烯基單體塊狀聚合所得 的樹脂，其乙烯基單體(a)之聚合物與固有複折射為正的樹脂(b)均一地相溶，且不需要去除有機溶劑的步驟。
在固有複折射為正的樹脂(b)的存在下使乙烯基單體(a)聚合，係可使用自由基聚合起始劑以及因應需要而得以使用鏈轉移劑、分散劑或乳化劑等來進行。
自由基聚合起始劑之例中，包含t-丁基氫過氧化物、異丙苯氫過氧化物、苯甲基過氧化物、t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯等的有機過氧化物；過硫酸鉀、過硫酸銨等的過硫酸鹽；偶氮雙異丁腈、偶氮雙-2,4-二甲基纈草腈等的偶氮化合物；組合有機過氧化物與還原劑之氧化還原系起始劑；組合過硫酸鹽與還原劑之氧化還原系起始劑等。自由基聚合起始劑可僅為一種類，亦可為二種以上之混合物。
鏈轉移劑之例中，包含辛基硫醇、十二烷基硫醇等。分散劑之例中，包含聚乙烯基醇、聚丙烯酸鈉、聚氧化乙烯等。分散助劑之例中，包含硫酸鈉、碳酸鈉、過氧化氫水、硼酸等。乳化劑之例中，包含公知的陰離子系乳化劑、陽離子系乳化劑及非離子系乳化劑等。
在固有複折射為正的樹脂(b)的存在下使乙烯基單體(a)聚合時，係將固有複折射為正的樹脂(b)與乙烯基單體(a)混合後，經過30分鐘以上之後，使其開始聚合反應者為佳。此乃為了使乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)均一地混合。
聚合溫度，例如可為0~150℃，並以50~90℃為佳。聚合時間，可為例如1~10小時。聚合係可因應需要而於 氮氣氛圍下進行。
(3)得到光學薄膜的步驟
其係將含熱可塑性樹脂之樹脂組成物以溶液流延法或熔融擠壓法成形而得光學薄膜。其中，更以利用熔融擠壓法來獲得光學薄膜者為佳。
首先，就薄膜的製造裝置進行說明。圖1表示薄膜的製造裝置之一例模式圖。如圖1所示，薄膜的製造裝置10乃是具有：將樹脂予以熔融混練的擠壓機12、將熔融的樹脂吐出成薄膜狀之吐出嘴14、將由吐出嘴14所吐出的高溫樹脂以多階段冷卻之複數冷卻輥16、18及20、將經冷卻固化所得之薄膜剝離的剝離軋輥22、延伸薄膜之延伸裝置24、捲取經延伸之薄膜的捲取裝置26。
擠壓機12係熔融混練擠壓機，具有圓筒與設於圓筒內部可自由旋轉之螺槳。圓筒的供給口上，設有供給薄膜之材料用的漏斗(不圖示)。螺槳之形狀，可為全螺型(full flighted)、犁釘型(Maddock)、達瑪莒型(Dulmadge)等，可因應熔融樹脂之黏度或必要的剪斷力來選擇。擠壓機12可為1軸擠壓機或2軸擠壓機。
擠壓機12與吐出嘴14之間，可進一步設置過濾熔融樹脂之過濾器28。過濾器28，例如可為葉盤型之過濾器。過濾器的過濾精度係以3~15μmm者為佳。過濾器的材質可為不鏽鋼或其燒結物等。擠壓機12與吐出嘴14之間，亦可進一步設置使樹脂均一混合用的靜態攪拌器30等的混合裝置或是安定化擠壓流量用的螺旋齒輪泵(不圖示)等。
吐出嘴14可為公知者，有T吐出嘴等。吐出嘴14的材質可為硬質鉻、碳化鉻等。吐出嘴14之背角係以900μm以上為佳、1mm以上且2mm以下更佳。
冷卻輥16、18及20係高剛性之金屬輥，且內部具有可使控制溫度的介質流通的構造。冷卻輥16、18及20之表面的材質可為不鏽鋼、鋁、鈦等。冷卻輥16、18及20之表面，為了可使樹脂輕易地剝離等等的，可施予鍍硬鉻等的表面處理。冷卻輥16、18及20之表面粗度Ra，為了維持低薄膜霧度，係以0.1μm以下為佳、0.05μm以下更佳。
冷卻輥16中，係以進一步設置清掃輥表面之清掃裝置34為佳。清掃裝置34可為將經溶劑浸透之不織布等的構件壓在輥表面之方式、使輥浸漬於液體中之方式、進行電暈放電或輝光放電等的電漿放電之方式等，其中，以進行電漿放電之方式者為佳。電漿放電之方式可為直接吐出方式或遙控方式。
圖2表示直接吐出方式之常溫電漿照射裝置34’的構成模式圖。如圖2所示，常溫電漿照射裝置34’乃具有相對向之一對電極(a)及(b)、反應氣體供給機構(不圖示)、使電漿噴射之吹出狹縫34A。然後，於施予高頻電壓之電極(a)與(b)之間，使反應性氣體(g)導入及通過而予以電漿化，將生成的電漿噴射至冷卻輥16的表面。藉此，將冷卻輥16之表面予以改質。
吹出狹縫34A與冷卻輥16之表面的間隙(d)係以1~30mm者為佳、2~20mm者更佳。間隙(d)若過小，容易與 薄膜狀的熔融樹脂接觸，間隙(d)若過大，則電漿難以到達冷卻輥16之表面，無法充分地改質冷卻輥16之表面。
彈性接觸輥32係與冷卻輥16成對向配置。然後，由吐出嘴14押出的熔融樹脂，係被以冷卻輥16與彈性接觸輥32所夾持。
彈性接觸輥32通常具有金屬製外筒與內筒，該等之間具有使冷卻流體流通的空間。冷卻流體，因應所設定之溫度域，可使用水或油。彈性接觸輥32之具體例中，包含日本專利第3194904號、日本專利第3422798號、日本特開2002-36332號、日本特開2002-36333號中所記載的成形用輥。彈性接觸輥32上，亦可因應需要而進一步設置與前述同樣的清掃裝置。
延伸裝置24並無特別限制，係以使用輥延伸機、弧型延伸機等為佳。輥延伸機乃具有低速輥群與高速輥群，利用低速輥群與高速輥群之端速差，得以使薄膜向輸送方向(MD方向)延伸。
輥延伸係於薄膜之輸送方向具有低速輥群與高速輥群。然後，低速輥群之中，以上流側之輥預熱薄膜，並以低速輥群之下流側的輥與高速輥群之上流側的輥延伸薄膜，以高速輥群之下流側的輥冷卻薄膜。成為預熱輥之低速輥的支數，可視預熱溫度來設定，可為1~20支、較佳為2~15支左右。成為冷卻輥之高速輥的支數，可視冷卻溫度來設定，可為1~15支、較佳為2~10支左右。
在輥延伸機的加熱方式中，係有加熱器加熱方式與烘 箱加熱方式。加熱器加熱式因可將經延伸的薄膜局部地加熱，故可抑制往寬幅方向的收縮。加熱器的種類，例如以紅外線加熱器、鹵素燈加熱器、陶瓷加熱器等的放射型熱源為佳。加熱器係配置於薄膜之附近，具體而言，係配置於距薄膜之表面為5~100mm的位置、較佳為距10~50mm的位置。
接著，說明使用薄膜的製造裝置10而得光學薄膜之步驟。光學薄膜，例如，經過下述步驟而得：準備含有熱可塑性樹脂之團粒(pellet)的步驟(團粒化步驟)；將薄膜材料以擠壓機12熔融混練後，由吐出嘴14押出的步驟(熔融擠壓步驟)；將被押出之熔融樹脂冷卻固化而得薄膜的步驟(冷卻固化步驟)；將薄膜延伸的步驟(延伸步驟)。
團粒化步驟
含熱可塑性樹脂之樹脂組成物係以預先混練予以團粒化者為佳。團粒化可以公知的方法進行，例如，將含有前述熱可塑性樹脂與因應需要而添加的可塑劑等的添加劑之樹脂組成物，以擠壓機熔融混錬後，從吐出嘴押出呈條狀。將被押出成條狀之熔融樹脂以水冷或空冷後，切斷可得團粒。
團粒之原材料，為了防止原材料的分解，係於供給至擠壓機前先乾燥為佳。例如，因構成熱可塑性樹脂之纖維素酯易吸濕，可使其於70~140℃乾燥3小時以上，使水分率為200ppm以下，較佳為100ppm以下。
擠壓機係以低剪斷力或低溫度進行混練以避免樹脂劣化(分子量的降低、著色及膠體的生成等)為佳。例如，以2軸擠壓機進行混練時，係以使用深溝型的螺槳，使2個螺槳的旋轉方向為同方向為佳。為了均一地進行混錬，係以2個螺槳形狀互相咬合者為佳。
團粒之顏色，為了得到霧度低的薄膜，係以作為黃色指標之b* 值於-5~10之範圍者為佳、於-1~8之範圍者又更佳。b* 值係可於分光測色計CM-3700d(KONICA MINOLTA SENSING(股)製)、使光源為D65(色溫度6504K)、視野角為10°進行測定。
亦可不使含熱可塑性樹脂之樹脂組成物團粒化，將未進行熔融混練之熱可塑性樹脂直接作為原料，以擠壓機12進行熔融混練而製造薄膜。
熔融擠壓步驟
將由熱可塑性樹脂所成的團粒，與其他添加劑等一起從漏斗供給擠壓機12。團粒之供給，為了防止團粒之氧化分解等，係以於真空下、減壓下或惰性氣體氛圍下進行為佳。然後，於擠壓機12熔融混練薄膜材料。
擠壓機12內的薄膜材料之熔融溫度雖視薄膜材料的種類而定，但當薄膜之玻璃轉移溫度為Tg℃時，較佳為Tg℃~(Tg+100)℃之範圍、更佳為(Tg+10)℃~(Tg+90)℃之範圍。在擠壓機12之薄膜材料的滯留時間係以5分以下者為佳。滯留時間可依螺槳的轉數或溝的深度、圓筒的長度 (L)對圓筒的內徑(D)之比L/D等來調整。
將從擠壓機12所押出的熔融樹脂，因應需要而以過濾器28過濾後，再以靜態攪拌器30等的混合裝置混合，由吐出嘴14押出呈薄膜狀。
由吐出嘴14所押出的樹脂之熔融黏度係以1~10000Pa．s者為佳、10~1000Pa．s者更佳。位在吐出嘴14的出口部分之樹脂的熔融溫度可為200~300℃左右。
冷卻固化步驟
將由吐出嘴14所押出的樹脂以冷卻輥16與彈性接觸輥32夾持，使薄膜狀的熔融樹脂為既定的厚度。然後，將薄膜狀的熔融樹脂以冷卻輥18及冷卻輥20進行階段性冷卻而使其固化。
令從冷卻輥20剝離所得薄膜36的厚度為t、吐出嘴的背角為D時，拉伸比(D/t)係以4以上且45以下者為佳。拉伸比(D/t)可依冷卻輥16、18及20的端速來調整。
冷卻輥16之表面溫度Tr1，當所得薄膜之玻璃轉移溫度為Tg(℃)時，為Tg(℃)以下。第2冷卻輥18之表面溫度Tr2為(Tg-50)℃≦Tr2≦Tg℃。又，彈性接觸輥32在擠壓時的線壓為1N/mm以上15N/mm以下。彈性接觸輥32側的薄膜表面溫度Tt為(Tr1-50)℃≦Tt≦(Tr1-5)℃。
輥之表面溫度或薄膜之表面溫度，可以非接觸式的紅外溫度計來測定。具體而言，其係使用非接觸手持型溫度計(IT2-80、(股)KEYENCE製)，於薄膜之寬幅方向(TD方 向)測定每等間隔之10處的表面溫度，求得該等之平均值。表面溫度之測定係可在距離薄膜或輥之表面0.5m的位置進行。
冷卻輥16之表面係以預先藉由常壓電漿照射裝置34’進行表面處理者為佳。意即，於常壓電漿照射裝置34’之對向的電極(a)及(b)之間施加高頻電壓。然後，於此等之電極(a)與(b)之間使反應性氣體(g)導入及通過予以電漿化，將生成的電漿噴射於冷卻輥16之表面。藉此，可改質冷卻輥16之表面，並抑制空氣中異物等的附著，使熔融樹脂容易剝離。
反應性氣體(g)可為氮氣、氧氣、氬氣、氦氣等，但較佳為氮氣、更佳為含微量氧的氮氣。氮氣中所含氧的含量，相對於反應性氣體(g)全體係以5體積%以下者為佳。反應性氣體的流量，每電漿幅度1m，較佳為20~5000L/min、更佳為40~2500L/min。
延伸步驟
將冷卻輥20以剝離輥22剝離所得薄膜36，藉由延伸機24予以延伸。延伸係以至少在薄膜之寬幅方向(TD方向)延伸者為佳、亦可在薄膜之寬幅方向(TD方向)與輸送方向(MD方向)雙方上延伸。
在薄膜之寬幅方向(TD方向)與輸送方向(MD方向)雙方延伸時、寬幅方向(TD方向)之延伸與輸送方向(MD方向)之延伸可逐次地進行，亦可同時進行。其中，更以進行 輸送方向(MD方向)之延伸後，進行寬幅方向(TD方向)之延伸者為佳。
在薄膜之寬幅方向(TD方向)與輸送方向(MD方向)之雙方進行延伸時，延伸倍率係於薄膜之寬幅方向(TD方向)與輸送方向(MD方向)最終各別為1.0~3.0倍、較佳為1.2~2.5倍者為佳。輸送方向(MD方向)之延伸倍率與寬幅方向(TD方向)之延伸倍率的合計以1.7倍以上者為佳。例如，當輸送方向(MD方向)之延伸倍率為1.4倍、寬幅方向(TD方向)之延伸倍率為1.5倍時，輸送方向(MD方向)之延伸倍率與寬幅方向(TD方向)之延伸倍率的合計為1.4×1.5=2.1倍。
延伸溫度，為使所得薄膜之霧度變低等，係以在Tg℃以上且在(Tg+40)℃以下進行者為佳、在(Tg+10℃)以上且在(Tg+30)℃以下進行者更佳。延伸溫度係以於薄膜之寬幅方向均一者為佳、寬幅方向之延伸溫度的不均係以±2℃以下者為佳。
向薄膜之輸送方向(MD方向)的延伸，例如可以輥延伸機來進行。向薄膜之寬幅方向(TD方向)的延伸，例如可以弧型延伸機來進行。
輥延伸機係如前述所言，係以低速輥群之中上流側的輥預熱薄膜，以低速輥群之下流側的輥與高速輥群之上流側的輥延伸薄膜，並以高速輥群之下流側的輥冷卻薄膜。
在低速輥群之薄膜的預熱溫度係以Tg℃以下者為佳、(Tg-5)℃以下者更佳。位在低速輥群之上流側的薄膜溫度 與下流側的薄膜溫度的差，為了不因熱膨張導致薄膜發皺，係80℃以下，較佳可為50℃以下。
薄膜之輸送方向(MD方向)之延伸速度係3000%/min以上且75000%/min以下，較佳為5000%/min以上且50000%/min以下。MD方向的延伸速度(%/min)，當使低速側的延伸輥之端速度為V1、高速側的延伸輥之端速度為V2、實質的延伸區長度為S時，係以下述式所示。
MD方向的延伸速度(%/min)=〔(V2-V1)/S〕×100
薄膜之輸送方向(MD方向)中2個延伸輥的間隔，為減少薄膜之寬幅方向的收縮，乃是愈小愈佳。因此，2個延伸輥彼此之旋轉中心間的距離係以400mm以下者為佳、300mm以下者更佳。
在高速輥群之薄膜的冷卻溫度係Tg℃以下，較佳為(Tg-5)℃以下。位於高速輥群中上流側的薄膜之溫度與下流側的薄膜之溫度的差，為了不因熱收縮而發皺，係100℃以下，較佳為70℃以下。
為了調整延伸後之薄膜的遲滯量或減少尺寸變化，因應需要而可使延伸後之薄膜在輸送方向(MD方向)或寬幅方向(TD方向)收縮。又，在捲取延伸後之薄膜前，可切落寬幅方向的端部。
3.偏光板
本發明之偏光板係含有偏光子與於其一面所配置之本發明的光學薄膜，並可因應需要而再含有於偏光子的另一 面所配置的偏光板保護薄膜。
偏光子係僅使一定方向的偏波面之光通過的元件。偏光子的代表例為聚乙烯基醇系偏光薄膜，係有對聚乙烯基醇系薄膜使碘染色者，與使二色性染料染色者。
偏光子亦可為將聚乙烯基醇系薄膜予以一軸延伸後，以碘或二色性染料染色所得之薄膜，亦可為將聚乙烯基醇系薄膜以碘或二色性染料染色後，予以一軸延伸之薄膜(較佳為再以硼化合物實施耐久性處理之薄膜)。偏光子之厚度係以5~30μm者為佳、10~20μm者更佳。
聚乙烯基醇系薄膜可為將聚乙烯基醇水溶液予以製膜者。聚乙烯基醇系薄膜，為了偏光性能及耐久性能優異、色斑少等，而以乙烯改性聚乙烯基醇薄膜為佳。乙烯改性聚乙烯基醇薄膜之例中，包含特開2003-248123號公報、特開2003-342322號公報等所記載的乙烯單位之含量1~4莫耳%、聚合度2000~4000、皂化度99.0~99.99莫耳%之薄膜。
二色性色素之例中，包含偶氮系色素、二苯乙烯系色素、吡唑哢系色素、三苯甲烷系色素、喹啉系色素、噁嗪系色素、噻嗪系色素及蒽醌系色素等。
本發明之光學薄膜可直接配置於偏光子之一面，亦可介由其他薄膜或層而予以配置。
本發明之光學薄膜以外的偏光板保護薄膜，並無特別限制，可為一般的纖維素酯薄膜等。纖維素酯薄膜的市售品之例中，係以使用市售的纖維素酯薄膜(例如，Konica Minolta Tac KC8UX、KC5UX、KC8UCR3、KC8UCR4、KC8UCR5、KC8UY、KC6UY、KC4UY、KC4UE、KC8UE、KC8UY-HA、KC8UX-RHA、KC8UXW-RHA-C、KC8UXW-RHA-NC、KC4UXW-RHA-NC，以上Konica Minolta Opto(股)製)為佳。
偏光板通常可使偏光子與本發明之光學薄膜或偏光板保護薄膜貼合來製造。貼合所用的接著劑，例如以使用完全皂化型聚乙烯基醇水溶液等為佳。
4.液晶顯示裝置
本發明之液晶顯示裝置乃具有液晶晶胞與挾持晶胞的一對偏光板。然後，一對偏光板之中至少一者為具有前述之光學薄膜的偏光板，較佳為一對偏光板雙方係具有前述之光學薄膜的偏光板。
圖3之模式圖係表示本發明之液晶顯示裝置的一實施形態之基本構成。如圖3所示，液晶顯示裝置110乃具有液晶晶胞120、挾持晶胞之第一偏光板140及第二偏光板160與背光180。
液晶晶胞120的顯示方式並無特別限制，係有TN(Twisted Nematic)方式、STN(Super Twisted Nematic)方式、IPS(In-Plane Switching)方式、OCB(Optically Compensated Birefringence)方式、VA(Vertical Alignment)方式(亦含MVA；Multi-domain Vertical Alignment或PVA；Patterned Vertical Alignment)、 HAN(Hybrid Aligned Nematic)方式等。其中，從視野角廣的觀點等來看，係以IPS型為佳，而由對比高的觀點等來看則以VA型為佳。
第一偏光板140乃配置於液晶晶胞120之視認側，具有第一偏光子142、配置於第一偏光子142之視認側的面之偏光板保護薄膜144(F1)與配置於第一偏光子142之液晶晶胞側的面之偏光板保護薄膜146(F2)。第二偏光板160乃配置於液晶晶胞120之背光180側，具有第二偏光子162、配置於第二偏光子162之液晶晶胞側的面之偏光板保護薄膜164(F3)與配置於第二偏光子162之背光側的面之偏光板保護薄膜166(F4)。偏光板保護薄膜146(F2)與164(F3)之一者，可因應需要而被省略。
偏光板保護薄膜144(F1)、146(F2)、164(F3)及166(F4)之中，係以使配置於液晶晶胞側之偏光板保護薄膜146(F2)與164(F3)之至少一者為本發明之光學薄膜者為佳。
實施例
下述中，係參照實施例以更詳細地說明本發明。但本發明之範圍的解釋並不受限於此等實施例。
1.材料的準備 乙烯基單體(a)：
甲基甲基丙烯酸酯(MMA)
甲基丙烯酸酯(MA)
丙烯醯基嗎福啉聚合體(ACMO)
乙二醇二甲基丙烯酸酯(EGDMA)
乙烯基吡咯酮(VP)
苯基馬來醯亞胺(PHMI)
環己基馬來醯亞胺(CHMI)
二甲基馬來醯亞胺(DMAA)
正丁基丙烯醯胺(n-BAA)
叔丁基丙烯醯胺(t-BAA)
經基乙基甲基丙烯酸酯(HEMA)
固有複折射為正的樹脂(b)：下述表1中所示之纖維素酯b1~b14
ETHOCEL 70(乙基纖維素、乙氧基之取代度：2.3、 重量平均分子量Mw：150000)
ETHOCEL 45(乙基纖維素、乙氧基之取代度：約2.5、重量平均分子量Mw：約120000)
2.熱可塑性樹脂之合成 (合成例1)
在燒瓶中，投入80質量份的甲基甲基丙烯酸酯，昇溫至50℃。接著，邊攪拌甲基甲基丙烯酸酯，邊少量地加入20質量份的纖維素酯b1，均一地混合。於所得的混合物中，再加入0.05質量份的n-辛基硫醇、0.5質量份的t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯來攪拌，得到漿劑。以振動黏度計(CBC材料(股)公司製VM-100A)測定所得漿劑在23℃之黏度。
接著，將所得的漿劑以重疊3片空隙率90%、捕集粒子徑3.0μm之濾紙來過濾。
將過濾所得的漿劑於減壓下脫泡後，封入以間隔0.5mm貼合的二片玻璃製平面板之間。將此二片玻璃製平面板裝置於加熱裝置內，以內容物不發泡來緩慢地昇溫，使其在60℃保持4小時。其後，將二片玻璃製平面板進一步昇溫至80℃，保持4小時使聚合結束。藉此，獲得厚度0.5mm之熱可塑性樹脂板。
(合成例2~14)
除了將固有複折射為正的樹脂(b)之種類變更如表2所 示之外，其餘係與合成例1同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例15~17)
除了將乙烯基單體(a)之種類變更如表2所示者之外，其餘係與合成例13同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例18~19)
除了將乙烯基單體(a)與固有複折射為正的樹脂(b)的量比變更如表2所示者之外，其餘係與合成例13同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例20~27)
除了漿劑有無過濾或是過濾條件變更如表2所示者之外，其餘係與合成例13同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例28~37)
除了將漿劑的組成變更如表3所示者之外，其餘係與合成例2同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例38~55)
除了將乙烯基單體(a)之種類變更如表4所示者之外，其餘係與合成例2同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例56)
除了漿劑有無過濾或是過濾條件變更如表5所示之外，其餘係與合成例13同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例57)
在燒瓶中，投入150質量份的去離子水與20質量份的纖維素酯b13。將所得的溶液邊於25℃攪拌，邊將80質量份的甲基甲基丙烯酸酯、0.05質量份的n-辛基硫醇與0.5質量份的t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯花費30分鐘滴下。將所得的溶液再攪拌30分鐘後，使其昇溫至80℃，攪拌4小時。其後，將所得的溶液冷卻至室溫為止，取出固形分後使其乾燥而得熱可塑性樹脂。
(合成例58~59)
除了將漿劑的組成變更如表5所示者之外，其餘係與合成例13同樣地實施而得熱可塑性樹脂板。
(合成例60)
在燒瓶中，投入150質量份的去離子水與25質量份的纖維素二乙酸酯(乙醯基化度55%)。將所得的溶液邊於25℃攪拌，邊將74.5質量份的甲基甲基丙烯酸酯、0.5質量份的甲基丙烯酸酯、0.05質量份的n-辛基硫醇與0.5質量份的t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯花費30分鐘滴下。將所得的溶液再攪拌30分鐘後，使其昇溫至80℃，攪拌4小時。其 後，將所得的溶液冷卻至室溫為止，取出固形分後使其乾燥而得熱可塑性樹脂。
(合成例61)
在燒瓶中，投入74.5質量份的甲基甲基丙烯酸酯與0.5質量份的甲基丙烯酸酯，昇溫至50℃。接著，邊攪拌甲基甲基丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯，邊少量地加入25質量份的纖維素二乙酸酯(乙醯基化度55%)，均一地混合。於所得的混合物中，再加入0.05質量份的n-辛基硫醇與0.5質量份的t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯攪拌，得到漿劑。
將所得的漿劑於減壓下脫泡，封入以間隔0.5mm貼合的二片玻璃製平面板之間。將此二片玻璃製平面板裝置於加熱裝置內，以內容物不發泡來緩慢地昇溫，使其在60℃保持4小時。其後，將二片玻璃製平面板進一步昇溫至80℃，保持4小時使聚合結束。藉此，獲得厚度0.5mm之熱可塑性樹脂板。
(合成例62)
在燒瓶中，投入75質量份的甲基丙烯酸酯，昇溫至50℃。接著，邊攪拌甲基丙烯酸酯，邊少量地加入25質量份的纖維素二乙酸酯(乙醯基化度55%)，均一地混合。於所得的混合物中，再加入0.5質量份的乙二醇二甲基丙烯酸酯與0.5質量份的t-丁基過氧基-2-乙基已酸酯攪拌而得漿劑。
將所得的漿劑於減壓下脫泡，封入以間隔0.5mm貼合的二片玻璃製平面板之間。將此二片玻璃製平面板裝置於加熱裝置內，以內容物不發泡來緩慢地昇溫，使其在60℃保持4小時。其後，將二片玻璃製平面板進一步昇溫至80℃，保持4小時使聚合結束。藉此，獲得厚度0.5mm之熱可塑性樹脂板。
將各合成例1~27之漿劑的黏度及熱可塑性樹脂之合成條件顯示於表2、將各合成例28~37之漿劑的黏度及熱可塑性樹脂之合成條件顯示於表3、將各合成例38~55之漿劑的黏度及熱可塑性樹脂之合成條件顯示於表4、將各合成例56~62之漿劑的黏度及熱可塑性樹脂之合成條件顯示於表5。
3.光學薄膜之製作 (實施例1)
將合成例1所得的熱可塑性樹脂板以粉碎機粉砕，得到粉狀的熱可塑性樹脂。然後，將100質量份的粉狀的熱可塑性樹脂、0.48質量份的Irganox1010(Ciba Japan(股)製)、0.077質量份的ADK STAB PEP-36(ADEKA(股)製)、0.48質量份的Sumilizer GS(住友化學(股)製)混合，得到樹脂組成物。將所得的樹脂組成物，以真空Nautamixer於80℃、1Torr下混合3小時並進一步使其乾燥。
將所得的樹脂組成物以2軸擠壓機於235℃熔融混練，押出呈條狀。將被押出呈條狀之樹脂組成物予以水冷後，切斷而得團粒。
用所得的團粒，以圖1所示之薄膜製造裝置製造薄膜。意即，使所得的團粒乾燥以使水分含量成50ppm以下為止，之後，供給1軸擠壓機(擠壓機12)。然後，將團粒以擠壓機12於235℃熔融混練後，由T吐出嘴(吐出嘴14)押出至冷卻輥16上。使冷卻輥16之表面溫度為110℃。然後，將押出至冷卻輥16上的樹脂以彈性接觸輥32擠壓後，以冷卻輥18與冷卻輥20進一步冷卻，得到厚度48μm之薄膜。彈性接觸輥32之表面溫度係95℃。Tg係薄膜之玻璃轉移溫度，本例為180℃。冷卻輥18之表面溫度係90℃。
以常壓電漿照射裝置34’清掃冷卻輥16之表面。使電漿之吹出狹縫34A與冷卻輥16之表面的間隔(d)為5mm，反 應性氣體(g)係氮氣，反應性氣體之流量係照射幅度每1m為0.5m3 /min、氣壓為1.0氣壓。電漿的照射係照射時間為0.1sec、間歇地進行。照射時間為從冷卻輥16之表面上的某一點吹出並移動至狹縫34A的間隙之下的時間。
將冷卻固化的薄膜以剝離輥剝離後，藉由輥延伸機，在薄膜之輸送方向(MD方向)以Tg℃、延伸倍率1.3倍延伸。再者，藉由弧型延伸機，在薄膜之寬幅方向(TD方向)以Tg℃、延伸倍率1.4倍延伸。其後，冷卻至薄膜溫度成30℃為止，拿掉弧型延伸機的夾連器(clip)。然後，切落薄膜之寬幅方向的兩端部，得到膜厚26μm之光學薄膜。
(實施例2~54)
除了將熱可塑性樹脂之種類變更如表6或7所示者之外，其餘係與實施例1同樣地實施而得光學薄膜。
(比較例1~6)
除了將熱可塑性樹脂之種類變更如表7所示者之外，其餘係與實施例1同樣地實施而得光學薄膜。
(比較例7)
除了將熱可塑性樹脂之種類變更如表7所示者之外，其餘係與實施例1同樣地實施已獲得光學薄膜，但熔融黏度過高而無法進行熔融擠壓。
所得的光學薄膜之內部霧度、遲滯量Ro及Rt、光彈性 係數、玻璃轉移溫度及異物個數係以下述方法評價。
(1)內部霧度
依JIS K7136之前述方法測定所得的光學薄膜之內部霧度。霧度計係使用日本電色工業(股)製NDH 2000。然後，基於以下基準來評價光學薄膜之內部霧度。
◎：內部霧度為0.1%以下
○：內部霧度超過0.1%且為0.2%以下
△：內部霧度超過0.2%且為0.5%以下
×：內部霧度超過0.5%
(2)遲滯量Ro及Rt
(i)將所得的薄膜置於23℃、55%RH之環境下24小時進行調濕。使用Abbe折射率計(4T)測定所得的薄膜之平均折射率。又，薄膜之厚度係使用市售的測微計來測定。
(ii)使用自動複折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器(股)製)，使從薄膜法線方向來的波長590nm之光入射，測定下述式(I)所示之面內方向的遲滯量Ro。又，使從對薄膜法線方向呈θ角度(入射角(θ))的波長590nm之光入射時，測定其遲滯量值R(θ)測定。θ係30°~50°。
(iii)從所測得之Ro及R(θ)、前述之平均折射率與膜厚，藉由自動複折射計KOBRA-21ADH(王子計測機器(股)製)算出nx、ny及nz，並算出下述式(II)所示之Rt。遲滯量之測定係於23℃、55%RH條件下進行。
式(I)Ro=(nx-ny)×d
式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nx表示薄膜的面內方向 中，在折射率成最大的方向x之折射率；ny表示薄膜的面內方向中，在與前述方向x呈垂直的方向y之折射率；nz表示在薄膜厚度方向z之折射率；d(nm)表示薄膜厚度)。
(3)光彈性係數
(i)將所得的薄膜置於23℃、55%RH之環境下24小時。其後，在薄膜之最大延伸方向(延伸倍率為最大的方向)邊增加拉伸荷重，邊使用薄膜的遲滯量測定裝置(KOBURA31PR、王子計測機器公司製)，測定在波長589nm之薄膜面內的遲滯量Ro。同樣地，測定使拉伸荷重變化時的薄膜之面內遲滯量Ro(589)。測定係於23℃、55%RH條件下進行。
(ii)使對光學薄膜施加的拉伸應力為橫軸，使薄膜之面內遲滯量Ro(589)除以薄膜的厚度所得△n(nx-ny)為縱軸，得到拉伸荷重-△n(nx-ny)之曲線。求得所得曲線近似直線時的直線斜率即為光彈性係數。
(4)玻璃轉移溫度
以JIS K7121(1987)規定之方法測定薄膜之玻璃轉移溫度。意即，使用示差掃瞄熱量測定器(Perkin Elmer公司製DSC-7型)，測定以昇溫速度20℃/分將薄膜從50℃昇溫至200℃為止時的中間點玻璃轉移溫度(Tmg)。
(5)異物個數
(i)藉由使用光學顯微鏡觀察透過薄膜之光或反射薄膜表面之光，來特定薄膜存在異物的部分，並予以標示。
(ii)將光學顯微鏡的玻璃台取代成「玻璃製的偏光板 」，且於對物透鏡上設置偏光板濾光器，使此等之2片偏光板成正交偏光(crossed nicol)狀態。於此等之2片偏光板之間，配置所得的薄膜。
(iii)然後，對玻璃台側的偏光板照光，觀察透過標示部分之薄膜的光，計數大小為10μm以上之亮點異物(在正交尼寇稜鏡下突顯出的光學缺陷)的個數。測定範圍為10cm×10cm之面積、測定次數為10次。然後，將10次測定所得的亮點異物個數之平均值，換算為每平方毫米的值「異物個數(個/mm2 )」。小數點以下四捨五入。
將實施例1~27之光學薄膜的評價結果顯示於表6；將實施例28~54及比較例1~7之光學薄膜的評價結果顯示於表7。
如表6及7所示，實施例1~54之光學薄膜乃具有適度的遲滯量，且異物故障少、內部霧度低。另一方面，比較例1~2及4~6之光學薄膜乃顯示出內部霧度高。比較例3 之光學薄膜雖內部霧度低、異物故障亦少，但遲滯量不均。比較例7無法熔融擠壓，未能得到薄膜。
從實施例13、18、19、比較例3及4之對比可知，纖維素酯(b)之含有比率若未達10質量%(比較例3)，則無法獲得具有適度遲滯量的薄膜。另一方面，纖維素酯(b)之含有比率若超過50質量%(比較例4)，則漿劑的黏度會變高，所得薄膜之霧度亦高。
從實施例13與比較例2之對比可知，使乙烯基單體(a)懸濁聚合之比較例2的光學薄膜其霧度高，相對於此，在纖維素酯(b)的存在下使乙烯基單體(a)塊狀聚合之實施例13的光學薄膜，其霧度低。
從實施例4與9之對比可知，纖維素酯(b)含丙酸酯基之實施例9，其光學薄膜要比纖維素酯(b)不含丙酸酯基之實施例4的光學薄膜霧度更低，異物故障也少。又，從實施例5~10之對比可知，含丙酸酯基在0.5~2.8之範圍的纖維素酯(b)之光學薄膜，其異物故障少、霧度亦低。再者，從實施例11~14之對比可知，纖維素酯(b)之重量平均分子量Mw超過3.0×105 之實施例14的光學薄膜係霧度高者，相對於此，實施例11~13之光學薄膜係霧度低者。
從實施例13與比較例1之對比可知，含有經過濾處理所得的熱可塑性樹脂之實施例1的光學薄膜，較含有未經過濾處理所得的熱可塑性樹脂之比較例1的光學薄膜，其霧度低且異物故障亦少。又可知，可藉由濾紙之空隙率(實施例13、20及21)、捕集粒子徑(實施例21~24)及濾紙 之片數(實施例13與25~27)來減低所得薄膜之異物故障。
而且可知，實施例32~37之光學薄膜較實施例1之光學薄膜的Ro及Rt更大。此係可考量為，因纖維素醚較纖維素酯的相位差表現性高所致。又可知，實施例32~37之光學薄膜乃較實施例1之光學薄膜的內部霧度更低。此係可考量為，因纖維素醚之漿劑較纖維素酯之漿劑黏度更低，藉由過濾可輕易地去除異物所致。
本案乃基於2011年9月5日申請之日本特願2011-193127來主張優先權。該申請說明書及圖式中所記載的內容，全部援用於本案說明書中。
產業上的可利用性
本發明之光學薄膜係耐熱性與耐濕性高且霧度低。又，本發明之光學薄膜係因可藉由不使用以往鹵素系溶劑等之熔融擠壓法來成形，而可減輕環境負荷。
10‧‧‧薄膜之製造裝置
12‧‧‧擠壓機
14‧‧‧吐出嘴
16、18、20‧‧‧冷卻輥
22‧‧‧剝離輥
24‧‧‧延伸裝置
26‧‧‧捲取裝置
28‧‧‧過濾器
30‧‧‧靜態攪拌器
32‧‧‧彈性接觸輥
34‧‧‧清掃裝置
34’‧‧‧常壓電漿照射裝置
34A‧‧‧吹出狹縫
110‧‧‧液晶顯示裝置
120‧‧‧液晶晶胞
140‧‧‧第一偏光板
142‧‧‧第一偏光子
144‧‧‧偏光板保護薄膜(F1)
146‧‧‧偏光板保護薄膜(F2)
160‧‧‧第二偏光板
162‧‧‧第二偏光子
164‧‧‧偏光板保護薄膜(F3)
166‧‧‧偏光板保護薄膜(F4)
[圖1]表示薄膜製造裝置之一例模式圖。
[圖2]表示常壓電漿照射裝置之一例模式圖。
[圖3]表示液晶顯示裝置之基本構成的一例模式圖。
10‧‧‧薄膜之製造裝置
12‧‧‧擠壓機
14‧‧‧吐出嘴
16、18、20‧‧‧冷卻輥
22‧‧‧剝離輥
24‧‧‧延伸裝置
26‧‧‧捲取裝置
28‧‧‧過濾器
30‧‧‧靜態攪拌器
32‧‧‧彈性接觸輥
34‧‧‧清掃裝置
36‧‧‧剝離所得薄膜

Claims (15)

  1. 一種光學薄膜的製造方法，其係包含下述步驟，得到含有50~90質量%之乙烯基單體(a)與10~50質量%之固有複折射為正的樹脂(b)之漿劑的步驟、使前述漿劑中所含的前述乙烯基單體(a)聚合而得熱可塑性樹脂的步驟、使含前述熱可塑性樹脂之樹脂組成物成形，而得內部霧度為0.2%以下之光學薄膜的步驟。
  2. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜之光彈性係數係-5.0×10-12 ~5.0×10-12 m2 /N之範圍。
  3. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜係下述式(I)所示之在波長590nm的面內方向之遲滯量Ro為-10nm~10nm之範圍且下述式(II)所示之在波長590nm的厚度方向之遲滯量Rt為-10nm~10nm之範圍者；式(I)Ro=(nx-ny)×d 式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nx表示光學薄膜的面內方向中，在折射率成最大的方向x之折射率；ny表示光學薄膜的面內方向中，在與前述方向x呈垂直的方向y之折射率； nz表示在光學薄膜的厚度方向z之折射率；d(nm)表示光學薄膜的厚度)。
  4. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述光學薄膜係下述式(I)所示之在波長590nm的面內方向之遲滯量Ro為20~150nm且下述式(II)所示之在波長590nm的厚度方向之遲滯量Rt為70~400nm者；式(I)Ro(nx-ny)×d 式(II)Rt={(nx+ny)/2-nz}×d(nx表示光學薄膜的面內方向中，在折射率成最大之方向x之折射率；ny表示光學薄膜的面內方向中，在與前述方向x呈垂直的方向y之折射率；nz表示在光學薄膜的厚度方向z之折射率；d(nm)表示光學薄膜的厚度)。
  5. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述固有複折射為正的樹脂(b)係由纖維素酯樹脂、纖維素醚樹脂、環狀烯烴樹脂、聚丙烯樹脂、聚乙烯樹脂及丙烯酸樹脂所成之群選出的一種類以上。
  6. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述固有複折射為正的樹脂(b)係具有碳數3以上之醯基的纖維素酯樹脂。
  7. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述 固有複折射為正的樹脂(b)係滿足下述式(i)及(ii)之纖維素酯樹脂；(i)2.0≦DSac+DSpr<3.0 (ii)05≦DSpr<2.8(式中，DSac表示乙醯基的取代度、DSpr表示碳數3以上之醯基的取代度)。
  8. 如請求項7之光學薄膜的製造方法，其中，前述纖維素酯樹脂之重量平均分子量Mw係3.0×104 ~3.0×105 。
  9. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述乙烯基單體(a)係單官能之乙烯基單體(a)。
  10. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述乙烯基單體(a)係由(甲基)丙烯酸酯化合物、(甲基)丙烯醯胺化合物、馬來醯亞胺化合物、N-乙烯基環狀醯胺化合物、乙烯基酯化合物所成之群選出的一種類以上。
  11. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其中，前述漿劑以振動黏度計所測定之23℃下的黏度係4000Pa．s以下。
  12. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其係進一步含有過濾前述漿劑的步驟。
  13. 如請求項12之光學薄膜的製造方法，其係使前述漿劑以空隙率76~95%、捕集粒子徑0.5~5μm之過濾 器過濾。
  14. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其係在得到前述熱可塑性樹脂的步驟中，使前述乙烯基單體(a)塊狀聚合。
  15. 如請求項1之光學薄膜的製造方法，其係使含前述熱可塑性樹脂之樹脂組成物經熔融擠壓而得光學薄膜。
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