TWI441817B - Preparation of dibenzoquinone compounds - Google Patents
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- TWI441817B TWI441817B TW098140385A TW98140385A TWI441817B TW I441817 B TWI441817 B TW I441817B TW 098140385 A TW098140385 A TW 098140385A TW 98140385 A TW98140385 A TW 98140385A TW I441817 B TWI441817 B TW I441817B
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- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims description 40
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 56
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Natural products CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 53
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 36
- WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N Acetic anhydride Chemical compound CC(=O)OC(C)=O WFDIJRYMOXRFFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 30
- -1 sulfuric acid halide Chemical class 0.000 claims description 27
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 21
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 20
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N sulfuric acid Substances OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 13
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 11
- 150000001244 carboxylic acid anhydrides Chemical class 0.000 claims description 10
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 7
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 3
- USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N chlorophosphane Chemical group ClP USJRLGNYCQWLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 claims description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical group 0.000 claims description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloropropane Chemical group CCC(Cl)(Cl)Cl AVGQTJUPLKNPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 45
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 20
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 5
- 238000006317 isomerization reaction Methods 0.000 description 4
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- RLUJQBLWUQZMDG-UHFFFAOYSA-N toluene;hydrochloride Chemical compound Cl.CC1=CC=CC=C1 RLUJQBLWUQZMDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 208000035285 Allergic Seasonal Rhinitis Diseases 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N Hydrogen bromide Chemical compound Br CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 206010039085 Rhinitis allergic Diseases 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 208000024780 Urticaria Diseases 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 208000026935 allergic disease Diseases 0.000 description 2
- 201000010105 allergic rhinitis Diseases 0.000 description 2
- 201000010435 allergic urticaria Diseases 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 2
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- XFNJYAKDBJUJAJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromopropane Chemical compound CC(Br)CBr XFNJYAKDBJUJAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- XXMFJKNOJSDQBM-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-trifluoroacetic acid;hydrate Chemical compound [OH3+].[O-]C(=O)C(F)(F)F XXMFJKNOJSDQBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)pyridine-3-carbonitrile Chemical compound ClCC1=NC=CC=C1C#N FALRKNHUBBKYCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDECRAPHCDXMIJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbenzenesulfonyl chloride Chemical compound CC1=CC=CC=C1S(Cl)(=O)=O HDECRAPHCDXMIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 4-[[(3ar,5ar,5br,7ar,9s,11ar,11br,13as)-5a,5b,8,8,11a-pentamethyl-3a-[(5-methylpyridine-3-carbonyl)amino]-2-oxo-1-propan-2-yl-4,5,6,7,7a,9,10,11,11b,12,13,13a-dodecahydro-3h-cyclopenta[a]chrysen-9-yl]oxy]-2,2-dimethyl-4-oxobutanoic acid Chemical compound N([C@@]12CC[C@@]3(C)[C@]4(C)CC[C@H]5C(C)(C)[C@@H](OC(=O)CC(C)(C)C(O)=O)CC[C@]5(C)[C@H]4CC[C@@H]3C1=C(C(C2)=O)C(C)C)C(=O)C1=CN=CC(C)=C1 QCQCHGYLTSGIGX-GHXANHINSA-N 0.000 description 1
- RBDXUAPVYFBTDS-UHFFFAOYSA-N 9H-fluorene-1-carboxylic acid hydrochloride Chemical compound Cl.C1C2=CC=CC=C2C2=C1C(C(=O)O)=CC=C2 RBDXUAPVYFBTDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007818 Grignard reagent Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCKPVGOLPKLUHR-UHFFFAOYSA-N OH-Indolxyl Natural products C1=CC=C2C(O)=CNC2=C1 PCKPVGOLPKLUHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PYIZJSZJDXHPFG-UHFFFAOYSA-N [Br].C(C)(=N)N Chemical compound [Br].C(C)(=N)N PYIZJSZJDXHPFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJPPBLZRCIZXJQ-UHFFFAOYSA-N [Cl-].[PH4+].[P] Chemical compound [Cl-].[PH4+].[P] CJPPBLZRCIZXJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZINYUKVRMNTG-UHFFFAOYSA-N acetic acid;formic acid Chemical compound OC=O.CC(O)=O ZMZINYUKVRMNTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N acetic acid;propanoic acid Chemical compound CC(O)=O.CCC(O)=O AVMNFQHJOOYCAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 239000003849 aromatic solvent Substances 0.000 description 1
- WKGAHGXHQGURDG-UHFFFAOYSA-N benzenecarboximidamide;hydrobromide Chemical compound Br.NC(=N)C1=CC=CC=C1 WKGAHGXHQGURDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N butanoyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC(=O)CCC YHASWHZGWUONAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 210000000692 cap cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N dibenzofuran-1-carboxylic acid Chemical compound O1C2=CC=CC=C2C2=C1C=CC=C2C(=O)O UZVGSSNIUNSOFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- WCQOBLXWLRDEQA-UHFFFAOYSA-N ethanimidamide;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(N)=N WCQOBLXWLRDEQA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000004795 grignard reagents Chemical class 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- MEBDASBFCISMGU-UHFFFAOYSA-N hydrazine;hydron;dibromide Chemical compound Br.Br.NN MEBDASBFCISMGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNJSWVQHWIFPGY-UHFFFAOYSA-N hydrazinecarboxylic acid;hydrochloride Chemical class Cl.NNC(O)=O QNJSWVQHWIFPGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- JYGFTBXVXVMTGB-UHFFFAOYSA-N indolin-2-one Chemical compound C1=CC=C2NC(=O)CC2=C1 JYGFTBXVXVMTGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000005453 ketone based solvent Substances 0.000 description 1
- ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N m-Trifluoromethylhippuric acid Chemical compound OC(=O)CNC(=O)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 ZDGGJQMSELMHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDCYYCUMAFYDDU-UHFFFAOYSA-N methyl thiohypochlorite Chemical compound CSCl DDCYYCUMAFYDDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N phosphorus trichloride Chemical compound ClP(Cl)Cl FAIAAWCVCHQXDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N propionic anhydride Chemical compound CCC(=O)OC(=O)CC WYVAMUWZEOHJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VWNFFIGQDGOCIA-UHFFFAOYSA-N propylaminoazanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCN[NH3+] VWNFFIGQDGOCIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229940014800 succinic anhydride Drugs 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- XDLNRRRJZOJTRW-UHFFFAOYSA-N thiohypochlorous acid Chemical compound ClS XDLNRRRJZOJTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D313/00—Heterocyclic compounds containing rings of more than six members having one oxygen atom as the only ring hetero atom
- C07D313/02—Seven-membered rings
- C07D313/06—Seven-membered rings condensed with carbocyclic rings or ring systems
- C07D313/10—Seven-membered rings condensed with carbocyclic rings or ring systems condensed with two six-membered rings
- C07D313/12—[b,e]-condensed
-
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Description
本發明係關於一種製造可用作醫藥品之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之方法。
(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸係以式[II]:
所表示之化合物,係應用於花粉症、過敏性鼻炎、蕁麻疹等過敏性疾病之有用的醫藥化合物(參照US-5116863)。
WO2008/099900中揭示,藉由在酸之存在下、於溶劑中加熱11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸酯,可效率佳地製造(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸。
但是,上述方法有時會在反應中引起反應容器之器壁上的結晶附著、即結垢,結果導致反應之進行變慢而引起雜質之生成等各種問題。
本發明提供一種製造可用作醫藥品之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽的工業上有利之方法。
WO2008/099900中,被用作原料之11-羥基-11-(3-二甲胺
基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸酯藉由體系內之酸而成為酸加成鹽,但由於脫水、即藉由11位之亞丙基化所產生之水之存在,而於體系內成為油狀。該油狀物附著於反應容器之器壁,於附著之狀態下進行其後之反應、即由酯向羧酸之轉變及異構化,引起結垢。本發明中,於酸與總碳數C3
~C8
之羧酸酐、C2
~C6
羧酸鹵化物、硫酸(Sulfur acid)鹵化物或磷鹵化物之存在下進行11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸酯之加熱,藉此不會出現結垢而可效率佳地製造(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽。
即,本發明提供一種(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中上述(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸係以式[II]:
所表示(化合物[II]),且上述方法係於選自總碳數C3
~C8
之羧酸酐、C2
~C6
羧酸鹵化物、硫酸鹵化物及磷鹵化物中之至少一種以及酸之存在下,於溶劑中加熱以式[I]:
[此處,式中,R1
、R2
及R3
獨立表示碳數1~4之烷基]
所表示之11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸酯(化合物[I])或其酸加成鹽。
式[I]中,作為R1
、R2
及R3
所表示之「碳數1~4之烷基」,可列舉甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、第二丁基等,通常使用R1
、R2
及R3
為甲基之化合物[I]。
作為化合物[I]之酸加成鹽之例,可列舉鹽酸鹽、氫溴酸鹽、硫酸鹽、甲磺酸鹽、對甲苯磺酸鹽。又,作為化合物[II]之酸加成鹽之例,可列舉鹽酸鹽、氫溴酸鹽、硫酸鹽、甲磺酸鹽、對甲苯磺酸鹽。
作為用於本發明之製造方法的酸之例,可列舉氯化氫、硫酸、甲磺酸、對甲苯磺酸,較好的是氯化氫。氯化氫亦可以有機溶劑溶液之形態使用,較好的是以氣體狀之形態使用。通常較好的是將氣體狀之氯化氫吹入反應體系內。
就反應速度、以及抑制E體及雜質之生成之觀點而言,酸之使用量相對於化合物[I]1莫耳通常為2~5莫耳之比例,較好的是2.5~3.5莫耳之比例。
作為總碳數C3
~C8
之羧酸酐之例,可列舉乙酸酐、丙酸酐、丁酸酐、甲酸乙酸混合酸酐、乙酸丙酸混合酸酐、丁二酸酐、順丁烯二酸酐,較好的是乙酸酐。就防止結垢及經濟性之觀點而言,羧酸酐之使用量相對於化合物[I]1莫耳通常為1莫耳~2莫耳之比例,較好的是1~1.5莫耳之比例。
作為C2
~C8
羧酸鹵化物之例,可列舉:乙醯氯、丙醯氯、草醯二氯、苯甲醯氯等羧醯氯,乙醯溴、丙醯溴、草醯二溴、苯甲醯溴等羧醯溴,較好的是羧醯氯,特別好的是乙醯氯。就防止結垢及經濟性之觀點而言,羧酸鹵化物之使用量相對於化合物[I]1莫耳通常為1莫耳~2莫耳之比例,較好的是1~1.5莫耳之比例。
本發明中,所謂硫酸鹵化物係指包含硫原子之醯鹵、特別係指醯氯,作為具體例,可列舉:甲磺醯氯、甲苯磺醯氯等磺醯氯,亞硫醯氯等醯氯化物。所謂磷鹵化物係指磷之醯鹵化物及鹵化物,作為具體例,可列舉磷醯氯、三氯化磷。就防止結垢及經濟性之觀點而言,硫酸鹵化物或磷鹵化物之使用量相對於化合物[I]1莫耳通常為0.5莫耳~2莫耳之比例,較好的是1~1.5莫耳之比例。
本發明之製造法之一例示於以下流程中。
此處,式中,A表示酸,R1
、R2
及R3
係與上述同義。
首先,該例中,化合物[I]藉由酸而成為對應之酸加成鹽。藉由脫水反應、即對11位導入亞丙基而產生水,上述酸加成鹽藉由該水而在體系內成為油狀,附著於反應容器之器壁上。若在該附著之狀態下進行其後之反應、即由酯向羧酸之轉變及異構化,則容易引起結垢。本發明中,除了酸以外,使總碳數C3
~C8
之羧酸酐、C2
~C6
羧酸鹵化物、
硫酸鹵化物或磷鹵化物亦存在於反應體系中。該等化合物去除體系內所產生之水,並且該羧酸酐、羧酸鹵化物、硫酸鹵化物或磷鹵化物轉變為對應之酸,該對應之酸使附著於反應容器之器壁上之油狀酸加成鹽良好地分散。在上述良好之分散狀態下進行酯之向羧酸之轉變、繼而進行異構化。
用於本發明中之溶劑通常為有機溶劑。作為有機溶劑之例,可列舉:甲基乙基酮、甲基異丁基酮、環己酮、環戊酮等酮溶劑,苯、甲苯、二甲苯、氯苯、二氯苯、硝基苯等芳香族溶劑。較好的是甲苯及氯苯,特別好的是甲苯。
就防止結垢及經濟性之觀點而言,溶劑之使用量相對於化合物[I]1kg通常為10L~20L之比例,較好的是13L~16L之比例。
成為原料之化合物[I]可按照WO2008/099900之記載,藉由以式[III]所表示之11-側氧基-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸酯與以式[IV]所表示之格林納試劑的反應進行製造。
化合物[I]與溶劑之混合時,較好的是與預先經加熱之溶劑混合。即,較好之態樣為將固體之化合物[I]添加至經加熱之溶劑中、或將化合物[I]之溶液添加至經加熱之溶劑中。
就防止結垢之觀點而言,更好的是後者。所添加之化合物[I]之溶液中使用之溶劑通常係與反應中所使用之溶劑相同,其量相對於化合物[I]1kg為3~4L之比例。再者,上述溶劑之使用量標準亦包括添加化合物[I]時所使用之溶劑量。費時進行化合物[I]之溶液的添加對於抑制反應容器上之結垢較為有效,但若考慮到效率,則添加化合物[I]之溶液之時間相對於化合物[I]每1kg通常為30分鐘~8小時,較好的是4小時~8小時。
總碳數C3
~C8
之羧酸酐、C2
~C6
羧酸鹵化物、硫酸鹵化物及磷鹵化物以及酸可預先溶解於經加熱之溶劑中。又,亦可預先溶解於化合物[I]之溶液中。
本發明之製造方法亦可在化合物[II]之晶種之存在下進行。藉此反應容易進行,即便提高化合物[I]之添加速度亦可抑制反應容器上之結垢。該晶種之量相對於化合物[I]100重量份較好的是0.1~2重量份之比例,更好的是0.5~1.5重量份之比例。晶種較好的是在添加化合物[I]之前預先添加至反應體系內。
就反應速度及抑制雜質生成之觀點而言,反應溫度通常為50℃~150℃,較好的是70~120℃,更好的是90℃~110℃。
反應時間取決於反應溫度、原料之量等條件,通常為1小時~12小時,較好的是1小時~6小時。反應較好的是在攪拌下實施。
如此,由化合物[I]脫水,並進行酯之向羧酸之轉變及向Z體之異構化。於反應已大致完成之反應體系內,一般存在少量之E體與作為結晶而析出之Z體的化合物[II],但冷卻、較好的是逐漸冷卻至室溫後,過濾反應混合物,將結晶過濾分離後,視需要以丙酮等適當之溶劑清洗,藉此可作為與使用化合物[II]之酸對應之酸加成鹽而取得。
又,所獲得之化合物[II]之酸加成鹽可藉由鹼處理等常用方法而衍生成游離之化合物[II]。
藉由本發明之方法所獲得之化合物[II]通常係Z體/E體比(由HPLC(High Performance Liquid Chromatography,高效液相層析法)測定所得之面積比)為98/2以上、大多情況下為99/1以上之結晶。
如此,根據本發明之方法,可於良好之分散狀態下進行反應,故無需使用繁雜之操作方法、特殊設備便可防止結垢,因此可省去剝落所附著之結晶的作業等製造時之勞力。因此,本發明之方法係有效率地製造化合物[II]之製造方法,特別係工業上有利之方法。
其次示出本發明之實施例,但本發明並不限定於下述實施例。
實施例1 (Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之製造
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯330mL、氯化氫7.88g(0.22莫耳)及乙酸酐7.36g(72毫莫耳),於90~91℃下攪拌。用8.1小時向其中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯29.65g(72毫莫耳)溶解於甲苯110mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌1小時,繼而用3小時10分鐘冷卻至28.7℃。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為4.97:95.03。過濾所生成之結晶,利用丙酮148mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽23.90g。表觀產率為88.73%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.24%、E體為0.76%。
1
H-NMR(400MHz,DMSO-d6
)δ2.73(s,6H),2.77(td,J=7.6,7.2Hz,2H),3.25(t,J=7.6Hz,2H),3.55(s,2H),5.21(brs,1H),5.65(t,J=7.2Hz,1H),6.79(d,J=8.4Hz,1H),7.07(d,J=2.0Hz,1H),7.10(dd,J=8.0,2.0Hz,1H),7.28-7.40(m,4H),10.28(brs,1H),12.31(brs,1H)。
管柱:CAPCELL PACK C18 MGIII(4.6mm i.d.×15cm,5μm)
移動相A:0.1%三氟乙酸水
移動相B:甲醇/乙腈=1/1
A/B=8/2→1/9(30分鐘)
流速:1.0mL/分鐘
管柱溫度:30℃
檢測波長:UV(Ultraviolet,紫外線)254nm
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯381mL、氯化氫9.22g(0.25莫耳)、乙酸酐7.36g(92.8毫莫耳)及(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之晶種0.35g,於90~91℃下攪拌。用8小時向其中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯2-乙酸第三丁酯34.69g(84.3毫莫耳)溶解於甲苯130mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌1小時,繼而冷卻至室溫。反應容器中之結垢為微量。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為5.5:94.5。過濾所生成之結晶,利用丙酮173mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽28.39g。表觀產率為90.08%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.19%、E體為0.81%。
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯330mL、氯化氫7.98g(0.22莫耳)及乙酸酐8.19g(80毫莫耳),於90~91℃下攪拌。用4小時向其中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯30.02g(72.95毫莫耳)溶解於甲苯113mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌6小時,繼而冷卻至室溫。雖觀察到反應容器中之結垢,但反應結束時消失。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為1.6:98.4。過濾所生成之結晶,利用丙酮150mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽25.23g。表觀產率為92.51%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.38%,E體為0.62%。
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯330mL、氯化氫7.79g(0.21莫耳)、乙酸酐8.19g(73毫莫耳)及(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之晶種0.29g,於90~91℃下攪拌。用4小時向其中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯29.31g(71.22毫莫耳)溶解於甲苯102mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌3小時,繼而冷卻至室溫。反應容器中之結垢為微量。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為4.99:95.01。過濾所生成之結晶,利用丙酮147mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽23.67g。表觀產率為88.89%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.16%、E體為0.84%。
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯330mL、氯化氫7.79g(0.21莫耳)、乙酸酐8.0g(78.4毫莫耳)及(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之晶種0.29g,於100℃下攪拌。用4小時向該溶液中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯29.31g(71.22毫莫耳)溶解於甲苯110mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌2小時,繼而冷卻至室溫。反應容器中之結垢為微量。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為2.57:97.43。過濾所生成之結晶,利用丙酮146mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽24.21g。表觀產率為90.92%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.4%、E體為0.6%。
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯331mL、氯化氫8.75g(0.24莫耳)、乙酸酐8.98g(88毫莫耳)及(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之晶種0.33g,於110℃下攪拌。用4小時向該溶液中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯32.92g(79.99毫莫耳)溶解於甲苯123mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌2小時,繼而冷卻至室溫。幾乎未觀察到反應容器中之結垢。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為1.33:98.67。過濾所生成之結晶,利用丙酮165mL清洗。於20℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽27.44g。表觀產率為91.75%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.53%、E體為0.47%。
於具備100mL之鐵氟龍(Teflon)製內筒之高壓釜中投入2.42%氯化氫-甲苯溶液32.9g(21.9毫莫耳)及乙酸酐0.83g(8毫莫耳),添加11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯3g(7.3毫莫耳),於100℃下攪拌7小時。反應體系內之E體/Z體之面積比(由HPLC測定所得之面積比)為1.39:96.07。
於具備100mL之鐵氟龍製內筒之高壓釜中投入2.42%氯化氫-甲苯溶液21.93g(14.6毫莫耳)及乙醯氯0.63g(8毫莫耳),添加11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯3g(7.3毫莫耳),於100℃下攪拌7小時。7小時後之反應體系內之E體/Z體之面積比(由HPLC測定所得之面積比)為1.44:98.56。
於具備100mL之鐵氟龍製內筒之高壓釜中投入2.42%氯化氫-甲苯溶液21.93g(14.6毫莫耳)及亞硫醯氯0.48g(4毫莫耳),添加11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯3g(7.3毫莫耳),於100℃下攪拌7小時。7小時後之反應體系內之E體/Z體之面積比(由HPLC測定所得之面積比)為3.18:96.82。
於1L之玻璃製高壓釜中投入甲苯330mL、氯化氫7.90g(0.22莫耳)、及(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽之晶種0.30g,於100℃下攪拌。用4小時向其中滴加將11-羥基-11-(3-二甲胺基丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸第三丁酯29.72g(72.22毫莫耳)、乙酸酐7.37g(72毫莫耳)溶解於甲苯111mL中之溶液。於相同之溫度下攪拌3小時,繼而冷卻至室溫。幾乎觀察不到反應容器中之結垢。反應體系內之E體:Z體(由HPLC測定所得之面積比)為1.80:98.20。過濾所生成之結晶,利用丙酮150mL清洗。於50℃下減壓乾燥,獲得(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸‧鹽酸鹽24.59g。表觀產率為91.07%,利用HPLC所測定之Z體與E體之面積百分率為:Z體為99.31%、E體為0.69%。
本發明提供一種製造作為應用於花粉症、過敏性鼻炎、蕁麻疹等過敏性疾病之有用的醫藥化合物之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之工業上有效之方法。
Claims (15)
- 一種(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中上述(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸係以式[II]:
- 如請求項1之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中於總碳數C3 ~C8 之羧酸酐以及酸之存在下,於溶劑中加熱以[I]:
- 如請求項2之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中總碳數C3 ~C8 之羧酸酐為乙酸酐。
- 如請求項1之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中於C2 ~C6 羧酸鹵化物以及酸之存在下,於溶劑中加熱以式[I]:
- 如請求項4之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中C2 ~C6 羧酸鹵化物為乙醯氯。
- 如請求項1之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中於硫酸鹵化物以及酸之存在下,於溶劑中加熱以式[I]:
- 如請求項6之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中硫酸鹵化物為亞硫醯氯。
- 如請求項1之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中於磷鹵化物以及酸之存在下,於溶劑中加熱以式[I]:
- 如請求項8之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中磷鹵化物為磷醯氯。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中酸為氯化氫、硫酸、甲磺酸或對甲苯磺酸。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)- 6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中酸為氯化氫。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中加熱係於70~120℃下進行。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中加熱係於(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之晶種之存在下進行。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中溶劑為甲苯或氯苯。
- 如請求項1至9中任一項之(Z)-11-(3-二甲胺基亞丙基)-6,11-二氫二苯并[b,e]氧呯-2-乙酸或其酸加成鹽之製造方法,其中R1 、R2 及R3 為甲基。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008305324 | 2008-11-28 | ||
JP2009020297A JP5322672B2 (ja) | 2008-11-28 | 2009-01-30 | ジベンゾオキセピン化合物の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW201029982A TW201029982A (en) | 2010-08-16 |
TWI441817B true TWI441817B (zh) | 2014-06-21 |
Family
ID=42225806
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW098140385A TWI441817B (zh) | 2008-11-28 | 2009-11-26 | Preparation of dibenzoquinone compounds |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5322672B2 (zh) |
CN (1) | CN102224145B (zh) |
CH (1) | CH702565B1 (zh) |
ES (1) | ES2375785B1 (zh) |
TW (1) | TWI441817B (zh) |
WO (1) | WO2010061944A1 (zh) |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CA1295330C (en) * | 1985-03-29 | 1992-02-04 | James M. Greene | Synthesis of inotropic imidazo(4,5-c) pyridine |
JP2003081974A (ja) * | 2001-09-10 | 2003-03-19 | Sumitomo Chem Co Ltd | ピリドン誘導体の製造方法 |
JP2005139078A (ja) * | 2003-11-04 | 2005-06-02 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 5−ヨード−2−メチル安息香酸の製造方法 |
US7642374B2 (en) * | 2003-07-03 | 2010-01-05 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing 5-iodo-2-methylbenzoic acid |
JP4340858B2 (ja) * | 2003-07-03 | 2009-10-07 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 5−ヨード−2−メチル安息香酸の製造方法 |
CH698773B1 (de) * | 2007-02-16 | 2011-06-30 | Sumitomo Chemical Co | Verfahren zur Herstellung einer Dibenzoxepin-Verbindung. |
-
2009
- 2009-01-30 JP JP2009020297A patent/JP5322672B2/ja active Active
- 2009-11-24 CH CH00907/11A patent/CH702565B1/de unknown
- 2009-11-24 CN CN200980147040.6A patent/CN102224145B/zh active Active
- 2009-11-24 WO PCT/JP2009/070083 patent/WO2010061944A1/ja active Application Filing
- 2009-11-24 ES ES201190038A patent/ES2375785B1/es not_active Expired - Fee Related
- 2009-11-26 TW TW098140385A patent/TWI441817B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2010061944A1 (ja) | 2010-06-03 |
ES2375785A1 (es) | 2012-03-06 |
CH702565B1 (de) | 2013-09-30 |
ES2375785B1 (es) | 2012-10-18 |
TW201029982A (en) | 2010-08-16 |
CN102224145B (zh) | 2014-05-07 |
CN102224145A (zh) | 2011-10-19 |
JP2010150226A (ja) | 2010-07-08 |
JP5322672B2 (ja) | 2013-10-23 |
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