TWI422961B - 光罩及其製造方法、圖案轉印方法、以及顯示裝置之製造方法 - Google Patents
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9679803B2 (en) | 2014-01-13 | 2017-06-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for forming different patterns in a semiconductor structure using a single mask |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010150355A1 (ja) * | 2009-06-23 | 2010-12-29 | Hoya株式会社 | 多階調フォトマスク |
KR101194151B1 (ko) | 2009-06-23 | 2012-12-24 | 호야 가부시키가이샤 | 다계조 포토마스크, 패턴 전사 방법 및 박막 트랜지스터의 제조 방법 |
CN101943854B (zh) * | 2009-07-03 | 2012-07-04 | 深圳清溢光电股份有限公司 | 半灰阶掩模板半曝光区的设计方法及其制造方法 |
JP5409238B2 (ja) * | 2009-09-29 | 2014-02-05 | Hoya株式会社 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置用画素電極の製造方法 |
JP2011215197A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-27 | Hoya Corp | フォトマスク及びその製造方法 |
KR101149023B1 (ko) * | 2010-07-08 | 2012-05-24 | 엘지이노텍 주식회사 | 인쇄회로기판 제조 방법 및 이에 의해 제조된 인쇄회로기판 |
WO2012005524A2 (en) * | 2010-07-08 | 2012-01-12 | Lg Innotek Co., Ltd. | The printed circuit board and the method for manufacturing the same |
JP2012212124A (ja) * | 2011-03-23 | 2012-11-01 | Hoya Corp | フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
JP2012212125A (ja) * | 2011-03-24 | 2012-11-01 | Hoya Corp | フォトマスクの製造方法、パターン転写方法及び表示装置の製造方法 |
WO2013094756A1 (ja) * | 2011-12-21 | 2013-06-27 | 大日本印刷株式会社 | 大型位相シフトマスクおよび大型位相シフトマスクの製造方法 |
JP6081716B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2017-02-15 | Hoya株式会社 | フォトマスク、パターン転写方法及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP6139826B2 (ja) * | 2012-05-02 | 2017-05-31 | Hoya株式会社 | フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
JP6093117B2 (ja) * | 2012-06-01 | 2017-03-08 | Hoya株式会社 | フォトマスク、フォトマスクの製造方法及びパターンの転写方法 |
CN104765245A (zh) * | 2015-04-10 | 2015-07-08 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种灰色调掩膜及其制作方法 |
JP6767735B2 (ja) * | 2015-06-30 | 2020-10-14 | Hoya株式会社 | フォトマスク、フォトマスクの設計方法、フォトマスクブランク、および表示装置の製造方法 |
JP6557638B2 (ja) * | 2016-07-06 | 2019-08-07 | 株式会社エスケーエレクトロニクス | ハーフトーンマスクおよびハーフトーンマスクブランクス |
JP6573591B2 (ja) * | 2016-09-13 | 2019-09-11 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、及び表示装置の製造方法 |
JP2017072842A (ja) * | 2016-11-09 | 2017-04-13 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法、フォトマスク、パターン転写方法、及びフラットパネルディスプレイの製造方法 |
KR102032188B1 (ko) | 2017-08-11 | 2019-10-15 | 이용구 | 휴대용 가림판 |
JP6500076B2 (ja) * | 2017-12-05 | 2019-04-10 | Hoya株式会社 | フォトマスクの製造方法及びフォトマスク基板 |
CN108196421B (zh) * | 2017-12-14 | 2021-03-05 | 深圳市路维光电股份有限公司 | 灰阶掩膜版制作方法 |
CN113260178B (zh) * | 2021-06-16 | 2021-09-28 | 广东科翔电子科技股份有限公司 | 一种刚挠结合板高精密线路的制备方法 |
CN114355736B (zh) * | 2022-02-23 | 2023-06-16 | 鲁东大学 | 一种利用掩膜光刻技术一步制备微米级双层结构的方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060240604A1 (en) * | 2005-04-04 | 2006-10-26 | Hirotaka Yamaguchi | Thin film transistor, integrated circuit, liquid crystal display, method of producing thin film transistor, and method of exposure using attenuated type mask |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3285167B2 (ja) * | 1993-08-06 | 2002-05-27 | 大日本印刷株式会社 | 階調マスク |
KR950034748A (ko) * | 1994-05-30 | 1995-12-28 | 김주용 | 포토레지스트 패턴 형성방법 |
KR970008372A (ko) * | 1995-07-31 | 1997-02-24 | 김광호 | 반도체장치의 미세 패턴 형성방법 |
JP2003173015A (ja) * | 2001-09-28 | 2003-06-20 | Hoya Corp | グレートーンマスクの製造方法 |
KR20060004276A (ko) * | 2004-07-09 | 2006-01-12 | 현대모비스 주식회사 | 디스크 브레이크의 캘리퍼 어셈블리 |
TW200639576A (en) * | 2005-02-28 | 2006-11-16 | Hoya Corp | Method of manufacturing gray level mask, gray level mask, and gray level mask blank |
JP4850616B2 (ja) * | 2005-08-12 | 2012-01-11 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
KR101190045B1 (ko) * | 2005-12-21 | 2012-10-12 | 엘지디스플레이 주식회사 | 포토 마스크 및 이를 이용한 액정표시장치용 어레이 기판의제조 방법 |
JP4005622B1 (ja) * | 2006-09-04 | 2007-11-07 | ジオマテック株式会社 | フォトマスク用基板及びフォトマスク並びにその製造方法 |
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Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20060240604A1 (en) * | 2005-04-04 | 2006-10-26 | Hirotaka Yamaguchi | Thin film transistor, integrated circuit, liquid crystal display, method of producing thin film transistor, and method of exposure using attenuated type mask |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9679803B2 (en) | 2014-01-13 | 2017-06-13 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method for forming different patterns in a semiconductor structure using a single mask |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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